KR101194975B1 - 기판처리장치 - Google Patents

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KR101194975B1
KR101194975B1 KR1020060058238A KR20060058238A KR101194975B1 KR 101194975 B1 KR101194975 B1 KR 101194975B1 KR 1020060058238 A KR1020060058238 A KR 1020060058238A KR 20060058238 A KR20060058238 A KR 20060058238A KR 101194975 B1 KR101194975 B1 KR 101194975B1
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히로시 코미야
노리히코 니시무라
?이치 야히로
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도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 기판처리장치로서 평류의 반송 라인상에서 피처리 기판에 공급한 제1의 처리액을 분별 회수해 제2의 처리액에 치환하는 동작을 효율적으로 유연하게 실시하는 것으로 기판 (G)는 그 가요성에 의해 기판 전체 길이의 일부에 반송 라인 (120)의 융기부(120a)에 모방한 돌기조의 기판 융기부(Ga)를 형성하고 한편 반송 속도에 동일한 속도로 기판 융기부(Ga)를 기판의 전단으로부터 후단까지 반송 방향과 반대 방향으로 상대적으로 이동시키면서 융기부(120a)를 통과한다. 상향 경사로 (M₂)에서는 기판 (G)상에서 현상액 (R)이 중력에 의해 기판 후방에 흘러 기판 (G)의 전단으로부터 후단으로 향하여 거의 반송 속도에 동일한 속도로 현상액 (R)의 액막이 액활성의 상태로부터 박막 (R')의 상태로 변화한다. 기판 (G)가 하향 경사로 (M₃)으로 이동하면 윗쪽의 린스 노즐 (138)에서 띠형상의 토출류로 린스액 (S)를 공급시키고 기판 (G)상의 린스액 (S)가 착액 하는 라인 부근에서 얇은 막 상태의 현상액 (R')는 린스액 (S)에 치환되어 현상이 완전하게 정지하는 기술이 제공된다.

Description

기판처리장치{SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}
도 1은 본 발명의 적용 가능한 도포 현상 처리 시스템의 구성을 나타내는 평면도이다.
도 2는 상기 도포 현상 처리 시스템에 있어서의 열적 처리부의 구성을 나타내는 측면도이다.
도 3은 상기 도포 현상 처리 시스템에 있어서의 처리 순서를 나타내는 플로차트이다.
도 4는 실시 형태에 있어서의 현상 유니트내의 전체 구성을 나타내는 정면도이다.
도 5는 실시 형태에 있어서의 반송 라인의 구성을 나타내는 평면도이다.
도 6은 실시 형태에 있어서의 반송 라인의 구동부의 구성을 나타내는 측면도이다.
도 7은 실시 형태의 반송 라인에 있어서 기판상으로부터 액이 떨어질 때의 하나의 실시예의 작용을 나타내는 도이다.
도 8은 실시 형태에 있어서 기판상으로부터 액이 떨어지는 것을 촉진하기 위한 하나의 실시예를 나타내는 도이다.
도 9는 실시 형태에 있어서의 반송 라인의 상향 경사로에 적용 가능한 하나 의 실시예를 나타내는 사시도이다.
도 10은 실시 형태에 있어서의 반송 라인의 상향 경사로에 적용 가능한 하나의 실시예를 나타내는 사시도이다.
도 11은 실시 형태에 있어서의 반송 라인의 상향 경사로에 적용 가능한 하나의 실시예를 나타내는 사시도이다.
도 12는 실시 형태에 있어서 반송 라인의 융기부 부근에서 행해지는 액처리의 작용을 나타내는 도이다.
도 13은 실시 형태에 있어서 반송 라인의 상향 단차부 부근에서 행해지는 액처리 내지 건조 처리의 작용을 나타내는 도이다.
도 14는 실시 형태에 있어서의 세정 프로세스부내의 전체 구성을 나타내는 정면도이다.
도 15는 도 14의 실시 형태에 있어서 하향 단차부의 하나의 작용을 나타내는 부분 측면도이다.
도 16은 도 14의 실시 형태에 있어서 하향 단차부의 하나의 작용을 나타내는 평면도이다.
도 17은 도 14의 실시 형태에 있어서 하향 단차부의 하나의 작용을 나타내는 부분 측면도이다.
**주요부위를 나타내는 도면부호의 설명**
10 도포 현상 처리 시스템
24 세정 프로세스부
32 현상 프로세스부
41 자외선 조사 유니트(e-UV)
42 스크러버 세정 유니트(SCR)
94 현상 유니트(DEV)
120 반송 라인
120a·120b 상향 단차부
120c 단차부
122 현상부
124 린스부
126 건조부
128 회전자
130 현상액 공급 노즐(현상 노즐)
136 현상액 재이용 기구
138 ; 140; 142 린스액 공급 노즐(린스 노즐)
145 린스액 공급 노즐(린스 노즐)
148 롤 브러쉬
152 ; 154 간이벽
182 타이밍 벨트
186 가스 노즐
188 띠형상 무단 벨트
190 롤러
192 롤 브러쉬
200 반송 라인
200a ; 200b 융기부
200c 상승 단차부
200d 하향 단차부
224 팬·필터·유니트(FFU)
226 에어 커텐 노즐
228 약액 공급 노즐
230 롤 브러쉬
232 세정 스프레이관
234 에어나이프 2류체 제트노즐
236 린스액 공급 노즐(린스 노즐)
238 롤 브러쉬
본 발명은 피처리 기판상에 처리액을 공급해 소정의 처리를 실시하는 기판 처리 기술과 관련되어 특히 기판을 평류 방식에서 수평 방향으로 반송하면서 액처리를 실시하는 기판 처리 장치에 관한다.
최근 LCD(액정 표시 디스플레이) 제조에 있어서의 레지스트 도포 현상 처리 시스템에서는 LCD용 기판(예를 들어 유리 기판)의 대형화에 유리에 대응할 수 있는 현상 방식으로서 회전자를 수평 방향으로 부설한 반송로상에서 기판을 반송하면서 반송중에 현상 린스 건조 등의 일련의 현상 처리 공정을 실시하도록 한 이른바 평류 방식이 보급되어 있다. 이러한 평류 방식은 기판을 회전운동시키는 스핀과 비교하여 대형 기판의 취급이 간단하고 미스트의 발생 내지 기판으로의 재부착이 적은 등의 이점이 있다.
평류 방식을 채용하는 종래의 현상 처리 장치는 현상액의 분별 회수율을 높이기 위해서 예를 들어 특허 문헌 1로 개시되는 바와 같이 평류의 반송로에 있어서 현상액 공급부의 하류 측에 기판을 반송 방향으로 기울이는 기판 경사 기구를 설치해 현상액 공급부에서 수평인 기판상에 현상액을 활성해 그대로 평류로 기판을 반송로의 하류측에 반송해 소정 시간 후에 반송로상의 소정 위치에서 기판 경사 기구가 기판을 정면 또는 후 방향으로 경사시켜 기판상의 현상액을 중력으로 떨어뜨려 아래에 떨어진 현상액을 현상액 회수용의 팬으로 수집하도록 하고 있다. 그리고 기판 경사 기구가 상기와 같은 경사 자세에 의한 액분리를 일정시간내에 끝마쳐 기판을 수평 자세에 되돌리면 다음에 기판은 하류측의 린스부에 평류로 보내져 거기서 린스 노즐이 수평 자세의 기판상에 린스액을 분출하는 것으로 기판상에서 현상액으로부터 린스액으로의 치환(현상 정지)을 한다. 이 린스부에서 기판으로부터 떨어진 액은 린스액 회수용의 팬에 모아진다. 그리고 린스 처리가 끝난 기판이 하류측의 건조부를 평류로 통과하는 동안에 에어 나이프가 수평 자세의 기판에 반송 방향과 역방향으로 고압의 에어류를 맞혀 액분리 하는 것으로써 기판 표면이 마르게 되어 있다.
[특허 문헌 1] 일본국 특개2003-7582호 공보
그렇지만 상기와 같은 종래의 현상 처리 장치에 있어서는 현상액을 활성된 기판을 반송로상에서 정지시켜 수평 상태로부터 경사 상태로 자세 변환해 경사 자세로 액분리를 실시한 후에 다시 수평 자세로 되돌려 평류의 반송을 재개한다고 하는 기구 및 일련의 동작이 상당히 번잡하고 비효율적이다라고 말하는 일면이 있었다. 게다가 현상액의 액분리를 개시하고 나서 하류측의 린스부에서 액치환 즉 현상 정지용의 린스 처리를 개시할 때까지의 시간 지연이 길기 때문에 린스 처리를 실행하기 전에 기판의 전단측으로부터 피처리면이 건조해 버려 얼룩의 기미가 발생한다고 하는 현상 처리 품질의 저하도 염려되고 있다.
또 현상 시간에 대해서도 기판상의 면내 균일성을 보증하는 것이 어려웠다. 즉 현상액을 활성된 기판을 정지 위치에서 수평 자세로부터 경사 자세로 자세 변환 하기에 즈음해서는 기판의 각부에서 운동 속도, 운동 범위(특히 높이 위치) 등이 다르기 위해서 현상액 공급시와 같은 시간차이로 각부의 액분리를 실시하는 것은 불가능하고 결과적으로 현상액의 공급으로부터 현상 정지까지의 시간 즉 현상 시간이 기판의 각부(특히 기판 전단부와 후단부와의 사이)에서 흩어진다고 하는 문제가 있었다.
본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점에 비추어 이루어진 것이고, 평류의 반송 라인상에서 피처리 기판에 공급한 제1의 처리액을 분별 회수해 제2의 처리 액에 이동하는 동작을 효율적으로 유연하게 실시할 수 있도록 한 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 다른 목적은 평류의 반송 라인상에서 피처리 기판에 공급한 제1의 처리액을 소정의 처리 시간 경과후에 분별 회수해 제2의 처리액에 치환하는 동작을 효율적으로 면내 균일하게 실시할 수 있도록 한 기판 처리 장치를 제공하는 것에 있다.
본 발명의 다른 목적은 평류의 반송 라인상에서 피처리 기판을 반송하면서 기판상에 일련의 처리를 차례로 실시함에 즈음하여 각 처리간의 연속성 내지 수율의 향상과 상호 간섭의 방지를 동시에 실현시키는 기판 처리 장치를 제공하는 것에 있다.
상기의 목적을 달성하기 위해서 본 발명의 기판 처리 장치는 피처리 기판을 피처리면을 위로 향한 상향의 자세로 반송하기 위한 반송체를 수평인 소정의 반송 방향으로 부설하여 이루고 상기 반송 방향에 있어서 실질적으로 수평인 반송로를 가지는 제1의 반송 구간과; 상기 제1의 반송 구간에 이어지는 상승 경사의 반송로를 가지는 제2의 반송 구간과 ; 상기 제2의 반송 구간에 이어지는 하향 경사의 반송로를 가지는 제3의 반송 구간과; 상기 제3의 반송 구간에 이어지는 실질적으로 수평인 반송로를 가지는 제4의 반송 구간을 포함한 평류의 반송 라인과 ;상기 반송 라인상에서 상기 기판을 반송하기 위해서 상기 반송체를 구동하는 반송 구동부와 ;상기 제 1 또는 제2의 반송 구간내에서 상기 기판상에 제1의 처리액을 공급하는 제 1의 처리액 공급부와 ; 상기 제3의 반송 구간내에서 상기 기판상에 제2의 처리액을 공급하는 제2의 처리액 공급부를 가진다.
상기의 장치 구성에 있어서는 제2 및 제3의 반송 구간안에 제1 및 제4의 반송 구간보다 높고 융기 한 융기부가 형성된다. 기판이 이 융기부의 상향 경사로(제 2의 반송 구간)를 오를 때에 기판상의 제1의 처리액이 하부 즉 후방에 중력으로 이동해 기판 후단으로부터 흘러 떨어진다. 이 때 기판상에서는 기판의 전단측으로부터 후단측에 향하여 반송 속도와 대충 같은 이동 속도로 제1의 처리액의 액분리를 한다. 이렇게 해 융기부의 상향 경사로를 넘은 기판은 그 상면에 제1의 처리액이 매우 얇은 피막으로 남아 있는 상태로 하향 경사로(제 3의 반송 구간)에 들어간다. 여기서 이 하향 경사로를 내려오는 기판에 대해서 제2의 처리액 공급부가 제2의 처리액을 공급하는 것으로써 기판상의 각부에 얇게 남아 있던 제1의 처리액이 중력과 제1의 처리액의 흐름의 압력을 받아 전방으로 흘러내리고 기판전단으로부터 내보낸다. 이렇게 해 기판상에서 기판의 전단측으로부터 후단측에 향하여 반송 속도와 대강 같은 속도로 제1의 처리액이 제2의 처리액에 치환된다.
본 발명의 매우 적절한 한 가지 양태에 의하면 반송 방향에 있어서 제2의 반송 구간이 기판의 사이즈보다 짧은 길이로 설정되고 한층 더 바람직하게는 제2의 반송 구간과 제3의 반송 구간을 서로 더한 구간이 기판의 사이즈보다 짧은 길이로 설정된다. 이 경우 기판은 그 가요성에 의해 전체 길이의 일부에 융기부에 모방한 돌기조의 기판 융기부를 형성하고 또한 반송 속도에 동일한 속도로 기판 융기부를 기판의 전단으로부터 후단까지 반송 방향과 반대 방향으로 상대적으로 이동시키면 서 반송 라인의 융기부( 제2 및 제3의 반송 구간)를 통과한다.
본 발명에 있어서의 평류의 반송 라인은 각 반송 구간의 경계 지점에서 급각도에 꺽여지는 것 같은 진로 변경을 실시하는 것보다는 그 부근에서 적당한 곡율 반경을 그려 진로 변경하는 것이 바람직하고 또 융기부의 정점이 플랫으로 되어 있는 구성 즉 제2의 반송 구간의 종단부와 제3의 반송 구간의 시단부의 사이에 실질적으로 수평인 반송로가 형성되는 구성도 가능하다.
또 본 발명의 바람직한 한 종류에 의하면 제2의 반송 구간내에서 반송 라인의 반송로에서 윗쪽으로 떨어지는 기판의 부위를 소정의 높이 위치에서 억제하기 위한 기판 억제부가 설치된다. 이 기판 억제부는 바람직하게는 기판의 좌우 양주변부에 접하는 회전 가능한 한 쌍의 롤러를 가지는 것으로서 좋다. 기판이 제2의 반송 구간내의 상향 경사로를 오를 때에는 기판의 후단부가 반송 라인의 반송로에서 윗쪽으로 떨어져도 기판 억제부에 의한 높이 규제를 받으면서 정상 부근까지 후 경자세를 유지할 수 있기 때문에 기판상의 액분리를 최후(기판 후단)까지 순조롭게 실시할 수가 있다.
또 바람직한 한 종류로서 제1의 처리액 공급부보다 하류측의 제2의 반송 구간내의 소정 위치에서 기판상에 가스를 불어내는 제1의 에어 나이프가 설치된다. 기판이 제2의 반송 구간내의 상향 경사로를 오를 때에 제1의 에어 나이프에서 가스류를 기판상에 맞히는 것으로 기판상의 제1의 처리액의 액분리를 원조 또는 촉진할 수가 있다.
또 제1의 처리액 공급부에서 하류측의 제 1 또는 제2의 반송 구간내의 소정 위치에서 기판의 후단으로부터 제1의 처리액이 흘러 떨어지는 것을 촉발하기 위한액분리 촉발부를 설치하는 것도 바람직하다. 매우 적절한 한 종류로서 이 액분리 촉발부는 반송로상에 반송체로서 배치되는 외경이 일정한 원주 형상 또는 원통형의 회전자에 의해 구성되어도 좋다. 혹은 다른 매우 적절한 한 종류로서 액분리 촉발부가 기판의 후단부에 윗쪽으로부터 반송 방향과 역방향으로 가스류를 맞히는 가스 노즐에 의해 구성되어도 괜찮다.
본 발명의 매우 적절한 한 가지 양태에 의하면 제1의 처리액 공급부가 제1의 반송 구간내의 소정 위치에서 기판을 향해 제1의 처리액을 토출하는 처리액 공급 노즐을 갖고 반송 구동부가 제1 및 제2의 반송 구간을 통해서 기판을 일정한 속도로 반송한다. 이 경우 하류측의 제2 및 제3의 반송 구간에서는 제1의 반송 구간에서 기판상에 제1의 처리액이 공급되었을 때와 거의 같은 주사 속도로 기판의 전단으로부터 후단으로 향하여 제1의 처리액의 액분리 없이 제2의 처리액으로의 치환을 한다.
매우 적절한 한 종류에 의하면 제1 및 제2의 반송 구간에서 반송로 아래에 떨어진 액을 수집하기 위한 제1의 집액부와 제3 및 제4의 반송 구간에서 반송로 아래에 떨어진 액을 수집하기 위한 제2의 집액부가 설치된다. 관련된 구성에 있어서는 제1의 처리액 공급부로부터 기판상에 공급한 제1의 처리액의 대부분을 제1의 집액부에 분별 회수할 수가 있다. 제2의 집액부에는 주로 제2의 처리액이 회수된다.
매우 적절한 한 종류에 의하면 제2의 반송 구간과 제3의 반송 구간의 경계 부근에 반송 라인을 따른 주위의 공간을 상류측과 하류측으로 멀리하기 위한 제1의 간이벽이 설치된다. 이 제1의 간이벽에는 반송 라인을 통하기 위한 통로가 형성된다.
또 매우 적절한 한 종류에 의하면 반송 라인이 제4의 반송 구간에 이어지는 상승 경사의 반송로를 가지는 제5의 반송 구간과 제5의 반송 구간에 이어지는 실질적으로 수평인 반송로를 가지는 제6의 반송 구간을 포함한다. 관련되는 구성에 있어서는 제4의 반송 구간으로부터 제6의 반송 구간에 걸쳐 상향 단차부가 형성된다. 이 상향 단차부 또는 제5의 반송 구간은 기판의 사이즈보다 짧은 길이로 설정되는 것이 바람직하다. 이것에 의해 기판은 그 가요성을 이용해 기판 전체 길이의 일부에 상기 단차부에 모방한 라인 형상의 기판 단차부를 형성하고 또한 반송 속도에 동일한 속도로 기판 단차부를 기판의 전단으로부터 후단까지 반송 방향과 반대 방향으로 상대적으로 이동시키면서 반송 라인의 상향 단차부(제5의 반송 구간)를 통과한다. 이 상향 단차부( 제5의 반송 구간)에서는 기판상에 남아 있던 제2의 처리액이 기판전단측으로부터 후방으로 중력으로 이동해 기판 후단으로부터 흘러 떨어진다.
매우 적절한 한 종류에 의하면 제 5 또는 제6의 반송 구간내에서 기판상으로부터의 액(제2의 처리액)의 액분리를 원조하기 위해서 반송 방향과 역방향에 기판상에 가스를 불어내는 제2의 에어 나이프가 설치된다.
매우 적절한 한 종류에 의하면 제5의 반송 구간과 제6의 반송 구간의 경계 부근에 반송 라인을 따른 주위의 공간을 상류측과 하류측으로 멀리하기 위한 제2의 간이벽이 설치된다. 이 제2의 간이벽에도 반송 라인을 통하기 위한 통로가 형성된 다.
매우 적절한 한 종류에 의하면 반송 라인이 제1의 반송 구간보다 상류측에서 제1의 반송 구간보다 높은 위치에서 실질적으로 수평인 반송로를 가지는 제7의 반송 구간과 이 제7의 반송 구간과 제1의 반송 구간의 사이에 하향 경사의 반송로를 가지는 제8의 반송 구간을 포함한다. 관련되는 구성에 있어서는 제7의 반송 구간으로부터 제1의 반송 구간에 걸쳐 하향 단차부가 형성된다. 이 하향 단차부는 기판상에 공급된 제1의 처리액이 기판상을 전하여 상류측 근처의 다른 유니트 또는 처리부에 미치는 것을 막아 멈추는 기능을 가질수가 있다. 이 상향 단차부 즉 제8의 반송 구간은 기판의 사이즈보다 짧은 길이로 설정되어도 좋다. 또 제8의 반송 구간과 제1의 반송 구간의 경계 부근에 반송 라인을 따른 주위의 공간을 상류측과 하류측으로 멀리하기 위한 제3의 간이벽이 설치되어도 좋다.
또한 본 발명에 있어서 반송 라인상에서 취하는 기판이 상향 자세는 수평 자세나 반송 방향에 있어서의 경사 자세뿐만이 아닌 임의의 방향(예를 들어 좌우의 횡방향)으로 경사하는 자세를 포함한다.
도 1에 본 발명의 기판 처리 장치를 적용할 수 있는 하나의 구성예로서의 도포 현상 처리 시스템을 나타낸다. 이 도포 현상 처리 시스템 (10)은 클린 룸내에 설치되고 예를 들어 LCD용의 유리 기판을 피처리 기판으로 해 LCD 제조 프로세스 에 있어서 포트리소그래피 공정안의 세정 레지스트;도포 프리베이크 현상 및 포스트 베이크등의 각 처리를 실시하는 것이다. 노광 처리는 이 시스템에 인접해 설치 되는 외부의 노광 장치 (12)로 행해진다.
이 도포 현상 처리 시스템 (10)은 중심부에 횡길이의 프로세스 스테이션(P/S, 16)을 배치해 그 긴 방향(X방향) 양단부에 카셋트 스테이션(C/S, 14)와 인터페이스 스테이션(I/F, 18)을 배치하고 있다.
카셋트 스테이션(C/S, 14)는 시스템 (10)의 카셋트 반입출포트이고 기판 (G)를 다단에 겹쳐 쌓도록 해 복수매 수용 가능한 카셋트 (C)를 수평인 한 방향(Y방향)에 4개까지 나열하여 재치 가능한 카셋트 스테이지 (20)과 이 스테이지 (20)상의 카셋트 (C)에 대해서 기판 (G)의 출입을 실시하는 반송 기구 (22)를 구비하고 있다. 반송 기구 (22)는 기판 (G)를 보지할 수 있는 수단 예를 들어 반송 아암 (22 a)를 갖고 X· Y· Z·θ의 4축으로 동작 가능하고 인접하는 프로세스 스테이션(P/S, 16)측과 기판 (G)의 수수를 실시할 수 있게 되어 있다.
프로세스 스테이션(P/S, 16)은 수평인 시스템 긴 방향(X방향)에 연장하는 평행 또한 역방향의 한 쌍의 라인 (A·B)에 각 처리부를 프로세스 플로우 또는 공정의 순서로 배치하고 있다. 더욱 상세하게는 카셋트 스테이션(C/S, 14)측으로부터 인터페이스 스테이션(I/F, 18)측으로 향하는 상류부의 프로세스 라인 (A)에는 세정 프로세스부 (24)와 제1의 열적 처리부 (26)과 도포 프로세스부 (28)과 제2의 열적 처리부 (30)을 횡일렬로 배치하고 있다. 여기서 세정 프로세스부 (24)는 1개의 평류 반송 라인을 공유하는 평류 방식의 엑시머 UV조사 유니트(e-UV, 41) 및 스크러버 세정 유니트(SCR, 42)를 구비하고 있다. 또 도포 프로세스부 (28)은 레지스트 도포 유니트(CT, 82)· 감압 건조 유니트(VD, 84)를 구비하고 있다.
한편 인터페이스 스테이션(I/F, 18)측으로부터 카셋트 스테이션(C/S, 14)측으로 향하는 하류부의 프로세스 라인 (B)에는 제2의 열적 처리부 (30)과 현상 프로세스부 (32)와 탈색 프로세스부 (34)와 제3의 열적 처리부 (36)을 횡일렬로 배치하고 있다. 여기서 현상 프로세스부 (32)와 탈색 프로세스부 (34)는 평류형이고 공통의 평류 반송 라인으로 접속되고 있다.
양프로세스 라인 (A·B)의 사이에는 보조 반송 공간 (38)이 설치되고 있고 기판 (G)를 1매 단위로 수평으로 재치 가능한 셔틀 (40)이 도시하지 않는 구동 기구에 의해 라인 방향(X방향)으로 쌍방향으로 이동할 수 있게 되어 있다.
세정 프로세스부 (24)의 하류 측에 인접하는 제1의 열적 처리부 (26)은 프로세스 라인 (A)를 따라 중심부에 세로형의 반송 기구 (46)을 설치해 그 전후 양측으로 복수의 유니트를 다단으로 적층 배치하고 있다. 예를 들어 도 2에 나타나는 바와 같이 상류측의 다단 유니트부(TB, 44)에는 기판 수수용의 패스 유니트(PASSL, 50) 탈수 베이크용의 가열 유니트(DHP, 52· 54) 및 애드히젼유니트(AD, 56)이 아래로부터 순서로 쌓인다. 여기서 패스 유니트(PASSL, 50)은 스크러버 세정 유니트(SCR, 42)측으로부터 기판 (G)를 평류로 수취하기 위해서 이용된다. 또 하류측의 다단 유니트부(TB, 48)에는 기판 수수용의 패스 유니트(PASSR, 60)· 냉각 유니트(COL, 62· 64) 및 애드히젼유니트(AD, 66)이 아래로부터 순서로 쌓인다. 여기서 패스 유니트(PASSR, 60)은 도포 프로세스부 (28)측에 기판 (G)를 평류로 보내기 위한 것이다.
도 2에 나타나는 바와 같이 세로형 반송 기구 (46)은 수직 방향으로 연장 하는 가이드 레일 (68)을 따라 승강 이동 가능한 승강 반송체 (70)과 이 승강 반송체 (70)상에서 θ방향으로 회전 또는 선회 가능한 선회 반송체 (72)와 이 선회 반송체 (72)상에서 기판 (G)를 지지하면서 전후방향에 진퇴 또는 신축 가능한 반송 아암 (74) 또는 핀셋을 가지고 있다. 승강 반송체 (70)을 승강 구동하기 위한 구동부 (76)이 수직 가이드 레일 (68)의 기단 측에 설치되어 선회 반송체 (72)를 선회 구동하기 위한 구동부 (78)이 승강 반송체 (70)에 장착되어 반송 아암 (74)를 진퇴 구동하기 위한 구동부 (80)이 선회 반송체 (72)에 장착되고 있다. 각 구동부 (76··78·80)은 예를들면 전기 모터등으로 구성되어도 좋다. 관련되는 구성의 반송 기구 (46)은 고속으로 승강 내지 선회 운동해 양 이웃의 다단 유니트부(TB, 44·48)안의 임의의 유니트에 액세스 가능하고 보조 반송 공간 (38)측의 셔틀 (40)과도 기판 (G)를 수수할 수 있게 되어 있다.
도포 프로세스부 (28)의 하류 측에 인접하는 제2의 열적 처리부 (30)도 상기 제 1의 열적 처리부 (26)과 같은 구성을 가지고 있어 양프로세스 라인 (A·B)의 사이에 세로형의 반송 기구 (90)을 설치하고 프로세스 라인 (A)측(최후미)에 한쪽의 다단 유니트부(TB, 88)을 설치하고 프로세스 라인 (B)측(선두)에 다른쪽의 다단 유니트부(TB, 92)를 설치하고 있다. 또 현상 프로세스부 (32)의 하류 측에 배치되는 제3의 열적 처리부 (36)도 상기 제 1의 열적 처리부 (26)이나 제2의 열적 처리부 (30)과 같은 구성을 가지고 있고 프로세스 라인 (B)를 따라 세로형의 반송 기구 (100)과 그 전후 양측으로 한 쌍의 다단 유니트부(TB, 98·102)를 설치하고 있다.
인터페이스 스테이션 (I/F, 18)은 인접하는 노광 장치 (12)와 기판 (G)의 교 환을 행하기 위한 반송 장치 (104)를 갖고 그 주위에 버퍼·스테이지(BUF, 106) 익스텐션·쿨링 스테이지(EXT·COL, 108) 및 주변장치 (110)을 배치하고 있다. 버퍼·스테이지 (BUF, 106)에는 정치형의 버퍼 카셋트(도시하지 않음)가 놓여진다. 익스텐션·쿨링 스테이지 (EXT·COL, 108)은 냉각 기능을 갖춘 기판 수수용의 스테이지이고 프로세스스테이션 (P/S, 16)측과 기판 (G)를 교환할 때에 이용된다. 주변장치 (110)은 예를 들어 타이틀러(TITLER)와 주변 노광 장치(EE)를 상하에 겹쳐 쌓은 구성으로서 좋다. 반송 장치 (104)는 기판 (G)를 보지할 수 있는 수단 예를 들어 반송 아암 (104a)를 갖고 인접하는 노광 장치 (12)나 각 유니트 (BUF, 106)· (EXT·COL,108)·(TITLER/EE,110)과 기판 (G)의 수수를 실시할 수 있게 되어 있다.
도 3에 이 도포 현상 처리 시스템에 있어서의 1매의 기판 (G)에 대한 처리의 순서를 나타낸다. 먼저 카셋트 스테이션 (C/S, 14)에 있어서 반송 기구 (22)가 스테이지 (20)상의 소정의 카셋트 (C)중에서 기판 (G)를 꺼내 프로세스 스테이션(P/S, 16)의 세정 프로세스부 (24)의 반송 라인에 반입한다(스텝 S1).
세정 프로세스부 (24)내에서 기판 (G)는 반송 라인상을 프로세스 라인 (A)방향으로 평류로 반송되어 도중의 엑시머 UV조사 유니트(e-UV, 41) 및 스크러버 세정 유니트(SCR, 42)로 자외선 세정 처리나 스크러빙 세정 처리 등을 차례로 실시시킨다(스텝 S2 S3). 스크러버 세정 유니트 (SCR, 42)내에서 세정 처리가 끝난 기판 (G)는 상기 반송 라인상에 실린 채로 제1의 열적 처리부 (26)의 상류측 오픈 타워(TB, 44)내의 패스 유니트(PASSL, 50)에 반입된다.
제1의 열적 처리부 (26)에 있어서 기판 (G)는 세로형 반송 기구 (46)에 의해 소정의 순서로 소정의 유니트를 돌게된다. 예를 들어 기판 (G)는 최초로 패스 유니트 (PASSL, 50)으로부터 가열 유니트(DHP, 52· 54)의 하나에 옮겨져 거기서 탈수 처리를 받는다(스텝 S4). 다음에 기판 (G)는 냉각 유니트 (COL,62·64)의 하나에 옮겨져 거기서 일정한 기판 온도까지 냉각된다(스텝 S5). 그 후 기판 (G)는 애드히젼유니트(AD, 56·66)의 1개에 옮겨져 거기서 소수화 처리를 받는다(스텝 S6). 이 소수화 처리의 종료후에 기판 (G)는 냉각 유니트 (COL,62·64)의 하나로 일정한 기판 온도까지 냉각된다(스텝 S7). 마지막에 기판 (G)는 하류측 다단 유니트부(TB, 48)에 속하는 패스 유니트 (PASSR, 60)에 옮겨진다.
이와 같이 제1의 열적 처리부 (26)내에서는 기판 (G)가 반송 기구 (46)을 개입시켜 상류측의 다단 유니트부 (TB, 44)와 하류측의 다단 유니트부 (TB, 48)과의 사이에 임의로 왕래할 수 있게 되어 있다. 또한 제2 및 제3의 열적 처리부 (30,36)에서도 같은 기판 반송 동작을 실시할 수 있게 되어 있다.
제1의 열적 처리부 (26)으로 상기와 같은 일련의 열적 또는 열계의 처리를 받은 기판 (G)는 하류측 다단 유니트부(TB, 48)내의 패스 유니트 (PASSR, 60)으로부터 하류측 근처의 도포 프로세스부 (28)의 레지스트 도포 유니트(CT, 82)에 옮겨진다.
기판 (G)는 레지스트 도포 유니 트(CT, 82)로 예를 들어 스핀 코트법에 의해 기판 상면(피처리면)에 레지스트액을 도포시키고 직후에 하류측 근처의 감압 건조 유니트(VD, 84)로 감압에 의한 건조 처리를 받는다. (스텝 S8).
도포 프로세스부 (28)로 상기와 같은 레지스트 도포 처리를 받은 기판 (G)는 하류측 근처에 위치 하는 제2의 열적 처리부 (30)의 상류측 다단 유니트부(TB, 88)에 속하는 패스 유니트 (PASS)에 수수된다.
제2의 열적 처리부 (30)내에서 기판 (G)는 반송 기구 (90)에 의해 소정의 순서로 소정의 유니트를 돌게된다. 예를 들어 기판 (G)는 최초로 상기 패스 유니트(PASS)로부터 가열 유니트 (PREBAKE)의 하나에 옮겨져 거기서 레지스트 도포 후 베이킹을 받는다(스텝 S9). 다음에 기판 (G)는 냉각 유니트(COL)의 하나에 옮겨져 거기서 일정한 기판 온도까지 냉각된다(스텝 S10). 그 후 기판 (G)는 하류측 다단 유니트부(TB, 92)측의 패스 유니트(PASS)를 경유해 혹은 경유하지 않고 인터페이스 스테이션(I/F, 18)측의 익스텐션·쿨링 스테이지(EXT·COL, 108)에 수수된다.
인터페이스 스테이션(I/F, 18)에 있어서 기판 (G)는 익스텐션·쿨링 스테이지(EXT·COL, 108)로부터 주변장치 (110)의 주변 노광 장치(EE)에 반입되어 거기서 기판 (G)의 주변부에 부착하는 레지스트를 현상시에 제거하기 위한 노광을 받은 후에 근처의 노광 장치 (12)에 보내진다(스텝 S11).
노광 장치 (12)에서는 기판 (G)상의 레지스트에 소정의 회로 패턴이 노광된다. 그리고 패턴 노광을 끝낸 기판 (G)는 노광 장치 (12)로부터 인터페이스 스테이션(I/F, 18)에 되돌려지면(스텝 S11) 먼저 주변장치 (110)의 타이틀러(TITLER)에 반입되고 거기서 기판상의 소정의 부위에 소정의 정보가 기록된다(스텝 S12). 그 후 기판 (G)는 익스텐션·쿨링 스테이지(EXT·COL,108)에 되돌려진다. 인터페이스 스테이션(I/F, 18)에 있어서의 기판 (G)의 반송 및 노광 장치 (12)의 기판 (G)의 교환은 반송 장치 (104)에 의해 행해진다.
프로세스 스테이션 (P/S,16)에서는 제2의 열적 처리부 (30)에 있어서 반송 기구 (90)이 익스텐션·쿨링 스테이지(EXT·COL, 108)에서 노광 완료의 기판 (G)를 받아 프로세스 라인 (B)측의 다단 유니트부(TB, 92)내의 패스 유니트(PASS)를 개입시켜 현상 프로세스부 (32)로 수수한다.
현상 프로세스부 (32)에서는 상기 다단 유니트부(TB, 92)내의 패스 유니트(PASS)로부터 받은 기판 (G)를 평류로 현상 유니트(DEV, 94)에 반입한다. 현상 유니트(DEV, 94)에 있어서 기판 (G)는 프로세스 라인 (B)의 하류에 향하여 평류의 반송 라인상을 반송되는 동안에 현상 린스 건조의 일련의 현상 처리가 가해진다(스텝 S13).
현상 프로세스부 (32)로 현상 처리를 받은 기판 (G)는 평류의 반송 라인에 실린 채로 하류측 근처의 탈색 프로세스부 (34)에 반입되어 거기서 i선 조사 유니트(i-UV, 96)에 의한 탈색 처리를 받는다(스텝 S14). 탈색 처리가 끝난 기판 (G)는 제3의 열적 처리부 (36)의 상류측 다단 유니트부(TB, 98)내의 패스 유니트(PASS)에 수수된다.
제3의 열적 처리부 (36)에 있어서 기판 (G)는 최초로 상기 패스 유니트(PASS)로부터 가열 유니트 (POBAKE)의 하나에 옮겨져 거기서 포스트베이킹을 받는다(스텝 S15). 다음에 기판 (G)는 하류측 다단 유니트부(TB, 102)내의 패스 쿨링·유니트(PASS·COL)에 옮겨져 거기서 소정의 기판 온도로 냉각된다(스텝 S16). 제3의 열적 처리부 (36)에 있어서의 기판 (G)의 반송은 반송 기구 (100)에 의해 행해진다.
카셋트 스테이션(C/S, 14)측에서는 반송 기구 (22)가 제3의 열적 처리부 (36)의 패스 쿨링·유니트(PASS·COL)로부터 도포 현상 처리의 전공정을 끝낸 기판 (G)를 받아 받은 기판 (G)를 어느쪽이든 1개(통상은 원래)의 카셋트 (C)에 수용한다 (스텝 S1).
이 도포 현상 처리 시스템 (10)에 있어서는 평류의 반송 라인을 가지는 현상 프로세스부 (32) 및 세정 프로세스부 (24)에 본 발명을 적용할 수가 있다.
[실시 형태 1]
이하 도 4~도 1 3을 참조해 본 발명을 현상 프로세스부 (32)의 현상 유니트(DEV, 94)에 적용한 하나의 실시 형태를 설명한다.
도 4에 상기 실시 형태에 있어서의 현상 유니트(DEV, 94)내의 전체 구성을 모식적으로 나타낸다. 이 현상 유니트(DEV, 94)는 도시와 같이 프로세스 라인 (B)를 따라 수평 방향(X방향)으로 연장하는 평류의 반송 라인 (120)을 설치하고 있고 이 반송 라인 (120)을 따라 상류측으로부터 순서에 현상부 (122)· 린스부 (124) 및 건조부 (126)을 설치하고 있다.
반송 라인 (120)은 기판 (G)를 피처리면을 위로 향한 상향의 자세로 반송하기 위한 회전자 (128)을 반송 방향(X방향)으로 일정 간격으로 부설하여 이루어지고 제2의 열적 처리부 (30, 도 1)에 있어서의 다단 유니트부(TB, 92)내의 패스 유니트(PASS)를 시점으로 해 현상 유니트 (DEV, 94) 및 탈색 프로세스부 (34)를 빠져 나가 제3의 열적 처리부 (36, 도 1)에 있어서의 다단 유니트부(TB, 98)내의 패스 유니트(PASS)로 종단하고 있다. 반송 라인 (120)의 각 회전자 (128)은 예를 들어 전기 모터를 가지는 반송 구동부(도시하지 않음)에 톱니바퀴 기구 또는 벨트 기구등의 전동 기구를 개입시켜 접속되고 있다.
이 반송 라인 (120)은 반송 방향(X방향) 에 있어서 시점에서 종점까지 같은 높이 위치에서 계속되고 있는 것이 아니라 도중에서 소정의 지점에 융기부(120a·120b) 및 단차부 (120c)를 가지고 있고 도 4에 나타나는 바와 같이 반송 방향(X방향)의 1사이드로부터 본 반송로의 형상에 따라 9개의 반송 구간 M₁ ;M₂; M₃; M₄; M5 ;M6 ;M7 ;M8 ;M9 로 구분할 수 있다.
제1의 반송 구간 (M₁)는 다단 유니트부(TB, 92)의 패스 유니트(PASS) 내의 시점 (P0)로부터 현상부 (122)내의 출구보다 약간 앞(상류측)의 위치로 설정된 제1의 구간 변경점 (P₁)까지의 구간이고 시점 (Po)의 높이 위치를 유지한 채로 거의 수평 일직선으로 연장하는 수평 반송로를 가지고 있다. 제2의 반송 구간 (M₂)는 상기 제 1의 구간 변경점 (P₁)로부터 현상부 (122)와 린스부 (124)의 경계 부근의 위치로 설정된 제2의 구간 변경점 (P₂)까지의 구간이고 시점 (Po)의 높이 위치보다 소정량(예를 들어 10~25mm) 높은 제1의 융기부(120a)의 정상까지 소정의 경사각(예를 들어 2~5˚)으로 오르는 상승 경사의 반송로를 가지고 있다.
제3의 반송 구간 (M₃)은 상기 제 2의 구간 변경점 (P₂)로부터 린스부 (124)의 입구 부근으로 설정된 제3의 구간 변경점 (P₃)까지의 구간이고 상기 제 1의 융기부(120a)의 정상으로부터 그보다 소정량(예를 들어 10~25mm) 낮은 제1의 보텀 위치까지 소정의 경사각(예를 들어 2~5˚)으로 내리는 하향 경사의 반주로를 가 지고 있다. 제4의 반송 구간 (M₄)는 린스부 (124)내에서 입구 부근의 상기 제 3의 구간 변경점 (P₃)로부터 심부의 소정 위치로 설정된 제4의 구간 변경점 (P₄)까지의 구간이고 상기 제 1의 보텀 위치와 같은 높이로 거의 수평 일직선으로 연장하는 수평 반송로를 가지고 있다.
제5의 반송 구간 (M5)는 린스부 (124)내에서 상기 제 4의 구간 변경점 (P₄)로부터 그보다 소정의 거리만 하류측의 위치로 설정된 제5의 구간 변경점 (P5)까지의 구간이고 제 1의 보텀 위치보다 소정량(예를 들어 10~25mm) 높은 제2의 융기부 (120b)의 정상까지 소정의 경사각(예를 들어 2~5˚)으로 오르는 상승 경사의 반주로를 가지고 있다. 제6의 반송 구간 (M6)는 린스부 (124)내에서 상기 제 5의 구간 변경점 (P5)로부터 그보다 소정의 거리만 하류측의 위치로 설정된 제6의 구간 변경점 (P6)까지의 구간이고 상기 제 2의 융기부 (120b)의 정상으로부터 그보다 소정량(예를 들어 (10~25mm) 낮은 제2의 보텀 위치까지 소정의 경사각(예를 들어 2~5˚)으로 내리는 하향 경사의 반주로를 가지고 있다.
제7의 반송 구간 (M7)은 린스부 (124)내에서 상기 제 6의 구간 변경점 (P6)으로부터 그보다 소정의 거리만 하류측의 위치 즉 출구보다 약간 앞(상류측)의 위치로 설정된 제7의 구간 변경점 (P7)까지의 구간이고 상기 제 2의 보텀 위치와 같은 높이로 거의 수평 일직선으로 연장하는 수평 반송로를 가지고 있다. 제8의 반송 구간 (M8)은 상기 제 7의 구간 변경점 (P7)로부터 린스부 (124)와 건조부 (126)의 경 계 부근으로 설정된 제8의 구간 변경점 (P8)까지의 구간이고 상기 제 2의 보텀 위치보다 소정량(예를 들어 (10~25mm) 높은 단차부 (120c)의 상단 위치까지 소정의 경사각(예를 들어 2~5˚)으로 오르는 상승 경사의 반주로를 가지고 있다.
제9의 반송 구간 (M9)는 상기 제 8의 구간 변경점 (P8)로부터 건조부 (126) 및 탈색 프로세스부 (34, 도 1)를 통하여 다단 유니트부(TB, 98,도 1)의 패스 유니트(PASS) 내의 종점까지 도달하는 구간이고 상기 단차부 (120c)의 상단 위치의 높이를 일정하게 유지한 채 수평 일직선으로 연장하는 수평반주로를 가지고 있다.
또한 반송 라인 (120)은 각 구간 변경점 (P)로 급각도로 꺽여지는 것 같은 진로 변경을 실시하는 것보다는 그 부근에서 적당한 곡율 반경을 그려 변경하는 것이 바람직하고 또 융기부(120a·120b)가 플랫(수평)인 정상을 가지는 사다리꼴의 형상상으로 되어 있어도 괜찮다.
현상부 (122)에 있어서는 제1의 반송 구간 (M₁)내의 소정 위치에 반송 라인 (120)상을 회전자 반송으로 이동하는 수평 자세의 기판 (G)를 향해 윗쪽으로부터 기준 농도의 현상액을 토출하는 현상액 공급 노즐(이하 「현상 노즐」이라고 약칭한다. 130)이 반송 방향을 따라 1개 또는 복수 라인 배치되고 있다. 각 현상 노즐 (130)은 예를 들어 슬릿 형상의 토출구 또는 1열로 배치된 다수의 미세지름 토출구을 가지는 긴형의 노즐로부터 이루어지고 도시하지 않는 현상액 공급원으로부터 배관을 개입시켜 현상액을 급액되도록 되어 있다.
현상부 (122)내에는 반송 라인 (120) 아래에 떨어진 현상액을 수집하기위한 팬 (132)도 설치되고 있다. 이 팬 (132)의 배액구는 배액관 (134)를 개입시켜 현상액 재이용 기구 (136)에 통하고 있다. 현상액 재이용 기구 (136)은 현상액 노즐 (130)에 의해 기판 (G)상에 현상액을 활성할 때에 넘쳐 흘러 떨어진 현상액을 팬 (132) 및 배액관 (134)를 개입시켜 회수해 회수한 현상액에 원액이나 용매를 더해 기준 농도로 조정한 리사이클의 현상액을 상기 현상액 공급원에 보내게 되어 있다.
린스부 (124)에 있어서는 입구 부근의 제3의 반송 구간 (M₃)내의 소정 위치에 반송 라인 (120)의 상기 제 1의 융기부(120a)의 하향 경사면을 통과하는 기판 (G)를 향해 윗쪽으로부터 액치환(현상 정지) 용의 린스액을 토출하는 제1의 린스액 공급 노즐(이하「린스 노즐」이라고 약칭한다. 138)이 반송 방향을 따라 1개 또는 복수 라인 배치되고 있다. 또 중심부의 제5의 반송 구간 (M5)내의 소정 위치에 반송 라인 (120)의 상기 제 2의 융기부 (120b)의 상승 경사면을 통과하는 기판 (G)를 향해 윗쪽으로부터 세정용의 린스액을 토출하는 제2의 린스 노즐 (140)이 반송 방향을 따라 1개 또는 복수 라인 배치되고 있다. 또 그 하류측 근처의 제6의 반송 구간 (M6)내의 소정 위치에 반송 라인 (120)의 제2의 융기부 (120b)의 하향 경사면을 통과하는 기판 (G)를 향해 윗쪽으로부터 마무리 세정용의 린스액을 토출하는 제3의 린스 노즐 (142)가 반송 방향을 따라 1개 또는 복수 라인 배치되고 있다. 또한 린스부 (124) 출구 부근에서 제8의 반송 구간 (M8)내의 소정 위치에 반송 라인 (120)의 상향 단차부 (120c)를 오르는 기판 (G)를 향해 윗쪽으로부터 최종 세정용의 린스액을 토출하는 제4의 린스 노즐 (145)가 반송 방향을 따라 1개 또는 복수 라인 배치되고 있다. 각 린스 노즐 (138, 140, 142, 145)는 예를 들어 상기 현상액 노즐 (130)과 같은 구성을 가지는 긴형 노즐로부터 이루어지고 도시하지 않는 린스액 공급원으로부터 배관을 개입시켜 린스액을 급액되게 되어 있다.
린스부 (124)내에는 반송 라인 (120)아래에 떨어진 린스액을 수집하기 위한 팬 (144)가 설치되고 있다. 이 팬 (144)의 배액구는 배액관 (146)을 개입시켜 린스액 회수부(도시하지 않음)에 통하고 있다. 도시 생략하지만, 반송 라인 (120)의 하방으로부터 기판 (G)의 하면에 대해 세정용 린스액을 분출하는 하부 린스 노즐을 설치할 수도 있다.
건조부 (126)에 있어서는 제9의 반송 구간 (M9)의 시작단 부근의 소정 위치에 반송 라인 (120)의 상기 단차부 (120c)를 올라 온 직후의 기판 (G)를 향해 윗쪽으로부터 반송 방향과 역방향으로 액분리 없이 건조용의 고압 가스류(통상은 에어류)를 맞히는 긴형의 가스 노즐 또는 에어 나이프 (148)이 반송 방향을 따라 1개 또는 복수 라인 배치되고 있다. 반송 라인 (120) 아래로부터 기판 (G)의 하면을 향해 액분리 없고 건조용의 고압 가스류를 맞히는 하부 에어 나이프(도시하지 않음)도 설치 가능하다. 또 건조부 (126)내에서 반송 라인 (120) 아래에 떨어진 액을 수집하기 위한 팬(도시하지 않음)을 설치해도 좋다.
하류측 근처의 탈색 프로세스부 (34)에는 반송 라인 (120)상을 회전자 반송으로 이동하는 기판 (G)를 향해 윗쪽으로부터 탈색 처리용의 i선(파장 365 nm)을 조사하는 i선 조사 유니트(i-UV, 96)이 설치되고 있다.
현상 유니트 (DEV, 94)는 일체적인 하우징 (150)내에 현상부 (122); 린스부 (124) 및 건조부 (126)을 수용하고 있어 다른 처리부간의 경계에는 반송 라인 (120)을 따른 주위의 공간을 상류측과 하류측으로 떨어지게 하기 위한 수직 방향으로 연장하는 간이벽 (152, 154)를 설치하고 있다. 더욱 상세하게는 현상부 (122)와 린스부 (124)의 경계 즉 제2의 반송 구간 (M₂)와 제3의 반송 구간 (M₃)의 경계 부근에 간이벽 (152)가 설치되고 린스부 (124)와 건조부 (126)의 경계 즉 제8의 반송 구간 (M8)와 제9의 반송 구간 (M9)의 경계 부근에 간이벽 (154)가 설치된다. 각 간이벽 (152, 154)에는 반송 라인 (120)을 통하는 통로 (156,158)이 각각 형성되고 있다.
이 현상 유니트(DEV, 94)에 있어서 각 처리부 (122,124,126)내의 공간은 간이벽 (152,154)의 통로 (156, 158)을 개입시켜 서로 연통하고 있다. 현상부 (122) 및 건조부 (126)에서는 실외의 공기를 끌어들이기 위한 팬 (160,162)와 이들의 팬 (160,162)로부터의 공기류를 제진하는 에어 필터 (164,166)에 의해 천정으로부터 청정한 공기가 다운 플로우로 실내에 공급되게 되어 있다. 이 중 현상부 (122)의 천정으로부터 공급되는 청정 공기는 현상 처리시에 발생하는 현상액의 미스트를 말려들게 하도록 해 상기 간이벽 (152)의 통로 (156)을 통하여 린스부 (124)의 실내에 유입한다. 한편 건조부 (126)의 천정으로부터 공급되는 청정 공기는 건조(액분리) 처리로 발생하는 린스액의 미스트를 말려들게 하도록 해 상기 간이벽 (154)의 통로 (158)을 통하여 린스부 (124)의 실내에 유입하도록 되어 있다. 린스부 (124)의 저부에는 예를 들어 배기 펌프 또는 배기 팬을 가지는 배기 기구 (168)에 통하는 배기구 (170)이 설치되고 있다. 상기와 같이 해 현상부 (122)측으로부터 유입해 온 미스트 섞인 공기와 건조부 (126)측으로부터 유입해 온 미스트 섞인 공기는 린스부 (124)내에서 발생하는 미스트도 말려들게 해 좌우로부터 합류해 배기구 (170)으로부터 배출되도록 되어 있다.
여기서 이 현상 유니트(DEV, 94)에 있어서의 전체의 동작을 설명한다. 상기와 같이 제2의 열적 처리부 (30, 도 l) 에 있어서 노광 후의 기판 (G)는 반송 기구 (90)에 의해 다단 유니트부(TB, 92)의 패스 유니트(PASS)에 반입된다. 도 4에 나타나는 바와 같이 이 패스 유니트(PASS) 내에는 반송 기구 (90, 도 1)로부터 기판 (G)를 수취하는 리프트 핀 승강기구 (172)가 설치되고 있다. 이 리프트 핀 승강기구 (172)에 의해 반송 라인 (120)상에 기판 (G)가 수평으로 이동 재치되면 반송 구동부의 구동에 의한 일정 속도의 회전자 반송으로 기판 (G)는 근처의 현상 유니트(DEV, 94)를 향해 반송된다.
현상 유니트(DEV, 94)에서는 최초로 현상부 (122)에 있어서 기판 (G)가 반송 라인 (120)의 제1의 반송 구간 (M₁)내를 수평 자세로 이동하는 동안에 정치의 현상 노즐 (130)에서 현상액을 공급시키고 기판 (G)상에는 기판전단으로부터 기판 후단에 향하여 반송 속도와 동일한 주사 속도로 현상액이 활성된다. 기판 (G)로부터 흘러넘친 현상액은 팬 (132)에 모아진다.
상기와 같이 해 현상액을 활성된 기판 (G)는 직후에 제2의 반송 구간 (M₂)로 제1의 융기부(120a)의 상향 경사로를 오르고 여기서 기판 (G)상의 현상액이 아래쪽 즉 뒤쪽으로 중력으로 이동해 기판 후단으로부터 흘러 떨어진다. 흘러 떨어진 현상액은 팬 (132)에 모아진다. 이 때 기판 (G)상에서는 기판의 전단측으로부터 후 단측에 향하여 반송 속도와 대충 같은 이동 속도로 현상액의 액분리를 한다. 이렇게 해 제1의 융기부(120a)를 넘은 기판 (G)는 그 상면에 현상액이 매우 얇은 액막으로 남아 있는 상태로 린스부 (124)측의 하향 경사로(제 3의 반송 구간 (M₃))에 도달한다.
린스부 (124)에 있어서 기판 (G)가 제3의 반송 구간 (M₃)의 융기부를 나올 때 윗쪽의 린스 노즐 (138)이 기판 (G)상에 린스액을 공급하는 것으로써 기판 (G)상의 각부에 얇게 남아 있던 현상액은 중력과 린스액의 흐름의 압력을 받아 전방으로 흘러 내리고 기판전단으로부터 나가게 된다. 기판 (G)의 전방에 흘러 떨어진 현상액 및 린스액은 팬 (144)에 모아진다. 이렇게 해 기판 (G)상에서 기판의 전단측으로부터 후단측에 향하여 반송 속도와 대충 같은 주사 속도로 현상액이 린스액에 치환되어 현상이 정지한다.
상기와 같이 해 현상 처리를 끝낸 기판 (G)는 수평인 제4의 반송 구간 (M₄)를 통과해 다음의 제5의 반송 구간 (M5)로 제2의 융기부 (120b)의 하향 단차부를 오른다. 이 때 기판 (G)상에 남아 있는 치환용의 린스액이 기판전단측으로부터 후방에 중력으로 이동해 기판 후단으로부터 흘러 떨어진다. 또한 윗쪽의 린스 노즐 (140)에서 기판 (G)상에 일차 세정용의 린스액이 공급되어 오래된 린스액을 보내면서 이 새로운 린스액도 기판 후단으로부터 흘러 떨어진다. 기판의 후방에 흘러 떨어진 린스액은 팬 (144)에 모아진다. 이렇게 해 제2의 융기부 (120b)의 정점을 넘은 기판 (G)는 그 상면에 일차 세정용의 린스액이 얇은 액막으로 남아 있는 상태로 제2의 융기부 (120b)의 융기부(제6의 반송 구간 (M6))에 도달한다.
그 다음에 제2의 융기부 (120b)의 하향 경사로 (M6)를 기판 (G)가 내려갈 때에는 윗쪽의 린스 노즐 (142)에 의해 기판 (G)상에 2차 세정용의 새로운 린스액이 공급되어 기판 (G)상에 얇게 남아 있던 일차 세정액을 전방으로 보내면서 새로운 린스액도 기판전단으로부터 흘러 떨어진다. 기판 (G)의 전방으로 흘러 떨어진 린스액은 팬 (144)에 모아진다.
상기와 같이 해 린스 처리를 끝낸 기판 (G)는 수평인 제7의 반송 구간 (M7)을 통과해 다음의 제8의 반송 구간 (M8)로 상향 단차부 (120c)의 경사로를 오른다. 이 때 기판 (G)상에 남아 있는 마무리용 린스액이 기판전단측으로부터 후방에 중력으로 이동해 기판 후단으로부터 흘러 떨어진다. 또한 윗쪽의 린스 노즐 (145)에서 기판 (G)상에 최종 세정용의 린스액이 공급되어 오래된 린스액을 내보내면서 이 새로운 린스액도 기판 후단으로부터 흘러 떨어진다. 기판 (G)의 후방에 흘러 떨어진 린스액은 팬 (144)에 모아진다. 그리고 기판 (G)가 단차부 (120c)를 올라 건조부 (126)측 즉 제9의 반송 구간 (M9)내의 상단 반주로에 들어가면 에어 나이프 (148)이 기판 (G)에 대해서 반송 방향과 역방향으로 고압 가스류를 맞히는 것으로 기판 (G)상에 남아 있던 린스액이 기판 후방에 몰려 기판 후단으로부터 몰아내진다(액분리된다). 기판 (G)의 후방에 날아간 린스액은 팬 (144)에 모아진다.
이렇게 해 현상 유니트(DEV, 32)내에서 일련의 현상 처리 공정을 끝낸 기판 (G)는 그대로 반송 라인 (120)상을 곧바로 이동해 하류측 근처의 탈색 프로세스부 (34)로 탈색 처리를 받고 나서 다단 유니트부(TB, 98; 도 1)의 패스 유니트(PASS)에 보내진다.
상기와 같이 이 실시 형태의 현상 유니트(DEV, 32)에 있어서는 유니트를 종단하는 반송 라인 (120)상을 기판 (G)가 일정 속도의 회전자 반송으로 이동해 그 평류의 이동중에 현상부 (122)· 린스부 (124) 및 건조부 (126)으로 각각 현상 처리· 린스 처리 ·건조 처리를 차례로 베풀어지게 되어 있다.
특히 현상부 (122)에서는 수평 반송로(M1) 상의 소정 위치에서 수평 자세의 기판 (G)상에 현상액이 활성해져 그곳으로부터 반송 라인 (120)의 하류 측에 소정의 거리만 떨어진 장소에 위치하는 제1의 융기부(120a)의 경사로상에서 중력을 이용한 현상액의 액분리 없이 현상 정지를 한다. 특히 기판 (G)가 제1의 융기부(120a)의 상향 경사로(M₂)를 오를 때에 기판 (G)상의 현상액의 대부분이 후방에 떨어지므로 일부러 기판을 정지시키고 들어 올려 수평 자세로부터 경사 변환으로 자세 변환할 필요는 없다. 또한 기판 (G)가 상향 경사로(M₂)를 넘으면 기판 (G)의 상면(피처리면)이 마르지 않는 동안에 사이를 넣지 않고 하향 경사로(M₃)로 액치환용의 린스액이 공급되므로 액치환전의 원하지 않는 건조에 기인하는 현상 불량(얼룩의 발생 등)을 방지할 수 있다. 또 기판 (G)상의 각부에서 현상액의 제거 내지 현상 정지를 하는 주사의 방향 및 속도가 기판 (G)상의 각부에 현상액이 활성해졌을 때의 주사의 방향 및 속도와 동일하기 때문에 현상 시간의 면내 균일성 나아가서는 현상 균일성을 향상시킬 수가 있다. 또 기판 (G)가 융기부 (120a)를 통과할 때에 형성되는 기판 융기부 또는 경사부가 국소적(통 형상)이고 기판 전체로 보면 기판상의 현상액의 흐름은 저속으로 천천히 하고 있다. 이것에 의해 기판상의 액에 난류나 액 결렬이 일어나기 어렵다. 이점으로 기판 전체를 수평 자세로부터 급격하게 소정 각도의 경사 자세로 자세 변환하는 종래 방식에 있어서는 기판상에서 급속히 흘러내리는 현상액이 난류나 액결렬을 일으키기 쉽고 현상 얼룩짐의 원인이 되는 일이 있었다.
린스부 (124)에서는 기판 (G)가 반송 라인 (120)의 제2의 융기부 (120b)를 통과할 때에 그 상향 경사로(M5)로 일차 세정을 해 하향 경사로 (M6)로 2차 세정을 한다. 경사로(M5· M6)로 기판 (G)상의 린스액이 중력으로 자연스럽게 기판 후방 또는 기판 전방에 흘러떨어지므로 기판의 세정을 효율적으로 실시할 수가 있다. 또한 상향 경사로(M5)를 통과할 때에 기판 (G)상의 린스액은 후방에 전해져 기판 후단으로부터 떨어지므로 이 상향 경사로(M5)로 세정수를 공급하는 린스 노즐 (140)을 생략하는 것도 가능하다. 그러나 현상 정지에 이용한 린스액을 필요 최소한의 세정수로 신속하게 씻어 흘리는데 이 상향 경사로(M5)로 일차 세정을 실시하는 것은 매우 효율이 좋다. 따라서 하향 경사로 (M6) 측에만 린스 노즐 (142)를 복수 라인 나열하는 것보다는 그 중의 1개를 상향 경사로(M5) 측에 일차 세정용의 린스 노즐 (140)으로서 배치하는 쪽이 코스트 퍼포먼스의 면에서 우수하다.
이 실시 형태에서는 그 조금 하류측에서 상향 단차부 (120c)의 윗쪽에 설치 되는 린스노즐 (145)가 상기 린스 노즐 (140)과 같은 작용 효과를 가지므로 제2의 융기부 (120b)를 생략하는 구성 즉 수평 일직선의 반송로에 치환하는 구성도 가능하다. 그 경우 상기 린스 노즐 (140·142)를 수평 반송로를 따라 배치해도 좋고 혹은 생략해도 괜찮다.
건조부 (126)에서는 기판 (G)가 반송 라인 (120)의 단차부 (120c)를 통과할 때에 그 상향 경사로 (M8)로 기판 (G)상에 남아 있던 린스액의 대부분이 중력으로 자연스럽게 기판 후방에 흘러떨어지므로 상단의 수평 반송로(M9) 측에 배치하는 에어 나이프 (148)의 갯수나 건조용 가스의 소비량을 절감할 수가 있다. 또한 에어 나이프 (148)을 상향 경사로(M8)의 윗쪽에 설치하는 것도 가능하다.
또 현상 유니트(DEV, 32)의 하우징 (150)내에서는 현상부 (122)에 설치한 청정 공기 공급부(160 164)에서 공급되는 청정 공기류를 현상부 (122)로부터 린스부 (124)에 흘려 건조부 (126)에 설치한 청정 공기 공급부(162·166)에서 공급되는 청정 공기류를 건조부 (126)으로부터 린스부 (124)에 흘리도록 하고 있다. 현상부 (122) 및 건조부 (126)내에서 발생하는 미스트는 신속하게 린스부 (124)에 모아져 린스부 (124)로부터 현상부 (122) 및 건조부 (126) 으로 미스트가 역류하는 경우는 없다. 이것에 의해 현상부 (122) 및 건조부 (126) 내에서 기판 (G)에 미스트가 재부착하는 것을 효율적으로 확실히 방지할 수 있다. 또한 린스부 (124)내에서는 기판 (G)에 미스트가 부착해도 곧바로 린스액과 함께 씻겨 흐르므로 어떠한 지장은 없다.
다음에 도 5~도 13에 대해 이 실시 형태의 현상 유니트(DEV, 32)에 있어서의 각부의 실시예 및 작용을 설명한다.
상기와 같이 현상액을 활성된 기판 (G)가 반송 라인 (120)의 융기부(120a)의 상향 경사로 (M₂)를 오를 때에 기판 (G)상의 액이 중력으로 기판 후방에 전해진다. 이 때 표면장력이 기동하여 기판 (G)의 후단으로부터 현상액이 떨어지기 어려운 경우도 있으므로 이 표면장력을 무너뜨려 현상액의 원활하고 균일한 흘러내림을 촉진하는 적당한 외력 또는 작용을 주는 것이 바람직하다.
도 5는 관련된 관점으로부터 상향 경사로 (M₂)에 이용해 매우 적절한 회전자 반송로의 구성을 나타낸다. 이 구성예에 있어서 반송 라인 (120)의 회전자 (128)에는 반송 구간에 따라 2 종류의 회전자 (128A·128B)가 사용되고 있다. 상세하게는 수평 반송로 (M1) 및 하향 경사 반송로 (M₃)을 구성하는 제1 타입의 회전자 (128A)는 비교적 가는 샤프트 (172)의 수 지점에 큰직경의 롤러부 (174)를 고착하여 이루어지고 롤러부 (174)에 기판 (G)를 실어 회전하도록 되어 있다. 상향 경사로 (M₂)에 이용되는 제2 타입의 회전자 (128B)는 제1 타입의 롤러부 (174)와 동지름의 원주 또는 원통형 샤프트 (176)을 갖고 이 샤프트 (176) 자체에 기판 (G)를 실어 회전하도록 되어 있다. 또한 제2 타입의 회전자 (128B)에는 축방향으로 적당한 간격을 두고 예를들면 고무제의 미끄럼 멈춤 링 (177)을 복수 장착하는 것이 바람직하다.
도 7에 나타나는 바와 같이 제2 타입의 회전자 (128B)가 기판 (G)의 후단을 눌러 송출할 때에 기판 (G)의 후단 주변부 전체에 회전자 (128B)의 샤프트 (176)이 접하는 것으로 기판 (G)의 후단 주변부 전체로부터 균일하게 현상액 (R)이 샤프트 (176)에 감기도록 해 넘쳐 흘러 떨어진다.
도 5에 있어서 각 회전자 (128·128A·128B)는 양단부를 베어링 (178)에 회전 가능하게 지지를 받고 있고 일단부측의 베어링 (178)보다도 외측의 단에 장착한 톱니바퀴 풀리 (180)에 벨트 전동 기구의 타이밍 벨트 (182)를 감겨 걸려 있다. 이 타이밍 벨트 (182)는 전기 모터로 이루어지는 반송 구동부(도시하지 않음)의 회전 구동 축으로 접속되고 있다. 또한 각 회전자 (128)의 톱니바퀴 풀리 (180) 및 타이밍 벨트 (182)는 하우징 (150)의 밖에 배치되고 있다.
도 6에 나타나는 바와 같이 서로 인접하는 회전자 (128, 128)의 사이에는 아이드러 풀리 (184)가 배치되고 있다. 각 아이들러 풀리 (184)는 타이밍 벨트 (182)를 각 톱니바퀴 풀리 (180)에 감기 위한 온 위치(실선으로 나타내는 위치)와 타이밍 벨트 (182)를 각 톱니바퀴 풀리 (180)으로부터 제외하기 위한 오프 위치(쇄선으로 나타내는 위치)의 사이에 절환되게 되어 있다.
도 8에 반송 라인 (120)의 상향 경사로 (M₂)로 기판 (G)의 후단으로부터 현상액의 넘쳐 흘러 떨어지는 것을 원조하기 위한 별도의 방법을 나타낸다. 이 방법은 상향 경사로 (M₂)의 적당한 위치 예를 들어 꼭대기 위치의 윗쪽에 가스 노즐 또는 가스 노즐 (186)을 배치해 기판 (G)의 후단부로 향해 이 가스 노즐 (186)에서고압 가스(통상은 고압 에어)를 일시적 또는 순간적으로 분출하게 해 그 고압 가스의 압력으로 기판 (G)의 후단으로부터 현상액 (R)를 후방에 떨어뜨리는 것이다.
도 9에 나타내는 구성은 반송 라인 (120)의 상향 경사로 (M₂)를 급균배로 형성하는 경우에 이용하는 매우 적절한 것으로 도시와 같이 서로 인접하는 회전자 (128, 128)의 사이에 띠형상 무단 벨트 (188)을 걸고 건네주고 있다. 기판 (G)가 상향 경사로 (M₂)의 입구에서 지금까지의 수평 이동으로부터 향상되어 이동으로 바뀔 때에 기판 (G)의 전단이 벨트 (188)에 실려 상단측의 회전자 (122)로 유연하게 갈아탈 수가 있다.
도 10에 나타내는 구성은 반송 라인 (120)의 상향 경사로 (M₂)에 있어서의 액분리로 기판 (G)의 후단부에 현상액의 액굄이 남는 것을 확실히 방지하기 위한 것으로 상향 경사로 (M₂)의 윗쪽 바람직하게는 정상부보다 조금 상류측의 위치에 소정의 높이 위치에서 기판 (G)의 좌우 양주변부에 접하는 한 쌍의 롤러 (190)을 배치한다.
기판 (G)가 상향 경사로 (M₂)를 통과할 때에 기판 (G)상의 액이 중력으로 기판 후방에 전해지고 기판 후단으로부터 흘러 떨어지지만 기판전단으로부터 기판 (G)의 대부분이 하향 경사로 (M₃)측으로 이동하면 기판 (G)의 후단부가 상향 경사로 (M₂)로부터 윗쪽으로 분리된다. 이 때 기판 (G)의 후단부가 쇄선 (G')로 나타나는 바와 같이 크게 튀면 기판 (G)의 후단부에 현상액의 액굄이 남을 우려가 있다. 그러나 이 구성예에 의하면 기판 (G)의 후단부가 상향 경사로 (M₂)로부터 윗쪽으로 분리되도 롤러 (190)에 의한 높이 규제를 받으면서 정상 부근까지 후 경사 자세를 유지할 수 있기 때문에 기판 (G)상의 액분리를 마지막 끝까지 수행할 수가 있다. 또한 기판 (G)를 전방에 보내는 방향으로 롤러 (190)을 회전 구동하는 구성 도 가능하다.
도 11은 반송 라인 (120)의 상향 경사로 (M₂)의 윗쪽에 액분리 촉진용의 에어 나이프 (192)를 배치하는 구성을 나타내고 있다. 기판 (G)가 상향 경사로 (M₂)를 오를 때에 에어 나이프 (192)가 윗쪽으로부터 에어흐름을 불어 내리는 것으로 기판 (G)상에서 현상액이 후방에 흘러내리는 것을 촉진할 수가 있다. 이 구성은 상향 경사로 (M₂)의 경사각이나 고도차이가 작을 때에 매우 적합하게 적용할 수 있다.
또한 상술한 각부의 실시예(도 5~도 11)는 반송 라인 (120)의 제1의 융기부(120a)로의 적용으로 한정되는 것은 아니고 제2의 융기부 (120b)나 단차부 (120c)에도 적용 가능하다.
도 12에 반송 라인 (120)상에서 기판 (G)가 제1의 융기부(120a)를 통과할 때의 액처리의 작용을 모식적으로 나타낸다. 도시와 같이 기판 (G)는 그 가요성을 이용해 전체 길이의 일부에 융기부(120a)에 모방한 돌기조의 기판 융기부(Ga)를 형성하고 또한 반송 속도에 동일한 속도로 기판 융기부(Ga)를 기판의 전단으로부터 후단까지 반송 방향과 반대 방향으로 상대적으로 이동시키면서 반송 라인 (120)의 융기부(120a)를 통과한다. 반송 방향에 있어서의 제1의 융기부(120a)의 구간 길이 즉 반송 구간 (M₂,M₃)를 서로 더한 길이는 예를 들면 수십 cm 전후이고 기판 (G)의 전체 길이(예를 들어 (100~250 cm)보다 짧다.
상향 경사로 (M₂)에서는 기판 (G)상에서 현상액 (R)이 중력에 의해 기판 후방에 흘러 기판 (G)의 전단으로부터 후단으로 향하여 거의 반송 속도에 동일한 속 도로 현상액 (R)의 액막이 액활성의 상태로부터 박막 (R')의 상태로 변화한다. 박막 (R')의 상태가 된 시점에서 현상은 종반(예를 들어 95 %이상)에 도달한다.
기판 (G)가 융기부(120a)의 정점을 넘어 하향 경사로 (M₃)로 이동하면 윗쪽의 린스 노즐 (138)에서 띠형상의 토출류로 린스액 (S)를 공급시킴으로써 기판 (G)상의 린스액 (S)가 착액하는 라인 부근에서 얇은 막상태의 현상액 (R')는 신속하게 린스액 (S)에 치환되어 현상이 완전하게 정지한다. 치환된 현상액 (R')는 전방에 흘러 내려 기판전단으로부터 떨어진다. 이 때 린스액에 치환된 현상액 (R')가 흐르는 영역은 이미(한발 앞서) 현상을 정지하고 있으므로 현상의 진행에 어떤 영향도 받지 않는다. 또 도 12에 나타나는 바와 같이 융기부(120a)를 사이에 두고 기판 후단측의 영역에는 현상액 (R)이 흐르는 한편 기판 전단측의 영역에는 린스액 (S)가 흐르므로 기판 (G)의 전체가 액의 중량감으로 안정인 자세를 유지한 채로 반송 라인 (120)의 융기부(120a)를 통과할 수가 있다. 또 기판 (G)가 융기부(120a)를 통과할 때에 그 정상부의 전후로 즉 기판 전단측과 기판 후단측에 다른 액(현상액과 린스액)을 섞는 경우 없이 공급 가능하고 현상 얼룩짐을 방지할 수가 있다. 즉 기판 (G)상에서 현상액과 린스액이 섞이면 기판 (G)상의 각부에서 액농도가 달라 현상 얼룩짐이 일어나기 쉽다. 또한 기판 (G)의 반송을 정지하는 경우 없이 짧은 거리 또는 스페이스내에서 효율적으로 기판상이 다른 액을 각각 개별의 팬 (132, 144)에 분별 회수할 수가 있다.
반송 라인 (120)의 제2의 융기부 (120b)에서도 액이 다른 것만으로 상기 제 1의 융기부(120a)와 같은 작용을 가진다. 무엇보다 상기한 것처럼 제2의 융기부 (120b)를 생략해 이 구간을 수평 일직선의 반주로에서 구성하는 것도 가능하다.
도 13에 기판 (G)가 반송 라인 (120)의 단차부 (120c, 반송 구간 (M8))를 통과할 때의 액분리의 작용을 모식적으로 나타낸다. 도시와 같이 기판 (G)는 그 가요성을 이용해 전체 길이의 일부에 단차부 (120c)에 모방한 라인 형상의 기판 단차부(Gc)를 형성하고 또한 반송 속도에 동일한 속도로 기판 단차부 (Gc)를 기판의 전단으로부터 후단까지 반송 방향과 반대 방향으로 상대적으로 이동시키면서 반송 라인 (120)의 상향 단차부 (120c, M8)를 통과한다.
이 상향 단차부 (120c, M8)에서는 기판 (G)상에서 사용이 끝난 린스액 (S) 및 린스 노즐 (145)에서 기판 (G)상에 공급된 새로운 린스액 (S)가 중력에 의해 기판 후방에 흘러 기판 (G)의 전단으로부터 후단으로 향하여 거의 반송 속도에 동일한 속도로 린스액 (S)의 액막이 거의 액활성의 상태로부터 박막 (S')의 상태로 변화한다. 기판 (G)가 단차부 (120c, M8)를 넘어 상단의 수평반주로 (M9)에 들어가면 윗쪽의 에어 나이프 (148)에서 나이프 형상의 토출류로 고압 가스류를 반송 방향과 역방향으로 분무되는 것으로 기판 (G)상에 얇은 상태로 남아 있던 린스액 (S')는 전부 기판 후단측에 전해져 기판으로부터 제거된다.
[실시 형태 2]
다음에 도 14~도 17을 참조해 본 발명을 세정 프로세스부 (24)에 적용한 하나의 실시 형태를 설명한다.
도 14에 본 발명의 하나의 실시 형태에 의한 세정 프로세스부 (24)내의 구성 을 나타낸다. 이 세정 프로세스부 (24)는 도시와 같이 프로세스 라인 (A)를 따라 수평 방향(X방향)으로 연장하는 평류의 반송 라인 (200)을 설치하고 있고 이 반송 라인 (200)을 따라 엑시머 조사 유니트(e-UV, 41)과 스크러버 세정 유니트(SCR, 42)를 배치하고 있다. 그리고 스크러버 세정 유니트(SCR, 42)내에는 상류측으로부터 차례로 반입부 (202)· 스크러빙 세정부 (204)· 프로 세정부 (206) ·린스부 (208) ·건조부 (210) 및 반출부 (212)를 설치하고 있다.
반송 라인 (200)은 기판 (G)를 피처리면이 위를 향한 상향의 자세로 반송하기 위한 회전자 (214)를 반송 방향(X방향)으로 일정 간격으로 부설하여 이루어지고 세정 프로세스부 (24)의 입구에 시점을 갖고 엑시머 조사 유니트(e-UV, 41) 및 스크러버 세정 유니트(SCR, 42)를 빠져 나가 제1의 열적 처리부 (26, 도 1)에 있어서의 다단 유니트부(TB, 44)내의 패스 유니트(PASSL, 50 ; 도 2)로 종단하고 있다. 반송 라인 (200)의 각 회전자 (214)는 예를 들어 전기 모터를 가지는 반송 구동부(도시하지 않음)에 톱니바퀴 기구 또는 벨트 기구 등의 전동 기구를 개입시켜 접속되고 있다.
이 반송 라인 (200)도 반송 방향(X방향)에 있어서 시점에서 종점까지 같은 높이 위치에서 계속되고 있는 것이 아니라 도중에서 소정의 지점에 융기부 (200a, 200b)· 상향 단차부 (200c) 및 하향 단차부 (200d)를 가지고 있다. 더욱 상세하게는 반입부 (202)내에 제1의 융기부 (200a)가 설치되고 프로 세정부 (206)내에 제2의 융기부 (200b)가 설치되고 린스부 (208)내에 상향 단차부 (200c)가 설치되고 건조부 (210)과 반출부 (212)의 경계 부근에 하향 단차부 (200d)가 설치되고 있어 그들 기복부 이외의 반송 구간은 수평 일직선의 반송로에 형성되고 있다.
엑시머 UV조사 유니트(e-UV, 41)은 반송 라인 (200)의 윗쪽에 자외선 램프 (216)을 수용한 램프실 (218)을 설치하고 있다. 자외선 램프 (216)은 예를 들어 유전체 배리어 방전 램프로 이루어지고 유기 오염의 세정에 매우 적절한 파장 172 nm의 자외선(자외 엑시머빛)을 바로 아래의 반송 라인 (200)상의 기판 (G)에 석영 유리창 (220)을 통해 조사하도록 되어 있다. 자외선 램프 (216)의 배후 또는 위에는 횡단면 원호 형상의 오목면 반사경 (222)가 설치되고 있다.
스크러버 세정 유니트(SCR, 42)에 있어서 반입부 (202)의 천정에는 청정한 공기를 다운 플로우로 공급하는 팬·필터·유니트(FFU, 224)가 장착되고 있다. 제1의 융기부 (200a)의 윗쪽에는 특히 노즐 ·에어 나이프 등의 도구는 설치되지 않는다.
스크러빙 세정부 (204)내에는 반송로 라인 (200)을 따라 상류측으로부터 차례로 에어 커튼 노즐 (226); 약액 공급노즐 (228) ;롤 브러쉬 (230) 및 세정 스프레이관 (232)가 배치되고 있다. 에어 커튼 노즐 (226)은 바로 아래를 통과하는 기판 (G)의 상면에 대해서 슬릿 형상의 공기류를 반송 방향의 하류 측에 향하여 불어내도록 배치된다. 에어 커튼 노즐 (226)의 바로 아래에는 전체 길이에 걸쳐서 원통형의 샤프트를 가지는 제2 타입의 회전자 (214B)가 배치되고 있다. 약액 공급노즐 (228); 롤 브러쉬 (230) 및 세정 스프레이관 (232)는 반송 라인 (200)을 사이에 두어 그 상하 양측으로 설치하는 것도 가능하다.
프로 세정부 (206)내에는 제2의 융기부 (200b)의 상향 경사로의 윗쪽에 프로 세정용 노즐로서 예를 들면 2 유체 제트 노즐 (234)가 설치되고 있다. 린스부 (208)내에는 상향 단차부 (200c)의 윗쪽에 린스 노즐 (236)이 설치되고 있다. 건조부 (210)내에는 수평 반송로의 윗쪽에 에어 나이프 (238)이 설치되고 있다. 또한 린스 노즐 (236) 및 에어 나이프 (238)을 반송 라인 (200)을 사이에 두고 또한 그 상하 양측으로 설치하는 것도 가능하다. 또 프로 세정부 (206)에도 반송 라인 (200) 아래로부터 기판 (G)의 하면(이면)에 대해서 세정용의 린스액을 불어 거는 하부 린스 노즐(도시하지 않음)을 설치할 수가 있다. 반출부 (212)의 천정에도 청정한 공기를 다운 플로우로 공급하는 팬·필터·유니트(FFU, 240)이 장착되고 있다. 하향 단차부 (200d)의 윗쪽에는 특히 노즐, 에어 나이프 등의 도구는 설치되지 않는다.
서로 인접하는 유니트 또는 처리부 (41,202,204,206,208,210,212)의 사이에는 간이벽 (242, 244, 246, 248 , 250, 252)가 각각 설치되고 있다. 또 액을 취급하는 처리부 (204, 206, 208, 210)내에는 반송 라인 (200) 아래에 떨어진 액을 수집하기 위한 팬 (254, 256, 258, 260)이 각각 설치되고 있다. 각 팬의 바닥에 설치된 배액구에는 회수 계통 또는 배액 계통의 배관이 접속되고 있다. 또 스크러버 세정 유니트(SCR, 42)의 중심부에 위치하는 프로 세정부 (206)내의 바닥부에는 예를 들어 배기 펌프 또는 배기 팬을 가지는 배기 기구(도시하지 않음)에 통하는 배기구 (262)가 설치되고 있다.
여기서 이 세정 프로세스부 (24)에 있어서의 전체의 동작 및 작용을 설명한다.
상기와 같이 카셋트 스테이션(C/S,14)측의 반송 기구 (22)에 의해 미처리의 기판 (G)가 반송 라인 (200)상에 반입되어 회전자 반송에 의한 평류로 프로세스 라인 (A)의 하류 측에 향하여 반송되어 온다.
엑시머 UV조사 유니트(e-UV, 41)에서는 램프실 (218)내의 자외선 램프 (216)에서 발해진 자외선이 석영 유리창 (220)을 투과해 반송 라인 (200)상의 기판 (G)에 조사된다. 이 자외선에 의해 기판 표면 부근의 산소가 여기 되어 오존이 생성되어 이 오존에 의해 기판 표면의 유기물이 산화·기화해 제거된다.
이렇게 해 엑시머 UV조사 유니트(e-UV, 41)로 자외선 세정 처리를 받은 기판 (G)는 하류측 근처의 스크러버 세정 유니트(SCR, 42)에 들어가 반입부 (202)내의 제1의 융기부 (200a)를 통과해 스크러빙 세정부 (204)에 보내진다.
스크러빙 세정부 (204)에 있어서 기판 (G)는 최초로 약액 노즐 (228)에서 예를 들어 산 또는 알칼리계의 약액을 불어 걸 수 있다. 기판 (G)상에 남은 약액은 에어 커튼 노즐 (226)으로부터의 공기류를 받기 때문에 기판 (G)상을 상류 측에 흘러 반입부 (202)측으로 들어가는 경우는 없다. 또 원통 회전자 (214B)는 기판 (G)의 이면옆을 차지하면서 반송함으로써 기판 (G)의 이면을 전하여 액이 반입부 (202)측에 가지 않게 기능한다. 약액을 공급받은 기판 (G)는 직후에 롤 브러쉬 (230) 아래를 마찰하면서 빠져 나간다. 롤 브러쉬 (230)은 도시하지 않는 브러쉬 구동부의 회전 구동력으로 반송 방향과 대항하는 방향으로 회전해 기판 표면의 이물(진애 ·파편· 오염물 등)을 마찰한다. 그 직후에 세정 스프레이관 (232)가 기판 (G)에 세정액 예를 들어 순수한 물을 불어 걸어 기판상에 부유하고 있는 이물을 씻어 흘린다. 스크러빙 세정부 (204)내에서 기판 (G)내지 반송 라인 (200) 아래에 떨어진 액은 팬 (254)에 모아진다.
이 후 기판 (G)는 블로우 세정부 (206)에 들어가 제2의 융기부 (200b)에 걸리고 그 상향 경사로를 오를 때에 2 유체 제트 노즐 (234)에 의해 프로 세정을 받는다. 2 유체 제트 노즐 (234)는 제2의 융기부 (200b)의 상향 경사로를 오르는 기판 (G)상에서 그의 막두께가 얇아지고 있는 곳을 노려 가압한 세정액(예를 들어 물)과 가압한 기체(예를 들어 질소)의 혼합 유체를 분사해 기판 (G)의 표면에 부착 또는 잔존하고 있는 이물을 가압 2 유체의 매우 강한 충격력으로 제거한다. 기판 (G)상의 액의 대부분은 융기부 (200b)의 상향 경사로측에서 아래쪽(상류측)에 날려 버려져 팬 (256)에 모아진다. 기판 (G)상에서 융기부 (200b)의 융기부측 즉 린스부 (208)에 갖고 오게 되는 액은 대부분 없다.
린스부 (208)에서는 상향 단차부 (200c)를 오르는 기판 (G)를 향해 린스 노즐 (236)이 최종 세정용의 린스액을 공급한다. 기판 (G)상에 공급된 린스액은 기판 후단측에 향하여 기판상을 흘러 그 대부분이 린스부 (208)내의 팬 (258)에 떨어진다. 이와 같이 상향 단차부 (200c)를 오르는 경사 자세의 기판 (G)에 린스액을 불어 걸어 린스 처리를 실시하는 방식은 수평 자세의 기판에 대해서 린스액을 불어 거는 종래 방식과 비교하여 기판상의 액의 흐름이나 치환 효율이 좋고 린스액의 사용량을 큰폭으로 저감 할 수 있다.
기판 (G)가 상향 단차부 (200c)를 다 올라 수평반주로의 구간에 들어가면에어 나이프 (238)이 기다리고 있고 기판 (G)에 대해서 반송 방향과 역방향에 고압 가스류를 맞힌다. 이것에 의해 기판 (G)상이 남아 있거나 린스액이 기판 후방에 몰려 기판 후단으로부터 몰아내진다(액 분리된다).
반입부 (202) 천정의 팬·필터·유니트(FFU, 224)로부터 다운 플로우로 공급되는 청정 공기는 상기 간이벽 (244, 246)의 통로(기판 통로)를 지나 프로 세정부 (206)의 실내에 유입해 그 때에 스크러빙 세정부 (204)내에서 발생하는 약액 등의 미스트도 프로 세정부 (206)내에 옮겨 온다. 한편 반출부 (212) 천정의 팬·필터·유니트(FFU, 240)으로부터 다운 플로우로 공급되는 청정 공기 는상기 간이벽 (252,250, 248)의 통로(기판 통로)를 지나 프로 세정부 (206)의 실내에 유입해 그 때에 건조실 (210) 린스부 (208)내에서 발생하는 린스액 등의 미스트도 프로 세정부 (206)내에 옮겨 온다. 이렇게 해 반입부 (202)측에서 흘러 온 미스트 섞인 공기와 반출부 (212)측에서 흘러 온 미스트 섞인 공기는 블로우 세정부 (206)내에서 발생하는 미스트도 말려들게 해 좌우로부터 합류해 바닥부의 배기구 (262)로부터 배출된다. 따라서 블로우 세정부 (206)내에서 발생하는 미스트가 옆실 특히 린스부 (208)에는 들어가는 경우가 없다.
상기와 같이 스크러버 세정 유니트(SCR, 42)에 있어서는 평류의 반송 라인 (200)의 도중에 융기부 (200b) 및 상향 단차부 (200c)를 설치하고 또한 그러한 윗쪽 또는 그 부근에 블로우 세정용 노즐이나 린스 노즐 등의 도구를 배치하는 구성에 의해 기판 (G)상의 액처리에 관해서 상기한 제1의 실시 형태와 관련되는 현상 유니트(DEV, 32)와 같은 작용 효과를 얻을 수 있다.
또한 이 스크러버 세정 유니트(SCR, 42)는 그 입구 또는 반입부 (202)내에 융기부 (200a)를 설치해 그 출구 또는 반출부 (212)내에 하향 단차부 (200d)를 설치하고 있다.
도 15~도 17에 대해 반입부 (202)내에 설치되는 융기부 (200a)의 작용을 설명한다. 또한 에어 커튼 노즐 (226)을 생략하고 있다.
스크러버 세정 유니트(SCR, 42)내의 약액 공급노즐 (228)에서 기판 (G)상에 적하된 약는 융기부 (200a)의 벽에 의해 도 15 및 도 16에 나타나는 바와 같이 상류측으로 퍼짐(특히 쇄선 270으로 나타나는 바와 같은 기판 중앙부에서의 퍼짐)을저지시킨다.
또 시스템의 가동중에 돌연 알람이 발생해 반송 라인 (200)이 멈추면 반송 라인 (200)상을 이동하고 있던 각 기판 (G)는 액처리 도중의 각 위치로 정지하게 된다. 이 때 엑시머 UV조사 유니트(e-UV, 41)과 스크러버 세정 유니트(SCR, 42) 에 걸쳐 기판 (G)가 정지했다고 해도 도 17에 나타나는 바와 같이 기판 (G)상의 약액 (K)는 역시 융기부 (200a)의 벽에 의해 엑시머 UV조사 유니트(e-UV, 41)로의 침입을 저지시킨다(막아 멈추게 한다).
엑시머 UV조사 유니트(e-UV, 41)내에 약액 그 외의 액체가 들어가면 석영 유리창 (220)이나 자외선 램프 (216)등의 열화나 고장의 원인이 된다. 거기서 종래는 엑시머 UV조사 유니트(e-UV, 41)과 약액 공급노즐 (228)의 사이에 기판 1매 분의 공간적인 떨어짐 또는 완충 영역을 설치하고 있었다. 이 실시 형태에 의하면 상기와 같은 상향 경사로 (200a)의 막아 멈춤 기능에 의해 그러한 큰 스페이스의 완충 영역을 생략하는 것이 가능하고 스크러버 세정 유니트(SCR, 42)측의 최상류에 배치 하는 약액 공급 노즐 (228)을 가급적으로 엑시머 UV조사 유니트(e-UV, 41)에 접근해 배치할 수가 있다. 또한 이 융기부 (200a)를 하향 단차부에서 대용하는 것도 가능하다.
반출부 (212)내의 하향 단차부 (200d)는 반송 라인 (200)의 시점과 종점을 같은 높이 위치에 맞추기 위한 것이다. 상기와 같이 반입부 (202)내에 하향 단차부를 설치하는 경우는 반출부 (212)내에 하향 단차부 (200d)는 불필요해진다.
이상 본 발명의 매우 적절한 실시 형태에 대해서 설명했지만 본 발명은 상기의 실시 형태로 한정되는 것은 아니고 그 기술적 사상의 범위내에서 여러 가지의 변형 또는 변경이 가능하다. 예를 들어 상기 현상 프로세스부 (32)의 반송 라인 (120) 혹은 세정 프로세스부 (24)의 반송 라인 (200)에 있어서 상기와 같은 융기부나 단차부를 임의의 순서 및 임의의 지점에 설치하는 것이 가능하다. 예를 들어 상기 현상 프로세스부 (32)의 반송 라인 (120)에 있어서도 현상부 (122)의 입구 부근에 융기부 또는 하향 단차부를 설치하는 것이 가능하다. 이것에 의해 현상 노즐 (130)에서 기판 (G)상에 공급된 현상액이 상류측 근처의 다른 유니트로 미치지 않게 하거나 반송 라인 (120)의 시점의 높이 위치를 종점의 높이 위치에 맞출 수가 있다. 또 스크러버 세정 유니트(SCR, 42)에 설치한 에어 커튼 노즐 (226) 및 원통 회전자 (214B)의 구성 또는 기능을 현상 유니트(DEV, 94)에 적용하는 것도 가능하다. 상기 실시 형태의 반송 라인 (120)(200)에 있어서의 기판 (G)의 상향 자세는 수평 자세 또는 전후 방향(X방향)의 경사 자세였지만 좌우 방향(Y방향) 그 외의 방향으로 경사 자세를 취하는 것도 가능하다.
상기한 실시 형태는 현상 처리 장치 및 세정 처리 장치와 관련되는 것이었지만 본 발명은 1 종류 또는 복수 종류의 처리액을 이용해 기판에 원하는 처리를 가하는 임의의 처리 장치에 적용 가능하다. 본 발명에 있어서의 피처리 기판은 LCD 기판에 한정하는 것은 아니고 플랫 패널 디스플레이용의 각종 기판이나 반도체 웨이퍼 ·CD기판· 유리 기판· 포토마스크· 프린트 기판 등도 가능하다.
본 발명의 기판 처리 장치에 의하면 상기와 같은 구성 및 작용에 의해 평류의 반송 라인상에서 피처리 기판에 공급한 제1의 처리액을 분별 회수해 제2의 처리액에 치환하는 동작을 효율적으로 유연하게 실시할 수가 있다. 또 제1의 처리액을 소정의 처리 시간 경과후에 분별 회수해 제2의 처리액에 치환하는 동작을 효율적으로 면내 균일하게 실시할 수도 있다. 또 평류의 반송 라인상에서 피처리 기판을 반송하면서 기판상에 일련의 처리를 차례로 실시함에 즈음하여 각 처리간의 연속성내지 수율의 향상과 상호 간섭의 방지를 동시에 실현시키는 것도 가능하다.

Claims (20)

  1. 피처리 기판을 피처리면을 위로 향한 상향의 자세로 반송하기 위한 반송체를 수평인 반송 방향으로 부설하여 이루어지고, 상기 반송 방향에 있어서 수평인 반송로를 가지는 제1의 반송 구간과, 상기 제1의 반송 구간에 이어지는 상향 경사의 반송로를 가지는 제2의 반송 구간과, 상기 제2의 반송 구간에 이어지는 하향 경사의 반송로를 가지는 제3의 반송 구간과, 상기 제3의 반송 구간에 이어지는 수평인 반송로를 가지는 제4의 반송 구간을 포함한 평류의 반송 라인과,
    상기 반송 라인상에서 상기 기판을 반송하기 위해서 상기 반송체를 구동하는 반송 구동부와,
    상기 제 1의 반송 구간내에서 상기 기판상에 제1의 처리액을 공급하는 제1의 처리액 공급부와,
    상기 제3의 반송 구간내에서 상기 기판상에 제2의 처리액을 공급하는 제2의 처리액 공급부와,
    상기 제2의 반송 구간내에서 상기 반송 라인의 반송로에서 윗쪽으로 분리되는 상기 기판의 부위를 소정의 높이 위치에서 억제하는 기판 억제부를 가지는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 기판 억제부가 상기 기판의 좌우 양주변부에 접하는 회전 가능한 한 쌍의 롤러를 가지는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  3. 피처리 기판을 피처리면을 위로 향한 상향의 자세로 반송하기 위한 반송체를 수평인 반송 방향으로 부설하여 이루어지고, 상기 반송 방향에 있어서 수평인 반송로를 가지는 제1의 반송 구간과, 상기 제1의 반송 구간에 이어지는 상향 경사의 반송로를 가지는 제2의 반송 구간과, 상기 제2의 반송 구간에 이어지는 하향 경사의 반송로를 가지는 제3의 반송 구간과, 상기 제3의 반송 구간에 이어지는 수평인 반송로를 가지는 제4의 반송 구간을 포함한 평류의 반송 라인과,
    상기 반송 라인상에서 상기 기판을 반송하기 위해서 상기 반송체를 구동하는 반송 구동부와,
    상기 제 1의 반송 구간내에서 상기 기판상에 제1의 처리액을 공급하는 제1의 처리액 공급부와,
    상기 제3의 반송 구간내에서 상기 기판상에 제2의 처리액을 공급하는 제2의 처리액 공급부와,
    상기 제1의 처리액 공급부보다 하류측의 제2의 반송 구간내에서 상기 기판의 후단으로부터 상기 제1의 처리액이 흘러 떨어지는 것을 촉발하기 위한 액분리 촉발부를 가지는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 액분리 촉발부가 상기 제2의 반송 구간의 상향 경사의 반송로상에 상기 반송체로서 배치되는 외경이 일정한 원주 형상 또는 원통형의 회전자에 의해 구성되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  5. 피처리 기판을 피처리면을 위로 향한 상향의 자세로 반송하기 위한 반송체를 수평인 반송 방향으로 부설하여 이루어지고, 상기 반송 방향에 있어서 수평인 반송로를 가지는 제1의 반송 구간과, 상기 제1의 반송 구간에 이어지는 상향 경사의 반송로를 가지는 제2의 반송 구간과, 상기 제2의 반송 구간에 이어지는 하향 경사의 반송로를 가지는 제3의 반송 구간과, 상기 제3의 반송 구간에 이어지는 수평인 반송로를 가지는 제4의 반송 구간을 포함한 평류의 반송 라인과,
    상기 반송 라인상에서 상기 기판을 반송하기 위해서 상기 반송체를 구동하는 반송 구동부와,
    상기 제 1의 반송 구간내에서 상기 기판상에 제1의 처리액을 공급하는 제1의 처리액 공급부와,
    상기 제3의 반송 구간내에서 상기 기판상에 제2의 처리액을 공급하는 제2의 처리액 공급부를 가지고,
    상기 반송 라인이 상기 제4의 반송 구간에 이어지는 상승 경사의 반송로를 가지는 제5의 반송 구간과, 상기 제5의 반송 구간에 이어지는 수평인 반송로를 가지는 제6의 반송 구간을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 반송 방향에 있어서 상기 제5의 반송 구간의 길이는 상기 기판의 사이즈보다 짧은 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  7. 청구항 5에 있어서,
    상기 반송 라인이 상기 제6의 반송 구간에 이어지는 수평인 반송로를 가지는 제7의 반송 구간과, 상기 제7의 반송 구간에 이어지는 상향 경사의 반송로를 가지는 제8의 반송 구간을 더 포함하고,
    상기 반송 방향에 있어서 상기 제8의 반송 구간의 길이는 상기 기판의 사이즈보다 짧은 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  8. 청구항 1 내지 7 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 반송 방향에 있어서 상기 제2의 반송 구간의 길이는 상기 기판의 사이즈보다 짧은 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  9. 청구항 1 내지 7 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 반송 방향에 있어서 상기 제2의 반송 구간과 상기 제3의 반송 구간을 서로 더한 구간의 길이는 상기 기판의 사이즈보다 짧은 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  10. 청구항 1 내지 7 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1의 처리액 공급부보다도 하류측의 상기 제2의 반송 구간내에서 상기 기판상에 액분리 용의 가스를 불어내는 제1의 에어 나이프를 가지는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  11. 청구항 3에 있어서,
    상기 액분리 촉발부가 상기 기판의 후단부에 윗쪽으로부터 상기 반송 방향과 역방향으로 가스류를 맞히는 가스 노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  12. 청구항 1 내지 7 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1의 처리액 공급부가 상기 제1의 반송 구간내에서 상기 기판을 향해 상기 제1의 처리액을 토출하는 처리액 공급 노즐을 갖고,
    상기 반송 구동부가 상기 제1 및 제2의 반송 구간을 통해서 상기 기판을 일정한 속도로 반송하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  13. 청구항 1 내지 7중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 및 제2의 반송 구간의 반송로 아래에 떨어진 액을 수집하기 위한 제1의 집액부와, 상기 제3 및 제4의 반송 구간의 반송로 아래에 떨어진 액을 수집하기 위한 제2의 집액부를 가지는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  14. 청구항 1 내지 7중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2의 반송 구간과 상기 제3의 반송 구간의 경계 부근에 상기 반송 라인을 따른 주위의 공간을 상류측과 하류측으로 구분하기 위한 제1의 간이벽을 가지는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  15. 청구항 5 내지 7 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 5 또는 제6의 반송 구간내에서 상기 기판상으로부터의 상기 제2의 처리액의 액분리를 원조하기 위해서 상기 반송 방향과 역방향으로 상기 기판상에 가스를 불어내는 제2의 에어 나이프를 가지는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  16. 청구항 5 내지 7 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제5의 반송 구간과 상기 제6의 반송 구간의 경계 부근에 상기 반송 라인을 따른 주위의 공간을 상류측과 하류측으로 구분하기 위한 제2의 간이벽을 가지는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  17. 청구항 5 내지 6 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 반송 라인이 상기 제6의 반송 구간에 이어지는 수평인 반송로를 가지는 제7의 반송 구간과, 상기 제7의 반송 구간에 이어지는 상향 경사의 반송로를 가지는 제8의 반송 구간을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  18. 청구항 17에 있어서,
    상기 반송 라인이 상기 제8의 반송 구간에 이어지는 수평인 반송로를 가지는 제9의 반송 구간을 더 포함하고, 상기 제8 또는 제9의 반송 구간 내에서 상기 기판 상으로부터의 상기 제2의 처리액의 액분리를 원조하기 위해 상기 반송 방향과 역방향으로 상기 기판 상에 가스를 불어내는 제2의 에어 나이프를 가지는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  19. 청구항 18에 있어서,
    상기 제8의 반송 구간과 상기 제9의 반송 구간과의 경계 부근에 상기 반송 라인을 따른 주위의 공간을 상류측과 하류측으로 구분하기 위한 제3의 간이벽을 가지는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.
  20. 삭제
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