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TWI299759B TW95132929A TW95132929A TWI299759B TW I299759 B TWI299759 B TW I299759B TW 95132929 A TW95132929 A TW 95132929A TW 95132929 A TW95132929 A TW 95132929A TW I299759 B TWI299759 B TW I299759B
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Ming De Huang
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1299759 九、發明說明: 【發明所屬技術領域】 本發明係有關於一種奈米碳管(Carbon Nanotubes, CNTs)的製造方法’尤其是關於一種藉由高分子聚合物於 - 原位(in situ)快速進行熱裂解反應製造奈米碳管的方法。 【先前技術】 奈米碳管自90年代被發現以來,由於其具有奈米等級 • 的尺寸與很大的表面基,且具有由六方碳原子點陣構成之 特殊圓柱管結構,以及具有獨特的電、磁、光學特性和應 用潛力,因此特別受到矚目。奈米碳管材料應用的潛力深 廣,已知的領域包含氣體儲存、吸附元件、光電元件、電 子元件、生化醫學、燃料電池、人造鑽石、觸媒載體等。 另外,奈米礙管的高長徑比(aspect ratio)和小頂端曲率半徑 (tip radii of curvature)很適合場發射(electron field emission) 的光特性。在場發射平面顯示器(field emission display,FED) φ 中,可取代金屬微端(metal microtip),其亮度高且效果好; 而在記錄媒體之應用上,可作為Tb級容量(Tera byte = 1,000 Mb)之讀取頭。此外,奈米碳管為製造其他奈米結構 材料的基材,例如以奈米礙管為模板(template)製備奈米線 (nanowire)和奈米棒(nanorod)。 現今製備奈米碳管的方法,主要包含電弧放電法 (Arc-discharge)、化學氣相沉積法(Chemical Vapor Deposition,CVD)、脈衝雷射蒸鍍膜法(Pulsed Laser 5 1299759
Deposition)、電漿輔助化學氣相沉積法(Plasma Enhanced CVD)、微波電漿化學氣相沉積法(Microwave Plasma CVD) 及雷射剝削法(laser ablation)等方法,其中以電弧放電法及 化學氣相沉積法較常被使用。但因這些方法所需的溫度較 高(約在至少l〇〇〇°C以上),所需的成本亦較高,且其前置 步驟與製程的步驟均較繁雜且危險性高。
為解決前述習知技術中所存在的問題中華民國專利公 告第562778號中,揭示一種中空奈米碳管之製造方法,其 係將聚碳矽烷、觸媒及溶劑混合後,對該混合物進行加熱 以使聚碳矽烷進行熱裂解反應,而使碳原子於觸媒表面析 出,進而形成中空奈米碳管。惟該方法所需之反應溫度仍 高達70G〜1_°C,且由簡使闕格昂#的奈米級金屬粒 子(小於100 nm)做為觸媒,致使該方法於操作做上仍有其 困難性,且其製造成本仍高。 為此中華民國發明第1255792號專利中,另揭示了一
種奈米碳管的製造方法,其係將聚乙二醇、觸媒及溶劑混 合後’對魏合物騎㈣段之加熱溫度處理(細〜4〇叱 與6〇〇-mrc),以使聚乙二醇進行熱裂解反應,進而形成 奈米碳官。雖然該方法可降低進行熱裂解反應所需之溫 ^ ’但該^輯-種枝都具有需要較長之熱裂解反應 時間(反應時間長達3-1〇小時)的問題。 【發明内容】 為了克服習知技術所遭遇之困難與問題,本發明之目 6 1299759 碳管的製造方法,藉以縮短碳米碳 之一種奈米碳管的製造方法,其步
(A)將—㈣高分子聚合物與-金屬觸媒混合,並藉 由一溶劑使兩者混合均#形成-混合物;
的即在於提供一種奈米 管的製備時間。 根據本發明所指出 驟包含: 〇將《亥此口物置入一反應容器中並自該反應容器 的下部通入一载流氣體; (C) 對該反應容ϋ下部與上部分別以不同溫度進行加 熱以進行熱裂解反應;以及 (D) 降至室溫回收奈米碳管, 其中’献應容器下部的加熱溫度為尊工麵。c,該 反應容器上部的加熱溫度為祕觸。C,且下部的加 熱溫度鬲於上部的加熱溫度。 -根,本發明所指出之奈米碳管的製造方法,可有效縮 短以固^分子為反應物經由熱裂解方法製備奈米碳管的 時間,將科技術中所需的3_丨ο小時,有效地縮短至2小 時以内。糾,本發明係利用固態高分子經熱裂解反應製 備奈米碳管,故可以免去習知技術使用氣態碳氫化合物(例 如,甲烷、乙烷等)進行熱裂解時所造成的危險性。 本發明將藉由下述的詳細說明及實施例做進一步的說 明,這些實施例並不限制本發明前面所揭示之内容。熟習 本务明之技藝者,可做些許之改良與修飾,但仍不脫離本 7 1299759 發明之範_。 【實施方式】 - 為清楚地解說本發明之方法,在此伴隨著第一圖做詳 . 盡之說明。第一圖為用以執行本發明方法之裝置的一具體 實施例之示意圖。在此具體實施例中可用以執行本發明方 法之裝置係為一流體化床反應器1 〇,其包含一反應腔體 12,其内部下方處中設有一氣體分散器14。氣體分散器14 春係為一多孔性材質所製備(例如,多孔性二氧化石夕薄板), 其係用以使輸入反應腔體12中的載流氣體得以均勻分散 進入反應腔體12中。反應腔體12的下部設有一氣體輸入 口 32,上部則設有一排出口 34。 當欲以本發明方法製備奈米碳管時,首先係將一固態 高分子聚合物與一金屬觸媒混合後,並藉由一溶劑使其混 合均勻以形成一混合物。接著,將此混合物中的溶劑完全 去除。 鲁 别述之咼分子聚合物,只要是任何習知主要以碳、氫、 氧所組成之固態的高分子聚合物,皆可被應用於本發明 中。前述之固態高分子聚合物係指於常溫常壓下以固態呈 • 現之高分子聚合物。在此可舉出的例子,包含聚乙烯 (Polyethylene,PE)、聚丙烯(p〇iypr〇pyiene,pp)與聚乙二醇 (polyethylene glycol,PEG)等,但並不僅限於此。熟習本發 明技術領域之技藝者藉由閱讀本發明之說明亦可了解到, 前述之固態高分子聚合物除碳、氳、氧外,亦可進一步包 8 1299759 含一無機原子來組成,例如,聚碳矽烷(polycarbosilane, PCS),但並不僅限於此。前述之聚碳矽烷聚合物之重複單 體係如下式(1)所示者:
Rj Η (i) R2 Η 其中,:^與尺2可分別為氫、1_4個碳的烷基或苯基。
可應用於本發明中之金屬觸媒,較佳為金屬化合物, 例如三氧化二鐵(FeW3)、四氧化三鐵(Fe3〇4)、氧化鎂 (MgO)、硫酸鐵(FeXSO4)3)、氫氧化鐵(Fe0(0H))、硝酸鐵 (Fe(N03)3)、硝酸鎳(Ni(N〇3)2 · 6H20)、硫酸鎳 (NiS04 · 6H20)、硝酸鈷(Co(N〇3)2 · 6h2〇)…等,但並不僅 限於此。 為獲彳于較佳的奈米碳管品質,上述金屬觸媒的使用 量’較佳為高分子聚合物使用量的15-4〇%(w/w),更佳為 20-33%(w/w),亦即金屬觸媒··高分子聚合物(重量比)較佳 為 1 ·· 2·5 〜1 : 6.7,更佳為 1 ·· 3 〜1 ·· 5。 前述之溶劑,本發明中並沒有特別的限制,只要是可 於200C下藉由加熱而揮發者,皆可被應用於本發明中。 例如,水、有機溶劑(如,甲醇、乙醇、丙醇)等,但二 僅限於此。 —北不 ^外’上述㈣去除的方式在此並沒有制的限制, ^要疋任何g知可將混合溶液中溶劑去除的方法皆可被應 9 1299759 用本發明中。例如,藉由加熱使溶劑蒸發。 為使以本發明方法製備奈米碳管時有更佳之效率,前 述混有高分子聚合物與金屬觸媒之混合物於去除溶劑後, 可將其進一步研磨成粉末,以使該混合物得以均勻受熱, 以利於熱裂解反應之進行。
接著,將前述混有高分子聚合物與金屬觸媒之混合物 24裝填至第一圖中流體化床反應器10的反應腔體12内, 並使其位於氣體分散器14上。藉由一氣體供應器22,自 ,置於反應腔體12下部之氣體輸入口 32持續輸入一載流 氣體。載流氣體輸入反應腔體12内的流速可藉由一流量計 26來控制。於熱裂解反應與形成奈米碳管的過程中,反應 腔體12中的壓力係維持於常壓下。 μ
之後,使用第-加熱器16與第二加熱器18分別對反 應腔體12的下部與上部,以不同溫度加熱。其中,第一加 熱器16所施加之溫度較佳為70(M00(TC,第二熱器18所 施加之溫度較佳為,且第—加熱器16施时加之溫 度需高於第二加熱器18所施加之溫度。前述之第一加敎哭 16與第二加熱11 18可藉由—溫控器20來馳其加熱溫 度。於树明中以兩種不同加熱溫度進行熱裂解的目的係 在南分子聚合物進行熱裂解反應需要較高之溫度,而 當局分子聚合物經熱裂解於金屬觸媒表面析出碳原子,進 而成長出奈米碳管時的還原反應,則不需要如此高的溫 度此外、、二熱衣解後的碳原子因會被载流氣體懸浮於反 應腔體12内的上部。因此,本發明即藉由先以第-加熱器 1299759 16提供之較高溫度’使聚合物進行熱鶴,之後再以第二 加熱器18提供-相龍低的溫度,以㈣浮於載流氣體中 的碳原子得以進行還原反應,進而於金屬觸媒表面析出並 成長出奈来碳管。 最後’藉由本發明方法所製備出的奈米碳管,即可藉 由載流氣體自排出口 34輸出。 前述本發明中之载流氣體,為避免於加熱過程中產生 不必要的反應’其較佳係為鈍性氣體,在此可舉出的例子 包含氮氣(n2)、氦氣(He)、氖氣(Ne)、氬氣(Ar)等惰性氣體, 但並不僅限於此。但為使碳原子於金屬觸絲面析出並成 長出奈米碳管時有較佳之還原反應,較佳為似氣體中進 -步包含H)-2〇%(v/v)的氫氣。料,載流氣體的流量較佳 係在700-1300毫升/分。 由於本發明方法使用載流氣體懸浮反應物,因此可使 付反應物受熱較為快速且均勻,因此以根據本發明方法所 進行之奈米碳管的製備僅需2小時以内即可完成,且可製 得直徑為數十奈米,長度為1微米以上之奈米破管。 做為本發明方法的另一具體實施例,於將混有高分子 艰合物與金屬觸媒之混合物24裝填至第一圖中流體化床 反應器10的反應腔體12内前,於反應腔體12内氣體分散 器14上可進一步填充另一金屬觸媒顆粒3〇 (例如,鎳顆 粒)’藉以加速熱裂解的反應速率(第二圖)。 本發明方法係使用固恶向分子聚合物做為礙源,相較 於習知技術中所使用的有機氣體(如,甲烷、乙烷),固態 11 1299759 高分子聚合物較亦於韻,傳輸運送上也較為簡便。另一 ^面’在室溫下,固態高分子聚合物的化學性質十分穩定, 幾乎無毒性,相較於有機氣體,其具有較佳的安全性。 、再者,本發明方法中使用具有高質傳與高熱傳特性的 "IL體化床來製備奈米碳管,因此這使得奈米碳管之大量且 連續操作的生產變成可能,故而以本發明方法進行太^石山 管之製備將有利於製成的放大。 "^ 雖然本發明已以較佳實施例揭露如上,然其並非用以 限定本發明,任何熟習此技藝者,在不脫離本發明之精神 和範圍内,當可作些許之更動與潤飾,因此本發明之保護 範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。 實施例一 取聚碳矽烷與相對於聚碳矽烷使用量33% (w/w)的三 氣化二鐵混合。藉由酒精溶液使其混合均勻,之後以8(M〇〇 • 七加熱去除酒精。將所得之團塊研磨成粒徑約為5-6μιη的 粉末。將此粉末填充至第一圖的反應腔體内,以上層溫度 為850C、下層溫度為950°C,以及載流氣體(混有1(^20% - (v/v)氫氣的氬氣)流量為244毫升/分之條件下進行奈米碳 管的製備。於進行反應1.5小時後,所製得之奈米碳管以 電子顯微鏡觀察所得的影像示於第三圖中。 參閱第三圖,由第三圖中可得奈米碳管的直徑約為 l〇_90nm,而長度則可達數微米以上。 12 1299759 實施例二 同實施例一之方法與條件,但改以 :载流氣體流量改為_升,分。於進行心 圖2得之奈米碳㈣電子顯微鏡祕所得的影像示於第四 參閱第四圖,由第四圖中可得奈米碳管的直徑約為2〇 nm ’而長度則可達1微米以上。
實施例三 同實施例二之方法與條件,但上層溫度改為75(rc, 下層溫度改為85Gt:,且載流氣體流量改為4⑻毫升/分。 於進行反應1小時後’所製得之奈米碳管以高解析穿^式 電子顯微鏡(HRTEM)觀察所得的影像示於第五圖中。"
參閱第五圖’由第五圖中可清楚的看到一層一層的石 墨層’進-步經由傅立葉轉換(F〇urier transf〇rm)計算,可 仔知其層與層之間距為G.34 nm,此結果符合石墨之平面層 間距,因此可證實本發财法所製備出來的產物確為太: 碳管。 不 13 1299759 【圖式簡單說明】 第一圖為用以執行本發明方法之裝置的一具體實施例之 不意圖, 第二圖為用以執行本發明方法之裝置的另一具體實施例 之示意圖; 第三圖為經以本發明方法所製備出之奈米碳管的一實施 例,經以電子顯微鏡觀察所得之影像圖; (a) 穿透式電子顯微鏡影像;
(b) 掃描式電子顯微鏡影像; 第四圖為經以本發明方法所製備出之奈米碳管的又一實 施例,經以電子顯微鏡觀察所得之影像圖;以及 (a) 穿透式電子顯微鏡影像; (b) 掃描式電子顯微鏡影像; 第五圖為經以本發明方法所製備出之奈米碳管的再一實 施例,經以高解析穿透式電子顯微鏡觀察所得之 影像圖。 【主要元件符號說明】 10流體化床反應器 12反應腔體 14氣體分散器 16第一加熱器 18第二加熱器 20溫控器 14 1299759 22氣體供應器 24混合物 26流量計 30金屬觸媒顆粒 32氣體輸入口 34排出口

Claims (1)

  1. μ) 申請專利範圍: 1一Z— 4 •種奈米奴管的製造方法,其步驟包含: (Α)將-固態⑧分子聚合物與—金屬觸媒混合,並藉由 -溶劑使兩者混合均勻以形成—混合物; (B)將該混合物置人—流體化床反應时,並自該流體 化床反應H的下部通人—載流氣體; (C) 對該流體化床反應器下部與上部分仙不同溫度 進行加熱以進行熱裂解反應;以及 (D) 降至室溫回收奈米碳管, 其中,该流體化床反應器下部的加熱溫度為 700-1000 °C,該流體化床反應器上部的加熱溫度》__9〇(rc, 且下部的加熱溫度高於上部的加熱溫度。 2·=申μ專利範圍帛1項所述之製造方法,其中該高分子 聚口物係遥自聚乙婦、聚㈣、聚乙二醇與聚碳石夕烧所 組成之族群。 .如申請專利範圍第2項所述之製造方法,其中該聚碳石夕 烷之重複單體係如下式⑴所示者: Ri Η 十Hv ⑴ R2 Η 其中’ Ri與&可分別為氫、1_4個碳的烷基或苯基。 4·如申請專利範圍第1項所述之製造方法,其中該金屬觸 媒係為金屬化合物。 5·如申請專利範圍第4項所述之製造方法,其中該金屬化 1299759 ”選自三氧化二鐵、四氧化三鐵、氧化鎂、硫酸鐵、 =氧化鐵、硝酸鐵、硝酸鎳、硫酸鎳與硝酸鈷所組成之 . ^^群。 • 6. ^請專利範圍第1項所述之製造方法,其中該金屬觸 媒的使用量為該高分子聚合物使用量的15_4G%(w/w)。 •如申請專利範圍第1項所述之製造方法,其中該溶劑係 為水。 • 8. #申請專利縫第1項所述之製造方法,其中該溶劑係 • 為沸點不超過200°C的有機溶劑。 ~ 9.如申請專利範圍第1項所述之製造方法,其中該有機溶 劑係選自曱醇、乙醇與丙醇所組成之族群。 1G.如中請專利範圍第丨項所述之製造方法,其中該步驟(A) 後進一步包含將該混合物中的該溶劑去除的步驟。 11.如申請專利範圍第1〇項所述之製造方法,其中該溶劑 係藉由加熱去除。 • I2·如申請專利範圍第10項所述之製造方法,其中於該溶 劑去除後進一步再包含一將該混合物研磨成粉末的步 驟。 - I3.如申請專利範圍第1項所述之製造方法,其中該步驟(C) 係於常壓下進行。 14·如申請專利範圍第i項所述之製造方法,其中該載流氣 體係為鈍性氣體。 , 15·如申請專利範圍第i項所述之製造方法,其中該載流氣 體係為10-20%(v/v)氫氣與8〇-9〇%(v/v)鈍性氣體的混 17 1299759 合氣體。 16. 如申請專利範圍第14或15項所述之製造方法,其中該 鈍性氣體係選自氮氣、氦氣、氖氣與氬氣所組成之族群。 17. 如申請專利範圍第1項所述之製造方法,其中該載流氣 體的流量為700-1300毫升/分。 18. 如申請專利範圍第1項所述之製造方法,其中該流體化 床反應器内進一步填充有另一金屬觸媒顆粒。 19. 如申請專利範圍第18項所述之製造方法,其中該金屬 觸媒顆粒係為鎳顆粒。 18
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