TWI293981B

TWI293981B -

Info

Publication number: TWI293981B
Application number: TW091110040A
Authority: TW
Inventors: Terunori Ito; Hiroyuki Watanabe; Kazuya Ushiyama; Shigeru Kuwabara; Yoshitsugu Uchino
Original assignee: Mitsui Mining & Smelting Co
Priority date: 2001-05-29
Filing date: 2002-05-14
Publication date: 2008-03-01
Also published as: MY129185A; CN1489625A; CN1239666C; KR20030093193A; EP1391494A1; JP4002740B2; US6905527B2; JP2002348563A; WO2002097004A1; US20040219791A1; KR100509267B1

Description

1293981 五、發明說明（1) 發明所屬技術領域本發明係有關於錦系研磨材料之製造方法於焙燒前進行粉碎原料製程之飾系研磨材料的製造二關及用此方法所製造之鋪系研磨材料。習知技術鈽系研磨材料（以下，簡稱研磨材），以前多用於鏡片之研磨’但近年來也被作為磁力記錄媒體（硬碟: 玻璃，或液晶顯示器（LCD)的玻璃基板之類的電器^ 產品用玻璃材料的研磨材廣泛地使用著。丁鈽系研磨材料係從例如貌碳飾礦或中國產複雜礦得到的土類碳酸鹽（以下簡稱為碳酸稀土），或將稀土類 Ϊ =預,，得之錦系稀土類氧化物乳化=)為原料，用下列之方法製造。首先糸研磨材料的原料（以下簡稱為原料），以研磨機二 (二r 1)、球磨·、玻璃珠磨機等粉碎裝置來進行渴式二r學處理(濕式處理)，並過滤、乾燥:: 料再用上ϋ二的方式將原料粒子適度燒結，燒結後的原並同/時將粉碎後的原料分級。用這種方式，：以:二時鈉，ί裡所用的化學處理慮理的鈉等的鹼金屬除去處理（礦酸滑性氟苏力為^確保鈽系研磨材料的研磨力與被研磨面的平璃反應：：氟化處理）。因氟成份可與被研磨材的玻〜有楗升被研磨面的平滑性，及提高研磨力的效果

第6頁 1293981 五、發明說明（2) - ，所以通過氟化處理可以得到這樣的效果。 :然而：研磨材製品希望不要含有粗大粒子。此係因為粗大粒子係j成被研磨面刮傷的原因。又，例如高密度記巧或可對應高速讀寫的磁力記錄媒體用玻璃基板之製造過私中所進行=研磨製程，對於破璃基板（被研磨面）的平滑 f生，有非常咼的要求。這種要求必須滿足，但若研磨材中的粗大粒子濃度高，則易使玻璃基板表面易產生傷痕，而無法對應平滑性的要求。因此，由此看來，研磨材中不希望有粗大粒子。另外，若考里到研磨製程時研磨作業效率，作為研磨材製品，希望研磨力高。且，為確保高研磨力，必須要在粉碎後，不可使研磨材粒子的粒徑太小。但是，習知的粉碎方式，想要滿足這些條件則有其限制。即，用球磨機、研磨機、玻璃珠磨機等粉碎裝置的習知的濕式粉碎’要減少粗大粒子必須延長粉碎時間，但粉碎時間增長時，粉碎後造成的微粒子的量又變多，因此，對於研磨材製品來說，要確保必要的研磨力會變得困難。因此，習知的研磨材係在研磨材製造時，進行氟化處理’添加氟成份’藉添加的氟成份之效果，確保必要的被研磨面之平滑性及研磨時之研磨力。如上所述，氟成份可有提升被研磨面的平滑性，及提高研磨力的效果。例如，特開平9 -1 8 3 9 6 6號公報中，有公開研磨材製品中的氟含量要達到3重量％〜9重量％。一邊攪拌濕式粉碎後的原料聚液 ’ 一邊滴下氟酸水溶液，來製造研磨材的方法。

1293981 決如此的課進行，針對了使粗大粒度的粉碎條子兩者濃度發明者等不方式。結果將原料粉碎狀態下加熱，本發明係原料的粉碎燒後的原料鈽系稀土類物的混合物的狀態下加粉碎製程中為，保必要的平滑性及研磨力而添加氟時，會，氟成份濃度升高，因此，在研磨時，微粒的著於被研磨面，且易殘留在被研磨面上，因而面的洗淨性降低的問題。係在上述的背景下產生的，確保使粗大粒子的及具有更高的研磨力，且以提供被研磨面有優鈽系研磨材之製造方法為課題。題，發研磨材子濃度件。然降低的再拘泥，本發，而用，亦能鈽系研製程，之粉碎碳酸鹽，而原熱進行，使用五、發明說明（3) 但是，使研磨材中研磨材易附造成被研磨本發明濃度更低，良洗淨性的發明的概述為了解粉碎裝置來製程，研討小粒子的濃子及微小粒因此，地研討粉碎的粉碎裝置水溶液中的即就是包含研磨材製程，及焙原料，使用稀土類氧化在水溶液中在原料明者等用習知製造的初期階降低的粉碎條而，無法找出粉碎條件。於習知的粉碎明想到了即使特定原料時，達到粉碎。磨材料的製造亦包含粉碎後製程之作為鈽或鈽系稀土類料粉碎製程，粉碎的製程。鈽系稀土類碳的研磨機等的段之原料粉碎件，及降低微同時使粗大粒方法，而廣泛不用研磨機等將原料浸潰在方法，其中，的原料之焙燒系研磨材料的碳酸鹽與鈽系係將原料浸潰酸鹽或鈽系稀

2169-4844-PF(N).ptd 1293981 五、發明說明（4) 土類碳酸鹽盘输会從丄原料浸潰在：溶液m化物的混合物為原料’而將此「浸潰加熱粉碎」)λ二加熱進行粉碎(以下稱為的原料，這樣的ϊ;粗粉碎至平均粒徑ι〇00，以下在供給浸潰加埶粉：。平均粒徑超過ι〇°〇，時’ m以下。且，吏用則，最好用粉碎機粉碎至1 〇〇〇 # 狀態的原料液中的原料’可以係乾燥的粉末也可為漿液狀態的原料。但最好係；ί ί ί:(重量比例)無特別的限制，的ο.η。倍。態；=固形成份）加熱原料，另一方面 # 、 α 了此無法均等地提高加熱的均—性，而=容=量超過10倍，由於不能外，改泌原料的水溶液中，含里的浪費。另道水等）、例如乙醇、丙剩等的水溶性7有^業用水、水溶液。因為使用這些溶液可以浸潰加ϋ機溶劑的混合將原料浸潰在水溶液中的狀態下:碎原料。 :f f在加熱前的水溶液後將其：熱的σ;:情形，有將原 2熱過的水溶液中的情形，將原料浸、：：’將原料浸潰再加熱的情形。且，浸潰加熱粉碎二在加熱過的水溶料在水溶液中分散，可以更均等地:，若用攪拌使原以這種方式’若將原料粉碎，則^:熱。球磨機、玻璃珠磨機等粉而要使用研磨機、料粉碎），也可以粉碎原料（裝液中的固的//勿理方法將原 u形成份），且與習 1293981 五、發明說明（5) _ $的粉碎相比，能夠更均等地粉碎 =碎係強制地滾動球體等的粉碎媒體，原料粉碎，因此容易產生被粉碎碎的原#。以這種方式，一方面產二/、未被叔子。 $方面，過度的粉碎使容易生成微粒使浸潰加熱粉碎可能的理由係以料中的碳酸根的一部分分解，中= 粉碎後的碳酸稀土，碳酸單氧鹽的刀析…貝加熱浸潰加熱粉碎，通過水溶液可均等並：=主=且，由 ’並可均等地粉碎原料。又，不Gif:加熱原料全體皮考m旦由於其傳熱不如浸潰加埶 -，：以粉碎的均一性較差，粗大粒子比

Lfi與浸潰加熱粉碎有相同程度的粉碎，則需ί長時外，為磨速度下降的問題。另入蒸汽的乾燥裝置等” σ 而要m愚11或可能導子l你衣直寺回j貝的裝置。即，水溶液更能均等地加熱原料。卩沈疋〜水“相比 =原料均等地粉碎’則可防止粗大粒子的殘存产二：止局部過剩的粉碎及微粒子的生成。即就i : P : : : t碎具有使原料中的粗大粒子與微粒子兩者的:農低’則…磨製品中的粗大粒子的濃度更確實且= 2169-4844-PF(N).ptd 第10頁 1293981 五、發明說明（6)

地減低。研磨材中的粗大粒子濃度低，則可粗大粒子為原因的被研磨面上的傷痕之 I 濃度降低，其結果，可使 j各研磨材粒子之粒徑接***均粒徑，因此可提高研磨速此此=保=研磨速度，則不需要添加氟成份以確保此11·生肊，因此可以減低研磨材製品中干氟成份濃度的減少’可能提高：=的2，在確保洗淨性等的必要性能的範圍内、ί然，，可能提高例如研磨速度等。且， =17少=的氣成份準的環境對策的要4，考慮到氟成^隨著年年高水度，因此能使氟成份的濃度降低处=:也被要求低濃的要求。低則此更確實地對應如此在原料粉碎製程中零、、眚磨機、球磨機、玻璃珠磨機可以與習知的用研。因此’根據情形，由並用幾==進行的粉碎並用其他粉碎並用時，浸潰加熱粉:更有效地進行。與或同時進行。 Λ无進行、或後進行、且，在關於浸潰加熱粉碎加熱溫度而產生不同。因此， ’發現粉碎狀態因其結果，將原料浸潰在水溶溫度也進行了研討。中，水溶液的溫度最好係601 狀悲下加熱進行粉碎製程充分地完成粉碎。與此相對，表因為60C未滿時無法。此係因為浸潰著原料的水發現加熱温度的上限溫度 / ’之之彿點在常壓下為100。(3 2169-4844-PF(N).ptd 第11 1293981 五、發明說明（7) ΐΐ上度以上加熱則需要高壓釜等的特殊裝置，從 ^•) ί ο 0 Λ -T ° ^ t ^ τ ^ U U以下可以粉碎原料。 7 >1解結果另夕用卜/Λ於浸潰加熱粉碎的粉碎時間也作了研討。复碎果二分鐘的極短時間，浸潰加熱粉碎將可以原丄其果外，亦可在短转門肉、Λ f 均4粉碎原料的效 d，則過度的粉碎可能生成微粒子 ::：子與微粒子兩者的濃L 進ί粗大粒最好在6G分鐘以下。 ”碎可此切，則粉碎時間碳酸般的’本發明中，使用鈽系稀土類 ;作為原#。用浸潰加熱粉；？ = = f合 =存量及微粒子的生成量極少的以大= 要係因為碳酸稀土的效果。 U、下進d碎，通主含有i(以所下謂Λ:鈽系稀土類」全稀土氧化物佔全重量的 %以上ίΓ:ί Γ)氧化鈽(Ce〇2)所佔的比例為3〇重量如，可以列夹;^ 1 /合液用含有碳酸根的沉澱劑得到的。例酸氫錢為、化稀土水溶液為錦系稀土類水溶液，碳鈽系所謂的「鈽系稀土類氧化物」係將甲牙佈土類石反酸鹽焙燒氧化而產生的。

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因此，對於適合本發明的# $ rTT 士料範圍，㈣於鈽系研磨材用才的製造方法的原 · · ^名何用原枓的所謂點火損失

Ugnition loss)(以下稱為。工田 α W ^LUUL〇ss On ignition))之物 m研討的。L〇I係指將對象物進行強熱時的重量 ^率。其值對碳酸稀土約為3〇重量%，重量％，而對完王=的氧化稀土則為〇重量％。且，根據l〇i，可以知道 4子粉碎效果咼的碳酸稀土在原料中所佔的比例。對於鈽系稀土類碳酸鹽與飾系稀土類氧化物的混合原 ^研时的結果，最好使用在1QG(rc加熱M、時後，點火損 = (lgi|ltl〇n 1〇SS)為^ 〇重量％〜40重量％的鈽系研磨材用。細1小於1.0重量％，則碳酸稀土的比例變低， :碎時’幾乎無法得到粉碎粗大粒子的效果。且通常稱 L0I不滿〇· 5重量％的稱為氧化稀土。原料的L0I的測定係根據jIS — K —〇〇67( 1 992年、日本規格協會）進行的。簡單地說明測定順序，首先取少量的原料作為樣品，在105t預備乾燥（例如i小時）至不減量為亡、。，備乾燥後，將原料裝入預先測過重量的坩鍋（Ag)， =測量全體的重量（Bg)至〇 lmg的數位，求得原料的重量 H(=B-A。）。其後，將此些在1〇〇(pc的電爐中加熱i小時， ^ $乾燥的周圍氣下冷卻後，再次測定裝有原料的坩鍋 (jg)，求得加熱前後的重量gW1( = B —c)。基於這些數值，算出L(Hh(W2/wi)*l〇〇 ··單位為重量％)。且，L〇I測定中丄進仃預備乾燥係因為通常的原料含有水分，測定含著 X刀的L 01 ’有礙顯示碳酸稀土在原料中所佔的比例。

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五、發明說明（9) 二2將年溫度；在1〇5t，係基於财_ 92年)：載的「化學製品的水分測定法」的「 ΐίΪ的又有規Π05。。加熱乾燥至怪量，根據此規 ^ 2仃的。又，在1 000 t：加熱1小時後測定重量厶只驗確認碳酸稀土的場合，用5 0 0。 ’、; ^^(lgnUi〇n 1〇33)^，ΛΓ 適用作為最安定的指標。以加熱可彳疋要區別鈽系稀土類碳酸鹽及其斑鈽季蘇+ ^ ft ，的混合原料’用锻燒飾系稀土類碳酸鹽2=- =原；(=土類碳Ϊ鹽與飾㈣^ 所π 66 m A ,)由於别者的原料具有良好的粉碎性， :*研磨材製品中粗大粒子的濃度低，所以更合適。由微：碳酸稀土原料全體適當地鍛燒所得，從巧：j看，碳酸根均一地包含在原料全體中，因此使浸料全體均一地進行。另-方面，後者的的不的碳酸稀土的粒子，與不含碳酸根均-地t r乳化稀土的粒子的混合物，戶斤以較難被 1地叔碎，且粗粒子容易殘存。 2碎原料的製程結束後造；程相：的製程來製造研磨材。具體地，首ϊ 焙燒㈣eVVUH式/理）、過濾、並乾燥。其後碎使粗粒子減少，則在以粉：？碎時’充分地進行解，推一丰攸二則在〜了時，可得到漿液狀態的研磨材 ^、八乾燥，則可取得粉末狀的研磨材。解碎後，

2169-4844-PF(N).ptd 1293981 五、發明說明（10) 分級可減少粗粒子及/或微粒子，或通過筒型過滤器以降低粗粒子的操作，取得更高品質的研磨#。一方面 =乾式粉碎進行解碎時，料解碎後藉乾式分級，得到 f尚的粒徑、粒度分布的粉末狀態之研磨材。此時，為了 =襞液狀態的研磨材’可將乾式分級的粉末狀態之研磨、水液化，亦可使乾式粉碎解碎後的研磨材漿液化並濕式为級。且，這裡所謂的化學處理，即氟化處理或礦酸處理如至此所忒明般的’用本發明的鈽系研磨材之製造方法由於=需要氟化處理，因此可大幅度地降低因氟處理所从、加的氟成份的量’並可能使添加量減少至零（〇)。至此所說明般地，用本發明的研磨材之製造方法，由於可在粗大粒子濃度及微粒子濃度兩者均很低的狀態下粉碎原料，可以簡單地製造粗大粒子濃度及微粒子濃度低的研磨材。即就是，習知的製造方法，無法做到使兩者濃度均低’以往首先進行粉碎至粗大粒子的濃度變低，並添加氣成份以確保必要的研磨力（研磨速度）。因此，要製造粗大粒子濃度低，同時氟濃度低的研磨材很困難。與此相對，用本發明的鈽系研磨材之製造方法，對於研磨材的氟添加量比以往大幅度下降，或即使完全不添加氟，也可以容易地製造出有良好的研磨速度、被研磨面的平滑性及洗淨性之研磨材。又，研討的結果，用本發明的鈽系研磨材之製造方法所製造的研磨材，其中氟成份濃度為3· 0重量％以下的、有良好的被研磨面的平滑性及洗淨性、研磨時傷痕少、且研磨力高的研磨材。研磨材中氟成份濃度若超過3

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地下降。且，得知其中氟成份濃 ’洗淨性特別優良。〇重量％，則洗淨性會急劇度為〇· οι重量％〜ι· 〇重量％實施發明的形態以下，說明實施本發明的形態。為! 2 m: & 口鈽系研磨材料的原料，使用乾燥減量為12重篁/G，對乾爍品重量的^肋為“重量％， tre〇化f(Ce〇2)佔60重量％，對TRE0氟素成份含量為〇1重量％的妷酸烯土。且，原料的平均粒徑為約5 〇〇， LOI為30重量％。村的 LOI的測定方法，如上述作法在此省略說明。後各灵施形悲及比較例，如無特別說明，即用此原料。首先，攪拌裝置的容器内加入純水9.扑8 /加埶至65 °(：後，邊攪拌邊投入原料5.7kg(内含水份〇 7kg)，維持容器内攪拌狀態5分鐘。且，攪拌裝置備有加熱容器内的水之裝置，從原料投入開始至攪拌終了，攪拌裝置内的漿 j夜的溫度須保持在60 °C以上（65 °C以下（=下限保持溫度+ 5 °C的溫度以下））來加熱容器内的漿液。攪拌終了後，將水與原料所形成攪拌裝置内的漿液（固形成份含有率為33· 3重量％)，投入已投入直徑4min的球1 〇kg的研磨機 (attriter)(三井三池製作所MA —1SE)1小時，進行濕式粉碎。粉碎後，過濾固形成份得到濾餅，將此濾餅乾燥烘^吾 (8 5 0 C，5小時），用樣品磨粉機（ρ u j i pau(ja 1社製）解碎’其後’為減少粗大粒子，使用風力分級機的一種渴輪機（1：111'13(^16又）（11〇3〇1^*&肘1(：1'011社製）進行1次分級（分級

1293981 五、發明說明（12) ' 點為7 # m )’得到鈽系研磨材製品。且，對所得的錦系研磨材，用粒度分析計（Micro 一 track MK—n SPA m〇del、 7997-20、日機裝社製）測定粒度分布，求得從小粒徑侧的體積累積粒度分布度數變為5 〇 %時的粒徑值（平均粒_ (D50))。： A 進二本粒測定:第1實施形態、以下的實施形態及比較例中’在粉碎製程的既定時期（參照表丨），測定 f料及研磨材製品的粗大粒子濃度（粒徑1〇以上的粒子濃度），_同時對於所得的研磨材測定粗大粒子的濃度。粗大粒子濃度的測定如下般地進行。對測定對象，秤取200g 的固=成份，以此為分散劑使含有〇1重量％的六偏磷酸鈉的水/谷液刀政’授拌2分鐘以製造漿液。此漿液用孔徑1 〇 =m的械i篩過據，並回收篩上的殘渣。回收後的殘渣再 -人用0 · 1重的六偏磷酸鈉的水溶液分散並使之漿液化。，時，分散係進行1分鐘的超音波攪拌。且，漿液亦用孔 //m的微型篩過濾。將此殘渣的再漿液化、過濾進行2 後=收粗大粒子。其後，充分地乾燥此粗大粒子並秤里彳，此粗大粒子重量求出粗大粒子濃度。 + 及比較例1輿比鲂例2 :改變原料投入時的攪採驻罢七T - 、、主现=我置内的水溫及原料投入後的浸潰時間，進行浸 =加熱粉碎。此些以外的研磨材製造條件，與第1實施形態的相同則省略說明。 :粉碎原料的製程中，僅用研磨濕式漿原料粉碎，土^ ^ 未進行使用了攪拌裝置的浸潰加熱粉碎，

1293981 五、發明說明（13) 直接進行培燒。具體的，將原料與純水混合，調製漿液 (固形成份含有率3 3 ·· 3重量％ )，將此漿液投入研磨機1 0小時，僅進行濕式粉碎就結束粉碎。此外的研磨材製造條件與第2實施形態相同。【表1】富施形態/ 比較例浸漬加熱粉碎粗大粒子嫕度(重量卯《0 加熱謎 (°C) 浸漬時閭 (min) 浸漬加熱後的原料研磨機粉碎後的滕研磨材比較1 40 5 30000 1200 -----—— 3300 富施1 60 5 250 100 430^" 富施2 80 5 200 80 270^" 富施3 95 1 330 140 470 霣施4 95 5 150 60 200 —霣施5 80 20 100 40 150 霣施6 80 60 70 20 驗2 80 180 20 <10 <10 比較3 — _ — 200 500 當初原料的共同資料： LO I = 30 重量％ IREO/原料」=69重量％「Ce02/TRE〇」=60 重量％ ^較例3中’未進行浸潰加熱粉碎’僅用研磨機粉碎將原料粉碎，要使粉碎後的原料的粗大粒子濃度達到表中數值需要1 0小時。與此相對，第1實施形態或態，則僅用了5分鐘的浸潰加熱粉碎，其後進行了^小時的

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1293981 五、發明說明（14) =磨機粉碎，粉碎後得到粗大粒子濃度更低的原料。其結果，得=進行浸潰加熱粉碎，可能使原料的粉碎在更短的 :間内完成。X，最終所得的研磨材製品的粗大粒子濃 X，與比較例3相比更低，有降低研磨材中粗大粒子濃度的效果。 ,比車乂例1係使漿液溫度保持在4 0 °C以上（4 5 °C以下）進 =π續加，粉碎的，但浸潰加熱粉碎後所得的原料的粗大粒子濃度高。相對地，粗大粒子濃度低的第i實施形態， 2使漿液的溫度保持在6〇它以上（65它以下）進行浸潰加熱 $碎的從此結果可以得知，浸潰加熱粉碎時漿液的溫度最好保持在60 t以上。一方面，漿液的保持溫度雖然有上限值，但保持漿液在95 t以上、1〇〇t以下進行浸潰加熱 =碎的第4實施形態中’亦得到良好的粉碎效果，從此看來，至少浸潰加熱粉碎時漿液的保持溫度在1〇〇 t以下，可以完成粗大粒子濃度低的良好粉碎，且可得知研磨品中的粗大粒子濃度低。另外，從第3實施形態的結果看，浸潰時間在丨分鐘以上時，僅用浸潰加熱粉碎也可以使粗大粒子濃度降低 2行研磨機粉碎1M、時相同水準。且最終所得的研磨材 1抑之粗大粒子濃度亦較低。一方面，浸潰時間雖限值，但從第6實施形態或比較例2的結果可知，長，越能降低粗大粒子濃度。 /貝寻間越盖1^.施形態:此實施形態中，未進行研磨機渴六、拎碎，僅由使用攪拌裝置的浸潰加熱粉碎將原料粉碎、、、。=曼物潰

1293981 五、發明說明（15) 加熱粉碎中，攪拌裝置内的漿液的溫度最好保持在95以上（1 0 0 °C以下），以加熱容器内的漿液。且浸潰時間為2 〇分鐘。此外的研磨材製造條件與第2實施形態相同。篇8實施形熊:此實施形態的原料粉碎製程中，首先將原料與純水混合，調製漿液（固形成份含有率3 3 ·· 3重量 /)’將此調製的漿液投入研磨機1 〇小時，進行濕式粉碎。此濕式粉碎後，投入原料至攪拌裝置進行浸潰加熱粉碎。先進行研磨機粉碎，其後進行浸潰加熱粉碎，此外的研磨材製造條件，包括漿液的保持溫度或浸潰時間與第2實施形態相同。

當初原料的共同資料 LOI=30 重量％「TREO/原料」=69重量％「CeC^/TREO」重量％用浸潰加熱粉碎可以降低粗大粒子濃度，ϋ已經說明

2169-4844-PF(N).ptd 第20頁 1293981 、發明說明（16) 了’但由第7實施形態，確認了浸潰加熱粉碎後，實際上未用研磨機等裝置進行粉碎，而用焙燒，也可以得刀粗大粒子濃度低的研磨材製品。又，由第8實施形態，在浸潰加熱粉碎與研磨機粉碎混合使用時，無論先進行哪一種粉碎’均可得到粗大粒子濃度低、良好的粉碎效果。、形態及比較例4 :將第1實施形態所用的原料（奴酸稀土），用既定的鍛燒條件鍛燒並調整了 I的原料5kg ’投入攪拌裝置的容器内加熱過的純水1〇4中，進行浸潰加熱粉碎。各實施形態及比較例的鍛燒條件如表3 所示’此外的研磨材製造條件與第2實施形態相同。 [表3] 溫度 (°C) 400 500 850 950

富施开多態/比較例霣施2 霣施9 篁施10 富施11 比較4 在L Ο I為〇 · 5重量％的比較例4中，浸潰加熱粉碎、料之粗大粒子濃度明顯較高。相對地，原上（40重量％以下）的各實施形態中，可較低地抑制〶以熱粉碎後的原料或研磨材製品之粗大粒子濃度。力σ

1293981 五、發明說明（17) 果，浸潰加熱粉碎中，鈽系研磨材的 ^ 酸鹽時，或係鈽系稀土類碳酸鹽與鈽系稀2鈽，稀土類碳合物時，可以減低粗大粒子濃度，且;^ =氧化物的混特別有效的粉碎方法。、’、丑私碎時間，係第12及比較例5 :對浸潰加熱粉碎後，用研磨機的濕式粉碎所得的原料，進行氟化處理，盆後進行了焙燒。此外的研磨材製造條件與第2實施形態相同。且氟化處理中’添加氟化氫（HF )水溶液至漿液中。作為添加的溶液’除此之外，例如可舉出氟化銨等。氟化處理後所得的原料的氟成份濃度如表4所示。 [表4] 霣施形態/比較例浸漬加熱粉碎氟化處理後的原料之氟成份濃度 (wt%) 粗大粒子濃度(重量PP爪）加熱度 (°C) 浸漬時閭(min) 浸漬加熱後的原料研磨機粉碎後的原料研磨材冒施2 80 5 <0.1 240 100 380 冒施12 80 5 1.0 200 80 270 冒施13 80 5 3.0 200 80 250 比較5 80 5 6.0 200 80 200 當初原料的共同資料： L01=30 重量％「TREO/原料」=69重量％ r Ce02/TRE0」二60 重量〇/〇

2l69-4844-PF(N).ptd 第22頁 1293981 五發明說明（18) 大位：得知’粉碎後即使進行氟化處冑，也可得到粗降低2好的粉碎。但是，將其與第2實施形大粒子、d〇古:文，貝加熱粉碎後的原料或研磨材製品之粗 x粒子濃度沒有很大的差別。鈽系:對各實施形態及比較例所得的襞液狀態的 :(傷進行研磨實驗1定研磨值及評價研磨面的狀 ;丨广貝）。研磨實驗中，使用高速研磨試驗機為試驗的平面板用玻璃為被研磨材，將此玻璃用聚的研磨墊片研磨。研磨實驗中，使所得的研磨材進二二为散在水里，以調製濃度為10重量％的研磨材漿液。研磨條件係，以51/min的速度供給調製過的研磨材，嗖定對研磨面的壓力為i.HMpadSjkg/cm2)，設定研磨試驗機的旋轉速度l〇〇〇rpm。研磨後的玻璃材料在無塵狀態下乾燥。无#並值的評if :上述的研磨實驗，用測定研磨前後的 ^璃重量，根據所得的玻璃重量的減少量，求得研磨值。這裡，以使用比較例1的研磨材研磨時的研磨值美 (100) 。 -土千痕的評價:此係評價被研磨面的狀態用的。以被研磨面有無傷痕作為傷痕的評價基準。具體地，用30萬勒克司的自燈照射研磨後的玻璃表面，用反射法觀察玻璃表面，鑑定傷痕的程度使之點數化，用從1 0 0點滿點的減點方式來決定評價點。 /… 选淨性的tLA :用各實施形態及比較例所得的飾系研

1293981 五、發明說明（19) _ J材，洗淨研磨過的被研磨面，進 ’ 试驗中，首先準備用超音波 ^ ?的洗淨試驗。微鏡觀察用的玻璃製載片。將=研逾乾燥過的、光學顯 ^ 0重則研磨材襞液。=備=材分散^水中得到出,用乾燥機充分地乾燥，二V::著 J片的表面’得到洗淨性試驗用的更：：材附者的載片玻璃之周圍溫度為50 1 使乾燥時漬燒瓶内的在純水中：二V/後，將所得的試驗片浸後，從燒瓿中取出載片坡璃，用純水進杆皮六，。洗淨用光學顯微鏡觀察流水洗淨後的ΐ片;=洗淨。且，面上殘存的研磨材粒子的量。評 =表'，評價表

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說明（20) * ) ◎ 〇 Δ χ

洗淨性評價優良確認無附著研磨材良好確認僅有極微量的附著研磨材不良確認有少量的附著研磨材較差確認有大量的附著研磨材參照比較例1及第1至第6實施形態的研，結果，粗大粒子濃度低的研磨材取得較高之*研磨試浸潰加熱粉碎的條件與取得各性能優良 =*砰價’適合又的研磨材之條件，

2169-4844-PF(N).ptd 第25頁 1293981 五、發明說明（21) ίί上ί 丄Γ是，比較例2(浸潰時間18°分鐘)的研比較差。從這個,4:f度而其研磨值及洗淨性長，雖可降低r'rfi 浸潰加熱粉碎時的浸潰時間過洗淨性也下降：ί 材製品的研磨值及經說明的浸潰條件，浸潰=2二研磨材，除了已 Λ ’又/貝日守間最好在9 0分鐘以下。隆你楚 6此實施Λ態：：果看，浸潰時間最好在叫鐘以下因最好二使:2能超過6G分鐘、特別係超過90分鐘時， ΐ 未滿(常溫則更理想卜總而言間為i分鐘〜90分i : 〇、C〜1〇(PC的範圍較合適，浸潰時繁7杏吨右1 y刀鐘〜60分鐘則更理想。形態中未二研7: 粉碎將原料粉碎，也^ ，可以侍知只用浸潰加熱且，第8音*…也了侍到優良的研磨材。。此實施形態中w彳的研磨^材之試驗結果也全項目良好粉碎。m=研磨機粉碎，其後再進行浸潰加熱結果綜合起來Ϊ可以，f f潰加熱粉碎的第2實施形態的論先進行哪一個均可以/又/貝加熱粉碎及研磨機粉碎，無參照第9至第1 1 果，原料的LOI低，則=形態及比較例4的研磨材之試驗結，且最終所得的研磨材:碎所二的原料之粗大粒子濃度高料的LOI高，則粉碎所备痕5平價低（比較例4)。且’原終所得的研磨材的傷于、：料之粗大粒子濃度低，且最傷痕㈣而°此結果，用浸潰加熱粉碎

2169-4844-PF(N).ptd 第26頁 1293981 五、發明說明（22) 粉碎原料時，原料最好係㈣稀土類錢鹽、類碳酸鹽與鈽系稀土類氧化物的混合物。一：稀土樣的原料’則可以在短時間内將右使用這並可以製造各性能優良的UK原枓粉碎至良好的狀態，第12及第13實施形態及比較例5的研磨材進行氟化處理的，浸潰加熱粉料在:碎材製品的粗大粒子濃度，其結果與第2實施形態相比= 遜u齓化處理中氟的添加量最多的比較例5之雜ί傷痕及洗淨性的評價較差。這個結果說明，氟化處材理雖係可能，但最好不要添加多量的氣成份。具體=化2 :知研磨:的氟成份濃度較好的係低於3.。重表篁％以下則更理想。里產業上的利用可能性磨力t發度更低、且可確保更高研丄々名®1的洗淨性優良的鈽系研磨材之製造方法度ΐ降地:二i很ϊ:粉碎時間内，確實使粗大粒子滚原枓並了鬲效地製造研磨性能優良的鈽系研磨材。

1293981 圖式簡單說明第28頁 2l69-4844-PF(N).ptd

Claims

六、申請專利範圍材二：Ϊ鈽ί研磨材料之製造方法’包含粉碎鈽系研磨材枓的原料之製程’亦包含將粉碎後的原料 =磨及將焙燒後的原料解碎之製程，凡之1¾，其特徵在於：磨材料的原#，使用鈽系稀土類碳酸瞄、 j鈽糸稀土類碳酸鹽與㈣稀土類氧化 1 粉碎將原^潰在水溶液中的狀態下加熱進行方、去2，.ΪΙ請圍第1項所述的飾系研磨材料之製造方法，其t，將原料浸潰在水溶液 7之“ 中，水溶液的加熱溫度係6〇 t〜1〇〇它。^ σ"、、之製程 3 ·如申凊專利範圍第1項之製造方法，其中，鈽系研磨第的：的：二研磨材料 1小時後的點火損失(ignition 1〇的:抖’在looot加熱 %。 s)為丨· G重量％〜40重量 4 · 一種鋪糸研磨材料，用士主 — 所述的#系研磨材料之製造方、去^、▲和範圍第1、2或3項中，氟成份濃度為3· 〇重量％以下。1 k的鈽系研磨材料，其 5 ·如申請專利範圍第4項所 ^ ，氟成份濃度為0· 01重量1錦系研磨材料，其中 • υ重夏· %。