TWI281046B - Color filter forming method - Google Patents

Color filter forming method Download PDF

Info

Publication number
TWI281046B
TWI281046B TW094140277A TW94140277A TWI281046B TW I281046 B TWI281046 B TW I281046B TW 094140277 A TW094140277 A TW 094140277A TW 94140277 A TW94140277 A TW 94140277A TW I281046 B TWI281046 B TW I281046B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
bank
substrate
liquid
film
forming
Prior art date
Application number
TW094140277A
Other languages
English (en)
Other versions
TW200619690A (en
Inventor
Naoyuki Toyoda
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Publication of TW200619690A publication Critical patent/TW200619690A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI281046B publication Critical patent/TWI281046B/zh

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/10—Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/201—Filters in the form of arrays
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/12—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
    • H05B33/22—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of auxiliary dielectric or reflective layers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Description

1281046 九、發明說明： 矿 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於利用喷墨方式之彩色濾光器之製程。 【先前技術】
在利用喷墨方式之彩色濾光器之形成中，通常利用配設 於基板之凸狀之隔牆構件（以下稱岸堤）施行圖案之微細 化。為了將利用喷墨方式噴出之濾光器材料（以下稱墨汁） 收容於岸堤與基板所形成之凹部（以下稱岸堤溝部），會使 岸堤呈撥液性，使基板呈親水性，藉以防止墨汁越過岸堤 (例如專利文獻1)。 [專利文獻1]日本特開2001-272527號公報 [發明所欲解決之問題] 但，使岸堤呈撥液性時，由喷墨頭喷出之墨汁會因岸堤 之撥液性而縮成圓形，導致在岸堤中央部附近，顏色變= 較濃，在岸堤附近，因墨汁厚度較薄而使顏色變得較淡， 因而損及作為彩色濾光器之性能。 口此，本發明之目的在於以更簡便之方法使充分之墨汁 停留於岸堤溝部，以提供在岸堤溝勒之色濃淡差少而對 比大之彩色濾光器之形成方法。 【發明内容】 為解決上述問題， 板上形成岸堤之步驟 全部親水化之步驟、 敷撥液劑之步驟。 在本發明中，其要旨在於包含：在基 、將前述基板與前述岸堤之一部分戈 及在刖述岸堤上面之一部分或全部塗 105660-951201.doc 1281046 年,
Vi 藉此，由於將基板與形成板-上―之—岸分或全 部親水化，故可使岸堤溝部内全部成為親水性，可使墨汁 充分停留。且將撥液劑塗敷於岸堤上面之一部分或全部， y防止墨汁越過岸堤，同時，在由噴墨頭喷出之墨汁命中 岸堤上之情形’可將岸堤上之墨汁引入溝内，以防止與鄰 接之岸堤之墨汁混濁在一起。 本發明之要旨在於藉使撥液劑附著於前述基板以外之原 φ 版構件，使前述原版構件與前述基板上之前述岸堤之上面 相接觸而將前述撥液劑轉印於前述岸堤之上面之一部分或 全部。 藉此，可藉使撥液劑附著於基板以外之原版構件，使原 版構件與基板上之岸堤相接觸而將撥液劑轉印於岸堤之上 面之一部分或全部，故可在岸堤之上面之一部分或全部設 置撥液劑，而對被親水化之岸堤溝部不造成影響。 本發明之要旨在於岸堤之材料係無機材料或有機材料。 藉此，可與岸堤之材料無關地適用本發明。 本發明之要旨在於岸堤之高度係在1 μιη以上。 藉此，在岸堤之上面之一部分或全部設置撥液劑之際， 岸堤之高度在1 μιη以上時，可防止撥液劑附著於岸堤溝部 中。 本發明之要旨在於前述岸堤係配設於遮光層上。 藉此，在配設於基板之遮光層上設有岸堤，可將基板、 岸堤與遮光層之一部分或全部親水化，使岸堤溝部内全部 被親水化，可使墨汁均勻停留於岸堤溝部内。 105660-951201.doc 1281046 £094140277號專利申請荦 弟094140277號專利申，荦 Γ /:厂…一 —一—'—| t Xtmt^m(96 ί V ^) l"' ；j Φ ##lj 本發明之要旨在於將前述基板與前述岸堤之一部分或全 部親水化之步驟係包含臭氧氧化處理、電漿處理、電暈處 理、紫外線照射處理、電子線照射處理、酸處理、鹼處理 之至少一種處理。 藉此，作為將基板與岸堤之一部/分或全部親水化之步 匕g臭氧氧化處理、電漿處理、I暈處理、紫外線照 射處理、電子線照射處理、酸處理、鹼處理之至少一種處 理打，可將基板與岸堤之一部分或全部親水化。 本發明之要旨在於原版構件係平板狀或捲筒狀。 猎此，可容易將附著於平板狀或捲筒狀之原版構件之撥 液d轉印於形成在基板之岸堤上面之一部分或全部，使岸 立疋上面之一部分或全部具備撥液性。 本發明之要旨在於原版構件係至少含矽氧烷構造之彈性 體。 藉此，由於原版構件係至少含矽氧烷構造之彈性體，故 可獲得作為彈性體之原版構件，可提高基板與岸堤之一部 分或全部之密接性，且可確保與撥液劑之耐性。 本發明之要旨在於撥液劑係矽烷耦合劑或呈撥液性之高 分子。 门 藉此’由於撥液劑係矽烷耦合劑或呈撥液性之高分子， 故可使岸堤上面之一部分或全部具備強撥液性，可穩定地 將墨汁收容於岸堤溝部。 【實施方式】 以下，詳細說明有關本發明之實施例。 105660-960118.doc 1281046 Ύ ν [實施例1 ]
彩色濾光器係在基板上設有排列成矩陣狀之多數書素， 在畫素與畫素之交界係被凸狀之隔牆構件（以下稱岸堤）所 隔開。被此岸堤所隔開之内側區域稱為岸堤溝部。由喷墨 裝置（未圖示）將紅（R)、綠（G)、藍（Β)中之一色之濾光器材 料（以下稱墨汁）噴出至每1畫素，以形成彩色濾光器。晝素 之形狀形成圓形、橢圓、四角、帶狀任何形狀均無妨，但 因墨汁組成物有表面張力，故以四角形之角部帶圓之形狀 較為理想。又，紅、綠、藍之配置有鑲嵌排列、帶狀排 列、三角形排列等，在本實施例中，採用其他配置也無 妨。 本實施例係說明有關作為彩色濾光器之形成方法之基板 與在基板上形成岸堤之步驟、將基板與岸堤之一部分或全 部親水化之步驟、及在岸堤上面之一部分或全部塗敷撥液 劑之步驟。 <基板與在該基板上形成岸堤之步驟之流程> 圖1係本實施例之基板與在該基板上形成岸堤之步驟之 流程圖。 在本貝施例中，以步驟（以下稱8)1〇〇選擇是否使用基板 本身作為岸堤。不使用基板本身作為岸堤之情形，進入 S101，使用基板本身作為岸堤之情形，進入si2〇。 在此，作為基板之材料，為由玻璃、石英等所構成之透 月或半透明之無機質基板材料、金剛石、矽系、鍺系等單 晶或非單晶之半導體基板材料、甚至於m構成之基板 105660-951201.doc 1281046 )r· 材料、或聚乙烯系樹脂系、聚苯脂系、聚對苯二
甲酸乙二醇酉旨樹脂系、聚丙浠酸樹脂系、聚甲基丙烯酸樹 脂系等通用塑料或聚碳酸酯樹脂系、聚酯樹脂系、聚醯胺 樹脂系、聚縮醛樹脂系、聚醯胺亞胺樹脂系、聚醯亞胺樹 脂系、聚醚亞胺樹脂系、環氧樹脂系（含混入玻璃）、聚颯 樹脂系、聚醚砜樹脂系、聚醚樹脂系、聚醚酮樹脂系、聚 謎腈樹脂系、聚苯醚樹脂系、聚苯硫醚樹脂系、多酚樹脂 系等之工程塑料中之一種或各材料之組合材料。 茲說明有關不使用基板本身作為岸堤之情形。 在S101，選擇是否在基板10上將岸堤多層化。不多層化 而選擇一層岸堤之情形（NO)，僅施行一次s102〜sl05。 又’選擇「將岸堤多層化」之情形（YES)，以多層化之次 數重複施行S102〜S105。 在S102，使岸堤材料附著於基板之一部分或全部，施以 熱及/或光處理等之成膜處理而獲得希望之岸堤膜。所謂 熱及/或光處理，係指利用加熱、紫外線照射、紅外線照 射或可見光照射等使構成岸堤膜之物質活性化而使其反 應’以獲得作為岸堤膜之性能之處理。以 △「，將此處理稱 為成膜處理。在此所得之膜稱為岸堤膜。作為岸堤言产 序土疋膜之厚度（高度）最好在1 pm以上。 ° 在此，岸堤之材料⑭為無機材料之無機質基板材料、 半導體基板材料、陶竟基板材料、或作為有機材料之雨用 塑料或工程塑料中之一種或各材料之組合材料。、、用 S101，選擇r將岸堤多層化」之情形，組此以八在 匕等材料而構 105660-951201.doc 1281046
成岸堤。 p.' 1彳J 另外，說明有關在S102中塗敷或附著岸堤之材料之方 法。 作為塗敷之方法，有將液狀之前述岸堤之材料供應至旋 轉中之基板而獲得具有特定厚度之岸堤膜之自旋式塗敷 法；藉氣體或媒體使液狀之前述岸堤之材料變成霧狀而喷 附在基板上之喷霧塗敷法；將液狀之前述岸堤之材料供岸 :旋轉中之多數輥以調整至希望之厚度，使至w個輥愈 土板接觸而由輥將岸堤之材料轉印至基板之輥觸塗敷法； =液狀之别述岸堤之材料供應至塗刷器内冑，由塗刷器前 知均勻地塗敷於基板之口模式塗敷法；及將液狀之前述岸 堤之材料料於容器中，浸潰基板後以等速撈起而塗敷之 浸潰塗敷法。 作為將同圖之S102所得之 法’有光微影照相法。 岸堤膜成型為希望圖案之 方 在S103之光微影照相法中 將液狀之光阻塗敷·曝光· 堤膜之不要部份，在§1〇5中 形狀’洋見後述。 ’設置配合岸堤形狀之光罩， 顯影，在S104中，蝕刻除去岸 ’剝離光阻而獲得希望之岸堤 在S101，選擇將岸堤 在第1次所得之岸堤上， 材料而施行成膜處理， 其後之處理。 夕層化（YES)之情形，進入si〇2, 塗敷與第1次相同或相異之岸堤之 乂希望之多層化之次數份重複施行 以下 說明使用基板本身 作為厗堤之情形 105660-951201.doc 1281046
ft如I 之情形，在
作為岸堤溝部。 在同圖sioo中選擇使用基板本身作為岸堤之情 s 120之光微影照相法中，設置配合岸堤形狀之光罩 狀之光阻塗敷•曝光•顯影，在8121中，利用光微 <藉光微影照相法在基板上形成岸堤之步驟> 圖2(a)〜(f)係說明藉光微影照相法蝕刻岸堤膜而形成岸 堤之步驟之基板剖面圖。 在圖2(a)中，在圖，選擇不將岸堤多層化（n〇) 之h开y，如圖1之s 102所述般將岸堤膜丨2形成於基板丨〇之 一部分或全部’在圖2(b)中，在圖2(a)之岸堤膜12之一部 分或全部上形成光阻14。 在圖2(c)中，以禮、接於所形成之光阻μ之方式設置光罩 16，在該密接之光罩16之面設置希望之圖案。在本實施例 中使用正型光阻，由光罩丨6上方照射之平行光僅照射於 無光罩圖案16a之部分。 在圖2(d)中，被光照射之光阻14會因其光而引起化學反 應，變成可溶於顯影液中。光阻14之表面充分浸潰於顯影 液中時，不要之光阻14b會溶解於顯影液中。又，需要之 光阻14a不會溶解於顯影液中。需要之光阻也可被加熱 而提高與岸堤膜12之密接性。 在圖2(e)中，將溶解岸堤膜12之溶劑（以下稱蝕刻液）供 105660-951201.doc -11 - 1281046 f - fj-卜 / ' 應至岸堤膜12之表面，以溶解除去無需要之光阻14a之不 要之岸堤膜12b。需要之岸堤膜12a會被確實保持於需要之 光阻14a與基板10之間。 在圖2(f)中，利用剝離溶劑除去需要之光阻14&，而將需 要之岸堤膜12a圖案化形成於基板1〇上。在本實施例中， 將朝向一個需要之岸堤膜12a之岸堤壁側面12c而構成畫素 之另一個需要之岸堤膜l2a之岸堤壁側面12d與基板ι〇之表 面l〇a所形成之凹部稱為岸堤溝部2〇。又，需要之岸堤膜 ’ 12a之上方之面稱為岸堤上面12e。 在此，岸堤膜12之材料，例如混入黑色、藍色、灰色之 顏料或染料而在將岸堤膜12塗敷於基板1〇上，施以成膜處 理而經過本實施例之步驟之情形時，需要之岸堤膜i2a會 呈現黑色、藍色、灰色。藉此，可將需要之岸堤膜i2a使 用作為遮蔽通過本發明之彩色濾光器之遮光層。混入之顏 料或染料並不限定於上述之顏色。又，岸堤膜12之材料可 I 使用無機材料或有機材料。 圖3(a)〜(e)係說明藉圖1之流程之光微影照相法蝕刻基板 而形成岸堤之步驟（S120、S121、S122)之基板剖面圖。 在圖3(a)中，在si2〇，係在基板1〇上形成光阻14之步 驟。形成之方法、材質與81〇3相同。812〇與81〇3之不同點 在於在基板10上不配設岸堤膜12，而在基板1〇上形成光阻 14 〇 在Θ (b)中，在si2〇，設置光罩16，由無光罩圖案 照射平行光，使平行光僅照射於朝向無光罩圖案16a之部 105660-951201.doc -12- 1281046 ‘ 分之光阻14。
在圖3(c)中，在S120，被光照射之光阻14會因其光而引 起化學反應，變成可溶於顯影液中。光阻14之表面充分浸 /貝於顯衫液中時，不要之光阻14b會溶解於顯影液中。 又，需要之光阻14a不會溶解於顯影液中。需要之光阻14a 也可被加熱而提高與岸堤膜12之密接性。 在圖3(d)中，在S121，將溶解基板1〇之溶劑（以下稱基板 蝕刻液）供應至需要之光阻14a與基板1〇之表面，以溶解無 而要之光阻14a之基板1〇而獲得凹狀之希望之圖案1〇b。基 板蝕刻液只要屬於不溶解需要之光阻14a而溶解基板10之 溶液即可。 在圖3(e)中，在S122，利用剝離溶劑除去需要之光阻 14a ’而獲得被蝕刻後之基板10之凹狀之希望之圖案10b。 在本實施例中，使用此凹狀之希望之圖案1〇b作為岸堤溝 部20。又，未被蝕刻基板1〇之表面1〇a稱為岸堤上面i2e。 <將基板與岸堤之一部分或全部親水化之步驟> 圖4(a)係在基板1〇上形成需要之岸堤膜12a之基板1〇之剖 面圖，圖4(b)係被將基板與岸堤之一部分或全部親水化之 步驟親水化之基板10之剖面圖。 圖4(a)係表示圖1之81〇2〜81〇5之方法所製造之基板1〇上 之厗堤溝部20。 在圖4(a)中，如前所述，在基板1〇上形成需要之岸堤膜 利用基板1〇之表面l〇a、需要之岸堤膜12&之岸堤壁 側面12c、及需要之岸堤膜12a之岸堤壁側面12d構成岸堤 105660-951201.doc •13- !28l〇46 溝部20。岸堤溝部20係成為彩色濾光器之畫素之處，可由 噴墨裝置（未圖示）將紅（R)、綠（G)、藍（B)中之一色之墨汁 噴出至各岸堤溝部20，以形成彩色濾光器。 在圖4(b)中，說明有關親水化之步驟（親水處理）。
親水化之步驟（親水處理）係對水容易濕潤之處理，處理 之對象為岸堤溝部20、基板1〇及岸堤上面ne之一部分或 王部’被處理後之表面之被親水化之膜在同圖中以親水化 膜90加以表示。將被此親水化膜9〇覆蓋之岸堤溝部2〇特別 稱為親水化岸堤溝部21，將被此親水化膜9〇覆蓋之岸堤上 面12e特別稱為親水化岸堤上面22。在此，親水化岸堤溝 部21係指不含親水化岸堤上面22之區域。 作為親水處理之具體例，可例示臭氧氧化處理、電漿處 理、電暈處理、紫外線照射處理、電子線照射處理、酸處 理、驗處理等，且為依照岸堤溝部2G、基板1()及岸堤上面 lje之表面特性適宜地施行之處理，例如在屬於有機物之 溝部20或基板10之表面含有羥基、醛基、酮基、氨 基、亞氨基、縣、料基等極性基之情形，親水處歸 驟也可予以省略。 什口| 4 1久签低1 U对不顯f 以下之接觸角。 〈對厍乂上面之-部分或全部塗敷撥液劑之步驟> 其次，說明有關對前述親水化岸堤上面22之 部塗敷撥液劑50之牛職 μ 之步驟。此步驟係使親水化岸堤上面 一部分或全部對水難以濕潤之處理。 105660-951201.doc -14- 1281046
fr κ I 此係藉使撥液劑50附著於有別於基板l 〇之構件之原版構 • 件51，使此原版構件51與基板1〇上之岸堤上面i2e相接 觸，而將撥液劑50轉印於親水化岸堤上面22之一部分或全 部，將親水化岸堤上面22撥液化之步驟。 圖5(a)〜(c)係說明平板狀之原版構件之製作方法之平剖 面圖與立體圖。 圖5(a)係製作平板狀之原版構件之際之平面圖，圖5(b) ^ 係製作平板狀之原版構件之際之圖5(a)之Α·Α剖面圖，圖 5(c)係完成後之平板狀之原版構件之立體圖。 在圖5(a)中，為製作平板狀之原版構件51，首先，由型 箱52上方***壓型體53。在型箱52之底面配設導孔52&， 套合著由壓型體53向下方延伸之突出部53b。又，型箱52 ‘ 與壓型體53係套合著。在壓型體53之上方，配設具有以在 下方縮小間隔方式相向之一對傾斜面53a之突出部。 由型箱52上方***壓型體53後，使液狀之壓型劑54流入 φ 型箱52與壓型體53構成之凹狀區域。流入之液狀之壓型劑 54流入直到填滿包含壓型體53之面53〇、傾斜面53&及型箱 52之内壁面52b之區域為止。 液狀之壓型劑54填充後，由型箱52上方***至少一面為 平滑之面55a之例如矽晶圓或玻璃等之平板”，以挟壓液 狀之壓型劑54。此情形，需預先將液狀之壓型劑54塗附於 平板55之平滑之面55a，使空氣不會進入平板“之平滑之 面55a與液狀之壓型劑54之間。平板55只要具有平坦之面 即可，並無特別限制。 105660-951201.doc -15- 1281046
:Ί 屢(更:
將平板55***型箱52後，***施力構件％。在本實施例 中利用施力構件56之重量，對平板55與液狀之壓型劑54 施力，但也可由上方，利用汽缸、彈簧施力，或栓緊固定 型箱52與施力構件56。 將如此安裝各構件之整套在室温下放置24小時。且也可 加熱。藉此處理，可在具有彈性之狀態下，使液狀之壓型 劑54硬化。
在此’說明有關作為原版構件之材料之壓型劑54之材 料0 作為壓型劑54之材料，使用聚二甲基矽氧烷（pDMS)(信 越化學製KE1310ST)，藉附加型之反應機構混合硬化之樹 . 脂材料與硬化劑後，在室溫下放置24小時或加熱放置，在 ^ 具有彈性之狀態下使其硬化。 例如’使液狀之壓型劑54反應而成型彈性體之情形之反 應可利用縮合型或附加型中之任一方式，但由於顯示〇.5% Φ 程度之線收縮率之縮合型在高分子反應之過程中會產生氣 體，故使用線收縮率〇.1%程度之附加型反應機構獲得之彈 性體材料更為理想。 又’作為壓型劑54，為提高基板1〇與親水化岸堤上面22 之密接性，最好使用含矽氧烷構造之彈性體。例如可列舉 石夕氧烧之聚二甲基矽氧烷（PDMS)系之彈性體。此高分子 之構造式係以 Si(CH3)3-〇_(Si(CH3)2〇)n-Si(CH3)3表示。福 正整數。使用此材料，可使成型後之原版面54a之表面吸 收或附著塗敷於後述之親水化岸堤上面22之表面處理劑。 105660-951201.doc -16- I)正替換 128 Q洗泛40277號專利申請案 ， 中文說明書替換頁(％年月） 圖5(C)係在壓型劑54具有彈性而被硬化之狀態下，由型 箱52取下之原版構件51之立體圖。 在含有壓型體53之多數傾斜面53a與面53c之狀態下固定 壓型劑54。配設於壓型體53之突出部5313係在後述之步驟 中用來將原版構件51安裝於其他裝置。又，壓型劑54之原 版面54a係藉平板55之平滑之面55&而變成平滑面。 在原版構件5 1之原版面54a上，利用自旋式塗敷機以 3000 rpm 30秒之旋轉將撥液性高分子溶液（大金工業製優 尼達因TG-65 6)塗敷至原版面54a，以作為表面處理劑70。 藉此表面處理劑70之塗敷，可使原版面54a具有撥液性。 〈對岸堤上面之一部分或全部塗敷撥液劑之步驟> 圖6(a)〜(c)係說明在形成於基板1〇之親水化岸堤上面22 之一部分或全部塗敷撥液劑80之步驟之基板丨〇及原版構件 5 1之剖面圖。 圖6(a)係塗敷撥液劑8〇之原版構件51之剖面圖。 在原版構件51具有之壓型劑54之原版面54a之一部分或 全部塗敷撥液劑80。作為撥液劑80，可使用具有可將分子 之末端官能基選擇地吸附於基板構成原子之特徵之矽烷耦 合劑（有機石夕化合物）或界面活性劑。 在此’所謂矽烷耦合劑，係以RiSiximX2(3_m)表示之化 合物’ R1表示有機基，X〗及χ2表示-〇R2、-R2、，r2表 示碳數1〜4之统基，m為1至3之整數。 又’所謂界面活性劑係以R】Yi表示之化合物，γΐ為親水 性之極性基、-OH、_(CH2CH20)nH、-COOH、-COOK、 105660-960118.doc 17
12810齡術77號專利申請案 中文說明書替換頁(96年1月）
三NHBr(吡啶鏽鹽）等。
示反應 性，故適合於使用作為撥液劑80。此等矽烷耦合劑或界面 活性劑中，尤其R1可被具有全氟烷基構造CnF2n+i或全氟烷 基構造CpF2P+1〇(CpF2P〇)r之含有全氟原子化合物所修飾， 故固體表面之表面自由能小於25 mJ/m2，與具有極性之材 料之親和力變小，故適合於使用。 面之經 更具體而言’作為石夕烧搞合劑，可列舉CF3-CH2CH2、 Si(OCH3)3、CF3(CF2)3-CH2CH2_Si(OCH3)3、CF3(CF2)5-CH2CH2-Si(OCH3)3 、 CF3(CF2)5-CH2CH2-Si(OC2H5)3 、 CF3(CF2)7-CH2CH2-Si(OCH3)3 、 CF3(CF2)i i-CH2CH2^ Si(OC2H5)3 、 CF3(CF2)3_CH2CH2-Si(CH3)(OCH3)2 、 CF3(CF2)7-CH2CH2-Si(CH3)(OCH3)2、CF3(CF2)8-CH2CH2_ Si(CH3)(OC2H5)2、CF3(CF2)8-CH2CH2_Si(C2H5)(OC2H5)2、 CF30(CF20)6-CH2CH2-Si(0C2H5)3、CF30(C3F60)4-CH2CH2、 Si(OCH3)3、CF30(C3F60)2(CF20)3-CH2CH2-Si(0CH3)3、 CF30(C3F60)8-CH2CH2-Si(0CH3)3、CF30(C4F90)5-CH2CH2、 Si(OCH3)3 、CF30(C4F90)5-CH2CH2-Si(CH3)(0C2H5)2、 CF30(C3F60)4-CH2CH2-Si(C2H5)(0CH3)2等。但，不限定於 此等構造。 105660-960118.doc -18- 1281046 又，作為界面活性劑，可列舉CF3-CH2CH2-COONa、 CF3(CF2)3-CH2CH2-COONa、CF3(CF2)3-CH2CH2-NH3Br、 CF3(CF2)5-CH2CH2-NH3Br、CF3(CF2)7-CH2CH2-NH3Br、 CF3(CF2)7_CH2CH2-0S03Na、CF3(CF2)"-CH2CH2-NH3Br、 CF3(CF2)8_CH2CH2-0S03Na 、 CF30(CF20)6_CH2CH2- OS03Na 、 CF30(C3F60)2(CF20)3-CH2CH2-0S03Na 、
CF30(C3F60)4-CH2CH2-0S03Na、CF30(C4F90)5-CH2CH2-OS03Na、CF30(C3F60)8-CH2CH2-0S03Na等。但不限定於 此等構造。 另外’作為撥液劑80，也可使用撥液性之高分子化合 物。例如’可使用分子内含有氟原子之低聚物或聚合物， 舉具體例時，有聚四氟乙烯（PTFE)、乙烯_四氟乙烯共聚 物、六氟丙烯-四氟乙烯共聚物、聚偏二氟乙烯（PVdF)、 具有聚（十五氟甲基丙烯酸庚基乙酯）(PPFmA)、聚（全氟丙 烯酸辛基乙酯）等之長鏈全氟烷基構造之乙烯、酯、丙烯 酸酯、甲基丙烯酸酯、乙烯基、聚氨酯、矽、亞胺、碳酸 酯系聚合物等。 為防止被轉印之撥液劑8〇之膜（以下稱撥液化膜81)影響 到親水化岸堤上面22，厚度較好為10 nm以下，更好為5 nm以下。 又，作為對壓型劑54之原版面54a之撥液劑80之塗敷方 法可採用瓜之塗敷方法，例如擠出塗敷方法、自旋式 塗敷方法凹輥塗敷方法、逆向輥塗敷方法、連桿塗敷方 法、槽口塗敷方法、微凹親塗敷方法、浸錢塗敷方法、喷 105660-951201.doc -19- 1281046 -第094140277號專利申請案 中文說明書替換頁(96年1月）f⑶ 墨塗敷方法等。 圖6(b)係說明使塗敷撥液劑80之原版面54a與基板10之親 水化岸堤上面22接觸，將原版面54a之撥液劑80轉印於基 板10之親水化岸堤上面22之基板10及原版構件51之剖面 圖。 首先，調整原版面54a與基板10之親水化膜90之一部分 之親水化岸堤上面22之平行度。其次，在原版面54a與基 板10之親水化岸堤上面22之間施力至使具有彈性之壓型劑 54略微變形之程度。因此，撥液劑8〇不會被塗敷至親水化 岸堤溝部2 1，仍然可確保親水化岸堤溝部21之親水性。由 於壓型劑54略微變形，有可能使撥液劑80附著於親水化岸 堤溝部21，故需要之岸堤膜12a之高度（厚度）最好在1 μιηα 上。 圖6(c)係說明使原版構件51脫離基板1〇之親水化岸堤上 面22 ’將撥液劑8〇轉印於基板10之親水化岸堤上面22上之 狀態之基板1 0之剖面圖。 撥液劑80僅被轉印於原版面54a與基板1〇之親水化岸堤 上面22接觸之部分，撥液劑8〇不被轉印於不接觸之部分。 此係可轉印於親水化岸堤上面22之一部分之方法。也可將 撥液劑80轉印於親水化岸堤上面22之全部。 為提高被轉印之親水化岸堤上面22之撥液劑8〇之撥液 性’最好在轉印步驟後，使用將撥液劑8〇固定於基板丨〇而 獲知撥液化膜8 1之步驟，具體上使用加熱處理或曝露於反 應性蒸氣等之處理。例如，在矽烷耦合劑之情形，將基板 105660-960118.doc -20- 1281046 f卜卜丨 - ---- . ' '加熱至高溫，或利用在室溫下曝露於高濕度之環境下使其 進行反應。作為具體例，為使作為撥液劑80之撥液性高分 子反應定影於基板10之親水化岸堤上面22，使用利用加熱 至150°C之烤箱加熱處理1分鐘之方法。
如此，使所塗敷之撥液劑80固定於基板1〇而變成做為撥 液性高分子之撥液化膜81，藉此可僅使基板1〇上之親水化 岸堤上面22呈現撥液性。利用被轉印之撥液劑8〇所產生之 撥液化膜8 1之撥液性高分子，將表面處理成撥液性，可使 撥液化膜81對水具有90°以上之高接觸角。 圖7(a)係液滴喷出頭200之全體之剖面立體圖，係喷 出部之詳細剖面圖。各液滴喷出頭200係喷墨液滴喷出 頭。各液滴喷出頭200具有振動板226與喷嘴板228。儲液 部229位於振動板226與喷嘴板228之間，該儲液部229經常 填充著由箱（未圖示）經由管（未圖示）而供應至孔232之紅 (R)、綠（G)、藍（B)中之一種墨汁。 又，在振動板226與喷嘴板228之間配置有多數隔牆 222。而，振動板226、喷嘴板228與一對隔牆222所圍成之 部分為空腔220。空腔220係對應於喷嘴252被設置，故空 腔220之數與喷嘴252之數相同。紅（R)、綠（G)、藍（B)中之 一種墨汁11係由儲液部229經由位於一對隔牆222間之供料 口 23 0被供應至空腔220。 在圖7(b)中，在振動板226上，對應於各空腔220，配置 有振子224。振子224包含壓電元件224c及夾著壓電元件 224c之一對電極224a、224b。將驅動電壓施加至此一對電 105660-951201.doc -21- 1281046 ί卜1 -丨 極224a、224b時，可由對應之喷嘴252噴出紅（R)、綠（G)、 藍（B)中之一種墨汁U。又，喷嘴252之形狀係被調整成可 由喷嘴252向Z軸方向噴出墨汁11。 在此，在本實施例中，所謂「墨汁丨丨」，係指可由喷嘴 喷出之具有黏度之材料。此情形，不問材料屬於水性或油 性。只要具有可由噴嘴喷出之流動性（黏度）即已充分，即 使混入固體物質，只要屬於流動體即可。
墨汁Π之黏度最好在1 mPa · s以上5〇 mPa · s以下。黏 度小於1 mPa · s之情形，喷出墨汁u之際，喷嘴252之週 邊部容易被墨汁11之流出所污染。另一方面，黏度大於5〇 mPa· s之情形，在喷嘴孔之阻塞頻度升高，因此，難以圓 滑地噴出液滴。 在本貝施例中，有時也將包含一個噴嘴252、對應於喷 嘴252之空腔220、及對應於空腔22〇之振子224之部分標示 為「喷出部227」。依據此標示，j個液滴噴出頭2〇〇具有與
喷嘴252數相同之數之喷出部227。噴出部227也可且有電 熱變換元件以取代壓電元件。也就是說，_J7也可 具有利用電熱變換元件之材料之熱膨脹而噴出材料 成0 在此’說明有關墨汁11之材料。 墨汁11係使用使無機顏料或有機顏料分散 低聚物作為顏料後’添加環己_及醋酸Tg旨作； 劑’添加丁基二甘醇_***醋 ’、、、m 加非錐4 Mm 心料4點溶劑，再添 加非離子糸界面活性劑〇.〇1重量 作為刀散劑，使黏度成 105660-951201.doc -22- 1281046
， frH 、 為6〜8 mPa· s之材料。因此，分別使紅（R)、綠（G)、藍（b) 、分散時’即可形成紅、綠、藍之墨汁丨i。 圖8係說明由液滴噴出頭200喷出之紅（R)、綠（G)、藍（B) 中之一色之墨汁11與基板1〇之關係之剖面圖。 由液滴喷出頭200噴出之墨汁i丨係以炮彈型之形狀到達 基板1〇。利用液滴噴出裝置（未圖示）對親水化岸堤溝部21 控制喷出用之位置而噴出適量之墨汁i i。同圖所圖示之墨 汁11係由液滴喷出裝置具有之液滴喷出頭200喷出之墨 • 汁。 墨汁11係利用液滴噴出頭200(參照圖7)，由同圖紙面右 方向左方噴出例如紅（R)之墨汁ila，使其停留於親水化岸 • 堤溝部21a，其次，噴出例如綠（G)墨汁lib，使其停留於 • 親水化岸堤溝部21b。此情形，親水化岸堤溝部21a、21b 内如前所述’已被親水化膜9〇親水化，故可使墨汁u容易 停留於親水化岸堤溝部21 a、21 b内，在注滿親水化岸堤溝 φ 部2 la、2 lb之高度以前，皆可喷出墨汁墨汁11a、lib而使 其停留於溝中。 因此，增多由液滴噴出頭2〇〇喷出之墨汁Ua之量時，容 易使喷出並停留於親水化岸堤溝部21 a之墨汁11 a之液面 11c呈現略水平狀態。在親水化岸堤溝部21a内之墨汁 之厚度保持約略均等之狀態時，分散於墨汁lla之顏料之 濃度可保持約略均勻，故在施行後述之烘乾處理而蒸發墨 汁1 la之溶劑之情形，可使作為晝素之親水化岸堤溝部21& 内之顏色濃度保持均勻且變得更濃。 105660-951201.doc -23- 1281046 f卜叫 另外，由液滴噴出頭200喷出之墨汁iia到達基板i〇之到 達位置（以下稱命中位置）稍有偏差而卡在撥液化膜81上之 情形，也可利用撥液化膜81之撥液性將其撥開而將其引入 親水化岸堤溝部21a内，以防止與鄰接之其他色之墨汁Ub 混在'起。 其次’將由液滴喷出頭200喷出而停留於作為畫素之各 親水化岸堤溝部21a、21b之墨汁11a烘乾。 首先，在自然氣體環境中放置3小時後，在8(rc之加熱 板上加熱40分鐘，最後在烤箱中以2〇(rc加熱3〇分鐘而施 行墨汁11之烘乾處理，藉此，可在基板丨〇上形成紅（r)、 綠（G)、藍（B)之彩色濾光器。 在親水化岸堤溝部21 b中，墨汁11 b之量較多之情形，墨 汁lib之液面Ue會上升至高於撥液化膜81之位置。此情 形’依據本實施例，也可藉撥液化膜8丨之撥液性，防止墨 汁流出至相鄰之作為畫素之親水化岸堤溝部21&。 以下，記載本實施例之效果。 (1) 未對岸堤溝部2〇(參照圖4)施行親水化處理之情形， 墨汁11與岸堤溝部2〇之濕潤性較差，呈現如同圖之二點短 劃線所示之液面1 id，形成在岸堤溝部20之中央部厚度較 大，在岸堤溝部20之周邊部幾乎無厚度之狀態。因此，在 t(R)、綠（G)、藍（B)之各畫素中之顏色之均勻性及顏色之 、又有門喊’但此專問題可利用本實施例予以解決。 (2) 可將顏料或染料混入岸堤膜12中，而使需要之岸堤 膜12a發揮作為遮光層之作用，因此，使用本實施例之方 105660-951201.doc -24 - 1281046
，可提供對比較大之顯示裝置
法所形成之彩色濾光器 [實施例2J 其次，利用圖式說明實施例2。 未記載之部 本實施例係記載有關異於實施例1之部分 分與實施例1相同。 方法之平 圖9⑷〜(c)係表示捲筒狀之原版構件61之製作 剖面圖與立體圖。 圖9⑷係說明製作原版構件61之步驟之平剖面圖。型箱 62之内壁62a係利用圓筒研削加工高精度地加工成正圓 度、圓筒度。在型箱62之下方，以確保與内壁仏同心度 之方式設有段孔62b，中心具有孔64a之底板64與底板糾目 套合。實施例1所載之液狀之壓型劑54流入於此。 由型箱62之上方***中心轴65，中心軸65之一端***底 板64之中心之孔64a。將套合於設於型箱62之上方之段孔 62c之蓋66由型箱62之上方***，一面套合設於蓋66之孔 66a與中心轴65之他端，一面***。多餘之液狀之壓型劑 54可由設於蓋66之排液孔66b、66c流出至型箱62之外部。 對此等構件施行與實施例1同樣之處理時，可使液狀之壓 型劑54固化，將固化後之液狀之壓型劑54與包在壓型劑54 内之中心軸65由型箱62取出。 圖9(c)係由型箱62取出之捲筒狀之原版構件61之立體 圖0 計測由壓型劑54突出之中心軸65之突出部65a、65b、與 壓型劑54之原版面54a之同軸度。計測之同軸度不理想之 105660-951201.doc -25- 1281046
情形或壓型劑54之原版面54a有氣泡存在之情形，以中心 軸65之突出部65a、65b為基準，旋削原版面54a。此情 形，由於原版面54a具有彈性，故只要用加熱後之銳利刀 具旋削即可。 原版構件61之壓型劑54之原版面54a與實施例1同樣地利 用表面處理劑70加以處理。將如此製作之原版構件6丨安裝 於輥式塗敷之裝置等’而將實施例1所載之撥液劑8 〇以均 勻之厚度塗敷於壓型劑54之原版面54a，並轉印於設有親 水化岸堤溝部21之基板1〇之親水化岸堤上面22，將撥液劑 80成膜處理而形成撥液化膜81。 以下’記載本實施例之效果。 (3)將設於原版構件61之壓型劑54形成捲筒狀，可安裝 於輥式塗敷之裝置等，而連續有效地將撥液劑8〇轉印於基 板10之親水化岸堤上面22。 [實施例3] 其次’利用圖式說明實施例3。 本實施例係記載有關異於實施例丨或實施例2之部分，未 記載之部分與實施例1或實施例2相同。 圖10(a)〜(d)係在基板1〇上設置遮光層％，說明含該遮光 層95之彩色濾光器之形成方法之基板丨〇之剖面圖。 在圖10(a)中說明有關基板1〇上之遮光層％。 在基板10之表面，利用濺射法或蒸鍍法以平均〇.2 之 膜厚形成鉻膜’利用光微影照相法將此鉻膜形成畫素之矩 陣圖案形狀。此遮光層95又稱黑矩陣，利用彩色滤光器之 105660-951201.d〇( -26 - 1281046
會1' I X 遮光層95，可遮住光控制元件之配線等而使其看不見。形 成黑色之遮光層95時，可改善與穿透彩色濾光器所使用之 紅（R)、綠（G)、藍（B)之墨汁之光之對比，遮光層95只要使 用金屬薄膜、不透明或半透明之有機材料即可。
茲說明有關遮光層9 5使用不透明或半透明之有機材料之 情形。在基板10上形成岸堤膜12之際，在成為岸堤膜12之 液狀之岸堤膜之材料中適宜地混入顏料或染料。如此，成 膜處理後之岸堤膜12具有作為不透光之遮光層95之作用。 且將遮光層95例如配設於一對偏光板之間之情形，可藉使 偏光之光散射而減少由一方之偏光板射出之光而亦具有作 為遮光層95之作用。此情形之光散射只要使用具有異於成 為岸堤膜12之液狀之岸堤膜之材料之折射率之材料即可。 在圖10(b)中，在配設於基板1〇上之遮光層95上使用前 述實施例形成需要之岸堤膜12a。
在圖10(c)中，對基板1〇、遮光層95及需要之岸堤膜12a 施以親水化處理，以形成親水化膜90。遮光層95之寬度寬 於需要之岸堤膜12a，不設置親水化膜90時，墨汁11與遮 光層95會直接接觸，有時會因遮光層95之物質而排斥墨汁 11 ’故親水化膜90會將包含遮光層95在内加以親水化。 由需要之岸堤膜12a之岸堤壁侧面12c、岸堤壁侧面 12d、遮光層95之一部分及基板1〇之表面l〇a之區域所構成 之凹部稱為岸堤溝部20。在此岸堤溝部20配設親水化膜90 之區域稱為親水化岸堤溝部21。又，在岸堤上面12e形成 親水化膜90之部位稱為親水化岸堤上面22。 105660-951201.doc -27- 1281046
• \r I ^ I • 在圖10(d)中，與前述實施例同樣地，在親水化岸堤上 面22使用本發明之轉印方法塗敷撥液劑80而獲得撥液化膜 81 〇 圖11係說明由液滴噴出頭200喷出之紅（R)、綠（G)、藍 (B)中之一色之墨汁丨丨與基板1〇之關係之剖面圖。
由液滴噴出頭200噴出之墨汁11係以炮彈型之形狀到達 基板10。利用液滴喷出裝置（未圖示）對含遮光層95之親水 化岸堤溝部21控制喷出用之位置而喷出適量之墨汁n。同 圖所圖示之墨汁11係由液滴喷出裝置具有之液滴喷出頭 200喷出之墨汁。 墨汁11係利用液滴噴出頭2〇〇(參照圖7)，由同圖紙面右 方向左方喷出例如紅（R)之墨汁丨la，使其停留於親水化岸 堤溝部21a，其次，喷出例如綠（G)墨汁llb，使其停留於 親水化岸堤溝部21b。此情形，親水化岸堤溝部21a、21b 内如前所述，已被親水化膜90親水化，故可使墨汁u容易 停留於親水化岸堤溝部21a、21b内，在注滿親水化岸堤溝 部2 la、2 lb之高度以前，皆可喷出墨汁墨汁lla、Ub而使 其停留於溝中。 因此，增多由液滴喷出頭200喷出之墨汁11a之量時，容 易使喷出並停留於親水化岸堤溝部21a之墨汁11a之液面 11c呈現略水平狀態。在親水化岸堤溝部21aR之墨汁Ua 之厚度保持約略均等之狀態時，分散於墨汁11 a之顏料之 濃度可保持約略均勻，故在施行後述之烘乾處理而蒸發墨 汁11a之溶劑之情形，可使作為畫素之親水化岸堤溝部21a 105660-951201.doc -28- 1281046 . f上1叫 • 内之顏色濃度保持均勻且變得更濃。 - 另外’由液滴噴出頭200喷出之墨汁lla到達基板10之到 達位置（以下稱命中位置）稍有偏差而卡在撥液化膜81上之 情形’也可利用撥液化膜8 i之撥液性將墨汁1 i &撥開而將 其引入親水化岸堤溝部21 a内，以防止與鄰接之其他色之 墨汁lib混在一起。 其次’將由液滴噴出頭200噴出而停留於作為晝素之各 0 親水化岸堤溝部21a、21b之墨汁11烘乾。 首先，在自然氣體環境中放置3小時後，在8〇〇c之加熱 板上加熱40分鐘，最後在烤箱中以2〇〇〇c加熱3〇分鐘而施 行墨汁11之烘乾處理，藉此，可在基板丨〇上形成紅（R)、 •綠（G)、藍（B)之彩色濾光器。 -在親水化岸堤溝部21b中，墨汁lib之量較多之情形，墨 汁lib之液面lle會上升至高於撥液化膜81之位置。此情 形’依據本實施例，也可藉撥液化膜81之撥液性，防止墨 φ 汁流出至相鄰之作為畫素之親水化岸堤溝部21a。 以下’記載本實施例之效果。 (4)未對岸堤溝部2〇(參照圖10)施行親水化處理之情形， 墨汁11與岸堤溝部20之濕潤性較差，呈現如同圖之二點短 sj線所示之液面1 1 d，形成在岸堤溝部2 〇之中央部厚度較 大’在岸堤溝部20之周邊部幾乎無厚度之狀態。因此，在 紅（R)、綠（G)、藍（B)之各晝素中之顏色之均勻性及顏色之 濃度上有問題，但此等問題可利用本實施例予以解決。 本毛明之各實施例並不限定於上述情形，可作如以下之 105660-951201.doc -29- !281〇46 , . f卜叫 . 變更。 、（變形例1)在前述實施例中，原版面54a雖具有平滑之平 面，但亦可配合基板10之親水化岸堤溝部21之形狀而形成 凹凸，在親水化岸堤上面22之一部分或全部塗敷撥液劑8〇 而形成撥液化膜8 1。 (變形例2)在前述實施例中，將設於原版構件61之壓型 劑54形成捲筒狀，但亦可配合基板10之親水化岸堤溝部21 ^ 之形狀而形成凹凸，在親水化岸堤上面22之一部分或全部 塗敷撥液劑80而形成撥液化膜81。 (變形例3)在前述實施例中，將需要之岸堤膜i2a配設於 遮光層95上，但亦可在基板10上以濺射法、蒸鍍法、各種 ’ 塗敷法在全面配設作為遮光層95之金屬薄膜或不透明之有 • 機材料，利用光微影照相法，將光阻形成對應於岸堤溝部 20之矩陣圖案形狀，將基板1〇蝕刻。在基板1〇未被蝕刻之 表面10a留下遮光層95，被蝕刻之凹部變成岸堤溝部2〇或 φ 親水化岸堤溝部21，可使紅（R)、綠（G)、藍（B)停留於此， 將其烘乾處理時，即可使用作為簡易之彩色濾光器。 藉此，可同時完成遮光層95與變成岸堤溝部2〇或親水化 岸堤溝部21，故可縮短步驟，且皆無遮光層％與變成岸堤 溝部20或親水化岸堤溝部21之位置之誤差。 (變形例4)在前述實施例中，係將岸堤膜12塗敷在基板 1〇上而施行成膜處理，但亦可在光阻中適宜地混入顏料或 染料而利用光微影照相法，形成希望之圖案，而使用此光 阻作為需要之岸堤膜12a。 105660-951201 .doc -30-
1281046 係利用撥液劑80而獲得撥 入顏料、染料或光擴散劑 (變形例5)在前述實施例中， 液性，但亦可在此撥液劑8 〇中混 而形成作為遮光層95。 【圖式簡單說明】 圖m基板與在該基板上形成岸堤之步驟之流程圖。 圖2⑷〜(f)係說明藉光微影照相法钱刻岸堤膜而形成岸 ^之步驟之基板剖面圖。 圖3⑷〜⑷係說明藉圖1之流程之光微影照相法餘刻基板 而形成岸堤之步驟(S120、S121、S122)之基板剖面圖。 圖4(a)係在基板10上形成需要之岸堤膜12a之基板丨〇之剖 面圖，(b)係被將基板與岸堤之一料或全部親水化之步驟 親水化之基板1 〇之剖面圖。 圖5(a)〜(C)係說明平板狀之原版構件之製作方法之平剖 面圖與立體圖。 圖6(a)〜(c)係說明在形成於基板1〇之親水化岸堤上面 之一部分或全部塗敷撥液劑80之步驟之基板10及原版構件 5 1之剖面圖。 圖7(a)係液滴噴出頭200之全體之剖面立體圖，（b)係噴 出部之詳細剖面圖。 圖8係說明由液滴喷出頭200噴出之紅（R)、綠（G)、藍（B) 中之一色之墨汁li與基板1〇之關係之剖面圖。 圖9(a)〜(c)係表示捲筒狀之原版構件61之製作方法之平 剖面圖與立體圖。 圖10(a)〜(d)係在基板1〇上設置遮光層95，說明含該遮光 105660-951201.doc 1281046 層95之彩色濾光器之形 心成方法之基板1〇之 圖11係說明由液滴噴出頭2 " 【主要元件符號說明】 10 10a 10b 11、 11a、 lib 11c lid 、 lie 12a 12b 12c、12d 12e 14 14a 14b 16 16a 20 21、21a、21b 22 50 只二υυ唷出之紅（R)、綠（G〕 (B)中之-色之墨㈣與基板i。之關係之剖面圖。 基板 表面 圖案 墨汁
液面 液面 需要之岸堤膜 不要之岸堤膜 岸堤壁側面 序堤上面 光阻 需要之光阻 不要之光阻 光罩 光罩圖案 岸堤溝部 親水化岸堤溝部 親水化岸堤上面 撥液劑 105660-951201.doc -32- 1281046 51 52 52a 52b 53 53a 53b 53c 54 54a 55 55a 56 61 62 62a 62b > 62c 63、64 64a 65 65a、65b 66 有別於基板之構件之平板狀之原 版構件 型箱 導孔 壁面 壓型體 傾斜面 突出部 面 壓型劑 原版面 平板 面 施力構件 有別於基板之構件之捲筒狀之原 版構件 型箱 壁 段孔 底板 孔 中心軸 突出部 蓋 105660-951201.doc -33· 1281046
孔 66a 66b 、 66c
70 80 81 90 95 200 220 222 224 排液孔 表面處理劑 撥液劑 撥液化膜 親水化膜 224a、224b
224c 226 227 228 229 230 232 252 遮光層 液滴喷出頭 空腔 隔牆 振子 電極 壓電元件 振動板 喷出部 喷嘴板 儲液部 供料口 孔 喷嘴 105660-951201.doc -34-

Claims (1)

  1. 能02J7號專利甲請索洛心”^二:一—一 4申請專利範圍替換本(96年1月$ ( 十、申請專利範圍：：―一 1 · 一種彩色遽光器之形#吹* ί 之形成方法，其特徵在於包含 在基板上形成岸堤之步驟； 將則述基板與前述岸堤一 跡· n 之 #刀或全部親水化之步 鄉，及 者 在前述岸堤上面之—部分或全部塗敷撥液劑之步 驟 2. 3. 如請求項1之彩声、、者伞 y^llt — 慮先^之形成方法，其中藉使前述撥 液劑附者於有別於#、+，| 之構件之原版構件，使前述 原版構件與前述基板上 ^ 板上之則述厗丨疋之上面相接觸而將前 述撥液劑轉印於前述岸堤之上面之—部分或全部者。 2求項1之彩色遽光器之形成方法，其中前述岸堤之 才料係無機材料或有機材料者。 4. 士明求項2之彩色濾光器之形成方法 材料係無機材料或有機材料者。 其中前述岸堤之 5. 6. 8. :明求項1至4中任一項之彩色濾光器之形成方法，其中 前述岸堤之高度係在1 μπι以上者。 八 义、月，貝1至4中任一項之彩色減光器之形成方法，其中 刖述岸堤係配設於遮光層上者。 如π求項5之彩色濾、光器之形成方法，其中前述岸堤係 配設於遮光層上者。 ’、 如二求^ 1之彩色濾光器之形成方法，其中將前述基板 與，述岸堤之一部分或全部親水化之步驟係包含臭氧氧 化處理、電漿處理、電暈處理、紫外線照射處理、電子 105660-960ll8.doc 1281046
    Μ h貧I正替額j 線照射處王审 〜〜一———J 9· 10. 11. H 、西文處理、鹼處理之至少一種處理者。 月农員2之彩色遽光器之开） 去直中肩 平板狀或捲筒狀者。也成方u原版構件係 如凊求項2或9之彩色濾光器之形成方法，其 構件之材質係至少含石夕氧燒構造之彈性體者。原版 如請求項!或2之彩色遽光器之形成方法， 劑係矽烷耦合劑或呈撥液性之高分子者。 彳述播液 105660-960118.doc 1281046 fir 卜] 七、指定代表圖： (一) 本案指定代表圖為：第（11)圖。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明： 10 基板 1卜 11a、lib 墨汁 11c、lid、lie 液面 12a 需要之岸堤膜 12b 不要之岸堤膜 21a、21b 親水化岸堤溝部 81 撥液化膜 90 親水化膜 95 遮光層
    八、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學式： (無）
    105660-951201.doc
TW094140277A 2004-11-30 2005-11-16 Color filter forming method TWI281046B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004345444A JP2006154354A (ja) 2004-11-30 2004-11-30 カラーフィルタの形成方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200619690A TW200619690A (en) 2006-06-16
TWI281046B true TWI281046B (en) 2007-05-11

Family

ID=36567762

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW094140277A TWI281046B (en) 2004-11-30 2005-11-16 Color filter forming method

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7404982B2 (zh)
JP (1) JP2006154354A (zh)
KR (1) KR100714256B1 (zh)
CN (1) CN1782812A (zh)
TW (1) TWI281046B (zh)

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8274715B2 (en) 2005-07-28 2012-09-25 Omnivision Technologies, Inc. Processing color and panchromatic pixels
US8139130B2 (en) 2005-07-28 2012-03-20 Omnivision Technologies, Inc. Image sensor with improved light sensitivity
JP4400558B2 (ja) * 2005-12-19 2010-01-20 セイコーエプソン株式会社 カラーフィルタ基板、液晶表示装置および電子機器、カラーフィルタ基板の製造方法および液晶表示装置の製造方法
TWI338189B (en) * 2006-01-13 2011-03-01 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Substrate structure and method of manufacturing thin film pattern layer using the same
US7916362B2 (en) 2006-05-22 2011-03-29 Eastman Kodak Company Image sensor with improved light sensitivity
US7393618B2 (en) * 2006-09-15 2008-07-01 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Composition for color converting member and production method of color conversion substrate using the same
JP4932406B2 (ja) * 2006-09-20 2012-05-16 富士フイルム株式会社 撥インク性隔壁及びその製造方法、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに表示装置
US8031258B2 (en) 2006-10-04 2011-10-04 Omnivision Technologies, Inc. Providing multiple video signals from single sensor
US8821799B2 (en) 2007-01-26 2014-09-02 Palo Alto Research Center Incorporated Method and system implementing spatially modulated excitation or emission for particle characterization with enhanced sensitivity
US9164037B2 (en) 2007-01-26 2015-10-20 Palo Alto Research Center Incorporated Method and system for evaluation of signals received from spatially modulated excitation and emission to accurately determine particle positions and distances
TWI398904B (zh) 2007-04-20 2013-06-11 Hon Hai Prec Ind Co Ltd 薄膜圖案層製造方法及紫外光源裝置
US8427753B2 (en) * 2007-04-21 2013-04-23 Advanced Display Technology Ag Use of a fluid mixture for electrowetting a device
US7879390B2 (en) 2007-05-30 2011-02-01 Palo Alto Research Center Incorporated Surface energy control methods for color filter printing
CN101398561B (zh) * 2007-09-29 2011-12-07 奇美电子股份有限公司 彩色滤光片基板及其制造方法以及应用它的液晶显示面板
US8373860B2 (en) 2008-02-01 2013-02-12 Palo Alto Research Center Incorporated Transmitting/reflecting emanating light with time variation
US8629981B2 (en) 2008-02-01 2014-01-14 Palo Alto Research Center Incorporated Analyzers with time variation based on color-coded spatial modulation
CN101546008B (zh) * 2008-03-28 2010-12-01 中华映管股份有限公司 彩色滤光片及其制作方法
TWI381195B (zh) * 2008-07-10 2013-01-01 Au Optronics Corp 彩色濾光基板、電子裝置及其製作方法
US20100149396A1 (en) * 2008-12-16 2010-06-17 Summa Joseph R Image sensor with inlaid color pixels in etched panchromatic array
KR101566429B1 (ko) * 2009-01-30 2015-11-06 삼성디스플레이 주식회사 표시판, 박막 트랜지스터 표시판 및 기판의 수리 방법
US8723140B2 (en) 2011-08-09 2014-05-13 Palo Alto Research Center Incorporated Particle analyzer with spatial modulation and long lifetime bioprobes
US9029800B2 (en) 2011-08-09 2015-05-12 Palo Alto Research Center Incorporated Compact analyzer with spatial modulation and multiple intensity modulated excitation sources
EP2768023B1 (en) 2013-02-19 2019-10-09 ams AG Method of producing a radiation sensor semiconductor device comprising a multiple colour filter
JP6843146B2 (ja) * 2016-09-30 2021-03-17 富士フイルム株式会社 構造体、カラーフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、構造体の製造方法および有機物層形成用組成物
CN107608126A (zh) * 2017-11-07 2018-01-19 深圳市华星光电技术有限公司 一种液晶显示面板及其制造方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09203803A (ja) 1996-01-25 1997-08-05 Asahi Glass Co Ltd カラーフィルタの製造方法及びそれを用いた液晶表示素子
JPH09230123A (ja) 1996-02-26 1997-09-05 Asahi Glass Co Ltd カラーフィルタの製造方法とそれを用いた液晶表示素子
JPH1195024A (ja) * 1997-09-22 1999-04-09 Asahi Glass Co Ltd カラーフィルタ付き基板の製造方法及びそれを用いた液晶表示素子
KR100660384B1 (ko) * 1998-03-17 2006-12-21 세이코 엡슨 가부시키가이샤 표시장치의 제조방법
JP3646510B2 (ja) * 1998-03-18 2005-05-11 セイコーエプソン株式会社 薄膜形成方法、表示装置およびカラーフィルタ
JP4377984B2 (ja) 1999-03-10 2009-12-02 キヤノン株式会社 カラーフィルタとその製造方法、該カラーフィルタを用いた液晶素子
JP2001272527A (ja) 2000-03-27 2001-10-05 Dainippon Printing Co Ltd カラーフィルタおよびその製造方法
JP2003159786A (ja) * 2001-11-28 2003-06-03 Seiko Epson Corp 吐出方法およびその装置、電気光学装置、その製造方法およびその製造装置、カラーフィルタ、その製造方法およびその製造装置、ならびに基材を有するデバイス、その製造方法およびその製造装置
KR100667134B1 (ko) * 2004-11-12 2007-01-12 엘지.필립스 엘시디 주식회사 평판표시소자의 제조방법 및 장치
US20060108905A1 (en) * 2004-11-25 2006-05-25 Samsung Electronics Co., Ltd. Mold for fabricating barrier rib and method of fabricating two-layered barrier rib using same
JP2006156426A (ja) 2004-11-25 2006-06-15 Seiko Epson Corp 導電性パターンの形成方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20060060560A (ko) 2006-06-05
JP2006154354A (ja) 2006-06-15
CN1782812A (zh) 2006-06-07
KR100714256B1 (ko) 2007-05-02
US7404982B2 (en) 2008-07-29
US20060115749A1 (en) 2006-06-01
TW200619690A (en) 2006-06-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI281046B (en) Color filter forming method
TWI284377B (en) Method of forming conductive pattern
JP4285001B2 (ja) 有機薄膜トランジスタの製造方法
US20060262393A1 (en) Method of manufacturing a microlens, microlens, optical film, screen for projection, projector system, electro-optical device, and electronic apparatus
US7375893B2 (en) Method of manufacturing microlens, microlens, optical film, screen for projection, projector system, electrooptical device and electronic equipment
KR100298824B1 (ko) 칼라필터의제조방법,이에의해제조된칼라필터및이칼라필터를이용한액정디스플레이장치
US8870345B2 (en) Method of making superoleophobic re-entrant resist structures
WO2017164032A1 (ja) 印刷版および印刷方法ならびに印刷版の製造方法
JP3687663B2 (ja) 膜形成方法、デバイス製造方法、電気光学装置の製造方法、及び電子機器の製造方法
JP3972554B2 (ja) カラーフィルターの作製方法
CN101114035A (zh) 黑矩阵成分及其形成方法
JP6708541B2 (ja) 印刷版の製造方法
JP4078785B2 (ja) カラーフィルター用中間品の作製方法、カラーフィルターの作製方法
JP4701704B2 (ja) パターン形成方法、パターン形成装置および電子応用装置の製造方法
JP2004170463A (ja) 機能性素子の製造方法およびその製造装置
JP2001272522A (ja) カラーフィルターの作製方法、カラーフィルター並びに画像表示装置及び画像入力装置
JPH106494A (ja) インクジェットヘッド
JP3896761B2 (ja) カラーフィルターの製造方法及びカラーフィルター
JP2006167697A (ja) パターン形成方法および電子応用装置の製造方法
JP2018094871A (ja) 印刷用凹版及びその製造方法
JP2006150155A (ja) 液滴吐出ヘッドおよび液滴吐出ヘッドの製造方法、液滴吐出装置
JP2008018580A (ja) 印刷版の製造方法および印刷版
Hamaguchi et al. High Resolution Patterning of Functional Inks using Wettability and Repellency Control Method and Its Application to Electronic Devices
US20110146905A1 (en) Method for forming patterned layer on substrate structure
JP3951542B2 (ja) カラーフィルターの作製方法

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees