CN107608126A - 一种液晶显示面板及其制造方法 - Google Patents

一种液晶显示面板及其制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN107608126A
CN107608126A CN201711083029.0A CN201711083029A CN107608126A CN 107608126 A CN107608126 A CN 107608126A CN 201711083029 A CN201711083029 A CN 201711083029A CN 107608126 A CN107608126 A CN 107608126A
Authority
CN
China
Prior art keywords
boss
substrate
penetrance
layer
region
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201711083029.0A
Other languages
English (en)
Inventor
王金杰
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority to CN201711083029.0A priority Critical patent/CN107608126A/zh
Publication of CN107608126A publication Critical patent/CN107608126A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

本发明提出了一种液晶显示面板机器制作方法,所述液晶显示面板包括:第一基板、彩色滤光膜层、平坦化层、第一凸台、第二凸台以及第二基板;其中,所述彩色滤光膜层中的第一色阻上形成有第一凹槽,通过对所述第一凹槽的深度以及所述第二穿透区域的不同开口大小所对应的所述第二凸台的不同高度的控制,以在保证主辅隔垫物断差的条件下,根据对主辅隔垫物面积尺寸的选择,同时也能满足主辅隔垫物所需求的面积比,消除了隔垫物设计的局限性。

Description

一种液晶显示面板及其制造方法
技术领域
本发明涉及平板显示器制造技术领域,特别涉及一种液晶显示面板及其制造方法。
背景技术
液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)是目前市场上应用最为广泛的显示产品,其生产工艺技术十分成熟,产品良率高,生产成本相对较低,市场接受度高。
现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示装置,其包括液晶显示面板及背光模组。通常液晶显示面板由彩膜(Color Filter,CF)基板、阵列(Array)基板、夹于彩膜基板与阵列基板之间的液晶及密封框胶(Sealant)组成,其中,CF基板主要包括通过色阻单元(R/G/B)形成有色光的彩色滤光层、防止像素边缘漏光的黑色矩阵(Black Matrix,BM)、以及维持盒厚的隔垫物(Photo Spacer,PS)。液晶显示器是通过电场对液晶分子取向的控制,改变光的偏振状态,并藉由偏光板实现光路的穿透与阻挡,实现显示的目的
液晶显示器的制作中,隔垫物作为重要的组成部分,一直都是设计时需要做特殊考量的。隔垫物的主要作用是支撑上下基板,可以使阵列基板与彩膜基板保持固定的间距,隔垫物本身的材料特性决定其有一定的压缩比例,使面板在搬运或者按压时可以出现适当的小范围间距调整。
隔垫物的大小会对画素的开口率造成影响,隔垫物的面积比(PS ratio)也会影响面板的整体显示质量。通常Main PS ratio在0.02%左右,Sub PS ratio一般会在1%;并且,要求main PS与sub PS的断差值在0.3~0.5um之间,这种面积比与断差的搭配对液晶分子范围的控制比较有利,可以最大程度的增加液晶分子的范围。
受隔垫物材料的影响,main PS与sub PS一定要有固定的尺寸时才能达到断差要求,但这些尺寸可能无法满足PS ratio的要求,因此,使得设计受到了限制。
发明内容
本发明提供一种液晶显示面板及其制造方法,以解决现有液晶显示面板在隔垫物设计中的局限性。
为解决上述问题,本发明提供的技术方案如下:
本发明提供了一种液晶显示面板的制作方法,其中,所述制作方法包括:
步骤S10、提供第一基板,在所述第一基板上形成彩色滤光膜层;
步骤S20、使用第一光罩,以在所述彩色滤光膜层中的第一色阻上形成第一凹槽;
步骤S30、在所述彩色滤光膜层上沉积一层感光树脂,使用第二光罩,在所述第一基板上形成第一凸台、第二凸台以及平坦化层,
其中,所述第二凸台位于所述第一凹槽上,所述第一凸台和所述第二凸台在所述平坦化层上间隔排列;
步骤S40、将第二基板与所述第一基板进行对组贴合,并将液晶材料滴注于所述第二基板与所述第一基板之间。
根据本发明一优选实施例,所述第一基板为彩膜基板的衬底基板,在所述第一基板上形成彩色滤光膜层之前,还包括:
在所述第一基板上沉积一层不透光的光阻材料,通过一次光刻工艺形成所述黑色矩阵。
根据本发明一优选实施例,所述第一基板为阵列基板的衬底基板,在所述第一基板上形成彩色滤光膜层之前,还包括:
在所述第一基板上形成薄膜晶体管层。
根据本发明一优选实施例,所述彩色滤光膜层包括红色色阻单元、绿色色阻单元及蓝色色阻单元;
所述第一色阻为所述红色色阻单元、所述绿色色阻单元及所述蓝色色阻单元中的一种。
根据本发明一优选实施例,所述步骤S30包括:
利用一多段式穿透率的掩膜板对所述感光树脂进行曝光,经显影后,使所述感光树脂图案化,得到所述第一凸台、所述第二凸台以及所述平坦化层;
其中,所述多段式穿透率掩膜板包括第一穿透率区域、第二穿透率区域及第三穿透率区域。
根据本发明一优选实施例,所述第一穿透率区域、所述第二穿透率区域、所述第三穿透率区域的透光率依次递减;
其中,所述第一穿透率区域与所述第一凸台对应,所述第二穿透率区域与所述第二凸台对应,所述第三穿透率区域与所述平坦化层对应。
根据本发明一优选实施例,当所述多段式穿透率掩膜板中的所述第一穿透区域的开口不变时,改变所述第二穿透率区域的开口大小,使得所述第一凸台与所述第二凸台呈现不同的断差;
在垂直于所述液晶显示面板所在的平面的方向上,所述第一凸台的高度大于所述第二凸台的高度;
其中,所述第一凸台为主隔垫物,所述第二凸台为辅隔垫物。
本发明还提出了一种液晶显示面板,其特征在于,包括:第一基板、彩色滤光膜层、平坦化层、第一凸台、第二凸台以及第二基板;
所述彩色滤光膜层形成于所述第一基板上,所述第一凹槽形成于所述彩色滤光膜层中的第一色阻上,
其中,所述第二凸台位于所述第一凹槽上,所述第一凸台和所述第二凸台在所述平坦化层上间隔排列。
根据本发明一优选实施例,其特征在于,所述第一基板为彩膜基板的衬底基板,所述第一基板上还包括一层不透光的黑色矩阵;
所述第一基板为阵列基板的衬底基板,在所述第一基板上还包括薄膜晶体管层。
根据本发明一优选实施例,当所述多段式穿透率掩膜板中的所述第一穿透区域的开口不变时,改变所述第二穿透率区域的开口大小,使得所述第一凸台与所述第二凸台呈现不同的断差;
在垂直于所述液晶显示面板所在的平面的方向上,所述第一凸台的高度大于所述第二凸台的高度;
其中,所述第一凸台为主隔垫物,所述第二凸台为辅隔垫物。
本发明的有益效果为:相比于现有技术,本发明通过在所述彩色滤光膜层中的第一色阻上形成第一凹槽,通过对所述第一凹槽的深度以及所述第二穿透区域的不同开口大小所对应的所述第二凸台的不同高度的控制,在保证主辅隔垫物断差的条件下,根据对主辅隔垫物面积尺寸的选择,同时也能满足主辅隔垫物所需求的面积比,消除了隔垫物设计的局限。
附图说明
为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1~图5为本发明优选实施例一种液晶显示面板的制作方法的工艺流程图;
图6为本发明优选实施例一种液晶显示面板的膜层结构图。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图示,用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语,例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等,仅是参考附加图式的方向。因此,使用的方向用语是用以说明及理解本发明,而非用以限制本发明。在图中,结构相似的单元是用以相同标号表示。
本发明针对现有液晶面板,受隔垫物材料的影响,主隔垫物与辅隔垫物一定要有固定的尺寸时才能达到隔垫物的断差要求,但这些尺寸可能无法同时满足隔垫物面积比的要求,使得设计受到了限制,本实施例能够改善该缺陷。
图1所示为本发明一种液晶显示面板的制作方法流程图,所示方法包括:
步骤S10、提供第一基板101,在所述第一基板101上形成彩色滤光膜层;
提供一第一基板101,所述第一基板101应经过洁净后无尘无杂质离子,所述第一基板101可以采用玻璃基板、石英基板、塑料基板等透明基板;
当所述第一基板101为阵列基板的衬底基板时,在所述第一基板101上形成彩色滤光膜层之前,还包括在所述第一基板101上沉积薄膜晶体管层102,具体步骤为:
在所述第一基板101上沉积第一金属层薄膜,金属材料可以采用钼、铝、铝镍合金、钼钨合金、铬、或铜等金属,也可以使用上述几种材料薄膜的组合结构;对所述在第一金属层薄膜进行光刻工艺处理,在所述第一基板101上形成栅极;
其次,在所述第一基板101上沉积栅极绝缘层,在本实施例中,所述栅极绝缘层的材料为氮化硅,也可以使用氧化硅和氮氧化硅等;在所述栅极绝缘层上沉积金属氧化物薄膜作为有源层;
随后,可以采用磁控溅射工艺,在所述有源层沉积第二金属层,并对所述第二金属层进行光刻工艺处理,形成所述薄膜晶体管中的源漏极和有源层图案;
最后,在所述第二金属层上沉积钝化层、像素电极以及彩色滤光膜层;
当所述第一基板101为彩膜基板的衬底基板时,在所述第一基板101上形成彩色滤光膜层之前,还包括在所述第一基板101上形成黑色矩阵,具体步骤为:
在基板上沉积一层不透光材料,通过一次光刻工艺形成黑色矩阵,随后再在所述第一基板101上形成彩色滤光膜层。
步骤S20、使用第一光罩,以在所述彩色滤光膜层中的第一色阻103上形成第一凹槽105;
在所述彩色滤光膜层中的第一色阻103上涂布光阻层,采用掩膜板对所述光阻层进行曝光、显影后,对所述第二金属层进行蚀刻工艺,以形成所需要的所述第一凹槽105;
所述彩色滤光膜层包括红色色阻单元、绿色色阻单元及蓝色色阻单元;所述第一色阻103为所述红色色阻单元、所述绿色色阻单元及所述蓝色色阻单元中的一种;如图所示,在本实施例中,所述第一色阻103为绿色色阻单元,与所述第一色阻103相邻的为第二色阻104,所述第二色阻104为红色色阻单元或蓝色色阻单元中的一种;
步骤S30、在所述彩色滤光膜层上沉积一层感光树脂,使用第二光罩,在所述第一基板101上形成第一凸台106、第二凸台107以及平坦化层108,
其中,所述第二凸台107位于所述第一凹槽105上,所述第一凸台106和所述第二凸台107在所述平坦化层108上间隔排列;
首先,在所述彩色滤光膜层上沉积一层感光树脂,采用一多段式穿透率的掩膜板对所述感光树脂进行曝光,使所述感光树脂图案化,得到所述第一凸台106、所述第二凸台107以及所述平坦化层108;
其中,所述多段式穿透率掩膜板包括第一穿透率区域、第二穿透率区域及第三穿透率区域,所述第一穿透率区域、所述第二穿透率区域、所述第三穿透率区域的透光率依次递减;所述第一穿透率区域与所述第一凸台106对应,所述第二穿透率区域与所述第二凸台107对应,并且所述第二穿透率区域与所述第一凹槽105对应,所述第三穿透率区域与所述平坦化层108对应;
在本实施例中,所述第一穿透率为100%光穿透率;所述第二穿透率为70~90%光穿透率,但是具体的穿透率根据实际情况而定,例如,为保证第一凸台106和第二凸台107的断差,可以选择低穿透率的掩膜板,使得所述第二凸台107的高度变小;所述第三穿透率为A%光穿透率,其中,A的值为0≤A<70,
另外,所述第二穿透率的具体数值同样根据具体情况而定,若想使得所述平坦化层108具有较高的厚度,则选择光穿透率高的掩膜板,反之,选择穿透率低的掩膜板;
由于所述感光树脂为负性光阻,所述感光树脂被光照射到的部分不会溶于光阻显影液,而没有光照射的部分会溶于光阻显影液;因此,所述第一穿透率区域所对应的感光树脂区域将完全保留,对应于所述第一凸台106;
另外,由于所述第二穿透率区域与所述第一凹槽105对应,且所述第二穿透率区域与所述第二凸台107所对应,因此,所述第二凸台107在所述第一凹槽105上;在本实施例中,在垂直于所述液晶显示面板所在的平面的方向上,所述第一凸台106的高度大于所述第二凸台107的高度,所述第一凸台106为主隔垫物,所述第二凸台107为辅隔垫物;
一般情况下,主隔垫物和辅隔垫物的断差值在0.3~0.5um之间,主隔垫物的面积比为0.02%,辅隔垫物的面积比为1%,这种面积比与断差的搭配对液晶分子范围的控制比较有利,可以最大程度的增加液晶分子的范围;
当所述多段式穿透率掩膜板中的所述第一穿透区域的开口不变时,改变所述第二穿透率区域的开口大小,使得所述第一凸台106与所述第二凸台107呈现不同的断差;
例如,main PS的长和宽为16umX16um时,如果主隔垫物和辅隔垫物的断差要达到0.35um,则sub PS的大小只能是16umX20um到18umX24um之间的范围;由于半透光罩下方隔垫物材料感受到的光强具有一定的差异性,因此,对于不同的面积的所述隔垫物,会产生不同的断差;下表1中,给出了部分主辅隔垫物的断差达到0.35um时,不同主辅隔垫物长宽尺寸搭配表,;
表1 PS大小搭配表A
Main(nm) sub(nm) Main(nm) sub(nm)
16X16 16x20 18X18 16X16
16X16 16X24 18X18 18X16
16X16 18X24 18X18 16X20
其他尺寸详细的搭配关系如表2所示:
表2 PS大小搭配表B
Main(nm) sub(nm) Main(nm) sub(nm) Main(nm) sub(nm) Main(nm) sub(nm)
20X20 16X16 22X22 16X16 24X24 16X16 26X26 16X16
20X20 18X16 22X22 18X16 24X24 18X16 26X26 18X16
20X20 20X16 22X22 20X16 24X24 20X16 26X26 20X16
20X20 22X16 22X22 22X16 24X24 22X16 26X26 22X16
20X20 24X16 22X22 24X16 24X24 24X16 26X26 24X16
20X20 26X16 22X22 26X16 24X24 26X16 26X26 26X16
20X20 28X16 22X22 28X16 24X24 28X16 26X26 28X16
20X20 30X16 22X22 30X16 24X24 30X16 26X26 30X16
20X20 18X20 22X22 18X20 24X24 18X20 26X26 18X20
20X20 20X24 22X22 20X20 24X24 20X20 26X26 20X20
20X20 22X24 22X22 20X24 24X24 20X24 26X26 20X24
20X20 24X24 22X22 22X24 24X24 22X24 26X26 22X24
22X22 24X24 24X24 24X24 26X26 24X24
22X22 26X24 24X24 26X24 26X26 26X24
而当主隔垫物与辅隔垫物的断差确定后,根据主隔垫物与辅隔垫物的面积比确定主辅隔垫物的面积尺寸;
在实际情况中,第一凸台106的高度不能无限大,它由液晶盒的厚度所决定,而在与第二凸台107进行搭配时,当第一凸台106和第二凸台107的断差能够满足要求时,无需在所述第一色阻103上蚀刻形成所述第一凹槽105;
因此,本方案根据第一凹槽105的深度以及主辅隔垫物尺寸大小的选择使得隔垫物的设计更加灵活,没有一定的局限性;
所述第三穿透率区域与所述平坦化层108对应,所述第三穿透率区域的光穿透率的选择相对灵活,根据对所述平坦化层108厚度可以自由选择;
每一隔垫物形成于一个色阻上,所述第一凸台106和所述第二凸台107在所述平坦化层108上间隔排列;例如,每隔N个所述第二凸台107,放置一个所述第一凸台106,其中,N为自然数。
步骤S40、将第二基板109与所述第一基板101进行对组贴合,并将液晶材料110滴注于所述第二基板109与所述第一基板101之间。
提供第二基板109,在所述第二基板109上形成公共电极层,并在所述第二基板109的公共电极上制作标记(mask),用于对所述第一基板101与所述第二基板109进行对组贴合;
当所述第一基板101为阵列基板的衬底基板时,由于本方案是一种将彩色滤光层直接制作在阵列基板上的一种集成技术,此方法能够有效解决液晶显示装置对盒工艺中因对位偏差造成的漏光等问题,并能显著提升显示开口率。
本发明提出了一种液晶显示面板,所述液晶显示面板包括:第一基板201、彩色滤光膜层、平坦化层208、第一凸台206、第二凸台207以及第二基板209;
所述第一基板201为经过洁净后无尘无杂质离子,所述第一基板201可以采用玻璃基板、石英基板、塑料基板等透明基板;
当所述第一基板201为阵列基板的衬底基板时,在所述第一基板201上形成彩色滤光膜层之前,还包括在所述第一基板201上的薄膜晶体管层202,其中,所述薄膜晶体管具体包括:栅极层、栅绝缘层、有源层、源漏极层、钝化层以及像素电极图案;
其中,所述栅极层与所述源漏极层为一金属层,金属材料可以采用钼、铝、铝镍合金、钼钨合金、铬、或铜等金属,也可以使用上述几种材料薄膜的组合结构;所述栅极绝缘层的材料为氮化硅,也可以使用氧化硅和氮氧化硅等;在所述栅极绝缘层上沉积有金属氧化物薄膜作为有源层;
当所述第一基板201为彩膜基板的衬底基板时,在所述第一基板201上形成彩色滤光膜层之前,还包括在所述第一基板201上的黑色矩阵;所述黑色矩阵为一层不透光材料,通过一次光刻工艺形成所述黑色矩阵。
所述彩色滤光膜层形成于所述第一基板201上,所述彩色滤光膜层包括红色色阻单元、绿色色阻单元及蓝色色阻单元;所述第一色阻203为所述红色色阻单元、所述绿色色阻单元及所述蓝色色阻单元中的一种;如图所示,在本实施例中,所述第一色阻203为绿色色阻单元,与所述第一色阻203相邻的为第二色阻204,所述第二色阻204为红色色阻单元或蓝色色阻单元中的一种。
所述第一凸台206、所述第二凸台207以及所述平坦化层208为一层感光树脂形成,通过采用一多段式穿透率的掩膜板对所述感光树脂进行曝光,使所述感光树脂图案化,得到所述第一凸台206、所述第二凸台207以及所述平坦化层208;
其中,所述多段式穿透率掩膜板包括第一穿透率区域、第二穿透率区域及第三穿透率区域,所述第一穿透率区域、所述第二穿透率区域、所述第三穿透率区域的透光率依次递减;所述第一穿透率区域与所述第一凸台206对应,所述第二穿透率区域与所述第二凸台207对应,并且所述第二穿透率区域与所述第一凹槽205对应,所述第三穿透率区域与所述平坦化层208对应;
在本实施例中,所述第一穿透率为100%光穿透率;所述第二穿透率为70~90%光穿透率,但是具体的穿透率根据实际情况而定,例如,为保证第一凸台206和第二凸台207的断差,可以选择低穿透率的掩膜板,使得所述第二凸台207的高度变小;所述第三穿透率为A%光穿透率,其中,A的值为0≤A<70,
另外,所述第二穿透率的具体数值同样根据具体情况而定,若想使得所述平坦化层208具有较高的厚度,则选择光穿透率高的掩膜板,反之,选择穿透率低的掩膜板;
由于所述感光树脂为负性光阻,所述感光树脂被光照射到的部分不会溶于光阻显影液,而没有光照射的部分会溶于光阻显影液;因此,所述第一穿透率区域所对应的感光树脂区域将完全保留,对应于所述第一凸台206;
另外,由于所述第二穿透率区域与所述第一凹槽205对应,且所述第二穿透率区域与所述第二凸台207所对应,因此,所述第二凸台207在所述第一凹槽205上;在本实施例中,在垂直于所述液晶显示面板所在的平面的方向上,所述第一凸台206的高度大于所述第二凸台207的高度,所述第一凸台206为主隔垫物,所述第二凸台207为辅隔垫物;
一般情况下,主隔垫物和辅隔垫物的断差值在0.3~0.5um之间,主隔垫物的面积比为0.02%,辅隔垫物的面积比为1%,这种面积比与断差的搭配对液晶分子范围的控制比较有利,可以最大程度的增加液晶分子的范围;
当所述多段式穿透率掩膜板中的所述第一穿透区域的开口不变时,改变所述第二穿透率区域的开口大小,使得所述第一凸台206与所述第二凸台207呈现不同的断差;
例如,main PS的长和宽为16umX16um时,如果主隔垫物和辅隔垫物的断差要达到0.35um,则sub PS的大小只能是16umX20um到18umX24um之间的范围;由于半透光罩下方隔垫物材料感受到的光强具有一定的差异性,因此,对于不同的面积的所述隔垫物,会产生不同的断差;下表3中,给出了部分主辅隔垫物的断差达到0.35um时,不同主辅隔垫物长宽尺寸搭配表;
表3 PS大小搭配表A
Main(nm) sub(nm) Main(nm) sub(nm)
16X16 16x20 18X18 16X16
16X16 16X24 18X18 18X16
16X16 18X24 18X18 16X20
其他尺寸详细的搭配关系如表4所示:
表4 PS大小搭配表B
而当主隔垫物与辅隔垫物的断差确定后,根据主隔垫物与辅隔垫物的面积比确定主辅隔垫物的面积尺寸;
在实际情况中,第一凸台206的高度不能无限大,它由液晶盒的厚度所决定,而在与第二凸台207进行搭配时,当第一凸台206和第二凸台207的断差能够满足要求时,无需在所述第一色阻203上蚀刻形成所述第一凹槽205;
因此,本方案根据第一凹槽205的深度以及主辅隔垫物尺寸大小的选择使得隔垫物的设计更加灵活,没有一定的局限性;
所述第三穿透率区域与所述平坦化层208对应,所述第三穿透率区域的光穿透率的选择相对灵活,根据对所述平坦化层208厚度可以自由选择;
每一隔垫物形成于一个色阻上,所述第一凸台206和所述第二凸台207在所述平坦化层208上间隔排列;例如,每隔N个所述第二凸台207,放置一个所述第一凸台206,其中,N为自然数。
所述第二基板209用于于所述第一基板201与所述第二基板209进行对组贴合,在所述第一基板201与所述第二基板209中存有液晶材料210;
当所述第一基板201为阵列基板的衬底基板时,由于本方案是一种将彩色滤光层直接制作在阵列基板上的一种集成技术,此方法能够有效解决液晶显示装置对盒工艺中因对位偏差造成的漏光等问题,并能显著提升显示开口率。
本发明提出了一种液晶显示面板机器制作方法,所述液晶显示面板包括:第一基板、彩色滤光膜层、平坦化层、第一凸台、第二凸台以及第二基板;其中,所述彩色滤光膜层中的第一色阻上形成第一凹槽,通过对所述第一凹槽的深度以及所述第二穿透区域的不同开口大小所对应的所述第二凸台的不同高度的控制,在保证主辅隔垫物断差的条件下,根据对主辅隔垫物面积尺寸的选择,同时也能满足了主辅隔垫物所需求的面积比,消除了隔垫物设计的局限性。
综上所述,虽然本发明已以优选实施例揭露如上,但上述优选实施例并非用以限制本发明,本领域的普通技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,均可作各种更动与润饰,因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种液晶显示面板的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括:
步骤S10、提供第一基板,在所述第一基板上形成彩色滤光膜层;
步骤S20、使用第一光罩,在所述彩色滤光膜层中的第一色阻上形成第一凹槽;
步骤S30、在所述彩色滤光膜层上沉积一层感光树脂,使用第二光罩,在所述第一基板上形成第一凸台、第二凸台以及平坦化层,
其中,所述第二凸台位于所述第一凹槽上,所述第一凸台和所述第二凸台在所述平坦化层上间隔排列;
步骤S40、将第二基板与所述第一基板进行对组贴合,并将液晶材料滴注于所述第二基板与所述第一基板之间。
2.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述第一基板为彩膜基板的衬底基板,在所述第一基板上形成彩色滤光膜层之前,还包括:
在所述第一基板上沉积一层不透光材料,通过一次光刻工艺形成所述黑色矩阵。
3.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述第一基板为阵列基板的衬底基板,在所述第一基板上形成彩色滤光膜层之前,还包括:
在所述第一基板上形成薄膜晶体管层。
4.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述彩色滤光膜层包括红色色阻单元、绿色色阻单元及蓝色色阻单元;
所述第一色阻为所述红色色阻单元、所述绿色色阻单元及所述蓝色色阻单元中的一种。
5.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述步骤S30包括:
利用一多段式穿透率的掩膜板对所述感光树脂进行曝光,经显影后,使所述感光树脂图案化,得到所述第一凸台、所述第二凸台以及所述平坦化层;
其中,所述多段式穿透率掩膜板包括第一穿透率区域、第二穿透率区域及第三穿透率区域。
6.根据权利要求5所述的制作方法,其特征在于,所述第一穿透率区域、所述第二穿透率区域、所述第三穿透率区域的透光率依次递减;
其中,所述第一穿透率区域与所述第一凸台对应,所述第二穿透率区域与所述第二凸台对应,所述第三穿透率区域与所述平坦化层对应。
7.根据权利要求5所述的制作方法,其特征在于,当所述多段式穿透率掩膜板中的所述第一穿透区域的开口不变时,改变所述第二穿透率区域的开口大小,使得所述第一凸台与所述第二凸台呈现不同的断差;
在垂直于所述液晶显示面板所在的平面的方向上,所述第一凸台的高度大于所述第二凸台的高度;
其中,所述第一凸台为主隔垫物,所述第二凸台为辅隔垫物。
8.一种液晶显示面板,其特征在于,包括:第一基板、彩色滤光膜层、平坦化层、第一凸台、第二凸台以及第二基板;
所述彩色滤光膜层形成于所述第一基板上,所述第一凹槽形成于所述彩色滤光膜层中的第一色阻上,
其中,所述第二凸台位于所述第一凹槽上,所述第一凸台和所述第二凸台在所述平坦化层上间隔排列。
9.根据权利要求8所述的制作方法,其特征在于,所述第一基板为彩膜基板的衬底基板,所述第一基板上还包括一层不透光的黑色矩阵;
所述第一基板为阵列基板的衬底基板,在所述第一基板上还包括薄膜晶体管层。
10.根据权利要求8所述的制作方法,其特征在于,当所述多段式穿透率掩膜板中的所述第一穿透区域的开口不变时,改变所述第二穿透率区域的开口大小,使得所述第一凸台与所述第二凸台呈现不同的断差;
在垂直于所述液晶显示面板所在的平面的方向上,所述第一凸台的高度大于所述第二凸台的高度;
其中,所述第一凸台为主隔垫物,所述第二凸台为辅隔垫物。
CN201711083029.0A 2017-11-07 2017-11-07 一种液晶显示面板及其制造方法 Pending CN107608126A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201711083029.0A CN107608126A (zh) 2017-11-07 2017-11-07 一种液晶显示面板及其制造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201711083029.0A CN107608126A (zh) 2017-11-07 2017-11-07 一种液晶显示面板及其制造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN107608126A true CN107608126A (zh) 2018-01-19

Family

ID=61085940

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201711083029.0A Pending CN107608126A (zh) 2017-11-07 2017-11-07 一种液晶显示面板及其制造方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN107608126A (zh)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108931869A (zh) * 2018-07-17 2018-12-04 惠科股份有限公司 显示面板和显示装置
CN109407413A (zh) * 2018-11-12 2019-03-01 惠科股份有限公司 一种显示面板、显示装置及其制作光罩
CN110794624A (zh) * 2019-11-14 2020-02-14 Tcl华星光电技术有限公司 显示面板以及显示面板的制作方法
CN110824760A (zh) * 2019-10-24 2020-02-21 深圳市华星光电技术有限公司 彩膜基板及其制造方法
WO2020062416A1 (zh) * 2018-09-27 2020-04-02 惠科股份有限公司 彩膜基板和显示面板
CN113867055A (zh) * 2021-09-30 2021-12-31 惠科股份有限公司 显示面板和显示装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060115749A1 (en) * 2004-11-30 2006-06-01 Seiko Epson Corporation Color filter forming method
CN104238199A (zh) * 2014-09-10 2014-12-24 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制作方法、显示装置
CN104483773A (zh) * 2014-12-12 2015-04-01 深圳市华星光电技术有限公司 一种曲面液晶显示面板及其制作方法
CN105652527A (zh) * 2016-01-22 2016-06-08 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制造方法和显示装置
CN105974636A (zh) * 2016-07-18 2016-09-28 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示面板的制作方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060115749A1 (en) * 2004-11-30 2006-06-01 Seiko Epson Corporation Color filter forming method
CN104238199A (zh) * 2014-09-10 2014-12-24 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制作方法、显示装置
CN104483773A (zh) * 2014-12-12 2015-04-01 深圳市华星光电技术有限公司 一种曲面液晶显示面板及其制作方法
CN105652527A (zh) * 2016-01-22 2016-06-08 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板及其制造方法和显示装置
CN105974636A (zh) * 2016-07-18 2016-09-28 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示面板的制作方法

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108931869A (zh) * 2018-07-17 2018-12-04 惠科股份有限公司 显示面板和显示装置
WO2020062416A1 (zh) * 2018-09-27 2020-04-02 惠科股份有限公司 彩膜基板和显示面板
CN109407413A (zh) * 2018-11-12 2019-03-01 惠科股份有限公司 一种显示面板、显示装置及其制作光罩
WO2020097990A1 (zh) * 2018-11-12 2020-05-22 惠科股份有限公司 显示面板、显示装置及其制作光罩
US11487145B2 (en) 2018-11-12 2022-11-01 HKC Corporation Limited Display panel, mask for manufacturing same, and display device
CN110824760A (zh) * 2019-10-24 2020-02-21 深圳市华星光电技术有限公司 彩膜基板及其制造方法
WO2021077482A1 (zh) * 2019-10-24 2021-04-29 Tcl华星光电技术有限公司 彩膜基板及其制造方法
CN110794624A (zh) * 2019-11-14 2020-02-14 Tcl华星光电技术有限公司 显示面板以及显示面板的制作方法
CN113867055A (zh) * 2021-09-30 2021-12-31 惠科股份有限公司 显示面板和显示装置
CN113867055B (zh) * 2021-09-30 2023-09-05 惠科股份有限公司 显示面板和显示装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107272232B (zh) 一种液晶显示面板的制造方法
CN107608126A (zh) 一种液晶显示面板及其制造方法
US8026999B2 (en) Substrate of a liquid crystal display panel, liquid crystal panel and manufacturing method thereof
KR102363676B1 (ko) 표시장치 및 그 제조방법
KR101322885B1 (ko) 어레이 기판과 액정 디스플레이
US20180107034A1 (en) Display panel and method of manufacturing the same, and display device
CN105974636A (zh) 液晶显示面板的制作方法
CN107045237B (zh) 阵列基板及其制造方法
WO2017041347A1 (zh) Psva型液晶显示面板及其制作方法
US20160011457A1 (en) Fabrication method of substrate
CN109143774A (zh) 掩膜板及金属线的制作方法
CN109031801B (zh) 一种液晶显示面板及其制备方法
KR20160020525A (ko) Tft-lcd 디스플레이 기판의 제조방법, 액정 패널 및 액정 디스플레이 장치
CN107238965A (zh) 一种显示面板及其制作方法
KR101303816B1 (ko) 액정 표시 장치용 모기판, 이를 이용한 액정 표시 장치 및액정 표시 장치의 제조 방법
WO2018196192A1 (zh) 阵列基板制程和阵列基板
CN101369095B (zh) 曝光制程、像素结构的制造方法及其使用的半调式光掩模
US9780221B2 (en) Thin film transistor substrate comprising a photoresist layer formed between a first dielectric layer and an amorphous silicon layer
KR100790354B1 (ko) 액정표시장치용 컬러필터 기판과 어레이기판 제조방법
US10444562B2 (en) Liquid crystal display panel
KR101197099B1 (ko) 액정표시장치용 기판 제조방법 및 이를 위한 대면적 기판
KR20020091447A (ko) 고개구율 액정표시장치의 제조방법
CN108873425B (zh) 液晶显示面板及其制作方法
KR100493866B1 (ko) 액정표시장치용 스페이서 형성방법
KR20080003095A (ko) 액정표시장치 및 그 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20180119

RJ01 Rejection of invention patent application after publication