TWI277839B - Lithographic apparatus and device manufacturing method - Google Patents

Description

,1277839 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係與一種微影裝置及一種製造器件之方法有關。 【先前技術】 微影裝置係一機械，其可向一基板施加一所需的圖案， 一般係在該基板的一目標部分上。微影裝置可用於，例 如’積體電路（integrated circuit ; 1C)的製造。在此情況 下了使用圖案化器件（或稱為一光罩或一主光罩）來產 生欲形成於該1C之一個別層上的一電路圖案。此圖案可轉 移至一基板（如一矽晶圓）的一目標部分（如包括部分、整個 或數個晶粒）上。圖案通常經由成像轉移至該基板上提供 的一輻射敏感材料（光阻）層上。一般而言，一單一基板將 包含連續接受圖案化之鄰近目標部分的一網路。已知的微 影裝置包括所謂的步進機，其中藉由一次性將整個圖案曝 露於目標部分上而照射每—目標部分’以及所謂的掃描 器，其中藉由沿-既定方向（「掃描」方向)透過輻射光束 掃描圖案，同㈣此方向平行或反平行地掃絲板而照射 每-目標部分。藉由將圖案刻印於基板上，也可能將圖案 從圖案化器件轉移至基板。 已經有人提出將該微影投影裝置中的基板浸泡在一折射 率相對較高的液體（例如水）中，以便填充介於該投影系統 之最、，s兀件m板之間的空間。由於曝光輻射於該液體 中m短的波長’故此點之意義在於實現較小特徵之 成像。（該液體之影響亦可視為提高㈣、統的有效NA，且 104535.doc 6 - J277839 ’ 還增加聚焦深度。）已經有人提出其他的浸泡液體，包括 具有固態粒子（例如石英）懸浮於其中的水。 然而，將該基板或基板與基板台沈入一液體槽中(例 如’參見美國專利案US 4,509,852，其全部内容係以引用 的方式併入於此）意謂著在掃描曝光期間必須加速大量的 - ㈣。如此便需要額外的或功率更強的馬達，而且該液體 中的擾動可能會造成不理想且無法預期的效應。 針對液體供應系統所提出的其中一種解決方式便係僅於 癱 該基板的局部區域上及該投影系統之最終元件與該基板 (該基板的表面積通常大於該投影系統之最終元件）之間提 供液體。PCT專利申請公告案禪0 99/49504中便揭示一種 為此進仃配置之方式，該案之全部内容係以引用的方式併 入於此。如圖2及3所示，液體係藉由至少一個入口 IN而供 應至該基板上（較佳的係沿該基板相對於該最終元件移動 之方向），且在穿過該投影系統之下後再藉由至少一個出 • 口0UT而移除。即，隨著基板在元件下以-X方向掃描，液 體供應在元件的+X側面並在該側吸收。圖2示意性顯示 ， 该配置’其中液體係經由入口 IN供應，並藉由出口 • (八係連接至一低壓源）從該元件的另一側流逝。在圖2 之說明中，係沿著該基板相對於該最終元件移動之方向來 供應該液體，不過實際情況並非一定如此。定位於該最終 凡件周圍的入口及出口可有各種方向及數目，圖3說明一 乾例，其中由一入口組成且在任一側上皆有一出口之四組 係以一矩形圖案提供於該最終元件周圍。 104535.doc •1277839 圖2、3和4(在下面做更詳細的說明）的液體供應系統 中，該液體流向是跟相對於該基板之該投影系統之掃描方 向相平行或反平行。這代表該流向必須跟該掃描方向同步 變更。此類之流向變更可能引發浸泡液體之擾動，而增加 氣泡的形成、污染和在該基板表面上粒子的沉積。另一方 面，圖5的液體供應系統具有液體供應出口和圍繞著該密 封部件之同心圓周（例如，多個圓）之汲取空間。這會造成 一對稱之有尖角的液體流，其不需要隨著該基板相對於該 投影系統之移動方向變更而改變。然而，這類的安排可能 讓液體池10中心區產生不良之更新，也可能導致在該投影 束PB之路徑上產生粒子污染和氣泡之聚積。 【發明内容】 因此，若能提供一種液體供應系統，是可以持續運作、 不受基板相對於該投影系統之掃描方向變更之影響，同時 可確保該液體池完全更新則最為理想。 康本發月之一個方面，提供一種微影投影裝置，其配 :以，用士投影系統將一圖案從一圖案化器件投影到一基板 上’同時在-第—方向巾掃描相對於該投影系統之基板， 該微影投影裝置包含·· :體供應系統，其配置以供應液體到介於該投影系統 和：：板之間的空間’該液體供應系統包含-液體供應埠 、，體;及取埠’該供應蜂和該汲取璋位於該空間之相對 士亩 匕^跨δ亥空間之液體流實質上會朝跟該第一方向 垂直之方向。 104535.doc 1277839 依據本發明之另一方面，提供一種製造器件之方法，該 方法包含： 經由一供應埠提供液體給介於一微影投影裝置之投影系 統和一基板之間的空間，且該供應埠位於該空間之一第一 侧上； 經由該汲取埠移除液體，且該汲取埠位於該空間的一第 一側上（跟該第一側相對），如此橫跨該空間之液體流實質 上會朝跟掃描方向垂直之方向；且 利用該投影系統讓一圖案化之輻射光束穿透該液體投影 到該基板上，同時掃描在該掃描方向中相對於該投影系統 之基板。 【實施方式】 圖1依據本發明之一項具體實施例示意性說明一微影裝 置。該裝置包含： 一照明系統（照明器）IL，其係配置用以調節一輻射光 束PB (如UV輻射或DUV輻射）； _ 一支撐結構（如光罩台）MT，其係構造用以支撐一圖案 化器件（如光罩）MA，並連接至第一***pM，其係配置 用以依據某些參數來精確地定位圖案化器件； -一基板台（如晶圓台）WT，其係構造用以固持一基板 (如已塗佈光阻的晶圓）W，並連接至一第二***pw，其 係配置用以依據某些參數來精確地定位基板；以及 -一投影系統（如一折射投影透鏡系統）PL，其係配置用 以藉由圖案化器件MA將賦予於輻射光束pB的一圖案投影 104535.doc 1277839 至基板W的一目標部分C(如包含一或更多晶粒）上。 5亥照明系統可包括各種類型的光學組件，如折射、反 射、磁性、電磁、靜電或其他類型的光學組件，或其任何 組合’用於引導、成型或控制輻射。

該支撐結構會支撐該圖案化器件，即承載該圖案化器件 的重量。其可依照該圖案化器件的方向、該微影裝置的設 計、以及其他條件，如該圖案化器件是否被固持於真空環 境中來固持該圖案化器件。該支撐結構可使用機械、真 空、靜電或其他夾緊技術來固持圖案化器件。該支撐結構 可為-框架或平台’例如’其可視需要為固定式或可移動 式。該支撐結構可確保圖案化器件處於—所需位置，例如 相對於該投影系統。本文對術語「主光罩」或「光罩」的 任何用法都可視為與更通用的術語「圖案化器件」同義。 本文中所使用的術語「圖案化器件」應廣泛地解釋成表 不可賦予-輻射光束一圖案化斷面的器件，以便可於該美 板的目標部份中產生一圖案。應注意，被賦予於該輻射光 束中的圖案可能不會確實對應於基板之目標部分中的所需 :案，例如’若該圖案包括相位偏移特徵或所謂的協助特 :二般而言，被賦予於該輻射光束中的圖案將會對應於 體電路。 自件中的-特殊功能層’如積 勺==化4可為透射型或反射型。圖案化器件之範例 二二:Π式化鏡面陣列以及可程式化LCD面板。光 …為人所熟知，並且包含(例如)二元式、交替 104535.doc 1277839 式相移及衣減式相務繁本@ ;丨 A t _ 砂寺九罩類型，以及各種混合光罩類 型。可程式化鏡面陳列的 ^Λ- > f 平夕j的一耗例採用小鏡面的一矩陣配 置每鏡面可單獨地加以傾斜，以便在不^ $向中反射 引入幸田射光束。该等傾斜的鏡面賦予一輻射光束一圖 案，该輻射光束係藉由該鏡面矩陣所反射。 本文使用的術語「投影系統」應廣義地解釋為包含任何 類型的投影系統，如挤鉍、g ^ 折射反射、反折射、磁性、電磁及

靜電光干系統’或其任何組合，其適合於所使用的曝光韓 射^其他諸如使用浸泡液體或真空等因素。本文對術語 /又衫透鏡」的任何用法都可視為與更通用的術語「投影 糸統」同義。 。如此處所繪，該裝置係透射型(例如採用一…罩)。 或者4裝置可為反射型（如採用上述類型的可程式鏡面 陣列，或採用一反射光罩）。 ，微〜扁置可以為具有兩個（雙級）或更多基板台（及/或 :個：更多光罩台)之一類型。纟此類「多級」機器中， 了平行使用額外的工作A , -Li ju 作口或在一或更多工作台上實施預 備:驟而同時將—或多個其他卫作台用於曝光。 '考圖1，照明器江接收來自輻射源SO的輻射光束。該 ^及錢影裝置可能係分離的實體，例如，當該韓射 舢二-同核硬合分子雷射時。在此等情況下，不認為該輻 適導影裝置之部分’且輻射光束會借助包含如: 源^^及/或光束擴張器之光束輸送系統BD，從輕射 uhm。在其他的情形τ ’輻射源可為微影裝 ^4535.(1(

-11 - 1277839 置的整體部分，例如，當輻射源為水銀燈時。該輻射源S〇 與照明器IL，連同需要時的光束輸送系統BD，可稱為一 幸备射系統。

照明器IL可包括用於調整輻射光束之角強度分佈的調整 器AD。通常，可調整照明器光瞳平面内強度分佈的至少 外部及/或内部徑向範圍（通常分別稱為…外及σ_内）。此 外’該照明器IL可包含其他不同組件，例如一積分器…和 聚光器C0。該照明器可被用以調整該輻射光束，使其 在截面具一理想之一致性和強度分布。 輕射光束ΡΒ係入射至圖案化器件（如光罩μα)上，並藉 由該圖案化器件來圖案化，光罩ΜΑ係固持於支撐結構（如 光罩台ΜΤ)上。穿過該光罩ΜΑ之該輻射光束ρΒ又穿過該 投影系統PL，藉由該投影系統將該光束聚焦在基板臂之一 目標部分c。在第二***PW和定位感測器IF(例如一干 涉器件、線性編碼器或、電容感測器）的協助下，可準確 地移動基板台WT，故可例如將不同目標部分c定位在該輻 射光束PB的路徑上。同樣，第一***pM及另一定位感 測器(其纟在圖1中明確說明)可用以相對於輻射光束叩之 路徑精確定位光罩MA ’例如’在以機器方式將其從一光 罩庫中取出之後，或在一掃描期間。一般而言，光罩台 MT的移動可藉由長程模缸Γ 惕、(祖略疋位）及短程模組（精確定 位）來實現，該等模組形成第一 ^ ^ 疋位态ΡΜ的一部分。同 樣’基板台WT的移動可藉由县 長％核組及短程模組來實 現’該等模組形成第二定位 疋位^PW的一部分。在步進機的 104535.doc

-12- J277839 ^ :(與掃描器相反），光罩台Μτ可能僅連接至短程驅動 器L或為固定的。可使用光罩對準標記M1、M2&基板對 準样己P1 P2來對準光罩MA與基板W。雖然所述該等基 1準標記會佔用專門的目標部分，但其可位於目標部分 ]内（其係稱為劃線對準標記）。同樣，在光罩M a上提 供多於一晶粒的情形中，該等光罩對準標記可位於該等晶 粒之間。 所述裝置可用於以下至少一模式中： h在步進模式中，光罩台MT及基板台WT係實質上保持 固定，同時賦予於輻射光束的整個圖案係一次性（即單一 靜態曝光）投影至一目標部分c上。接著讓該基板台臀丁在又 及/或Y方向上偏移，以便可以曝光不同的目標部分C。在 步進模式中，該曝光場之最大大小會限制單一靜態曝光中 成像的目標部分C之大小。 2·在掃描模式中，同步掃描光罩台“丁及基板台貿丁，同 φ 呀賦予於投影光束的圖案係投影至一目標部分c上（即單一 動態曝光）。該基板台WT相對於光罩sMT的速度及方向可 • 取决於投影系統PL之放大（縮小）倍數及影像顛倒特徵。在 • 掃描模式中’該曝光場之最大大小會限制單一動態曝光中 該目標部分之寬度（在非掃描方向上），而掃描動作之長度 可決定該目標部分之高度（在掃描方向上）。 3.在另一模式中，光罩sMT實質上保持不動以固持一 可程式化圖案化器件，且當被賦予於該輻射光束中的圖案 被投影到目標部分C上時，基板台貨了會被移動或掃描。在 104535.doc • 13 - 1277839 此模式中’通常會應用到一震動之輻射源，且在基板台 WT的母次移動後或在掃描的連續輻射脈衝之間應要求更 新可程式化圖案化器件。此操作模式可容易地應用於採用 可私式化圖案化器件（例如上述類型的可程式化鏡面陣列） 的無光罩微影技術中。 還可使用上面說明的使用模式之組合及/或變更或完全 不同的使用模式。

具一局部液體供應系統之一更進一步浸泡微影解決方 式，顯示在圖4中。液體是經由投影系統1>1^之其中一側的 二個槽狀入口 IN被供應，並經由複數個朝入口 IN向外放射 狀排列之分離出口 out被移除。入口IN和出口 ουτ可被配 置在中心具一電洞之板上，並透過該板投射該投影光束。 藉由投影系統PL之其中一側上的一個槽狀入口 m供應液 體並藉由複數個在投影系統PL之另一側上的分離出口 OUT移除液體，會在投影系統凡和基板歡間造成一薄膜 液體流。要採用哪一個入口 IN和出口 〇υτ之組合的選擇， 視基板W移動的方向而定（入口 ΙΝ和出口 的另一個組合 無活動）。 業經提出的另一浸泡微影解決方式係，為該液體供應系 統提供-㈣部件，該密封部件會沿著該投影系統之最終 凡件與該基板台間的空間之至少—部分邊界延伸。雖然該 岔封部件在z方向(該光軸之方向上)中可能有-定的相對 :動’但：該χγ平面中實質上係相對於該投影系統而固 疋。在該讀部件及該基板表面之間會形成—密封體。在 104535.doc -14- -1277839 -具體實施例中，該密封體係—無接觸密封體，例如一氣 封體。此類具-氣封體之系統揭示於美國專利中請案us 10/705,783中’其全部内容係以引用的方式併人於此，並 顯示在圖5中。 如圖5所示’液體池1G對投影系統影像場周圍的基板形 成非接觸式密封，以便液體限於填充基板表面與投影系統 最終元件間的㈣。該液體池藉由位於投影系統凡最終元 #了方及周圍的密封部件12形成。液體被引入位於該投影 系統之下的空間，且存在於密封部件12中。密封部件12稍 微延伸至該投影系統最終元件之上，且該液體位準上升到 该最終兀件之上，以提供緩衝之液體。密封部件12具有一 内周圍，於上端處，會與該投影系統之形狀或其最終元件 之形狀非常一致，而且可能係圓形。在底部，内周圍與影 像場之形狀接近一致，例如其可為矩形，儘管亦不必如 此。 _ 孩液體被在欲封部件12和基板W表面之間的氣封體16限 制在該液體池中。該氣封體由氣體形成，例如空氣、合成 空氣、A或惰性氣體，並藉由從入口 15到介於密封部件^ 和基板之間空隙的壓力被提供，且經由第一出口 14被抽 出在氣體入口 15上的過壓、第一出口 14上之真空位準和 該空隙之幾何形狀的配置方式使得一快速氣流向内流入而 限制該液體。 於歐洲專利申請案第03257072·3號中則揭示—種雙級浸 泡微影裝置的概念。此種裝置具有二工作台，用來支擇該 104535.doc -15- .1277839 基板。水平測量可利用第-位置處的工作台來實施，其不 具浸泡液體；而曝光則可利用第二位置處的一工作台來實 施，其中存在浸泡液體。或者，該裝置亦可能僅具有一工 作台。 圖6顯示本發明之—具體實施例的液體供應系統之剖面 圖’而圖7為其平面圖。該液體供應系統包含一環形密封 部件20(也可能為不同形狀），其包圍住介於該投影系訊 之最終S件FLE之間的空間。還包含位於密封部㈣之一 側上的-液體供應埠21 ’以及位在另一側上之一或多個液 體抽取纽取埠22。該供應和沒料之定位使得該浸泡液 體流過該空間之…如圖7顯示之單箭頭方向，即實質 上和用雙箭頭表示之該掃描方向相垂直之方向。該液體被 介於該密封部件和基板之間狹小的空隙限制該空間内，以 限制該液體外流。滲出之此種液體會被一抽取器23移除， 同時氣態刀24會將任何留在該基板上之液體膜向内引導。 抽取器23只能抽出液體或液體和氣體二項（二相位卜 該實質上垂直之流向可確保在介於該投影系統之最終元 件FLE和基板W之間該空間内的液體，是在沒有停滯空間 的情況下被完全更新。最好是浸泡液體的流速高到足以在 曝光一目標部分的時間内，讓、液體流過該容積等於 或大於該空間本身之容積。一或多個汲取埠22被定位在該 供應谭之上’使得在該液體中之任何氣泡皆被沖走不會聚 積。在-具體實施例中，該-或多㈣取崞被盡可能放置 在靠近該密封部件中心的位置，以最小化液體在該裝置中 104535.doc -16- 1277839 的里視或多個汲取埠22的位置不同，它們可能只抽取 液體，或液體和氣體。 右该供應和汲取埠之確切的形狀、數量和大小可以不 同再加上至少在該曝光場EF上方之投影光束pb的路徑 上建立一橫向流，則會更有利。在許多情況下，大量的小 型埠或單一延伸之狹長形埠，例如該影像場中心對一 30至 60度角，會比較洽當。 雖…、:本文參考到製造積體電路（IC)時使用的微影裝置， 4應了解此處所提及之微影裝置可有其他的應用，例如製 造整合型光㈣統、用於磁域記憶體的導引和偵測圖案、 平板顯示H、液晶顯示H (LCD)、薄膜磁頭等。熟知本技 術：應了解到’就這類替代應用而言，此處使用的術語 「晶圓」或「晶粒」可被分別視為一般術語「基板」或 「目標部份」㈣義詞。本文所參考的基板可在曝光之前 或之後，例如在軌跡(通常可將光阻層塗到基板上並顯影 曝光光阻的工具）、度量衡工具及/或檢驗工具中進行處 理在可應用的情況下，本文之揭示内容可應用於此類及 其他基板處理工具。此外，你| & ^ Γ例如為了產生一多層積體電 路’可進-步對該基板進行多次處理，因而本文所用術語 「基板」亦可指一已經包含多個已處理層之基板。 本文所使料術語「㈣」與「光束」涵蓋所有類型的 電磁輻射，包括紫外線（UV)輻射（例如，具有“卜以卜 193、157或 126 nm之波長）。 可指任一光學組件或各種類 如情況允許，術語「透鏡」 104535.doc -17- 1277839 型光學組件之組合，包括折射、反射光學组件。 =面已說明本發明之特定具體實施例，但應明白， 本發明可以上面未說明的其他方 可尨1=7 $ 霄知。例如，本發明 令的難式之㈣，該電腦程式包含機器可讀取指 _ S夕序列’說明如以上揭示之方法，或包含其中 啫存此電腦程式的一資料館存 碟或光碟）。 子媒體(如+導體記憶體、磁 本發明可應用於任何浸浪料旦^继 又衫裝置，尤其是（但並不僅 限於）上述類型的微影裝置。 以上描述為說明性而非限制性的。因此，熟習技術人士 將明白’可依照說明對本發明進行修改，而不會脫離下列 申請專利範圍之範疇。 【圖式簡單說明】 上面已僅藉由範例方式並參考隨附示意圖而㈣本發明 U Μ實施例’其中對應的參考符號指示對應的零件，並 且其中： 圖1說明依據本發明之一項具體實施例之微影裝置； 圖2及3說明一微影投影裝置中使用的一液體供應系統； 圖4說明一微影投影裝置中使用的另一液體供應系統； 圖5說明一微影投影裝置中使用的一進一步液體供應系 統； 圖6說明依據本發明之一項具體實施例之一液體供應系 統；及 圖7用一平面圖說明圖6之具體實施例。 104535.doc •18· 1277839 【主要元件符號說明】

10 液體池 12 密封部件 14 第一出口 15 氣體入口 16 氣封體 20 環形密封部件 21 液體供應埠 22 汲取埠 23 抽取器 24 氣態刀 AM 調整器 BD 光束輸送系統 C 目標部分 CO 聚光器 EF 曝光場 FLE 最終元件 IF 定位感測器 IL 照明器 IN 入口 Ml 光罩對準標記 M2 光罩對準標記 MA 光罩 MT 光罩台 104535.doc -19- 1277839

OUT

PI P2

PB

PL

PM

PW

SO • w

WT 出π 基板對準標記 基板對準標記 投影光束 投影系統 第一*** 第二*** 輻射源 基板 基板台 104535.doc -20

Claims (1)

1277839 十、申請專利範園： 1· 一種微影投影裝置，其係配置以使用一投影系統將一圖 案從一圖案化器件投影到一基板上，同時在—第一方向 上掃描相對於該投影系統之基板，該微影投影裝置包 含·· 一液體供應系統，其係配置以供應液體到介於該投影 系統和該基板之間的空間，該液體供應系統包含一液體 供應埠和一液體汲取埠，該供應埠和該汲取埠位於該空 間之相反側，如此橫跨該空間之液體流實質上會朝向跟 δ亥弟一方向垂直之方向。 2·如請求項丨之裝置，其中該液體供應系統包含複數個位 在該空間第一側上之液體供應埠，和複數個位在該空間 第二側上之液體汲取埠，且該第二側在該第一側的對 面。 3 ·如明求項2之裝置，其中該複數個供應埠和該複數個汲 取埠對稱地位在跟該第一方向垂直的一平面之周邊，且 穿過該空間的中央點。 4·如吻求項2之裝置，其中該供應埠的數量在3至7之範圍 5·如請求項2之裝置，其中該汲取埠的數量在3至7之範圍 間。 6. 如明求項1之裝置，其中該汲取埠的位置比該供應埠的 位置離包括該基板標稱表面之一平面更遠。 7. 如請求項丨之裝置，其中該汲取埠的位置比該投影系統 104535.doc 1277839 取終兀*件之最終表面的位置離包括該基板標稱表面之一 平面更遠。 8·如請求項1之裝置，其中該液體供應系統係配置以用一 足以在曝光該基板上之單一目標部分的時間内讓該空間 完全更新的速率，而供應液體至該空間。 9·如請求項1之裝置，其中該液體供應系統包含一部件， 該部件係配置用以至少部分限制該液體於該空間内。 iO·如請求項9之裝置，其中該部件包含一抽取埠，其係配 用乂伙該邛件和该基板之間移除液體，該部件還包含 氣L刀，其係配置用以供應氣體至該部件和該基板之 間’以引導液體流向該空間之中心。 U· 一種製造器件之方法，其包括： 透過一供應埠供應液體到介於一微影投影裝置之一投 影系統和一基板之間的空間，該供應埠位於該空間之一 第一侧上； 利用一汲取埠移除液體，且該汲取埠位於跟該空間之 該第-侧相反側的第二側上’如此橫跨該空間之液體流 向實質上會朝向跟一掃描方向垂直之方向；及 利用該投影系統讓-圖案化之輕射光束穿透該液體投 影到該基板上，同時掃描在該掃描方向巾相料該投影 系統之該基板。 12.如請求項丨丨之方法，包含透過複數個位在該空間的一第 -側、上之液體供應蟑供應該液體，並透過複數個位在該 空間的H上之液體沒取埠移除該液體，該第二側 104535.doc 1277839 在该第一側的對面。 13·如請求項12之方法，其中該複數個供應埠和該複數個汲 取埠對稱地位在跟該掃描方向垂直的一平面之周邊，且 穿過該空間的中央點。 14·如請求項12之方法，其中該供應埠的數量在3至7之範圍 間。 15·如請求項12之方法，其中該汲取埠的數量在3至7之範圍 間。 • 16·如請求項丨丨之方法，其中該汲取埠的位置比該供應埠的 位置離包括該基板標稱表面之一平面更遠。 17·如請求項丨丨之方法，其中該汲取埠的位置比該投影系統 最終元件之最終表面的位置離包括該基板標稱表面之一 平面更遠。 18·如請求項u之方法，其中供應液體至該空間之速率足以 在曝光该基板上之單一目標部分的時間内讓該空間完全 更新。 § 19·如明求項11之方法，包含利用一液體供應系統部件，至 少部分限制該液體於該空間内。 20·如請求項19之方法，其包含： 移除在該部件和該基板之間的液體；及 供應氣體至該部件和該基板之間，以引導液體流向該 空間之中心。 104535.doc