1276925 (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明是關於一種經由光罩照射光，而將形成在光罩 的電路等的光罩圖案轉印至較長的薄膜電路基板（帶狀工 件）上的帶狀工件的曝光裝置；尤其是關於一種帶狀工件 的曝光裝置的吸附保持工件的工件載物台。 【先前技術】 在液晶等的顯示板、行動電話、數位相機，1C卡等， 使用者將積體電路安裝於厚度約25//m至125//m的聚酯 或聚醯亞胺等樹脂薄膜上的薄膜電路基板。 薄膜電路基板是在其製程中，例如爲寬度250mm，厚 度100//m，長度數百m的帶狀工件，通常被捲繞在捲盤 〇 又，薄膜電路基板是在上述樹脂薄膜上，黏貼著導電 體（例如銅箔）。製造薄膜電路基板是重複進行如4次至 5次塗佈光阻的工程，轉印所期望的電路圖案的曝光工程 ’光阻的顯像工程，除去不需要的導電體的蝕刻工程等。 在各工程中，從捲盤捲出薄膜電路基板，經處理加工 後’再被捲取在捲盤。以下將薄膜電路基板稱爲帶狀工件 〇 在第5圖表示帶狀工件的曝光裝置的例子。 帶狀工件W (以下也單單地稱爲工件w)是與保護工 件W的間隔物重疊而輥子狀地捲在捲出輥1。由捲出輥1 -4- (2) (2)1276925 拉出時，間隔物是被捲取在間隔物捲反輥1 a。 由捲出輥1所拉出的帶狀工件W是經過鬆弛部A 1， 中間導輥R2而藉由編碼輥R3與推壓輥R3’被夾持。編碼 輥R3是在工件搬運時，用以確認在下述的搬運輥是否產 生滑移的輥子。 從捲出輥1所拉出的帶狀工件W，是經曝光部3，而 藉由搬運輥R4與推壓輥R4’被夾持。帶狀工件W是搬運 藉由搬運輥R4進行旋轉所設定的所定量，被搬運至曝光 部3的工件載物台1 0上。 在曝光部3上設有；由燈4a與聚光鏡4b所構成的光 照射部4，及具有光罩圖案的光罩Μ，及投影透鏡5。又 ，工件載物台10是被安裝在工件載物台驅動機構6上， 可朝上下，左右方向驅動，同時以垂直於工件載物台面的 軸作爲中心可進行旋轉。 在曝光部3，帶狀工件W是被曝光的領域背面側，藉 由真空吸附等保持手段被保持在工件載物台1 〇表面。此 爲在藉由投影透鏡5所投影的光罩圖案的成像位置，固定 元件W曝光的領域，用以防止在曝光中工件W朝光軸方 向或搬運方向移動。 然後，驅動工件載物台驅動機構6，俾對位形成電路 等光罩圖案的光罩Μ與工件W的曝光領域。完成對位之 後，從光照射部4所放射的曝光光線經由光罩Μ，投影透 鏡5被照射在工件W ’使得光罩圖案轉印至工件W。 完成曝光，帶狀工件W是藉由搬運輥R4與推壓輥 -5- 10 (3) 1276925 R4 ’被夾持，被搬運至下一曝光領域會到達工件載物台 上而被曝光。 作成如此地帶狀工件W是依次被曝光，經導輥R5 鬆弛部A2被捲取在捲取輥2。這時候，從間隔物捲出 2 a送出間隔物’而已曝光的帶狀工件W是與間隔物一 被捲取在捲取輥2。 在上述帶狀工件，如TAB帶地，有如銅箔的金屬 黏貼在聚醯亞胺等的樹脂薄膜者。銅箔的黏貼是施以熱 壓力來進行之故，因而藉由銅箔與有機化合物薄膜的熱 係數的不相同，而有朝寬度方向產生彎曲。 又，在事先工程中，藉由具有因應於設在工件周邊 的打眼孔的節距的突起的鏈輪輥來搬運帶狀工件W，則 打眼孔附近的薄膜會產生延伸或變形的情形。 在此種帶狀工件中，如上述地重複曝光工程，顯像 程，蝕刻工程，則彎曲或縐紋會變大，如第6圖所示地 在帶狀工件W的打眼孔PH附近的薄膜會產生凹凸，而 裙帶菜地有成爲縐紋產生在整體的狀態的情形。 如上述地，曝光時，帶狀工件 W是藉由真空吸附 的保持手段被保持在平面的工件載物台1 〇上，帶狀工 W被保持在工件載物台1 〇上的情形，藉由被供給於工 載物台1 0的真空壓力進行檢測。 在第7圖表示習知工件載物台1 0的槪略構成，由 圖來說明上述保持手段。又，同圖是從帶狀工件的寬度 向（正交於工件載物台搬運方向的方向）觀看的斷面圖 輥 起 箔 或 脹 部 在 工 如 等 件 件 同 方 -6- (4) (4)1276925 如第7圖所示地，在工件載物台1 〇內部設有真空供 給室1 1，而在真空供給室1 1，經由電磁閥1 5連接有來自 真空泵1 2的真空供給系統。 在工件載物台1 〇的表面設有多數真空吸附孔1 3，在 真空吸附孔1 3經由真空供給室丨丨供給有真空，使得工件 w被吸附保持在工件載物台1 〇的表面。· 在真空供給系統設有檢測真空壓力的真空感測器i 4， 來檢測工件W的吸附。亦即，若在工件載物台1 〇表面來 吸附工件W時，即使在真空供給室1〗供給真空，也由真 空吸附孔1 3吸進大氣之故，因而真空供給系統是幾乎不 會減壓，壓力是仍接近於大氣壓。 但是，當在工件載物台1 0表面吸附著工件 W，不會 吸進來自真空吸附孔1 3 .的大氣而使真空供給系統。因此 會降低壓力。 真空感測器1 4是檢測上述真空供給系統的壓力，而 該壓力比設定的閾値壓力還低時，則將導通（ON )信號 發訊至曝光裝置的控制部30 ;而還高時則將斷開（OFF ) 信號發訊至曝光裝置的控制部30。控制部30是當ON信 號被輸入時，則認識爲工件W被吸附在工件載物台1〇表 面，曝光裝置是移至爲了曝光的下一動作；例如移至光罩 Μ與工件W的對位動作或實際的曝光動作。 光罩Μ的圖案能淸晰度優異地成像在工件w表面般 地，工件載物台1 〇的表面位置是事先藉由上述工件載物 台驅動機構6，被設定在所定位置。 (5) (5)1276925 但是，如第6圖所示地，若縐紋或彎曲所致的凹凸產 生在帶狀工件W，當帶狀工件w被吸附在工件載物台！ 〇 時’則在工件W被吸附的領域（被曝光的領域）的周邊 部’間隙產生在工件W與工件載物台1 〇之間，如第7圖 所示地真空從該間隙洩漏。 若產生洩漏，則真空供給系統是不會被減壓，而真空 感測器14是不會輸出〇N信號。因此，不僅工件w雖存 在於工件載物台1 0表面，控·制部3 〇是無法認識工件w 的吸附，成爲吸附錯誤，裝置是無法移至爲了曝光的下一 動作。 爲了藉由真空感測器1 4來檢測工件W吸附，防止來 自工件W被吸附的領域（被曝光的領.域）的周邊部的洩 漏就可以。 作爲防止來自帶狀工件W的寬度方向兩側.（形成有 打眼孔的邊緣部分）的洩漏方法，例如提案著將工件的周 邊部機械式地推壓至工件載物台的方法（參照專利文獻1 )。形成有打眼孔的邊緣部分是被曝光的領域外之故，因 而即使機械式地推壓也沒有問題。 又，在專利文獻2，提案著不會產生彎曲或縐紋，爲 了將工件真空吸附在工件載物台，將設於工件載物台上的 曝光領域內的真空吸附孔，區分成複數孔群，並將各孔群 分別連接於不相同的連通室，依次真空吸引各連通室的方 法。 專利文獻1:日本特開平3— 282473號公報 (6) (6)1276925 專利文獻2 :日本特許第2 8 04 1 5 1號公報 但是，如上述第6圖所示地彎曲或縐紋變大，若在帶 狀工件W的邊緣部分整體產生凹凸的狀態，如記載於上 述專利文獻1所述地，即使將工件W的邊緣部分推壓至 帶狀工件1 0，邊緣部分的縐紋會出現在帶狀工件的長度方 向，如上述第7圖所示地，仍然產生縐紋之狀態下被吸引 至載物台而產生洩漏。 又，如來自第8圖的搬運方向的斷面圖所示地，藉由 上述專利文獻1所述的工件推壓部2 1，即使將工件W的 邊緣部分推壓至帶狀工件1 0，成爲除了縐紋之外的部分， 是黏貼於工件載物台1 0惟縐紋部分是對於工件載物台1 0 也成爲浮起狀態，而從該部分產生洩漏。 產生在該長度方向的縐紋是即使增多供給於工件載物 台的真空量，也不會消失，而不會阻止洩漏。 又，針對於帶狀工件W的長度方向，爲形成有圖案 的領域，若機械式地推壓，則有成爲在所形成的圖案有傷 痕或附著有灰塵等不方便的原因的情形，因此無法採取機 械式地推壓工件的手段。 另一方面，如上述專利文獻2所述地，也可考量使用 將設在工件載物台上的曝光領域內的真空吸附孔，區分成 複數孔群，依次真空吸引各孔群，惟對於如上述第6圖所 示地產生凹凸的帶狀工件，無法期待效果。 亦即，若依次真空吸引設在工件載物台的曝光領域內 的孔群，則曝光領域的中心部分，是被吸附在工件載物台 -9- (7) (7)1276925 ，惟在曝光領域的周邊部分’如上述第7圖所示地留下縐 紋，則縐紋部分是對於工件載物台成爲仍浮起之狀態，由 該部分產生洩漏。 所以，上述真空感測器14是未輸出ο N信號，如上 述地，裝置是無法移行至爲了曝光的下一動作。 【發明內容】 本發明是爲了解決上述先前技術的缺點問題而創作者 ，本發明的目的是對於整體上產生凹凸而不容易吸附在工 件載物台的帶狀工件，不必機械式地推壓形成有圖案的領 域，一面防止洩漏一面可吸附保持在工件載物台上，使得 帶狀工件可確實地檢測被吸附在工件載物台的情形。 在本發明中，如下地解決上述課題。 在工件載物台，除了用以真空吸附工件被曝光的領域 的多數第一孔群之外，至少在工件搬運方向的上游側與下 游側，設置檢測吸附上述工件的感測器。 又，在工件載物台搬運工件時，以上述第二孔群來吸 引工件被曝光的領域外的部分，防止發生工件被曝光的領 域的周邊部的縐紋。由此，不會發生洩漏而可吸附工件被 曝露的領域。 在本發明中，可得到以下的效果。 (1 )藉由被連接於與吸附工件所曝光的領域的第一 孔群另一個的真空供給系統的第二孔群來吸引對於工件被 曝光的領域除了工件搬運方向上游側與下游側被曝光的領 -10- (8) 1276925 域之外的領域之故’因而在工件被曝光的領域周邊’工件 是減少縐紋而成爲平面，使得間隙不會產生在工件被曝光 的領域與工件載物台之間。 因此可防止吸附工件被曝光的領域的第一孔群的洩漏 〇 所以，即使在彎曲或縐紋變大的工件，也藉由設於被 連接於上述第一孔群的真空供給系統的真空感測器，可確 實地檢測工作被吸附的情形，成爲可移行至用以曝光的下 一動作。 又，在除了設有上述第二孔群的曝光的領域之外的領 域，雖產生洩漏，惟連接著與吸附工件被曝光的領域的第 一孔群另一個的真空供給系統之故，因而連接於第一孔群 的真空供給系統是不會有以其洩漏影響而使得壓力上昇的 情形，可正確地認識工件的吸附。 (2 )未機械式地推壓形成有工件的圖案之故，因而 不會有在圖案受到傷痕或附著灰塵的情形。 【實施方式】 在第1圖及第2圖表示本發明的實施例的工件載物台 的構成。第1圖是表示從帶狀工件的寬度方向（正交於帶 狀工件的搬運方向的方向）觀看的工件載物台的斷面圖； 第2圖是表示從上方觀看工件載物台的圖式（在同圖省略 了推壓下述的帶狀工件的邊緣部分的工件推壓機構）。 又’本實施例的帶狀工件的曝光裝置的整體構成，是 -11 - (9) 1276925 與表示於上述第5圖者相同，如上所述地，從捲出輥1被 拉出的帶狀工件W，是被送至設於曝光部3的表示於上述 第1圖，及第2圖的工件載物台10上，藉由真空吸附被 保持。又，完成對位之後，光罩圖案被轉印至施以帶狀工 件W的領域。帶狀工件W是依次被搬運至上述工件載物 台10而被曝光，曝光後，被捲取在捲取輥2。 如第1圖，及第2圖所示地，本實施例的工件載物台 10是由：載置有曝光時，載置有帶狀工件W被曝光的領 域的第一載物台（曝光載物台）1 〇a，及設於帶狀工件 W 的搬運方向上游側與下游側，載置有被曝光的領域外的部 分的第二載物台（補助載物台）1 Ob所構成。 又，第一載物台l〇a與第二載物台l〇b，是由同一平 面的一體載物台可構成，第一載物台1 〇a與第二載物台 1 〇b是僅將真空供給系統作成不相同，由上方觀看的外觀 相同。又，在第一載物台l〇a載置有帶狀工件W被曝光的 .領域之故，因而第一載物台1 〇a的大小是與表示於上述第 7圖的工件載物台大約相同，本實施例的工件載物台1 〇是 僅上述第二載物台1 〇b的分量，比先前的工件載物台朝帶 狀工件W的搬運方向較長。 如第1圖所示地，第一載物台（曝光載物台）1 〇a的 斷面構造，是與先前的工件載物台同樣的構造。 在內部設有真空供給室1 1 a，又在表面設有多數真空 吸附孔（第一孔群）1 3 a，在真空供給室丨1 a連接有來自 真空泵12a的第一真空供給系統16a。在第一真空供給系 -12- (10) 1276925 統1 6 a設有檢測工件W的吸附的真空感測器1 4與將真空 供給於第一載物台1 〇 a的第一電磁閥1 5 a。真空感測器1 4 是如上所述地檢測上述真空供給系統的壓力，該壓力比所 設定的閾値壓力還低時則將ON信號，若還高時則將OFF 信號發訊至曝光裝置的控制部3 0。控制部3 0是當輸入 ON信號，則認識爲工件w被吸附在工件載物台1 0的表 面，曝光裝置是移至用以曝光的下一動作，例如光罩Μ與 工件W的對位動作或實際的曝光動作。 在第一載物台1 〇a的帶狀工件搬運方向的上游側，下 游側，設有第二載物台（輔助載物台）1 0 b。 第二載物台10b的斷面構造，也與第一載物台的 斷面構造同樣，在內部設有真空供給室1 1 b，在表面設有 多數真空吸附孔（第二孔群）13b，在真空供給室i lb連 接有來自真空泵12b的第二真空供給系統16b。在第二真 空供給系統1 6 b安裝有第二電磁閥丨5 b，惟並不必設置真 空感測器 在此’將真空供給於第一載物台1 〇 a的第一真空供給 系統16a，及將真空供給於第二載物台1〇b的第二真空供 給系統1 6b，是獨立的另一個系統；第一真空供給系統 16a是被連接於第一真空泵12a，而第二真空供給系統i6b 是被連接於第二真空泵12b。 因此’即使第二真空供給系統〗6b的壓力變動有所變 動’由此’弟 真空供給系統1 6 a的壓力不會變化。 上述的獨的另一個系統」，是指另一方面的真空 -13- (11) 1276925 供給系統的壓力變動，對於另一方的壓力不會有影響的 思。在同圖中，使用兩台真空泵作成完全不相同的系統 惟若如工廠的大容量的沒有壓力變動的真空供給線，則 接在真空供給線也不會有問題。 在上述工件載物台1 0的帶狀工件寬度方向兩側（赛 圖的紙面前後方向），爲了防止來自帶狀工件 W的寬 方向兩側的洩漏，設有推壓上述的帶狀工件的邊緣部分 工件推壓機構2 0。 在第3圖表示上述工件推壓機構的構成例。 如同圖所示地，工件推壓機構2 0是設在被安裝於 件載物台1 〇的兩側的機框2 5上，由推壓帶狀工件W 邊緣部分的工件推壓部2 1，及驅動該工件推壓部2 1的 件推壓部驅動部22所構成。 工件推壓部驅動部22是具備：被連結於上述工件 壓部21的L形構件23，及驅動該L形構件23的氣缸 〇 工件推壓部2 1是藉由上述工件推壓部驅動部2 2被 動，如同圖所示地當帶狀工件W被曝光的領域搬運至 光位置，則從上方推壓設有帶狀工件W的打根孔PH的 緣部分，推壓至工件載物台1〇。又，在工件 W，設有 以對位工件 W的工件標記 WAM，爲了避開該工件標 WAM，在工件推壓部2 1設有缺口部2 1 a。 第4圖是表示說明上述工件推壓機構2 0的動作的 式。如第4 ( a )圖所示地，在未推壓工件W的邊緣部 思 ， 連 1 度 的 工 的 工 推 2 4 驅 曝 邊 用 記 圖 分 -14- (12) (12)1276925 的狀態下，氣缸24的軸24a是後退，而工件推壓部21是 從工件載物台1 〇隔開。 氣缸24被驅動，而使得軸24a前進，則如第4 ( b ) 圖所示地，藉由軸24a使得L形構件24a被推壓，以軸 23a爲中心進行旋轉，而使工件推壓部2 1朝工件載物台 10推壓帶狀工件W的邊緣部分。 以下，藉由上述第1圖至第3圖來說明被吸附在第一 載物台l〇a與第二載物台l〇b之際的動作。 (1)帶狀工件W被搬運至工件載物台10上，在這 一次欲進行曝光的領域被放在工件載物台1 0的第一載物 台10a上。工件的寬度方向邊緣部分，藉由表示於第3圖 的工件推壓機構20，被推壓至工件載物台10。 (2 )表示於第1圖的第一電磁閥丨5 a與第二電磁閥 15b進行動作，而在第一載物台i〇a與第二載物台i〇b供 給有真空。 (3 )工件W被曝光的領域（的背面側）被吸附在第 一載物台l〇a。又，對於曝光領域，工件長度方向的搬運 方向上游側與下游側的領域。也藉由第二載物台1 〇 b，從 表示於第1圖的虛線的狀態和同圖的箭號所示地被拉到第 二載物台10b側。 (4)在第二載物台10b中，帶狀工件W是在有洩漏 的狀態下被吸引。這時候的狀態，是與表示於上述第8圖 者同樣狀態。亦即，藉由表示於第3圖的工件推壓部2 1， 即使將工件W的邊緣部分推壓至工件載物台1 〇，皴紋部 -15- (13) 1276925 分是對於工件載物台1 〇仍成爲浮起之狀態’而從該部 產生洩漏。 但是在第二載物台1 〇 b的外側，雖仍留下稍微縐紋 惟隨著接近內側，亦即接近於被曝光的領域的方向’沿 第二載物台10b的表面被矯正而大致成爲平面。 (5 )由此，在第一載物台1 〇 a所吸附的被曝光領 的習知發生縐紋而有洩漏的周邊部分’工件W成爲平 ，而在工件W與第一載物台1 〇 a之間不會有間隙，工 W是不會有洩漏地被吸附在第一載物台 (6 )所以，第一真空供給系統1 6 a是無洩漏地被 壓而使壓力下降，俾使真空感測器1 4將0N信號輸出 控制部3 0。 控制部3 0是依據來自真空感測器1 4的信號’在第 載物台1 0 a吸附有工件W被曝光的領域，而在投影透鏡 (參照上述第5圖）的成像位置認識被保持在平面的情 ，裝置是可移至用以曝光的下一動作，如光罩與工作的 位動作或曝光動作。 在此，在第二載物台10b中，藉由產生在工件W 凹凸而產生洩漏，第二真空供給系統1 6 b是壓力不會下 ，或是利用空氣的流進而會變動。 但是，如上所述地，第一真空供給系統1 6 a與第二 空供給系統1 6b是獨立的另一個的系統之故，因而第一 空供給系統1 6a是不會受到其影響而被減壓，真空感測 1 4是可正確地檢測工件W被曝光的領域被吸附至第一 分 著 域 面 件 減 至 形 對 的 降 真 真 器 工 -16- (14) 1276925 件載物台1 〇 a的情形。 又’也可錯開第一電磁閥l5a與第二電磁閥15b的動 作的時機。亦即’首先動作第一電磁閥丨5 a，將工件w被 吸附在第一載物台10a，之後動作第二電磁閥15b，藉由 第二載物台10b來吸引工件w。 如此地，當動作電磁閥1 5 a，1 5 b，即使凹凸較多的工 件，也可使工件從曝光領域朝其周邊部被吸附。因此可防 止縐紋留在被曝光的領域，結果，藉由真空感測器可檢測 保持的情形。 又，在第1圖及第2圖中，將第—載物台i〇a與第二 載物台1 〇b作成一體構造，惟將工件載物台與輔助吸引載 物台作成另外構件也可以。 【圖式簡單說明】 第1圖是表示本發明的實施例的工件載物台的構成的 斷面圖。 第2圖是表示從上方觀看圖示於第i圖的工件載物台 的圖式。 第3圖是表示工件推壓機構的構成例的圖式。 第4(a)圖及第4(b)圖是表示說明工件推壓機構 的動作的圖式。 第5圖是表示帶狀工件的曝光裝置的一例子的圖式。 第6圖是表示產生縐紋或彎曲所致的凹凸的帶狀工件 的一例子的圖式。 -17- (15) (15)1276925 第7圖是表示先前的工件載物台的構成的斷面圖。 第8圖是表示在先前的工件載物台中，藉由工件推壓 機構來推壓工件的邊緣部分的狀態的圖式。 【主要元件之符號說明】 1 0 :工件載物台 10a :第一載物台（曝光載物台） 10b :第二載物台（輔助載物台） 1 1 a，1 1 b :真空供給室 12a，12b :真空泵 1 3 a :第一孔群 1 3 b :第二孔群 1 4 :真空感測器 1 5 a，1 5 b :電磁閥 1 6 a :第一真空供給系統 16b :第二真空供給系統 20 :工件推壓機構 21 :工件推壓部 22 :工件推壓部驅動部. 23 : L形構件 24 :氣缸 3 0 :控制部 -18-