TWI248982B - Method for operating an in-line coating installation - Google Patents
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Description
1248982 九、發明說明: (一) 發明所屬之技術領域 本發明係關於根據申請專利範圍第1項的序言之方法。 爲了塗覆基板,利用噴濺設備,其中將粒子在真空情 況下噴濺離開所謂的靶,隨後將這些粒子沉積在基板上。 如果’在該方法中,將基板連續轉移通過一個聯鎖設 備(intenock)進入噴濺設備中並再將它通過—個聯鎖設備 而轉移出’是可稱之爲順列塗層設備或亦可稱之爲"通過(, 塗層設備。 此種η又備係由相當小的線性構型,但相互連接之個別 室或具有真空轉變鎖在線的每一端之一或兩個大室構成。 將處理室沿著一個大室提供或提供每一個別室中。 (二) 先前技術 已熟知一種順列噴濺系統,其包括三個同中心之圓筒 ’以內部和外部圓筒形成具有圓筒形壁之一個環形室(美國 專利5,7 5 3,092號)。經配置在內部圓筒與外部圓筒間之一 個中央圓筒具有支持基板之開口及充作圓筒之支架,其大 體上塡充環形通路室且其係逐步可旋轉。 此外’熟知一種裝置適合以塗料段進行無缺點塗覆基 板’其包括一真空塗覆部件及一入口和出口聯鎖(德國2 〇 0 22 5 64 UI)。另外,此處提供一個承載器,其包括用以接受 基板之承載器嵌入物。將該承載器路程實施爲〜個_合路 徑。 爲了節省順列塗層設備中之空間,熟知經由提{共—個 回程室來減少所需要之支架的數目(日本專利2 0 0 2, 3 〇 9 3 7 2 A ;) 1248982 。此處各支架連问基板移動變成第一'方向,旋轉大約1 8 0 ° ’隨後移動變成第二方向。 將所熟知之裝置的各室修整以便適合特定大小的基板 。如果欲加工過大之基板,必須使用具有較大室之不同裝 置。 (三) 發明內容 因此’本發明述及僅使用一個塗層設備能塗覆正常基 板以及亦塗覆過大之基板的問題。 此問題通過申請專利範圍第1項的特性予以解決。 因此,本發明係關於操作由2 n+ 1個室(此處η是一個 整數’特別宜是2)所構成之順列塗層構型之方法。因係能 開和關此設備的2x2室間至少一個門,亦變得可能使用相 同設備來塗覆過大之基板。與標準操作比較,開啓和關閉 各門需要改變壓力過程。 使用本發明所達到之優點特別包括較佳利用現有之裝 置。 (四) 實施方式 第1圖顯示一種塗層設備之側視圖。此塗層設備1包 括三個室:向內轉移室2、處理室3和向外轉移室4。將總 數爲四個門定位在不同室2、3、4間及在室2、4的入口上 ’可將各門真空密封式開啓和關閉。第1圖中,各門本身 是不可見的’但是伸長片件5至8指示出各門之位置。將 欲予塗覆之基板,舉例而言,平面建構玻璃、金屬板、石夕 晶矽 '合成材料板等均被引入至向內轉移室2中,隨後在 1248982 處理室3中塗覆,接著隨後經由向外轉移室4被導引出。 可將具有或不具有承載器之基板移動通過各室2、3、4° 然而,無論怎樣,將用以輸送基板之輸送系統提供在室2 、3、4 中0 數字9至1 7係爲泵之標號,其中這些泵將各室2、3 、4抽空至特定之壓力數値。各泵係被配置在各室之側壁 上。然而,亦可將這些泵配置在各室的頂板上。 室2至室4的大小係由最大基板尺寸予以決定,舉例 而言,在建構用玻璃之情況中,其是2.54米χ3· 66米或3.21 米X 6.00米。室的數目係由所需要之最小循環時間予以決定 。循環時間是自輸入第一基板進入室2中直至輸入第二基 板進入相同室2中所消逝之時間。通常,一循環時間至多 大槪爲9 0秒,所謂三室原理,則係例如第1圖中所顯示。 隨著門開啓,於此,將基板在伸長片件5處引入室2 + ’然後隨著將伸長片件5處之門再度關閉並在伸長片件 6處之門關閉後,將其內部壓力通過泵9至11降低,舉例 而言降低至0.05mbar。基板的移動(通常可將它定位在支架 或承載器上)係不連續性,因爲伸長片件6處之門起始係爲 關閉之情況,由於此門關閉,則必定致使基板停頓下來。 當向內轉移室2中之壓力已達到舉例而言的〇.〇5 m bar 之特定數値時,開啓在伸長片件6處之門,使基板連續移 動通過室3,其室3達到真空。隨後在此室3中進行塗覆 。塗覆後,將基板通過向外轉移室4轉移至外面。 三室塗層設備中之循環時間是相當長,因爲爲了在室 1248982 2中達到特定之低壓,基板必須留在向內轉移室2中歷相 當長時間。 較短之循環時間使用五室塗層設備2 0可達到,例如第 2圖中所描述之設備。與三室塗層設備1比較,此五室塗 層設備20包括兩個附加之緩衝室21、22。在伸長片件25 、26處,緩衝室21、22中具有相對應之泵23、24。因爲 可將五室塗層設備20中之基板較爲快速移動通過各室2、 2 1、3、22、4,所以循環時間較短。此項較快之移動係由 於室2、2 1或22、4的抽空,係不同於第1圖三室系統中 之室2、4的抽空。 在五室塗層設備2 0的情況中,在塗層設備定時的時候 ,將基板不連續移動入向內轉移室2中,連同將向內轉移 室2中之壓力降低至大槪1 5mbar,因此,而非如三室設備 中之0.05mbar。隨著下一次定時,將基板通過一個聯鎖轉 移入緩衝室2 1中,使緩衝室2 1中之壓力接近於處理室3 中之壓力。將基板已連續移動通過處理室3後,將基板經 由緩衝室2 2和向外轉移室4帶至外面,於此情況,達到大 氣壓。 在五室塗層設備2 0的情況中,基本上,將循環時間減 少小於9 0秒,藉以將進入塗層設備中之基板的向內轉移程 序分配遍向內轉移室2和緩衝室2 1,而因此,可在兩室中 並列進行,換句話說:在將基板已自向內轉移室2輸送入 緩衝室2〗中後,已經能將另外基板帶入向內轉移室2中。 爲了能引入基板至處理室3中,必須將該室中之壓力(此室 係在處理室3的前方)降低至大槪0 . 〇 5 m b ax•。在三室塗層設 1248982 備1中,此壓降至Ο · Ο 5 m b a r係在向內轉移室2中獨特進行。 在與五室塗層設備2 0的情況對比之下,僅將向內轉移 室2中之壓力自大氣壓泵減至大槪15mbar,隨後將欲予加 工之基板轉移入緩衝室2 1中。當開啓向內轉移室2與緩衝 室2 1間在伸長片件6處之門時,將壓力均衡。該壓力顯著 低於緩衝室2 1中之〇 . 0 5 m b ar,此室先前是開向處理室3, 在室3中,舉例而言係達到3x1 (T3mbar的壓力。因此,該 緩衝室2 1本身起始全然不須被泵抽至較低壓力。因此,向 內轉移室2中之壓力係達到i5mbar,在已開啓在伸長片件 6處之門後,與緩衝室21 (其中達到僅3x10 _3m bar之壓力) 連接,兩個相等尺寸之室2和21中之總壓力降至大槪7mbar 之平均壓力數値。在已關閉在伸長片件6處之門後,現在 將緩衝室21中之壓力藉泵抽自大槪7mbar降低至大槪 0.05mbar。當將基板自緩衝室21帶入處理室3中時,下一 個基板之向內轉移程序已經可能在向內轉移室2中再度開 始,(係在將向內轉移室2滿溢(flood)及隨後已開啓在伸長 片件5處之門)。由於開啓,向內轉移室2中再度達到一般 大氣壓,其隨後再度被泵減壓至大槪15mbar。因此,向內 轉移室2的壓力在大氣壓與大槪丨5mbai•間起伏。成對比的 是緩衝室2 1僅經歷自7 m b a r至0.0 5 m b a r間之壓力改變。 當將一個真空設備的室壓降時,壓力降低係根據指數 函數而進行。自大槪1 〇 〇 〇 m b a r至大槪1 5 m b a r之壓力改變 係相當快速地發生。成對比是更進一步抽氣至較低壓力, 舉例而目例如0.0 5 m b a 1.則需要較久。 1248982 不同型式的真空泵,舉例而言例如,葉輪型迴轉栗 (vane-type rotary pumps)、根栗(Roots pumps)或渦輪分子 泵在不同壓力範圍內具有其最適宜之抽空性能。 轉栗自大热壓抽空至大槪0 · 0 0 5 m b a r。但是爲了達到此最,終 壓力,需要極長之泵抽時間。根泵則係高度可變動地被運 用,在自1至0.1 mb ar之範圍內,具有其最適宜之抽空性 能。渦輪分子泵只連接在低於0.1 mb ar時,但是此類栗在 低於1 bar才具有有用之抽空性能。 泵9至1 7或9至1 7和23 ; 24係依照彼等必須實行之 任務予以選擇。可佈置向內轉移室2和緩衝室2 1之各栗以 致使兩室2、2 1之栗抽時間大槪相等。 將三室設備1的向內轉移室2藉葉輪型迴轉泵和根泵 型式之泵9至1 1抽空。根泵在較低壓力範圍內增加抽空性 能至0.0 5 mb ar的轉換點,係在開始時開啓向著處理室3之 在伸長片件6處之門。泵抽時間在3 0至6 0秒時,典型之 循環時間在此則大槪爲60至90秒。 然而,五室設備20的向內轉移室2係藉泵9至11(其 獨特是葉輪型迴轉泵)予以抽空。 緩衝室2 1之泵站2 3可包括葉輪型迴轉泵及根泵。在 傳統式五室操作期間,在1 5至2 0秒之泵抽時間時循環時 間是大槪4 5秒。尤其’循環時間與泵抽時間間之差乃屬必 須以便移動玻璃板及以便開啓和關閉各門。 第3圖中,以平面圖再次顯示三室塗層設備1,而第4 圖中以平面圖顯示五室塗層設備2 0。 -]0- 1248982 第3圖中,可見室2、3、4以及連同相關之門6 Ο、6 1 、62、63之伸長片件5、6、7、8。另外,處理室3中可見 兩個狹縫隔膜1 8、3 0或1 9、2 9,其界定轉移室3 1、3 3。 按3 0、2 9是所指示之狹縫隔膜,將其垂直配置在金屬板部 件1 8、1 9上。 第4圖顯示呈平面圖之五室設備。此五室設備包括兩 個附加之門64、65,將其各自定位在室21、31間及室33 、22間 在標準操作期間,即:當無過長之基板在根據第4圖 之設備2 0中正被塗覆時,則進行下列泵抽程序:將向內轉 移室2滿溢,開啓門60及將基板輸送入向內轉移室2中。 於是,再關閉門60。在室2中達到大槪1 5mbar的壓力轉 換點後’再開啓門61’及將基板輸送入室21中。於是再 度關閉門6 1。同時在緩衝室2 1中,將壓力降低至大槪 〇-〇5mbar,將向內轉移室2滿溢及隨後開啓門60。現在將 新基板引入向內轉移室2中並再關閉門60。同時並行於緩 衝室21中,達到大槪0.05mbai•的壓力轉換點時,開啓門 64並將第一基板經由轉移室3 1移動入處理室3中。就大 體而論,在此操作期間,總是僅開啓門60、6 1、64其中之 一。在此特別指出的是:將各個閥配置在各室與各栗之胃 以及各室與大氣外界之間。爲了切斷泵抽動功率,關閉室 與泵間之一個閥;但是各泵係繼續連續運轉。在使_室_ 溢期間,開啓該室前方之閥向著周圍空氣,以致使空^司-流入該室中及此室中之壓力上昇至大氣壓。 1248982 因此,在根據第4圖之五室設備的標準操作期間,將 室2壓降自大氣壓至大槪15mbar,及當開啓門61時,發 生壓力均衡,因爲室21 (其先前已開向室3)中之壓力(大槪 3xl(T3mbar)顯著低於〇.〇5mbar。因此,兩相等尺寸之室2 、21中之總壓力降至大槪7mbar。隨後,將室21泵抽自大 槪7mbar至大槪0.05mbar。室21中之根泵可不致中斷地運 轉,因爲此室中之壓力僅在大槪7mbar至低於〇.〇5mbar間 變更。 在五室設備20的標準操作期間,輸送系統僅在基板自 向內轉移室2轉移入緩衝室2 1中期間同步運轉。在其餘之 移動階段中,兩輸送系統可相互無關,輸送特別的基板。 在第5圖的左手側,相似於根據第4圖中設備2 0之設 備再一次以截面圖顯示。該設備與第4圖的設備不同,因 此,除了狹縫隔膜3 0以外,它具有一個另外之狹縫隔膜 2 8。向內轉移室2中之輥或圓筒3 4至3 7則顯然可見,緩 衝室2 1中有輥或圓筒3 8至4 1及處理室3中有輥或圓筒 42至5 3。將基板5 5配置在此等輥或圓筒上,此基板自左 移動至右。 將狹縫隔膜3 0、2 8懸掛在金屬板1 8、2 7上,而在其 下面留下敞開一個狹縫,其大小可將基板5 5導引通過狹縫 隔膜下面。將濺射陰極5 6定位在處理室3 2本體中。將基 板5 5使用此陰極所濺射之粒子塗覆。 各狹縫隔膜3 0、2 8延伸出處理室3的全長。此亦適用 於此等狹縫隔膜的懸置1 8、1 9。 -12- 1248982 爲了改良各室間之氣體分離’可將輸送系統另外用第 5圖中未示出之金屬板覆蓋,自此(覆蓋)僅凸出輸送輥的上 部部分。 因此,基板輸送裝置包括許多輥或圓筒34至53,其 以相同旋轉數而旋轉並輸送基板。在其上設置門6 1、64、 65、62之那些位置上,該輸送裝置具有中斷物或較大空間 在各輥或各圓筒間。室2、2 1、22和4中之輸送裝置的各 段係間斷式操作,室3中之該段係連續操作。 在標準操作中,參照第4圖和第5圖,五室設備中之 基板輸送其操作如下:爲了向內轉移基板5 5,開啓室2中 之輸送裝置。一旦基板55到達室2中之其特定位置,立即 關閉該輸送裝置。爲了轉移基板55自室2至室21,具有 圓筒34至37或38至41之兩輸送裝置同時操作,當基板 5 5已達到室2 1中之其最終位置時才關閉輸送裝置。爲了 輸送基板44進入室3中,開啓室21中之輸送裝置38至 41,無論怎樣,室3中之輸送裝置42至53正運轉而不中 斷。關於自室3轉移至室22(第2圖),將定位在該處之輸 送裝置與開啓門65同時開啓。更進一步向外轉移程序類似 於向內轉移程序來進行,但是係以相反之順序。 將向內轉移室2使用泵站抽空,此泵站僅包括葉輪型 迴轉泵’然而,室2 1之泵站包括葉輪型迴轉泵及根泵。在 滿溢一個室期間,未關閉該泵,毋寧是關閉該室與泵間之 一個閥。 直到此時刻,業已敘述三室設備1及五室設備2 0的就 1248982 其本身而論所熟知之功能。 參照第4圖和第5圖,下文中敘述該種方式,其中在 五室設備的協助下,亦可將相當大的基板根據本發明塗覆 〇 對於兩種設備1或20均適用:最大容許之基板尺寸是 特別室的尺寸之一個函數。大於室2和2 1,或2 2和4之 基板不能加以塗覆。此外,將各室發展成爲具有相同尺寸 之模組。 如第4圖中顯然可見,如果開啓門6 1、6 3,可以處理 較大之基板。在此情況下,室2和2 1以及室4和2 2在每 一情況中可能倂合形成一較大空間,在此情況下,亦可將 較大之基板容納在其中。 關於聯鎖室2、2 1、2 2、4,利用呈相同大小之相同模 組,與是否包括三室設備1或五室設備2 0無關。因爲使用 兩種設備1或20,通常,塗覆具有相同最大大小之相同基 板,各室亦必須具有此等尺寸。 如果假定:向內轉移室、緩衝室及向外轉移室都具有 相同大小,因爲將彼等發展成爲模組,所以如果開啓門6 1 、6 2,可加工兩倍長度的基板。因此,特別是塗覆類型的 加工,舉例而言,超過6米長和3.2 1米寬的偶然需要之特 別尺寸,亦可能在具有標準室大小之塗層設備中進行。 與此等第3圖和第4圖關聯,將解釋自五室塗層設備 至三室塗層設備,根據本發明之轉換程序。 爲了自五室操作轉變至三室操作,僅開啓向內轉移室 -14- 1248982 2與緩衝室2 1間或向外轉移室4與緩衝室2 2間之門6 1和 62並不夠。毋寧是’必須使泵抽順序及驅動控制適應於新 狀況。因此,在向內轉移步驟方面,甚大之改變乃屬必須 。如已經所敘述的,三室塗層設備1中基板的向內轉移係 由藉栗9至11所壓降向內轉移室2至大槪〇.〇5mbar之壓 力而進行。爲了抽空向內轉移室2自大氣壓至轉移壓力, 需要相當長之泵抽時間。因爲當將基板轉移入處理室中時 ’開啓通至處理室3之門6 1,氣體可能以太高壓力進入處 理室3中’但僅容許室3具有3xl(T3mbar之壓力。爲了預 防此現象,將增加數目的泵1 2配置在處理室3的進入區域 中,其中僅將一個泵12描述於第1圖中。將此進入區域藉 狹縫隔膜1 8、3 0與處理區域3 2本身分離。亦將此進入區 域標示爲轉移室3 1,即使僅將它經由狹縫隔膜1 8、3 0而 非經由門與處理室3分隔。因此,處理室3包含一轉移區 域3 1,一處理區域3 2及向外轉移室4前方之一個另外轉 移區域3 3,具有另外之狹縫隔膜1 9、2 9提供在轉移區域 3 3與處理區域3 2之間。 將處理室的段31(其係經由數個渦輪泵12予以抽空) 指定爲”轉移段"。該處理室3 2本身係由許多相等大小的個 別片段聯合而成,且,基於需要,相互添加之片段的數目 使得在其中可進行特別任務。在三室設備1的情況中,在向 內轉移室2中達到〇.〇 5 mb ar之壓力,致使當開啓門61時 ,氣體流動進入處理室3 2中,因爲此處,壓力是大槪3 X 1 〇·3。利用數個渦輪泵的高抽空性能,將此壓力波動吸收 」5- 1248982 在處理室3的”轉移段”中。 、 在太長基板之特別操作期間,即:當將五室設備20作 , 爲三室設備1操作時,下列程序在根據第4圖之五室設備 中進行:將室2和2 1滿溢。開啓門60。在此操作狀態時 門6 1總是維持開啓,因爲否則可能毀壞基板。將基板輸送 入室2和21中,隨後再度關閉門6〇。在達到大槪〇.〇 5m bar 的壓力轉換點後,開啓門64,將基板輸送入處理室3中及 再次關閉門64。爲了轉移入另外之基板,將室2和2 1滿 溢後,再開啓門6 0。 ® 特別向外轉移程序以類似方式進行,但是以相反順序 ,即:首先基板是在向外轉移室22中,隨後進行滿溢及隨 後,實行開啓門6 3至大氣壓。 - 因此,爲了能加工具有過大長度之基板,宜是過長之 玻璃板,在五室設備2 0中,開啓各自在兩室2、2 1和4、 22間之門61、62並不足夠。而且,必須修改兩室2、21 和22、4之泵抽計劃致使僅將室2、2 1和22、4壓降自大 氣壓至大槪〇.〇5mbar。雖然此方式延伸該設備的向內轉移 胃 時間,而因此延伸總循環時間,然而,以此方式,可能加 工至少具有太長之基板不須建造較大之設備。 ~ 關於太長基板之特別操作,五室設備中之泵抽以下列 - 步驟詳細進行:將室2和2 1兩者一起壓降自大氣壓至大槪 0.0 5 mb ai.。爲了此目的,室2之泵抽計劃中,壓力轉換點 必須自1 5 m b a r降低至7 m b a 1·。此情況中’室2之泵組僅自 大氣壓泵降至7mbar,隨後關閉泵組與室2間之閥,但是 6 1248982 同時開啓第二泵組與室2 1間之閥(其先前已予關閉)。其原 因是:室2的泵組係由葉輪型迴轉泵所構成,其能自大氣 壓壓降。除去葉輪型迴轉泵以外,室2 1之泵組亦包括根泵 ,僅必須在開始時將其在大槪7mbar時連接。爲了能將增 加之向內轉移室2 + 2 1壓降至大槪0.0 5 m b a r,因此,連續利 用兩個泵組而非如標準操作中之並聯操作。 室2 2和4的滿溢及壓降以類似方式進行。 而且,基板之輸送系統必須適應於另外之向內轉移順 序。 如果利用五室設備2 0用以塗覆太長之基板,則在向內 轉移程序期間,各輸送系統必須作爲單一系統同步操作, 因爲否則,刮痕可能產生在基板上。如果將基板自輸送系 統之一段推移至另一段上(此另一段並未啓動),則基板上 t旋轉輥歷經制動阻力或將板推移在不旋轉之輥上,兩種 情況中,都會產生刮擦痕,跡。 在太長基板5 5之特別操作期間,根據第4圖、第5圖 之五室設備中之輸送係如下進行:當在標準操作時,室2 和21中各自之輸送裝置34至37及38至41係同步操作或 基於需要,相互無關而操作,現在處理兩裝置好似彼等是 單一緊密結合之輸送裝置。必須忽視達到基板5 5在室2中 之最終位置,即:基板必須移動通過直至室2 1中之最終位 置。在此情況中,並無操作狀態,其中室2和2 1中輸送裝 ®的個別段係相互無關而操作。更進一步之基板輸送以類 似方式進行。 1248982 泵、輸送輥、門等的控制宜藉儲存的可程式規劃控制 (SPS)進行,其以控制用計算機之形式,且在商業上則可獲 得供應。 關於此種控制,可將甚至極大型的工業上設備使用彈 性程式(SPS程式順序)予以控制。將設備的零件之所有測量 系統、限制開關、感測器、電動機、閥及控制器等連接至 控制用計算機的輸入和輸出。設備控制本身係由程式予以 接管,其通過邏輯鏈相互連此等輸入和輸出及置放必須之 機能入正確時間定序中,如果欲將上述設備以不同操作狀 態來控制,不必顯著地改變其硬體。如果利用彈性可程式 規劃之壓力感測器代替具有固定轉換點之壓力元件,僅必 須將查詢改變之壓力轉換點之必要新邏輯鏈儲存在交替程 式順序中且係分開可定址。 關於基板的向內轉移,不需要精確壓力量測、感測器 的信號便已足夠,感測器指出現在已達到所需要之壓力(舉 例而言,1 5 m b a r)。爲了此目’利用先前之壓力元件,其具 有固定之壓力轉換點。如果需要交替之壓力轉換點,則必 須安裝附加之壓力元件’將其設定至該等壓力點。現今電 子壓力計就已足夠,S P S程式中其測量數値僅查詢:關於 是否所需要之壓力已到達在特別程式位置。 原則上,亦可將本發明的槪念應用至2n+ 1室設備(此 處η是一個整數)。貫際上,七室設備亦可實現。在具有甚 至更多室之設備中,費用可能不再代表對於可能縮短循環 時間而因此等對於增加生產率之合理關係。 -18- 1248982 (五)圖式簡單說明 將本發明的具體實施例實例顯示於圖式中並將在下文 中予以更進一步詳細敘述。在圖式中: 第1圖是呈側視圖之三室塗層設備。 第2圖是呈側視圖之五室塗層設備。 第3圖是呈平面圖之三室塗層設備。 第4圖是呈平面圖之五室塗層設備。 第5圖是呈截面側視圖之一部分的五室塗層設備。 主要元件符號說明 1 塗層設備 2 向內轉移室 3,32 處理室 4 向外轉移室 5-8,25,26 伸長片件 9-17,23,24 泵 1 2 泵 18,19 懸置 , 20 五室塗層設備 2 1,22 緩衝室 23 泵站 27 金屬板 29,3 0 狹縫隔膜 3 1 轉移室 3 2 處理區域 -19- 1248982 3 3 轉移區域 3 4-3 7 車昆或圓筒 3 8-4 1 輸送裝置 42-5 3 輥或圓筒 5 5 基板 5 6 濺射陰極 60-65 門
-20
Claims (1)
- -W -r·-. ' -T-. -.....>: d·響本: ‘ ....- ' ’kT.f -----r 十、申請專利範圍: 1 · 一種用於操作順列塗層設備的方法,此設備具有向內轉 移室(2)、接鄰之緩衝室(21)、接鄰在其上之處理室(3)、 接鄰它的另外之緩衝室(2 2 )及接鄰它的向外轉移室(4 ), 具有門(61、64、65、62)設置在各室之間,可將該等門 開啓動關閉,及於此情況,將向內轉移室(2 )、緩衝室(2 1 、2 2 )及向外轉移室(4 )發展成爲相同模組並適合容納具有 高達特定最大尺寸之基板,其特徵爲:爲了塗覆大於模 組之基板(5 5 ),開啓向內轉移室(2 )與緩衝室(2 1 )間之門 (6 1 )以及緩衝室(2 2 )與向外轉移室(4 )間之門(6 2 )並使緩 衝室(2 1、2 2 )與向內轉移室(2 )或向外轉移室(4 )的壓力狀 況相互適應。 2 .如申請專利範圍第1項之方法,其中將各室(2、2 1、3、 22、4)配置以其本身之基板(55)之輸送裝置(34至37; 38 至41; 42至53)且使此等輸送裝置(34至37; 38至41 ;42至53)的輸送速率相互匹配。 3 ·如申請專利範圍第1項之方法,其中該處理室(3 )包括至 少兩個狹縫隔膜(30、29),其中,一個狹縫隔膜(30)形成 處理室(3)本身的左邊界而另一個狹縫隔膜(29)形成處理 室(3)本身的右邊界。 4 ·如申請專利範圍第1項之方法,包括下列步驟: 開啓在第一緩衝室(2 1 )入口處之門(6 n及第二緩衝 室(2 2 )與向外轉移室(4 )間之門(6 2 ); 開啓在向內轉移室(2 )入口處之門(6 〇 ); 1248982 將具有長度超過向內轉移室(2 )或緩衝室(2 1 )的長度 之基板輸送入向內轉移室(2)及緩衝室(21)中; 關閉在向內轉移室(2)入口處之門(60); 經由向內轉移室(2)所形成之空間,及隨著關閉在處 理室(3 )入口處之門(6 4 )後,將緩衝室(2 1)抽空至指定壓 力; 於達到指定壓力時’開啓在處理室(3)入口處之門(64) 將基板(5 5)輸送入處理室(3)中及再關閉在處理室(3) 之入口處之門(64); 將基板(5 5 )在處理室(3 )中加工; 開啓在處理室(3)出口處之門(65); 將經加工之基板(5 5 )移動入緩衝室(2 2 )與向外轉移 室(4)所形成之空間中; 關閉在處理室(3)出口處之門(65); 開啓在向外轉移室(4)出口處之門(63); 將經過加工之基板(5 5)移動至外面;以及 關閉在向外轉移室(4)出口處之門(63)。 5 ·如申請專利範圍第4項之方法,其中在將基板向內轉移 入由向內轉移室(2)和緩衝室(21)所形成之空間中後,及 在關閉門(6 0 )後,首先,與向內轉移室(2 )相聯合之各泵 (9至11)進行抽空自大氣壓至第一指定之壓力,以及隨 後與緩衝室(2 1 )相聯合之泵(2 3 )進行抽空至大槪相當於 處理室(3 )的壓力之壓力。 -22- 1248982 6 ·如申請專利範圍第5項之方法,其中將由向內轉移室(2 ) 和緩衝室(2 1 )所形成之空間中之壓力首先自大氣壓降低 至大槪7mbar,隨後將相同空間之壓力降低至大槪〇·〇5 mb ar ° 7 ·如申請專利範圍第1項之方法,其中將向內轉移室(2)的 輸送裝置(34至37)及接鄰緩衝室(21)的輸送裝置(38至 4 1 )同步操作。 8 ·如申請專利範圍第7項之方法,其中將處理室(3)的輸送 裝置(42至53)以與向內轉移室(2)和緩衝室(21)的輸送裝 置(34至37 ; 38至41)相同之速率橾作。 9 ·如申請專利範圍第1項之方法,其中將壓力計設置在全 部各室(2、21、3、22、4)中’其壓力經由控制予以查詢 ’及當達到指定壓力時,此控制進行轉換動作。 1 0 ·如申請專利範圍第9項之方法,其中該轉換動作是開啓 或關閉門,或是開啓或關閉經配置在室與泵間之閥。-23-
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