JP2005232584A - インライン・コーティング設備の作動方法 - Google Patents
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- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 37
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 37
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 31
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 95
- 230000007704 transition Effects 0.000 abstract 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 16
- 230000008569 process Effects 0.000 description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 239000005328 architectural glass Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009530 blood pressure measurement Methods 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
- C23C14/566—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases using a load-lock chamber
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
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Abstract
【解決手段】 本発明は、2n+1個のチャンバを備えるインライン・コーティング構成を作動するための方法に関する。ここで、nは整数であり、特に2であることが好ましい。この設備の2つのチャンバを2回の間に少なくとも1つのゲートをそれぞれ開閉することができるので、同じ設備で過度のサイズの基板もコーティングすることができる。標準動作と比較すると、ゲートを開閉すると必ず圧力の推移が変化する。
【選択図】 図1
Description
Claims (10)
- 内部への搬送チャンバ(2)、隣接するバッファ・チャンバ(21)、その上に隣接する処理チャンバ(3)、それに隣接するもう1つのバッファ・チャンバ(22)およびそれに隣接していて、開閉することができる前記チャンバ間に設置されているゲート(61,64,65,62)を含む外部への搬送チャンバ(4)を備えるインライン・コーティング設備を作動するための方法であって、前記内部への搬送チャンバ(2)、前記バッファ・チャンバ(21,22)および前記外部への搬送チャンバ(4)が、同じモジュールとしてまた指定の最大サイズまでの基板を収容するために開発され、前記モジュールより大きい基板(55)をコーティングするために、前記内部への搬送チャンバ(2)と前記バッファ・チャンバ(21)との間の前記ゲート(61)並びに前記バッファ・チャンバ(22)と前記外部への搬送チャンバ(4)との間の前記ゲート(62)が開き、前記バッファ・チャンバ(21,22)の圧力状態および前記内部への搬送チャンバ(2)または前記外部への搬送チャンバ(4)の圧力状態が相互に適合されることを特徴とする方法。
- 前記チャンバ(2,21,3,22,4)が、基板(55)用のそれ自身の移送装置(34〜37;38〜41;42〜53)を備え、これらの移送装置(34〜37;38〜41;42〜53)の移送速度を相互に一致させることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記処理チャンバ(3)が少なくとも2つのスリット・ダイヤフラム(30,29)を備え、一方のスリット・ダイヤフラム(30)が前記処理チャンバ(33)本体の左の境界を形成し、他方のスリット・ダイヤフラム(29)が前記処理チャンバ(33)本体の右の境界を形成する、請求項1に記載の方法。
- 下記のステップ、すなわち、
前記第1のバッファ・チャンバ(21)への入口のところの前記ゲート(61)、および前記第2のバッファ・チャンバ(22)と前記外部への搬送チャンバ(4)との間の前記ゲート(62)が開くステップと、
前記内部への搬送チャンバ(2)の入口のところの前記ゲート(60)が開くステップと、
前記内部への搬送チャンバ(2)または前記バッファ・チャンバ(21)の長さを越える長さの基板を、前記内部への搬送チャンバ(2)および前記バッファ・チャンバ(21)内に移送するステップと、
前記内部への搬送チャンバ(2)の入口のところの前記ゲート(60)を閉じるステップと、
前記内部への搬送チャンバ(2)が形成する空間、および前記処理チャンバ(3)への入口のところの前記ゲート(64)が閉じている場合に、前記バッファ・チャンバ(21)が指定の圧力に真空排気されるステップと、
指定の圧力に達した場合に、前記処理チャンバ(3)の入口のところの前記ゲート(64)が開くステップと、
前記基板(55)が前記処理チャンバ(3)内に移送され、前記処理チャンバ(3)の入口のところの前記ゲート(64)が再度閉じるステップと、
前記基板(55)が前記処理チャンバ(3)内で加工されるステップと、
前記処理チャンバ(3)の出口のところの前記ゲート(65)が開くステップと、
前記加工された基板(55)が前記バッファ・チャンバ(22)と前記外部への搬送チャンバ(4)が形成する前記空間内に移動するステップと、
前記処理チャンバ(3)の出口のところの前記ゲート(65)が閉じるステップと、
前記外部への搬送チャンバ(4)の出口のところの前記ゲート(63)が開くステップと、
前記加工された基板(55)が外部に移動するステップと、
前記外部への搬送チャンバの出口のところの前記ゲート(63)が閉じるステップとを含むことを特徴とする、請求項1に記載の方法。 - 前記内部への搬送チャンバ(2)および前記バッファ・チャンバ(21)が形成する前記空間内に前記基板を内部に向け搬送した後で、また前記ゲート(60)が閉まった後で、前記内部への搬送チャンバ(2)に関連する前記ポンプ(9〜11)が、最初に大気圧から第1の指定の圧力への真空排気を行い、その後で、前記バッファ・チャンバ(21)に関連する前記ポンプ(23)が、前記処理チャンバ(3)の圧力にほぼ対応する圧力に真空排気を行うことを特徴とする、請求項4に記載の方法。
- 前記内部への搬送チャンバ(2)および前記バッファ・チャンバ(21)が形成する前記空間内の圧力が、最初に大気圧から約7mbarに下げられ、その後で同じ空間内の圧力が約0.05mbarに下げられることを特徴とする、請求項5に記載の方法。
- 前記内部への搬送チャンバ(2)の前記移送装置(34〜37)、および前記隣接するバッファ・チャンバ(21)の前記移送装置(38〜41)が同期して動作することを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記処理チャンバ(3)の前記移送装置(42〜53)が、前記内部への搬送チャンバ(2)および前記バッファ・チャンバ(21)の前記移送装置(34〜37;38〜41)と同じ速度で動作することを特徴とする、請求項7に記載の方法。
- すべてのチャンバ(2,21,3,22,4)内に、その圧力が制御装置によりチェックされる圧力計が設置され、この制御が指定の圧力に達した場合の切替動作により行われることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記切替動作が、ゲートの開閉またはチャンバとポンプとの間に配置される弁の開閉であることを特徴とする、請求項9に記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102004008598A DE102004008598B4 (de) | 2004-02-21 | 2004-02-21 | Verfahren für den Betrieb einer Inline-Beschichtungsanlage |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005232584A true JP2005232584A (ja) | 2005-09-02 |
JP4054003B2 JP4054003B2 (ja) | 2008-02-27 |
Family
ID=34745252
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004129265A Expired - Lifetime JP4054003B2 (ja) | 2004-02-21 | 2004-04-26 | インライン・コーティング設備の作動方法 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7638173B2 (ja) |
EP (1) | EP1571234B1 (ja) |
JP (1) | JP4054003B2 (ja) |
KR (1) | KR100615549B1 (ja) |
CN (1) | CN100396815C (ja) |
AT (1) | ATE398687T1 (ja) |
DE (2) | DE102004008598B4 (ja) |
ES (1) | ES2308085T3 (ja) |
PT (1) | PT1571234E (ja) |
TW (1) | TWI248982B (ja) |
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- 2004-03-22 US US10/806,060 patent/US7638173B2/en active Active
- 2004-04-21 CN CNB2004100369370A patent/CN100396815C/zh not_active Expired - Lifetime
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JP4054003B2 (ja) | 2008-02-27 |
EP1571234A2 (de) | 2005-09-07 |
TW200528573A (en) | 2005-09-01 |
DE102004008598A1 (de) | 2005-09-15 |
KR20050083126A (ko) | 2005-08-25 |
US20050186346A1 (en) | 2005-08-25 |
PT1571234E (pt) | 2008-09-30 |
ATE398687T1 (de) | 2008-07-15 |
EP1571234A3 (de) | 2006-06-21 |
CN100396815C (zh) | 2008-06-25 |
KR100615549B1 (ko) | 2006-08-25 |
ES2308085T3 (es) | 2008-12-01 |
DE502004007384D1 (de) | 2008-07-31 |
DE102004008598B4 (de) | 2006-12-28 |
TWI248982B (en) | 2006-02-11 |
CN1657647A (zh) | 2005-08-24 |
EP1571234B1 (de) | 2008-06-18 |
US7638173B2 (en) | 2009-12-29 |
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A602 | Written permission of extension of time |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R250 | Receipt of annual fees |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
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