TWI241582B - Method for manufacturing recording media, method for manufacturing production plate, apparatus for manufacturing recording media, and apparatus for manufacturing production plate - Google Patents
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Description
1241582 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(1 ) [發明之技術領域] 本發明係關於記錄媒體之製造方法、記錄媒體製造用原 盤之製造方法、記錄媒體之製造裝置、以及記錄媒體製造 用原盤之製造裝置。 在本發明所謂的原盤,係指該原盤本身,也包含例如以 射出成形法或以雙P法(光聚合法;Photopolymerization法) 等成形具有微細凹凸之衝壓模(stamper),用以轉印複製複 數個該衝壓模之所謂的主版模(master),以及用以轉印複製 複數個該主版模之所謂的母版模(mother master)在内。 [先前技術] 近年來,對於更高記錄密度化之要求日益迫切。 另方面,最近在用以對記錄媒體實施光複製之光拾取頭 方面,也曾有關於把記錄媒體與光學透鏡間之距離抑制於 200 nm之所謂的近場(near field)構成之提案,而藉由光學 透鏡系統之高N. A.(高數値孔徑)化,以及使用短波長複製 (再生)雷射光即所謂的藍紫雷射光,使得射束光點( spot)徑得以縮小化,進而達成軌距(track phch)縮小化,及 記綠標示(mark)之寬度及長度之縮小化,期能更加以提高 高記錄密度化。 然而,通常複製光之射束光點徑,係選定爲記綠標示寬 度之兩倍左右,俾能確實地讀出記綠標示。換言之,可供 形成於5己錄媒體之|己錄標示寬度’乃以可 A j小成馬複製光的 最小射束光點徑之1 / 2以下爲佳。 目前,記錄媒體之製造過程,例如就並 尼头成形所使用的原 -4- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21G X 297公餐— ί ^ --------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1241582 A7 B7 五、發明說明(2 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 盤之製造過程而言,通常,如圖9所示概略剖面圖,係採取 如下列步驟:在供構成原盤之基板101例如在玻璃基板上以 旋塗法形成光敏材料層102,然後,對於該光敏材料層 102,把雷射光1〇3用聚光透鏡104加以聚光,而例如按照欲 記錄的資料而予以照射,之後,則以顯像處理該光敏材料 層1 02 ’藉此以除去例如因雷射光照射而受到感光反應之區 域’而貫施光敏材料層102之型樣(pattern)化,然後以該光 敏材料層作爲遮罩而對於基板1 〇 1實施蚀刻,以形成對應於 記錄資料之微細凹凸。 按光敏材料之特性,如圖1 〇中r (伽馬)曲線之例子所 不,係具有在某一曝光量之値以上之曝光量下會急劇地亦 即大致以階段狀作感光反應之特性,因此,對於該光敏材 料,與以具有圖11Α中曲線2〇1所示雷射光功率分布之雷射 光進行曝光之場合相較,若使用具有比該功率具有更大功 率的圖1 1Β中曲線202之雷射光功率分布之雷射光而進行曝 光時,其在光敏材料層102中實質上的感光反應區域2〇2a, 與曲線201之雷射光功率分布之場合的感光反應區域2〇h相 較下,雖會擴大一些,但其擴展程度並非比照曝光功率增 加之幅度。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 因此,在上述例如記錄媒體製造用原盤之製造步驟中, 邊使該雷射光例如藉由上述基板101之旋轉而在光敏材料層 102上進行例如源旋狀之掃描,邊進行藉由例如圖i2A中曲 線2〇3所示發光模式之曝光時’如圖12B所示,便可在基板 1〇1上之光敏材料層102形成依照雷射光照射型樣的曝光部 本紙張尺度適用T國國家標準(c卿A4規格⑽x 297公髮 1241582
發明說明( 1〇2Α,然後,以顯像處理例如將該曝光部除去,而以該光 敏材料層102作爲蝕刻遮罩對基板1〇1實施蝕刻所形成2微 細凹凸,則如在圖12c中例如以作爲其記綠標示之凹部 俯視圖所示,當可形成爲安定的型樣。 [發明所欲解決之課題] 然而,Μ方法對於光敏材料層的曝光照射雷射光之聚焦 控制上,則有問題存在。 就疋説,孩照射雷射光之聚焦控制方法,雖可採取以檢 ,來自於光敏材料層的雷射光返回光之方法而實施,但 疋,由於光敏材料層對於所使用之雷射光卻呈透明,因 而,如欲以檢測該返回光之方法實施聚焦控制乃是極端 難。 於疋’通常對於該光敏材料層之雷射光照射,則須採取 與孩曝光雷射分開使用不同波長的聚焦位置調整用雷射 光’例如紅色之He (氦)Ne (氖)雷射光之方法。 惟在此種情形下,由於其需使用聚焦位置調整用雷射光 與執行曝光的雷射光之兩種雷射光,因此,必須施予高精 度的兩種雷射光之相互位置對準。 加之’這些雷射光仍需依賴共同的聚光透鏡進行調焦, 准如將這些雷射光以準直·光(collimated light)狀態而入射於 聚光透鏡時’則因兩者波長互異,致聚焦位置也互異。 因此’這些聚焦位置之調整,理應預先作一些偏置調 整°此外’由於紅色的聚焦位置調整用雷射光之波長,比 用於曝光光敏材料層的雷射光之波長爲長,其聚焦深度也 -6- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格⑽x 297公爱) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 0 訂---------線· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1241582
亦即記錄用雷射之聚焦伯 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 廣闊,因而造成曝光用雷射光 置調整更加不容易。 二:::如上述,若使用聚焦位置調整用雷射光、與β 疋綠的⑽射光之兩種雷射光時,則有裝置複雜、大型化 使用麻煩等問題。 二:經由對於上述光敏材料層的型樣曝光所形編 U ’則將變得幾乎是依賴曝光使用的雷射光之射束 先點徑而定’以致於無從形成出超越光學界限之微細凹凸 型樣。因此,即使儘可能予以縮小複製用雷射光之射束光 點徑’但仍然不能在縮小至小於該複製雷射光的射束光點 徑之1/2下而形成。 再者,對於光敏材料層之型樣曝光裝置,也曾經開發電 子波束描畫裝置(electron beam writer)等以幫助形成微細型 樣,亦即高密度化,惟因該電子波束描畫裝置必須在高眞 芝中進行描畫作業,致該裝置則有變得大型且價昂之問題 存在。 本發明係在記錄媒體及記錄媒體製造用原盤之製造過程 中’具有對於形成於構成這些記錄媒體及記綠媒體製造用 原盤之基板上的材料層,按照記錄型樣照射雷射光之步驟 時’使其可在不必另行使用與該雷射光不同的聚焦位置調 整用雷射光下,實施聚焦控制,以解決使用聚焦位置調整 用雷射光時之上述諸問題。 另外,使記綠標示寬度能夠形成爲小於雷射光之射束光 點,以提高記錄密度。 -7- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ll· --------^---------1 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 1241582 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明( :夕二本:明係在記綠媒體及記綠媒體製 &裝置中,謀求其構造簡化、小型 及簡化維護作業。 門儿诛作万法、以 [课題之解決手段]
==記綠媒體之製造方法,係在記綠媒體之製 ^具有對於形成於構成該記綠媒體之基板上的材 ’·、’#照記錄型樣照射雷射丨之步戰,其材料^ 現出預定之反射率,可使該雷射光產光: ::由檢測該雷射光,實施照射雷射光對於材料層的L 另外,按照本發明之記綠媒體製造用原盤之 係在記綠媒體製造用原盤之製造過程中, 成二 構成該記錄媒體製造用原盤之基板上的材料層,按昭=錄 型樣照射雷射光之步w,其材料層對於雷 定之反射率,可使該雷射光產生返回光,:見出預 射光’實施照射雷射„於材料層的聚焦調整B。“该雷 發明之記錄媒體之製造裝置,係在記錄媒 眩之“料中,具有對於形成於構成 上的材料層’按照記綠型樣照射雷射光之步驟::; 其係用以保持構成記綠媒體之基板,該記錄媒 王面,以雷射光照射形成對於該雷射光具有 =Γ 且經由該雷射光照射而會形成變質部之散 敏材料層以作爲上述材料層;雷射光源部;調變手段,^ 係用以將供自雷射光源部之雷射光桉照記綠型樣加以調 ΙΓ------------------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -8- 1241582 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 五、發明說明( 變,並且予以碉變成較之該記綠型樣之周期爲高頻之頻 率;光學系統,其具有用於把雷射光聚光於上述材料層之 聚光透鏡系統;移動手段,其係用以相對於材料層移動雷 射光照射位置;以及聚焦調整手段,其係用以檢測來自於 上述材料層之雷射光的返回光而實施聚焦調整。 再者,按照本發明之記錄媒體製造用原盤之製造裝置, =在記錄媒體製造用原盤之製造過程中,具有對於形成於 構成孩記綠媒體之基板上的材料層,按照記錄型樣照射雷 ::之:驟,其包括:保持手段,其係用以保持構成記錄 媒,之基板,該記錄媒體至少在其一主面,以雷射光照射 形成相對於該雷射光具有預定之反射率,且經由該雷射光 照射而會形成變質部之熱敏材料層以作爲上述材料層;雷 射光源部;調整手段,其係用以將供自雷射光源部之雷: 光按照記錄型樣加以調變,並且予以調變成較之該記錄型 樣(周期爲高頻之頻率,·光學系統,其具有用於把雷射光 聚光於上述材料層之聚光透鏡系統;移動手段,其係用以 相對於材料層移動雷射光照射位置;以及聚焦調整手段, 其係用以檢測來自於上述材料層之雷射光的返 聚焦調整。 胃^ ,如上所述照本發明之記錄媒體及媒體製造用原盤之 製造方法’係具有對於形成於基板上之材料層按照記錄型 樣照射雷射光之步驟的記錄媒體之製造方法,而使並材料 2做成對於雷射光具有預定的反射率之構成,使該雷射光 月匕夠產生返回光’而藉由該雷射光本身之返回光檢測,實 .I.-------------------訂---------線 Γ%先閱讀背面之>i音?事項再填寫本頁) -9- 1241582 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明( 施聚焦調整,便可A τ m < 下,碓實地實施聚焦調整行聚焦調整所需雷射光 上Π照本發明之記錄媒體及媒體製造用原盤之製 以万法,由於不需要在高眞空 潔、小型之裝置。 1乍業’可構成間 [發明之實施形態] 本發明可適用於例如伸用彳斤媒士、 便用近场構成、短波長的藍紫雷射 光<記錄媒體。 按照本發明之記綠媒體之製造方法,係例如於^顯示其 一例 <概略俯視圖所示,製造例如形成有構成記錄標示 凹邵或凸邵所排列成微細凹凸2之記綠媒體時,可適用之。 按照本發明之記錄媒體之製造方法,係在記錄媒體之製 造過程中,在對於構成該記錄媒體的基板上所形成之材料 層,按照記錄型樣進行照射雷射光之步驟時,則將其材料 層例如以對於雷射光具有預定的反射率之熱敏材料層構成 之。 以如此方法,令將要對該材料層照射之雷射光本身產生 返回光,而藉由該返回光之檢測來實施照射雷射光對於材 料層的射束光點之聚焦調整。 在按照本發明之記綠媒體之製造方法,則首先準備將氧 化石夕(Si〇2)層形成於例如透明樹脂基板、或例如玻璃基板上 而製成的Si〇2基板,然後,在其上面被覆形成具有上述特 性的材料層之熱敏材料層。 接著,對於該熱敏材料層,使用按照目的之微細凹凸2的 -10 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) ----------------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1241582 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 五、發明說明(8 ) 型樣之型樣,亦即例如圖1的記錄標示1之排列型樣,或使 用咸型樣之反轉型樣下,照射雷射光,使熱敏 利 雷射光照射部之溫度上升而形成變質部。 曰利用 假設,照射雷射光在射束光點之功率分布,爲例如圖2中 曲線3,且在熱敏材料層之實質雷射射束光點爲㈣ 熱敏材料層之變質部’亦即溫度上升部4則將成爲比雷射束 光點SP爲狹小之區域。換言之,該變質部可使之小於帝射 射:光點’並且例如再進一步加以選擇雷射功率,便;使 其溫度上升區域4,亦即變質部寬度選定爲更小者。 附帶说明下,溫度上升區域4在射束光點移動方向上合 朝後方側變寬之原因,乃在於在該後方側的雷射光之實^ 照射時間會變得長之緣故。 接著,對於該熱敏材料層之照射雷射光,按照目的之微 細凹凸型樣施予強度調變。並且,假如欲記綠於記綠媒體 的記綠資料型樣爲例如圖3A所示型樣時,則與施予按照該 資料型樣的記錄資料信號之調變同時,如圖3β或圖%所 示,使用比該記綠資料信號之頻率高出例如數1〇〇 MHz之一 定的高頻信號加以調變。就是説,在光敏材料層,選擇性 地對於欲形成變質部之部分,實施具有大於可獲得使之產 生變質的溫度上升的位準以上之功率的雷射光照射,同 時’對於该邵分之雷射光照射,如圖3 b所示,實施藉由以 高頻率之接通·關斷反覆動作的脈衝雷射光照射之調變, 或是如圖3 C所示,在變質部的形成部之雷射光選擇性照射 方面,實施使功率在某一位準以上的反覆動作雷射光之功 -11 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) I. --------t--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1241582 A7
--------^---------^ i^wi (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1241582 A7 ___________B7___— 五、發明說明(10 ) 光照射邵後端變寬。換言之,寬度會因記錄標示長短而引 起變動。 士然而,如上述,若施予高頻調變使雷射光照射以斷斷續 %或以強弱反覆方式進行時,記錄標示即使爲長的情形下 也能抑制溫度上升,可形成經予改善標示長度的長短依存 性之變質部,進而形成標示型樣。 如上述,經施予雷射光照射固可形成變質部亦即微細凹 凸,但在本發明中,其材料層之熱敏材料層係使用具有預 定的反射率之構成,藉此以產生該雷射光之返回光。在本 發明則將此返回光用於聚焦伺服控制。 該聚焦伺服控制,如後述,可使用通常在光碟、光磁 碟、光相變型光碟等用於光記綠及/或複製之光拾取頭之利 用聚焦伺服構成的諸如··非點像差法、刀刀法、楔形棱鏡 法、臨界角法等。 另外,按照本發明之記錄媒體用原盤之製造方法,例如 於圖1顯示其一例之概略俯視圖所示,也可適用於製造例如 以射出成形法、雙p法等方法製造例如形成有排列構成記錄 標示1的凹部或凸部而成的微細凹凸2之記錄媒體所需原盤 之場合。 該原盤之製造方法,係先準備用於構成原盤之基板,然 後,在其上面形成例如熱敏材料層以作爲上述材料層。 接著,對該熱敏材料層,以雷射光照射成按照目的之微 細凹凸型樣,亦即例如構成圖1中記錄標示的凹部1之型 樣’或是將之予以反轉之型樣,使熱敏材料層形成該型樣 -13- 本紙張尺度適用中國國豕標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 0 訂---------線- 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1241582 A7 •、發明說明(11 ) 之變質部。 币f此種情形下’也使用與圖3之説明同樣地經施加調變之 雷射光實施照射。 微:後,將此熱敏材料層加以顯像,除去其變質部或未經 ^〈邵分’使光敏材料層型樣化。在此種情形下,如圖2 次明,也可形成比雷射射束光點狹小之變質部。 一,此種情形下,由於熱敏材料層受到型樣化,也可在該 了 =材料層形成微細凹&,因此,雖可以於此狀態下直接 2具有微細凹凸之記錄媒體使用,但在此種情形下,由 万、微細凹凸之深度(高低差)受到基於熱敏材料層厚度之規 定等限制,所以,可以該熱敏材料層作爲蝕刻遮罩,再以 例如各向異性蝕刻的RIE (反應性離子蝕刻)法將基板表面 蝕刻成一定之深度,便可形成具有預定深度之微細凹凸而 製造原盤。 這些原盤,如記述在本説明書開頭,係指衝壓模,或用 以轉印複製複數個該衝壓模之所謂的主版模,或用以轉印 複製複數個該主版模之所謂的母版模等。 在按照本發明之原盤之製造方法,也與記綠媒體之製造 方法同樣地使用熱敏材料層,並對其以雷射光照射而形成 變質部,即可形成更微細JL高密度之微細凹凸。 另外,經施予高頻調變使雷射光照射以間斷或強弱反覆 方式進行’便可形成標示長度之長短依存性獲得改善之微 細凹凸。 另外,在製作該記錄媒體製造用原盤時,也使其材料層 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -t 訂---------線. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -14 -
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1241582 五、發明說明( 之熱敏材料層採用具有預定的6私,套、 JI、疋的反射率 < 構成,藉此以產生 該雷射光之返回光。在本發明則腺兮、自, 仏个I明則和该返回光用於聚焦伺服 控制之用。 對於孩聚焦伺服㈣,也可使用通f之非时差法、刀 刃法、楔形棱鏡法、以及臨界角法等。 可供使用於上述按照本發明之記綠媒體之製造方法,及 記錄媒體製造用原盤之製造方法之熱敏材料層,可採用至 少使用兩層以上互不相同的構成材料,亦即至少使用第一 及第二材料層之疊層構造。然後,藉由照射雷射光所產生 溫度上升,使這些構成材料層間產生相互擴散或溶解而形 成由這些兩種以上材料經由混合或反應所產生之變質部。 另外,該熱敏材料層所使用之構成材料,則以無機材料 爲宜。 關於熱敏材料層之具體構成,可採用諸如:A丨(鋁)層與 Cu (鋼)層之疊層構造,A1層與Ge (鍺)層之疊層構造,^ (矽)層與A1層之疊層構造,以及Ge層與之疊層構造, 或是並非局限於這些雙層構造,也可採用三層以上之疊層 構造。另外,也可採取使用由會產生熱氧化現象之金屬例 如Ti (妖)、Ta (妲)等單層膜構造構成之熱敏材料層,而以 雷射光照射使其與空氣中氧氣進行反應而變質之構成。 對於熱敏材料層之照射雷射光,則以半導體雷射光特別 以短波長之藍紫雷射光(例如波長410 nm〜390 nm),例如由 GaN (氮化鎵)系雷射的雷射光爲宜。 藉由像此種短波長雷射,期以達成雷射光射束光點徑之 15 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) --------訂---------
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格⑵G X 297公爱 1241582 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(16 ) 組合構成光敏材料層12,並使用磷酸、水 ^合液’酒石酸溶劑與過氧化氫之混合液即可使之除: :外’光敏材料層12並非局限於構成爲多 米用:如可經由熱氧化現象而形成變質部 如㈣之單層構造。此時,則以雷射光照射Li 2氣中氧氣進行反應以使其變質。 /…、 如上述’本發明由於可由無機材料構成多層或單層光敏 材料層並以濺鍍法或眞空蒸鍵法等實施成膜,因此,愈例 如與如以往通常所使用光敏材料層時所採取旋塗法之成膜 万法相較,可形成各部皆均勻的薄薄膜厚。 因而,可確實地形成例如微細記綠標示等的微細凹凸。 另外,如上述,由於以經予型樣化之光敏材料層12作爲 遮罩並例如以R歸對基板llf施蚀刻處理而形成微細凹凸 15,因此,能回避如在以光敏材料層丨2本身形成微細凹凸 之場合時會因光敏材料層12之厚度、剖面形狀而依存於微 細凹凸之深度、形狀之缺點。 接著,説明按照本發明之原盤製造方法實施例,該原盤 之製造方法也可按照於圖4及圖5所説明之方法實施,惟製 造該原盤時,基板1 1則由構成原盤的基板構成之。然而在 此種情形下,也可使用例如上述Si〇2基板。 再者,如上述方法所製得於圖5D所示原盤26,可當做衝 壓模使用,也可將該原盤26當做用以反轉複製衝壓模之主 版模使用,也可將該原盤26當做用以反轉複製主版模之母 版模使用。 -19-
0^--------tr---------_ 」請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 1241582 A7 五、發明說明( (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 、而且,使用依如上述方法製得之衝壓模,以射出成形 法、雙P法形成具有目的微細凹凸之記綠媒體基板,並對此 以與上述製造記綠媒體方法同樣地施予例如,反射膜、保 護膜、或有時候則施予各種記綠層之成膜,即可製得目的 之例如光碟、光磁碟、相變光碟等。 另外,按照本發明之記綠媒體之製造方法,如於圖6顧示 其一例子之概略構成所示,係包括··保持手段41,其係用 以保持構成記錄媒體例如圓板狀基板丨丨,該記綠媒體係經 予被覆形成例如由熱敏材料層構成且具有預定的反射率之 材料層(未圖示雷射光源部42;調變手段,其係用以將 供自該雷射光源部42之雷射光13按照記錄型樣加以調變, 並且予以調變成較之該記錄型樣之周期爲高頻之頻率;光 學系統45,其具有用於把雷射光聚光於基板u上之材料層 之聚光透鏡系統44 ;移動手段,其係用以相對於材料層^ 動雷射光照射位置;以及聚焦調整手段5〇,其係用以檢測 來自於材料層之變質邵的返回光而實施聚焦調整。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在圖6之構成中,光學系統45係具有偏光射束***器48、 1/4波長板49、聚光透鏡(物鏡)系統44,與構成例如依非點 像差法之聚焦調整手段50之光學系統,例如聚光透鏡5/, 以及用於以散焦狀態下產生非點像差或非點隔差之手段 52,例如圓筒透鏡、平行平板玻璃等。 聚焦位置調整手段50之聚焦伺服信號檢測電路,係包括 例如由具有圖8所示四分割式構成的光二極體構成之光檢器 53,以及差動放大器54,而可由差動放大器54將來自於光 -20 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1241582 A7 B7 五、發明說明(18 檢态53的相對光二極 把凡件彼此的檢測輸出之差取出,以 作局聚焦伺服信號。 並且例如在恰好呈對隹 了…、< 狀悲下’使返回光之射束光點 以圓形光點入射於光拾、 、 备53<中心邵,即可使檢測信號變 成例如零。與此相對, 口 μ 右主政焦狀悲,則因非點像差或非 :=上手& 52 ’對於光檢器53之光點就相對於中心變成非 對稱:而可取出檢測信號亦即,聚焦伺服信號。 另方面I光透銃(物鏡)44係爲致動器55所保持,並由 聚焦飼服信號執行其位置控制,以實行聚焦調整。 至於移動手段,其係由滑動台56構成,在其上至少配置 包含聚光透鏡44之光學系統45,並構成爲可使雷射光此 照射位置在基板11上朝例如半徑方向移動自如。 另外基板11係由例如保持手段41加以旋轉驅動,並由 與上述移動手段亦即滑動台56之協同下,可使雷射光13在 基板11上之材料層#即熱敏材料層丨進行同心上之 渦旋狀之掃描。 — 雷射光13係經由高速調變器47及低速調變器46,如已在 圖3加以説明,施予由_定的高頻信號之調變與由記錄資料 信號之調變。 消 訂 線 雷射光源部42,可使用以不依賴半導體雷射的如氬氣體 雷射等雷射之形態,與更使其具備例如波長變換器而以短 波長雷射之形悲而取出之構成。在此種情形下,如圖6所 不,則將低速調變器46與高速調變器47佈局於由雷射光源 邵42發射經由光學系統45往基板11的雷射光13之光路中。' 21 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公爱) 1241582
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 低速調變器46係由例如以圖3説明之記錄資料信號執行缔 射光13(調變,而高速調變器47則由以圖3説明之—: 頻仏號執行雷射光13之調變。 =、 該低速調變器46可使用利用各種習知調變器,例如,帝 光(E0)效應、聲光(A〇)效應、其他各種效應之調變器。^ 另外,高速調變器47則可使用例如曾由K〇sat〇 (大里 K. Yamamoto (山本)’ Ichimura (市村),f (前田卜’ Y.Kasami (風見),M.Yamada (山田)發表於光學資料 98 :報山揚科羅拉多(Aspen ,幻第〜%頁之“使用 合里10 GB以上《可重複寫入光碟系統,,篇中之調變器。 依如上述方法’即可由雷射光13對於基板"上之材料声 施予雷射光照射,亦即,形成熱敏材料層之變質部。9 另外’在圖7顯示概略構成圖之例中,在雷射光源部⑽ 由半導體雷射構成之情形下,在圖7中與圖6相對應之部分 則附以同-符號並省略其重複的説明,惟此時之調段 4 3則將對於半導體雷& >Γ Λ +、六 丁 干亨田射惑,王入電泥以上述記錄資料信號盥 一定的高頻信號使之調變。 經由上述本發明裝置對熱敏材料層實施雷射光照射之 後’則依照上述本發明方法,實施熱敏材料層之顯像'蝕 刻等處理,以製得具有微細凹凸之記錄媒體。 " 另方面,對於按照本發明之記綠媒體製造用原盤之製造 方法’亦可採用與圖6及圖7所示構成相同構成,而在這些 ^中基板保持手段41就是用於保持原盤構成基板之構成。一 上述例子中,聚焦調整手段係依非點像差法而構成 i. --------訂--------- f請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁〕 -22- 經 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 作 社 印 1241582 、發明說明(2〇 合,惟如曾加以令明 u 界角法等各種習:方法可採用刀…楔形稜鏡法、臨 如按照本發明夕 原盤之製造方半σ、彔媒體之製造方法及記錄媒體製造用 小型,且價廉i ’便可製成簡潔的構成,因此,可構成爲 特別是依照圖7户斤;4益丄、+ 成爲小型且_ η 時,μ使用半導體雷射即可構 減少維謾作業 ,不但可達成低價格化也可格外地 二匕:’!形下’半導體雷射若使用GaN系等短波長雷射,便 ^成更小的微細凹凸,以達成高密度化。 ,二t述’本發明可製得具有微細凹凸之記錄媒體,例如 :專用光碟,以及可寫入的光碟、光相變型光碟、光磁 、,磁碟,且也並非局限於所謂的圓板狀碟片,而可適用 於製造其他形狀例如利用卡片形狀之記錄媒體之場合。 就是説,本發明在最後形成的記錄媒體上之微細凹凸, 並:局,於所謂的凹洞(pit),也可做成具有溝槽(一 <構成等,可適用於各種構成。 [發明之效果] 、如上述,按照本發明之記錄媒體或記錄媒體製造用原盤 <製造方法,由於其係對於所使用之雷射光具有所需反射 率之材料層12,係由例如熱敏材料層構成,且以該雷射光 本身之返回光檢測聚焦伺服信號,因此,可回避統技 術必須使用與該雷射光個別的紅色雷射光等,藉此便可。 避複雜的構成及調整,同時,也可簡化其操作。 I. --------^---------^—^1 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -23- 1241582 A7 五、發明說明(21 ) 另方面由太不再使用通常方式之光敏材料層而使用熱 敏材料層,且採用對此照射雷射光以使其形成熱變質之部 分,再經由顯像處理除去該變質部或非變質部而型樣化之 方法便可以田射光射束光點在寬窄之加熱區域形成變質 部,因此,經使用該方法所形成之微細凹凸,可形成爲雷 射光射束光點的光學界限以下之微細型樣。 因而,可構成高記錄密度、高解析度之記錄媒體。 、另t面,對於該熱敏材料層之雷射光照射,例如以記綠 資料信號予以調變,同時以頻率較此爲高的一定高頻信號 施予調變,即可有效率地回避形成長的型樣時因雷射光照 射之μ度上升而在雷射移動之後方側,熱敏材料層上的變 質邵型樣寬度會變寬之現象。 訂 因此,無論型樣之長短,可把熱敏材料層上的變質部型 樣確實地形成爲目的型樣,最後,可製得高記綠密度、且 高解析度之記綠媒體。 線 另外,按照本發明之記錄媒體及媒體製造用原盤之製造 裝置,由於不必設置高眞空室,可做成簡潔、小型而廉價 之裝置,或構成維護簡單的裝置,且可確實地製得高記錄 密度之記綠媒體。 如按照本發明之記錄媒體之製造方法、記綠媒體製造用 原盤之製造方法、記錄媒體之製造裝置、以及記錄媒體用 =盤之製造裝置,即可確實地製造高記錄密度之記綠媒 體,因此,對於製造有關光記錄或光再製篇段所述近場構 成,或製造使用短波長的藍紫雷射光之記綠媒體時,特別 -24- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格⑵㈣97公髮 22 1241582 五、發明說明( 有益。 [圖式之簡單説明j 圖1係由按照本發明夕^你 製造方法所θ π、綠媒髖及記錄媒體製造用原盤之 万法所I仵目的之微細 FI 9你翩—士拉 凸土樣 < 一例子俯視圖0 圖2係4不在本發明方法 上升區域間之關係圖。 ㈣印射^功率分布與溫度 圖3係按照本發明之記錄 、止女、土今币紅L 綠媒肢及記錄媒體製造用原盤之製 以万法之雷射光碉變方法鳍 农 ^ B A C # ^ ^ ^ "圖,/、中之Α係顯示資料型 银 B及C係顯7JT雷射弁昭』 樣。 了尤照射型樣,D係顯示微細凹凸型 原::中照本發明之記錄媒體及記綠媒體製造用 原1製以万法足各一例子步驟圖(其一)。 圖5中之A〜D係按照本發明々4掉 、 、 Λ月又5己綠媒體及記綠媒體製造用 原i之製k万法之各一例子步驟圖(其二)。 圖6係按本發明(記綠媒體及記錄媒體製造用原盤之製 造裝置之一例子構成圖。 圖7係按照本發明 < 記綠媒體及記錄媒體製造用原盤之製 造裝置之其他一例子概略構成圖。 圖8係顯示聚焦伺服信號取出電路之一例子圖。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖9係用以説明使用以往之光敏材料,例如原盤之製造方 法之概略剖面圖。 圖1 〇係光敏材料之r (伽馬)曲線圖。 圖11係用以説明以往方法之圖,其中a&b係分別顯示雷 射光功率分布與感光反應區域之關係圖。 -25- 本紙張尺度適用中關家標準(CNS)A4規格⑵㈧撕公爱) 1241582 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 __________B7 五、發明說明(23 ) 圖12係用以説明以往方法之圖,其中a係雷射光型樣圖, B係曝光型樣圖,C係凹部型樣圖。 [符號之説明] 1 ··· €錄標示,2 ···微細凹凸,3…雷射光功率分布曲線, 4···溫度上升區域,11…記錄媒體或原盤構成基板,12…熱 敏材料層,12a…第一材料層,12b…第二材料層,12s…變 質邵,13…雷射光,15…微細凹凸,丨6·.·原盤,41…保持 手段,42…雷射光源部,43…調整手段,44···聚光透鏡(物 鏡)系統,45…光學系統’ 46 ···低速調變器,47…高速調變 器’ 48···偏光射束***器,49··· 1/4波長板,50···聚焦調整 手段’ 5 1…聚光透鏡,52…非點像差或非點隔差手段, 5 3…光檢器,5 4…差動放大器,5 5…致動器,5 6…滑動 台’ 10卜··基板,102…光敏材料層,103···雷射光,1〇4_" 聚光透鏡,201、202…雷射光功率分布曲線。 -26- $紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐了 —r!.--------#--------訂---------線#· (請先閱讀背面之注音?事項再填寫本頁)
Claims (1)
- 為年?取7日 修正 A B CD1241582 第〇9〇1〇4325號專利申請案 中文申請專利範圍替換本(93年9月) 六、申請專利範圍 1· 一種記錄媒體之製造方法,係在記錄媒體之製造過程 中’具有對於形成於構成該記錄媒體之基板上的材料 層’按照記錄型樣照射雷射光形成變質部之步驟;以及 其後之實施對於上述材料層之顯像處理,除去上述材料 層之變質部或非變質部,以使上述材料層型樣化之步 驟; v 其材料層係由熱敏材料層所構成,對於上述雷射光會 呈現出預定之反射率,可產生該雷射光之返回光,藉由 檢測該雷射光實施該雷射光對於上述材料層的光點之聚 焦調整。 " 2.如申請專利範圍第1項之記錄媒體之製造方法,其中之 雷射光為半導體雷射光。 3_如申請專利範圍第1項之記錄媒體之製造方法,其中之 雷射光為藍紫雷射光。 4·如申請專利範圍第1項之記錄媒體之製造方法,其中之 雷射光係對於上述材料層以聚光透鏡使之聚光,上述聚 焦調整係藉由移動上述聚光透鏡之位置而實施。 5·如申請專利範圍第1項之記錄媒體之製造方法,其中以 上述經予型樣化之上述材料層作為遮罩而在構成上述記 錄媒體之基板上形成微細凹凸型樣。 6·如申請專利範圍第1項之記錄媒體之製造方法,其中按 照上述記錄型樣對於由上述熱敏材料層所構成材料層的 雷射光之照射,係以調變成較之上述記錄型樣之周期為 高頻的頻率之雷射光實施。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) 六、申請專利範圍 其中之 7·如申請專利範圍第1項之記錄媒體之製造方法 熱敏材料層係由無機材料構成。 8·如申凊專利範圍第1項之記錄媒體之製造方法,其中 上述熱敏材料層具有由互異的構成材料且至少由第一 及第二之材料層構成之疊層構造,且 溶射光照射的溫度上升,使其產生相互擴散或 ::㉚至少由第-及第二材料層的構成材料之混 a或反應而形成上述變質部。 λ如申請專利範圍第1項之記錄媒體之製造方法,1中 上述熱敏材料層具有由互異的構成材料且由無機材料 所構成至少由第一及第二之材料層構成之叠層構造,且 以上述雷射光照射的溫度上升,使其產生相互擴散或 溶解並以上述至少由第—及第二材料層的構成材料之混 合或反應而形成上述變質部。 10·如申請專利範圍第1項之記錄媒體之製造方法,其中以 四f敍Α氧化物水溶液實施上述材料層之顯像處理。 11·如申請專利範圍第5項之記錄媒體之製造方法,其中以 上述經予型樣化之上述材料層作為_罩而以反應性離子 蝕刻在構成上述記錄媒體之基板上形成微細凹凸型樣。 12· —種記錄媒體製造用原盤之製造方法,係在記錄媒體製 造用原盤之製造過程中,具有對於形成於構成該記錄媒 體製造用原盤之基板上的材料層,按照記錄型樣昭射雷 射光形成變質部之步驟;以及其後之實施對於上述 '材料 層之顯像處理,除去上述材料層之變質部或非變質部, -2-1241582 I a 六、申請專利範園 以使上述材料層型樣化之步驟; 其材料層係由熱敏材料層所構成,對於上述雷射光會 呈現出預定之反射率,可產生該雷射光之返回光,藉由 檢測該雷射光實施該雷射光對於上述材料層的光點之聚 焦調整。 13. 如申請專利範圍第12項之記錄媒體製造用原盤之製造方 法’其中之雷射光為半導體雷射光。 14. 如申請專利範圍第12項之記錄媒體製造用原盤之製造方 法’其中之雷射光為藍紫雷射光。 15·如申請專利範圍第12項之記錄媒體製造用原盤之製造方 法,其中之雷射光係對於上述材料層以聚光透鏡使之聚 光,上述聚焦調整係藉由移動上述聚光透鏡之位置而實 施。 16·如申請專利範圍第12項之記錄媒體製造用原盤之製造方 法,其中以上述經予型樣化之上述材料層作為遮罩而在 構成上述記錄媒體製造用原盤之基板上形成微細凹凸型 樣。 17·如申請專利範圍第12項之記錄媒體製造用原盤之製造方 法,其中按照上述記錄型樣對於由上述熱敏材料層所構 成材料層的雷射光之照射,係以調變成較之上述記錄型 樣之周期為高頻的頻率之雷射光實施。 18·如申請專利範圍第12項之記錄媒體製造用原盤之製造方 法’其中之熱敏材料層係由無機材料構成。 19.如申請專利範圍第12項之記錄媒體製造用原盤之製造方 A8 B8 C812 侧 2” _—— —______D8 六、申請專利範圍 法,其中 上述熱敏材料層具有由互異的構成材料且由至少由第 一及第二之材料層構成之疊層構造,且 以上述雷射光照射的溫度上升,使其產生相互擴散或 溶解並以上述至少由第一及第二材料層的構成材料之混 合或反應而形成上述變質部。 20. 如申請專利範圍第12項之記錄媒體製造用原盤之製造方 法,其中 上述熱敏材料層具有由互異的構成材料且由無機材料 所構成至少由第一及第二之材料層構成之疊層構造,且 以上述雷射光照射的溫度上升,使其產生相互擴散或 溶解並以上述至少由第一及第二材料層的構成材料之混 合或反應而形成上述變質部。 21. 如申請專利範圍第12項之記錄媒體製造用原盤之製造方 法,其中以四甲銨氫氧化物水溶液實施上述材料層之顯 像處理。 22·如申請專利範圍第16項之記錄媒體製造用原盤之製造方 法,其中以上述經予型樣化之上述材料層作為遮罩而以 反應性離子蝕刻在構成上述記錄媒體製造用原盤之基板 上形成微細凹凸型樣。 23· —種記錄媒體之製造裝置,係在記錄媒體之製造過程 中,具有對於形成於構成該記錄媒體之基板上的材料 層,知:照記錄型樣照射雷射光之步驟,特徵在於包括·· 保持手段,其係用以保持構成上述記錄媒體之基板, -4 - 本紙張尺度適财關家鮮(c$) A4^(2igx297公楚)1241582"亥冗錄媒體至少在其一主面經以雷射光照射而形成有對 於該雷射光具有預定之反射率之材料層; 雷射光源部; 调炎手#又’其係用以將供自雷射光源部之雷射光按照 。己錄型樣加以調變’並且予以調變成較之該記錄型樣之 周期為兩頻之頻率; 光學系統’其具有用於把雷射光聚光於上述材料層之 聚光透鏡系統; 移動手奴’其係用以相對於上述材料層移動雷射光照 射位置;以及 聚焦调整手段,其係用以檢測來自於上述材料層之雷 射光的返回光而實施聚焦調整。 24. 如申印專利範圍第23項之記錄媒體之製造裝置,其中之 凋整手段係包括高速調變器與低速調變器。 25. 如申吻專利範圍第23項之記錄媒體之製造裝置,其中 上述雷射光源部係由半導體雷射構成, 上述凋整手段係作成為用以調變對於上述半導體雷射 的注入電流之構成。 26· -種記錄媒體製造用原盤之製造裝置,係在記錄媒體製 造用原盤之製造過程中,具有對於形成於構成該記錄媒 體製w用原盤之基板上的材料層,按照記錄型樣照射雷 射光之步驟,特徵在於: 保持手&,其係用以保持構成上述記錄媒體製造用原 盤之基板,該記錄賴至少在其—主面經以雷射光照射 -5-A B c D 六、申請專利範圍 而形成有對於該雷射光具有預定之反射率之材料層; 雷射光源部; δ周變手段,其係用以將供自雷射光源部之雷射光按照 °己錄型樣加以調變,並且予以調變成較之該記錄型樣之 周期為高頻之頻率; 光學系統,其具有用於把雷射光聚光於上述材料層之 聚光透鏡系統; 移動手段’其係用以相對於上述材料層移動雷射光照 射位置;以及 聚焦調整手段,其係用以檢測來自於上述材料層之雷 射光的返回光而實施聚焦調整。 27·如申凊專利範圍第26項之記錄媒體製造用原盤之製造裝 置’其中之調整手段係包括高速調變器與低速調變器。 28.如申請專利範圍第26項之記錄媒體製造用原盤之製造裝 置,其中 上述雷射光源部係由半導體雷射構成, 上述調整手段係作成為用以調變對於上述半導體雷射 的注入電流之構成。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI385655B (zh) * | 2006-11-22 | 2013-02-11 | Sony Corp | Reproducing special type optical disc medium and manufacturing method thereof |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1820313A (zh) * | 2004-03-12 | 2006-08-16 | 松下电器产业株式会社 | 直接母模化的压模的制造方法、使用该方法制造的压模及光盘 |
JP2005258280A (ja) * | 2004-03-15 | 2005-09-22 | Sony Corp | ディスク原盤製造方法、製造装置およびディスク原盤 |
TWI348408B (en) * | 2004-04-28 | 2011-09-11 | Olympus Corp | Laser processing device |
US20060275537A1 (en) * | 2005-06-02 | 2006-12-07 | The Regents Of The University Of California | Method and apparatus for field-emission high-pressure-discharge laser chemical vapor deposition of free-standing structures |
US7626682B2 (en) * | 2006-04-13 | 2009-12-01 | Infineon Technologies Ag | Reticle stages for lithography systems and lithography methods |
CN102284789A (zh) * | 2011-07-27 | 2011-12-21 | 苏州德龙激光有限公司 | 激光刻蚀oled显示器阴极薄膜材料的装置及其方法 |
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US9704622B2 (en) * | 2014-03-07 | 2017-07-11 | Lawrence Livermore National Security, Llc | Laser-controlled optical transconductance varistor system |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3829605A (en) * | 1971-07-20 | 1974-08-13 | Ted Bildplatten | Carrier and method for recording a signal thereon |
JPS5472009A (en) * | 1977-11-18 | 1979-06-09 | Mitsubishi Electric Corp | Information signal recording carrier |
US4320486A (en) * | 1980-01-11 | 1982-03-16 | Advanced Integrated Design, Incorporated | Transferring information signals from a first to a second recording medium |
JPS5857644A (ja) * | 1981-09-30 | 1983-04-05 | Fujitsu Ltd | 情報記録盤の製造法 |
US4454221A (en) * | 1982-04-08 | 1984-06-12 | At&T Bell Laboratories | Anisotropic wet etching of chalcogenide glass resists |
US4729940A (en) * | 1986-05-16 | 1988-03-08 | Cbs Inc. | Method of manufacturing master for optical information carrier |
LU86722A1 (fr) * | 1986-12-23 | 1988-07-14 | Glaverbel | Feuille en matiere vitreuse portant un dessin grave et procede pour graver un dessin sur un substrat en matiere vitreuse |
JPH01239938A (ja) * | 1988-03-22 | 1989-09-25 | Sharp Corp | パターン形成方法 |
US5291470A (en) * | 1988-03-28 | 1994-03-01 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical information recording method |
JP3068878B2 (ja) * | 1991-04-10 | 2000-07-24 | ティーディーケイ株式会社 | 光ディスク原盤の作製方法 |
JP2844996B2 (ja) * | 1991-11-26 | 1999-01-13 | 松下電器産業株式会社 | 光ディスクへの記録方法 |
JP2868682B2 (ja) * | 1992-05-15 | 1999-03-10 | シャープ株式会社 | 光ディスク |
JPH06111334A (ja) * | 1992-09-24 | 1994-04-22 | Sony Corp | 円盤状記録媒体用の記録及び/又は再生装置、光検出器及び光ヘッド |
JPH0935269A (ja) | 1995-07-19 | 1997-02-07 | Mitsubishi Chem Corp | 光学的情報記録媒体の記録方法 |
JPH09161298A (ja) * | 1995-12-11 | 1997-06-20 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | 光記録原盤のマスタリング装置および方法 |
JPH09237420A (ja) * | 1995-12-28 | 1997-09-09 | Sony Corp | 光学記録方法、光学記録装置及び光学記録媒体 |
JPH10177722A (ja) * | 1996-12-16 | 1998-06-30 | Seiko Epson Corp | 記録装置 |
US6030556A (en) * | 1997-07-08 | 2000-02-29 | Imation Corp. | Optical disc stampers and methods/systems for manufacturing the same |
JPH11265509A (ja) * | 1998-01-07 | 1999-09-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光学的情報記録再生方法および光学的情報記録媒体 |
CN1233824A (zh) * | 1998-04-24 | 1999-11-03 | 松下电器产业株式会社 | 光盘的记录再生方法及光盘记录再生装置 |
JP2000276782A (ja) * | 1999-03-25 | 2000-10-06 | Seiko Epson Corp | スタンパ及び光ディスク |
JP2001143348A (ja) * | 1999-11-18 | 2001-05-25 | Sony Corp | 光ディスク駆動装置および記録再生装置 |
JP4106847B2 (ja) | 2000-02-28 | 2008-06-25 | ソニー株式会社 | 記録媒体の製造方法、記録媒体製造用原盤の製造方法、記録媒体の製造装置、および記録媒体製造用原盤の製造装置 |
JP4329208B2 (ja) * | 2000-03-02 | 2009-09-09 | ソニー株式会社 | 記録媒体の製造方法、記録媒体製造用原盤の製造方法、記録媒体の製造装置、および記録媒体製造用原盤の製造装置 |
-
2000
- 2000-02-28 JP JP2000051957A patent/JP4380004B2/ja not_active Expired - Fee Related
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2001
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2005
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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TWI385655B (zh) * | 2006-11-22 | 2013-02-11 | Sony Corp | Reproducing special type optical disc medium and manufacturing method thereof |
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