TWI236386B - Vapor-liquid contact trays and method employing same - Google Patents

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TWI236386B
TWI236386B TW092120715A TW92120715A TWI236386B TW I236386 B TWI236386 B TW I236386B TW 092120715 A TW092120715 A TW 092120715A TW 92120715 A TW92120715 A TW 92120715A TW I236386 B TWI236386 B TW I236386B
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Ralph H Weiland
Charles A Griesel
Michael R Resetarits
Johnny B Riter
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Koch Glitsch Lp
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Description

1236386 玫、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係指一種質量傳遞及熱交換分餾塔,尤指該等分顧塔中所 用的汽液接觸塔盤。 【先前技術】 現已開發出種種不同型式的汽液接觸塔盤,以便使直立圓柱形狀 之質量傳遞及熱交換分餾塔内的上升蒸汽流與下降液流之間易於接 觸。通㊉,係將若干這類的塔盤以橫向延伸及縱向隔開的關係設於分 餾塔的一開敞内部區域中。該等塔盤設有一個配置若干開口的接觸區 或作用區,以便讓蒸汽能往上流雜座喃流職盤座上表面的液體 互相作用。在盤座之作用區上所發生喊液互相作时形成一種泡 沫,以致有助於達成意欲的質量傳遞和/或熱交換。另外,大部份的塔 盤也设有較大的開口及稱為降流管的相關結構,以便在液體與上升蒸 汽互相作用後,可將液體㈣座清除。其後,㈣係從降流管往下導 至位在下方之塔盤上的一個通常不開孔的液體容置或入口區。 在已知的單通交又流的汽液接觸塔盤中,入口區通常是設在拔般 的-端,然後讓液體流過整個塔盤而到該塔盤的另—端,並於今處= 進-降流管,以便通往下方的塔盤。另就多通塔盤而言,是在^少: 些的塔盤上設有二支以上的降流管,再將液體分成二道以上的液流, 並使其朝相反方向流過任一塔盤。 前述那粧讀翻轉盤所遭·—個問職料㈣從入口區 流過塔盤_降流管時,難以確保驗體的流量—致。由於塔盤的形 狀為圓形’沿著塔盤周邊流動的液體,其流動的距離大於沿著塔盤中 心流動的紐。結果,可能會演變出停滯流的地區,因而減低液汽的 互相作用和效率。 / 1236386 /頒給Kittel的美國第Μ45·號專利案中揭示的汽液 般 係將-中心降流管和一外環式降流管用於交替的塔盤上降^ 然後再從其餘塔盤的周邊流到中心路徑流動’ =能力。雖__案中::==== 塔盤先進許多,但仍有其它各種改進之處。 種π液接觸 【發明内容】 树_-方面係指—種f量傳遞讀塔,其設有—铜以界定 tr部輯的外殼體。在·内輕域内設成若干彼此保持交 L縱向隔開關係的回行接觸塔盤及離心式接觸塔盤。回行接觸级盤 具有-盤座,該盤座設有至少一個開口以便將液體從上表面清除,。另 設有若干蒸汽通道以便使蒸汽可往上流過該回行盤座而在其上表面上 與液紅相作用。離心式接觸塔盤具有一盤座,該盤座設有一上表面, ^邊與若干蒸汽通道以便使蒸汽可往上流過該離心式盤座而在其上 面上人液體互相作用。至少一支中心降流管從回行盤座的開口處往 :延伸’該降流管設有—個在離心式接觸盤座上方與其_的下方排 放出口,以便將液體進給到該離心式接觸盤座上。至少一支環式降流 諸離心式盤座關邊往下延伸,該降辭設有—個在回行盤座上二 與其隔開的下方排放出口,以便將液體進給到該回行盤座上。在一實 =例中’至少一個離心式接觸塔盤在上方與鄰接一個回行接觸塔盤相 的距離大於至少一個回行接觸塔盤在上方與鄰接一個離心式接觸塔 的距痛。盤座的療汽通道可以是閥、百葉孔、篩孔、斜篩孔或 ”二垔式的瘵尻通道。此外,閥蓋傾斜成與離心式或回行盤座其中之 二或—者的平面保持—角度,以防液體流人。在另-實施例t,係以 f的支承%來支承回行接觸塔盤與離心式接觸塔盤二者。在又一實 施例中,係於回行接解盤的上方設置—片以上的阻流板,據以阻礙 1236386 液體越過中心降流管。 、^方面’本發明係指—種制前述汽液接麟盤,而使蒸汽流 _ U a里傳遞分顧塔中互相混合的方法。此外,本 液接觸塔盤裝置。 ^ 【實施方式】 >見明4細參關式並以圖丨為先,所示的—座適用於質量傳遞及 熱交換過程的分娜大體上是以號碼2G表示。分餾塔2G包括-豎立 的外叙體22,該殼體的構型大致為圓柱形,但諸如多角形之類的其它 ,型亦可_,且均屬本發明的範圍。殼體可採肺—適合的直徑及 回度’並可用一種以上較佳冑分餾塔2〇内所存流體及條件無反應或與 其相容的適宜剛性材料製成。 ^ ^ 分顧塔20的型式屬於處理通f為液體及蒸汽流的各種液流所用 者’以便取得各種分嫌品和/或在該等錢之間產生質量傳遞或熱交 2。分餾塔20的殼體22界定出一開敞的内部空間,以便於其内细于 意欲的質量傳遞和/或熱交換。通常,液流包括一種以上的下降液流和 種以上的上升液流。或者,该等液流可以全是液流,或一氣流與一 液流。 液流可順著分餾塔20的高度而經由設於適當位置之合宜數量的進 料管線導送到分餾塔20。另應瞭解的是,有一道以上的蒸汽流可在分 館塔20内產生,而非經由某條進料管線被導入分餾塔2〇。此外,分顧 塔2 0通常也設有一條可供清除蒸汽產品或副產品的頂部管線和一條可 么、α除液體產品或副產品的底部液流輸送管線。這種種不同的進料和 〉月除管線’以及分鶴塔通常存有的其它組件,例如回流管線、重沸弯、 冷凝器、和汽笛等,因為在性質上均屬習用者,且據信並非瞭解本發 明之必要内容,所以在圖式中未予例舉說明。 1236386 有若干橫向延伸的第一或離心式接觸塔盤^與第二或回行接觸塔 二糸以彼此交替及縱向隔開的關係設於分館塔2〇的開敞内部區域 。各塔盤26和28分別包括一個橫向延伸的盤座3〇,該盤座則由若 干個別面板32㈣當方式接合而構成。離喊接鱗盤%之盤座% :形狀較佳為_或多角形,例如圖2所示之人㈣狀。回行接觸塔 28之盤座30的形狀較佳為圓形,以便與圖4所示之分潑塔殼體u 的形狀密切相符。各盤座3〇設有若干可讓蒸汽經由盤座3g上升的甚 道幻,以便與流過盤座3〇上表面的液體互相作周。如後文之詳: 討論,蒸汽通道33猶構方式是以可促航錄汽_定方向流動 因而能將液體朝意欲方向推送通過盤座3G為原則。就離心式接觸塔盤 %而言,蒸汽較佳以一個切向流動組件流出,以便促使液體從盤座°3〇 中〜到周邊往外打旋。在回行接塔盤28中,蒸汽較佳從盤座%周邊 到中心徑向往内推送液體。 攸圖2、圖3和圖6可以清楚看出,各離心式接觸塔盤%分別有 一個圓形或多角形的中心入口區34和一個沿著盤座3〇外周邊而形成 的外=環式降流管36。如® 4和® 5所示,回行接觸塔盤28各具有一 個通常為環形且位在上方離心式接觸塔盤26之環式降流管%下方的 外側入口區38,和一個位在下方離心式接觸塔盤26之入口區%下方 的中心降流管4〇。由於這種結構,所以液體便從最上方離心式接觸塔隹 的中“入口區34在外流,再沿著一條徑向或螺旋流動路徑穿過 盤座30,接著流入環式降流管36。其後,液體從環式降流管36往下 流,卸放到下方回行接觸塔盤28的環形入口 38,再沿著盤座3〇徑向 往内流到中心降流管40。流入中心降流管40的液體接著往下流,再卸 放到下方離心式接解盤26的中心人π區34。其後,液體對各後續的 成對接觸i合盤26和28仍如前述般沿著流動路徑繼續。 接觸塔盤26和28上的入口區34與38較佳為無孔式,以防止液 體因為本身的下向動量而滲透入口區34和38。其它可供防止或阻止液 - 1236386 體渗透的手段亦可用來取代無孔式入口區34和38或與其合用。舉例 來說,可將入口區34和38其中—個或全都升高到盤座%平面的上方, 以便讓蒸汽向上流過盤座30在升起之入口區34和38下方的部位。或 者’可將人π區34和38其中-個或全都下降到盤座3()平面的下方, 以便形成一凹坑。 各壞式降流管36分別設有-道從盤座3G外周邊往下延伸的縱向 口壁42。該人π壁42可以是單_的_壁面,或其形狀可以是 ,田右干平面或“區段構成的多角或多弓型形狀。無論如何,入口 2 2 R與盤座3〇外周邊的雜_致,並與讀塔殼體22往内隔開 :==;广口壁42與分峨體22之間的橫向間隔界定出- 個通彺降流官36的環型或多弓型形狀。 22,46從入口壁42的下緣向下延伸,並斜向分餾塔殼體 以界U—降辭出口 48。裙部46可以^個單一的平貝 错部46係由物或不連續的弓形段構成。在所示的實施例中, 殼體弓形段所構成,各該弓形段均往外彎向分鱗 它的構形亦 的中心部比相對的二個端部較接近殼體22。其 之間的橫向間)^、於只要㈣份或所杨部46下緣與分麟殼體22 可。以這;^所;二口壁42與分館塔殼體22之間的橫向間隔即 環狀面㈣㈣流可用的 於形成動態液難封閉流管出口招易 讓已跟流入P备、、、 令1吕36。較見的入口 44也可 流管36和在二礙^體!^的蒸汽向上排送,而非被載送通過降 -方二盤 加可供發蝴之汽液互相侧的「作^積’連帶在盤座3〇上增 同樣地,各回行塔盤28上的中心降流管」4〇也具有_道入口卵, 11 1236386 内二 =°:二面形成一入,一 裝效率入的^下;^變窄的液雜通運。為增進製造和域安 連接之扁平面板所形L的:接合並沿著一道接縫 :,下方盤座3〇之__ 口 構造的縱向裙部可從入口壁5 :姑®柱形或其匕 從縱向壁面形成入口 52,並以一道斜===成出口 54和/或可 部。如同環式降流管36,中,_ίΓ心4〇的中間或下方 成動態液體封閉,同時也增加下方』般^^:㈣於分離蒸汽和形 古… 下方塔盤26之作用區的可用空間。此外, 種構形能實現這些目標,且其均在 6〇予以支^盆觸塔盤26係由—個固設到中心支承管62的支承環圈 传r 7 ”下關由—樑板或其它用具予以支承,而中心支承板 、=者为綠塔20的中心軸往上延伸。各環式降流管%的入口壁42與 I接螺栓栓闕若干沿著分解殼體22 彼此隔開並被 $如匕法固設到該殼體的螺栓桿56。此外,降流管裙部奶還由若 干A者周邊隔開並被固設到下方盤座3〇的托架58予以支承。除了支 =功能外,托架58尚可將裙部46的下緣定賴與迦3()和分顧塔殼 體22相隔意欲距離之處。 =行塔盤28各由-個焊接或另以它法固設到分鱗殼體内表面的 承環64予以支承。另外也用拉條66將中心降流管4〇支承在下方離 心式塔盤26的盤座3G上,和將降流管出口 54定位到下方盤座%之 入口區34上方與其相隔意欲距離之處。此外還可用支承標(未顯示)加 強支承塔盤26和28,該等支承樑則可跟盤座板材32 —體成型,或另 行單獨構成。可瞭解的是,若將支承f &的支承環⑼無種的螺栓 桿56,拖架58和拉條66合用時,便可只用單一的支承環64,將其焊 接到分餾塔殼體22,即能支承各對塔盤26和28。因為支承管62之支 承環60的焊接件圓周遠比分餾塔22之支承環糾的焊接件小許多,所 12 1236386 :只的單-支承環來支承各對塔盤一 fm Μ __上均發樹目當財_省效用。 ^0 ㈣本發明—實施例可清楚看出,離心式接酿般Υ — 二=觸塔盤28相隔的繼於回行接觸塔盤28在:離 塔盤糖26和28的這_使得回行接觸 者,以容狱於㈣式·雜26上方所提供 ^上方所存在的—個較大的泡沬^ 度逐漸變窄4Q時,流動通道的寬 2M % 行接觸塔盤28上方堆積的高度較大。挞般 26在上方如/ 4 σ用18呼的間隔’改成離心式接觸塔盤 方轉心式接觸28相隔22十該回細_又轉而在上 間隔的it種倣广6相隔14吋。於回行接觸塔盤28上方採用較大 ==t Λ餾塔2G内不增加塔盤26和28之數量,以及 及效转程度不〜加5亥等塔盤所佔用之總面積的情況下,達到增進能力 播1 式接觸塔盤26和/或回行接觸塔盤28上方採用麵不同的 使蒸汽易於跟液體分離,和有助於液體流入降流管%及4〇,亦 可增進分鱗20的效率與能力。舉例來說,如圖7所示,有一片以上 、广辦Γ板68位在一個以上的回行接觸塔盤28上方,以供阻礙或阻播 液體越過巾心降流f 40和提供擊表面,使汽液胁分離。這此 可有種種不同的構形,例如轩在最上方離心式接觸塔盤% 方攸中心支承管26徑向延伸的縱向板片69,或在中間離心式塔盤 下方並具有-個圍住支承板62之巾心開口的倒錐體%。該錐體兀 具有若干平面«面的·面72,錄佳由二個社的區段組合,以 便易於安I在支承官62的周圍。在圖7最下方離心式接觸塔盤%下 方所不的另一實施例中’阻流板68採用若干獨立泡珠匯集板74的形 13 1236386 式,該等匯集板係朝著液流的方向往下彎 /多透,或完全不讓液體或蒸汽滲透。 旦一者 在則述之Kmel專利案所揭示那種塔盤中以制 ^外’另增設蒸汽通道33亦可提升分娜2()驗能,=开7成 圖4所Γ ’蒸汽通道33可以是固定或活動式的百i孔(未顯ΐ 6,而且定向成能對流過_ 3()的液體提供意定力、二 =㈣式接觸塔盤上的鱗百葉糊76蝴成與流出 健的初雖財向簡切向或其它角度的翻航。這種對 =的切_力使雜觀㈣動職偏㈣_侧旋㈣路徑^ ^供在盤座3G上較長的駐㈣間以及與蒸汽更完全的互相作用 ,汽易於跟㈣分離’和讓液㈣於流人環式降流管3卜雖然螺旋 流動路徑為較佳,但如有斜,亦可前觀或閥%適當定向而保持 或達到徑向或其它的流祕徑 另外,可崎式徑向延伸的葉片來取 代閥76 $與其配合使用’以便造成意欲的蒸汽及液體定向流動。間% 也可設在回行接趣28上’且適宜定向成能對㈣提供徑向往内的推 力。 另將瞭解的是,設於盤座30某些部份之百葉孔或閥76所提供的 定向推力,可能跟位在盤座30其它部份之百葉孔或閥76所提供者不 同。舉例來說,如圖2所示,位置最靠近入口區的閥76會遇到徑向流 動液體,所以可能需以一個近似徑向的淨蒸汽流動向量來定向,以便 液體不會流入和經由閥76向下滲透。此外,位置遠離入口區34的那 些閥76則會遇到螺旋液流,因而需以淨切向蒸汽流來定向。雖然圖2 中僅顯示二個取向,但其它的取向亦可採用,而且在某些應用中也較 適宜。 可供單獨或結合使用於盤座30上的閥76,其種類有市面上俗稱為 VG0和VG9的固定閥,和俗稱為MV1和MV9的活動閥。這些種類的 14 1236386 問:6通#是利用—個較寬的上游支腳,據以阻礙液體流入闊内。或者, 閥i可以Μ斜成與盤座3()的平面保持—角度,使液體無法流入和對液 體提供#乂大的定向推力。如有意時,可在盤座3G的不同部位採用不同 的傾斜角度。也可_百葉孔與閥76的組合,例如在最接近入口區34 的雜a又置百葉孔和在其餘部位設置闊%。另可單獨使用筛孔,且較 佳為斜篩孔丄或使其與前述的百纽和閥%合用。 在另-實施例中,若於中心降流管4〇内或其出口 54處設一旋轉 感應元件,則當液體從圖4所示的中心降流管4〇流出日夺,就可造成〆 個旋轉動作。這觀轉感應元件的範例包括在降流管出π 54設若干徑 向延伸的導葉。該轉討以是平,且其至対-部份或 全部的延伸方向係與垂直方向保持一角度。 此外還可選擇性分別在環狀和中心降流管%、之入口料、义 ,上存處⑨制板78。該等閘板78可有獨的高度,其巾與環式降流 首36相關之閉板的高度適宜比與中心降流管4〇相關的任一閉板高。 因為與回行接觸塔盤28上之液流相_液_度為負,所財心降流 管40宜不設闡勑。 圍。說日牀發明而6,非用以限制本發明之範 圍舉凡不延本發明精神所從事的種種修改或變化 屬本發明申請專利範圍。 a 【圖式簡單說明】 圖 1係一分餾塔的縱剖面側視圖,顯 八、 頜不出依據本發明所構成且設於該 刀餘塔開敞内部區域中的各接觸塔盤,· 圖2係沿著圖1中線2-2所截取的一離心 面圖; 雕^式接觸塔盤的橫剖面俯視平 圖3 係沿著圖2中線3-3所截取的離心式接 部份的側視圖; 觸塔盤上之環式降流管一 15 1236386 圖4係沿著圖1中線4_4所截取的一回行接觸塔盤的橫剖面俯視平面 圖; 上之中心降流管的側 圖5係沿著圖4中線5-5所截取的回行接觸塔盤 視圖; 圖6係中心降流管的俯視透視圖;以及 圖7係分餾塔的縱剖面側視圖,顯示出其種種不同的結構 【圖式元件標號說明】 分餾塔 20 内部區域 24 回行接觸塔盤 28 面板 32 中心入口區 34 外側入口區 38 入口壁 42 裙部 46 入口壁 50 排放出口 54 托架 58 支承管 62 拉條 66 錐體 70 匯集板 74 閘板 78 殼體 22 離心式接觸塔盤 26 盤座 30 蒸汽通道 33 環式降流管 36 中心降流管 40 入口 44 降流管出口 48 入口 52 螺栓桿 56 支承環 60 支承環 64 阻流板 68 偏流面 72 閥 76
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Claims (1)

  1. || / / ,.. , I 、 || / / ,.. , I 、1236386 ^ryrj —»---------------------- I 94年1月24曰無劃線修正說明書 申請專利範圍 1· 一種質量傳遞分餾塔,其包括·· 一個用以界定出一開敞内部區域的外殼體; 行接成彼此縣錢與縱向關關係的回 蔣、;觸塔盤包括一盤座’該盤座設有至少-個開口以便 行盤f的上表面清除,另設有若干蒸汽通道以ί使』 ϋί回㈣麵祕絲面上與㈣互相侧, 月核式接觸塔盤包括一個盤座,該盤座設有-上表面,- 便使航職上獅轉μ触而在其上 、、六^^ 所述回行盤座之開口處往下延伸的中心降流管,該降 流管絲辭,該降 進給到該回行盤座上,方”其^開的下方排放出口,以便將液體 相隔的1回行接觸塔盤 觸塔盤相隔的距離。 了接^1盤在上方與鄰接-個離心式接 通道2是閥如申請專利範圍第1項所述之質量傳遞分镏塔,其中該蒸汽 ,其中該閥係 通道是百葉ΓβΓ其®tf-1 種項所述之f量傳遞分娜,其中該蒸汽 轉感應元件館塔,另包括-旋 出時即引起-旋轉動作I内便在液體從該中心降流管流 蓋,遞=,其中該間包 角度,以防止液體流人。^切仃J其中之—或二者的平面保持- 1 1236386 ^片利範圍第1項所述之質量傳遞分解,另包括: 心降流管。°又在回仃接觸塔盤上方的阻流板,據以阻礙液體越過中 ^ 種况液接觸塔盤裝置,其包括: 式接 成彼此保持交替與縱向隔開關係的回行接觸塔盤及離心 將液體座$ 設有至少—個開口以便 可往該回道以便使蒸汽 便使蒸汽可往上流過該離心式盤座n上 將液體進給到該離心式接糖ί上▲開的下方排放出口,以便 流式降流管,該降 進給到該回行盤座上, 4開的τ方排放出σ,以便將液體 相隔的_行接觸塔盤 觸塔盤相隔ίίί/個口订接觸塔盤在上方與鄰接一個離心式接 單-1ί支纖術置,其中係以 L 1塔«置,另包括: 心降流管。 τ· 一上方的阻流板,據以阻礙液體綱中 12· 一種使蒸汽和液體在一質量僂撼分人, 法,該分像荅設有若干回行接觸塔盤和離心式接^塔丄 分別具有配備若干蒸汽通道的盤座,另有至少一支二萬合苫/ 一支環式降流管,該方法則包括下列各步驟·· 争机s和至y (a)將若干回行接觸塔盤及離心式接觸炫盤、^ ^ 縱向隔開關係,其中至少-個離心式接觸持父替與 接觸塔盤相隔的距離大於至少—個回行 2 1236386 離心式接觸塔盤相隔的距離; H一股液流導入一支以上中心降流管的入口内; 在下述I f以上中心降流管將實質所有的液流排放到一個位 在下方的離心式接觸盤座上; 、、一股流往上通獅心、式接觸塔盤的蒸汽通道,其中該蒸 / 式?觸塔盤的表面上與液流互相作用; 離心式接觸塔盤的周邊流過整個離心式接觸塔盤; 的環接觸塔盤的周邊將至少-部份的液流導入-支以上 盤座實質财驗流部份從—支社環式降流管排放到一回行 在的蒸汽通道,其中該蒸汽流會 和(Ο使液流朝著回行盤座其中的至少一個開口流過整個回行盤座; 白i離」^及回行接觸塔盤重複進行⑻到①的步驟 域的外㈣塔’其包括—個用以界定出-開敞内部區 H卜成體和右干被支承在該開敞内部區域中的汽液塔盤,該分德塔 一個用以界定出一開敞内部區域的外殼體· 回⑶替與縱向隔開關係的至少- 往盤錢以蒸汽可 面上與液體互相作用; 猶心'式盤座而在其上表 將液體進給到該離心式接觸盤座上;’、汗々下方排放出口,以便 流管伸的環式降流管,該降 進給到該回行盤座上;和 …、网汗、下方排放出口 ’以便將液體 一片以上^龍直關之_設知行接觸塔盤上方的阻流 3 1236386 板,據以阻礙液體越過中心降流管。 流板1ί錐t請專娜圍第13項所述之質量傳遞分館塔 ,其中該阻 流板1。項所述之質量傳遞分餾塔,其中該阻 ^• 一種汽液接觸塔盤裝置,其包括: 少一替與縱向隔開關係的至少一回行接觸塔盤及至 行i觸塔盤包括—盤座,缝座設有至少—個開口以便將 技、*=二仃孟座的上表面清除’另設有若干蒸汽通道以便使茱汽可 ϋ細健座而在紅表面上錢體助作肖, 雜塔盤包括―健座,雜座設有—上表面,一周 便錄汽可往上触雜^缝喊其上表 、、六乾H一+從所述回行盤座之開口處往下延伸的中心降流管,該p条 Sit個在離心式接觸盤座上方與其隔開的下方排^ 口,ίί 將液體進給_離心式接趣座上; 順ffi 口以便 流式降流管,該降 進給到該回行繼w的下方排放出σ,以便將液體 板,據^係設在回行接觸塔盤上方的阻流 阻“ ί請專利範圍第17項所述之汽液接觸塔盤裝置,其中該 阻‘包iMSiiyi所述之汽液接觸塔盤裝置,其中該 土 H vl*種使蒸汽和液體在一質量傳遞分餾塔中相互混人66古 土,该为餾塔設有至少一個回行接觸塔盤和至少_ 方 盤^該等塔盤則分別具有配備若干蒸汽通道的盤接^ 心降少一支環式降流管,該方法則包;列%1中 (a)使一股液流朝著一離心式盤座的周邊流過一中間接觸塔般· 4 σ i ’ 1236386 其中該蒸 汽離^心式接觸塔盤的蒸汽通道, 環式降流管的入口中; 。卩伤的液>,IL導入一支以上 盤座^將實賊有的親部攸—支社財降齡賊到一回行 在回ί盤蘭汽财,射該蒸汽流會 Γ設在贿*_=ΪΪ^=Ϊ2ΪΪ5Ϊ =外殼m〇奸蚊承 成彼内部區域的外殼體;在開_部區域内設 關係的至少1行翻塔盤及至少一離 液體^座,趣舰有至少—侧口以便將 ⑽使謝 邊盥包λ—健座,缝錢有—上表面,一周 面i與&ΐί=便使狀可往上麵_'。賴座而在其上表 产營^4一述^盤座之開口處往下延伸的中心降流管,該降 流管盤座之周雜下延伸的環姐流管,該降 進ii回S2;上方與其隔開的下方排放出口,以便將液體 二者二支承環,其係被接裝到分顧塔殼體以供支承離心式及回行塔盤 $·、厂種汽液接觸塔盤裝置,其包括·· 又成彼此保持父替與縱向隔開關係的至少一回行接觸塔盤及至 1236386 少一離心式接觸塔盤, 谅-ΐ上回行接觸塔盤包括一盤座,該盤座設有至少-個開口以#蔣 行盤座的上表面清除,另設有轩 回健麵树上絲上與《^目_~ 此外離心式接觸塔盤包括一個盤座,兮般 士 紐謝邮 产營子-din述3行盤座之開口處往下延伸的中心降流管,珊 流管設有-’該降 進給到該回行盤座上;和〃,、隔開的下方排放出口'以便將液體 二者二支承環,其傭難到分娜殼體以供支承離喊及回行塔盤 法,2ί分if芝fi气量傳遞分餾塔中相互混合的方 盤,該等塔=接f塔 心降以i:㈣ b ί-j盤座的周邊流過-中間接觸塔盤; •流管的义7中「 遭將至少—部份的液流導入-支以j: 將ί中質仏上環請流管排放到-回朽 以支^ 離^塔盤均由難到分娜殼體的單一』 環式塔盤的周邊將至少-部份的液流導人一支以」 ⑹將 盤座上,: 承環予以支承; ((益!以f ί至,少-個開口 流過整個回行盤座; 在回行與^mu#蒸汽通道’其巾該蒸汽流1 支以上中心降流管的入口中;和 g 上中心降流管中排出。 =賴鮮轩被找 1236386 一個用以界定出一開敞内部區域的外殼體; 旷部區域m域彼此保持交替與縱向隔開關係的至少-回订接觸塔盤及至少一離心式接觸塔盤, 回行接觸塔盤包括一盤座,該盤座設有至少一個開口以便將 蒸汽可 邊盘接包括—麵座,趣座設有—上表面,一周 面便使减可往上㈣雜〜讀㈣在其上表 雜·!^二ϋ戶二述盤座之開口處往下延伸#中心降流管,該降 T與其隔開的下方排放出口 ’以便 進給到該回行St £方與其p'’下方排放出°,以便將液體 過中心在回行接觸塔盤上方的錐形阻流板,據以阻礙液體越 、厂種汽液接觸塔盤裝置,其包括: 少替無向隔開關侧至少—回行制塔盤及至 靜盤包括—盤座,該盤座設有至少—個開口以便將 表面清除,另設有若干蒸汽通道以便使蒸汽可 ^ 回」1丁盤座而在其上表面上與液體互相作用, 、募式λ觸塔盤包括—健座,贿座設有—上表面,一周 &與便絲汽可往上㈣絲4盤座而在其上表 * 述回行盤紅帛ϋ雜下延伸的巾崎流管,鱗 與其隔開的τ方排放出口,以便 所述離心_座之周雜τ延伸的環絲流管,鱗 上方與其_下方_ 口,以便將液體 過中心在回行接觸塔盤上方的錐形阻流板,據以阻礙液體越
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