TWI226911B - Satin-finished nickel or nickel alloy coating - Google Patents

Description

1226911 五、發明說明α) 發明範圍 本發明係關於一種酸性鎳或鎳合金電鍍浴及一種沉積缎 加工鎳或鎳合金塗料之方法。 發明背景 在工業上盛行使用應該很平坦之亮鎳或鎳合金塗料。然 而，早期認定緞加工塗料看起來美的且同時防止目眩。當 與緞加工鎳塗料及與鉻塗料結合時，這類塗料只作為如亮 鎳塗料之腐蝕防止。這些緞加工鎳塗料因此常用於汽車工 業、精密機械工業、衛生器具以及家具細工。 目前鎳塗料可由種種方法製造。 DE-OS 1 6 2 1 0 8 5中指出欲塗佈金屬之表面首先可藉喷 砂粗化。之後表面以一般電鍍浴處理沉積一層亮鎳層。根 據另一方法首先準備具以機械處理之無光澤表面之亮鎳塗 料。然而，由於此一處理，抗腐蝕性將明顯降低因為鎳層 弱化。其進一步指出二個敘述之方法將有因機械處理而非 常複雜及昂貴之缺點。在此文件中敘述之其他方法允許直 接由電鍍浴沉積緞加工鎳塗料而沒有任何預先或之後的戰 械處理。為了此一目的，在這些浴中不溶解之微細研磨材 料如高嶺土、石墨、硫酸鋇、玻璃、滑石粉、草酸鈣及其 他物質，將其粒子大小為0. 1至0. 3微米者加入相當量至一 般鎳電鍍浴中。藉強烈之吹動空氣至浴中這些物質維持懸 浮且在沉積鎳時將一同沉積成塗料。文件中指出特定粗糙 度之塗層顯現建立之緞加工外觀。然而，此方法將要求特 定裝置執行，因為此方法無法在傳統電鍍裝置中進行。因

1226911 五、發明說明（2) 此原因將增加額外之費用。 因為傳統方法之缺點，DE-OS 1 6 2 1 9 8 5中揭示一種製 造緞加工鎳塗料之酸性鎳電鍍浴作為所有此文件中敘述^ 法之改良。為了實行此方法，要求一種含有除了基本光亮 化合物之外之濃度為5至100毫克/升之取代或未取代乙烯 氧化物或丙烯氧化物或乙烯氧化物丙烯氧化物加合物之 浴，這些額外加合物能在40至75t之溫度下形成微細 乳液於浴溶液中。 刀月文 卯2 5 22 1 30 B1尚敘述一種酸性鎳、鎳/鈷或鎳/鐵 鍍冷，這些浴適合沉積緞加工塗料。此浴含有除了主电 iIί亮劑之外在乳液中之液態聚石夕氧烧聚氧化烯經歲ί 由DE-os i 62 1 085中之揭示所得知之鎳塗料可根 js 1 62 1 08 7中敛述之方法生產。展現平坦緞加工 ，^全冷卻浴液體或部份冷卻至低於雲霧溫度且隨可 二：體土工作溫度製造。超過雲霧溫度時非 欠 卜生Μ由於介面活性劑失去其水合覆蓋之 面活 ，：化小滴在冷卻該液體時解離且在重新二熱：：再形成 ，成。鎳沉積選擇性地受沉澱界面活性劑小 宝再 '欠 Άϋΐί括在鎳塗層之中。事實為加熱及冷i電ί有 =及抽取液體必須消耗較多之能量造卩電鍍液 外最大浴體積限制在特定值内，因為:二^缺點。此 升時加熱及冷卻液體與抽取液體之費用^著過8,000 下此方法之操作不再經濟。而且在短時間執行

第6頁 1226911 五、發明說明（3) ^灸塊狀界面活性劑在浴液中形&，這造成職料中之 朵面提及之缺點，DE 23 27 881 A1中敘述製造半 光7C鎳或鎳/銘塗料之方半 一 σ半 料藉結合外來物成為淨料 1 。在这方法中無光澤塗 與陽離子或兩性外來物藉結合有機陰離子 物、咪唑之衍生物】在每文件中建議以四級銨化 礎之表面活性劑作子an;iamines旨及以胺基竣酸為基 子與陽離子或兩：=开:或=:質。藉結合有機陰離 m之礼化液，其藉給予鎳沉積產生緞加工。 時内沉二ί==ΐ些缺點之苦··在製備電鍍浴後三至五小 糙鎳晶‘呈ί二ί侍愈來愈粗糙。甚至部份眼睛可見之粗 ‘此二在π表面上’作鎳表面之外觀為不可接受的。 小時之生產後之浴液必須以過遽材料完全 匕濾亚π泳，過濾材料如纖維素、矽萍土或甚至 碳。整理浴液要求之生產中斷 / 疋活n 且fp眚μμ Μ .. 生產中斷對刼作連績裝置時特別麻煩 之「i層」 繼續沉積鉻層10分鐘或更久產生一可移除 m已二=嘗試排除前面提及之短處。因此⑽3"6 方法之Iϊ沉積緞加工鎳塗層之方法’用於實行此 界面活=液基本光亮劑、-或多種 铵化入L , 化液形成劑、-或多種四級 甲舻：：二 或多種無環或芳香族亞磺酸。較佳地，苯 曱ι&代醚亞胺、間—苯二磺酸、三磺酸、二芳香基二

1226911 五、發明說明（4) 硫化物、磺胺及N-硫醯基碳醯胺以及其可溶於 < 解作為基本光亮劑。然而，實行此方法沒有如 =|將I 及冷卻浴液無法得到具相同外觀之塗料。 之則之加熟 生產具有非燦湖外觀之塗料之另一電鑛方法、、 1 91 40 01 1 A1中。根據此文件使用一種鎳浴，、其述含在^特 別是基本光亮劑、有機亞磺酸以及界面活性劑。〃另3 浴 ^有取代及/或未取代乙烯氧化物加合物或丙烯氧化物 a物或乙烯氧化物丙烯氧化物，其在使陰沉 低濃度。“，使用文件中指示濃= 劑不證貫因為其效率快速減少及因為塗料之 溶1二2中尚敘述沉積光亮鎳或鎳/麵塗料之水 命液電鍵心。根據此文件中之幾個 額外含有糖精作第_ #古J將瓜代琥珀酸S日加 生產锻加工鎳劑之冷液中。然而’未以這些浴 此外日本專利摘要 工塗料之鎳浴，复：古二，A中揭示-種沉積緞加 芳香基磺酸鹽及二二1附在作為光亮劑之糖精之烷基 段共聚物之界以醋與乙稀氧化物丙烯氧爾 只能在浴配製好短=^情况中亦證實緞加工鎳塗料 展現粗糙之表面。’B 。在此期間之後產生之塗層 所有上面敘述之 具大概滿意緞加工之：：：在幾小時中進行。纟此期間内 糙度增加。在超過。f1枓可以得到。然而’|此期間粗 ^ 乂，月間之後只能沉積多孔之粗糙鎳塗 第8頁 1226911

五、發明說明（5) 料。 因此本發明之問題在避免已知電鍍浴之缺點且特別是掉 出適合生產缎加工鎳或鎳合金塗料之電鐘浴及生產锻加工 鎳塗料之方法。當使用此方法時其應可能在電鑛浴配製好 之後長期間内產生相同表面品質之鎳塗料，而不需要清潔 浴液或以需額外費用之任何方法整理。 而 明概要 意外地發現若加入一或多種硫代琥珀酸化合物至鎳電鍍 浴，緞加工塗料可在浴配製好之後長期間内任何時間點上 沉積之錄或鎳合金層之表面上得到，此該鎳電錄浴另外含 有至少一個四級敍化合物及至少一種陰離子基本光亮劑， 該硫代琥珀酸化合物具有下面之通式（丨） 儿片 -OaS-CH-COO-R-j (I) CHrCOO-Rj 其中 > RMR2=氫離子、鹼金屬離子、鹼土離子'

Cl-c18烴基團’其中RiAR2為相同或不同條件，及一/個\ 團心及心=氫離子、鹼金屬離子、 二夕 土 其中 卞钕離子及鹼土離子，及 Γ=虱離子、鹼性離子、鹼土離子、銨離子。 恒久不變之鎳電鍍似乎為 亮劑形成之離子對晶體安定之d::陰離子基本 〜<、、、口禾，此恒久不變甚至由

1226911 ---—— 五、發明說明（6) 少一次應用硫化琥珀酸化合物择 代琥珀酸化合物明顯地由作為上 ㈢根據本發明之目的硫 分散劑之這些化合物的效應產生面，及之離子對晶體之共 濃度硫代琥珀酸化合物足^確n亦由甚至電鍍浴中低 生。藉加入硫代琥珀酸化合物至、 本I明之效應所產 份電流過濾操作此浴幾天為可行^鍍浴中對第一時間以部 本發明與無光澤鎳電鍍浴不相關。° 根據本發明之鎳或鎳合金 1雷供、、欠rb f二、 敕，合有種種優點·· 1·電鍍心中形成之分散的安 續操作時間改良。 X 3 >、為傳統浴二倍連 藉部份電流過遽連續數天之操作亦為可行。 防止在絡電鑛上可移去之「銀層」的形成。 4 ·緞加工外觀經添加硫代琥珀、^ 積具有實質上锻加工之鎮或錄合金塗；應 :。目前這樣之外觀僅由加入相當量之四級銨 電鍍浴中達到。然而在這些條件下浴之壽命減少。 銲 fe佳具體實施例詳沭 一 硫代琥珀酸化合物I之(^ -匕8烴基團中至少一個為無環 環烴基團或透過喊基橋接之一群烴基團較佳。C1〜C18基團5 為無環線性或無分歧基團或環狀基團。若需要這些基團亦 可為未飽和煙基團或幾群透過峻基橋接之至少部份未飽^

烴基團。 I 表1所列之化合物當應用在鎳或鎳合金電鍍浴時已證實 成功。 第10頁 1226911 五、發明說明（7) 表上硫代琥珀酸化合物 1 硫代琥珀酸二(正丙基)酯 2 硫代琥珀酸二(異丙基)酯 3 硫代號拍酸二(正丁基)酯 4 硫代號拍酸二(異丁基)酯 5 硫代琥珀酸二(正戊基)酯 6 硫代號拍酸二(異戊基)酯 7 硫代琥珀酸二(正己基)酯 8 硫代琥珀酸二(異己基)酯 9 硫代琥珀酸二(U二甲基丁基)酯 10 硫代琥珀酸二環己基酯 11 硫代琥珀酸二(正辛基)酯 12 硫代琥珀酸二(異辛基)酯 13 硫代號ϊ白酸二(2-乙基己基)酯 14 硫代號拍酸—壬基醋 15 硫代琥珀酸單月桂酯 16 硫代琥珀酸二月桂酯 17 硫代琥珀酸單十二烷基酯 18 硫代號拍酸—*十六院基酯 19 硫代號拍酸之脂肪醇聚乙二醇醚酯 20 硫代琥珀酸單(氧化二乙氧基十二烷基)酯 (硫代號拍酸之月桂醇聚乙二醇醚酯） 烷基酯基可特別包含所有異構物。例如丙基酯包括正丙 基酯及異丙基酯，丁基酯包括正丁基酯，異丁基酯及三級 丁基酯及戊基酯包括正戊基酯，異戊基酯，三級戊基酯及

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新戊基自旨。 游離績酸及其鈉 逋幂使用碏 嬅、 酸t A gi ……鉀及鎂或銨鹽皆可應用。通 。另外亦可使用數種硫代號轴酸化合物。 在〇.咖至5克/升^ η7代\酸化合物之遭度很低且可 从闽,見/升之犯圍内’正常為〇·〇〇5至〇·〇5; /斗々 !内變？。硫代磺酸化合物之濃度若欲完成之效應儘 久:寺:V,、、以接近較佳濃度範圍之上限(最高°.〇5:/ i 0 n又土八必須可慮商業上可得之物質少有純度接近 =之：；Γ含有水且有時亦有作為溶解劑之低：醇。 則述之/辰度才曰具有1 0 0 %純度之物質。 供應電鍍鎳或鎳合金附著物之浴液通常包括額外含 了根據t發明之物質外作為緩衝物質的弱酸之鎳鹽溶液二 通常實行使用稱為瓦特斯（Watts)電解質，其具有下面 之成份： 々八 33 0- 550 克 / 升硫酸鎳（Nis〇4 ·7Η20) 30-150 克/ 升氯化鎳（NiCl2 ·6Η20) 30 -5 0 克/ 升硼酸（Η3Β〇3) ▲ 電解質溶液之pH可設定在3至5.5之範圍内，主要在3 8 至4 · 4之範圍内。為了能儘可能設定高電流密度溫度可最 高等於75 °C。通常設定在50 t：至6 (TC之範圍内。 鎳及鎳合金電鍍浴之氯化物含量為1〇至5〇克/升。最佳 之結果以在此範圍濃度之浴得到。氯化鎳可部份或完全以 氯化鈉取代。電解質中之氯化物可部份或完全以等量之漠 化物取代。電鍍浴之鎳鹽可至少以鈷鹽取代或加入至少一

第12頁 1226911 五、發明說明（9) 種始離子源至浴中 於5 5 °C且若應用如 可等於最高至10安 6安培/平方公寸。 條件下至少9分鐘< 理論上可加入硫 他之浴添加劑。然 合硫代琥站酸化合 上額外之基本光亮 鎳或鎳合金表面在 圍内完成。這極佳 鍍浴中完成。此外 鎳合金塗料頂部上 電鍍時間。 鎳或鎳合金浴中 陽離子表面活性劑 以便能沉積鎳/鈷合金塗料。若溫度等 上面提及高性能電鍍浴時陰離電流密度 培/平方公寸。平常電流密度設定為3至 在鎳電鍍浴中停留時間應等於在給予之 代琥珀酸化合物至浴中而不加入任何其 而，足夠長時間安定性之浴只能在若結 物與四級銨化合物一同使用及若需要加 劑時達到。在這些環境下極佳之緞加工 實際之條件下可操作之整個電流密度範 之緞加工穩定地至少在1 5小時操作之電 在上面提及之條件下電鑛不產生在鎳或 鉻電鍍層上可移除之霧，即使設定長鉻 所含四級銨化合物為具下面通式（II)之 R4!— Ν+— R4 r3 χρ- (II) 其中

Ri，R2&R3=氫及/或無環q-Cu烴基團，其中比、R2&R3為 相同或不同條件為最多匕、R2及匕基團中二者二氫；

第13頁 1226911 五、發明說明（10) 氫、無環Ci-C4烴基團或以芳香基取代匕-c4烴基團， 例如笨基； _ 單價或多價陰離子，例如氯化物、溴化物、甲酸鹽 或硫酸鹽；及 整數。 &，r2及1為線性或分歧飽和及若需要未飽和q -C18烴基 團。應用自然發生之酸煙基團之屍合物。例如t a 1 1 〇、 cocosyl myristyl及月桂基團較有利。 四級銨化合物之實例列於表2 : 表2:四 級銨化合物 1 氯化二辛基二甲基銨 2 氯化二癸基二甲基銨 3 氯化二十二烷基二甲基銨 4 氯化十二烷基二甲基朱基銨 5 氯化十四烷基二甲基奪基銨 6 氯化十六院基二甲基$基銨 7 氯化cocosyl —甲基冬基銨 8」 氯化硬脂基一甲基本基銨 9 氣化油基一甲基I基錢 --- 10 溴化一月桂基甲基錢 — 四级銨化合物之濃度設定為01至1〇〇毫克/ 内’以2. 5至15宅克/升較佳。一般 祀圍 之界面活性劑不加到鎳或鎳合金 二止沉積多孔塗料 化合物損害鎳或鎳合金沉積 二：：，部份之這些 电鍍之物品在電鍍浴中緩 第14頁 1226911 五、發明說明（11) 慢移動。有時應用額外暴露空氣中 幫浦及若需要之溢流時。這些改良2 *而要循環 平坦度。 艮緞加工鎳或鎳合金層之 尚加入基本光亮劑至鎳或鎳合金電鍍浴中較佳。 份情況中，未飽和之芳香磺酸、磺 在大4 醯羧醯胺、亞磺酸鹽、二月桂基或盆L f胺、N —硫 光亮劑。最通俗之化合物為例如間J:;:'了”乍為基本 :黃酸亞，(，精）、1，3,6_篆三續酸三單；：：：亞 本石頁胺及苯單亞續酸納。 次納 一 已知之光亮劑列於表3。大部份佶甘 應用數種基本光亮度劑亦可行。吏用其納或鉀鹽。同時 表3中所列基本光亮劑應用並以5 度加入電解浴中，以G.5至2克/升^佳克克/,升^ 積。Γ電流密度範圍中得到光亮沉 口此/、應用基本先焭劑而不添加任何添加劑沒有實用 五、發明說明 上之重要性。只藉進一 天 加工。 進…四級鍵化合物完成所要之锻 緞加工鎳或鎳合金層在導電工作件上 — 屬組成之工作件上，以包括下列方法步驟之方t如在由金 a.將工作件與根據本發明之 t ^生： 與錄或鎳合金電鑛浴= ηί件及至少—個陽極之電麼，·及 d.在=作件上電鍍緞加工鎳或鎳合塗料。 為了 70王I可能穩定之緞加工表面，必須連 液在離_ e ^ 钬大塊通常在產生緞加工表面必須 ί ί 浴液中移除以維持這些雛晶之平均粒子大 小持續低於特定臨界值。 大 在下列貫例中提供本發明更清楚之敘述： f 例1.0: 一種具下面組成之電解液： 370克/升硫酸鎳（Nis〇4 · 7\〇) 4〇 克/ 升氯化鎳（NiCl2 · 6H2(^) 40克/升硼酸（h3B〇3) 3克/升笨曱酸亞續隨亞胺（基本光亮劑；化合物！） 添加0.006克/升溴化二十二烧基二甲基胺（四級銨 化合物I I)。 電解液在裝置傳送物品及維持浴液在5 5 t的溫度之機構 1226911 五、發明說明（13) 之1 0 0升大小容器内檢驗。為了此一目的一片刮過且為7公 分X2 0公分大小之銅板在2. 5安培/平方公寸之陰極電鍍17_ 分鐘。甚至在整個銅板表面積上產生緞加工鎳塗料。沒有 可見之孔或黑洞。每小時重複此步驟，互相比較經電鍍之 板。在4小時之期間後已見到塗料之粗糙表面外觀。在5小 時之後試驗停止因為此時塗料變得醜陋的（凹凸不平、無 光澤）。 實例1. 1 :

首先將0.02克/升硫代琥珀酸二-(1,3 -二曱基丁基）酯 (化合物I)及進一步之0. 0 0 6克/升溴化二十二烷基二甲基 銨加至實例1 . 0之電解質溶液。 電解液之檢驗加實例1 . 0中之敘述進行。甚至在整個電 鍍鎳之板表面積上見到緞加工外觀。沒有可見之孔或黑 洞。在如上面指出之條件下每小時重複電鍍，互相比較經 電鍍之板。在4小時之期間後已見到鎳塗料之粗糙表面外 觀。在1 5小時之後試驗停止因為產生塗料之表面品質的外 觀沒有可見到更惡化的情形。

實例1. 0及1. 1之結果:不應用化合物I (硫代琥珀酸二-（1，3 二曱基丁基）酯）只得到4至5小時之浴液壽命。添加化合物 I得到超過1 5小時之壽命。 實例2. 0 : 一種具下面組成之電解液： 4 50 克/ 升硫酸鎳（NiSo4 · 7H20) 80克/升氣化鎳（NiCl2 · 6H20)

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4 0克/升硼酸（H3B〇3) 3克/升烯丙基磺酸之鈉鹽（基本光亮劑） 5克/升苯甲酸亞磺醯亞胺（基本光亮劑） I先添加0.01克/升氯化c〇c〇sy丨二甲基$基銨（四級胺 電解液在裝置傳送物品及維持浴液在5 5它的溫度之機構 之100升大小容器内在起始後只靜置30分鐘的時間下檢 驗為一了此-目的，一片刮過且大小為7公分〇公分之銅 板在3安培/平方公寸之陰極電流密度下電鍍分鐘。其後 該板在商業鉻浴（Bright Chrome 843，Atotech 、 Deutschland GmbH，DE)在40°C 10安培/平方公寸之電流 密度下鍍鉻1 2分鐘）。 緞加工鎳塗料在銅板之整個表面積上得到。朝光源注視 鍍鎳板之表面可見到一層霧（所謂的「銀層」。在此鎳電 鑛/谷5〗日守後此模糊可移除之霧已發展到容易見到之霧， 故生產必須停止。 實例2. 1 、’先將0 . 〇 4克/升硫代琥轴酸二己基g旨（化合物I )加入實 例2.0中使用之電解液中。之後將〇 〇1克/升之氯化 c〇C,osyl二甲基幸基銨（四級銨化合物π)加入該溶液中。 岭液之檢驗如實例2· 〇中敘述進行。在30分鐘之靜置時 ^ f在正個板表面上得到鍛加工鎳塗料。沒有可見到之孔 或…洞朝光源注視鐘鎳板之表面沒有見到霧。甚至在鎳 電鍍浴操作5小時後未見到霧。

1226911 五、發明說明（15) f例2 . 0及2 . 1之結要.添λπ 4曰a 酸二己㈣防止霧在銲表=本發明化合物1(硫代琥拍 時後。 ”參面發生，甚至在操作該浴5小時 f 例 3 · 0 一個錐形瓶放入下列物所 50毫升之水 j物貝，之後將此混合物授拌： :5克:”烯丙基磺酸之鈉鹽（基本光亮劑） 5克/升之苯甲酸亞石备硫芯_ 卑古/ > 亞胺之鈉鹽（基本光亮劑） 物η)毛 乳一十二燒基二甲基Τ基銨（四級銨化合 溶液表面以縫隙燈檢綸 , 刿_ #…i + 在經過約1小時後出現清楚之 J度狀形虹色表面膜。溶液為混濁的。 實例3 · 1 與實例3.0相似下列物質放入錐形瓶中： 5 0 t克之水 S克ί升t烯丙基石黃酸之鋼鹽（*本光亮劑） 之本'酸亞磺醯亞胺之鈉鹽（基本光亮劑） 笔^升之硫代琥珀酸二異庚基酯（化合物I )。 r H授拌並將20笔克/升之氯化十二烷基二甲基苄基銨 (四級銨化合物I I)加入此 甘s , 貝到#而胺旅4· ^ 此/奋液中。甚至在超過1 6小時後未 i到表面膜發生。浴液為輕微混濁。 貫例3. 0及3. 1之会士果·去處 ^7~7~ ~ ~ ~ •未應用化合物I時清楚之似彩虹色表 pi尨&本工2 " 添加化合物I時甚至在1 6小時之期 間後無表面膜發生。 ^

ϋ 第19頁 1226911 五、發明說明（16) 實例4. 0 ： 4 0 0毫升具有下列組成之電解液： 350克/升之硫酸鎳（NiS〇4 · 7h2〇) - 4〇克/升氯化鎳（NiCl2 · 6H20) 40克/升硼酸（η3Β03) 1克/升之1，3, 6 -萘磺酸之鈉鹽（基本光亮劑） 3克/升之苯甲酸亞磺醯亞胺之鈉鹽（基本光亮劑）

1入1 00毫克/升氯化C〇C〇Sy 1二甲基苄基銨（四級銨化合 物II)。在U小時之期間内樣品維持在55。〇之溫度。經過 流動-層膜在溶液表面上發生。&膜可容易地由縫隙 測到。 實例4. 1 ： 首先將3 · 5毫克/升之硫代琥珀酸二己基酯（根據本發明 之化>合物I )加入實例4· 〇之電解液中。在攪拌後再次加入 100宅克/升之氯化⑶⑶”！二甲基苄基銨（四級銨化合物 Η )樣σσ、准持在5 5 C之溫度1 6小時。經流動後極薄膜在 電解液表面上發生。此膜只可由縫隙燈看到。 實例4. 2 : —百先將1 0毫克/升之硫代琥珀酸二己基酯（化合物I)加入 實例4· 〇之電解液中。在攪拌後再次將100毫克/升之氯化 cocosyl基二甲基苄基銨（四級銨化合物丨丨）加入該溶液 中。樣品維持在55 °C之溫度1 6小時。使用縫隙燈在電解液 表面上實際上未見到膜。

Uq· 0 及4· 2之結旲:添加甚至在1〇毫克/升濃度之

第20頁 1226911 五、發明說明（17) 化合物I防止傷害電鍍之膜產生。甚至在3. 5克/升可見到 改善之效應。

第21頁 11 1226911 圖式簡單說明 第22頁

Claims (1)

1. 〇-t .. -Ί ··. - 一 * 一 1226911 ，號 901Π179

   ★备>τ、ί曰 修正 六=申請專利範圍 1 . 一種用於沉積緞加工鎳或鎳合金塗料之酸性鎳或鎳合 金電鍍浴，其含有通式（I)之硫代琥珀酸化合物 κ* ^033-〇Η-000-κ, C H 2^C〇〇~ 其中 氫離子、驗金屬離子、驗土離子、銨離子及/或 (^-(：18烴基圑，其中&及匕為相同或不同，其條件為匕及1基 中最多一個=氫離子、驗金屬離子、銨離子及驗土金屬離 子，及 其中 K+二氫離子、驗性離子、驗土離子、銨離子， 該硫化琥珀酸化合物之濃度為0 . 0 0 5至5克/升， 至少一種四級銨化合物，其具有下述通式（I I ): (II) f： R「I^-R4 k 其中 rm r2及匕=氫及/或無環wq-cis烴基圑，其中h、R2及

   O:\71\71095-920620.ptc 第23頁 1226911 _案號90111179_年月曰 修正_ 六、申請專利範圍 R3為相同或不同，其條件為基團Ri、R2及1?3至多二者=氫； I二氫、非無環狀Ci-C4烴基團或以一種芳香基取代之C i - C4 fe基團； xp-二單價或多價陰離子；及 P =整數， 該四級銨化合物之濃度為0 . 1至1 0 0毫克/升。 2 .如申請專利範圍第1項之酸性鎳或鎳合金電鍍浴，其 中硫代琥珀酸化合物之至少一個q - C18基為無環或環烴基 團或透過酯基橋接之烴基團群。 3. 如申請專利範圍第1或2項之酸性鎳或鎳合金電鍍浴， 其中該至少一種硫代琥珀酸化合物在該浴中之濃度為 0. 0 0 5 至0. 05 克/ 升。 4. 如申請專利範圍第1或2項之酸性鎳或鎳合金電鍍浴， 其中該浴中含有至少一種硫代琉ίό酸化合物，其選自下列 各物：硫代琥珀酸二丙基酯、硫代琥珀酸二丁基酯、硫代 琥珀酸二戊基酯、硫代琥珀酸二己基酯、硫代琥珀酸二環 己基酯、硫代琥珀酸二辛基酯、硫代琥珀酸二壬基酯、硫 代琥珀酸單月桂基酯、硫代琥珀酸二月桂基酯、硫代琥珀 酸單十二烧基酯、硫代號珀酸雙十六烧基酯、硫代琥珀酸 之脂肪醇聚乙二醇醚酯及硫代琥珀酸單（酮基二乙氧基十 二烧基）S旨。 5 .如申請專利範圍第1或2項之酸性鎳或鎳合金電鍍浴’ 其中該至少一種硫代琥珀酸化合物係一種選自包括該鉀 鹽、該鈉鹽、該銨鹽及該鎂鹽之其鹽類。

   O:\71\71095-920620.ptc 第24頁 1226911 案號 90111179 曰 修正 六、申請專利範圍 6 .如申請專利範圍 其中額外之至少一種 至1 0克/升。 7 .如申請專利範圍 其中該浴中額外含有 8 . —種在導電工作 法，其包括下列方法 a. 將該工作件與 之鎳或鎳合金電鍍浴 b. 將至少一片陽 c. 施加跨過該工 d. 在該工作件上 9 .如申請專利範圍 鍍浴係連續或間歇地 第1或2項之酸性鎳或鎳合金電鍍浴， 基本光亮劑在該浴中之濃度為0 . 0 0 5 第1或2項之酸性鎳或鎳合金電鍍浴， 至少一種始源。 件上沉積緞加工鎳或鎳合金塗料之方 步驟： 根據申請專利範圍第1至7項中任一項 接觸； 極與該鎳或鎳合金電鍍浴接觸； 作件及該至少一個陽極之電壓；及 電鍍一層鎳或鎳合金塗料。 第8項之方法，其中該鎳或鎳合金電 過滤或循環。

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