TWI226298B - Method for positioning a substrate and inspecting apparatus using same - Google Patents

Description

1226298 玖、發明說明： L 明所屬 销 j 技術領域 本發明係有關於基板定位方法及使用此方法之檢查裝 5置，特別是有關於自動線寬測量裝置等檢查裝置中之高精 度基板定位方法及使用此方法之檢查襄置。 L先前技術3 背景技術 以下說明習知基板定位方法。 10 根據第3圖來說明習知基板定位方法。 LCD(Liquid Crystal Display :液晶顯示器）基板或 PDP(Plasma Display Panel)等 FPD(Flat Panel Display)及半 導體晶圓等各種基板以及該等基板之微影成像步驟所使用 之掩模基板等係利用蒸鍵·姓刻等膜製造技術來製作。但， I5關於猎此形成於基板上之電極圖案或配線圖案，在製造途 中以及製造的最後步驟中必須判定品質的優良與否，這是 為了不使不良品流到後面步驟所需的步驟。因此，必須測 量所形成之圖案的尺寸或形成位置是否在預定範圍内。第3 圖係顯示用以測量上述基板之線寬的習知線寬測量裝置之 2〇 構造例的方塊圖。 LCD基板等檢查對象物1利用基板夾持台2來吸附其裡 面，藉此加以固定。另，基板失持台2成為利用未圖示之真 空泵等來吸附檢查對象物1的裡面之所謂真空# ^ 的構 造。基板夾持台2係設於配置於除震台5上之γ輛移二 夕勒平台4 與X軸移動平台3上。檢查對象物i藉由使χ軸移動平台3盘丫 車由移動平台4分別朝X輪方向、γ軸方向移動 ，可在X、γ平 面内移動’且可用光學顯微鏡8來觀察檢查對象物1内之預 &位置°所w預/Ui置係例如用以測量配線圖案所形成之 預定位置的線寬’且列定製品或半製品的優良與否而預先 訂定的位置。 X軸私動平σ 3與γ轴移動平台4分別藉由測量控制部 16來手動或自純操作，且㈣成使預定位置可進入光學 顯微鏡8的視野内。當檢查裝置為自動線寬測量裝置時，檢 查對象物1之檢查項目為測量形成於該等基板上之電極圖 案或配線®1㈣線寬朗隔，及料電極圖案或配線圖案 間之偏移量等。 照明光源6利用光線引導構件9將光導入光學顯微鏡 8，且所導人的光錢過檢錢㈣透鏡11投射在檢查對象 物1 ’而所投射的光會在檢查對象物1反射 ，且該反射光會 透過檢查對象物透鏡u、巾間透鏡Μ射人攝像機b。攝像 機15將入射光^換為電信號且將電信號輸出至測量控制部 16。另’錢為可見光、紅外線、紫外線等，而攝像機b 為可將該等光變換為電信號之CCD(Charge C—led Device) 等攝像元件。 •艾乜機構（快轉區）1〇成為可因應目的而將檢查對象物 透鏡11換成預備對準用對象物透鏡u的機構。光軸㈣)移 動平口 b為了將檢查對象物透鏡η的焦距調節至對焦位 置’因此使安財檢查縣物透鏡11之鮮賴鏡8整體朝 1226298 向和動。中間透鏡14係放大來自檢查對象物透 鏡11的影彳f，n 、1豕且將影像投影至攝像機15。攝像機15所攝取 勺&像則輪入測量控制部（檢查控制部）16内的圖像處理部 161° 光軸(Z輛）移動控制部162為一焦距控制部，該光軸移 動拴制部162為了適當地調節檢查對象物透鏡11的焦距，因 此使安叙有檢查對象物透鏡11之光學顯微鏡8整體朝光軸 (2轴）方向移動。另，焦距控制部162亦具有根據來自圖像 F 61的l號來進行自動對焦控制的功能。cpu 163具 10有用以控制測量控制部（檢查控制部）16之程式，且可使線寬 測里衣置動作。cpui63具有用以控制焦距控制部丨62、圖 像處理部161、Χγ移動控制部7之程式。XY移動控制部7内 包含有：用以使X軸移動平台3與γ軸移動平台4移動之移動 控制邛71，用以將基板丨推壓至基板夾持台2上，且利用滾 15輪2〇3、204、212將基板1推向基準滾輪2(Π、202、211，以 固定基板1之基板推壓控制部72 ;使基板丨的裡面吸附在基 板夾持台2之基板裡面吸附控制部73 ;及將基板丨從基板搬 送臂部18接收至基板夾持台2之基板接收桿上下控制部 74。CRT17為用以顯示圖像及操作開關之螢幕畫面，且操 20作者可藉由GUI(Graphical user interface)來操作滑氟 向裝置。 、曰 檢查對象物之基板1利用基板搬送臂部18搬送，且載置 於基板夾持台2上。第3圖中，基板搬送臂部18朝左右（兩铲 頭方向）移動來搬送基板1，另，其詳細說明可參照第5圖 1226298 第5圖係說明基板丨之搬送方法。第5圖中，第5(幻圖為 平面圖，第5(b)圖為側視圖。藉由基板搬送臂部18將基板i 搬送至Y軸移動平台4與X軸移動平台3之預定位置（參照第5 圖之基板1)。接著，在基板接收位置使基板接收桿191、 5 192、193、194通過基板夾持台2的4點孔穴1911、1921、 1931、1941，且朝箭頭方向上升，以抬起基板搬送臂部以 上的基板1。 在該狀態下，基板搬送臂部18在第5圖的例子中朝左側 退避。 10 接著，使基板接收桿191〜194下降，且將基板1傳送至 構成於基板夾持台2上之1〇〇個基板平面維持桿 2001〜2100(第5(a)圖中以小的〇來表示）。第5(a)圖中，由於 數量多而無法畫出全部，因此僅顯示其中一部份的基板平 面維持桿。又，第5(b)圖中則省略基板夾持台2上之基板平 15 面維持桿2001〜2100及吸附墊2201〜2212。 該等基板平面維持桿2001〜2100係安裝於基板夾持台 2 ’以保持基板1整個平面的平坦性。另，就如LCD之顯示 基板而言，其大小約為700x 700mm(板厚0.5mm)，而基板 平面維持桿的配列間距為7〇mm。 20 接著，根據第4圖說明基板夾持方法。第4圖係說明習 知基板夾持的方法。將基板1之基板基準面1〇1與1〇2(圖中 以粗線表示）推向基準滾輪201、202、211，以固定基板1。 即，朝箭頭方向利用推壓滾輪203、204、212來推壓基 板(推力為例如2kgf)，且推向基準滾輪201、202、211。基 1226298 準滾輪2(Π、202、211必須保持不能小於推壓滾輪203 Λ 204、 201的力量（例如5kgf)。於該狀態下，以設於基板夾持台2 之吸附墊2201〜2212(第5(a)圖中以黑點表示）來吸附保持第 5圖所示之基板1的裡面。 5 在吸附基板後，推壓滾輪203、204、212會因解除基板 推壓而退避至外側。基準滾輪201、202、211亦退避至外側 (曰本專利公開公報特開平9—39201號（第2〜4頁、第1圖、第 7 圖））。 而，在自動線寬測量裝置等檢查裝置中，以第4圖所示 1〇 之基板基準面101與102為基準，且事先登錄欲檢查之位置 座標121〜128，並在檢查檢查對象基板時讀取，且測量該位 置之配線圖案的線寬等，以進行檢查。 以下將說明該檢查方法。 利用對準用對象物透鏡12來觀察對準標誌111、112的 15 位置，且登錄對準標誌觀察位置的XY平台座標及對準標誌 檢測圖像。接著，利用變倍機構10，將對準用對象物透鏡 12換成檢查用對象物透鏡11，並利用檢查對象物透鏡^來 觀察基板1，且同樣登錄欲檢查之位置座標121〜128及檢查 圖像。 20 例如，利用中間透鏡3.3倍的顯微鏡將對準用對象物透 鏡12的倍率設為5倍。此時，光學倍率為5χ 3·3=16·5倍， 且當使用CCD攝像機尺寸6mmx 6mm時，CCD攝像機的視 野為6mm/16.5 = 0.36mmx 0.36mm的視野。 又，由於基板基準面至對準標誌111、112的距離公差 1226298 在—O.lmm以内，故若視野在〇 36mmx 0.36mm之範圍内， 則即使對準標誌的位置有些許偏差，對準標誌m、112仍 可進入CCD攝像機的視野内。因此，可藉由圖像處理來辨 識對準標誌Π1、112的位置。 5 在檢測出對準標誌111、112後，再次計算所檢測出之 位置座標與所登錄之位置座標的差（即，傾斜與偏移），並修 正名人彳双查之位置座標121〜128。根據上述結果來控制XY平 台，並將XY平台移動至欲檢查之正確的位置座標 121〜128。由於χγ平台之位置再現性，即，機械性誤差在 10數# m以内，且該移動誤差完全進入檢查對象物透鏡u之倍 率50倍的視野36/^mx 36//m内，故可確實地檢查。 即’若光學倍率為50χ 3.3= 165倍，且使用CCD攝像機 尺寸6mmx 6mm，則CCD攝像機的視野會成為6111111/165 = 〇.〇36mm=36//mx 36/zm。 15 而’若基板大小為例如700mmx 700mm，則基板夾持 台2之基板平面維持桿2〇〇1〜21〇〇可藉由以70mm的間隔來 配置而配置100個。 在前述基板1的裡面與100個基板平面維持桿 2001〜2100相接觸之狀態下，基板基準面1〇1與1〇2會與基準 20滾輪201、202、211接觸，且利用推壓滾輪2〇3、204、212 來推壓基板以進行定位，因此，推壓滾輪203、204、212之 推力必須為1〜2kgf。 但’ 述基板1近年來逐漸大型化，例如，ll〇〇mmx 1200mm或1500mmx 1850mm之基板逐漸實用化。該基板之 10 1226298 基板平面維持桿在前者約為300個，在後者約為6〇〇個。結 果右將板尽一樣没為0.5mm ’則基板1的裡面與基板平面 維持桿間之摩擦阻力在前者是7〇〇111111>< 700mm之基板的 2·5〜3倍，而後者是5〜6倍，如此一來，在LCD或PDP之玻璃 5基板中成為以推壓滾輪來推壓時會產生裂痕或龜裂的原 口 又’旦基板面積變大’則容易發生彎曲，故必須具 備更多基板平面維持桿，因此，基板變大，其摩擦阻力會 更大。 在用以檢查基板大小為11 〇〇mnix 1200mm之大型基板 10的衣置中，若基板夾持台之基板平面維持桿以7〇mm之間隔 配置，則必須配置269個基板平面維持桿。又，若基板大小 為1500mmx 1850mm，則必須配置566個基板平面維持桿。 由於基板的裡面與269個基板平面維持桿相接觸，故前 述基板的大小相較於基板大小為7〇〇mmx 700mm時，其摩 15擦阻力較大，再者，一旦基板變大，則利用推壓滾輪將基 板推壓至基板基準面之基準滾輪的力量必須在2 5〜6kgf以 上。若以如此大的力量來推壓基板，則會引起基板變形或 外形損傷或者内部配線圖案損傷，而使製品產率極度惡化。 本發明之目的係提供可解決上述問題，且以不會引起 20基板外形損傷或内部配線圖案損傷的力量來進行基板定位 的方法及基板之檢查裝置。 L發明内容3 發明概要 為了達成上述目的，本發明之基板定位方法係在基板 1226298 接收位置使基板接收桿從基板夾持台的4點孔穴上升，並於 從基板搬送臂部接收基板後，在基板接收桿與基板平面維 持桿接觸之前使基板接收桿停止上升，且在該狀態不進行 基板推壓定位。藉此，可僅以基板接收桿的摩擦阻力來推 5 壓基板，而減少推壓力。 即，本發明之基板定位方法係使用於檢查裝置，而兮 檢查裝置包含：搬送部，係用以搬送形成有配線圖案之基 板；載置台，係用以載置由搬送部所搬送之基板；攝像裝 置，係用以對基板之配線圖案進行攝像；及控制部，係^ Π)以控制用以處理來自攝像裝置之影像信號的信號處理裝置 及載置台的動作，又，載置台具有··夹持機構部，係用以 保持基板；基板移動機構部，係用以從搬送部接 部所搬送之基板，且將基板載置於爽持機構部；及對準^ 構，係用以使基板對準夾持機構部之預定位置，又，钱 b板定位方法係在基板移動機構部從搬送部接收基板至= 板載置於夾持機構部上為止的期間内，利用對準 板對準預定位置。 n 20

—一 •，八丞板移動機構部宜 板接觸至夾持機構部之歧基板停止移動，且利 構使基板對準預定位置。 t 又，本發明之基蚊位方法之基板移動機 該吸附機構部係由平面狀之夾持機構部 有夕數犬起部之失持機構部其中_者

動機構部在對準機構使紐對準財L J 12 1226298 載置於夾持機構部上。 又，本發明之基板定位 决之基板移動機構部宜具有 多數用以吸附基板之吸附機 ^ ♦構部’又’當欲利用對準機構 使基板對準預定位置時，係係夕 、夕數吸附機構部之部分吸附 機構部的⑽力較其他，_部的吸附力弱。 又，本發明之基板定位方法之基板移動機構部宜具有 夕欠用以吸附基板之吸附機構部，又，當㈣用對準機構 使基板對準前述預定位置時 10 15 20 知使多數吸附機構部内，位 之大致中央部的吸附機構部之吸附力較位於基板之 周邊。卩的吸附機構部之吸附力弱。 又，本發明之檢查裝置係 义么 糸由下列構件所構成：搬送部， 係用以搬送形成有配線圖案 卷板，載置台，係用以載置 由搬送部所搬送之基板；攝 m ^ 象衣置，係用以對基板之配線 圖木進行攝像；及控制部，f 壯 你用以控制用以處理來自攝像 衣置之影像信號的信號處理裝置及載置台的動作，其中載 置台具有：夾持機構部，係用 用乂保持基板，基板移動機構 係心從搬送部概由搬送部職送之基板，且將基 ^载置於夾持機構部；及對準機構，係用以使基板對準夾 立機構部之預定位置’ $，用以控制載置台的動作之控制 π具有在基板移動機構部從搬送部接收基板至將基板載置 =失持機構部為止的期間内使基板停止在預定位置的功 也’又，對準機構係'可使前述已停止之基板對準預定位置。 又，本發明之基板檢查裝置之基板移動機構部宜具有 朝攝像裝置之光轴方向移動之機構，且更具有用以檢測基 13 1226298 板之光軸方向的位置之位置檢測部。 又，本發明之基板檢查裝置之夾持機構部之用以載置 基板的面宜為平面。 又，本發明之基板檢查裝置之夾持機構部宜由多數突 5 起部所構成。 又，本發明之基板檢查裝置之基板移動機構部宜具有 多數用以吸附基板之吸附機構部，及用以控制多數吸附機 構部之吸附力的吸附力控制部，又，當利用對準機構將基 板對準預定位置時，吸附力控制部係控制多數吸附機構部 10 之部分吸附機構部的吸附力較其他吸附機構部的吸附力 又，本發明之基板檢查裝置之基板移動機構部宜具有 多數用以吸附基板之吸附機構部，及用以控制多數吸附機 構部之吸附力的吸附力控制部，又，當欲利用對準機構將 15 基板對準預定位置時，係使多數吸附機構部内，位於基板 之大致中央部的吸附機構部之吸附力較位於基板之周邊部 的吸附機構部之吸附力弱。 圖式簡單說明 第1圖係說明本發明之一實施例。 20 第2(A)圖〜第2(C)圖係顯示本發明之基板接收桿之一 貫施例的概略構造。 第3圖係顯示習知測量裝置之構造的方塊圖。 第4圖係說明習知之基板夾持方法。 第5圖係說明習知之搬送方法。 1226298 第6圖係顯示本發明一實施例之線寬測量裝置的構造 之方塊圖。 第7圖係說明本發明之基板接收與固定於吸附板之一 實施例的處理流程之流程圖。 5 第8圖係說明本發明之一實施例。 I：實施方式j 實施發明之最佳形態 以下，針對本發明實施形態作說明。 本發明之基板定位方法係如第5圖所示，在基板接收位 10置使基板接收桿191、192、193、194從基板夾持台2的4點 孔穴1911、1921、1931、1941上升，且在從基板搬送臂部 18接收基板後，使基板搬送臂部18退避。然後，使基板接 收桿19卜192、193、194下降，且將基板丨傳送至基板平面 維持桿2001〜2100，但在將該基板丨傳送至基板平面維持桿 15 2〇〇1〜2100前，先進行基板推壓定位。藉此，由於可僅藉由 基板接收桿191、192、193、194的摩擦阻力來推壓基板1， 故可減少推壓基板1的力量，如此一來，可減少摩擦阻力， 而避免基板變形或外形損傷。 第6圖係顯示本發明一實施例之線寬測量裝置的構造 2〇之方塊圖。弟6圖之構造係在第3圖之習知構造的χγ移動控 制部7内加入基板接收桿吸附控制部乃，且將χγ移動控制 部設為7’。基板接收桿吸附控制部75係吸附控制從基板搬 送臂部18接收基板之基板接收桿191〜194與基板。即，本發 明在基板接收機構的構造與定位方法上下過工夫。 15 1226298 利用第1圖、第6圖及第7圖說明基板接收與吸附板上之 定位方法。第1圖係說明本發明之基板接收與吸附板（吸附 機構部）上之定位的-實施例，第7圖係說明本發明之基板 接收與吸附板上之定位的-實施例之處理流程的流程圖。 5 首先說明搬送方法。 步驟601中，在由γ軸移動平台4舆乂軸移動平台3之移 動所決定之基板接收位置上，使基板接收桿191、 192 ^ ······、198從基板夾持台（夾持機構部）2的8點孔穴（參 第1(a)圖）上升，以抬起基板搬送臂部18上的基板丨。即， 10將基板1從搬送臂部18接收至基板接收桿191、192、……、 198。然後，上側位置感測器1932(參照後述第2圖）係感測抬 起基板接收桿191、192、······、198且基板丨從搬送臂部18 抬起之事項。 步驟602中，在基板1完全抬起後（參照第1(b)圖），使基 15板接收桿19卜192、······、198之吸附溝（例如，吸附溝1983) 的壓力降低至大氣壓以下，以吸附基板。基板接收桿191、 192、......、198之吸附部係利用例如矽樹脂1982之柔軟材 料，以容易進行吸附。 步驟603中，使基板搬送臂部18退避（退避至第1圖左 20 侧）。 步驟604中，使基板接收桿19卜192、······、198下降。 步^驟605中，後述第2圖之基板夾持位置感測器1933係 感測基板1之下降，且如第1(c)圖所示，使基板1停止在較接 觸到基板平面維持桿2001〜2100之高度更上方的位置，且， 16 1226298 停止在基準滾輪2〇1、202、211及推壓滾輪203、204、212 可推壓基板1之高度。 接著’在步驟606中，基板接收桿19卜192、......、198 係停止吸附’且使桿内從低壓回到大氣壓或者減弱吸附力。 5 步驟607中’為了進一步減少摩擦阻力，係將中央之基 板接收桿194之吸附溝的壓力作為吹起基板之用，且加上大 氣壓以上(0.2〜0.3Mpa)的壓力，使基板浮起。該狀態下，由 於將基板1推壓至基板基準面1〇1，且進行定位，故基板接 收桿191、192、......、198與基板1間之摩擦阻力會變得極 10 小，而可輕易進行定位。 另，為了 一面吸附基板1，一面吹起基板1，因此需要 空氣壓縮機等，但第1圖中將其省略。 步驟608中，藉由使基板1及基板基準面1〇1、1〇2與基 準滾輪201、202、211接觸，以定位基板位置。 15 即，步驟6〇8中，用推壓滾輪203、204、212來推壓基 板(推力為例如lkgf)，且將基板1推向基準滾輪2〇1、202、 211。基準滾輪201、202、211必須保持不能小於推壓滾輪 203、204、212的力量（5kgf)。 步驟609中，係停止基板接收桿194之吸附溝中所進行 20 之吹起。 步驟610中，使基板接收桿191、192、......、198之吸 附溝的壓力從大氣壓變為低壓（真空吸盤），以吸附基板1。 步驟611中，一旦基板接收桿191、192、......、198吸 附基板1，則解除推壓滾輪203、204、212之基板推壓，並 17 1226298 使推壓滾輪203、204、212退避至外側。又，基準滾輪201、 202、211亦退避至外側。 步驟612中，使吸附墊2201〜2212從大氣壓變為低壓（大 _ 氣壓以下）以準備吸附。 5 步驟613中，使基板接收桿19卜192、……、198下降。 另，下降宜慢慢地進行。 步驟614中，吸附墊2201〜2212吸附基板1，且使基板接 收桿191、192、......、198桿内從低壓變為大氣壓，以停止 吸附基板1。 _ 10 步驟615中，基板接收桿191、192、......、198係移動 至下側’使X平台3與Y平台4可自由地移動，且如第1(d)圖 所示，在下側感測器1934(參照後述第2圖）停止。 另，於上述說明中，在將基板丨載置於基板夾持台2之 前對基板1進行定位，且在定位後，使基板接收桿191、 15 I92、……、198下降，以將基板1固定於基板夾持台2，而 由於可充分獲得機械性精度，故其移動時之誤差極小，因 此沒有問題。 · 於上述實施例中，將基板接收桿内的氣壓與大氣壓相 比較來敘述。但，當檢查裝置等置於固定氣體環境内時， 2〇可藉由相較於該氣體環境（例如氮氣氣體）之氣體環境壓力 的咼低來進行吸附或吸附之停止。 上述控制在CPU163的命令下藉由χγ移動控制部7，内 之基板接收桿上下控制部74及基板接收桿吸附控制部乃來 進行。 18 1226298 根據第2圖，說明基板接收桿191、192......、198之一 實施例的概略構造。第2圖係顯示本發明之基板接收桿 191 " 192......、198之一實施例的概略構造。第2(a)圖係說 明基板接收桿之吸附與吹起的概略圖，第2(b)圖係說明感測 5器遮蔽板1942-1與上侧位置限制器·、上側位置感測器 1932、下側位置感測器、下側位置限制器1935的關係

之概略圖’第2(e)圖係說明基板夾持位置感測器遮蔽板 1942-2與基板夹持位置感測器丨933的關係、之概略圖。 第2(a)圖中，藉由步進馬達1941使滾珠螺桿1943旋轉。 1〇藉由該旋轉使螺帽部1944上下（箭頭方向）移動。因應該移 動用以支持基板接收桿191、192......、198之桿安裝部19 b上下私動於螺帽部1944固定有感測器遮蔽板1942-1與 基板夾持位置感測器遮蔽板1942_2，又，隨著螺帽部1944 的移動，感測器遮蔽板1942-1與基板夾持位置感測器遮蔽 15板1942_2會朝上下（垂直）方向移動。

上側位置限制器1931、上側位置感測器1932、下側位 置感測器1934、下側位置限制器1935及基板失持位置感測 时1933係女衣固疋於感測器安裝板1945。感測器安裝板 1945不會隨著螺帽物44而朝上下方向移動。另，該等限 20制為、感測器為例如光感測器。 藉由螺帽部1944朝上方移動，感測器遮蔽板1942]的 開放(缺口）料朝上方義。❹，m賴板著螺帽 H944的#動而上升，使該開放部通過（即，由感測器接收 光束)上船彳6 1932的光軸，藉此，可檢測基板1已 19 1226298 完全抬起的情況，且使基板接收桿198之吸附溝腕的壓力 降低至大氣壓以下，以吸附基板，並停止旋轉滾珠㈣ 1943(參照步驟602)。上側位置限制器1931為一擋止部，其 係在感測器遮蔽板1942-1之開放部通過前述光軸時，使螺 5帽部1944不再朝上方移動，以關閉欲供給至步進馬達1941 的電源。 接著，步驟604中，螺帽部1944朝下方移動，藉此，基 板接收桿191、192.·····、198會下降。然後，與其同時下降 之基板夾持位置感測器遮蔽板1942-2的開放（缺口）部也會 ίο朝下方移動。該基板夾持位置感測器遮蔽板1942_2與感測 器遮蔽板1942-1朝上下方向平行地固定於螺帽部1944。 又，可感測基板夾持位置感測器遮蔽板1942_2下降， 且其開放部通過基板夾持位置感測器1933的光軸，並在該 高度停止使螺帽部1944朝下方移動。然後，執行步驟6〇5〜 15步驟609及步驟61〇〜步驟612。 在執行步驟612後或開始執行後，螺部部1944會下降， 伴ik於此，感測器遮蔽板1942-1也會朝下方移動。然後， 當感測器遮蔽板㈣]之開放部通過下側位置感測器額 之光軸時，則使螺帽部1944停止下降。該停止位置為基板工 20與基板平面維持桿2001〜2100之上部接觸的高度。 又，下側位置限制器1935為一擋止部，其係在感測器 遮蔽板1942-1之開放部通過前述光軸時，使螺帽部1944不 朝下方私動，以關閉欲供給至步進馬達1941的電源（參照 步驟613〜步驟615)。 20 1226298 另’第2(b)圖之左圖係說明感測器遮蔽板；1942-1與上側 位置限制器1931、上側位置感測器1932、下側位置感測器 1934、下側位置限制器1935之位置關係，右圖則顯示從左 圖之紙面右方觀看的情形。同樣地，第2(c)圖之左圖係說明 感測為遮蔽板1942-2與基板夾持位置感測器1933之位置關 係’右圖則顯示從左圖之紙面右方觀看的情形。 吸附係藉由降低基板接收桿198之吸附溝1983之空氣 流通溝的壓力來進行。又，僅中央的基板接收桿194作為降 低空氣流通溝的壓力或者吹起基板用之基板接收桿。即， 為了減少摩擦阻力，且盡量避免基板之橫向移動，故僅將 中央的基板接收桿194設為具吹起機構之基板接收桿。 第2(a)圖中，1951表示具吹起機構之基板接收桿194的 ^氣流通導管系統，而1952表示僅具吸附機構之基板接收 桿(例如，基板接收桿19卜192、193、195〜198)的空氣流通 15導管系統。 基板平面維持桿由於進行定位等而與基板相接觸，因 7容易引起多數桿中任何—個會-曲或折f等破損的情形 ^生。而且，由於桿的數量多，因此該破損無法輕易地發 2〇現，又，其平面度之修正也是極為複雜的事情。此時，在 =板的一部份會發生局部性的彎曲，而導致測量精度下 P牛。以下’照第8圖說明可克服該問題之本發明的另一實 施例。 、 第8圖係顯示本料另-實施例。於上述實施例中，已 針對在將基板定位後，當將基板固定於基板爽持台時，設 21 1226298 有多數基板平面維持桿（夾持機構部），且將基板固定於其上 之貝苑例作說明。但，如上所述，當基板為例w15〇〇mmx 1850mm之大型玻璃板時，即使將基板載置於基板平面維持 桿上，在桿之間亦容易發生彎曲變形，為了因應該問題， 必須增加用以維持平面度之基板平面維持桿的數量，但増 加是有限的。 因此想出將基板夾持台設為平面基板挾持台，以取代 上述多數基板平面維持桿。 10

第8圖之實施例中，將基板夾持台設為面精度高之基板 挾持台2’，以取代第1圖中之基板平面維持桿2〇〇1〜21〇〇， 且在基板夾持台2,設置基板接收桿191、192、......、198(第 8圖中僅顯示基板接接收桿196、197、198)可上下移動之孔 穴。又，同樣地，在基板夾持台2,設置作為吸附墊 2201’〜2212’（第8圖中僅顯示吸附墊2207,〜2210，）之孔穴。然 15 後，當基板1隨著基板接收桿191、192、..... 而下降至基板夾持台2’時，前述吸附墊2207, 基板1。 、198之下降 2210’會吸附

其他則由於與弟1圖有相同的功能，故省略其說明。 如上所述，根據第8圖之實施例，將基板夾持台設為精 20度高之平面基板挾持台可減少誤差。另，如上所述，由於 即使使用平面基板夾持台，本發明亦在將基板固定於挾持 台之前完成正確的定位，故定位精度會變得極高。另，在 將基板載置於基板夾持台後，基板會與基板夾持台緊密結 合而不易移動，因而無法進行基板之定位。 22 1226298 如上所述，若根據本發明，則基板推壓力會在仏紱以 内，且在基板沒有損傷的情況下，可輕易地進行基板固定。 L圖式簡單說明】 第1圖係說明本發明之一實施例。 第2(A)圖〜第2(C)圖係顯示本發明之基板接收桿之— 實施例的概略構造。 第3圖係顯示習知測量裝置之構造的方塊圖。 第4圖係說明習知之基板夹持方法。

第5圖係說明習知之搬送方法。 第6圖係顯示本發明一實施例之線寬測量裝置的構造 之方塊圖。 第7圖係說明本發明之基板接收與固定於吸附板之一 貫施例的處理流程之流程圖。 第8圖係說明本發明之一實施例。 15 【圖式之主要元件代表符號表】 1···基板、檢查對象物 2···基板夹持台 3···Χ軸移動平台 4 · · · Υ轴移動平台 5…除震台 6···照明光源 10···變倍機構 11…檢查對象物透鏡 12···蘭對準㈣象物透鏡 13···光轴移動平台 14···中間透鏡 15···攝像機

7...ΧΥ移動控制部 8···光學顯微鏡

16···測量控制部 17...CRT 9··.光線弓丨導 18··.基板搬送臂部 23 1226298 19...桿安裝部 .上側位置限制器 71...移動控制部 1932... .上側位置感測器 72...基板推壓控刹邬 1933... ，基板夾持位置感測器 73…基板裡面吸附控制部 1934... ，下側位置感測器 74.··基板接收桿上下控制部 1935... .下側位置限制器 75…基板接收桿吸附控制部 1941··, •步進馬達 101、102··.基板基準面 1942-1 ···感測器遮蔽板 1H、112···對準標誌 1942-2 …基板夾持位置感測器 121〜128…位置座標 遮敝板 161…圖像處理部 1943··· •滾珠螺桿 162···光軸移動控制部 1944.., .螺帽部 163...CPU 1945.. .感測器安裝板 191〜198…基板接收桿 1982.. .石夕樹脂 2(H、202、211···基準滾輪 1983·· •吸附溝 203、204、212···滾輪 2001〜2100·.·基板平面維持桿 19H、192卜 1931、1941···孔 2201〜2212.··吸附塾 穴 ⑩ 24

Claims (1)

1226298 拾、申請專利範圍： 1. 一種基板定位方法，係使用於檢查裝置，而該檢查裝置 包含： 搬送部，係用以搬送形成有配線圖案之基板； 5 載置台，係用以載置由前述搬送部所搬送之前述基 板； 攝像裝置，係用以對前述基板之配線圖案進行攝

像；及 控制部，係用以控制用以處理來自前述攝像裝置之 10 影像信號的信號處理裝置及前述載置台的動作， 又，前述載置台具有： 夾持機構部，係用以保持前述基板； 基板移動機構部，係用以從前述搬送部接收由前述 搬送部所搬送之前述基板，且將前述基板載置於前述夾 15 持機構部；及

對準機構，係用以使前述基板對準前述夾持機構部 之預定位置， 又，該基板定位方法係在前述基板移動機構部從前 述搬送部接收前述基板至將前述基板載置於前述夾持 20 機構部上為止的期間内，利用前述對準機構使前述基板 對準前述預定位置。 2.如申請專利範圍第1項之基板定位方法，其中前述基板 移動機構部係在前述基板接觸至前述夾持機構部之前 使前述基板停止移動，且利用前述對準機構使前述基板 25 1226298 10 15 20 對準前述預定位置。 3·如II專利祀圍第1項之基板定位方法，其中前述基板 移動機構部具有吸附機構部，該吸附機構部係由平面狀 之夾持機構部或具有多數突起部之失持機構部其中— 者所構成’又，前述基板移動機構部在利用前述對準機 構使前述基板對準預定位置後，將前述基板載置於前述 夾持機構部上。 4.如申請專利範圍第！項之基板定位方法，其中前述基板 f動機構部具有多數用以吸附前述基板之吸附機構 二’又欲利用前述對準機構使前述基板對準前述預 ^ 才係使㈤述多數吸附機構部之部分吸附機構部 的吸附力較其他吸附機構部的吸附力弱。 i ^申請專利範圍第1項之基板定位方法，其中前述基板 ^動機構部具有多數用以吸附前述基板之吸附機構 :’又，士當欲利用前述對準機構使前述基板對準前述預 置了係使刚述多數吸附機構部内，位於前述基板 中央口P的吸附機構部之吸附力較位於前述基板 之周邊部的吸附機構部之吸附力弱。 種基板之仏查裝置，係由下列構件所構成： 搬1，係用以搬送形成有配線圖案之基板； ^ Q係用以載置由前述搬送部所搬送之前述基 板；

攝像裝置，係用以對 像；及 别述基板之配線圖案進行攝 26 1226298 控制部，係用以控制用以處理來自前述攝像裝置之 影像信號的信號處理裝置及前述載置台的動作， 其中前述載置台具有： 夾持機構部，係用以保持前述基板； 5 基板移動機構部，係用以從前述搬送部接收由前述 搬送部所搬送之前述基板，且將前述基板載置於前述夾 持機構部；及 對準機構，係用以使前述基板對準前述夾持機構部 之預定位置， 10 另，用以控制前述載置台的動作之前述控制部具有 在前述基板移動機構部從前述搬送部接收前述基板至 將前述基板載置於前述夾持機構部為止的期間内使基 板停止在預定位置的功能，又，前述對準機構係可使前 述已停止之基板對準前述預定位置。 15 7.如申請專利範圍第6項之基板之檢查裝置，其中前述基 板移動機構部具有朝前述攝像裝置之光軸方向移動之 機構，且更具有用以檢測前述基板之前述光軸方向的位 置之位置檢測部。 8. 如申請專利範圍第6項之基板之檢查裝置，其中前述夾 20 持機構部之用以載置前述基板的面為平面。 9. 如申請專利範圍第6項之基板之檢查裝置，其中前述夾 持機構部由多數突起部所構成。 10. 如申請專利範圍第6項之基板之檢查裝置，其中前述基 板移動機構部具有多數用以吸附前述基板之吸附機構 27 1226298 部，及用以控制前述多數吸附機構部之吸附力的吸附力 _ 控制部，又，當利用前述對準機構將前述基板對準前述 預定位置時，前述吸附力控制部係控制前述多數吸附機 構部之部分吸附機構部的吸附力較其他吸附機構部的 5 吸附力弱。 11·如申請專利範圍第6項之基板之檢查裝置，其中前述基 板移動機構部具有多數用以吸附前述基板之吸附機構 部’及用以控制前述多數吸附機構部之吸附力的吸附力 φ 控制部，又，當欲利用前述對準機構將前述基板對準前 10 述預定位置時，係使前述多數吸附機構部内，位於前述 基板之大致中央部的吸附機構部之吸附力較位於前述 基板之周邊部的吸附機構部之吸附力弱。 15 20 28