573236 捌、聲明事項 □本案係舱專利法第二+ί織一項□第一款但書或口第二款但書規定 之期間，其日期爲:_ 0本案已向下歹11國家(地區)申請專利，申請日期及案號資料如下: 【格式請依：申請國家（地區）；申請日期；申請案號順序註記】 1. 日本 2001.12.13 特願2001-380325_ 2. _ 3主張專利法第二十四條第·優先權; 【格式請依：受理國家（地區）；日期；案號順序註記】 1.日本 2001.12.13 特願 2001-380325_ 2·- · 3._ 冒 □主張專利雖二十五條之3-：項優先權: 【格式請依：申請日；申請案號順序註記】 2. □主張專利法第二十鴻紙物: □國內微生物【格式請依：寄存機構；日期；號碼順序註記】 2. □國外微生物【格式請依：寄存國名；機構；日期；號碼順序註記】 · 熟習該項技術者易於獲得，不須寄存。 玖、發明說明 (發明說明應敘明：發明所屬之技術領域、先前技術、內容、實施方式及圖式簡單說明） 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於一種雷射描繪方法及其裝置，爲對於印刷 配線基板等之被描繪體等掃描雷射光束，而在被描繪體上描 573236 繪所希望之圖型’特別係有關於一種技術，爲在雷射光束光 量控制系統中，用以校正（校準）雷射光束光量檢測裝置之技 術。 【先前技術】 已知係具有如下述說明之物來作爲習知之雷射描繪裝 置。習知之雷射描繪裝置係爲，依據來自曝光頭之光柵資料 (raster data)，將已調變及偏向之雷射光束朝向已被搭載於 描繪平台之被描繪體，掃描、射出至主要掃描方向，同時， 使描繪平台在正交於主要掃描方向之次要掃描方向上移 動，藉以在被描繪體上實施雷射描繪。其結果，在被描繪體 之被描繪區域整體上係描繪有電路圖型等所希望之圖型。 一般’作爲調整由曝光頭所射出之雷射光束之光量的方 法’已知有下述之2種方法。 第1方法係爲，將以曝光頭內之光量調整部所進行光量調 整之雷射光束之一部份由光束取樣器而分離抽出，將此種已 分離抽出之雷射光束之光量以光感測器來檢測，依據藉由該 光感測器所得之檢測結果來控制光量調整部。 第2方法係爲記載於日本專利公報特開平11_丨0 92 73號中 之物’將由曝光頭而被射出至被描繪體之被描繪區域外的雷 射光束以鏡子反射，並以光感測器來檢測出此種被反射之雷 射光束，依據藉由該光感測器所得之檢測結果而控制光量調 整部。 然而，在具有此種構造之習知例的情況下，卻具有以下之 573236 問題。 亦即，將雷射光束之一部份以上述之光束取樣器或鏡子等 而分歧、檢測出其雷射光束之光量，即使是欲調整被照射至 被描繪體之雷射光束之光量，仍會因爲長時間的使用而有使 對於被描繪體之雷射描繪精度降低之問題。 【發明內容】 本發明係有鑑於此種問題點所提出之物，其目的在於提供 一種雷射描繪方法及其裝置，係可將對於被描繪體之雷射描 繪精度維持在高精度。 爲了達成上述課題，經本案發明者深入硏究的結果，係獲 得下述之實務經驗。亦即，將雷射光束之一部份經由光學系 統來分歧，用以檢測出雷射光束之光量的光量檢測裝置之光 學構件，亦即，上述光束取樣器或鏡子等之光學構件之受光 部以所射入之雷射光束之雷射功率，而發現到有因雷射光束 所造成之逐漸劣化、在受光部上附著有細小異物而有被覆劣 化等之原因的存在。而由此種受光部之劣化或異物附著所造 成之結果，係因光束取樣器之分離比或光學效率之變化等而 造成鏡子反射率之變化，藉此，無法正確的檢測出雷射光束 之光量，無法將射出至被描繪體之雷射光束之光量成爲適當 的値，而可發現到對於被描繪體之雷射描繪精度之降低的因 果關係。 依據此種實務經驗，本發明係採用下列所述之構造。 亦即，本發明係爲一種雷射描繪方法，爲掃描雷射光束、 573236 在被描繪體上描繪所希望之圖型’其特徵在於，前述方法係 包含以下之過程： 第1檢測過程，將以光量調整裝置所光量調整之雷射光束 之至少一部份藉由抽出裝置來抽出，將此種已抽出之雷射光 束之光量以第1光量檢測裝置所檢測； 光量調整過程，爲依據以前述第1檢測過程所得之檢測結 果來調整前述光量調整裝置； 第2檢測過程，藉由存在於以前述光量調整裝置所光量調 整後之雷射光束之光路中的第2光量檢測裝置，而直接檢測 出雷射光束之光量； 校正過程，爲依據以前述第1檢測過程所得之檢測結果、 以及以前述第2檢測過程所得之檢測結果，校正前述光量調 整過程。 若藉由本發明之方法，在第1檢測過程中，將以光量調整 裝置所光量調整之雷射光束之至少一部份藉由抽出裝置來 抽出，將此種已抽出之雷射光束之光量藉由第1光量檢測裝 置來檢測。在光量調整過程中，依據以第1檢測過程所得之 檢測結果來調整光量調整裝置。在第2檢測過程中，藉由存 在於以光量調整裝置所光量調整後之雷射光束之光路中的 桌2光量檢測裝置，而直接檢測出雷射光束之光量。在校正 過程中，依據藉由第1檢測過程所得之檢測結果以及以第2 檢測過程所得之檢測結果來校正光量調整過程。 從而，抽出已經過光量調整之雷射光束之至少一部份的抽 573236 出裝置之光學特性係會惡化、於抽出裝置上附著有異物等情 況，而改變引導由抽出裝置至第1光量檢測裝置所抽出之雷 射光束的導光效率，即使在第1光量檢測裝置之光量檢測精 度上產生變化，將被照射至被描繪體之雷射光量之光量直接 地以第2光量檢測裝置檢測而出，依據該結果，係可校正在 第1光量檢測裝置中之雷射光束之光量檢測精度，而可將照 射至被描繪體之雷射光束之光量形成爲適當之値，可將高光 量精度所要求之高精細描繪以高品質來維持、進行。 再者，本發明係爲一種雷射描繪裝置，爲對於被描繪體掃 描雷射光束，在被描繪體上描繪所希望之圖型，其特徵在 於，該裝置係包含有以下之主要裝置： 維持裝置，係維持被描繪體； 曝光裝置，爲具有：光量調整裝置，係調整雷射光束之光 量；抽出裝置，係抽出藉由前述光量調整裝置所光量調整之 雷射光束之至少一部份；第1光量檢測裝置，係檢測出藉由 前述抽出裝置所抽出之雷射光束之光量；將藉由前述光量調 整裝置而所光量調整之雷射光束，對於被維持在維持裝置之 被描繪體，爲在主要掃描方向上進行掃描； 移動裝置，在與主要掃描方向正交之次要掃描方向上，對 於前述曝光裝置爲使前述維持裝置呈相對性的移動； 描繪處理控制裝置，係控制前述曝光裝置及前述移動裝 置； 第2光量檢測裝置，爲被設在前述維持裝置上，直接檢測 573236 出由前述曝光裝置朝向前述維持裝置所射出之雷射光束之 尤里， 校正裝置，爲依據以前述第丨光量檢測裝置所得之檢測結 果、以及以前述第2光量檢測裝置所得之檢測結果，校正前 述第1光量檢測裝置。 若藉由本發明之裝置，曝光裝置係具有：光量調整裝置， 係調整雷射光束之光量；抽出裝置，係抽出藉由前述光量調 整裝置所光量調整之雷射光束之至少一部份；第1光量檢測 裝置，係檢測出藉由該抽出裝置所抽出之雷射光束之光量； 將藉由光量調整裝置而所光量調整之雷射光束，對於被維持 在維持裝置之被描繪體，爲在主要掃描方向上進行掃描。移 動裝置係爲，在與主要掃描方向正交之次要掃描方向上，對 於曝光裝置爲使維持裝置呈相對性的移動。描繪處理控制裝 置’係控制曝光裝置及移動裝置。第2光量檢測裝置係爲， 被設在維持裝置上，直接檢測出由曝光裝置朝向維持裝置所 射出之雷射光束之光量。校正裝置係爲，依據以第1光量檢 測裝置所得之檢測結果、以及以第2光量檢測裝置所得之檢 測結果，校正第1光量撿測裝置。 從而’抽出已經過光量調整之雷射光束之至少一部份的抽 出裝置之光學特性係會惡化、於抽出裝置上附著有異物等情 況’而改變引導由抽出裝置至第丨光量檢測裝置所抽出之雷 射光束的導光效率，即使在第〗光量檢測裝置之光量檢測精 度上產生變化，將被照射至被描繪體之雷射光量之光量直接 573236 地以第2光量檢測裝置檢測而出，依據該結果，係可校正在 第1光量檢測裝置中之雷射光束之光量檢測精度，而可將照 射至被描繪體之雷射光束之光量形成爲適當之値，可將高光 量精度所要求之高精細描繪以高品質來維持、進行。 較佳爲，第2光量檢測裝置係爲被設置在維持裝置中之被 描繪區域內，因此，由曝光裝置所射出之雷射光束係被射入 至維持裝置之被描繪區域內之第2光量檢測裝置，該雷射光 束之光量係以第2光量檢測裝置所檢測而出。從而，在維持 裝置中之被描繪區域外上設有第2光量檢測裝置的情況下， 爲使雷射光束直接射入該第2光量檢測裝置，而產生必須要 擴大雷射光束之主要掃描範圍，對於被維持在維持裝置中之 被描繪體而言，藉由用以在主要掃描方向上掃描雷射光束之 曝光裝置，而必須得增大所使用之透鏡及偏向器等，不過， 因爲在維持裝置中之被描繪區域內設有第2光量檢測裝置， 故而爲了朝第2光量檢測裝置之雷射光束之射入而沒有必要 擴大雷射光束之主要掃描範圍，而可防止在曝光裝置所用之 透鏡及偏向器等之大型化。 較佳爲，曝光裝置係將多道雷射光束朝向被維持在維持裝 置之被描繪體而射出。被描繪體控制裝置係控制曝光裝置及 移動裝置’以分別將多道雷射光束一道道的導入至第2光量 檢測裝置及第2光量檢測裝置。第1光量檢測裝置及第2光 里fe測裝置係將多道雷射光束之光量分別一道道的檢測而 出。校正裝置係爲，依據藉由第〗光量檢測裝置及第2光量 573236 檢測裝置所分別檢測而出之各個多道雷射光束的檢測結 果，而校正於多道雷射光束之每一道第1光量檢測裝置。從 而’即使在對於被維持在維持裝置之被描繪體對於多道雷射 光束進行掃描、以進行多光束描繪之雷射描繪裝置中，可將 第1光量檢測裝置中之雷測光束之光量檢測精度於各光束進 行校正’且可將照射至被描繪體之各雷射光束之光量形成爲 適當之値’可將高光量精度所要求之高精細描繪以維持高品 質來進行。 較佳爲’校正裝置係爲，判斷以第1光量檢測裝置所檢測 而出之第1光量値與以第2光量檢測裝置所檢測而出之第2 光量値之間的差是否有超出容許値，在超出前述容許値的情 況下’便實施第1光量之檢測裝置之校正。從而，可簡單地 進行是否有必要進行校正之判斷。 【實施方式】 以下’依據圖式詳細說明本發明之較佳實施例。 第1圖所示係有關本發明之雷射描繪裝置之一例的槪略 構成立體圖。 有關本發明實施例之雷射描繪裝置係如第1圖所示，大區 分爲具備有：描繪座5，係載置有被覆感光材料之印刷配線 基板（被描繪體）S ;成像光學系統2 1，爲包含有使描繪用之 售射光束LB偏向至主要掃描方向方向）之多邊形鏡67或f Θ透鏡6 8等·，移動機構，爲使描繪座5移動至次要掃描方 向（y方向）；資料處理部1 〇丨，爲處理使用C A D (電腦輔助設 573236 計）所設計之印刷配線基板之輸出工作資料；描繪控制部 1 02 ’依據來自該資料處理部1 ο 1之資料來進行描繪控制。 描繪座5之移動機構係構成如下。在該裝置之基台1之上 面係配設有一對導軌3，在該等導軌3之間爲配備有藉由伺 服馬達7而旋轉之傳送螺桿9。描繪座5係將其下部螺合至 該傳送螺桿9上。描繪座5爲具備有沿著導軌3而呈滑動自 如狀所安裝之座基台1 〇、以及用以吸附載置印刷配線基板S 之載置台 1 5。 此外，上述描繪座5係相當於在本發明中之維持裝置，而 以上述導軌3、伺服馬達7、以及傳送螺桿9所構成之移動 機構係相當於在本發明中之移動裝置。 描繪座5爲藉由伺服馬達7之驅動而移動之y方向（次要 掃描方向）中，爲在處理位置PY而將描繪用之雷射光束LB 偏向至X方向（主要掃描方向），同時，配置有朝向下方照射 之成像光學系統2 1。此種成像光學系統2 1係藉由門型狀之 框架而被配設在基台1之上部，在驅動伺服馬達7後，描繪 座5便形成對於成像光學系統2 1進行進退。 其次，針對成像光學系統內之構造進行說明。 雷射光源4 1係例如爲一種將半導體作爲激勵光源、波長 5 3 2 nm之固體雷射。由此種雷射光源4 1所射出之雷射光束 L B a係爲被輸入至光量調整單元4 2，以此種光量調整單元 42進行光量調整、輸出。以光量調整單元42而光量調整而 輸出雷射光束LBa係爲，藉由角隅鏡43而將方向改變呈略 爲90° 、被射入至光束擴散器45。藉由此種光束擴散器45 -14- 573236 而被調整至所定之光束徑値的雷射光束LBa係藉由光束分 離器47被分割成例如8道雷射光束LBb (在第1圖中係爲省 略）。被分割成8道雷射光束LBb係藉由聚光透鏡49及角隅 鏡 51，分別對於聲光式變調器（AOM， acousto optical m〇dulat〇r)53而呈平行射入的同時，成像於聲光式變調器53 內之結晶中，藉由來自後述之描繪控制部1 0 2的控制信號而 形成爲依據分別獨立之光柵資料而進行調變。此種聲光式變 調器53係爲可使各光束（8道雷射光束LBb)間的光量不致分 散不均的在各光束中可進行光量調整。此外，上述的光量調 整單元42或是聲光式變調器53係相當於本發明之光量調整 裝置。 以聲光式變調器5 3所調變之雷射光束LB c係以角隅鏡5 5 所反射、射入至重放透鏡系統5 7。由重放透鏡系統5 7所射 出之雷射光束LBc係被導引至光束取樣器31。被射入至光 束取樣器31之雷射光束LBc係幾乎透過該光束取樣器31， 經由快門構件33而被導入至柱面透鏡59，不過，已射入之 雷射光束LBc之一部份爲藉由此種光束取樣器31所分離、 抽出，導入至後述之第1光量監視器3 5之一方。此外，上 述之光束取樣器3 1係相當於本發明之抽取裝置。 設於光束取樣器3 1後段之快門構件3 3係依據來自描繪控 制部1 02之指示，來進行朝向已透過光束取樣器3 1之雷射 光束LBc之柱面透鏡59的輸出及其停止。 被射入柱面透鏡5 9之雷射光束L B c係經由角隅鏡6丨、球 573236 面透鏡63、以及角隅鏡65而被導入至多邊形鏡67。而在多 邊形鏡6 7之各面上、於主要掃描方向（χ方向）上形成長條狀 之光點。 藉由多邊形鏡6 7之旋轉而在水平面內呈偏向掃描之線狀 雷射光束LBc係在通過fg)透鏡68後，於主要掃描方向上 呈長條狀之折返、藉由鏡子6 9而朝向下方折返。並且，以 像場透鏡7 1進行補正而使朝向曝光面之射入角形成爲略垂 直狀後，便通過柱面透鏡7 3、以形成爲朝向載置台1 5照射。 柱面透鏡7 3係在主要掃描方向上爲長條狀，僅在次要掃 描方向上具有功率。柱面透鏡73係被配設呈其圓柱面爲朝 上之狀態。爲使柱面透鏡7 3於次要掃瞄方向（y方向）移動之 位置補正機構8 1係分別被配置在柱面透鏡73之兩端部。藉 由將柱面透鏡73之位置呈左右獨立狀的在次要掃描方向（y 方向）移動，而形成可使該物在掃描位置上移動。 上述之多邊形鏡6 7上之線狀光點係爲，藉由f 0透鏡6 8、 像場透鏡7 1以及柱面透鏡73之間的作用，在載置台1 5上 形成、成像所定徑値之光點’形成藉由旋轉多邊形鏡6 7而 於主要掃描方向（X方向）移動之雷射光束LB(最多由8道雷 射光朿所形成）。 此外，在上述像場透鏡7 1以及柱面透鏡7 3之間’係配設 有用以將雷射光束引導至起始感測器7 5之鏡子7 7。鏡子7 7 係爲，將已通過像場透鏡7 1之描繪開始位置正前方之雷躬· 光束L B反射呈引導至朝向配設有起始感測器7 5之斜上方。 -16 - 573236 起始感測器7 5係檢測出朝向雷射光束之主要掃描方向（x方 向）之掃描開始。由起始感測器7 5所輸出之掃描開始信號係 被付與至描繪控制部1 02，而形成爲由該時間點開始、於經 過所定時間後開始描繪。 此外，上述之成像光學系統2 1係相當於在本發明中之曝 光裝置。 其次，使用第2圖，針對於上述光量調整單元42之構造 進行更加詳細的說明。第2圖所示，係用以說明在光量調整 單元42中之光量調整原理的說明圖。 如第2圖所示，光量調整單元42係具備有1/2波長板 42a、用以使該1/2波長板42a繞光軸周圍旋轉之脈衝馬達 4 2b、以及2個偏光光束分離器42c，藉由來自於後述之描繪 控制部1 02的控制而輸出已調整呈所定光量之雷射光束 LBa。2個偏光光束分離器42c係爲，僅使各個雷射光束之p 偏光成分透過之物，而呈直列狀的被配置在1 /2波長板42a 之正後方。在使1 /2波長板42a繞著光軸旋轉後，透過2個 偏光光束分離器4 2 c之p偏光成分之光量係產生變化。如 此，調整、輸出已輸入之雷射光束LB a之光量。此外，亦可 使用2個或是1個偏光光束分離器42c，用以獲取消光比。 接著，使用第3圖，針對來自聲光式變調器5 3至多邊形 鏡67爲止之光路、以及第1光量監視器3 5之構造進行更詳 細的說明。第3圖所示係爲，用以說明來自聲光式變調器5 3 至多邊形鏡6 7爲止之光路、以及第1光量監視器3 5之間的 573236 構造之說明圖。 如第3圖所示，以聲光式變調器5 3所調變輸出之8道雷 射光束LBc係被射入至重放透鏡系統57內，而由該重放透 鏡系統5 7內之球面透鏡57&而分別被射入至光束取樣器 31。光束取樣器31係爲，透過已射入之各個約99%之光量 的8道雷射光束L B c，同時將該已射入之各個約1 %之光量 的8道雷射光束LBc作爲8道光量監視器光束而抽出分離、 輸出至第1光量監視器3 5。此外，8道光量監視器光束係在 呈略直角之方向中改變、抽出，第1光量監視器3 5係被配 置在8道光量監視器光束之主光線相交光圈之位置附近。藉 此’該8道光量監視器光束係形成爲在第1光量監視器3 5 之相同位置被檢測而出。已透過光束取樣器3 1之8道雷射 光束L B c係經由快門構件3 3、柱面透鏡5 9、以及球面透鏡 63而被導入至多邊形鏡67，在多邊形鏡67之多邊形面上、 於主要掃描方向（X方向）上形成長條狀之光點（以虛線表 示）。此外，在多邊形鏡6 7之多邊形面上，上述線狀光點係 於第3圖之垂直於紙面方向上形成8道、呈並列狀之雷射光 束LBc的頻道。 如第3圖所不，第1光量監視器3 5係例如具備有光學二 極體感測器3 5 a與A / D轉換器3 5 b。將以光學二極體感測器 3 5a而受光之雷射光束LBc之光強度而轉換、輸出呈電壓， 此種已輸出之電壓係藉由A/D轉換器3 5 b而進行類比數位轉 換、輸出至後述之光量演算部8 9 (參照第4圖）。此外，上述 -18- 573236 第1光量監視器3 5係相當於本發明之第1光量檢測裝置。 再者，如第1圖所示，於本實施例之裝置中，例如，在載 置台1 5之次要掃描方向後端部上、被描繪區域內（雷射光束 LB之X方向之掃描範圍內），係設有用以檢測出雷射光束LB 之光量的第2光量監視器3 7。第2光量檢測器3 7係被構成 爲與上述第1光量監視器3 5相同，具備有光學二極體感測 器3 7a與A/D轉換器37b (參照第4圖）。此外，上述第2光 量監視器3 7係相當於本發明之第2光量檢測裝置。 其次，針對資料處理部1 0 1與描繪控制部1 02，使用第4 圖進行說明。第4圖所示係爲表示雷射描繪裝置之槪略構成 方塊圖。 如第4圖所示，資料處理部1〇1係爲，輸入以使用CAD 所設計之印刷配線基板之輸出工作資料，轉換成用以進行光 柵掃描描繪之累積長度資料、輸出至描繪控制部1 02。且使 用例如工作站或個人電腦以作爲此種資料處理部1 0 1。 描繪控制部1 02係具備有光量演算部89、累積長度資料 緩衝器1 1 2、光柵轉換電路1 1 3、描繪資料緩衝記憶體1 1 4、 以及描繪處理部1 1 5。以下，將各構造依順序進行說明。 此種光量演算部8 9係爲，將來自第1光量監視器3 5之 A/D轉換器35b之電壓値，依據第1光量監視器35用之所 定的換算式，作爲光量所計算而出。此外，光量演算部89 係爲依據上述第1光量監視器3 5用之換算式所計算而出， 依據對應於以第1光量監視器3 5所檢測而出之電壓値的光 573236 量（像面光量値），算出用以補正雷射 資料C ’且將此種已算出之光量補正 部Π 5。 累積長度資料緩衝器i i 2係爲，一 部1 0 1所轉換之累積長度資料。光柵 讀取而出之累積長度資料轉換成像| 料。描繪資料緩衝記憶體i丨4係於每 料。 描繪處理部1 1 5係在光栅轉換電路 示’將被記憶在描繪資料緩衝記憶體 部之描繪時脈產生電路1 2 2之描繪時 將依據此種光柵資料所產生之描繪信 據來自光量演算部8 9之光量補正資 種補正後之描繪信號f輸出至聲光式 單元4 2。聲光式變調器5 3係依據此賴 而將來自雷射光源4 1之雷射光束進 此外，由雷射光源4 1所輸出之單一‘ 係藉由控制光量調整單元42之脈® 整。 在此，針對上述描繪處理部Π 5 明。描繪處理部1 1 5係具備有主要控 生電路122、光量補正電路123、多讀 及Y軸同步控制部1 2 5。上述描繪處 光束之光量的光量補正 資料c輸出至描繪處理 次記憶全數以資料處理 轉換電路1 1 3係將依次 看單位之2値的光柵資 一次掃描中記憶光柵資 r 1 1 3中付與光柵轉換指 1 1 4之光柵資料，自內 脈信號d所讀取而出， [號e之電壓（振幅），依 料c而進行補正，將此 :變調器5 3及光量調整 墜補正後之描繪信號f， :行調變（光強度調變）。 雷射光束LBa之光量， 5馬達42b而適當的調 之構造進行更詳細的說 :制部1 2 1、描繪時脈產 I形旋轉控制部124、以 理部1 1 5係相當於在本 -20- 573236 發明中之描繪處理控制裝置。 在主要控制部1 2 1中，係輸入有以光量演算部8 9所算出 之光量補正資料c、或是以起始感測器7 5而在每1次掃描中 所檢測而出之掃描開始信號a等。主要控制部1 2丨係爲，依 據來自描繪時脈產生電路1 2 2之描繪時脈信號d與來自光量 演算部8 9之光量補正資料c來控制光量補正電路丨2 3，控制 多邊形旋轉控制部1 2 4與Y軸同步控制部1 2 5。 描繪時脈產生電路1 2 2係爲，產生描繪時脈信號d、輸出 至描繪資料緩衝記憶體1 1 4與主要控制部1 2 1。光量補正電 路1 2 3係將由描繪資料緩衝記憶體π 4所輸出之描繪信號 e，依據以主要控制部1 2 1所設定之光量補正資料c來進行 補正，將此種補正後之描繪信號f輸出至聲光式變調器5 3 以及光量調整單元42。多邊形旋轉控制部1 24係依據來自主 要控制部1 2 1之指示，旋轉控制多邊形鏡6 7。Y軸同步控制 部1 2 5係依據來自主要控制部1 2 1之指示，使在雷射描繪中 呈问步、將描繪座5於y軸方向驅動控制。 第2光量監視器37之光學二極體感測器37a係爲，受光 雷射光束LB，將此種雷射光束LB之光強度轉換成電壓、輸 出至後段之A/D轉換器37b。並且，此種已輸出之電壓係藉 由第2光量監視器37之A/D轉換器37b而進行類比數位轉 換、輸出至光量演算部89。此種光量演算部89係依據第2 光量監視器3 7用之所定的換算式，將來自第2光量監視器 37之A/D轉換器37b的電壓値作爲光量所計算而出。 573236 光量演算部89係依據上述第1光量監視器3 5用之換算式 所計算而出，判斷依據對應於以第1光量監視器3 7所檢測 而出之電壓値的第1像面光値、以及依據上述第2光量監視 器3 7用之換算式所算出之對應於以第2光量監視器3 7所檢 測而出之電壓値的第2像面光量値之間的差是否有超過容許 値。當前述第1光量値與第2光量値之間的差超過容許値的 情況下，將第1光量監視器3 5之校正指示g輸出至描繪處 理部1 1 5之主要控制部1 2 1。 主要控制部1 2 1係在接收來自光量演算部8 9之校正指示 g後，經由描繪座5、或是光量補正電路1 23來控制光量調 整單元42、聲光式變調器53，以藉由第1、第2光量監視器 3 5、3 7分別進行個別地光量計測。 光量演算部8 9係爲，由第1、第2光量監視器3 5、3 7之 檢測結果，將第1光量監視器3 5用之轉換式針對全數頻道 進行重新請求，將該轉換式之係數記憶在記憶體3 5內。上 述光量演算部89等係相當於在本發明中之校正裝置。 其次，使用第5圖，針對上述光量補正電路1 2 3之構造進 行說明。第5圖所示係爲描繪控制部1 02之局部構造方塊 圖。 如第5圖所示，光量補正電路1 2 3係被設在各個雷射光束 之頻道內。依據由描繪資料緩衝記憶體1 1 4所讀取而出之各 光束之光罩資料所產生的描繪信號e，係被輸入至各個對應 之光量補正電路1 2 3中之各頻道中。該等光量補正電路1 2 3 -22- 573236 係將已輸入之描繪信號e，依據自我設定之光量補正資料c 而進行補正，將此種補正後之描繪信號f分別輸出至聲光式 變調器53。該等光量補正電路123係以光量補正記憶體 1 3 1、基準電壓輸出電路1 3 2、光量控制電路1 3 3所構成。另 外，主要控制部1 2 1係將來自光量演算部89之各個光量補 正資料c，在對應之光量補正記億體1 3 1中分別設定在每一 頻道。在此，此種光量補正資料c係爲用以補正作爲描繪信 號之振幅的光量控制用電壓設定（多値光量設定値）之物。 光量補正記憶體1 3 1係爲，將雷射光束之光量補正値作爲 光量補正資料c而進行記憶維持。基準電壓輸出電路1 3 2係 爲，因應由光量補正記億體1 3 1所讀取而出之光量補正資料 c、產生光量補正用之基準電壓h。光量控制電路133係因應 來自基準電壓輸出電路132之產生光量補正用之基準電壓 h，補正在描繪信號e中之光量控制用電壓設定（多値光量設 定値），將此種補正後之描繪信號f輸出至聲光式變調器5 3。 此外，作爲基準電壓輸出電路1 3 2係列舉有，例如，將由 光量補正記憶體1 3 1所讀出之作爲數位資料的光量補正資料 c轉換、輸出於作爲類比資料之光量補正用之基準電壓h的 D/A (數位類比）轉換器等。此外，作爲光量控制電路133係 列舉有，例如，將由描繪資料緩衝記憶體1 1 4所讀出之光柵 資料進行多値化、將產生描繪信號時之作爲數位資料的光量 控制用電壓設定（多値光量設定値）因應來自基準電壓輸出 電路132之光量補正用的基準電壓h而進行補正，輸出作爲 -23- 573236 此種補正後之類比資料之描繪信號的D/A(數位類比）轉換器 等。 藉由以此種各光量控制電路1 3 3所補正之描繪信號f，而 使對應之雷射光束分別進行調變，使已調變之各雷射光束照 射至印刷配線基板S上，而已經過補正之各雷射光束之光量 的描繪圖型係被形成在印刷配線基板S上。 接著，在具有以上構造之實施例的雷射描繪裝置中，一面 參照第1圖一面針對雷射描繪動作進行說明。 如第1圖所示，在描繪座5之載置座15上之所定位置上， 印刷配線基板S係藉由基板搬送裝置（省略圖式）而載置。將 被載置在載置座1 5上之印刷配線基板S進行對齊補正 (alignment correction)等而正確的決定描繪開始位置。並 且，印刷配線基板S係以位於處理位置PY般地而依據描繪 控制部1 02之控制、使描繪座5移動至次要掃描方向（y方 向）。 此外，印刷配線基板S在到達處理位置PY爲止，爲緊閉 成像光學系統2 1中之快門構件3 3，並以第1光量監視器3 5 來檢測出雷射光束LB c之光量。因爲具有將照射至印刷配線 基板S之雷射光束LB之光量以高精度來進行控制之必要 性，故而在對於載置於描繪座5上之印刷配線基板S而進行 雷射描繪之間，通常爲藉由第1光量監視器3 5來進行全頻 道之雷射光束LBc之光量監視器（光量檢測）。 描繪控制部1 02係爲，控制成像光學系統2 1、使雷射光 -24- 573236 束LB於印刷配線基板s之主要掃描方向（x方向）上進行掃 描，同時，使描繪座5在次要掃描方向（y方向）移動’於印 刷配線基板s上雷射描繪所定之圖型。 此種實施例之雷射描繪裝置係如上所述’爲將多道（在此 實施例中，係例如爲8道）之雷射光束LB同時照射至印刷配 線基板S之多光束型之物。 在此，針對本實施例之裝置中的多光束而使用第6圖進行 說明。第6圖所示係多光束配列及其光束間隔之示意圖。如 第6圖所示，爲了排除雷射光之相互干涉，多光束係配置呈 對於掃描線形成爲傾斜狀。亦即，鄰接之光束間的主要掃描 方向（X方向）之距離係調整成爲例如1 0 0 m、鄰接之光束間 的次要掃描方向（y方向）之距離係調整成爲形成光柵描繪之 像素單位數爲形成5// m。從而，在8道光束中，CH(頻道）1 至CH8之光束中心間的距離係形成爲在x方向間隔爲約700 # m、y方向間隔爲約3 5 // m。 接著，在此種實施例之雷射描繪裝置中，將第1光量監視 器3 5針對進行之校正動作，一面參照第7圖之流程圖一面 進行說明。第7圖所示係第1光量監視器3 5之校正處理的 流程圖。此外’以下說明之第1光量監視器3 5之校正，亦 可在本實施例之裝置之開啓時、或是僅在定期診斷時等所希 望之時期中來進彳了。 〔步驟1〕 藉由第1光量監視器3 5所得之雷射光束LB c之光量檢測 -25- 573236 係如上所述，在對於印刷配線基板S之雷射光束LB的非描 繪時來進行。例如，爲了印刷配線基板S之搬送或是印刷配 線基板S之對齊（alignment)檢測等，而利用描繪座5爲位於 待機位置之狀態，或是使描繪座5位於由待機位置至描繪開 始位置般地使描繪座5對於成像光學系統2 1移動等時之非 描繪之際，亦即，利用成像光學系統2 1爲等待處理之狀態 的期間，藉由第1光量監視器35而進行雷射光束LBc之光 量檢測。藉由此種第1光量監視器35所得之雷射光束LBc 之光量檢測，係將8道雷射光束1道道的藉由光量調整單元 42或聲光式變調器53而將雷射光束LBc之光量改變爲所定 之光量刻度，針對全數8道（chi〜ch8)之雷射光束來進行。 具體而言’主要控制部1 2 1係經由光量補正電路丨23而適 當的控制光量調整單元42或聲光式變調器53，亦即，將光 量調整單元42之1/2波長板42a以所定節距來旋轉、或是 調變輸出控制聲光式變調器53，以輸出8道雷射光束LBc 中之1道雷射光束LBc，同時，使該雷射光束LBc之光量以 所定之光量刻度來進行變化。此外，即使是對於剩餘的7道 雷射光束LB c亦進行相同的動作。第1光量監視器3 5係爲， 光量爲以所定光量刻度進行變化，僅射入1道雷射光束 LB c、且計測其光量。亦即，8道雷射光束LB c之曝光光點 爲一道道地以所定順序而被射入至第1光量監視器3 5、且計 測其光量。此種計測係針對全數頻道來進行，且於各個頻道 個別地進行計測。 573236 此外，第1光量監視器3 5係變化以光束取樣器3 1所分離 抽出之光量、且逐一檢測出雷射光束LB c而作爲電壓値來進 行輸出，將來自第1光量監視器35之各輸出電壓依據上述 第1光量監視器35用之換算式，分別算出第1光量値（第1 像面光量値），由此種已算出之第1像面光量値而製作出如 第8圖所示之特性線。第8圖所示係用以說明像面光量値與 第1光量監視器3 5之輸出電壓之間關係的說明圖。 如第8圖所示，被射入至第1光量監視器35之實際光量、 以及由該第1光量監視器3 5所輸出之電壓，雖係約呈線性， 不過，藉由感測器（在本實施例中，係爲光電二極體）之特性 或電路調整等，而在例如低光量時，該等比例關係則會有些 許混亂。此外，朝向光束取樣器3 1之雷射光束的射入角係 爲8道雷射光束LBc各不相同，亦即，藉由雷射光束LBc 之頻道爲呈相異’因此在各雷射光束LBc之頻道中，上述第 1光量監視器3 5用之換算式係形成爲相異。也因此，在本實 施例之裝置中，預先針對全數頻道（c h 1〜c h 8之8頻道），一 面使射入光量產生變化、一面測定其輸出電壓，而在各頻道 中進行多項式近似法（polynomial approximation)，在上述第 1光量監視器3 5用之換算式中，爲使係數記憶在光量演算部 8 9內之記憶體中。 爲使照射至印刷配線基板S之雷射光束L B形成爲所希望 之曝光光量，依據上述第1光量監視器35用之換算式，對 於光量調整單元42或聲光式變調器53而進行適當的曝光光 -27- 573236 量設定。此外，特別將對應於被設定成此種所希望之光量値 的雷射光束LB之第1光量値（第1像面光量値）稱之爲「第1 設定光量値」。 此外，在該步驟S 1之第1光量監視器3 5中之光量檢測 係相當於本發明第1檢測過程，對於該步驟S 1之光量調整 單元42或聲光式變調器53之光量設定係相當於本發明之光 量調整過程。 〔步驟 2〕 其次，僅在本實施例之裝置開啓時或是定期診斷時等所希 望的時期中，使該描繪座5移動呈將描繪座5之第2光量監 視器3 7位於處理位置PY，將照射至印刷配線基板S之實際 的雷射光束LB之光量以第2光量監視器3 7檢測而出、作爲 電壓値而輸出，將來自該第2光量監視器3 7之輸出電壓依 據上述第2光量監視器3 7之換算式、算出第2光量値（第2 像面光量値）。此外，在描繪座5之第2光量監視器3 7中， 雷射光束LB之曝光光點係被掃描、照射於X方向，此外， 僅亦照射8道中之特定1道雷射光束LB般的控制成像光學 系統2 1內之聲光式變調器5 3，且將該雷射光束LB之光量 以第2光量監視器3 7檢測而出。此外，該步驟S 2係相當於 本發明之第2檢測過程。 〔步驟3〕 將在前述步驟S 1中藉由第1光量監視器3 5所獲得之第1 像面光量値（上述之第1設定光量値）、以及在前述步驟S2 -28· 573236 中藉由第2光量監視器3 7所獲得之第2像面光量値進行比 較，判斷第1像面光量値（上述之第1設定光量値）與第2像 面光量値之間的差是否有超出容許値。 例如，如該等第1、第2像面光量値之差爲在容許値以內 時，則前進至步驟S4，第1光量監視器35之雷射光束LBc 之光量檢測精度爲呈良好，無校正之必要而結束第1光量監 視器3 5之校正動作。 相反的，若該等第1、第2像面光量値之差超出容許値時， 則變化第1光量監視器3 5之雷射光束LBc的光量檢測精 度，而必須進行校正、前進至步驟S 5。 〔步驟5〕 藉由第1光量監視器35及第2光量監視器37而進行全數 資料之再測定。首先，藉由第2光量監視器3 7而進行全數 資料之再測定。藉由光量調整單元42而使其內部之1 /2波 長板42a以所定節距旋轉，將雷射光束LBa之光量以所定光 量刻度進行變化、亦即一面使朝向第2光量監視器3 7之雷 射光束LB之光量產生變化，一面將其雷射光束LB以第2 光量監視器3 7檢測而出。該測定係針對8道雷射光束而對 於1道道全數頻道來進行。此時，在描繪座5之第2光量監 視器3 7中，雷射光束LB之曝光點係於X方向上掃描、照射， 並且，使成像光學系統2 1之聲光式變調器5 3控制呈僅照射 8道中特定的1道雷射光束LB，將其雷射光束LB之光量以 第2光量監視器3 7來檢測而出。 -29- 573236 其次，藉由第1光量監視器3 5來進行全數資料之再測定。 藉由光量調整單元42，使其內部之1/2波長板42a以所定節 距旋轉，一面使雷射光束LBa之光量變化、亦即爲使朝向第 1光量監視器35之雷射光束LBc之光量變化，一面則將其 雷射光束LB c以第1光量監視器3 5.來檢測而出。此種測定 係針對8道雷射光束、針對1道道之全頻道來進行。光束取 樣器3 1之後段快門構件3 3係形成爲，當在描繪座5上具有 印刷配線基板S (被描繪體）時則形成封閉狀，因此，在其校 正動作爲係爲開啓，已透過光束取樣器31之雷射光束LBc 係被輸出至柱面透鏡59,且在描繪座5這一方上有使雷射光 束LB射出。在第1光量監視器35中，8道雷射光束LB之 曝光光點並非呈重疊、照射，而是使成像光學系統2 1控制 呈僅照射8道中特定的1道雷射光束LB，將其雷射光束LB 之光量以第1光量監視器3 5來檢測而出。 〔步驟6〕 光量演算部8 9係依據藉由第2光量監視器3 7所得之檢測 結果，校正第1光量監視器3 5。 例如，如第8圖之實線所示，原先，將8道中特定的1 道之所定光量的雷射光束LB c以第1光量監視器3 5來檢測 而出時的輸出電壓’係例如爲P 1 ’對應於該輸出電壓P 1之 像面光量値P 1係爲’藉由原先之第1光量監視器3 5用之換 算式Pl=F(pl)而適當的計算而出。假設’當起因於光束取 樣器3 1或第1光量監視器3 5之光學構件之特性劣化或異物 -30- 573236 之附著等而造成第1光量監視器3 5之光學特性產生變化’ 而在第1光量監視器3 5中之雷射光量LB c之光量檢測中產 生變化時，如第8圖之2點鏈線所示，因必須得計算出對應 於輸出電壓P 1之像面光量値p 1 ’，但卻是計算出像面光量値 P 1，此種像面光量値P 1與像面光量値P 1 ’之間的誤差成分將 會反應到朝向印刷配線基板s之雷射光束L B，進而造成無 法將朝向印刷配線基板S之雷射光束LB的光量控制呈高精 度。在此，在以前述之步驟s 3來判斷第1、第2像面光量 値之差是否有超過容許値後，依據以在前述步驟s 5中之第1 光量監視器3 5及第2光量監視器3 7所得之全資料的再測 定，而如第8圖中之2點鏈線所示’求出該時點之第1光量 監視器3 5用之換算式P 1 ’ F ’（p 1 )，藉由此種全新的換算式 P1，=F，（pi)而可適當的計算出對應於輸出電壓Pi之像面光 量値P 1 ’。 此種步驟S 3、S 5、S 6係相當於本發明之校正過程。 此外，在前述之步驟S3中’亦可爲若第〗、第2像面光 量値之差大幅超出容許値時，則無法進行第1光量監視器3 5 之校正，而檢查是否可使用光束取樣器31或第1光量監視 器3 5等構件，若無法使用時，則可進行新構件之交換。 【發明之效果】 若藉由如上所述之本實施例之裝置時’則縱使具有起因於 光束取樣器3 1或第1光量監視器3 5之光學構件之特性劣化 或異物之附著等而造成第1光量監視器3 5之光學特性產生 573236 變化，即使在第1光量監視器35中之雷射光量LBc之光量 檢測中產生變化，依據將來自成像光學系統‘ 2 1射出至描繪 座5之雷射光束LB之光量以第2光量監視器3 7所檢測而出 的結果，爲可校正在第1光量監視器35中之雷射光束LBc 之光量檢測精度，可使被照射至印刷配線基板S之雷射光束 LB之光量形成爲適當之値，而可以高品質來進行維持高光 量精度所要求之高精細描繪。 此外，在作爲曝光裝置之成像光學系統內係配置有作爲抽 出裝置之光束取樣器31以進行光量檢測，因此，在構造呈 現簡單的同時，在光量檢測時因無須有作爲維持裝置之描繪 座5之移動等動作，故而具有可簡單地進行光量檢測之效 果。 此外，將第2光量監視器3 7設在描繪座5中之被描繪區 域外的情況下’爲使雷射光束LB直接射入第2光量監視器 3 7 ’而產生有擴大雷射光束LB之主要掃描範圍的必要，對 於被維持在描繪座5之印刷配線基板s，雖然必須得增大在 用以將雷射光束LB掃描於主要掃描方向（χ方向）的透鏡（像 場透鏡7 1等）以及偏向器（多邊形鏡6 7)等，不過，因將第2 先里Itl視益3 7日又在f田繪座5中之被描繪區域內，故而在用 以將雷射光束L B朝第2光量監視器3 7射入時，並無擴大該 雷射光束LB之主要掃描範圍之必要，而可防止在成像光學 系統2 1所用之透鏡（像場透鏡7 1等）以及偏向器（多邊形鏡 67)等的大型化。 -32- 573236 此外，相對於被維持在描繪座5之印刷配線基板S，即使 是掃描多道（在本實施例中爲8道）雷射光束LB而進行多光 束描繪的雷射描繪裝置中，仍可校正在第1光量監視器3 5 中之各雷射光束LBc之光量檢測精度，可將照射至印刷配線 基板S之各雷射光束LB之光量形成爲適當之値，而可以高 品質來進行維持高光量精度所要求之高精細描繪。 此外，判斷以第1光量監視器3 5所檢測而出之第1光量 値與以第2光量監視器3 7所檢測而出之第2光量値之間的 差是否有超過容許値，在超過前述容許値的情況下，因實施 第1光量監視器3 5之校正，因此可簡單的判斷是否要進行 校正。 此外，開始朝向印刷配線基板S之雷射光束LB的照射， 檢測出雷射光量L B c之光量而設定呈適當之値的曝光光量 設定係爲，利用爲使印刷配線基板S之搬入或是印刷配線基 板S之對齊檢測等而將描繪座5形成位於待機位置狀態、或 是利用將描繪座5位在由待機位置至描繪開始位置般地而使 描繪座5與成像光學系統2 1呈相對性的移動時等非描繪時 (亦即，利用成像光學系統2 1爲待處理狀態之期間），因藉 由第1光量監視器3 5來進行，故可有效的進行曝光光量設 定。此外，僅在本裝置開啓時或是定期診斷等所希望的時期 中，使描繪座5與成像光學系統2 1位在所定位置上，將照 射至印刷配線基板S之實際雷射光束LB之光量以第2光量 監視器3 7所檢測，依據該檢測結果，可適當的校正第1光 -33- 573236 量監視器3 5之雷射光束LBc之光量檢測精度。其結 不致減低裝置的傳輸率，而可將在第1光量監視器3 雷射光束L B c之光量檢測精度維持呈局精度。 如上所述，因使第2光量監視器3 7設在描繪座5 第2光量監視器3 7係可檢測出載置於描繪座5之印 基板S上之雷射光束LB之像面、亦即可檢測出在最 附近之雷射光束LB之第2像面光量値。其結果，第 監視器3 7係爲，即使是存在至介於較光束取樣器3 1 之光路中的多邊形鏡67、f0透鏡68、柱面透鏡73 構件之劣化，或是在該等光學構件上附著有異物等情 使上述光學構件之光學特性產生變化，係可在包含其 的狀態下檢測出第2像面光量値。如此，藉由第2光 器3 7，在略等於實際被照射至印刷配線基板S之雷 LB之光量値的狀態下可檢測出第2像面光量値，因 依據該第2像面光量値而校正第1光量監視器3 5之 測精度時，便可使照射至印刷配線基板S之雷射光束 光量確實的形成爲適當之値。 此外，本發明亦可進行如下述之變形實施。 (1 )在上述實施例中，係構成爲成像光學系統2 1爲 定、描繪座5爲進行移動，不過，相反的，本發明亦 於成像光學系統21爲對於描繪座5進行移動之構造， (2)在上述實施例中，雖使用雷射光源4 1與聲光式 5 3，不過，亦可使用雷射二極體來取代該等構件。在 果，將 |5中之 上，故 刷配線 終像面 2光量 更後方 等光學 況下而 變化量 量監視 射光束 此，若 光量檢 LB之 位置固 可適用 〇 變調器 此情況 -34- 573236 下，亦可直接以開啓/關閉（ΟΝ/OFF)來控制雷射二極體，而 可實現構造簡易化之目的。 (3 )在上述實施例中，於成像光學系統2 1內，雖分離抽出 已經過光量調整之雷射光束LBc之一部份、且將其以第1 光量監視器3 5來檢測，不過，分離抽出之處並不僅限定在 成像光學系統2 1內，即使將光量調整後之雷射光束LB於該 成像光學系統2 1之外部藉由第1光量監視器3 5檢測而出的 情況下’若第1光量監視器3 5爲對於成像光學系統2 1固定 時’則第1光量監視器3 5係可被稱之爲包含在曝光裝置中。 (4) 在上述實施例中，雖將已經過光量調整之雷射光束 LBc之一部份以作爲抽出裝置之光束取樣器3 !抽出、且將 其以第1光量監視器3 5來檢測，不過，亦可將已經過光量 調整之雷射光束LB c之至少一部分以作爲抽出裝置之鏡子 等所反射、且將其以第1光量監視器3 5來檢測。 (5) 在上述實施例中，雖將第2光量監視器37設於描繪座 5上’不過，在檢測出照射至印刷配線基板S之雷射光束LB 之光量時’亦可將第2光量監視器3 7適當的準備呈配置在 描繪座5上，而將雷射光束LB以此種第2光量監視器3 7 所檢測。 本發明係爲，在不脫離其思想或本質的情況下，亦可以其 他具體形式來實施，從而，所爲所揭示之發明範圍並非是以 上之說明’而是應當參照所附加之申請專利範圍。 【圖式簡單說明】 -35- 573236 爲了說明本發明，而以圖式顯示出目前較佳之幾個實施 例，不過，當理解的是本發明並不僅限定在圖中所示之構造 及方案。 第1圖所示係有關本發明之雷射描繪裝置之一例的槪略 構成立體圖。 第2圖所示係用以說明在光量調整單元中之光量調整原 理的說明圖。 第3圖所示係用以說明由聲光式變調器至多邊形鏡爲止 之光量與第1光量監視器之間的構造說明圖。 第4圖所示係揭示在第1圖中之雷射描繪裝置之槪略構成 方塊圖。 第5圖所示係描繪控制部之局部構成方塊圖。 第6圖所示係多光束配列及其光束間隔之示意圖。 第7圖所示係第1光量監視器之校正處理之流程圖。 第8圖所示係用以說明像面光量値與第1光量監視器之輸 出電壓之間的關係之說明圖。 【主要部分之代表符號說明】 S :印刷線路基板 LB、LBa :雷射光束 LBb、LBc :雷射光束 h :基準電壓 c :光量補正資料 g :校正指示 -36- 573236 ρ γ :處理位置 e =描繪信號 1 : 基台 3 :導軌 5 :描繪座 7 :伺服馬達 9 :傳送螺桿 10 :座基台 15 :載置台 2 1 :成像光學系統 3 1 :光束取樣器 3 3 :快門構件 35b : A/D轉換器 3 5 :第1光量監視器 3 7 a :光學二極體感測器 3 7 :第2光量監視器 4 1 :雷射光源 42b :脈衝馬達 42 :光量調整單元 4 2 c :偏光光束分離器 47 :光束分離器 4 9 :聚光透鏡 5 1 :角隅鏡 -37- 573236 53 ： 57 ： 59、 63 ： 67 ： 68 ： 69、 71 ： 75 ： 89 ： 10 1 102 112 113 114 115 12 1 1 22 123 124 1 25 13 1 1 32 聲光式變調器 重放透鏡系統 7 3 :柱面透鏡 球面透鏡 多邊形鏡 f 0透鏡 7 7: 鏡子 場透鏡 起始感測器 光量演算部 :資料處理部 :描繪控制部 :累積長度資料緩衝器 :光柵轉換電路 :描繪資料緩衝記憶體 :描繪處理部 :主要控制部 :描繪時脈產生電路 :光量補正電路 :多邊形旋轉控制部 :Y軸同步控制部 :光量補正記憶體 :基準電壓輸出電路 -38-