TW383516B - Laser diode element with heat sink and its production method - Google Patents

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Description

經濟部中央操準局員工消費合作社印製 五、發明説明(8 ) 題亦可另予解決,其係使鏡面層10,11僅在半専體1上塗 佈。所要求者,鏡面層10,11同時在側面8,9全部K相同 厚度出現,即使在方法技術上必須花費極大。然而鏡面 層10,11上的相等厚度是對產生儘可能無干擾的雷射光 所絕對需要的。 在第2a圖至第2e圖中,顯示在底側20和頂側13上製造 許多具有以簡單合理的方式接合片3, 14的半導體1之方 法。K這種方法首先將多涸半導體1固定於;一導帶21上 ,在帶上已先塗有结合層2的材料。等帶21是由接合片 3的材料構成,並有兩道沿邊配置的傅導與输送條片22 ,兩者間K 一分隔的橋搭23互相連接。在裝置半導體1 於専帶21之後,在半導體1之頂側13固定一第二専帶24 ,其係如同導帶21,有兩沿邊配置之傳輸條片25,兩條 片之間用分隔橋格26使之相互連接。同樣的已先有结合 層15的材料被塗佈於導帶24或在半導體1之上。導帶24 最好使用與導體21相同之材料製成。導帶24之橋搭26比 導帶21之橋搭23堪窄,然而並非作為限制之考鹿:。同樣 可Μ該橋搭23與26有相同的寬度,或橋搭26寬於橋搭23。 連接導帶21與24予Μ固定之軟焊方法可用前面所述之 雷射焊法或其他任一適合之軟焊方法。 .隨後將上述由兩個導帶21,24和在橋搭23,26間之半導 體1.所成夾層式结構體分立成為單一條體28。第2c圖表 示在第2b圖中沿線A-A横切剖面中的單一條體28。為便 於進一步加工,例如作鏡面塗層,可以隨後如第2d圖所 本纸崁尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ---------l·---,.裝-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、τ 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 B7 ' 五、發明説明(1 ) , 本發明係瞄於一種依據申請專利範圍第1項之前言部 份之雷射二極體組件。 雷射二極體之敗熱,特別是對髙功率之雷射二極體和 雷射二極體條,必須儘可能快速而均勻地予Μ疏導。在 操作期間強烈變動之溫度會使波長偏移,且強烈的溫升 會使工作效率降低。在極端吠況甚至會損毀雷射二極體。 從德國公開專利案DE 43 155 81可知一種具備冷卻系铳 之雷射二極體,其係Μ —雷射二極髖晶片固定於一由矽 或飼構成之基板上。在該基板或在雷射二極體晶片的半 導體基材上利用雷射光加工、沖ffi、電鍍及/或蝕刻Μ 便開出通埴,瑄些通道在基板與半導體組合之後就構成 一個所諝微通道系統。在微通道系統中流動之冷媒因而 直接接觸到雷射二極體晶片的半導體。 上述由基板與雷射二極體晶片的结構之困難性特別在 於兩者間之連接如何形成,此種連接具備耐老化且均勻 的電與熱性質。在基板材科(矽,铜)和半専體材料(例 如(GaAs、AlGaAs及/或AlGaAsIn)之間有不同的熱膨脹 係數之情形時,可Μ在半導體和基板間之界面在運作時 生成機械性應加,此種應力常常會導致半導體自基板上 局部或完全裂開。從而引起散熱的能的劣化和電流分佈 的不均勻,在最壊狀況下可能導致雷射二極體晶片的毀 損。· 如此之問題不單只限於雷射二極體,而且也發生於整 個的半導體組件,在蓮作時會發生更大的溫度變化。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
五、發明説明(9 ) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 示,一套多數個單一條帶28被堆置於傳専條板29上而相 互層叠,該條板則K例如穿過開孔27之方式連接。沿第 2d圖所示B-B媒横切而得如此之堆叠組合30之剖面如第2e 圖所示。其中依箭頭31描繪而使用例如蒸鍍之方法將鏡 面材料製成半導體1側面的塗層。在完成半導體1和接 合片3,14之組裝之後,堆叠組合30即成所希望的單元, 成為多涸雷射二極體之單一晶片或其陣列而為一整體。 在第3a圖與3b圖中頭示合理組合半導體1 ^接合片3, 14K適應特別以多個雷射二極體姐件製成串聯接合之第 二種製法。在此製法中用導帶32,在一定距離顯示加寬 之處33。導帶32設於頂側與下側與结合層2或15的接觸 範圍之中,並亦由熱膨脹係數與半専體1之材料相近者 之材料製成。作為结合層2,15之適合材料為硬焊劑例如 金錫UuSn)合金。结合層2,15可Μ在组裝前塗佈於半導 體1上。 為製備由許多雷射二極體組件構成之一種多涸單一組 件或一種多個串聯組合的方法,於第3a圖與第3b圖顯示 其組裝流程,其製法步驟依序如下: 1. 將半導體1固定於導帶29之寬度30,例如Μ雷射光 3 5焊接導帶3 2之底側; 2. 横切導帶32使成為狹窄區域; 3. 彎曲導帶32使至少其一部份狹區側面置於半導體1 頂面之高度内; 4. 導帶32之狹區叠於相鄰半導體1之上; -11- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) •裝· -訂 線 ---Ί 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS )八4規格(2ΙΟΧ297公釐) A7 B7 ' 五、發明説明(2 ) 長久Μ來半導體技術普遍遭遇到上述問題,因而在半 導體與冷卻體間之结合採用一種彈性的或塑性可麥形结 合劑,例如軟焊。基板與半導體間熱膨脹係數的差異應 利用结合劑的可變形性來補償。此種结合劑已知者為例 如鋅或鉛鋅合金的軟焊劑。 這些结合劑依然未能滿足雷射二極體組件S定運作在 兼顧電與熱的性質上的均勻性和櫬械需求上的可靠性所 必需的要求。 本發明基於此項問題,發展出一種本文開頭所述技藝 之雷射二極體組件,其中在半専《與降溫裝置間的结合 具備附老化而均勻的電與热性質,且同時擁有高的櫬械 穗定性。 此項問題是藉由具有申請專利範圍第1項特激之雷射 二極體組件而獲解決。 本發明之進一步形式為申請專利範圃第2至9項之主 要內容。Μ合於成本要求而製成多數符合本發明之雷射 二極體組件的較佳方法則為申請專利範圍第10與11項之 主要內容。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 根據本發明所設計之雷射二極體組件,是Μ半導體固 定於附有冷卻體的降溫器上,其間半導體與冷卻體的熱 膨脹係數彼此相差甚大(典型者約於2x 10_6l/k至3Χ10Γ6 Ι/k)。在此半導體與冷卻體之間設置一個導電與導熱之 第一接合片,其材料之熱膨脹係數和半導體之半導體材 料者相近Μ (典型者為約在5X 10_6l/k與約為6.5X 1〇-6 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)
經濟部中央標準局員工消費合作社印製 符號對照表 1 半 導 體 2,15 結 合 層 3,14 接 合 Η 7 冷 卻 體 8 光 束 射 出面 10,11 鏡 面 層 12 冷 郤 板 19 冷 媒 21,24 導 帶 22,25 輸 送 條 Η 23,26 橋 搭 27 開 孔 28 條 體 29 傳 導 條 板 30 堆 蠱 組 合 32 導 帶 33 加 寬 之 處 34 冷 媒 管 道 35,36 雷 射 光 39 結 合 材 料 -13- (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝. 訂 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) A7 B7 五、發明説明(3 ) 1 / k之間)〇 根據本發明之一特性雷射二極體組件實腌例,其第一 接合片是由鉬、鎢、鎢化銅及/或鉬化銅所組成,而且 該接合片用硬焊劑(材料見后文)固定於半導體上。 在此種構造之較i形式為該第一接合片也Μ硬焊劑固 定於冷卻體上。其可行性因為上述材料,尤以其中之鉬 ,使接合片具備非常高的彈性模數進而補償櫬械應力。 根據本發明之雷射二極體之另一種優良形芦,是該第 一接合片被用為半導體之第一電性通面及冷卻體的熱接 通面。這是用簡單的方式做成,因為例如用鉗製成的接 引框可以非常簡單之方式而製成,於是半導體就在其上 被固定。 根據本發明一較佳具體之雷射二極體組件,半導體主 要為GaAs、AlGaAs及/或InAlGaAs組成冷卻體有一鑽石 、矽或銅所構成的冷卻片,接合片主要由鉬、鎢、鉬化 鋦及/或鎢化銅所製成。 本發明Μ如附第1圖至第3b圖中之兩實施例作更詳细 之說明。 圖式簡單說明如下: 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 第1圖表示實施例中剖面之圖解。 第2a至2e為製造依據本發明多個雷射二極體組件之第 一製法之圖解。 第3a及3b圖為製造依據本發明多個窜射二極體組件之 二製法之圖解。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X.297公釐) A7 B7 五、發明説明(4 ) 在第1圖中所表示之雷射二極體組件和一個由側面發 射之高功率雷射二極體有關,其半導體1是由GaAs、 AlGaAs及/或InAlGaAs所構成。在半導體1之端面8和 9各沈積一鏡層1 0 , 11。鏡面材料為例如A 1 2 0 3、S i、
Si02、SisN4或SiC。半導體1是用一能導電且導熱之结 合層2固定於接合片3上。结合層2是由例如能導電及 導熱之接合劑或由例如AuSn(金、錫)合金的硬焊劑製成 ,也可Μ依需要用光罩技術或光蝕刻法構成。塗佈方法 可用例如濺鍍、蒸鍍或浸入等方法。為改菩接合片3的 焊接性質和焊接的耐老化性,可以在接合片3上塗佈一 層例如適當的金曆或金羼層序列(例如一種TiPt-,TiPd-,TiPtAAu -或一種 TiPdAu 層序列)。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 在作為半導體1供導電和傳熱接觸用的接合片3上, 是用連接線37接連或焊接。在半等體1的射出面8上所 限定的接合片3的側面,就被做成傾斜狀,使一方面有 最大的敗熱功能,而又在另一方面在接合片上不發生雷 射光的反射而遭干擾。在半導體1的上側13用一结合層 15,其由與结合層2相同材料所構成,與另一接合片14 固定,其厚度必須與M3者不同。由半導體1與接合片 3 、14之聯線用接合片3的底面6,與一由冷卻板12和 一冷媒輸入34組作之冷卻體緊接。另一方法則冷卻體也 可不用冷卻板構成,而使冷媒直接與接合片3接觸。代 替半導體1上側13的接合片14,可Μ也用一或多層金屬 接觸層來塗佈,例如用蒸鍍或濺鍍的方法製作。當須用 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 五、發明説明 ( 5 ) 1 I 金 屬 線 連 接 時 可 用 鋁 或 鋁 基 合 金 » 或 當 須 用 焊 接 時 f 則 1 1 用 T i Pt Au 〇 ' 1 | 為 求 半 導 體 1 與 接 合 片 3 > 14間之界面基於不同熱膨 請 1 脹 係 數 所 引 起 之 機 械 應 力 儘 量 保 持 最 小 » 接 合 片 3 14 先 閱 I I 許 1 I 所 用 材 材 之 熱 膨 脹 係 數 最 好 與 半 導 體 1 的 材 料 相 近 U 〇 背 © 1 I 之 此 外 9 此 項 材 料 須 有 良 好 的 導 電 與 傳 熱 功 能 t 使 接 合 片 注 意 1 1 3 可 被 利 用 作 電 流 的 傳 輸 也 可 供 散 熱 0 對 一 種 由 Ga A s 事 項 1 再 I AlGa As 及 / 或 I η Ga As Ρ構成之半導體1 9 則用鉬作為上 % 寫 本 述 材 料 可 >λ 符 合 要 求 0 頁 1 I 接 合 片 3 的 厚 度 例 如 在 10與 100微米之間, 而结合靥2 I 1 的 厚 度 在 1 與 2 微 米 之 間 〇 因 此 得 >λ 保 證 此 兩 構 件 的 熱 1 I 阻 很 微 小 9 而 且 半 導 體 1 在 運 作 中 所 發 生 的 熱 無 所 阻 礙 1 1 訂 1 地 排 除 至 冷 卻 板 12上 〇 * 如 第 1 圖 所 示 之 雷 射 二 極 體 組 件 之 — 項 優 點 為 半 導 體 1 I » 可 Μ 較 為 簡 單 而 可 靠 地 被 焊 接 於 接 合 片 3 上 9 這 是 因 1 為 接 合 片 3 基 於 其 極 為 微 小 的 厚 度 而 能 夠 依 一 預 訂 的 溫 1 1 度 計 畫 Μ 所 希 望 的 焊 接 溫 度 十 分 精 確 而 被 加 熱 所 造 成 0 Ο 1 一 項 精 確 可 行 的 溫 度 -時間- 規 剷 是 公 知 對 均 匀 而 能 再 現- 1 的 焊 接 位 置 之 製 作 具 有 重 要 意 義 0 1 1 因 為 焊 接 操 作 簡 單 而 可 精 確 控 制 » 而 且 焊 道 的 溫 度 與 1 1 焊 接 時 間 容 許 精 確 的 調 整 * 故 而 高 功 率 半 導 體 雷 射 較 適 1 1 合 於 焊 接 0 焊 接 可 Μ 例 如 以 雷 射 光 對 接 合 片 3 之 底 側 6 1 I 照 射 而 完 成 Ο 在 需 要 吠 況 下 接 合 板 3 也 可 預 先 加 熱 〇 1 1 冷 卻 板 12可 用 例 如 鑽 石 (熱膨脹係數c -7- xth = 1 . 1 > < 10~ 6 1/k) 1 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) A7 B7 ' 五、發明説明(6 ) ,矽 Uth=2.3x l〇-6l/k)及 / 或铜(ccth=16.6x l(T6l/k) 或其他對熱為良導體之材料製成。作為冷卻板12與接合 片3間之结合材料39適用例如鋅或鉛鋅(PbZn)合金等金 鼷軟焊劑或一為熱導體之彈性接合劑,在使用高彈性模 数的接合片材料時也可Μ用硬焊劑,例如一種金錫(A u S η ) 合金。冷卻板12利用冷媒19,經過冷媒管道34導入冷卻 板12而再被引出而持縯冷卻。作為冷媒者例如可使用水。 接合片14用於第1画之實施例中雷射二極fS之專用導 電接通面。如有需要,在該接合片14上也可加上一冷卻 板,Μ增加對半専體之冷卻。同漾也可Μ在設定僅只有 電的接觸,則冷卻板12可用一金麗化接觸之如鋁或一鋁 基合金塗佈於半専體1上予以代替。 在半導體1在接合片3上固定之後,則雷射半導體組 件可Κ在比較簡單之方式,例如用一傅熱接合劑在例如 預先裝作上冷卻體7上黏合,軟焊或焊接。因為在接合 片3與冷卻體7間之结合材料不必具備導電性,所Μ可 Κ用彈性體接合劑,其傳熱功能可藉加入一傳熱材料而 產生。因半導體材料與冷卻體材料在熱膨脹係數上之強 烈差異而生之機械應力因而獲得更大的補償。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 半専體1之冷卻,如第1圃中之冷卻板12也可用例如 習用之薄片形冷卻器或一微通道冷卻器代替。 在半導體1與接合片3 , 14之間製作一熱均勻與電均 勻而機械性穩定的结合,依經驗而為有時是非常困難的 ,此因半導體1的接觸面(在實施例2中是上側13和下 -8 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 ____B7______ 五、發明説明(7 ) 側20兩面)如被一種材料污染,會使结合層2, 15僅只被 不良地浸濕而已。這種污損常發生於例如製作雷射二極 體之光學共振器的鏡面層10,11之時。該等鏡面層10,11 一般可接在半導體1之製作後再予塗佈。因此只有K非 常大的耗費才能夠防止有鏡面材料的半導體1的接觸面 受到污損。 瑄些問題可以利用上述的接合片3,14而予解決,其係 在半導體1在接合片3,或3與14上固定之後再塗佈鏡面層 10,11。结合層2,15的均匀性和可靠性Μ及其再現性,與 習知方法流程所装者比較,有明顯改進。為對半導體1 側面8 ,9的部份範圃,於其鏡面塗曆,Μ及從半導體1 所發出雷射光經過接合片3(14)反射的干擾等情況予以 阻止,接合片3(14)不應寬於,或僅稍微寬於雷射二極 體之共振器長度(等於兩涸鏡面層10,11間之距離)。 接合片33和接合片14的寬度可Κ配合雷射二極體的 共振器長度,或比該並振器長度為短。半導體1於是得 在接合片3上定位,使其雷射光射出面與接合片3之側 面齊平地閉合。同樣地,在接合片3上受雷射射出面所 界定的側面,如第1圖所示,因而必須成傾斜狀,使雷 射光不受千擾,同時保持最大的敗熱功能。 使用本發明接合片3(14)對上述方法步驟之程序特別 有利。基於接合片3,14熱膨脹的配合,使鏡面層10,11 可Μ突出於半導體1之上,不致發生由不同熱膨脹係數 引起之櫬械應力而增髙其破損之危險。上面所論及之問 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
經濟部中央操準局員工消費合作社印製 五、發明説明(8 ) 題亦可另予解決,其係使鏡面層10,11僅在半専體1上塗 佈。所要求者,鏡面層10,11同時在側面8,9全部K相同 厚度出現,即使在方法技術上必須花費極大。然而鏡面 層10,11上的相等厚度是對產生儘可能無干擾的雷射光 所絕對需要的。 在第2a圖至第2e圖中,顯示在底側20和頂側13上製造 許多具有以簡單合理的方式接合片3, 14的半導體1之方 法。K這種方法首先將多涸半導體1固定於;一導帶21上 ,在帶上已先塗有结合層2的材料。等帶21是由接合片 3的材料構成,並有兩道沿邊配置的傅導與输送條片22 ,兩者間K 一分隔的橋搭23互相連接。在裝置半導體1 於専帶21之後,在半導體1之頂側13固定一第二専帶24 ,其係如同導帶21,有兩沿邊配置之傳輸條片25,兩條 片之間用分隔橋格26使之相互連接。同樣的已先有结合 層15的材料被塗佈於導帶24或在半導體1之上。導帶24 最好使用與導體21相同之材料製成。導帶24之橋搭26比 導帶21之橋搭23堪窄,然而並非作為限制之考鹿:。同樣 可Μ該橋搭23與26有相同的寬度,或橋搭26寬於橋搭23。 連接導帶21與24予Μ固定之軟焊方法可用前面所述之 雷射焊法或其他任一適合之軟焊方法。 .隨後將上述由兩個導帶21,24和在橋搭23,26間之半導 體1.所成夾層式结構體分立成為單一條體28。第2c圖表 示在第2b圖中沿線A-A横切剖面中的單一條體28。為便 於進一步加工,例如作鏡面塗層,可以隨後如第2d圖所 本纸崁尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ---------l·---,.裝-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 、τ
五、發明説明(9 ) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 示,一套多數個單一條帶28被堆置於傳専條板29上而相 互層叠,該條板則K例如穿過開孔27之方式連接。沿第 2d圖所示B-B媒横切而得如此之堆叠組合30之剖面如第2e 圖所示。其中依箭頭31描繪而使用例如蒸鍍之方法將鏡 面材料製成半導體1側面的塗層。在完成半導體1和接 合片3,14之組裝之後,堆叠組合30即成所希望的單元, 成為多涸雷射二極體之單一晶片或其陣列而為一整體。 在第3a圖與3b圖中頭示合理組合半導體1 ^接合片3, 14K適應特別以多個雷射二極體姐件製成串聯接合之第 二種製法。在此製法中用導帶32,在一定距離顯示加寬 之處33。導帶32設於頂側與下側與结合層2或15的接觸 範圍之中,並亦由熱膨脹係數與半専體1之材料相近者 之材料製成。作為结合層2,15之適合材料為硬焊劑例如 金錫UuSn)合金。结合層2,15可Μ在组裝前塗佈於半導 體1上。 為製備由許多雷射二極體組件構成之一種多涸單一組 件或一種多個串聯組合的方法,於第3a圖與第3b圖顯示 其組裝流程,其製法步驟依序如下: 1. 將半導體1固定於導帶29之寬度30,例如Μ雷射光 3 5焊接導帶3 2之底側; 2. 横切導帶32使成為狹窄區域; 3. 彎曲導帶32使至少其一部份狹區側面置於半導體1 頂面之高度内; 4. 導帶32之狹區叠於相鄰半導體1之上; -11- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) •裝· -訂 線 ---Ί 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS )八4規格(2ΙΟΧ297公釐) Α7 Β7 五、發明説明(10 ) 5. 固定導帶32之狹區於半導體1之上,例如使用雷射 光36 ; (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 6. 重複自步驟1起之過程。 如有爾要,亦可Μ在此導帶組裝之後Μ覆蓋曆塗佈於 半導體1之上,例如鏡面層成為雷射二極體的光學共振 器。 可理解的是,如為有利或有需要,如第2a画與第2b圖 所示之方法亦可用於導帶使全部寬度相同。, 導帶32上可於——定距離設置孔洞,使専帶段與半導體 1同樣依類似第2d醒在傳導板條上堆叠而能夠成為上下 重叠。 上面所述雷射二極體組件之構造形式以友其製造方法 不限於各別之雷射二極體組件,例單一之雷射二極體與 單一之電晶體,而亦能懕用於例如雷射二極體之條狀組 件和積體電路中。 此外,以上所述之發明不單只限於雷射二極體組件之 利用,而且可Μ用於所有組件,於其中必須半導體在専 熱性良好地接合至一冷卻體上接合者,此種半導體例如 可為高功率電晶體,閘流體等等。 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 -12- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐)
經濟部中央標準局員工消費合作社印製 符號對照表 1 半 導 體 2,15 結 合 層 3,14 接 合 Η 7 冷 卻 體 8 光 束 射 出面 10,11 鏡 面 層 12 冷 郤 板 19 冷 媒 21,24 導 帶 22,25 輸 送 條 Η 23,26 橋 搭 27 開 孔 28 條 體 29 傳 導 條 板 30 堆 蠱 組 合 32 導 帶 33 加 寬 之 處 34 冷 媒 管 道 35,36 雷 射 光 39 結 合 材 料 -13- (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝. 訂 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐)

Claims (1)

  1. A8 S8S5IG I 六、申請專利範圍 第85111389號「具有吸熱裝置之雷射二極體組件及其製迤 方法」專利案 (88年8月修正) ---------农-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 巧申請專利範圍 1. 一種雷射二極體組件,其僳由一個半導體(1)固$於 一有冷卻體(12)之吸熱裝置上,其間半導體(1)與冷 卻體(12)之熱膨脹係收間差別甚大,其特徵在於: 在半導體(1)與冷卻體(12)間設置一能導電及傳熱的 第一接合Η (3),其構成材料之熱膨脹僳數與半導體 (1)之材料相近。 2. 如申請專利範圍第1項之雷射二極體組件,其中半導 體(1)是用硬焊劑固箸於第一接合Κ (3)上。 3. 如申請專利範圍第1或第2項之雷射二極體組件,其 中冷卻體(12)固著於第一接合Η (3)上。 4. 如申請專利範圍第1或第2項之雷射二極體組件,其 中第一接合片(3)同時用作對半導體(1)的第一電性接 通面,而且成為冷卻體(12)的熱連接面。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 5. 如申請專利範圍第3項之雷射二極體組件,其中第一 接合Κ (3)同時用作對半導體(1)的第一電性接通面, 而且成為冷卻體(12)的熱連接面。 6. 如申請專利範圍第1或第2項之雷射二極體組件,其 中半導體(1)固著於第二接合Η (14)上,第二接合片( 14)係作為半導體(1)的第二電性接通面。 -1 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) ( 210Χ297公釐)
    A8 S8S5IG I 六、申請專利範圍 第85111389號「具有吸熱裝置之雷射二極體組件及其製迤 方法」專利案 (88年8月修正) ---------农-- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 巧申請專利範圍 1. 一種雷射二極體組件,其僳由一個半導體(1)固$於 一有冷卻體(12)之吸熱裝置上,其間半導體(1)與冷 卻體(12)之熱膨脹係收間差別甚大,其特徵在於: 在半導體(1)與冷卻體(12)間設置一能導電及傳熱的 第一接合Η (3),其構成材料之熱膨脹僳數與半導體 (1)之材料相近。 2. 如申請專利範圍第1項之雷射二極體組件,其中半導 體(1)是用硬焊劑固箸於第一接合Κ (3)上。 3. 如申請專利範圍第1或第2項之雷射二極體組件,其 中冷卻體(12)固著於第一接合Η (3)上。 4. 如申請專利範圍第1或第2項之雷射二極體組件,其 中第一接合片(3)同時用作對半導體(1)的第一電性接 通面,而且成為冷卻體(12)的熱連接面。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 5. 如申請專利範圍第3項之雷射二極體組件,其中第一 接合Κ (3)同時用作對半導體(1)的第一電性接通面, 而且成為冷卻體(12)的熱連接面。 6. 如申請專利範圍第1或第2項之雷射二極體組件,其 中半導體(1)固著於第二接合Η (14)上,第二接合片( 14)係作為半導體(1)的第二電性接通面。 -1 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) ( 210Χ297公釐) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A8 S8S516 !I D8 , ' 六、申請專利範圍 7. 如申請專利範圍第4項之雷射二極體組件,其中半導 體(1)固著於第二接合片(14)上,第二接合片(14)傜 I 作為半導體(1)的第二電性接通面。 8. 如申請專利範圍第5項之雷射二極體組件,其中兩個 接合片(3,14)裝置於半導體(1)之相對兩側。 9. 如申請專利範圍第5項之雷射二極體組件,其中第二 接合K (14)之材料的熱膨脹俗收與第一接合片(3)之材 料相近似。 10. 如申請專利範圍第1或第2項之雷射二極體組件,其 中半導體(1)主要為具有GaAs.AlGaAs及/或InAlGaAs, 而冷卻證(12)具有纘石,矽或銅且接合Η (3)具有鉬或 鍚。 11. 如申請專利範圍第1或第2項之雷射二極體組件,其 中接合Η(3)用一結合層(2)固箸於半導體(1)上,結 合層(2)為由Ti-Pt-AuSn所成之層序列。 12. —種多個雷射二極體組件之製造方法,此處之雷射二 極體組件是指申請專利範圍第6至11項中任一項所述 者,其特徽在於具備下列步驟: a) 固定多値半導體(1)於第一導帶(21)上,該導帶由 接合Η ( 3 )之材料製成, b) 固定一由第二接合Η (14)之材料所製成之第二導帶 (24)於多個半導體(1)上, -2- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(2〗0X297公釐) ----------------^------訂·--- (請备讀背面之注意事項再填寫本£ J®. 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 38ο5Ιδ I D8 , 六、申請專利範圍 C)將由兩導帶(2 1,24)與多値半導體(1)所組合拆開成 單一之雷射二極體或雷射二極體的陣列,及 I d)塗佈鏡面層(10,11)於半導體(1)之相對兩側面(8,9) 上。 13.—種多個雷射二極髏組件之製造方法,此處之雷射二 極體組件是指申請專利範圍第6至11項中任一項所述 者,其特徽在於:重複下列方法步驟: a) 固定第一半導體(1)於導帶(32)上,該導帶由接合 T 板(3)之材料製成; b) 在靠_第一半導體(1)之處橫切導帶(32),- c) 將自第一半導髏(1)分離之導帶(32)之一部份改變 形狀,使該已被分離之導帶部份之部份匾域(38)之下 侧放置於第一半導體(1)上側(13)之高度内, d) 固定導帶(32)之部份區域(38)於第一半導體(1)之 上側(13), e) 固定第二半導體(1)於導帶(3 2)上已與第一半導髏 (1)分離部份之上, f) 將第一與第二半導體(1)之間的導帶(32)拆開,或 於各由多個串聯半導體a)構成之單一替之間在製 造雷射二極體陣列時將導帶(32)拆開。 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ---------------农------訂--L. (請先閎讀背面之注意事項再填寫本頁) -is----------
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Families Citing this family (46)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5918794A (en) * 1995-12-28 1999-07-06 Lucent Technologies Inc. Solder bonding of dense arrays of microminiature contact pads
JPH10270805A (ja) * 1997-03-27 1998-10-09 Rohm Co Ltd 半導体レーザ装置
CA2298491C (en) 1997-07-25 2009-10-06 Nichia Chemical Industries, Ltd. Nitride semiconductor device
EP0973237A4 (en) * 1998-01-30 2001-04-25 Mitsubishi Electric Corp SEMICONDUCTOR LASER DEVICE
US6424667B1 (en) 1998-12-04 2002-07-23 Jds Uniphase Corporation Solder and material designs to improve resistance to cycling fatigue in laser diode stacks
JP3770014B2 (ja) 1999-02-09 2006-04-26 日亜化学工業株式会社 窒化物半導体素子
WO2000052796A1 (fr) 1999-03-04 2000-09-08 Nichia Corporation Element de laser semiconducteur au nitrure
DE10066482B3 (de) * 1999-10-13 2014-04-10 Murata Manufacturing Co., Ltd. Verfahren zum Herstellen von elektronischen Bauteilen
US6674775B1 (en) 2000-02-18 2004-01-06 Jds Uniphase Corporation Contact structure for semiconductor lasers
US20040120371A1 (en) * 2000-02-18 2004-06-24 Jds Uniphase Corporation Contact structure for a semiconductor component
DE10011892A1 (de) * 2000-03-03 2001-09-20 Jenoptik Jena Gmbh Montagesubstrat und Wärmesenke für Hochleistungsdiodenlaserbarren
US6738403B2 (en) * 2000-04-06 2004-05-18 Fuji Photo Film Co., Ltd. Semiconductor laser element and semiconductor laser
JP3951919B2 (ja) 2000-10-20 2007-08-01 三菱電機株式会社 冷却装置、および半導体レーザ光源装置
DE10061265A1 (de) * 2000-12-06 2002-06-27 Jenoptik Jena Gmbh Diodenlaseranordnung
US6777819B2 (en) * 2000-12-20 2004-08-17 Siliconware Precision Industries Co., Ltd. Semiconductor package with flash-proof device
US20020110166A1 (en) * 2001-02-14 2002-08-15 Filgas David M. Method and system for cooling a laser gain medium
US6897123B2 (en) * 2001-03-05 2005-05-24 Agityne Corporation Bonding of parts with dissimilar thermal expansion coefficients
DE10117890B4 (de) * 2001-04-10 2007-06-28 Osram Opto Semiconductors Gmbh Verfahren zum Herstellen eines strahlungsempfangenden und/oder -emittierenden Halbleiterbauelements und strahlungsempfangendes und/oder -emittierendes Halbleiterbauelement
DE10117889A1 (de) * 2001-04-10 2002-10-24 Osram Opto Semiconductors Gmbh Leiterrahmen und Gehäuse für ein strahlungsemittierendes Bauelement, strahlungsemittierendes Bauelement sowie Verfahren zu dessen Herstellung
US6895027B2 (en) 2002-01-29 2005-05-17 Spectra-Physics CTE compensation of semiconductor laser bars
DE10234704A1 (de) * 2002-07-30 2004-02-19 Osram Opto Semiconductors Gmbh Halbleitervorrichtung mit Kühlelement
US7173334B2 (en) * 2002-10-11 2007-02-06 Chien-Min Sung Diamond composite heat spreader and associated methods
US20060113546A1 (en) * 2002-10-11 2006-06-01 Chien-Min Sung Diamond composite heat spreaders having low thermal mismatch stress and associated methods
US20050189647A1 (en) * 2002-10-11 2005-09-01 Chien-Min Sung Carbonaceous composite heat spreader and associated methods
KR20050084845A (ko) * 2002-10-11 2005-08-29 치엔 민 성 탄소질 열 확산기 및 관련 방법
JP2006522463A (ja) * 2002-11-01 2006-09-28 クーリギー インコーポレイテッド 流体により冷却される超小型熱交換のための最適なスプレッダシステム、装置及び方法
JP4037815B2 (ja) 2003-09-29 2008-01-23 オムロンレーザーフロント株式会社 レーザダイオードモジュール、レーザ装置、及びレーザ加工装置
US7310360B2 (en) * 2004-10-25 2007-12-18 The Boeing Company Apparatus and method for face cooling of optical components of a laser system
TWM279352U (en) * 2005-05-06 2005-11-01 Lighthouse Technology Co Ltd Photo power supply device capable of being controlled by programs
US7529286B2 (en) * 2005-12-09 2009-05-05 D-Diode Llc Scalable thermally efficient pump diode systems
US7791188B2 (en) 2007-06-18 2010-09-07 Chien-Min Sung Heat spreader having single layer of diamond particles and associated methods
DE102007054856A1 (de) * 2007-11-16 2009-05-20 Osram Gesellschaft mit beschränkter Haftung Beleuchtungsvorrichtung mit einer Substratplatte und einem Kühlkörper
TWI362769B (en) 2008-05-09 2012-04-21 Univ Nat Chiao Tung Light emitting device and fabrication method therefor
KR101024664B1 (ko) * 2008-06-09 2011-03-25 주식회사 코스텍시스 반도체 레이저 다이오드 패키지
DE102009016953B4 (de) 2009-04-08 2017-03-09 Dirk Lorenzen Konversionseinheit mit mehreren Konversionsmodulen, Inbetriebnahmeverfahren der Konversionseinheit und eine solche Konversionseinheit aufweisende optische Anordnung
JP5748487B2 (ja) * 2010-01-27 2015-07-15 京セラ株式会社 回路基板およびこれを用いた電子装置
US8778784B2 (en) 2010-09-21 2014-07-15 Ritedia Corporation Stress regulated semiconductor devices and associated methods
US9006086B2 (en) 2010-09-21 2015-04-14 Chien-Min Sung Stress regulated semiconductor devices and associated methods
CN103221180A (zh) 2010-09-21 2013-07-24 铼钻科技股份有限公司 具有基本平坦颗粒尖端的超研磨工具及其相关方法
DE102011081606B4 (de) * 2011-08-26 2022-08-04 Infineon Technologies Ag Kühlvorrichtung und Lötanlage
CN103474865A (zh) * 2013-09-27 2013-12-25 北京无线电计量测试研究所 一种用于冷却片状激光增益介质的装置
WO2017201459A1 (en) 2016-05-20 2017-11-23 Macom Technology Solutions Holdings, Inc. Semiconductor lasers and processes for the planarization of semiconductor lasers
DE102018210136A1 (de) * 2018-06-21 2019-12-24 Trumpf Photonics, Inc. Diodenlaseranordnung
JP7168280B2 (ja) * 2018-06-26 2022-11-09 住友電工デバイス・イノベーション株式会社 半導体装置、および、半導体チップの搭載方法
CN109361138B (zh) * 2018-11-16 2021-04-30 中国电子科技集团公司第十一研究所 一种板条激光增益介质封装方法
US10732265B1 (en) 2019-04-11 2020-08-04 Analog Devices, Inc. Optical illuminator module and related techniques

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55153389A (en) * 1979-05-18 1980-11-29 Nec Corp Semiconductor laser device
JPS5775485A (en) * 1980-10-29 1982-05-12 Mitsubishi Electric Corp Manufacture of heat radiator for semiconductor laser device
JPS5852892A (ja) * 1981-09-25 1983-03-29 Hitachi Ltd 化合物半導体素子の取付構造
JPS5891692A (ja) * 1981-11-27 1983-05-31 Hitachi Ltd 半導体レ−ザ装置
JPS58207689A (ja) * 1982-05-28 1983-12-03 Hitachi Ltd 半導体レ−ザ装置
JPS59172786A (ja) * 1983-03-22 1984-09-29 Sharp Corp 半導体レ−ザのサブマウント装置
JPS59172787A (ja) * 1983-03-22 1984-09-29 Sharp Corp 半導体レ−ザのサブマウント装置
JPH0750813B2 (ja) * 1988-05-23 1995-05-31 三菱電機株式会社 半導体レーザ素子用サブマウント
JPH036875A (ja) * 1989-06-05 1991-01-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体レーザ
JPH03209896A (ja) * 1990-01-12 1991-09-12 Mitsubishi Electric Corp 半導体レーザ素子用サブマウント
JPH04286178A (ja) * 1991-03-14 1992-10-12 Sumitomo Electric Ind Ltd 半導体レーザ用ヒートシンク
JPH04286177A (ja) * 1991-03-14 1992-10-12 Sumitomo Electric Ind Ltd 半導体レーザ用サブマウント
US5299214A (en) * 1991-07-01 1994-03-29 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Heat radiating component and semiconductor device provided with the same
US5234153A (en) * 1992-08-28 1993-08-10 At&T Bell Laboratories Permanent metallic bonding method
DE4315581A1 (de) * 1993-05-11 1994-11-17 Fraunhofer Ges Forschung Laserdioden mit Kühlsystem

Also Published As

Publication number Publication date
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KR970018887A (ko) 1997-04-30

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