TW202128381A - 加工積層體的端面的方法、端面加工膜的製造方法及端面加工裝置 - Google Patents

加工積層體的端面的方法、端面加工膜的製造方法及端面加工裝置 Download PDF

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Abstract

本發明為加工具有複數個膜12的積層體10的端面EF的方法。該方法具備:藉由具有第1接觸構件21之第1輔助具20以及具有第2接觸構件31之第2輔助具30,以使第1接觸構件21以及第2接觸構件31接觸於積層體10,而從積層體10的厚度方向的兩側按壓積層體10而固定積層體10之步驟;以及將被固定的積層體10的端面EF加工的步驟。其中,於按壓的步驟中,於將第1接觸構件21中的與積層體10接觸之接觸面A的壓力的最大值以及最小值分別設為Pmax以及Pmin時,係滿足Pmin≧0.4Pmax。

Description

加工積層體的端面的方法、端面加工膜的製造方法及端面加工裝置
本發明有關於加工積層體的端面的方法、端面加工膜的製造方法及端面加工裝置。
以往以來,已知有一種積層體的端面的加工方法,該方法係在藉由一對輔助具(又稱為治具)朝厚度方向按壓具有複數個膜的積層體而固定積層體的狀態之下,藉由研磨切削等工具加工該積層體的端面(例如,日本特開2004-167672號公報)。
然而以往的方法仍會有無法充分地固定具有複數個膜的積層體而使各個膜的加工精度減低的情況。
本發明為鑑於上述課題而研創者,係有關於可實現高加工精度的積層體的端面的加工方法。
本發明的方法為加工具有複數個膜的積層體的端面的方法,該方法具備:
藉由第1接觸構件以及第2接觸構件,從前述積層體的厚度方向的兩側按壓前述積層體而固定前述積層體以使前述第1接觸構件以及第2接觸構件接觸於前述積層體之步驟;以及
將被固定的前述加工積層體的端面加工的步驟;其中,
於前述按壓的步驟中,於將前述第1接觸構件中的與前述積層體接觸之接觸面A的壓力的最大值以及最小值各別設為Pmax以及Pmin時,係滿足Pmin≧0.4Pmax。
在此,前述積層體從厚度方向觀看之形狀,可為具有長邊方向(X方向)的形狀,
前述第1接觸構件可具有一端部以及另一端部,該一端部以及另一端部係各別地與前述積層體的前述長邊方向的一端部以及另一端部接觸;
前述按壓的步驟中,可將前述第1接觸構件之前述一端部以及另一端部朝向前述第2接觸構件相對地按壓。
前述按壓的步驟中,可藉由第1輔助具,將前述第1接觸構件朝向前述第2接觸構件相對地按壓,該第1輔助具係與前述第1接觸構件之前述一端部以及另一端部接觸,而且,不與前述第1接觸構件之前述一端部以及前述另一端部之間的中央部接觸。
前述第1輔助具可為金屬構件。
可加工前述積層體的全端面之中之75%以上。
前述第1接觸構件可為金屬構件。
前述第2接觸構件可具有一端部以及另一端部,該一端部以及另一端部係各別地與前述積層體的前述長邊方向的一端部以及另一端部接觸。
前述第1接觸構件中的與前述積層體接觸之接觸面A的形狀可為環狀。
前述接觸面A的環的寬可為5至25mm。
前述第1接觸構件中的與前述積層體接觸之接觸面A的形狀可為矩形環狀或楕圓環狀。
於前述加工的步驟之前,從前述積層體的厚度方向觀看,被固定的前述積層體的外側端可比前述第1接觸構件中的與前述積層體接觸之接觸面A的外側端更朝外側突出0.8至1.5mm。
前述第2接觸構件中的與前述積層體接觸之接觸面E的形狀可為環狀。
前述加工的步驟可包含:使繞著與前述積層體的厚度方向平行的軸旋轉之端銑刀的側面接觸於前述積層體的前述端面之步驟。
第1接觸構件的厚度可為2至15mm。
前述複數個膜中的至少一者可為樹脂膜。
本發明的端面加工膜的製造方法係具備積層複數個膜而獲得積層體之步驟,以及加工前述積層體的端面的步驟,並且,以上述的方法加工前述積層體的端面。
本發明的端面加工裝置為加工具有複數個膜的積層體的端面的端面加工裝置,該端面加工裝置具備:
第1接觸構件,係具有與前述積層體的一面接觸之接觸面A;
第1輔助具,係與前述第1接觸構件連接;
第2接觸構件,係具有與前述積層體的另一面接觸之接觸面E;
第2輔助具,係與前述第2接觸構件連接;
按壓部,係將前述第1輔助具以及前述第2輔助具之至少一者朝向另一者按壓,而將前述積層體固定在前述第1接觸構件以及前述第2接觸構件之間;以及
加工部,係加工被固定在前述第1接觸構件以及前述第2接觸構件之間之前述積層體的端面;其中,
前述第1接觸構件從按壓方向觀看之形狀,係具有長邊方向的形狀;
前述第1輔助具具有下列形狀:與前述第1接觸構件中的前述長邊方向的一端部以及另一端部接觸,而且,不與前述第1接觸構件之前述一端部以及前述另一端部之間的中央部接觸的形狀。
在此,前述第1接觸構件中的與前述積層體接觸之接觸面的形狀可為環狀。
此外,前述第2接觸構件從按壓方向觀看所具有之形狀,可為具有長邊方向的形狀,
前述第1接觸構件的長邊方向可與前述第2接觸構件的長邊方向平行。
依據本發明,係提供可實現高加工精度的積層體的端面的加工方法等。
10:積層體
10A:一端部
10B:中央部
10C:另一端部
12:膜
14:保護膜
20:第1輔助具
21:第1接觸構件
21A:一端部
21B:中央部
21C:另一端部
23:前端構件
25:連結部
30:第2輔助具
31:第2接觸構件
31A:一端部
31B:中央部
31C:另一端部
33:前端構件
35:連結部
40:加工部
42:旋轉驅動部
44:端銑刀
46:移動部
60:按壓部
61:固定部
100:端面加工裝置
A:接觸面
AP:外側端
B:面(接觸面)
C:面(下表面)
D:面
E:接觸面
EF:端面(側面)
F:面(接觸面)
G:厚度
LL:長邊的長度
M:中央部
N:端部
NN:凸部
P:凹部
Q:部分
R:部分
S:寬
SS:短邊的長度
T:突出量
U:下表面
V:表面(上表面)
W:寬
W2:寬
圖1為本發明之一實施形態的端面加工裝置100的概略側面圖。
圖2的(a)為圖1中的第1輔助具20以及第1接觸構件21之上側斜視圖,圖2的(b)為圖1中的第1輔助具20以及第1接觸構件21的下側斜視圖。
圖3為圖2的(a)的第1輔助具20以及第1接觸構件21之上側分解斜視圖。
圖4為圖2的(b)的第1輔助具20以及第1接觸構件21的下側分解斜視圖。
圖5為圖1的V-V剖面箭頭視圖。
圖6的(a)為圖1中的第2輔助具30以及第2接觸構件31之上側斜視圖,圖6的(b)為圖1中的第2輔助具30以及第2接觸構件31的下側分解斜視圖。
圖7為圖1中的積層體10的放大圖。
圖8為其他的實施形態的第1輔助具20以及第1接觸構件21的下側分解斜視圖。
圖9為本發明的其他的實施形態的端面加工裝置100的概略側面圖。
圖10為本發明的其他的實施形態的端面加工裝置的概略側面圖。
圖11為在比較例2使用的第1輔助具20以及第1接觸構件21的下側分解斜視圖。
參照圖面,針對本發明的一個實施形態進行說明。圖1為本發明的實施形態的端面加工裝置100的側面圖。
本實施形態的端面加工裝置100主要具備第1接觸構件21、第1輔助具20、第2接觸構件31、第2輔助具30、固定部61、按壓部60以及加工部40。
如圖1所示,第1接觸構件21以及第2接觸構件31係以從厚度方向的兩側夾住膜的積層體10的方式配置。於圖中,X、Y方向為水平方向,Z方向為垂直方向。
第1接觸構件21配置在比第2接觸構件31更上側處。在第1接觸構件21之上設有第1輔助具20,在第2接觸構件31之下設有第2輔助具30。
如圖2的(a)及(b)與圖3及圖4所示,第1接觸構件21為矩形的板狀構件,厚度方向配置為Z方向(按壓的方向),從Z方向觀看,以長邊方向成為與X方向平行的方式配置。
如圖2及圖4所示,第1接觸構件21係在與第2接觸構件31相面對的下表面側,具有與膜的積層體10接觸之平坦的接觸面A,在與接觸面A相反的上表面側具有平坦的接觸面B。
第1接觸構件21的矩形的大小,係能夠以比所固定的膜的積層體10的表面(與厚度方向垂直的面)的外形形狀更小的範圍來適宜地設定。
圖5為沿著圖1的V-V線的剖面箭頭視圖。第1接觸構件21的大小適合設定為,在使第1接觸構件21的接觸面A與加工前的膜的積層體10的厚度方向的表面接觸之際,從膜的積層體10的厚度方向觀看,膜的積層體10的端面(外側端)EF比第1接觸構件21中的與積層體10接觸之接觸面A的外側端AP更朝外側突出0.8mm至1.5mm。在此,將從厚度方向所觀看到之自接觸 面A的外側端AP起的積層體的突出量稱為T。例如,加工前的突出量T可設為1mm。加工後的積層體的突出量T可設為0.3至0.8mm,也可設為0.5mm。
第1接觸構件21的矩形的高寬比適合設為與成為按壓對象的積層體10(膜12)中的表面(與厚度方向垂直的面)的高寬比相同程度(例如90至110%)。典型之態樣為,隨加工製品形狀而設,但可例如設為1.01至3.00,適合之態樣為1.40至2.50,更適合之態樣為1.70至2.20。
本實施形態中,第1接觸構件21係在下表面的中央具有矩形的凹部P,且接觸面A的形狀為矩形環狀。於本說明書中,矩形環狀係指由矩形的輪廓所形成的環形狀。另外,在本實施形態中,係藉由凹部P使接觸面A的中央部與積層體10成為非接觸,但亦可藉由貫通孔而使接觸面A的中央部成為非接觸。
第1接觸構件21中的接觸面A的環的寬S可設為5至25mm,適合為10mm以上,亦適合為15mm以下。
圖4所示之第1接觸構件21的厚度G係能夠以第1接觸構件21不會撓曲的範圍來適宜地設定。適合的厚度為2至15mm,3mm以上較佳,13mm以下亦較佳,亦可為7mm。
第1接觸構件21適合為金屬構件。金屬之例為鋁、鋼、不銹鋼、合金工具鋼(例如SKD11)等。
第1輔助具20具有前端構件23以及連結部25。如圖3及圖4所示,前端構件23係具有與第1接觸構件21的面B接觸的一對平坦的面C,以及與面C為相反側的平坦的面D。具體而言,前端構件23之一對面C之間的 中央部M係設為凹部,且含有面C的兩邊的端部N係相對於中央部M而設為凸部。
如圖4所示,前端構件23的一對面C係在第1接觸構件21的矩形的長邊方向(X軸方向,以下,有時單稱為長邊方向)隔離而配置,各別往第1接觸構件21的矩形的短邊方向(Y方向,以下,有時單稱為短邊方向)延伸。
如圖2及圖3所示,前端構件23的一對面C係與第1接觸構件21的面B中的長邊方向(X軸方向)的一端部21A的一部分以及另一端部21C的一部分接觸,而不與長邊方向的中央部21B接觸。在此,一端部21A係指第1接觸構件21中之從長邊方向(X軸方向)中的一端到長邊的長度的25%為止的區域,另一端部21C係指從長邊方向中的另一端到長邊的長度的25%為止的區域,並且,中央部21B係指從第1接觸構件21去除一端部21A以及另一端部21C後之剩下的區域。
一方的面C不與中央部21B相接,而只要與一端部21A的至少一部分接觸即可。另一方的面C不與中央部21B相接,而只要與另一端部21C的至少一部分接觸即可。
各個面C以各別覆蓋一端部21A或另一端部21C的30%以上為適合。圖4之面C中的長邊方向的寬W可設為例如10mm至30mm,較佳可設為15mm至25mm。
面C較佳為各別於一端部21A以及另一端部21C中相對於短邊(Y軸)側的全長而遍及於60%以上的長度接觸,而以遍及於80%以上的長度接觸更佳。
前端構件23的材料亦可設為與第1接觸構件21相同。
前端構件23的厚度能夠以不會撓曲的範圍來適宜地設定。2個端部N的厚度(Z方向)可設為例如3mm至20mm,較佳可設為3mm至15mm。此外,中央部M的厚度(Z方向)可設為例如2mm至19mm,較佳可設為2mm至12mm。
連結部25為固定在前端構件23的面D並且固定在後述的按壓部60的構件。如圖2所示,連結部25係與面D中的包含中心(重心)的部分Q接觸。面D中的部分Q係在將第1接觸構件21的面B中的中央部21B往Z軸方向投影所成的區域內,而不在將一端部21A以及另一端部21C往Z軸方向投影所成的區域內。第1輔助具20的連結部25的中心軸線與後述之第2輔助具30的中心軸線係配置在同一線上。
前端構件23與連結部25彼此固定而構成第1輔助具20。前端構件23與第1接觸構件21彼此互相固定。以這些固定的方法而言,可採用熔接、螺合等公知的方法。
(第2接觸構件31以及第2輔助具30)
如圖1所示,第2接觸構件31配置在比第1接觸構件21更下側處。如圖1及圖6的(a)以及(b)所示,第2輔助具30配置在第2接觸構件31的下側。
第2接觸構件31為與第1接觸構件21相同的矩形的板狀構件。第2接觸構件31係在與第1接觸構件21的接觸面A相面對的上表面側,具有與膜的積層體10接觸的平坦的接觸面E,而在接觸面E的相反面具有平坦的接觸面F。第2接觸構件31具有一端部31A、中央部31B以及另一端部31C。一端部31A、中央部31B以及另一端部31C以與第1接觸構件21相同的方式定義。
第2接觸構件31係以下式方式配置;厚度方向為Z方向(按壓的方向),並從Z方向所觀看之長邊方向成為與X方向平行,使第2接觸構件31的矩形中的長邊方向成為與第1接觸構件21的矩形的長邊方向平行。第2接觸構件31的矩形的大小以及高寬比能夠以與第1接觸構件21相同的範圍來設定,適合為與第1接觸構件21相同。接觸面E的形狀與第1接觸構件21的接觸面A相同地,可為在中央設有成為非接觸部的凹部P的矩形環狀,亦可為無凹部的單純的平面。
第2接觸構件31可設成為與第1接觸構件21相同的材料、構造以及厚度。
第2輔助具30為固定在第2接觸構件31的面F並且固定在後述的固定部61的構件。第2輔助具30與面F中的包含中心(重心)的部分R接觸。面F中的部分R係在將第2接觸構件31的面F中的中央部31B往Z軸方向投影所成的區域內,而不在將一端部31A以及另一端部31C往Z軸方向投影所成的區域內。另外,一端部、另一端部以及中央部的定義係與第1接觸構件21相同。如上述般,第2輔助具30的中心軸與連結部25(第1輔助具20)的中心軸係配置在同一線上。
第2接觸構件31與第2輔助具30係各別以熔接、螺合等公知的方法彼此固定,第2輔助具30連接至固定部61。
於圖1中,第2接觸構件31係以使接觸面E向上的方式隔著第2輔助具30固定於固定部61,並且,第1接觸構件21係以使接觸面A向下的方式隔著第1輔助具20固定於按壓部60,接觸面E以及接觸面A係相對向。
按壓部60配置在比固定部61更上方處,按壓部60係以可相對於固定部61而往上下方向移動的方式構成。因此,按壓部60可將第1接觸構件21的接觸面A朝向第2接觸構件31的接觸面E按壓。亦即,可將膜的積層體10從厚度方向的兩側按壓而固定在第1接觸構件21的接觸面A與第2接觸構件31的接觸面E之間。
按壓部60的具體的構成並無特別限定,可使用例如,螺旋千斤頂,油壓千斤頂等公知的移動機構。可為單軸式,亦可為多軸式。
加工部40具有端銑刀44、端銑刀的旋轉驅動部42以及端銑刀的移動部46。
端銑刀44的形態並無特別限定,可較好是使用例如木工銑刀(router)型的端銑刀等。端銑刀44的刃長(Z軸方向)較好為比膜的積層體10的厚度更長。
旋轉驅動部42係使端銑刀44係以其軸為中心旋轉。本實施形態中,旋轉驅動部42係使端銑刀44以與積層體10的厚度方向(Z方向)平行的軸為中心旋轉。
端銑刀的移動部46係使旋轉的端銑刀44以端銑刀44的側面接觸於積層體10的端面(側面)EF的狀態,沿著端面EF而在與積層體10的厚度方向垂直的方向移動。
端面加工裝置100只要有一個加工部40即可,但從快速地進行加工的觀點觀之,亦可具有2個以上的加工部40。
(端面加工方法以及端面加工膜的製造方法)
接著,說明本發明的實施形態的端面加工方法以及端面加工膜的製造方法。
首先,準備如圖7所示的膜12的積層體10。各個膜12可為單層膜,亦可為積層膜。
單層膜之例為樹脂膜。樹脂之例為纖維素系樹脂(三乙酸纖維素等)、聚烯烴系樹脂(聚丙烯系樹脂等)、環狀烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂等)、丙烯酸酯系樹脂(聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂等)、聚酯系樹脂(聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂等)以及聚醯亞胺系樹脂(聚醯亞胺、聚醯胺醯亞胺)等。這些單層膜可為保護膜、基材膜、相位差膜、窗膜(window film)等光學膜。
積層膜之例為偏光板、圓偏光板以及觸感測器(touch sensor)觸控面板)。
例如,偏光板至少具備一對光學膜與配置在該一對光學膜間的偏光片。
圓偏光板例如具有偏光片(例如上述偏光板)與相位差(1/4 λ)膜。
積層膜可進一步具備黏著劑層,接著劑層,剝離膜,防護膜等其他的層。
各個膜12的厚度並無特別限定,可設成為例如20μm至500mm,較佳可設成為50μm至500μm,更佳可設成為50μm至200μm。
膜12的外形形狀(從厚度方向所觀看到之形狀)只要為對應第1接觸構件21(接觸面A)以及第2接觸構件31(接觸面E)之外形形狀的形狀即可。本實施形態中,係與上述的接觸面A以及E的外形形狀配合,而準備矩形的膜。
除了0以外,膜的高寬比較佳以1.01至3.00為適合。膜的長邊的長度可為例如100mm以上。
積層體10係具備複數個這樣的膜12。各個膜12的外形形狀以實質地相同為適合。例如,可藉由以湯母森刀(Thomson blade)等而從膜的原膜切出膜12,以得到具有實質地相同的外形形狀的多數個膜12。於積層體10中,各個膜12係以長邊彼此成為平行且端部彼此從厚度方向觀看重疊的方式積層。
積層體10的各個膜12通常為具有彼此相同的積層構造的膜12,但積層具有彼此不同的積層構造的膜12亦可。積層體10中的膜12的數目只要為2以上即無特別限定,但通常5以上,可為10以上,亦可為50以上。
積層體10除了複數個膜12以外,還可在積層方向的兩端的一端或兩端具有保護膜14,以防止在藉由第1接觸構件21以及第2接觸構件31固定積層體10之際使膜12損傷。
保護膜14之例為樹脂膜。樹脂之例除了為上述之樹脂膜中所例示的樹脂外,還有聚苯乙烯,聚對苯二甲酸乙二酯等。
保護膜14的厚度可設為例如0.2mm至1.0mm,較佳可設為0.3mm至0.8mm,更佳可設為0.3mm至0.6mm。
此外,積層體10的厚度可設為例如10mm至60mm,較佳可設為20mm至50mm。
這樣的積層體10的端面EF為本實施形態中的加工對象。端面EF係表示從第1接觸構件21側所觀看到之積層體10的側面全體。積層體10在厚度的兩端具有上表面V以及下表面U。
與第1接觸構件21相同地,積層體10具有一端部10A、中央部10B以及另一端部10C。一端部10A係指積層體10中之從長邊方向(X軸方向)中的一端到長邊的長度的25%為止的區域,另一端部10C係指從長邊方向中的另一端到長邊的長度的25%為止的區域,並且,中央部10B係指從積層體10去除一端部10A以及另一端部10C後剩餘的區域。
接著,使第1接觸構件21的接觸面A接觸於積層體10的厚度方向的一側表面(上表面),且使第2接觸構件31的接觸面E接觸於積層體10的厚度方向的另一側表面(下表面),將該積層體10夾住而固定在第1接觸構件21以及第2接觸構件31之間。具體而言,係在連結於固定部61的第2接觸構件31的接觸面E上載置積層體10後,藉由按壓部60的驅動,使第1接觸構件21向下方移動,而藉由接觸面A與接觸面E將積層體10朝厚度方向按壓。
在此,各別地讓第1接觸構件21的一端部21A與積層體10的上表面V中的一端部10A的一部分接觸,讓第1接觸構件21的中央部21B與積層體10的上表面V中的中央部10B的一部分接觸,讓第1接觸構件21的另一端部21C與積層體10的上表面V中的另一端部10C的一部分接觸。
此外,各別地讓第2接觸構件31的一端部31A與積層體10的下表面U中的一端部10A的一部分接觸,讓第2接觸構件31的中央部31B與積層體10的下表面U中的中央部10B的一部分接觸,讓第2接觸構件31的另一端部31C與積層體10的下表面U中的另一端部10C的一部分接觸。
本實施形態中,藉由這樣的按壓方法,於利用按壓進行固定時,當將第1接觸構件21的接觸面A的面內的壓力的最大值以及最小值各別設為Pmax以及Pmin時,以滿足Pmin≧0.4Pmax的方式固定積層體10。較佳為Pmin ≧0.5Pmax,更佳為Pmin≧0.6Pmax,更佳為Pmin=Pmax,但只要Pmin≧0.4Pmax即可得到效果。
當如本實施形態所示,使用具有前端構件23的第1輔助具20,而將第1接觸構件21的一端部21A以及另一端部21C朝向第2接觸構件31按壓時,即可確實地以接觸面A按壓積層體10的長邊方向的一端部10A以及另一端部10C,故容易滿足上述式。
另外,可使用感壓片進行是否滿足上述式的確認。
感壓片係指將所受到之壓力的大小的面內分布作為電氣訊號輸出的片材,或是可將所受到之壓力的大小藉由發色而記録的片材。具體而言,係於預先將感壓片夾在積層體10與第1接觸構件21之間的狀態進行積層體10的固定,之後,只要根據於接觸面A中的壓力分布的實測值而確認是否滿足上述式即可。此外,在每次進行測定的情況時,只要使用在接觸面A設有感壓片的第1接觸構件21即可。
除了以滿足上述式作為前提,利用按壓進行固定時的接觸面A的壓力的最大值的範圍可設為例如0.3至1.0MPa,較佳可設為0.3至0.6MPa。
接著,在已將積層體10固定的狀態,使繞著與積層體10的厚度方向平行的軸旋轉的端銑刀44的側面接觸於積層體10的端面EF,並且使端銑刀44沿著端面而在與厚度方向垂直的方向(亦即,長邊或短邊方向)移動,以進行各個端面EF的加工。以加工的具體例而言,可舉切削。藉此,可使構成積層體10的各個膜12的平面形狀(尺寸,直角度等)精度優良地成為預定的形狀。
在此,可加工積層體10的全端面EF之中之75%以上,亦可加工90%以上、95%以上、99%以上、100%。
之後,解除由按壓部60進行的按壓,從第1接觸構件21以及第2接觸構件31之間取出積層體10,藉此即可獲得經精度優良地實施了端面加工的積層體10。也可視需要藉由使各個膜12從積層體10分離,而獲得經分離而成的膜12。
依據本實施形態,係在將第1接觸構件21的接觸面A的壓力的最大值以及最小值各別設為Pmax以及Pmin時,以滿足Pmin≧0.4Pmax的方式固定積層體10,故可將積層體10的端面附近以遍及全周而均一的力來固定,且抑制加工時之各個膜的端部的偏移而提升加工精度。
相對於此,例如,在使用不具有前端構件23的第1輔助具20等的情況未滿足Pmin≧0.4Pmax時,會容易於接觸面A使長邊方向的端部的壓力變低。於該情況,容易引起在膜的長邊方向的端部的偏移,而造成精度的減低。
此外,若使用接觸面A的形狀為環狀的輔助具,則會變得更容易選擇性地按壓端部。
本發明不限於上述實施形態,可有各式各樣的變形態樣。
例如,膜以及積層體10的形狀不限於矩形,只要為具有長邊方向的形狀即可。形狀之例為角部倒圓角的矩形、楕圓(包含長圓)。即使於該情況,膜以及積層體的高寬比之值除了為0以外較佳以1.01至3.00為適合。膜的長邊方向的長度可為例如100mm以上。另外,在矩形以外的形狀的膜等的高寬比,係在 將最小外接矩形的長邊的長度設為LL,而將短邊的長度設為SS時,定義為LL/SS。
第1接觸構件21(接觸面A)以及第2接觸構件(接觸面E)的外形形狀,係可配合積層體10的外形形狀而適宜地設定。例如,若是積層體10的外形形狀為楕圓,則第1接觸構件21(接觸面A)以及第2接觸構件(接觸面E)的外形形狀亦適合設為楕圓形,若是積層體10的外形形狀為角部倒圓角的矩形,則第1接觸構件21(接觸面A)以及第2接觸構件(接觸面E)的外形形狀亦可設為角部倒圓角的矩形。於該情況,接觸面A,接觸面E各別可設為楕圓環狀,角部倒圓角的矩形環狀。於此情況之從第1接觸構件21(接觸面A)以及第2接觸構件(接觸面E)的外側端突出的積層體10的突出量T亦設成上述的範圍較好。
圖8中,顯示積層體10的形狀從厚度方向觀看為楕圓(長圓)的情況之積層體10、第1接觸構件21以及第1輔助具20之例。第1接觸構件21設為對應積層體的形狀的楕圓(長圓)的板,並且,與積層體10接觸之接觸面A設為楕圓環。第1接觸構件21的一端部21A與積層體10的表面(上表面)V中的一端部10A的一部分接觸,第1接觸構件21的中央部21B與積層體10的表面V中的中央部10B的一部分接觸,第1接觸構件21的另一端部21C與於積層體10的表面V中的另一端部10C的一部分接觸。
前端構件23的2個端部N的面C各別具有半月狀的形狀。前端構件23的端部N的面C與第1接觸構件21的於面B中的長邊方向(X軸方向)的一端部21A的一部分以及另一端部21C的一部分接觸,前端構件23不與長邊方向的中央部21B接觸。
此外,上述實施形態中,第1接觸構件21的接觸面A係設為環狀形狀,但不限於此。例如,即便是在接觸面A的中央未設置與積層體10之非接觸部的態樣(例如矩形、楕圓形等),亦可實施。
此外,第2接觸構件31的接觸面E即便是非環狀形狀亦可實施。例如,亦可為在接觸面E的中央部不具有凹部或貫通部等非接觸部的形狀,例如矩形,楕圓形。但是,接觸面E的外形形狀較好為與接觸面A相同。
此外,於上述實施形態中,係使繞著與積層體10的厚度方向平行的軸中心旋轉的端銑刀44的側面接觸於積層體10的端面EF而進行加工,但不限於此,例如,即便使繞著與積層體10的厚度方向垂直且與端面EF平行的軸中心旋轉的端銑刀44的側面接觸於積層體10的端面EF而進行加工,亦可實施。
此外,加工部40,按壓部60的態樣當然不限於上述的態樣。例如,在上述實施形態雖然使用端銑刀,但亦可使用端銑刀以外的工具,例如,亦可使用鉋刀。此外,在上述實施形態雖為固定部61在下而按壓部60在上,但亦可相反地配置,亦可不具有固定部而將一對按壓部60各別配置在上下。
此外,上述實施形態中,係使用前端構件23而實現Pmin≧0.4Pmax,但只要滿足Pmin≧0.4Pmax,則亦可利用其他的方法。例如,如圖9所示般,藉由一對按壓部60而獨立地按壓第1接觸構件21的一端部21A以及另一端部21C的態樣。在該實施形態,藉由各別設於2個按壓部60的第1輔助具20的下表面C,能夠以不按壓中央部21B的方式,而從上表面各別按壓第1接觸構件21的一端部21A以及另一端部21C。
另外,在藉由一對按壓部60按壓積層體10的情況,較佳為,第2接觸構件31中的與前述積層體10接觸之接觸面E的形狀為與第1接觸構件21的接觸面A相同,亦即在中央設有成為非接觸部的凹部P的形狀。進一步,在按壓的步驟,於將接觸面E中的壓力的最大值與最小值各別設為Pmax(1)與Pmax(2)時,較佳為滿足Pmin(1)≧0.4Pmax(1)。
此外,於上述實施形態中,圖1所示之第2輔助具30亦可在前端具有與第1輔助具20的前端構件23相同的前端構件等態樣,且以不按壓中央部31B的方式,選擇性地按壓一端部31A以及另一端部31C。例如,如圖10所示,第2輔助具30可具有前端構件33以及連結部35。前端構件33以及連結部35可具有與第1輔助具20的前端構件23和連結部25相同的構造,且前端構件33係以不按壓中央部31B的方式,而選擇性地按壓第2接觸構件31的一端部31A以及另一端部31C。
此外,在上述實施形態中,從適用於加工精度容易變低的情況的觀點來看,係採用積層體10的外形形狀的高寬比比1大,以及,第1接觸構件21(接觸面A)和第2接觸構件31(接觸面E)的外形形狀的高寬比比1大的態樣,但亦可實施積層體10的外形形狀的高寬比為1,以及,第1接觸構件21(接觸面A)和第2接觸構件31(接觸面E)的外形形狀的高寬比為1的態樣,例如,正方形,圓形等態樣。
[實施例]
(實施例1)
依以下的條件,使用圖1至圖6所示之端面加工裝置,以端銑刀加工具有101片偏光板的積層體的端面。
偏光板:使聚對苯二甲酸乙二酯〔PET〕、三乙酸纖維素〔TAC〕、聚乙烯醇〔PVA〕、TAC、相位差膜、黏著層、以及PET以此順序積層而成的偏光板。厚度260μm,長邊155.6mm,短邊75.6mm
端面加工裝置:在MEGAROTECHNICA股份有限公司製 2軸偏光板加工機(PLPB-3523CWA)中加裝了以下的規格的裝置
前端構件23:長邊134mm,短邊54mm,兩端部N的厚度11mm,中央部M的厚度10mm,兩端部N相對於中央部M的突出量1mm,不銹鋼,C面的長邊方向的寬W20mm
第1接觸構件21以及第2接觸構件31的形狀:矩形板,且接觸面為矩形環,環的寬S 10mm,厚度5mm,長邊154mm,短邊74mm
第1接觸構件21以及第2接觸構件31的材質:不銹鋼
加工條件:突出量T:0.8mm,切削量:0.3mm
進行上述加工之際,在接觸面A設有壓力測定膜(商品名:PRESCALE,極超低壓用(LLLW);FUJIFILM公司製),測定固定時的壓力分布,Pmin為0.4Pmax。尺寸偏移為14μm,直角度偏移為0.016°。
於本實施例以及下述比較例中,尺寸偏移係指,從加工完畢之積層體的積層方向的上部、中部以及下部各別取出各1片的加工完畢之偏光板,測定各個加工完畢之偏光板中的兩端以及中央之合計3點的長邊以及短邊尺寸,以表示各個邊的測定值與設計尺寸之尺寸差的最大範圍(亦即,表示該尺寸差最大值Max與尺寸差最小值Min之差)。
直角度偏移係指,以上述測定完畢之各個邊的座標數據,製作與長邊平行的直線AA和與短邊平行的直線BB,且於設置該直線AA與直線BB的交點之角度CC的情況時的角度CC與設計值(直角)之角度的偏移量的最大值。
(實施例2)
如圖10所示,除了使用具有前端構件33以及連結部35的第2輔助具30以外,與實施例1相同地進行試驗。使用與前端構件23相同尺寸以及材質的構件,作為前端構件33。
Pmin為0.5Pmax。尺寸偏移為16μm,直角度偏移為0.017°。
(比較例1)
除了不使用前端構件23而以連結部25按壓第1接觸構件21以外,與實施例1相同地進行試驗。Pmin為0.1Pmax。尺寸偏移為65μm,直角度偏移為0.040°。
(比較例2)
作為前端構件23,如圖11所示,除了C面的長邊方向的寬W為20mm的兩端部N以外,還於中央部M中的成為長邊方向的中心的位置,設有長邊方向的寬W2為10mm,厚度為1mm,且與端部N平行地延伸的凸部NN,除此之外,與實施例1相同地進行試驗。兩端部N以及凸部NN相對於中央部M的突出量為1mm,凸部NN接觸於第1接觸構件21的中央部21B。Pmin為0.1Pmax。尺寸偏移為68μm,直角度偏移為0.040°。
結果統整顯示於表1。
Figure 109121344-A0202-12-0022-1
10:積層體
10A:一端部
10B:中央部
10C:另一端部
20:第1輔助具
21:第1接觸構件
21A:一端部
21B:中央部
21C:另一端部
23:前端構件
25:連結部
30:第2輔助具
31:第2接觸構件
31A:一端部
31B:中央部
31C:另一端部
40:加工部
42:旋轉驅動部
44:端銑刀
46:移動部
60:按壓部
61:固定部
A:接觸面
B:面(接觸面)
C:面(下表面)
E:接觸面
EF:端面(側面)
F:面(接觸面)
U:下表面
V:表面(上表面)

Claims (19)

  1. 一種加工具有複數個膜的積層體的端面的方法,該方法具備:
    藉由第1接觸構件以及第2接觸構件,以使前述第1接觸構件以及前述第2接觸構件接觸於前述積層體的方式,從前述積層體的厚度方向的兩側按壓前述積層體而固定前述積層體之步驟;以及
    加工被固定的前述加工積層體的端面的步驟;
    其中,
    於前述按壓的步驟中,於將前述第1接觸構件中的與前述積層體接觸之接觸面A的壓力的最大值以及最小值各別設為Pmax以及Pmin時,係滿足Pmin≧0.4Pmax。
  2. 如請求項1所述之方法,其中,
    前述積層體從厚度方向觀看所具有之形狀,係具有長邊方向的形狀;
    前述第1接觸構件具有一端部以及另一端部,該一端部以及該另一端部係各別地與前述積層體的前述長邊方向的一端部以及另一端部接觸;
    前述按壓的步驟中,將前述第1接觸構件之前述一端部以及前述另一端部朝向前述第2接觸構件相對地按壓。
  3. 如請求項2所述之方法,其中,前述按壓的步驟中,藉由第1輔助具,將前述第1接觸構件朝向前述第2接觸構件相對地按壓,該第1輔助具係與前述第1接觸構件之前述一端部以及前述另一端部接觸,而且,不與前述第1接觸構件之前述一端部以及前述另一端部之間的中央部接觸。
  4. 如請求項3所述之方法,其中,前述第1輔助具為金屬構件。
  5. 如請求項2至4中任一項所述之方法,其中,前述第2接觸構件具有一端部以及另一端部,該一端部以及該另一端部係各別地與前述積層體的前述長邊方向的一端部以及另一端部接觸。
  6. 如請求項1至5中任一項所述之方法,其中,係加工前述積層體的全端面之中之75%以上。
  7. 如請求項1至6中任一項所述之方法,其中,前述第1接觸構件為金屬構件。
  8. 如請求項1至7中任一項所述之方法,其中,前述第1接觸構件中的與前述積層體接觸之接觸面A的形狀為環狀。
  9. 如請求項8所述之方法,其中,前述接觸面A的環的寬為5至25mm。
  10. 如請求項8或9所述之方法,其中,前述第1接觸構件中的與前述積層體接觸之接觸面A的形狀為矩形環狀或楕圓環狀。
  11. 如請求項8至10中任一項所述之方法,其中,於前述加工的步驟之前,從前述積層體的厚度方向觀看,被固定的前述積層體的外側端係比前述第1接觸構件中的與前述積層體接觸之接觸面A的外側端更朝外側突出0.8至1.5mm。
  12. 如請求項1至11中任一項所述之方法,其中,前述第2接觸構件中的與前述積層體之接觸面E的形狀為環狀。
  13. 如請求項1至12中任一項所述之方法,其中,前述加工的步驟包含:使繞著與前述積層體的厚度方向平行的軸中心旋轉之端銑刀的側面接觸於前述積層體的前述端面之步驟。
  14. 如請求項1至13中任一項所述之方法,其中,前述第1接觸構件的厚度為2至15mm。
  15. 如請求項1至14中任一項所述之方法,其中,前述複數個膜中的至少一者為樹脂膜。
  16. 一種端面加工膜的製造方法,係具備:
    積層複數個膜而獲得積層體之步驟,以及
    加工前述積層體的端面的步驟;且
    該製造方法以請求項1至15中任一項所述之方法加工前述積層體的端面。
  17. 一種加工具有複數個膜的積層體的端面之端面加工裝置,該端面加工裝置具備:
    第1接觸構件,係具有與前述積層體的一面接觸之接觸面A;
    第1輔助具,係與前述第1接觸構件連接;
    第2接觸構件,係具有與前述積層體的另一面接觸之接觸面E;
    第2輔助具,係與前述第2接觸構件連接;
    按壓部,係將前述第1輔助具以及前述第2輔助具之至少一者朝向另一者按壓,而將前述積層體固定在前述第1接觸構件以及前述第2接觸構件之間;以及
    加工部,係加工被固定在前述第1接觸構件以及前述第2接觸構件之間之前述積層體的端面;其中,
    前述第1接觸構件從按壓方向觀看時之形狀,係具有長邊方向的形狀;
    前述第1輔助具具有下列形狀:與前述第1接觸構件中的前述長邊方向的一端部以及另一端部接觸,而且,不與前述第1接觸構件之前述一端部以及前述另一端部之間的中央部接觸的形狀。
  18. 如請求項17所述之端面加工裝置,其中,前述第1接觸構件中的與前述積層體接觸之接觸面A的形狀為環狀。
  19. 如請求項17或18所述之端面加工裝置,其中,前述第2接觸構件從按壓方向觀看時之形狀,係具有長邊方向的形狀,
    前述第1接觸構件的長邊方向與前述第2接觸構件的長邊方向平行。
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