TW202030079A - 光學積層體、可撓性顯示裝置及光學積層體之製造方法 - Google Patents

光學積層體、可撓性顯示裝置及光學積層體之製造方法 Download PDF

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Abstract

本發明提供一種光學均質性優異之光學積層體、具備該光學積層體之可撓性顯示裝置及該光學積層體之製造方法。 本發明之光學積層體係具有含有聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂之光學膜、及積層於該光學膜之至少單面之功能層者，並且 若於將使用上述光學膜或光學積層體並藉由投影法而獲得之投影圖像進行傅立葉變換所得之膜倒空間像中，將相互正交之方向h及方向v之譜線輪廓分別設為譜線輪廓h及譜線輪廓v，於將上述投影法中不使用上述膜或光學積層體而獲得之背景圖像進行傅立葉變換所得之背景倒空間像中，將相互正交之方向h'及方向v'之譜線輪廓分別設為譜線輪廓h'及譜線輪廓v'，將自譜線輪廓h減去譜線輪廓h'所得之譜線輪廓(h－h')之最大強度設為Ymh ，將顯示最大強度Ymh 之頻率設為Xmh ，將自譜線輪廓v減去譜線輪廓v'所得之譜線輪廓(v－v')之最大強度設為Ymv ，將顯示最大強度Ymv 之頻率設為Xmv ，則Ymh 及Ymv 均為40以下，Ymh 、Ymv 、Xmh 及Xmv 滿足下述關係： (Ymh +Ymv )/(Xmh +Xmv )1/2 ＜30。

Description

光學積層體、可撓性顯示裝置及光學積層體之製造方法
本發明係關於一種光學積層體、具備該光學積層體之可撓性顯示裝置及該光學積層體之製造方法。
對液晶顯示裝置或有機EL(Electroluminescence，電致發光)顯示裝置等圖像顯示裝置中所使用之光學膜而言，因經由該光學膜使用者以直接目視視認所顯示之圖像，故而要求非常高之光學均質性。
作為此種光學膜之製造方法，使用如下方法：將含有揮發性溶劑與構成光學膜之樹脂之溶液塗佈於基材上並乾燥後，加以剝離(例如，專利文獻1)。於此種伴隨塗佈及乾燥之製造方法中，存在因塗佈條件或乾燥條件而產生厚度不均及配向不均之情形。對膜而言，即使於具有以目視無法確認之級別之不均之情形時，於最終作為圖像顯示裝置中之光學膜而組入時，亦存在因該不均而引起光學均質性受損，視認出圖像之變形等之情形。故而，對圖像顯示裝置中用作光學膜之膜，要求以目視難以確認之級別之非常高精度之光學均質性。故而，仍存在對膜之光學均質性之進一步提高之要求。
作為抑制膜之不均之光學膜，例如於專利文獻1中，記載有如下之聚醯亞胺系光學膜：於自聚醯亞胺系光學膜之投影圖像切取之矩形區域中，灰度之標準偏差σ及該矩形區域之二值化圖像中之黑色部分之面積被調整為特定範圍內。於專利文獻2中記載有如下之光學用透明膜：膜面內之透射光之亮度之差異以標準偏差計為平均亮度之15%以內。於專利文獻3中記載有如下之藉由條紋投影法之形狀測定方法：對光柵板照射來自光源部之光，對透過該光柵板之光進行投影作為光柵像，拍攝該光柵像，自光柵像之變形將被測定物之三維繫形狀進行數值化。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]國際公開第2016/152459號 [專利文獻2]日本專利特開平9-48866號公報 [專利文獻3]日本專利特開2011-226871號公報
[發明所欲解決之問題]
然而，上述專利文獻中記載之方法之任一者均非以對如圖像顯示裝置中所使用之光學膜要求之非常高之精度，評價膜之光學均質性的充分之方法。專利文獻1中記載之方法為1 cm×5 cm之解析區域之評價，故而並非可充分評價於縱方向產生之不均所引起之光學均質性之下降的方法。專利文獻2中記載之方法並非可高精度地評價透射光之亮度之差較小之濃淡較淺之不均所引起之光學均質性之下降的方法。 專利文獻3中記載之方法係檢測形狀之方法，故而無法評價折射率之不均所引起之光學均質性之下降。因此，以該等方法評價所獲得之膜之任一者可認為均不具有充分之光學均質性。
本發明係鑒於上述先前技術所具有之課題而完成者，其課題在於提供一種較佳用作圖像顯示裝置等中之光學膜之光學均質性優異之光學積層體、具備該光學積層體之可撓性顯示裝置、及該光學積層體之製造方法。 [解決問題之技術手段]
本發明者等人為解決上述課題，對可以高精度評價光學膜或光學積層體之光學均質性之評價方法、以及提高光學膜或光學積層體之光學均質性及光學特性之方法進行潛心研究。其結果，發現滿足下述必要條件之光學積層體具有優異之光學均質性，從而完成本發明。即，本發明中包含以下態樣。 [1]一種光學積層體，其係具有含有聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂之光學膜、及積層於該光學膜之至少單面之功能層者，並且 若於將使用上述光學膜並藉由投影法而獲得之投影圖像進行傅立葉變換所得之膜倒空間像中，將相互正交之方向h及方向v之譜線輪廓分別設為譜線輪廓h及譜線輪廓v，於將上述投影法中不使用上述膜而獲得之背景圖像進行傅立葉變換所得之背景倒空間像中，將相互正交之方向h'及方向v'之譜線輪廓分別設為譜線輪廓h'及譜線輪廓v'，將自譜線輪廓h減去譜線輪廓h'所得之譜線輪廓(h－h')之最大強度設為Ymh ，將顯示最大強度Ymh 之頻率設為Xmh ，將自譜線輪廓v減去譜線輪廓v'所得之譜線輪廓(v－v')之最大強度設為Ymv ，將顯示最大強度Ymv 之頻率設為Xmv ，則Ymh 及Ymv 均為40以下，Ymh 、Ymv 、Xmh 及Xmv 滿足下述關係： [數1] (Ymh +Ymv )/(Xmh +Xmv )1/2 ＜30。 [2]一種光學積層體，其係具有含有聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂之光學膜、及積層於該光學膜之至少單面之功能層者，並且 若於將使用上述光學積層體並藉由投影法而獲得之投影圖像進行傅立葉變換所得之膜倒空間像中，將相互正交之方向h及方向v之譜線輪廓分別設為譜線輪廓h及譜線輪廓v，於將上述投影法中不使用上述光學積層體而獲得之背景圖像進行傅立葉變換所得之背景倒空間像中，將相互正交之方向h'及方向v'之譜線輪廓分別設為譜線輪廓h'及譜線輪廓v'，將自譜線輪廓h減去譜線輪廓h'所得之譜線輪廓(h－h')之最大強度設為Ymh ，將顯示最大強度Ymh 之頻率設為Xmh ，將自譜線輪廓v減去譜線輪廓v'所得之譜線輪廓(v－v')之最大強度設為Ymv ，將顯示最大強度Ymv 之頻率設為Xmv ，則Ymh 及Ymv 均為40以下，Ymh 、Ymv 、Xmh 及Xmv 滿足下述關係： [數2] (Ymh +Ymv )/(Xmh +Xmv )1/2 ＜30。 [3]如上述[1]或[2]之光學積層體，其中功能層之至少一個為具備選自由硬塗功能、抗靜電功能、防眩功能、低反射功能、抗反射功能及防污功能所組成之群中之至少一種功能之層。 [4]如上述[1]至[3]中任一項之光學積層體，其中光學積層體之至少一面之鉛筆硬度為H以上。 [5]如上述[1]至[4]中任一項之光學積層體，其中光學積層體之至少一面之表面電阻率為1.0×1013 Ω/sq以下。 [6]如上述[1]至[5]中任一項之光學積層體，其中光學積層體之黃度為3.0以下。 [7]如上述[1]至[6]中任一項之光學積層體，其中寬度方向之長度為20 cm以上，長度方向之長度為1 m以上。 [8]如上述[1]至[7]中任一項之光學積層體，其係可撓性顯示裝置之前面板用之膜。 [9]一種可撓性顯示裝置，其具備如上述[1]至[8]中任一項之光學積層體。 [10]如上述[9]之可撓性顯示裝置，其進而具備觸控感測器。 [11]如上述[9]或[10]之可撓性顯示裝置，其進而具備偏光板。 [12]一種如上述[1]至[8]中任一項之光學積層體之製造方法，其至少包含： (a)將至少含有聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂、以及溶劑之清漆塗佈於支持體上並乾燥，從而形成塗膜之步驟， (b)自支持體剝離塗膜之步驟， (c)將剝離之塗膜加熱，從而獲得膜之步驟，及 (d)於膜之至少單面積層功能層，從而獲得光學積層體之步驟。 [發明之效果]
根據本發明，可提高一種光學均質性優異之光學積層體、具備該光學積層體之可撓性顯示裝置、及該光學積層體之製造方法。
以下，詳細說明本發明之實施形態。再者，本發明之範圍並不限定於此處說明之實施形態，可於不脫離本發明之主旨之範圍內進行各種變更。
本發明之光學積層體於本發明之一態樣中，係具有含有聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂之光學膜、及積層於該光學膜之至少單面之功能層之光學積層體，並且 若於將使用上述光學膜並藉由投影法而獲得之投影圖像進行傅立葉變換所得之膜倒空間像中，將相互正交之方向h及方向v之譜線輪廓分別設為譜線輪廓h及譜線輪廓v，於將上述投影法中不使用上述光學膜而獲得之背景圖像進行傅立葉變換所得之背景倒空間像中，將相互正交之方向h'及方向v'之譜線輪廓分別設為譜線輪廓h'及譜線輪廓v'，將自譜線輪廓h減去譜線輪廓h'所得之譜線輪廓(h－h')之最大強度設為Ymh ，將顯示最大強度Ymh 之頻率設為Xmh ，將自譜線輪廓v減去譜線輪廓v'所得之譜線輪廓(v－v')之最大強度設為Ymv ，將顯示最大強度Ymv 之頻率設為Xmv ，則Ymh 及Ymv 均為40以下，Ymh 、Ymv 、Xmh 及Xmv 滿足下述關係： [數3] (Ymh +Ymv )/(Xmh +Xmv )1/2 ＜30。
本發明之光學積層體於本發明之另一態樣中，係具有含有聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂之光學膜、及積層於該光學膜之至少單面之功能層之光學積層體，並且 若於將使用上述光學積層體並藉由投影法而獲得之投影圖像進行傅立葉變換所得之膜倒空間像中，將相互正交之方向h及方向v之譜線輪廓分別設為譜線輪廓h及譜線輪廓v，於將上述投影法中不使用上述光學積層體而獲得之背景圖像進行傅立葉變換所得之背景倒空間像中，將相互正交之方向h'及方向v'之譜線輪廓分別設為譜線輪廓h'及譜線輪廓v'，將自譜線輪廓h減去譜線輪廓h'所得之譜線輪廓(h－h')之最大強度設為Ymh ，將顯示最大強度Ymh 之頻率設為Xmh ，將自譜線輪廓v減去譜線輪廓v'所得之譜線輪廓(v－v')之最大強度設為Ymv ，將顯示最大強度Ymv 之頻率設為Xmv ，則Ymh 及Ymv 均為40以下，Ymh 、Ymv 、Xmh 及Xmv 滿足下述關係： [數4] (Ymh +Ymv )/(Xmh +Xmv )1/2 ＜30。此處，方向h及方向h'為相互對應之方向，方向v及方向v'為相互對應之方向。所謂該等方向對應係指方位角相同。
本發明之光學積層體係使用本發明之光學積層體中所含之光學膜或本發明之光學積層體作為測定膜評價上述Ymh 等之結果為滿足上述特徵的光學積層體。滿足此種特徵之本發明之光學積層體具有較高之光學均質性。本發明之光學積層體具有優異之光學均質性，可尤佳地用作圖像顯示裝置中之光學積層體。此處，膜之光學均質性與膜之面狀不均、厚度不均、配向不均等密切相關，若產生該等不均，則光學均質性下降。故而，具有優異之光學均質性之本發明之光學積層體可謂為面狀不均、厚度不均、配向不均等不均減少之膜。
所謂將使用本發明之光學積層體中所含之光學膜或本發明之光學積層體作為測定膜並藉由投影法而獲得之投影圖像進行傅立葉變換所得之膜倒空間像、及將於上述投影法中不使用上述測定膜而獲得之背景圖像進行傅立葉變換所得之背景倒空間像，分別只要為自投影圖像及背景圖像藉由傅立葉變換所得者，則並無特別限定，例如可藉由如下步驟而獲得： (1)藉由對測定膜(光學膜或光學積層體)照射來自光源之光並將透過測定膜之光投影至投影面之投影法而獲得投影圖像的步驟， (2)於步驟(1)之投影法中不使用測定膜並將來自光源之光投影至投影面，從而獲得背景圖像的步驟，及 (3)將步驟(1)中獲得之投影圖像及步驟(2)中獲得之背景圖像分別藉由灰度化而數值化，將數值化之圖像資料進行傅立葉變換而獲得倒空間像(膜倒空間像及背景倒空間像)的步驟。使用上述倒空間像評價測定膜之面品質，藉此可解析不均之濃淡與週期。
自藉由測定膜之投影法而獲得之投影圖像藉由傅立葉變換而獲得倒空間像之方法並無特別限定，例如可使用關於評價步驟而於下文敍述之方法。
其次，(4)分別自投影圖像之倒空間像中正交之兩個方向之各譜線輪廓減去背景圖像之倒空間像中正交之上述兩個方向之各譜線輪廓，獲得經空白修正之譜線輪廓的步驟，及(5)測定步驟(4)中獲得之經空白修正之譜線輪廓之最大強度Ymax (分別為Ymh 及Ymv )、以及各譜線輪廓中顯示最大強度Ymax (Ymh 及Ymv )之頻率Xmax (Xmh 及Xmv )。例如，以下對針對通過倒空間像之中心之水平方向(h1方向)及垂直方向(v1方向)之各方向製作譜線輪廓之情形加以說明。譜線輪廓例如係表示為如圖3所示之X軸表示頻率、Y軸表示強度之曲線圖。並且，將水平方向(h1方向)之譜線輪廓之最大強度Ymax 設為Ymh1 ，將自顯示最大強度Ymh1 之頻率減去經空白修正之譜線輪廓之總頻率之中央值Xcen 所得之值Xmax 設為Xmh1 。又，將垂直方向(v1方向)之譜線輪廓之最大強度Ymax 設為Ymv1 ，將自顯示最大強度Ymv1 之頻率減去經空白修正之譜線輪廓之總頻率之中央值Xcen 所得之值Xmax 設為Xmv1 。再者，於上述例中，選擇通過空間像之中心之水平方向(h1方向)及垂直方向(v1方向)作為正交之兩個方向，而該兩個方向(h方向及v方向)只要相互正交，則並無特別限定，可為不通過中心之兩個方向，亦可非水平方向及垂直方向。再者，於本說明書中，所謂「經空白修正之譜線輪廓」係指分別自投影圖像之倒空間像中正交之兩個方向之各譜線輪廓減去背景圖像之倒空間像中正交之上述兩個方向之各譜線輪廓而獲得之譜線輪廓。藉由上述操作，可將投影圖像之倒空間像之譜線輪廓之基準線進行修正。
使用本發明之光學積層體中所含之光學膜作為測定膜而獲得之上述Ymh 及Ymv 均為40以下。於Ymh 或Ymv 超過40之情形時，不認為光學膜之光學均質性充分，存在光學積層體之光學均質性不充分之情形。尤其，不認為含有此種光學膜之光學積層體之光學均質性於圖像顯示裝置中使用時充分，無法充分減少圖像之變形等。就易於提高光學積層體之光學均質性，於圖像顯示裝置中易於提高圖像之視認性之觀點而言，Ymh 及Ymv 較佳為35以下，更佳為32以下，進而較佳為30以下，進而較佳為28以下，尤佳為26以下。Ymh 及Ymv 越小越佳，其下限並無特別限定，只要為0以上即可，通常為1以上。關於使用本發明之光學積層體作為測定膜而獲得之上述Ymh 及Ymv ，亦同樣地符合上述較佳之記載。
使用本發明之光學積層體中所含之光學膜作為測定膜，藉由上述方式獲得之Ymh 、Ymv 、Xmh 及Xmv 滿足下述關係： [數5] (Ymh +Ymv )/(Xmh +Xmv )1/2 ＜30。 若(Ymh +Ymv )/(Xmh +Xmv )1/2 之值超過30，則光學均質性不充分，故而易於產生畫面之變形等。作為(Ymh +Ymv )/(Xmh +Xmv )1/2 之值之上限，就更易於提高光學均質性之觀點而言，較佳為25以下，更佳為22以下，進而較佳為20以下，進而較佳為19.5以下，進而較佳為19以下，進而較佳為18以下，進而較佳為17以下，進而較佳為16以下，進而較佳為14以下，進而較佳為13以下，尤佳為9以下。(Ymh +Ymv )/(Xmh +Xmv )1/2 之值越小越佳，其下限並無特別限定，只要為0以上即可，通常為0.5以上。關於使用本發明之光學積層體作為測定膜而獲得之上述Ymh 、Ymv 、Xmh 及Xmv ，亦同樣地符合上述較佳之記載。
將使用本發明之光學積層體中所含之光學膜或本發明之光學積層體作為測定膜並藉由上述方式獲得之經空白修正之譜線輪廓中之總頻率之中央值設為Xcen 。例如於圖3所示之譜線輪廓中，總頻率為90 cm-1 ，作為其中央值之45 cm-1 成為Xcen 。此處，較佳為Xcen 與藉由上述方式而獲得之Xmh 及Xmv 滿足下述關係： [數6] 0.1 cm-1 ≦｜Xm －Xcen ｜≦10 cm-1 。 再者，上述式中，Xm 表示Xmh 或Xmv ，較佳為Xmh 及Xmv 之任一者均滿足上述式。｜Xm －Xcen ｜之下限更佳為0.5 cm-1 以上，進而較佳為1.0 cm-1 以上。又，｜Xm －Xcen ｜之上限更佳為8.0 cm-1 以下，進而較佳為6.0 cm-1 以下。若考慮具備不會被視認為不均之光學均質性及生產性，則較佳為光學膜或光學積層體中之Xmh 及Xmv 滿足上述關係。
本發明之光學積層體之至少一面之鉛筆硬度較佳為H以上，更佳為2H以上，進而較佳為3H以上，尤佳為4H以上。於光學積層體之至少一面之鉛筆硬度為上述硬度以上之情形時，易於防止光學積層體之表面之損傷等。上述鉛筆硬度較佳為本發明之光學積層體之具有功能層(較佳為硬塗層)之面之鉛筆硬度。再者，鉛筆硬度可依據JIS K 5600-5-4：1999而測定，例如可藉由實施例中記載之方法而測定。
本發明之光學積層體之至少一面之表面電阻率較佳為1.0×1013 Ω/sq以下，更佳為5.0×1012 Ω/sq以下，進而較佳為1.0×1012 Ω/sq以下。於表面電阻率為上述上限以下之情形時，易於獲得充分之抗靜電功能。作為本發明之光學積層體之至少一面之表面電阻率，就將本發明之光學積層體與觸控面板組合使用時，易於擔保觸控面板之操作性之觀點而言，較佳為1.0×107 Ω/sq以上，更佳為5.0×107 Ω/sq以上，進而較佳為1.0×108 Ω/sq以上。上述表面電阻率較佳為本發明之光學積層體之具有功能層(較佳為抗靜電功能層)之面之表面電阻率。再者，表面電阻率可依據JIS K 6911而測定，例如可藉由實施例中記載之方法而測定。
於本發明之光學積層體中，自具有功能層之面入射光之情形時之光學積層體之反射率較佳為3.0%以下，更佳為2.0%以下，進而較佳為1.0%以下。再者，本說明書中之反射率係指視感度補正反射率，具體而言，係指對以入射角12度入射光時之反射角12度之波長350～900 nm之範圍之分光反射率(即入射角12度之正反射率)，藉由JIS Z 8701之2度視野(C光源)進行視感度補正所得之反射率。反射率可使用分光光度計等而測定。於反射率之測定中，為了排除自與使光入射之功能層面相反側之面之反射對測定值產生影響之可能性、及防止光學積層體之翹曲，將使用光學透明之黏著劑將光學積層體之與使光入射之功能層面相反側之面貼合於黑色板(黑色壓克力板等)之試樣用作測定用試樣。
本發明之光學積層體之黃度(YI值)較佳為3.0以下，更佳為2.7以下，進而較佳為2.5以下，尤佳為2.0以下。若光學積層體之黃度為上述上限以下，則易於提高透明性，例如於用於顯示裝置之前面板之情形時易於提高視認性。黃度通常為-5以上，較佳為-2以上，更佳為0以上，進而較佳為0.3以上，進而較佳為0.5以上，尤佳為0.7以上。黃度(YI)可依據JIS K 7373：2006，使用紫外可見近紅外分光光度計進行對300～800 nm之光之透過率測定，求出三刺激值(X、Y、Z)，基於YI=100×(1.2769X－1.0592Z)/Y之式而算出。
本發明之光學積層體之全光線透過率較佳為80%以上，更佳為85%以上，進而較佳為90%以上。若全光線透過率為上述下限以上，則將光學積層體組入圖像顯示裝置時易於提高視認性。本發明之光學積層體之光學均質性較高，顯示較高之透過率，故而例如與使用透過率較低之膜之情形相比較，可抑制為獲得一定亮度所必需之顯示元件等之發光強度。故而，可減小耗電。例如，於將本發明之光學積層體組入顯示裝置之情形時，存在即使減少背光源之光量亦可獲得較亮之顯示之傾向，可幫助節約能量。全光線透過率之上限通常為100%以下。再者，全光線透過率例如可依據JIS K 7361-1：1997使用霧度計而測定。全光線透過率可為下述光學積層體之厚度之範圍之全光線透過率。
本發明之光學積層體之霧度較佳為3.0%以下，更佳為2.0%以下，進而較佳為1.0%以下，進而更佳為0.5%以下，尤佳為0.3%以下。若光學積層體之霧度為上述上限以下，則透明性變得良好，例如於用於圖像顯示裝置之前面板之情形時，易於提高圖像之視認性。又，霧度之下限通常為0.01%以上。再者，霧度可依據JIS K 7136：2000使用霧度計而測定。
本發明之光學積層體之厚度可根據用途而適宜調整，較佳為25 μm以上，更佳為27 μm以上，進而較佳為30 μm以上，較佳為100 μm以下，更佳為90 μm以下，進而較佳為85 μm以下。光學積層體之厚度可利用膜厚計等而測定，例如可藉由實施例中記載之方法而測定。
本發明之光學積層體具有含有聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂之光學膜、及積層於該光學膜之至少單面之功能層。就易於製造具有關於Ymh 等之上述特徵之均質性較高之光學膜之觀點及/或易於製造具有上述特徵之均質性較高之光學積層體之觀點而言，本發明之光學積層體中之光學膜較佳為鑄膜。於本說明書中，所謂鑄膜例如係指於適當之支持體上將含有上述樹脂之溶液、分散液或熔融物進行流延、塗佈等，加以加熱、冷卻、乾燥等，藉此使之塗膜化，視需要將該塗膜自該支持體剝離而獲得的膜。如此獲得之膜至少含有聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂，視情形含有微量之溶劑。
本發明之光學積層體中之光學膜含有聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂。於本發明之光學積層體中，光學膜可含有一種聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂，亦可含有兩種以上之聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂。
＜聚醯亞胺系樹脂及聚醯胺系樹脂＞ 於本發明之光學積層體中，光學膜含有聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂。所謂聚醯亞胺系樹脂係指選自由含有包含醯亞胺基之重複結構單元之樹脂(以下，有時稱為聚醯亞胺樹脂)、以及含有包含醯亞胺基及醯胺基之兩者之重複結構單元之樹脂(以下，有時稱為聚醯胺醯亞胺樹脂)所組成之群中之至少一種樹脂。又，所謂聚醯胺系樹脂係指含有包含醯胺基之重複結構單元之樹脂。
於本發明之較佳一實施形態中，聚醯亞胺系樹脂較佳為具有式(1)所表示之結構單元之聚醯亞胺樹脂，或具有式(1)所表示之結構單元及式(2)所表示之結構單元之聚醯胺醯亞胺樹脂。又，聚醯胺系樹脂較佳為具有式(2)所表示之結構單元之聚醯胺樹脂。以下對式(1)及式(2)進行說明，關於式(1)之說明係關於聚醯亞胺樹脂及聚醯胺醯亞胺樹脂之兩者，關於式(2)之說明係關於聚醯胺樹脂及聚醯胺醯亞胺樹脂之兩者。 [化1]
Figure 02_image001
式(1)所表示之結構單元係四羧酸化合物與二胺化合物反應所形成之結構單元，式(2)所表示之結構單元係二羧酸化合物與二胺化合物反應所形成之結構單元。
於式(2)中，Z為2價之有機基，較佳為可經碳數1～8之烴基或氟取代之碳數1～8之烴基取代之碳數4～40之2價有機基，更佳為可經碳數1～8之烴基或氟取代之碳數1～8之烴基取代之具有環狀結構之碳數4～40之2價有機基。作為環狀結構，可列舉：脂環、芳香環、雜環結構。作為Z之有機基，可例示下述式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及式(29)所表示之基之鍵結鍵中，不鄰接之兩個被取代為氫原子之基及碳數6以下之2價鏈式烴基，可例示具有噻吩環骨架作為Z之雜環結構之基。就易於抑制光學膜之黃度(減低YI值)之觀點而言，較佳為式(20)～式(27)所表示之基及具有噻吩環骨架之基。
於本發明之一實施形態中，聚醯胺樹脂及聚醯胺醯亞胺樹脂可含有複數種Z，複數種Z相互可相同，亦可不同。尤其，就易於提高光學膜之表面硬度之觀點及易於提高光學特性之觀點而言，較佳為Z之至少一部分由式(3)所表示 [化2]
Figure 02_image003
[式(3)中，R1 ～R8 相互獨立地表示氫原子、碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基或碳數6～12之芳基，R1 ～R8 中所含之氫原子可相互獨立地被取代為鹵素原子， A相互獨立地表示單鍵、-O-、-CH2 -、-CH2 -CH2 -、-CH(CH3 )-、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-SO2 -、-S-、-CO-或-N(R9 )-，R9 表示氫原子、可經鹵素原子取代之碳數1～12之1價烴基， m為0～4之整數， *表示鍵結鍵]。
於式(3)中，A表示單鍵、-O-、-CH2 -、-CH2 -CH2 -、-CH(CH3 )-、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-SO2 -、-S-、-CO-或-N(R9 )-，就光學膜之耐撓曲性之觀點而言，較佳為表示-O-或-S-，更佳為表示-O-。 R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R7 、R8 相互獨立地表示氫原子、碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基或碳數6～12之芳基。作為碳數1～6之烷基，例如可列舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、2-甲基-丁基、3-甲基丁基、2-乙基-丙基、正己基等。作為碳數1～6之烷氧基，例如可列舉：甲氧基、乙氧基、丙氧基、異丙氧基、丁氧基、異丁氧基、第三丁氧基、戊氧基、己氧基、環己氧基等。作為碳數6～12之芳基，例如可列舉：苯基、甲苯基、二甲苯基、萘基、聯苯基等。就光學膜之表面硬度及柔軟性之觀點而言，R1 ～R8 相互獨立，較佳為表示氫原子或碳數1～6之烷基，更佳為表示氫原子或碳數1～3之烷基，進而較佳為表示氫原子。此處，R1 ～R8 中所含之氫原子可相互獨立地被取代為鹵素原子。 R9 表示氫原子、可經鹵素原子取代之碳數1～12之1價烴基。作為碳數1～12之1價烴基，例如可列舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、2-甲基-丁基、3-甲基丁基、2-乙基-丙基、正己基、正庚基、正辛基、第三辛基、正壬基、正癸基等，該等可經鹵素原子取代。作為上述鹵素原子，可列舉：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等。聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂可含有複數種A，複數種A相互可相同，亦可不同。
於式(3)中，m為0～4之範圍之整數，若m為該範圍內，則光學膜之耐撓曲性或彈性模數易於變得良好。又，於式(3)中，m較佳為0～3之範圍之整數，更佳為0～2，進而較佳為0或1，尤佳為0。若m為該範圍內，則易於提高光學膜之耐撓曲性或彈性模數。又，Z可含有一種或兩種以上之式(3)所表示之結構單元，就光學膜之彈性模數及耐撓曲性之提高、黃度(YI值)減低之觀點而言，尤其可含有m之值不同之兩種以上之結構單元，較佳為可含有m之值不同之兩種結構單元。於該情形時，就易於表現光學膜之較高之彈性模數、耐撓曲性及較低之黃度(YI值)之觀點而言，樹脂較佳為於Z中含有m為0之式(3)所表示之結構單元，更佳為除該結構單元外進而含有m為1之式(3)所表示之結構單元。
於本發明之較佳一實施形態中，樹脂具有m=0且R5 ～R8 為氫原子之結構單元作為式(3)所表示之結構單元。於更佳之本發明之一實施形態中，樹脂具有作為式(3)所表示之結構單元之m=0且R5 ～R8 為氫原子之結構單元、及式(3')所表示之結構單元： [化3]
Figure 02_image005
。於該情形時，易於提高光學膜之表面硬度及耐撓曲性，易於減低黃度。
於光學積層體具有含有聚醯胺醯亞胺樹脂之光學膜之本發明之較佳一實施形態中，將聚醯胺醯亞胺樹脂之式(1)所表示之結構單元及式(2)所表示之結構單元之合計設為100莫耳%時，式(3)所表示之結構單元之比率較佳為20莫耳%以上，更佳為30莫耳%以上，進而較佳為40莫耳%以上，尤佳為50莫耳%以上，最佳為60莫耳%以上，較佳為90莫耳%以下，更佳為85莫耳%以下，進而較佳為80莫耳%以下。若式(3)所表示之結構單元之比率為上述下限以上，則易於提高光學膜之表面硬度，且易於提高耐撓曲性或彈性模數。若式(3)所表示之結構單元之比率為上述上限以下，則抑制源自式(3)之醯胺鍵間之氫鍵所導致之含樹脂之清漆之黏度上升，易於提高膜之加工性。
又，於聚醯胺醯亞胺樹脂具有m=1～4之式(3)之結構單元之情形時，將聚醯胺醯亞胺樹脂之式(1)所表示之結構單元及式(2)所表示之結構單元之合計設為100莫耳%時，m為1～4之式(3)之結構單元之比率較佳為3莫耳%以上，更佳為5莫耳%以上，進而較佳為7莫耳%以上，尤佳為9莫耳%以上，較佳為90莫耳%以下，更佳為70莫耳%以下，進而較佳為50莫耳%以下，尤佳為30莫耳%以下。若m為1～4之式(3)之結構單元之比率為上述下限以上，則易於提高光學膜之表面硬度及耐撓曲性。若m為1～4之式(3)之結構單元之比率為上述上限以下，則抑制源自式(3)之醯胺鍵間之氫鍵所導致之含樹脂之清漆之黏度上升，易於提高膜之加工性。再者，式(1)、式(2)或式(3)所表示之結構單元之含量例如可使用1 H-NMR而測定，或亦可自原料之饋入比而算出。
於本發明之較佳一實施形態中，上述聚醯胺樹脂或聚醯胺醯亞胺樹脂中之Z之較佳為30莫耳%以上、更佳為40莫耳%以上、進而較佳為45莫耳%以上、進而較佳為50莫耳%以上、尤佳為70莫耳%以上為m為0～4之式(3)所表示之結構單元。若Z之上述下限以上為m為0～4之式(3)所表示之結構單元，則易於提高光學膜之表面硬度，並且亦易於提高耐撓曲性及彈性模數。又，聚醯胺樹脂或聚醯胺醯亞胺樹脂中之Z之100莫耳%以下為m為0～4之式(3)所表示之結構單元即可。再者，樹脂中之m為0～4之式(3)所表示之結構單元之比率例如可使用1 H-NMR而測定，或亦可自原料之饋入比而算出。
於本發明之較佳一實施形態中，上述聚醯胺樹脂或聚醯胺醯亞胺樹脂中之Z之較佳為5莫耳%以上、更佳為8莫耳%以上、進而較佳為10莫耳%以上、尤佳為12莫耳%以上係由m為1～4之式(3)所表示。若聚醯胺醯亞胺樹脂之Z之上述下限以上由m為1～4之式(3)所表示，則易於提高光學膜之表面硬度，且易於提高耐撓曲性及彈性模數。又，較佳為Z之較佳為90莫耳%以下、更佳為70莫耳%以下、進而較佳為50莫耳%以下、尤佳為30莫耳%以下係由m為1～4之式(3)所表示。若Z之上述上限以下由m為1～4之式(3)所表示，則抑制源自m為1～4之式(3)之醯胺鍵間之氫鍵所導致之含樹脂之清漆之黏度上升，易於提高膜之加工性。再者，樹脂中之m為1～4之式(3)所表示之結構單元之比率例如可使用1 H-NMR而測定，或亦可自原料之饋入比而算出。
於式(1)及式(2)中，X相互獨立地表示2價有機基，較佳為表示碳數4～40之2價有機基，更佳為表示具有環狀結構之碳數4～40之2價有機基。作為環狀結構，可列舉：脂環、芳香環、雜環結構。對上述有機基而言，有機基中之氫原子可被取代為烴基或氟取代烴基，於該情形時，烴基及氟取代烴基之碳數較佳為1～8。於本發明之一實施形態中，聚醯亞胺樹脂或聚醯胺醯亞胺樹脂可含有複數種X，複數種X相互可相同，亦可不同。作為X，可例示：式(10)、式(11)、式(12)、式(13)、式(14)、式(15)、式(16)、式(17)及式(18)所表示之基；該等式(10)～式(18)所表示之基中之氫原子被取代為甲基、氟基、氯基或三氟甲基之基；以及碳數6以下之鏈式烴基。
[化4]
Figure 02_image007
式(10)～式(18)中，*表示鍵結鍵， V1 、V2 及V3 相互獨立地表示單鍵、-O-、-S-、-CH2 -、-CH2 -CH2 -、-CH(CH3 )-、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-SO2 -、-CO-或-N(Q)-。此處，Q表示可經鹵素原子取代之碳數1～12之1價烴基。作為碳數1～12之1價烴基，可列舉關於R9 而於上述記載之基。 一個例為：V1 及V3 為單鍵、-O-或-S-，且V2 為-CH2 -、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -或-SO2 -。V1 與V2 之對各環之鍵結位置及V2 與V3 之對各環之鍵結位置相互獨立，較佳為對各環為間位或對位，更佳為對位。
式(10)～式(18)所表示之基中，就易於提高光學膜之表面硬度及耐撓曲性之觀點而言，較佳為式(13)、式(14)、式(15)、式(16)及式(17)所表示之基，更佳為式(14)、式(15)及式(16)所表示之基。又，作為V1 、V2 及V3 ，就易於提高光學膜之表面硬度及柔軟性之觀點而言，相互獨立地較佳為單鍵、-O-或-S-，更佳為單鍵或-O-。
於本發明之較佳一實施形態中，式(1)及式(2)中之複數個X之至少一部分為式(4)所表示之結構單元： [化5]
Figure 02_image009
[式(4)中，R10 ～R17 相互獨立地表示氫原子、碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基或碳數6～12之芳基，R10 ～R17 中所含之氫原子可相互獨立地被取代為鹵素原子，*表示鍵結鍵]。 若式(1)及式(2)中之複數個X之至少一部分為式(4)所表示之基，則易於提高光學膜之表面硬度及透明性。
於式(4)中，R10 、R11 、R12 、R13 、R14 、R15 、R16 及R17 相互獨立地表示氫原子、碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基或碳數6～12之芳基。作為碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基或碳數6～12之芳基，可列舉作為式(3)中之碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基或碳數6～12之芳基而例示者。R10 ～R17 相互獨立，較佳為表示氫原子或碳數1～6之烷基，更佳為表示氫原子或碳數1～3之烷基，此處，R10 ～R17 中所含之氫原子可相互獨立地被取代為鹵素原子。作為鹵素原子，例如可列舉：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。R10 ～R17 相互獨立，就光學膜之表面硬度、透明性及耐撓曲性之觀點而言，進而較佳為氫原子、甲基、氟基、氯基或三氟甲基，特佳為R10 、R12 、R13 、R14 、R15 及R16 為氫原子，R11 及R17 為氫原子、甲基、氟基、氯基或三氟甲基，尤佳為R11 及R17 為甲基或三氟甲基。
於本發明之較佳一實施形態中，式(4)所表示之結構單元為式(4')所表示之結構單元： [化6]
Figure 02_image011
， 即，複數個X之至少一部分為式(4')所表示之結構單元。於該情形時，藉由含有氟元素之骨架，聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂之對溶劑之溶解性提高，從而易於提高含有該樹脂之清漆之保管穩定性，並且易於減低該清漆之黏度，易於提高光學膜之加工性。又，藉由含有氟元素之骨架，易於提高光學膜之光學特性。
於本發明之較佳一實施形態中，上述聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂中之X之較佳為30莫耳%以上、更佳為50莫耳%以上、進而較佳為70莫耳%以上係由式(4)、尤其式(4')所表示。若聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂中之上述範圍內之X由式(4)，尤其式(4')所表示，則藉由含有氟元素之骨架，易於提高樹脂之對溶劑之溶解性，從而易於提高含有該樹脂之清漆之保管穩定性，並且易於減低該清漆之黏度，易於提高光學膜之加工性。又，藉由含有氟元素之骨架，亦易於提高光學膜之光學特性。再者，較佳為上述聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂中之X之100莫耳%以下由式(4)，尤其式(4')所表示。上述聚醯胺醯亞胺樹脂中之X可為式(4)，尤其式(4')。上述樹脂中之X之式(4)所表示之結構單元之比率例如可使用1 H-NMR而測定，或亦可自原料之饋入比而算出。
於式(1)中，Y表示4價有機基，較佳為表示碳數4～40之4價有機基，更佳為表示具有環狀結構之碳數4～40之4價有機基。作為環狀結構，可列舉：脂環、芳香環、雜環結構。上述有機基為有機基中之氫原子可被取代為烴基或氟取代烴基之有機基，於該情形時，烴基及氟取代烴基之碳數較佳為1～8。於本發明之一實施形態中，聚醯亞胺系樹脂可含有複數種Y，複數種Y相互可相同，亦可不同。作為Y，可例示：以下之式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及式(29)所表示之基；該等式(20)～式(29)所表示之基中之氫原子被取代為甲基、氟基、氯基或三氟甲基之基；以及4價之碳數6以下之鏈式烴基。
[化7]
Figure 02_image013
式(20)～式(29)中， *表示鍵結鍵， W1 表示單鍵、-O-、-CH2 -、-CH2 -CH2 -、-CH(CH3 )-、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-Ar-、-SO2 -、-CO-、-O-Ar-O-、-Ar-O-Ar-、-Ar-CH2 -Ar-、-Ar-C(CH3 )2 -Ar-或-Ar-SO2 -Ar-。Ar表示氫原子可被取代為氟原子之碳數6～20之芳基，作為具體例，可列舉伸苯基。
式(20)～式(29)所表示之基中，就光學膜之表面硬度及耐撓曲性之觀點而言，較佳為式(26)、式(28)或式(29)所表示之基，更佳為式(26)所表示之基。又，作為W1 ，就易於提高光學膜之表面硬度及耐撓曲性，易於減低黃度之觀點而言，相互獨立地較佳為單鍵、-O-、-CH2 -、-CH2 -CH2 -、-CH(CH3 )-、-C(CH3 )2 -或-C(CF3 )2 -，更佳為單鍵、-O-、-CH2 -、-CH(CH3 )-、-C(CH3 )2 -或-C(CF3 )2 -，進而較佳為單鍵、-C(CH3 )2 -或-C(CF3 )2 -。
於本發明之較佳一實施形態中，式(1)中之複數個Y之至少一部分為式(5)所表示之結構單元： [化8]
Figure 02_image015
[式(5)中，R18 ～R25 相互獨立地表示氫原子、碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基或碳數6～12之芳基，R18 ～R25 中所含之氫原子可相互獨立地被取代為鹵素原子， *表示鍵結鍵]。 若式(1)中之複數個Y之至少一部分為式(5)所表示之基，則聚醯亞胺系樹脂之對溶劑之溶解性提高，從而易於減低含有聚醯亞胺系樹脂之清漆之黏度，易於提高光學膜之加工性。又，易於提高光學膜之光學特性。
於式(5)中，R18 、R19 、R20 、R21 、R22 、R23 、R24 及R25 相互獨立地表示氫原子、碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基或碳數6～12之芳基。作為碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基及碳數6～12之芳基，可列舉作為式(3)中之碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基或碳數6～12之芳基而於上述例示者。R18 ～R25 相互獨立，較佳為表示氫原子或碳數1～6之烷基，更佳為表示氫原子或碳數1～3之烷基，此處，R18 ～R25 中所含之氫原子可相互獨立地被取代為鹵素原子。作為該鹵素原子，可列舉：氟原子、氯原子、溴原子及碘原子。R18 ～R25 相互獨立，就易於提高光學膜之表面硬度、耐撓曲性及透明性之觀點而言，進而較佳為氫原子、甲基、氟基、氯基或三氟甲基，進而更佳為R18 、R19 、R20 、R23 、R24 及R25 為氫原子，R21 及R22 為氫原子、甲基、氟基、氯基或三氟甲基，尤佳為R21 及R22 為甲基或三氟甲基。
於本發明之較佳一實施形態中，式(5)所表示之結構單元為式(5')所表示之基： [化9]
Figure 02_image017
，即複數個Y之至少一部分為式(5')所表示之結構單元。於該情形時，藉由含有氟元素之骨架，聚醯亞胺系樹脂之對溶劑之溶解性提高，從而易於提高含有該樹脂之清漆之保管穩定性，並且易於減低該清漆之黏度，易於提高光學膜之加工性。又，藉由含有氟元素之骨架，易於提高光學膜之光學特性。
於本發明之較佳一實施形態中，聚醯亞胺系樹脂中之Y之較佳為50莫耳%以上、更佳為60莫耳%以上、進而較佳為70莫耳%以上係由式(5)、尤其式(5')所表示。若聚醯亞胺系樹脂中之上述範圍內之Y由式(5)，尤其式(5')所表示，則藉由含有氟元素之骨架，聚醯亞胺系樹脂之對溶劑之溶解性提高，從而易於減低含有該樹脂之清漆之黏度，易於提高光學膜之加工性。又，藉由含有氟元素之骨架，易於提高光學膜之光學特性。再者，較佳為上述聚醯亞胺系樹脂中之Y之100莫耳%以下係由式(5)，尤其式(5')所表示。聚醯亞胺系樹脂中之Y可為式(5)，尤其式(5')。聚醯亞胺系樹脂中之Y之式(5)所表示之結構單元之比率例如可使用1 H-NMR而測定，或亦可自原料之饋入比而算出。
聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂除式(1)及式(2)所表示之結構單元外，亦可含有式(30)所表示之結構單元及/或式(31)所表示之結構單元。 [化10]
Figure 02_image019
於式(30)中，Y1 為4價有機基，較佳為有機基中之氫原子可被取代為烴基或氟取代烴基之有機基。作為Y1 ，可例示：式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及式(29)所表示之基，該等式(20)～式(29)所表示之基中之氫原子被取代為甲基、氟基、氯基或三氟甲基之基，以及4價之碳數6以下之鏈式烴基。於本發明之一實施形態中，聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂可含有複數種Y1 ，複數種Y1 相互可相同，亦可不同。
於式(31)中，Y2 為3價有機基，較佳為有機基中之氫原子可被取代為烴基或氟取代烴基之有機基。作為Y2 ，可例示：上述式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及式(29)所表示之基之鍵結鍵之任一個被取代為氫原子之基，及3價之碳數6以下之鏈式烴基。於本發明之一實施形態中，聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂可含有複數種Y2 ，複數種Y2 相互可相同，亦可不同。
於式(30)及式(31)中，X1 及X2 相互獨立為2價有機基，較佳為有機基中之氫原子可被取代為烴基或氟取代烴基之有機基。作為X1 及X2 ，可例示：上述式(10)、式(11)、式(12)、式(13)、式(14)、式(15)、式(16)、式(17)及式(18)所表示之基；該等式(10)～式(18)所表示之基中之氫原子被取代為甲基、氟基、氯基或三氟甲基之基；以及碳數6以下之鏈式烴基。
於本發明之一實施形態中，聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂包含式(1)及/或式(2)所表示之結構單元、以及視情況之式(30)及/或式(31)所表示之結構單元。又，就光學膜之光學特性、表面硬度及耐撓曲性之觀點而言，於上述聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂中，式(1)及式(2)所表示之結構單元以式(1)及式(2)、以及視情況之式(30)及式(31)所表示之全部結構單元為基準，較佳為80莫耳%以上，更佳為90莫耳%以上，進而較佳為95莫耳%以上。再者，於聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂中，式(1)及式(2)所表示之結構單元以式(1)及式(2)、以及視情況之式(30)及/或式(31)所表示之全部結構單元為基準，通常為100%以下。再者，上述比率例如可使用1 H-NMR而測定，或亦可自原料之饋入比而算出。
於本發明之一實施形態中，光學膜中之聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂之含量相對於光學膜100質量份，較佳為10質量份以上，更佳為30質量份以上，進而較佳為50質量份以上，較佳為99.5質量份以下，更佳為95質量份以下。若聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂之含量為上述範圍內，則易於提高光學膜之光學特性及彈性模數。
關於聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂之重量平均分子量(Mw)，就易於提高光學膜之表面硬度及耐撓曲性之觀點而言，以標準聚苯乙烯換算計，較佳為230,000以上，更佳為250,000以上，進而較佳為270,000以上，尤佳為300,000以上。又，就易於提高聚醯胺系樹脂或聚醯亞胺系樹脂之對溶劑之溶解性，並且易於提高光學膜之延伸性及加工性之觀點而言，該樹脂之重量平均分子量較佳為1,000,000以下，更佳為800,000以下，進而較佳為700,000以下，尤佳為500,000以下。重量平均分子量例如可進行GPC測定，藉由標準聚苯乙烯換算而求得，例如可藉由實施例中記載之方法而算出。
於聚醯胺醯亞胺樹脂中，式(2)所表示之結構單元之含量相對於式(1)所表示之結構單元1莫耳，較佳為0.1莫耳以上，更佳為0.5莫耳以上，進而較佳為1.0莫耳以上，尤佳為1.5莫耳以上，較佳為6.0莫耳以下，更佳為5.0莫耳以下，進而較佳為4.5莫耳以下。若式(2)所表示之結構單元之含量為上述下限以上，則易於提高光學膜之表面硬度。又，若式(2)所表示之結構單元之含量為上述上限以下，則抑制式(2)中之醯胺鍵間之氫鍵所導致之增黏，易於提高光學膜之加工性。
於本發明之較佳一實施形態中，本發明之光學積層體中之光學膜中所含之聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂可含有例如可藉由上述含氟取代基等而導入之氟原子等鹵素原子。於聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂含有鹵素原子之情形時，易於提高光學膜之彈性模數且減低黃度(YI值)。若光學膜之彈性模數較高，則將該光學膜例如用於可撓性顯示裝置時，易於抑制該膜之損傷及皺褶等之產生。又，若光學膜之黃度較低，則易於提高該光學膜之透明性及視認性。鹵素原子較佳為氟原子。作為用以使聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂中含有氟原子之較佳含氟取代基，例如可列舉氟基及三氟甲基。
聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂中之鹵素原子之含量以聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂之質量為基準，較佳為1～40質量%，更佳為5～40質量%，進而較佳為5～30質量%。若鹵素原子之含量為上述下限以上，則易於進一步提高光學膜之彈性模數，降低吸水率，進一步減低黃度，進一步提高透明性及視認性。若鹵素原子之含量為上述上限以下，則易於進行樹脂之合成。
聚醯亞胺樹脂及聚醯胺醯亞胺樹脂之醯亞胺化率較佳為90%以上，更佳為93%以上，進而較佳為96%以上。就易於提高光學膜及/或光學積層體之光學均質性之觀點而言，醯亞胺化率較佳為上述下限以上。又，醯亞胺化率之上限為100%以下。醯亞胺化率係表示聚醯亞胺樹脂及聚醯胺醯亞胺樹脂中之醯亞胺鍵之莫耳量相對於聚醯亞胺樹脂或聚醯胺醯亞胺樹脂中之源自四羧酸化合物之結構單元之莫耳量之2倍之值的比率。再者，於聚醯亞胺樹脂及聚醯胺醯亞胺樹脂含有三羧酸化合物之情形時，係表示聚醯亞胺樹脂及聚醯胺醯亞胺樹脂中之醯亞胺鍵之莫耳量相對於聚醯亞胺樹脂及聚醯胺醯亞胺樹脂中之源自四羧酸化合物之結構單元之莫耳量之2倍之值與源自三羧酸化合物之結構單元之莫耳量之合計的比率。又，醯亞胺化率可藉由IR(Infrared Spectroscopy，紅外光譜)法、NMR(nuclear magnetic resonance，核磁共振)法等而求得，例如於NMR法中，可藉由實施例中記載之方法而測定。
聚醯亞胺系樹脂及聚醯胺系樹脂可使用市售品。作為聚醯亞胺樹脂之市售品，例如可列舉：三菱瓦斯化學(股)製造之Neoprim(註冊商標)、河村產業(股)製造之KPI-MX300F等。
關於本發明之光學積層體之各種特性，光學積層體之黃度、表面硬度、光學特性、耐撓曲性、柔軟性、彈性模數、透明性、視認性及吸水率等特性存在於光學膜之黃度、表面硬度、光學特性、耐撓曲性、柔軟性、彈性模數、透明性、視認性及吸水率等提高之情形時可同樣地提高之傾向。光學積層體之具有功能層之面之表面硬度及鉛筆硬度等特性易於受功能層之種類等之影響。
＜樹脂之製造方法＞ 聚醯亞胺樹脂例如可將四羧酸化合物及二胺化合物作為主原料而製造，聚醯胺醯亞胺樹脂例如可將四羧酸化合物、二羧酸化合物及二胺化合物作為主原料而製造，聚醯胺樹脂例如可將二羧酸化合物及二胺化合物作為主原料而製造。此處，二羧酸化合物較佳為至少含有式(3'')所表示之化合物。 [化11]
Figure 02_image021
[式(3'')中，R1 ～R8 相互獨立地表示氫原子、碳數1～6之烷基、碳數1～6之烷氧基或碳數6～12之芳基，R1 ～R8 中所含之氫原子可相互獨立地被取代為鹵素原子， A表示單鍵、-O-、-CH2 -、-CH2 -CH2 -、-CH(CH3 )-、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-SO2 -、-S-、-CO-或-N(R9 )-， R9 表示氫原子、可經鹵素原子取代之碳數1～12之1價烴基， m為0～4之整數， R31 及R32 相互獨立地表示羥基、甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、第二丁氧基、第三丁氧基或氯原子]
於本發明之較佳一實施形態中，二羧酸化合物為m為0之式(3'')所表示之化合物。更佳為除m為0之式(3'')所表示之化合物外，亦使用A為氧原子之式(3'')所表示之化合物作為二羧酸化合物。又，於另外之較佳一實施形態中，二羧酸化合物為R31 、R32 為氯原子之式(3'')所表示之化合物。又，可使用二異氰酸酯代替二胺化合物。
作為樹脂之製造中所使用之二胺化合物，例如可列舉：脂肪族二胺、芳香族二胺及該等之混合物。再者，於本實施形態中所謂「芳香族二胺」係指胺基直接鍵結於芳香環之二胺，可於其結構之一部分中含有脂肪族基或其他取代基。該芳香環可為單環，亦可為縮合環，可例示苯環、萘環、蒽環及茀環等，但並不限定於該等。該等之中，較佳為苯環。又所謂「脂肪族二胺」係指胺基直接鍵結於脂肪族基之二胺，可於其結構之一部分中含有芳香環或其他取代基。
作為脂肪族二胺，例如可列舉：己二胺等非環式脂肪族二胺、以及1,3-雙(胺基甲基)環己烷、1,4-雙(胺基甲基)環己烷、降𦯉烷二胺及4,4'-二胺基二環己基甲烷等環式脂肪族二胺等。該等可單獨或組合兩種以上使用。
作為芳香族二胺，例如可列舉：對苯二胺、間苯二胺、2,4-甲苯二胺、間苯二甲胺、對苯二甲胺、1,5-二胺基萘、2,6-二胺基萘等具有1個芳香環之芳香族二胺、4,4'-二胺基二苯基甲烷、4,4'-二胺基二苯基丙烷、4,4'-二胺基二苯醚、3,4'-二胺基二苯醚、3,3'-二胺基二苯醚、4,4'-二胺基二苯基碸、3,4'-二胺基二苯基碸、3,3'-二胺基二苯基碸、1,4-雙(4-胺基苯氧基)苯、1,3-雙(4-胺基苯氧基)苯、雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]碸、雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]碸、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2'-二甲基聯苯胺、2,2'-雙(三氟甲基)-4,4'-二胺基聯苯(有時記為TFMB)、4,4'-雙(4-胺基苯氧基)聯苯、9,9-雙(4-胺基苯基)茀、9,9-雙(4-胺基-3-甲基苯基)茀、9,9-雙(4-胺基-3-氯苯基)茀、9,9-雙(4-胺基-3-氟苯基)茀等具有2個以上芳香環之芳香族二胺。該等可單獨或組合兩種以上使用。
芳香族二胺較佳為4,4'-二胺基二苯基甲烷、4,4'-二胺基二苯基丙烷、4,4'-二胺基二苯醚、3,3'-二胺基二苯醚、4,4'-二胺基二苯基碸、3,3'-二胺基二苯基碸、1,4-雙(4-胺基苯氧基)苯、雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]碸、雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]碸、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2'-二甲基聯苯胺、2,2'-雙(三氟甲基)-4,4'-二胺基聯苯(TFMB)、4,4'-雙(4-胺基苯氧基)聯苯，更佳為4,4'-二胺基二苯基甲烷、4,4'-二胺基二苯基丙烷、4,4'-二胺基二苯醚、4,4'-二胺基二苯基碸、1,4-雙(4-胺基苯氧基)苯、雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]碸、2,2-雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]丙烷、2,2'-二甲基聯苯胺、2,2'-雙(三氟甲基)-4,4'-二胺基聯苯(TFMB)、4,4'-雙(4-胺基苯氧基)聯苯。該等可單獨或組合兩種以上使用。
上述二胺化合物之中，就光學膜之高表面硬度、高透明性、高柔軟性、高撓曲耐性及低著色性之觀點而言，較佳為使用選自由具有聯苯結構之芳香族二胺所組成之群中之一種以上。更佳為使用選自由2,2'-二甲基聯苯胺、2,2'-雙(三氟甲基)聯苯胺、4,4'-雙(4-胺基苯氧基)聯苯及4,4'-二胺基二苯醚所組成之群中之一種以上，進而更佳為使用2,2'-雙(三氟甲基)-4,4'-二胺基聯苯(TFMB)。
作為樹脂之製造中所使用之四羧酸化合物，可列舉：芳香族四羧酸二酐等芳香族四羧酸化合物；及脂肪族四羧酸二酐等脂肪族四羧酸化合物等。四羧酸化合物可單獨使用，亦可組合兩種以上使用。四羧酸化合物除二酐外，亦可為醯氯化合物等四羧酸化合物相關物。
作為芳香族四羧酸二酐之具體例，可列舉：非縮合多環式之芳香族四羧酸二酐、單環式之芳香族四羧酸二酐及縮合多環式之芳香族四羧酸二酐。作為非縮合多環式之芳香族四羧酸二酐，例如可列舉：4,4'-氧二鄰苯二甲酸二酐、3,3',4,4'-二苯甲酮四羧酸二酐、2,2',3,3'-二苯甲酮四羧酸二酐、3,3',4,4'-聯苯四羧酸二酐、2,2',3,3'-聯苯四羧酸二酐、3,3',4,4'-二苯基碸四羧酸二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-雙(2,3-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯氧基苯基)丙烷二酐、4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐(有時記為6FDA)、1,2-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,2-雙(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-雙(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、雙(3,4-二羧基苯基)甲烷二酐、雙(2,3-二羧基苯基)甲烷二酐、4,4'-(對伸苯基二氧基)二鄰苯二甲酸二酐、4,4'-(間伸苯基二氧基)二鄰苯二甲酸二酐。又，作為單環式之芳香族四羧酸二酐，例如可列舉：1,2,4,5-苯四羧酸二酐，作為縮合多環式之芳香族四羧酸二酐，例如可列舉：2,3,6,7-萘四羧酸二酐。
該等之中，較佳可列舉：4,4'-氧二鄰苯二甲酸二酐、3,3',4,4'-二苯甲酮四羧酸二酐、2,2',3,3'-二苯甲酮四羧酸二酐、3,3',4,4'-聯苯四羧酸二酐、2,2',3,3'-聯苯四羧酸二酐、3,3',4,4'-二苯基碸四羧酸二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-雙(2,3-二羧基苯基)丙烷二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯氧基苯基)丙烷二酐、4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐(6FDA)、1,2-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-雙(2,3-二羧基苯基)乙烷二酐、1,2-雙(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、1,1-雙(3,4-二羧基苯基)乙烷二酐、雙(3,4-二羧基苯基)甲烷二酐、雙(2,3-二羧基苯基)甲烷二酐、4,4'-(對伸苯基二氧基)二鄰苯二甲酸二酐及4,4'-(間伸苯基二氧基)二鄰苯二甲酸二酐，更佳可列舉：4,4'-氧二鄰苯二甲酸二酐、3,3',4,4'-聯苯四羧酸二酐、2,2',3,3'-聯苯四羧酸二酐、4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐(6FDA)、雙(3,4-二羧基苯基)甲烷二酐及4,4'-(對伸苯基二氧基)二鄰苯二甲酸二酐。該等可單獨或組合兩種以上使用。
作為脂肪族四羧酸二酐，可列舉：環式或非環式之脂肪族四羧酸二酐。所謂環式脂肪族四羧酸二酐係指具有脂環式烴結構之四羧酸二酐，作為其具體例，可列舉：1,2,4,5-環己烷四羧酸二酐、1,2,3,4-環丁烷四羧酸二酐、1,2,3,4-環戊烷四羧酸二酐等環烷烴四羧酸二酐、雙環[2.2.2]辛-7-烯-2,3,5,6-四羧酸二酐、二環己基-3,3',4,4'-四羧酸二酐及該等之位置異構物。該等可單獨或組合兩種以上使用。作為非環式脂肪族四羧酸二酐之具體例，可列舉：1,2,3,4-丁烷四羧酸二酐及1,2,3,4-戊烷四羧酸二酐等，該等可單獨或組合兩種以上使用。又，可組合使用環式脂肪族四羧酸二酐及非環式脂肪族四羧酸二酐。
上述四羧酸二酐之中，就光學膜之高表面硬度、高透明性、高柔軟性、高撓曲耐性及低著色性之觀點而言，較佳為4,4'-氧二鄰苯二甲酸二酐、3,3',4,4'-二苯甲酮四羧酸二酐、3,3',4,4'-聯苯四羧酸二酐、2,2',3,3'-聯苯四羧酸二酐、3,3',4,4'-二苯基碸四羧酸二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯基)丙烷二酐、4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐以及該等之混合物，更佳為3,3',4,4'-聯苯四羧酸二酐及4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐、以及該等之混合物，進而較佳為4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐(6FDA)。
作為樹脂之製造中所使用之二羧酸化合物，較佳可使用對苯二甲酸、4,4'-氧基雙苯甲酸或該等之醯氯化合物。除對苯二甲酸或4,4'-氧基雙苯甲酸或該等之醯氯化合物外，亦可使用其他二羧酸化合物。作為其他二羧酸化合物，可列舉：芳香族二羧酸、脂肪族二羧酸及該等之相關之醯氯化合物、酸酐等，可組合使用兩種以上。作為具體例，可列舉：間苯二甲酸；萘二羧酸；4,4'-聯苯二羧酸；3,3'-聯苯二羧酸；碳數8以下之鏈式烴之二羧酸化合物及兩個苯甲酸以單鍵、-CH2 -、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-SO2 -或伸苯基連結而成之化合物、以及該等之醯氯化合物。作為具體例，較佳為4,4'-氧基雙(苯甲醯氯)、對苯二甲醯氯，進而較佳為組合使用4,4'-氧基雙(苯甲醯氯)與對苯二甲醯氯。
再者，上述聚醯亞胺系樹脂可為於不損害光學積層體之各種物性之範圍內，除上述四羧酸化合物外，亦進而使四羧酸及三羧酸以及該等之酸酐及衍生物反應而成者。
作為四羧酸，可列舉上述四羧酸化合物之酸酐之水加成物。
作為三羧酸化合物，可列舉：芳香族三羧酸、脂肪族三羧酸及該等之相關之醯氯化合物、酸酐等，可組合兩種以上使用。作為具體例，可列舉：1,2,4-苯三羧酸之酸酐；2,3,6-萘三羧酸-2,3-酐；鄰苯二甲酸酐與苯甲酸以單鍵、-O-、-CH2 -、-C(CH3 )2 -、-C(CF3 )2 -、-SO2 -或伸苯基連結而成之化合物。
於樹脂之製造中，二胺化合物、四羧酸化合物及/或二羧酸化合物之使用量可根據所期望之聚醯亞胺系樹脂及聚醯胺系樹脂之各結構單元之比率而適宜選擇。
於樹脂之製造中，二胺化合物、四羧酸化合物及二羧酸化合物之反應溫度並無特別限定，例如為5～350℃，較佳為20～200℃，更佳為25～100℃。反應時間亦無特別限定，例如為30分鐘～10小時左右。視需要，可於惰性環境或減壓之條件下進行反應。於較佳態樣中，反應係於常壓及/或惰性氣體環境下，一面攪拌一面進行。又，反應較佳為於對反應為惰性之溶劑中進行。作為溶劑，只要對反應無影響，則並無特別限定，例如可列舉：水、甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、乙二醇甲醚、乙二醇丁醚、1-甲氧基-2-丙醇、2-丁氧基乙醇、丙二醇單甲醚等醇系溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁內酯、γ-戊內酯、丙二醇甲醚乙酸酯、乳酸乙酯等酯系溶劑；丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、2-庚酮、甲基異丁基酮等酮系溶劑；戊烷、己烷、庚烷等脂肪族烴溶劑；乙基環己烷等脂環式烴溶劑；甲苯、二甲苯等芳香族烴溶劑；乙腈等腈系溶劑；四氫呋喃及二甲氧基乙烷等醚系溶劑；氯仿及氯苯等含氯之溶劑；N,N-二甲基乙醯胺(DMAc)、N,N-二甲基甲醯胺(DMF)等醯胺系溶劑；二甲基碸、二甲基亞碸、環丁碸等含硫系溶劑；碳酸乙二酯、碳酸丙二酯等碳酸酯系溶劑；及該等之組合(混合溶劑)等。該等之中，就溶解性之觀點而言，可良好地使用醯胺系溶劑。
於聚醯亞胺系樹脂之製造中之醯亞胺化步驟中，可於醯亞胺化觸媒之存在下進行醯亞胺化。作為醯亞胺化觸媒，例如可列舉：三丙胺、二丁基丙胺、乙基二丁胺等脂肪族胺；N-乙基哌啶、N-丙基哌啶、N-丁基吡咯啶、N-丁基哌啶及N-丙基六氫氮呯等脂環式胺(單環式)；氮雜雙環[2.2.1]庚烷、氮雜雙環[3.2.1]辛烷、氮雜雙環[2.2.2]辛烷及氮雜雙環[3.2.2]壬烷等脂環式胺(多環式)；以及吡啶、2-甲基吡啶(2-picoline)、3-甲基吡啶(3-picoline)、4-甲基吡啶(4-picoline)、2-乙基吡啶、3-乙基吡啶、4-乙基吡啶、2,4-二甲基吡啶、2,4,6-三甲基吡啶、3,4-環戊烯并吡啶、5,6,7,8-四氫異喹啉及異喹啉等芳香族胺。又，就易於促進醯亞胺化反應之觀點而言，較佳為與醯亞胺化觸媒一同使用酸酐。酸酐可列舉於醯亞胺化反應中所使用之慣用之酸酐等，作為其具體例，可列舉：乙酸酐、丙酸酐、丁酸酐等脂肪族酸酐、鄰苯二甲酸等芳香族酸酐等。
聚醯亞胺系樹脂及聚醯胺系樹脂可藉由慣用之方法，例如過濾、濃縮、萃取、晶析、再結晶、管柱層析等分離方法或組合該等之分離方法而單離(分離精製)，於較佳態樣中，於含有透明聚醯胺醯亞胺樹脂之反應液中添加大量之甲醇等醇，使樹脂析出，進行濃縮、過濾、乾燥等，藉此可進行單離。
＜填料＞ 於本發明之光學積層體中，光學膜可含有至少一種填料。作為填料，例如可列舉：有機粒子、無機粒子等，較佳可列舉無機粒子。作為無機粒子，可列舉：氧化矽、氧化鋯、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋅、氧化鍺、氧化銦、氧化錫、銦錫氧化物(ITO)、氧化銻、氧化鈰等金屬氧化物粒子、氟化鎂、氟化鈉等金屬氟化物粒子等，該等之中，就易於提高所得光學膜之彈性模數及/或撕裂強度，從而提高耐衝擊性之觀點而言，較佳可列舉氧化矽粒子、氧化鋯粒子、氧化鋁粒子，更佳可列舉氧化矽粒子。該等填料可單獨或組合兩種以上使用。
於本發明之光學積層體中，光學膜例如可含有平均一次粒徑為5～35 nm之至少一種填料。該光學膜除具有較高之光學特性外，亦具有較高之拉伸彈性模數。光學膜之拉伸彈性模數較佳為4,000 MPa以上，更佳為5,000 MPa以上，進而較佳為5,500 MPa以上，尤佳為6,000 MPa以上。若拉伸彈性模數為上述下限以上，則不易於光學膜中產生凹陷等缺陷，並且易於提高光學膜之強度，易於提高耐久性。拉伸彈性模數較佳為10,000 MPa以下，更佳為9,000 MPa以下。若拉伸彈性模數為上述上限以下，則易於提高光學膜之耐撓曲性。再者，光學膜之拉伸彈性模數可依據JIS K 7127，於室溫下使用拉伸試驗機而測定。就易於提高光學膜之均質性、透明性、彈性模數及強度之觀點而言，填料之平均一次粒徑較佳為10 nm以上，更佳為15 nm以上，進而較佳為20 nm以上。又，就易於提高光學膜之透明性之觀點而言，填料之平均一次粒徑較佳為30 nm以下。
填料之平均一次粒徑可藉由BET(Brunauer-Emmett-Teller，布厄特)法而測定。具體而言可將藉由BET法(氮吸附BET法)測定之比表面積(BET比表面積)換算為平均一次粒徑而算出。此處，若將平均一次粒徑設為d(nm)，將填料之密度設為ρ(g/cm3 )，將BET比表面積設為S(m2 /g)，則該等之間成立以下關係：d=6000/(S×ρ)。例如於填料為氧化矽之情形時，藉由d=2070/S之式，可自BET比表面積算出平均一次粒徑。再者，可藉由穿透式電子顯微鏡(TEM)或掃描式電子顯微鏡(SEM)之圖像解析而測定一次粒徑(平均一次粒徑)。光學膜中所含之填料之平均一次粒徑可為用作原料之填料之平均一次粒徑，亦可為自光學膜測定之平均一次粒徑。於自光學膜測定填料之平均一次粒徑之情形時，可將膜作為測定試樣，藉由穿透式電子顯微鏡或掃描式電子顯微鏡之圖像解析，測定光學膜中之填料之平均一次粒徑，亦可視需要將膜粉碎，於使破碎之膜溶解於可溶解膜中之樹脂之溶劑(例如γ-丁內酯)中之狀態下，對分散之粒子以穿透式電子顯微鏡(TEM)或掃描式電子顯微鏡(SEM)進行觀察而測定，亦可自膜取出填料，使之乾燥，以與上述相同之方式自BET比表面積算出平均一次粒徑。於藉由例如電子顯微鏡之圖像解析測定平均一次粒子之情形時，可分別對一定面積內存在之100個粒子測定一次粒徑，將其結果之平均值作為平均一次粒徑。
填料之含量相對於光學膜之質量，較佳為0.5質量%以上，更佳為1質量%以上，進而較佳為5質量%以上，進而較佳為10質量%以上，進而較佳為15質量%以上，進而較佳為20質量%以上，進而較佳為25質量%以上，尤佳為30質量%以上。若填料之含量為上述下限以上，則易於提高光學膜之耐衝擊性及耐久性。填料之含量相對於光學膜之質量，較佳為60質量%以下，更佳為50質量%以下，進而較佳為45質量%以下。若填料之含量為上述上限以下，則易於減低光學膜之霧度或黃度，易於提高透明性及光學特性，並且易於提高耐撓曲性。
＜紫外線吸收劑＞ 本發明之光學積層體可含有至少一種紫外線吸收劑。紫外線吸收劑可自於樹脂材料之領域中通常用作紫外線吸收劑者中適宜選擇。紫外線吸收劑可含有吸收400 nm以下之波長之光之化合物。作為紫外線吸收劑，例如可列舉：選自由二苯甲酮系化合物、水楊酸酯系化合物、苯并***化合物及三𠯤系化合物所組成之群中之至少一種化合物。紫外線吸收劑可單獨或組合兩種以上使用。藉由使光學膜含有紫外線吸收劑，樹脂之劣化得以抑制，故而於將本發明之光學膜應用於圖像顯示裝置等之情形時可提高視認性。於本說明書中，所謂「系化合物」係指附帶該「系化合物」之化合物之衍生物。例如所謂「二苯甲酮系化合物」係指具有作為母體骨架之二苯甲酮與鍵結於二苯甲酮之取代基之化合物。
於本發明之光學積層體中，於光學膜含有紫外線吸收劑之情形時，紫外線吸收劑之含量相對於光學膜中所含之樹脂之質量，較佳為0.01～10質量份，更佳為1～8質量份，進而較佳為2～7質量份。若紫外線吸收劑之含量為上述下限以上，則易於提高紫外線吸收性。若紫外線吸收劑之含量為上述上限以下，則可抑制因基材製造時之熱所導致之紫外線吸收劑之分解，易於提高光學特性，例如易於減低霧度。
＜其他添加劑＞ 本發明之光學積層體可進而含有填料、紫外線吸收劑以外之其他添加劑。作為其他添加劑，例如可列舉：抗氧化劑、脫模劑、穩定劑、上藍劑等著色劑、阻燃劑、pH值調整劑、氧化矽分散劑、潤滑劑、增黏劑及調平劑等。於含有其他添加劑之情形時，其含量相對於光學膜之質量，較佳可為0.005～20質量份，更佳可為0.01～15質量份，進而較佳可為0.1～10質量份。
＜功能層＞ 本發明之光學積層體具有光學膜及積層於該光學膜之至少單面之功能層。該功能層所具有之功能並無特別限定，可為硬塗功能、抗靜電功能、防眩功能、低反射功能、抗反射功能、防污功能、阻氣功能、底塗功能、電磁波屏蔽功能、下塗功能、紫外線吸收功能、黏著功能、色相調整功能等光學膜中所採用之通常之功能。功能層可為具有一種功能之層，亦可為兼具兩種以上之功能之層。就易於用作可撓性顯示裝置之前面板之觀點而言，較佳為該功能層之至少1個為具有選自由硬塗功能、抗靜電功能、防眩功能、低反射功能、抗反射功能及防污功能所組成之群中之至少一種功能之層。功能層可為1層且具有複數種功能，亦可為積層兩層以上之具有各功能之層。於積層兩層以上之情形時，積層之順序可根據其功能而適宜設定。該等層積層於光學膜之單面或雙面。於積層於雙面之情形時，積層於各面之層之厚度、功能、積層之順序可相同，亦可不同。
功能層之厚度可根據目標功能而適宜設定，就光學積層體之輕量化及易於提高光學均質性之觀點而言，較佳為20 μm以下，更佳為15 μm以下，進而較佳為10 μm以下。
(硬塗功能) 硬塗功能係對光學膜之表面賦予耐損傷性、耐化學品性等而保護光學膜之功能。於本發明之光學積層體中，功能層可為具有硬塗功能之層(硬塗層)。作為硬塗層，可適宜採用公知者，例如可列舉：丙烯酸系、環氧系、胺基甲酸酯系、苄基氯系、乙烯系等之公知之硬塗層。該等之中，就抑制光學積層體之廣角方向之視認性之下降，且提高耐撓曲性之觀點而言，較佳為丙烯酸系、胺基甲酸酯系及該等之組合之硬塗層。例如，硬塗層可為含有活性能量線硬化性化合物之組合物之硬化物。活性能量線硬化性化合物係具有藉由照射電子束、紫外線等活性能量線而硬化之性質之化合物。作為此種活性能量線硬化性化合物，例如可列舉：藉由照射電子束而硬化之電子束硬化性化合物、或藉由照射紫外線而硬化之紫外線硬化性化合物等。該等化合物係與通常之硬塗層之形成中所使用之硬塗劑之主成分相同之化合物，例如可列舉(甲基)丙烯酸系樹脂。尤其於(甲基)丙烯酸系樹脂中，較佳為以多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物為主成分者。再者，於本說明書中，所謂(甲基)丙烯酸係指丙烯酸及/或甲基丙烯酸，所謂(甲基)丙烯酸酯係指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯。
所謂多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物係指於分子中具有至少2個丙烯醯氧基及/或甲基丙烯醯氧基之化合物，具體可列舉：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯、五甘油三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三((甲基)丙烯醯氧基乙基)異氰尿酸酯、於磷腈化合物之磷腈環上導入(甲基)丙烯醯氧基之磷腈系丙烯酸酯化合物或磷腈系甲基丙烯酸酯化合物、藉由於分子中具有至少2個異氰酸基之聚異氰酸酯與具有至少1個(甲基)丙烯醯氧基及羥基之多元醇化合物之反應而獲得之(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯化合物、藉由於分子中具有至少2個之羧醯鹵化物與具有至少1個(甲基)丙烯醯氧基及羥基之多元醇化合物之反應而獲得之聚酯(甲基)丙烯酸酯化合物、以及如上述各化合物之二聚物、三聚物等之低聚物等。
該等化合物可分別單獨或混合兩種以上使用。再者，除上述多官能(甲基)丙烯酸酯系化合物外，亦可使用至少一種單官能(甲基)丙烯酸酯。作為單官能(甲基)丙烯酸酯，例如可列舉：(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等。該等化合物可單獨或混合兩種以上使用。單官能(甲基)丙烯酸酯系化合物之含量相對於功能層形成用組合物(硬塗層用塗料)中所含之化合物之固形物成分，較佳為10質量%以下之量。再者，於本說明書中，所謂固形物成分係指去除硬化性組合物中所含之溶劑之全部成分。
可於功能層中例如以調整硬度為目的而添加聚合性低聚物。作為此種低聚物，可列舉：末端(甲基)丙烯酸酯聚甲基丙烯酸甲酯、末端苯乙烯基聚(甲基)丙烯酸酯、末端(甲基)丙烯酸酯聚苯乙烯、末端(甲基)丙烯酸酯聚乙二醇、末端(甲基)丙烯酸酯丙烯腈-苯乙烯共聚物、末端(甲基)丙烯酸酯苯乙烯-(甲基)丙烯酸甲酯共聚物等巨單體。於添加聚合性低聚物之情形時，其含量相對於功能層形成用組合物之固形物成分較佳為5～50質量%。
活性能量線硬化性化合物可於與溶劑混合之溶液之狀態下使用。活性能量線硬化性化合物或其溶液可為作為硬塗劑而市售者。作為市售之硬塗劑，具體可例示：「NKHARD M101」(新中村化學(股)製造，丙烯酸胺基甲酸酯化合物)、「NKESTER A-TMM-3L」(新中村化學(股)製造，四羥甲基甲烷三丙烯酸酯)、「NKESTER A-9530」(新中村化學(股)製造，二季戊四醇六丙烯酸酯)、「KAYARAD(註冊商標) DPCA系列」(日本化藥(股)製造，二季戊四醇六丙烯酸酯化合物之衍生物)、「ARONIX(註冊商標) M-8560」(東亞合成(股)製造，聚酯丙烯酸酯化合物)、「New Frontier(註冊商標) TEICA」(第一工業製藥(股)製造，三(丙烯醯氧基乙基)異氰尿酸酯)、「PPZ」(共榮社化學(股)製造，磷腈系甲基丙烯酸酯化合物)等。
硬塗層之厚度可適宜設定，就光學積層體之耐撓曲性、表面硬度及光學均質性之觀點而言，較佳為20 μm以下，更佳為15 μm以下，進而較佳為10 μm以下。
作為將硬塗層積層於光學膜之至少單面之方法，例如可將含有活性能量線硬化性化合物(活性能量線硬化性樹脂)之硬塗層形成用組合物塗佈於基板(光學膜)之表面，照射活性能量線。此種組合物可藉由將活性能量線硬化性化合物視需要與添加劑等混合而獲得。該硬塗層形成用組合物之硬化物構成硬塗層。
硬塗層形成用組合物較佳為含有溶劑，較佳為於該硬塗層形成用組合物中，活性能量線硬化性化合物以溶劑稀釋。於該情形時，該組合物可將活性能量線硬化性化合物與用以賦予表面平滑性等之各種添加劑(例如聚矽氧油等)混合後，將所得混合物以溶劑稀釋而製造，亦可將活性能量線硬化性化合物以溶劑稀釋後，混合添加劑而製造，亦可將活性能量線硬化性化合物與預先以溶劑稀釋之添加劑混合而製造，亦可將預先以溶劑稀釋之活性能量線硬化性化合物與預先以溶劑稀釋之添加劑混合而製造。混合後之組合物可進而攪拌。
就易於塗佈之觀點而言，硬塗層形成用組合物含有適當之溶劑之情形時亦較佳。作為溶劑，可自己烷、辛烷等脂肪族烴、甲苯、二甲苯等芳香族烴、乙醇、1-丙醇、異丙醇、1-丁醇等醇類、甲基乙基酮、甲基異丁基酮等酮類、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯類、溶纖劑類等中適宜選擇使用。該等有機溶劑視需要可混合數種使用。就塗佈硬塗層形成用組合物後並加熱，易於使有機溶劑蒸發之觀點而言，溶劑之沸點較佳為70℃～200℃之範圍。溶劑之種類或使用量可根據所使用之活性能量線硬化性化合物之種類或量、基材(光學膜)之材質、形狀、塗佈方法、目標之硬塗層之厚度等而適宜選擇。 塗佈硬塗層形成用組合物後之加熱並乾燥之溫度(T1)相對於該組合物中所含之溶劑之沸點(T2)，較佳為±30℃，更佳為±20℃。若T1為上述範圍，則存在溶劑不易殘留於所得硬塗層中，又，密接性不易下降之傾向。 硬塗層形成用組合物之固形物成分較佳為5～60質量%，更佳為10～55質量%，進而較佳為20～50質量%，進而更佳為25～50質量%。若該固形物成分為上述範圍，則存在塗佈膜厚不會過厚，數式1之值不會過大，故而視認性變得良好，又所得硬塗層之表面之平滑性變得良好之傾向。
硬塗層形成用組合物可含有聚合起始劑。於使用紫外線或可見光線作為活性能量線之情形時，通常使用光聚合起始劑作為聚合起始劑。
作為光聚合起始劑，例如可列舉：苯乙酮、苯乙酮苯偶醯縮酮、蒽醌、1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮、咔唑、𠮿酮、4-氯二苯甲酮、4,4'-二胺基二苯甲酮、1,1-二甲氧基脫氧安息香、3,3'-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、9-氧硫𠮿
Figure 108142527-0000-3
、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、1-(4-十二烷基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-𠰌啉基丙烷-1-酮、三苯胺、2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、1-羥基環己基苯基酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、茀酮、茀、苯甲醛、安息香***、苯并異丙醚、二苯甲酮、米其勒酮、3-甲基苯乙酮、3,3',4,4'-四第三丁基過氧化羰基二苯甲酮(BTTB)、2-(二甲胺基)-1-[4-(𠰌啉基)苯基]-2-苯基甲基)-1-丁酮、4-苯甲醯基-4'-甲基二苯硫醚、苯偶醯等。又，光聚合起始劑可與色素增感劑組合使用。作為該色素增感劑，例如可列舉：𠮿
Figure 108142527-0000-3
、硫𠮿
Figure 108142527-0000-3
、香豆素、酮香豆素等。作為光聚合起始劑與色素增感劑之組合，例如可列舉：BTTB與𠮿
Figure 108142527-0000-3
之組合、BTTB與硫𠮿
Figure 108142527-0000-3
之組合、BTTB與香豆素之組合、BTTB與酮香豆素之組合等。
於使用光聚合起始劑之情形時，其使用量相對於活性能量線硬化性化合物100質量份，較佳為0.1質量份以上。若該使用量為上述範圍，則存在易於獲得充分之硬化速度之傾向。再者，光聚合起始劑之使用量於活性能量線硬化性化合物每100質量份中較佳為10質量份以下。
硬塗層形成用組合物除活性能量線硬化性化合物外，亦可含有抗靜電劑。藉由使該組合物含有抗靜電劑，可對硬塗層賦予抗靜電功能。作為抗靜電劑，例如可列舉：界面活性劑、導電性高分子、導電性粒子、鹼金屬鹽及/或有機陽離子-陰離子鹽等。該等抗靜電劑分別使用一種或混合兩種以上使用。
作為界面活性劑，可列舉：烴系界面活性劑、氟系界面活性劑、聚矽氧系界面活性劑等。
作為導電性高分子，可列舉：聚苯胺、聚吡咯、聚乙炔、聚噻吩等。
作為導電性粒子，例如可列舉：銦-錫複合氧化物(ITO)、摻銻之氧化錫等粒子。
作為鹼金屬鹽，可列舉：鹼金屬之有機鹽及無機鹽。作為構成鹼金屬鹽之陽離子部之鹼金屬離子，可列舉：鋰、鈉、鉀之各離子。該等鹼金屬離子中，較佳為鋰離子。
鹼金屬鹽之陰離子部可包含有機物，亦可包含無機物。作為構成有機鹽之陰離子部，例如可使用CH3 COO- 、CF3 COO- 、CH3 SO3 - 、CF3 SO3 - 、(CF3 SO2 )3 C- 、C4 F9 SO3 - 、C3 F7 COO- 、(CF3 SO2 )(CF3 CO)N- 、(FSO2 )2 N- 、- O3 S(CF2 )3 SO3 - 、CO3 2- 、式(A1)～式(A4)所表示之陰離子部等， (A1)：(Cn F2n+1 SO2 )2 N- (n表示1～10之整數)、 (A2)：CF2 (Cm F2m SO2 )2 N- (m表示1～10之整數)、 (A3)：- O3 S(CF2 )l SO3 - (l表示1～10之整數)、 (A4)：(Cp F2p+1 SO2 )N- (Cq F2q+1 SO2 )(其中，p及q相互獨立地表示1～10之整數)。 尤其，含有氟原子之陰離子部可獲得離子解離性較佳之離子化合物，因此可較佳使用。作為構成無機鹽之陰離子部，可使用Cl- 、Br- 、I- 、AlCl4 - 、Al2 Cl7 - 、BF4 - 、PF6 - 、ClO4 - 、NO3 - 、AsF6 - 、SbF6 - 、NbF6 - 、TaF6 - 、(CN)2 N- 等。作為陰離子部，較佳為(FSO2 )2 N- 、(CF3 O2 )2 N- 、(C2 F5 SO2 )2 N- ，更佳為(FSO2 )2 N- 、(CF3 SO2 )2 N- 。
有機陽離子-陰離子鹽為包含陽離子部與陰離子部，上述陽離子部為有機物之有機鹽。陰離子部可為有機物，亦可為無機物。「有機陽離子-陰離子鹽」可為稱為離子性液體、離子性固體之物質。 作為陽離子成分，具體可列舉：吡啶鎓陽離子、哌啶鎓陽離子、吡咯烷鎓陽離子、具有吡咯啉骨架之陽離子、具有吡咯骨架之陽離子、咪唑鎓陽離子、四氫嘧啶鎓陽離子、二氫嘧啶鎓陽離子、吡唑鎓陽離子、吡唑啉鎓陽離子、四烷基銨陽離子、三烷基鋶陽離子、四烷基鏻陽離子等。作為陰離子成分，可列舉與上述鹼金屬鹽之陰離子部相同者。其中，含有氟原子之陰離子成分可獲得離子解離性較佳之離子化合物，因此可較佳使用。
硬塗層形成用組合物可含有例如含有溴原子、氟原子、硫原子、苯環等之有機化合物、例如氧化錫、氧化銻、氧化鈦、氧化鋯、氧化鋅、氧化矽等無機氧化物微粒子等。於該情形時，可調整所得硬塗層之折射率，對硬塗層賦予低反射功能、抗反射功能等光學功能。
將含有活性能量線硬化性化合物之硬塗層形成用組合物塗佈於光學膜上後，加以乾燥，藉此可形成含有活性能量線硬化性化合物之層。塗佈例如可藉由微凹版塗佈法、輥式塗佈法、浸漬塗佈法、旋轉塗佈法、模嘴塗佈法、流延轉印法、流塗法、噴塗法等通常之方法進行。就易於提高光學積層體之光學均質性之觀點而言，較佳為藉由微凹版塗佈法或模嘴塗佈法積層硬塗層形成用組合物。
其後，藉由照射活性能量線，塗佈於光學膜之表面之活性能量線硬化性化合物硬化，從而獲得目標之硬塗層。作為活性能量線，例如可列舉：電子束、紫外線、可見光線等，可根據所使用之活性能量線硬化性化合物之種類而適宜選擇。活性能量線只要以與通常之硬塗層形成中之方式相同之方式照射即可。照射之活性能量線之強度、照射時間等可根據所使用之硬化性化合物之種類、含有硬化性化合物之層之厚度等而適宜選擇。活性能量線可於惰性氣體環境中照射。為於氮氣環境中照射活性能量線，例如只要於以惰性氣體密封之容器中進行活性能量線照射即可，作為惰性氣體，可使用氮氣、氬氣等。 於硬塗層之表面進而積層下述抗反射層或低反射層亦有用。該情形時之抗反射層或低反射層可以單層或複層積層於硬塗層之表面。
(抗靜電功能) 抗靜電功能係防止光學膜之表面之帶電之功能。於本發明之光學積層體中，功能層可為具有抗靜電功能之層(抗靜電層)。作為形成抗靜電層之方法，除於上述硬塗層形成用組合物中添加抗靜電劑而對硬塗層賦予抗靜電功能之方法以外，亦可列舉將以溶劑等稀釋抗靜電劑所得之抗靜電層形成用組合物塗佈於光學膜或積層於光學膜上之功能層上，視需要加以乾燥，而形成為單獨之膜的方法。抗靜電劑可於構成功能層之樹脂(例如上述活性能量線硬化性化合物之硬化物)之一部分中作為具有抗靜電功能之結構單元而含有，亦可於形成功能層之樹脂中作為添加劑而添加。於將抗靜電劑作為添加劑而添加之情形時，其添加量相對於功能層形成用組合物之固形物成分，較佳為0.01～20質量%，更佳為0.05～10質量%，進而較佳為0.1～10質量%。
(防眩功能) 防眩功能係藉由使光散射並反射，而防止外光之映入之功能。於本發明之光學積層體中，功能層可為具有防眩功能之層(防眩層)。作為防眩層，可適宜採用公知者。例如，使用於透光性樹脂中含有一種以上之透光性微粒子之樹脂組合物，形成於表面具有微細之凹凸形狀之層，藉此可賦予防眩功能。更具體而言，此種防眩層例如可藉由如下方式形成：將分散有作為填料之透光性微粒子之透光性樹脂溶液塗佈於光學膜上，以透光性微粒子成為防眩層之表面之凸形狀部分之方式調整塗佈之厚度。再者，於本說明書中，所謂「透光性」係指不論物質內部有無散射，光均可大致透過。
透光性微粒子 作為透光性微粒子，例如可列舉：(甲基)丙烯酸系樹脂、三聚氰胺樹脂、聚乙烯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚碳酸酯樹脂、氯乙烯樹脂、有機聚矽氧樹脂、丙烯酸-苯乙烯共聚物等有機微粒子、及碳酸鈣、氧化矽、氧化鋁、碳酸鋇、硫酸鋇、氧化鈦、玻璃等無機微粒子。作為透光性微粒子，可使用一種或兩種以上之微粒子。為獲得所期望之防眩性，可適宜調整透光性微粒子之種類、粒徑、折射率、含量等。
透光性微粒子之粒徑較佳為0.5～5 μm，更佳為1～4 μm。若透光性微粒子之粒徑為上述範圍內，則易於獲得所需之光擴散效果，又，易於在防眩層之表面形成凹凸，故而易於獲得充分之防眩效果。進而存在防眩層之表面形狀不會太粗，霧度值不會大幅上升之傾向。
透光性微粒子與透光性樹脂之折射率之差較佳為0.02～0.2，更佳為0.04～0.1。若折射率差為上述範圍內，則易於獲得充分之光擴散效果，又，光學積層體整體不易變白。
透光性微粒子之添加量相對於透光性樹脂100質量份，較佳為3～30質量份，更佳為5～20質量份。若添加量為上述範圍內，則易於獲得充分之光擴散效果，又，光學積層體整體不易變白。
於將透光性微粒子之粒徑、添加量及/或透光性微粒子與透光性樹脂之折射率差調整為如上述之範圍之情形時，即使於防眩層之霧度較高之區域，透過清晰度亦不會下降，易於防止表面之眩光，進而即使於霧度較低之區域，亦可易於在維持高透過清晰度之狀態下防止眩光。
透光性樹脂 作為構成防眩層之透光性樹脂，只要為具有透光性者，則並無特別限制，例如除如上述之活性能量線硬化性化合物之硬化物外，亦可列舉熱硬化性樹脂之硬化物；熱塑性樹脂；金屬烷氧化物系聚合物等。其中，較佳為活性能量線硬化性化合物之硬化物。於使用紫外線硬化性樹脂等作為活性能量線硬化性化合物之情形時，與上述同樣地，可於塗佈液中含有光聚合起始劑(自由基聚合起始劑)，藉由照射活性能量線而使塗佈層硬化。
作為熱硬化性樹脂，可列舉：包含丙烯酸多元醇與異氰酸酯預聚物之熱硬化性胺基甲酸酯樹脂、酚樹脂、脲三聚氰胺樹脂、環氧樹脂、不飽和聚酯樹脂、聚矽氧樹脂等。
作為熱塑性樹脂，可列舉：乙醯基纖維素、硝化纖維素、乙醯基丁基纖維素、乙基纖維素、甲基纖維素等纖維素衍生物；乙酸乙烯酯及其共聚物、氯乙烯及其共聚物、偏二氯乙烯及其共聚物等乙烯系樹脂；聚乙烯醇縮甲醛、聚乙烯醇縮丁醛等縮醛系樹脂；丙烯酸系樹脂及其共聚物、甲基丙烯酸系樹脂及其共聚物等(甲基)丙烯酸系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚醯胺系樹脂；聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂等。
作為金屬烷氧化物系聚合物，可使用以矽烷氧化物系之材料為原料之氧化矽系基質等。具體而言，金屬烷氧化物系聚合物可為將四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷等烷氧基矽烷之水解物脫水縮合而獲得之無機系或有機無機複合系基質。
於使用熱硬化性樹脂之硬化物、金屬烷氧化物系聚合物作為透光性樹脂之情形時，將塗佈液塗佈後，有時需要加熱。
又，通常紫外線硬化性樹脂之折射率為約1.5，與玻璃為同程度，而於與上述透光性微粒子之折射率之比較中，存在所使用之紫外線硬化性樹脂之折射率較低之情形。於該情形時，可於透光性樹脂中添加作為折射率較高之微粒子之TiO2 (折射率：2.3～2.7)、Y2 O3 (折射率：1.87)、La2 O3 (折射率：1.95)、ZrO2 (折射率：2.05)、Al2 O3 (折射率：1.63)等至可保持防眩層之光之擴散性之程度，從而提高透過性樹脂之折射率，調整為較佳範圍。
防眩層形成用組合物可使透光性微粒子分散於含有透光性樹脂與溶劑之組合物(例如上述硬塗層形成用組合物)中而製造。使透光性微粒子分散之時點或分散方法並無特別限定。
將該防眩層形成用組合物(塗佈液)塗佈於光學膜之表面或積層於光學膜之功能層之表面，加以乾燥，藉此可形成防眩層。塗佈可藉由通常之方法，例如微凹版塗佈法、輥式塗佈法、浸漬塗佈法、旋轉塗佈法、模嘴塗佈法、流延轉印法、流塗法、噴塗法等方法而進行。其後，可藉由照射紫外線而使紫外線硬化性樹脂硬化。照射之紫外線之強度、照射時間等可根據所使用之硬化性化合物之種類、含有硬化性化合物之層之厚度等而適宜選擇。紫外線可於惰性氣體環境中照射。為於惰性氣體環境中照射紫外線，例如只要於以惰性氣體密封之容器中進行活性能量線照射即可，作為惰性氣體，可使用氮氣、氬氣等。
作為形成防眩層之其他方法，可使用壓紋處理。於該方法中，於光學膜或積層於光學膜之功能層上塗佈防眩層形成用組合物後，一面於塗佈層上壓抵具有特定之表面凹凸形狀之模具(壓紋輥)一面視需要使塗佈層硬化，從而可對塗佈層之表面賦予凹凸。自壓紋輥剝離防眩層後，為進一步促進該防眩層之硬化反應，實施自防眩層側再一次照射紫外線之第二硬化步驟亦有效。
防眩層之霧度較佳為0.1～50%。防眩層之霧度係藉由依據JIS K 7361之方法而測定。防眩層之厚度例如可以防眩層之霧度成為上述範圍內之方式適宜調整，較佳為2～20 μm。若防眩層之厚度為上述範圍內，則易於獲得充分之防眩效果，易於防止防眩層之破裂，又，易於防止因防眩層之硬化收縮而導致之防眩層捲曲所引起之生產性之下降。又，防眩層之厚度通常相對於分散之透光性微粒子之重量平均粒徑，較佳為85%以上，更佳為100%以上。若防眩層之厚度為上述範圍內，則存在霧度不會過大，視認性不易下降之傾向。
防眩層可含有抗靜電劑。藉由含有抗靜電劑，可獲得具有抗靜電功能之防眩層。作為抗靜電劑，可列舉與上述硬塗層中添加之抗靜電劑相同者。
防眩層可於其最表面，即凹凸面側具有低反射層。即使於無低反射層之狀態下，亦可發揮充分之防眩功能，但藉由於最表面設置低反射層，可進一步提高防眩性。作為低反射層，可應用下述者。
(抗反射功能及低反射功能) 抗反射功能及低反射功能係防止或減少外光之反射之功能。於本發明之光學積層體中，功能層可為具有防止外光之反射之功能之層(抗反射層)，亦可為具有減少外光之反射之功能之層(低反射層)。抗反射層及低反射層可為單層，亦可為多層。
抗反射層 抗反射層可具備低折射率層。又，抗反射層可為具有進而具備低折射率層以及積層於該低折射率層與光學膜之間之高折射率層及/或中折射率層之多層結構之層。可於抗反射層與光學膜之間設置上述硬塗層。
抗反射層之厚度較佳為0.01～1 μm，更佳為0.02～0.5 μm。作為抗反射層，可列舉：具有較之該抗反射層積層之光學膜或功能層之折射率更小之折射率(例如1.3～1.45之折射率)之低折射率層；交替積層有複數個包含無機化合物之薄膜之低折射率層與包含無機化合物之薄膜之高折射率層而成之層等。此處，高折射率層之折射率只要大於低折射率層之折射率即可，較佳為1.60以上。
形成上述低折射率層之材料只要為折射率較低之材料，則並無特別限制。例如可列舉：活性能量線硬化性樹脂(例如紫外線硬化型丙烯酸系樹脂)等樹脂材料、於樹脂中分散有膠體氧化矽等無機微粒子之混合材料、使用有四乙氧基矽烷等金屬烷氧化物之溶膠-凝膠材料等。該等形成低折射率層之材料可為經聚合而成之聚合物，亦可為成為前驅物之單體或低聚物。又，於構成抗反射層之材料包含含有氟之化合物之情形時，可對抗反射層賦予防污功能，故而較佳。
高折射率層可藉由如下方法形成：將含有上述活性能量線硬化性樹脂之硬化物或金屬烷氧化物系聚合物等透光性樹脂與無機微粒子及/或有機微粒子之塗佈液進行塗佈後，視需要使塗佈層硬化。作為無機微粒子，例如可列舉：氧化鋅、氧化鈦、氧化鈰、氧化鋁、氧化矽烷、氧化鉭、氧化釔、氧化鐿、氧化鋯、氧化銻、氧化銦錫(ITO)等。含有該等無機微粒子之高折射率層亦可兼具抗靜電功能。
作為製造使折射率不同之無機化合物(金屬氧化物等)之透明薄膜積層而成之多層膜之方法，可列舉：利用化學蒸鍍(CVD)法、物理蒸鍍(PVD)法、金屬烷氧化物等金屬化合物之溶膠/凝膠法，形成膠體狀金屬氧化物粒子皮膜後，進行後處理(紫外線照射：日本專利特開平9-157855號公報，電漿處理：日本專利特開2002-327310號公報)而形成薄膜的方法等。
另一方面，就易於提高生產性之觀點而言，積層塗設使無機粒子分散於基質中之薄膜從而積層抗反射層之情形時亦較佳。進而，藉由塗佈使無機粒子分散於基質中之抗反射層形成用組合物，於積層抗反射層時，於塗佈表面形成微細之凹凸形狀，藉此亦可對抗反射層進而賦予防眩功能。
低反射層 低反射層係以折射率低於成為基材之光學膜之低折射率材料形成之層。低折射率層可藉由如下方法形成：將含有上述活性能量線硬化性樹脂之硬化物或金屬烷氧化物系聚合物等透光性樹脂及無機微粒子之塗佈液進行塗佈後，視需要使塗佈層硬化。作為此種低折射率材料，具體可列舉：使氟化鋰(LiF)、氟化鎂(MgF2 )、氟化鋁(AlF3 )、冰晶石(3NaF・AlF3 或Na3 AlF6 )等無機材料微粒子含有於丙烯酸系樹脂或環氧系樹脂等中之無機系低反射材料；氟系或聚矽氧系之有機化合物、熱塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂等有機系低反射材料。
(防污功能) 防污功能係防止污垢之功能，係藉由對層賦予撥水性、撥油性、耐汗性、防污性、耐指紋性等而獲得之功能。於本發明之光學積層體中，功能層可為具有防污功能之層(防污層)。用以形成防污層之材料可為有機化合物，亦可為無機化合物。作為帶來高撥水性與撥油性之材料，可列舉：含氟之有機化合物、有機矽化合物等。作為含氟之有機化合物，可列舉：氟碳、全氟矽烷、該等之高分子化合物等。就易於提高防止污垢附著之效果之觀點而言，較佳為防污層表面之對純水之接觸角度為90度以上，進而100度以上之材料。防污層之形成方法可根據形成之材料，使用以蒸鍍或濺鍍為代表例之物理氣相沈積法、化學氣相沈積法、濕式塗佈法等。防污層之平均厚度通常為1～50 nm左右，較佳為3～35 nm。
(紫外線吸收功能) 於本發明之光學積層體中，功能層可為具有紫外線吸收功能之紫外線吸收層。紫外線吸收層例如包含選自紫外線硬化型之透光性樹脂、電子束硬化型之透光性樹脂及熱硬化型之透光性樹脂中之主材、及分散於該主材中之紫外線吸收劑。
(黏著功能) 於本發明之光學積層體中，功能層可為具有使光學膜接著於其他構件之黏著性之功能之黏著層。作為黏著層之形成材料，可使用通常已知者。例如，可使用熱硬化性樹脂組合物或光硬化性樹脂組合物。於該情形時，可藉由於事後供給能量而將熱硬化性樹脂組合物或光硬化性樹脂組合物高分子化，從而使之硬化。
黏著層可為稱為感壓型接著劑(Pressure Sensitive Adhesive，PSA)之藉由按壓而貼合於對象物之層。感壓型接著劑可為作為「於常溫下具有黏著性，以較輕之壓力接著於被接著材之物質」(JIS K 6800)之黏著劑，亦可為作為「特定成分容納於保護覆膜(微膠囊)中，直至藉由適當之方法(壓力、熱等)將覆膜破壞為止均可保持穩定性之接著劑」(JIS K 6800)之膠囊型接著劑。
(色相調整功能) 於本發明之光學積層體中，功能層可為具有可將光學積層體調整為目標色相之功能之色相調整層。色相調整層例如係含有樹脂及著色劑之層。作為著色劑，例如可列舉：氧化鈦、氧化鋅、紅丹、氧鈦系煅燒顏料、群青、鋁酸鈷及碳黑等無機顏料；偶氮系化合物、喹吖啶酮系化合物、蒽醌系化合物、苝系化合物、異吲哚啉酮系化合物、酞菁系化合物、喹酞酮系化合物、士林(threne)系化合物及吡咯并吡咯二酮系化合物等有機顏料；硫酸鋇及碳酸鈣等體質顏料；以及鹼性染料、酸性染料及媒染染料等染料。
＜光學積層體之製造方法＞ 具有上述特徵之本發明之光學積層體之製造方法並無特別限定，例如可藉由至少包含下述步驟之製造方法而製造： (a)將至少含有聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂、以及溶劑之清漆塗佈於支持體上並使之乾燥，從而形成塗膜之步驟， (b)自支持體剝離塗膜之步驟， (c)將剝離之塗膜加熱，從而獲得膜之步驟，及 (d)於膜之至少單面積層功能層，從而獲得光學積層體之步驟。 本發明亦提供一種至少包含上述步驟之光學積層體之製造方法。
本發明之光學積層體之製造方法可於步驟(c)後或步驟(d)後，進而包含以下步驟 (e)於將使用所得膜或光學積層體並藉由投影法而獲得之投影圖像進行傅立葉變換所得之膜倒空間像中，將相互正交之方向h及方向v之譜線輪廓分別設為譜線輪廓h及譜線輪廓v，於將上述投影法中不使用上述膜或上述光學積層體而獲得之背景圖像進行傅立葉變換所得之背景倒空間像中，將相互正交之方向h'及方向v'之譜線輪廓分別設為譜線輪廓h'及譜線輪廓v'，將自譜線輪廓h減去譜線輪廓h'所得之譜線輪廓(h－h')之最大強度設為Ymh ，將顯示最大強度Ymh 之頻率設為Xmh ，將自譜線輪廓v減去譜線輪廓v'所得之譜線輪廓(v－v')之最大強度設為Ymv ，將顯示最大強度Ymv 之頻率設為Xmv 時，基於Ymh 及Ymv 之值，以及自Ymh 、Ymv 、Xmh 及Xmv 算出之(Ymh +Ymv )/(Xmh +Xmv )1/2 之值，評價膜。
上述步驟(a)中所使用之清漆至少含有聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂及溶劑。此處，較佳為清漆之黏度(cps)與清漆之固形物成分濃度(質量%)滿足下述關係： [數7] 清漆之黏度×清漆之固形物成分濃度/100≧3,000。
首先，對將清漆塗佈於支持體上並使之乾燥從而形成塗膜之步驟(a)進行說明。作為清漆中含有之樹脂，可列舉作為光學膜中所含之樹脂而於上述記載之樹脂。又，可於清漆中含有上述所述之紫外線吸收劑、填料、其他添加劑。
清漆中含有之溶劑只要可溶解上述樹脂，則並無特別限定。作為該溶劑，例如可列舉：N,N-二甲基乙醯胺(DMAc)、N,N-二甲基甲醯胺等醯胺系溶劑；γ-丁內酯(GBL)、γ-戊內酯等內酯系溶劑；二甲基碸、二甲基亞碸、環丁碸等含硫系溶劑；碳酸乙二酯、碳酸丙二酯等碳酸酯系溶劑；及該等之組合(混合溶劑)。該等之中，就易於提高光學積層體之光學均質性之觀點而言，較佳為醯胺系溶劑或內酯系溶劑。該等溶劑可單獨或組合兩種以上使用。又，可於清漆中含有水、醇系溶劑、酮系溶劑、非環狀酯系溶劑、醚系溶劑等。清漆之固形物成分濃度較佳為1～25質量%，更佳為5～20質量%。
清漆可藉由將上述樹脂、溶劑及視需要所使用之紫外線吸收劑、填料及其他添加劑混合並攪拌而製備。例如可藉由如下方式製備清漆：將使上述二羧酸化合物、四羧酸化合物及/或二胺化合物、以及上述其他原料反應而獲得之聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂之反應液與溶劑及視情形添加之其他添加劑一同混合並加以攪拌。可藉由自反應液單離聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂並與溶劑等混合而製備清漆，亦可藉由購入聚醯亞胺系樹脂或聚醯胺系樹脂之溶液或固體並視需要與溶劑等混合而製備清漆。又，於使用氧化矽作為填料之情形時，可使用將含有氧化矽之矽溶膠之分散液以上述樹脂可溶解之溶劑，例如下述清漆之製備中所使用之溶劑進行置換所得之矽溶膠而製備清漆。
如上述方式製備之清漆之黏度(cps)與清漆之固形物成分濃度(質量%)並無特別限定，就易於獲得具有優異之光學均質性之光學積層體之觀點而言，較佳為該等滿足下述關係： [數8] 清漆之黏度×清漆之固形物成分濃度/100≧3,000。 此處，清漆之黏度(cps)係依據JIS K 8803：2011，使用E型黏度計於25℃下測定。又，清漆之固形物成分濃度係表示清漆中含有之樹脂、填料及添加劑等之濃度(質量%)，可自以清漆之總質量為基準之清漆中含有之固形物成分之質量而算出。作為上述式所表示之清漆之黏度與清漆之固形物成分濃度之乘積，就易於提高光學積層體之光學均質性之觀點而言，較佳為3,000以上，更佳為3,500以上。上述式所表示之清漆之黏度與清漆之固形物成分濃度之乘積之上限並無特別限定，就清漆之處理性之觀點而言，較佳為10,000以下，更佳為7,000以下。
清漆之黏度較佳為5,000～60,000 cps，更佳為10,000～50,000 cps，進而較佳為15,000～45,000 cps。若清漆之黏度為上述下限以上，則易於獲得本發明之效果，若為上述上限以下，則易於提高清漆之處理性。
清漆之固形物成分濃度較佳為5～25質量%，更佳為10～23質量%，進而較佳為14～20質量%。於清漆之固形物成分濃度為上述下限以上之情形時，就獲得較厚之膜之觀點而言較佳，於上述上限以下之情形時，就清漆之處理容易性之觀點而言較佳。
作為支持體，例如可列舉：樹脂基材、不鏽鋼帶、玻璃基材等。作為支持體，較佳為使用樹脂膜基材。作為樹脂膜基材，例如可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)膜、環烯烴系(COP)膜、丙烯酸系膜、聚醯亞胺膜、聚醯胺醯亞胺膜等。其中，就平滑性、耐熱性優異之觀點而言，較佳為PET膜、COP膜等，進而就與光學膜之密接性及成本之觀點而言，更佳為PET膜。
支持體之厚度並無特別限制，較佳為50～250 μm，更佳為100～200 μm，進而較佳為125～200 μm。於支持體之厚度為上述上限以下之情形時，易於抑制膜之製造成本，故而較佳。又，於支持體之厚度為上述下限以上之情形時，易於抑制於去除溶劑之至少一部分之步驟中可產生之膜之捲曲，故而較佳。此處，支持體之厚度係藉由接觸式之膜厚計等而測定。就易於提高光學積層體之面品質，易於製造本發明之光學積層體之觀點而言，支持體之厚度分佈較佳為±3 μm以下，更佳為±2.5 μm以下，進而較佳為±2 μm以下。支持體之厚度分佈係藉由如下方式算出：依據上述厚度之測定方法，對膜之至少20處測定厚度，算出20處之平均厚度，自各處厚度與平均厚度之差算出。
將清漆塗佈於支持體上時，可藉由公知之塗佈方法對支持體進行塗佈。作為公知之塗佈方法，例如可列舉：線棒塗佈法、反向塗佈、凹版塗佈等輥塗法、模嘴塗佈法、卡馬(comma)塗佈法、模唇塗佈法、旋轉塗佈法、網版塗佈法、噴注式塗佈法、浸漬法、噴霧法、流涎成形法等。
其次，藉由使塗佈於支持體上之清漆之塗膜乾燥，可形成塗膜。乾燥係藉由自清漆之塗膜去除至少一部分溶劑而進行，乾燥方法並無特別限定。例如可藉由對塗佈於支持體上之清漆之塗膜加熱而進行乾燥。以下，將步驟(a)中之乾燥亦稱為「第1乾燥」，將乾燥後形成於支持體上之塗膜亦稱為「乾燥塗膜」。乾燥塗膜可為清漆中所含之溶劑全部乾燥之塗膜，亦可為一部分溶劑乾燥之半乾燥狀態之塗膜。第1乾燥視需要可於惰性環境或減壓之條件下實施。第1乾燥較佳為於較低溫度下花費時間進行。若於較低溫度下花費時間進行第1乾燥，則易於降低上述式中之Ymh 及Ymv 之值，易於降低(Ymh +Ymv )/(Xmh +Xmv )1/2 之值，易於提高光學積層體之光學均質性。
尤其於工業上製造本發明之光學積層體之情形時，與實驗室級別之製造環境相比較，實際之製造環境對提高光學均質性不利之情形較多，其結果，存在難以提高光學積層體之光學均質性之情形。如上所述較佳為於較低溫度下花費時間進行第1乾燥，而於實驗室級別中進行第1乾燥時，可於密閉之乾燥器內進行乾燥，故而比較不容易產生因外部因素所導致之光學積層體之表面粗糙。相對於此，於工業上製造光學積層體之情形時，例如於第一乾燥中必須加熱大範圍之面積，故而亦存在於加熱時使用送風裝置之情形。其結果，光學膜之表面狀態容易變得粗糙，難以提高膜之光學均質性。
於藉由加熱進行乾燥之情形時，尤其若亦考慮於工業上製造光學積層體時之如上述之外部因素，則第1乾燥時之加熱溫度較佳為60～150℃，更佳為60～130℃，進而較佳為70～120℃。第1乾燥之時間較佳為5～60分鐘，更佳為10～40分鐘。第1乾燥可於1階段或多階段之條件下實施，尤其若亦考慮於工業上製造光學積層體時之如上述之外部因素，則較佳為於3階段以上之加熱溫度條件下實施。於多階段之條件下進行乾燥之情形時，較佳為可於各個階段，以相同或不同之溫度條件及/或乾燥時間實施乾燥，例如可於3～10階段，較佳為3～8階段之條件下進行乾燥。若於多階段之條件下實施第1乾燥，則易於提高光學積層體之光學均質性。於3階段以上之多階段條件下進行第1乾燥之本發明之較佳一實施形態中，較佳為第1乾燥之溫度分佈包含升溫及降溫。即，步驟(a)中之乾燥條件更佳為溫度分佈包含升溫及降溫之3階段以上之加熱溫度條件。作為此種溫度分佈，若列舉4階段之情形為例，則第1乾燥之溫度依序為70～90℃(第1溫度)、90～120℃(第2溫度)、80～120℃(第3溫度)及80～100℃(第4溫度)。於該例中，第1乾燥之溫度自第1溫度升溫至第2溫度，繼而自第2溫度降溫至第3溫度，進而自第3溫度降溫至第4溫度。此處第1乾燥之時間於各階段，例如為5～15分鐘。較佳為以乾燥塗膜之溶劑殘存量相對於乾燥塗膜之質量較佳為5～15質量%，更佳為6～12質量%之方式實施第1乾燥。若溶劑殘存量為上述範圍，則易於降低光學膜或光學積層體之上述式中之Ymh 及Ymv 之值，易於降低(Ymh +Ymv )/(Xmh +Xmv )1/2 之值。又，於後續步驟(b)中，易於提高自支持體剝離塗膜時之剝離性。其結果，易於提高光學積層體之光學均質性。溶劑之殘存量係藉由提高各步驟之乾燥溫度及延長乾燥時間而降低。故而，可以成為所期望之範圍之溶劑殘存量之方式調整乾燥溫度或乾燥時間，提高光學積層體之光學均質性。
其次，於步驟(b)中，自支持體將乾燥之塗膜剝離。剝離方法並無特別限定，可於使支持體固定之狀態下移動塗膜而進行剝離，亦可於使塗膜固定之狀態下移動支持體而進行剝離，亦可藉由移動塗膜及支持體之兩者而進行剝離。
其次，於步驟(c)中，藉由對步驟(b)中剝離之塗膜加熱，可獲得光學膜。以下，將步驟(c)中之加熱步驟亦稱為「第2乾燥」或「後烘烤」，以下，將步驟(b)中剝離之塗膜亦稱為「剝離塗膜」。於步驟(c)中，較佳為於使剝離塗膜於面內方向伸展之狀態下實施後烘烤。第2乾燥時之加熱溫度較佳為150～300℃，更佳為180～250℃，進而較佳為180～230℃。第2乾燥之加熱時間較佳為10～60分鐘，更佳為30～50分鐘。若於使乾燥塗膜於面內方向均勻伸長之狀態下實施後烘烤處理，則易於降低光學膜或光學積層體之上述式中之Ymh 及Ymv 之值，易於降低(Ymh +Ymv )/(Xmh +Xmv )1/2 之值。
於步驟(3)中加熱塗膜時，較佳為對塗膜施加張力，於使塗膜於面內方向伸展之狀態下進行加熱。藉由一面施加張力一面加熱，易於抑制因乾燥所導致之塗膜之收縮所產生之膜之光學均質性之下降，其結果，易於降低光學膜或光學積層體之上述式中之Ymh 及Ymv 之值，易於降低(Ymh +Ymv )/(Xmh +Xmv )1/2 之值，易於提高光學均質性。
於本發明之一實施形態中，於以輥對輥方式製造光學膜之情形時，可於使剝離塗膜於搬送方向伸長之狀態下乾燥。又，於以單片式製造光學膜之情形時，可於在面內方向均勻伸長之狀態下乾燥。作為輥對輥方式之搬送速度，就易於提高光學積層體之光學均質性之觀點而言，較佳為0.1～10 m/分鐘，更佳為0.5～8 m/分鐘，進而較佳為0.5～5 m/分鐘。
例如於藉由輥對輥方式製造光學膜之情形時，可藉由一面搬送具有特定寬度之長條帶狀之塗膜一面加熱而獲得光學膜。此處，於一面對塗膜施加張力一面進行加熱之情形時，其方法不受任何限定，例如將搬送之長條帶狀之膜之兩端部分別固持，一面搬送固持之膜，一面將固持之膜之寬度設為特定距離，例如一面於乾燥機內搬送一面進行熱處理。此時，較佳為藉由如下方式進行步驟(3)：使熱處理後之膜之寬度(其中，固持部不包含於寬度中)相對於熱處理前之膜之寬度(其中，固持部不包含於寬度中)之比成為1.1以下，並且解除自乾燥機離開之樹脂膜之固持。
熱處理後之膜之寬度(其中，固持部不包含於寬度中)相對於熱處理前之膜之寬度(其中，固持部不包含於寬度中)之比(以下，有時稱為延伸倍率)較佳為0.70～1.10，更佳為0.80～1.05，進而較佳為0.85～1.03。
膜之固持例如係藉由使用複數個夾具而進行。 該複數個夾具可根據搬送裝置之大小，固定於特定長度之環鏈，該鏈係以與膜相同之速度移動，於該鏈之適當之位置設置有夾具，於進入乾燥機之前將透明樹脂膜固持，於離開乾燥機之時點解除固持。
設置於膜之一端之複數個夾具係以其鄰接之夾具間之空間例如成為1～50 mm，較佳為3～25 mm，更佳為5～10 mm之方式設置。
又，可以如下方式設置：於與膜搬送軸正交之直線與膜之一端之任意之夾具之固持部中央對齊時，該直線和膜之另一端之交點與離該交點最近之夾具之固持部中央之距離較佳為3 mm以下，更佳為2 mm以下，進而較佳為1 mm以下。藉由使該距離為上述範圍，易於提高膜之尤其左右之均質性。
若熱處理後之膜之寬度相對於熱處理前之膜之寬度之比為上述範圍，則存在膜外觀變得良好之傾向。
熱處理後之膜中之溶劑量以膜之質量為基準，較佳為0.001～3質量%，更佳為0.001～2質量%，進而較佳為0.001～1.5質量%，尤佳為0.001～1.3質量%。若熱處理後之膜中之溶劑量為上述範圍，則存在光學膜之外觀變得良好之傾向。 若熱處理結束，膜自乾燥機離開，則膜之固持即被解除，較佳為立即將膜端部撕去。藉由將膜端部撕去，將膜端部中之容易於固持部與未經固持之部分之間產生之破裂自膜去除，藉此，可預先防止因其後膜被搬送並且其溫度下降所導致之膜之破裂之擴大。
若膜離開乾燥機，則膜驟冷並收縮，有時產生破裂。故而，較佳為具有自乾燥機出口至膜之固持被解除之位置為止進行一定比例之膜之鬆弛之步驟。作為該比例，自乾燥機離開之膜之寬度(其中，經固持之寬度除外)(W)與自乾燥機出口至將膜解除為止固持部被鬆弛之距離(F)之比較佳為1.7≦F/W×100≦6.9，更佳為1.8≦F/W×100≦6.8，進而較佳為1.9≦F/W×100≦6.7，進而更佳為2.0≦F/W×100≦6.7。 將相對於膜之搬送方向，一端側之鬆弛距離設為Fa，另一端側之鬆弛距離設為Fb，將該等合計之鬆弛距離設為F。 自乾燥機出口至膜之固持被解除為止之距離較佳為200～2,000 mm，更佳為300～1,500 mm，進而較佳為300～1,300 mm，進而更佳為300～1,000 mm。若該距離為上述範圍，則存在膜中不易產生破裂，又不易產生鬆垂等外觀不良之傾向。
再者，於本發明之製造方法中，就易於製造具有上述特徵之光學積層體之觀點而言，藉由於步驟(b)中自支持體剝離塗膜後，於步驟(c)中對剝離之塗膜加熱而製造膜。然而，對本發明之光學積層體而言，只要光學膜或光學積層體具有與上述Ymh 等相關之特徵，則可為藉由任一種製造方法而製造之膜。例如，可為於自支持體剝離塗膜前對塗膜進行後烘烤，將後烘烤後之膜自支持體剝離而製造者。
其次，於步驟(d)中，於膜之至少單面積層功能層，從而獲得本發明之光學積層體。作為於膜之至少單面積層功能層之方法，可列舉：於膜之至少單面塗佈功能層形成用組合物，視需要使之乾燥及/或硬化等而積層之方法；於膜之至少單面貼合膜狀之功能層而積層之方法。就易於提高光學積層體之光學均質性之觀點而言，較佳為塗佈功能層形成用組合物而積層功能層。
本發明之製造方法可於上述步驟(c)後或(d)後，進而包含下述評價膜或光學積層體之步驟(e)。步驟(e)係如下步驟：於將使用所得膜或光學積層體並藉由投影法而獲得之投影圖像進行傅立葉變換所得之膜倒空間像中，將相互正交之方向h及方向v之譜線輪廓分別設為譜線輪廓h及譜線輪廓v，於將上述投影法中不使用上述膜或上述光學積層體而獲得之背景圖像進行傅立葉變換所得之背景倒空間像中，將相互正交之方向h'及方向v'之譜線輪廓分別設為譜線輪廓h'及譜線輪廓v'，將自譜線輪廓h減去譜線輪廓h'所得之譜線輪廓(h－h')之最大強度設為Ymh ，將顯示最大強度Ymh 之頻率設為Xmh ，將自譜線輪廓v減去譜線輪廓v'所得之譜線輪廓(v－v')之最大強度設為Ymv ，將顯示最大強度Ymv 之頻率設為Xmv 時，基於Ymh 及Ymv 之值，以及自Ymh 、Ymv 、Xmh 及Xmv 算出之(Ymh +Ymv )/(Xmh +Xmv )1/2 之值，評價膜或光學積層體。
於步驟(e)中，可基於Ymh 及Ymv 之值以及(Ymh +Ymv )/(Xmh +Xmv )1/2 之值，評價膜或光學積層體之光學均質性。例如，根據所求之光學均質性而設定特定值，藉由將該值與關於膜或光學積層體所得之結果進行比較而判斷膜之優劣，對膜進行區分，藉此可製造Ymh 及Ymv 之值以及(Ymh +Ymv )/(Xmh +Xmv )1/2 之值為特定值以下之具有優異之光學均質性之光學膜或光學積層體。又，亦可一面評價上述值，一面調整乾燥條件等，從而製造具有上述特徵之本案發明之光學積層體。
於評價膜之步驟(e)中，就可有效率地製造光學均質性優異之光學積層體之觀點而言，較佳為基於藉由上述本發明之評價方法而測定之最大強度Ymh 及Ymv ，評價光學均質性，判斷光學膜或光學積層體之品質之優劣。光學膜或光學積層體之品質之優劣之判斷基準可根據最終獲得之光學積層體之用途或對光學積層體要求之光學均質性而適宜設定，並無特別限定。於以可獲得較佳用作光學膜等之具有優異均質性之光學積層體為目的，進行光學膜或光學積層體之品質之優劣判斷之情形時，較佳為以本發明之光學積層體中所含之光學膜或本發明之光學積層體是否具有上述記載之特性為基準，進行優劣之判斷。
根據上述評價步驟，較之先前之評價方法，可以更高之精度評價光學均質性。具體而言，根據該評價步驟，可評價先前之評價方法中無法以充分之精度評價之因TD方向及MD方向之兩方向之不均或寬度之寬窄不同之不均等而產生之光學性質之差異，可不依據不均之種類而高精度地評價光學均質性。又，亦可藉由該評價步驟，而定量膜或光學積層體之均質性。再者，於本說明書中，於評價步驟中將成為測定對象之光學膜或光學積層體亦稱為「測定膜」。步驟(e)之評價步驟具體而言至少包含下述步驟(1)～(5)： (1)藉由對測定膜照射來自光源之光並將透過測定膜之光投影至投影面之投影法而獲得投影圖像的步驟， (2)於步驟(1)之投影法中不使用測定膜並將來自光源之光投影至投影面，從而獲得背景圖像的步驟， (3)將步驟(1)中獲得之投影圖像及步驟(2)中獲得之背景圖像分別藉由灰度化而數值化，將數值化之圖像資料進行傅立葉變換而獲得倒空間像(膜倒空間像及背景倒空間像)的步驟， (4)分別自投影圖像之倒空間像中正交之兩個方向之各譜線輪廓減去背景圖像之倒空間像中正交之上述兩個方向之各譜線輪廓，獲得經空白修正之譜線輪廓的步驟，及 (5)測定步驟(4)中獲得之經空白修正之譜線輪廓之最大強度(Ymh 及Ymv )的步驟。
於步驟(1)中，對測定膜照射來自光源之光，將透過測定膜之光投影至投影面從而獲得投影圖像。於步驟(1)中，例如如圖1所示，可配置測定膜、投影面等。具體而言，配置光源1、測定膜2及投影面3，藉由相機6拍攝投影至投影面3之投影圖像4，獲得投影圖像。自光源1輸出之光5透過測定膜2，透過之光作為投影圖像4而投影至投影面3。光5透過測定膜2時，若測定膜2為均質，則光5均質地透過測定膜2併到達投影面3，但若測定膜2非均質，存在面狀不均、厚度不均、配向不均等之情形時，光5透過測定膜2時產生反射及/或折射等，較之自光源輸出之狀態產生變形之狀態之光到達投影面3。利用下述方法評價如此獲得之投影圖像4，藉此可以高精度對測定膜之光學均質性進行評價或定量化。就易於獲得清晰之投影圖像之觀點而言，較佳為於暗室內，僅使來自光源之光透過測定膜並進行拍攝。光源之種類並無特別限定，例如可使用LED(light-emitting diode，發光二極體)光源或鹵素燈等。較佳為接近點光源之光源，發光部較佳為1 cm直徑以下。若通過濾光器或透鏡等，則存在投影像容易變得不清晰之傾向，故而較佳為不通過濾光器或透鏡之光。作為投影面，只要可視認測定膜之投影圖像，則並無特別限定，例如可使用壓克力板、氯乙烯板、聚乙烯板、電影用之屏幕等。投影至投影面之圖像之拍攝方法並無特別限定，例如如圖1所示，可將投影面3與測定膜2與光源1配置於一直線上，於對投影至投影面3之投影圖像4自斜方拍攝之位置固定相機6而進行拍攝。拍攝模式可適宜設定，例如可使用如實施例中記載之設定。如此而獲得投影圖像。
於步驟(2)中，於步驟(1)之投影法中不使用測定膜，將來自光源之光投影至投影面而獲得投影圖像。具體而言，例如於圖1中，於僅卸除測定膜2之狀態下進行拍攝，獲得背景圖像。
於步驟(3)中，將步驟(1)中獲得之投影圖像及步驟(2)中獲得之背景圖像分別藉由灰度化而數值化，將數值化之圖像資料進行傅立葉變換而獲得倒空間像。灰度化可使用圖像解析軟體(例如美國國立衛生研究所製造之「Image-J」)，例如藉由8-bit之灰度化而進行。藉由灰度化，可將投影圖像及背景圖像數值化。其次，將數值化之圖像資料進行傅立葉變換而獲得倒空間像(膜倒空間像及背景倒空間像)。藉由將數值化之圖像資料進行傅立葉變換，可獲得圖像之濃淡之週期與振幅。作為傅立葉變換之方法，例如可列舉圖像解析軟體(Image-J)之傅立葉變換功能之使用等。
於步驟(4)中，分別自投影圖像之倒空間像中正交之兩個方向之各譜線輪廓減去背景圖像之倒空間像中正交之上述兩個方向之各譜線輪廓，獲得經空白修正之譜線輪廓。
於步驟(5)中，測定步驟(4)中獲得之經空白修正之譜線輪廓之最大強度Ymax (分別為Ymh 及Ymv )。Ymh 及Ymv 之測定方法如上述中關於測定膜所記載，例如於對通過倒空間像之中心之水平方向(h1方向)及垂直方向(v1方向)之各方向製作譜線輪廓之情形時，例如顯示為如圖3所示之X軸表示頻率，Y軸表示強度之曲線圖。並且，將水平方向(h1方向)之譜線輪廓之最大強度Ymax 設為Ymh1 ，將自顯示最大強度Ymh1 之頻率減去經空白修正之譜線輪廓之總頻率之中央值Xcen 所得之值Xmax 設為Xmh1 。又，將垂直方向(v1方向)之譜線輪廓之最大強度Ymax 設為Ymv1 ，將自顯示最大強度Ymv1 之頻率減去經空白修正之譜線輪廓之總頻率之中央值Xcen 所得之值Xmax 設為Xmv1 。再者，該兩個方向只要相互正交，則並無特別限定，可為不通過中心之兩個方向，亦可不為水平方向及垂直方向。
藉由測定上述Ymh 及Ymv ，可於測定膜之二維方向上評價均質性。成為使測定膜之光學均質性下降之一因之面狀不均中存在例如條紋狀不均等一維評價中無法充分檢測出之種類之不均。根據本發明之評價方法，可於二維方向上評價光學均質性，故而可不論測定膜之不均之種類均以高精度進行評價。又，亦可藉由測定上述Ymh 及Ymv 並獲得值，而定量測定膜之均質性。
進而，除上述最大強度Ymh 及Ymv 外，亦使用自顯示該等最大強度之頻率減去經空白修正之譜線輪廓之總頻率之中央值Xcen 所得之值Xmh 及Xmv 進行評價，藉此亦可檢測出成為影響測定膜之光學均質性之一因之面狀不均產生之週期。
本發明之光學積層體可為捲取於捲芯之膜輥。構成捲芯之材料並無特別限定，例如可為聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、聚氯乙烯樹脂、聚酯樹脂、環氧樹脂、酚系樹脂、三聚氰胺樹脂、矽樹脂、聚胺基甲酸酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、ABS(acrylonitrile-butadiene-styrene，丙烯腈-丁二烯-苯乙烯)樹脂等合成樹脂；鋁等金屬；纖維強化塑膠(FRP(fiber reinforced plastice)：使玻璃纖維等纖維含有於塑膠中從而提高強度之複合材料)等。捲芯之形狀亦無特別限定，較佳為圓筒狀或圓柱狀之形狀。於捲芯為圓筒狀或圓柱狀之情形時，作為其外直徑，就強度及操作性之觀點而言，較佳為1～12吋，更佳為3～10吋，進而較佳為3～6吋。又，作為捲芯之縱長，就操作性之觀點而言，為捲取之透明樹脂膜之寬度方向之長度之較佳為1.0～2.0倍，更佳為1.0～1.8倍，進而較佳為1.0～1.5倍。
於本發明之光學積層體為膜輥之形態之情形時，於光學積層體之製造步驟中，具有光學膜及功能層以及任意之保護膜之光學積層體可具有以滾筒狀捲繞於捲芯之形態。光學膜可不自支持體剝離，從而使支持體被一同捲繞。本發明之光學積層體可為膜輥之形態之光學積層體，亦可為裁剪膜輥形態之光學積層體所得之膜。
作為本發明之光學積層體，就易於提高光學均質性之觀點而言，寬度方向之長度較佳為20 cm以上，更佳為30 cm以上，進而較佳為40 cm以上，進而更佳為50 cm以上，尤佳為60 cm以上。寬度方向之長度之上限並無特別限定，例如可為200 cm以下左右。又，作為本發明之光學積層體，就易於提高光學均質性之觀點而言，長度方向之長度較佳為1 m以上，更佳為10 m以上，進而較佳為100 m以上，進而更佳為200 m以上，進而更佳為300 m以上，尤佳為400 m以上。長度方向之長度之上限並無特別限定，例如可為5000 m以下左右。藉由於具有上述大小之光學膜積層至少1個功能層，可製造具有上述大小之光學積層體。作為具有上述大小之光學積層體，就易於提高光學均質性之觀點而言，較佳為藉由輥對輥方式而製造者，即，較佳為膜輥之形態。可根據所需之可撓性裝置之尺寸，自所得膜輥切出光學積層體而使用。
於光學積層體或光學膜之大小例如如上所般較大之情形時，可切出具有特定大小(例如200 mm×300 mm)之膜而作為測定膜，評價對該測定膜求得之Ymh 等之值。對複數張進行測定，使用所得值之平均值進行評價。該平均值之較佳範圍與關於Ymh 等之上述範圍相同。
＜保護膜＞ 可於本發明之光學積層體積層保護膜。保護膜可積層於光學積層體之單面或雙面。於光學積層體於一面具有功能層，於另一面不具有功能層之情形時，保護膜可積層於光學積層體之功能層側之表面，亦可積層於光學膜側之表面，亦可積層於雙面。於光學積層體於雙面具有功能層之情形時，保護膜可積層於單個功能層側之表面，亦可積層於兩個功能層側之表面。保護膜係用以暫時保護光學膜或功能層之表面之膜，只要為可保護光學膜或功能層之表面之可剝離之膜，則並無特別限定。作為保護膜，例如可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂膜；聚乙烯、聚丙烯膜等聚烯烴系樹脂膜、丙烯酸系樹脂膜等，較佳為選自由聚烯烴系樹脂膜、聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂膜及丙烯酸系樹脂膜所組成之群。於本發明之光學積層體積層兩個保護膜之情形時，各保護膜可相同或不同。
保護膜之厚度並無特別限定，通常為10～120 μm，較佳為15～110 μm，更佳為20～100 μm。於本發明之光學積層體積層兩個保護膜之情形時，各保護膜之厚度可相同，亦可不同。
＜可撓性顯示裝置＞ 本發明亦提供一種具備本發明之光學積層體之可撓性顯示裝置。本發明之光學積層體較佳為於可撓性顯示裝置中用作前面板，該前面板有時稱為視窗膜。該可撓性顯示裝置包含可撓性顯示裝置用積層體及有機EL顯示面板，相對於有機EL顯示面板於視認側配置有可撓性顯示裝置用積層體，以可彎折之方式構成。可撓性顯示裝置用積層體可進而含有偏光板(較佳為圓偏光板)、觸控感測器等，該等之積層順序為任意順序，較佳為自視認側起以視窗膜、偏光板、觸控感測器之順序或視窗膜、觸控感測器、偏光板之順序積層。若於較之觸控感測器之視認側存在偏光板，則不易視認觸控感測器之圖案，顯示圖像之視認性變得良好，故而較佳。各個構件可使用接著劑、黏著劑等而積層。又，可撓性顯示裝置可具備於上述視窗膜、偏光板、觸控感測器之任一層之至少一個面形成之遮光圖案。
＜圓偏光板＞ 本發明之可撓性顯示裝置如上所述具備偏光板，其中較佳為具備圓偏光板。圓偏光板係具有藉由於直線偏光板上積層λ/4相位差板而僅使右旋或左旋圓偏振光成分透過之功能的功能層。例如係為了以下目的而使用：將外界光轉換為右旋圓偏振光，將被有機EL面板反射而成為左旋圓偏振光之外界光遮斷，僅使有機EL之發光成分透過，藉此抑制反射光之影響從而易於觀看圖像。為了達成圓偏振光功能，直線偏光板之吸收軸與λ/4相位差板之遲相軸於理論上必須為45度，實用上為45±10度。直線偏光板與λ/4相位差板並非必須鄰接積層，吸收軸與遲相軸之關係只要滿足上述範圍即可。較佳為於所有波長中達成完全之圓偏振光，但於實用上並非必須如此，故而本發明之圓偏光板亦包含橢圓偏光板。如下情形亦較佳：於直線偏光板之視認側進而積層λ/4相位差膜，使出射光成為圓偏振光，藉此提高佩戴偏光太陽眼鏡之狀態下之視認性。
直線偏光板係具有使於透射軸方向振動之光通過，但將與其垂直之振動成分之偏光遮斷之功能的功能層。上述直線偏光板可為直線偏光元件單獨之構成或具備直線偏光元件及貼附於其至少一個面之保護膜之構成。上述直線偏光板之厚度可為200 μm以下，較佳為0.5～100 μm。若直線偏光板之厚度為上述範圍，則存在直線偏光板之柔軟性不易下降之傾向。
上述直線偏光元件可為藉由將聚乙烯醇(以下，有時簡稱為PVA)系膜進行染色、延伸而製造之膜型偏光元件。於藉由延伸而配向之PVA系膜中吸附碘等二色性色素，或於二色性色素吸附於PVA中之狀態下進行延伸，藉此使二色性色素配向，發揮偏光性能。於上述膜型偏光元件之製造中，可另外具有膨潤、藉由硼酸之交聯、藉由水溶液之洗淨、乾燥等步驟。延伸或染色步驟可以PVA系膜單獨進行，亦可於與如聚對苯二甲酸乙二酯之其他膜積層之狀態下進行。所使用之PVA系膜之厚度較佳為10～100 μm，延伸倍率較佳為2～10倍。 進而作為上述偏光元件之其他一例，可列舉：塗佈液晶偏光組合物而形成之液晶塗佈型偏光元件。上述液晶偏光組合物可含有液晶性化合物及二色性色素化合物。上述液晶性化合物只要具有顯示液晶狀態之性質即可，尤其若具有層列相等高次之配向狀態，則可發揮較高之偏光性能，故而較佳。又，液晶性化合物較佳為具有聚合性官能基。 上述二色性色素化合物係與上述液晶化合物一同配向並顯示二色性之色素，可具有聚合性官能基，又，二色性色素自身可具有液晶性。 液晶偏光組合物中所含之化合物之任一者具有聚合性官能基。上述液晶偏光組合物可進而含有起始劑、溶劑、分散劑、調平劑、穩定劑、界面活性劑、交聯劑、矽烷偶合劑等。 上述液晶偏光層係藉由如下方式製造：於配向膜上塗佈液晶偏光組合物而形成液晶偏光層。液晶偏光層較之膜型偏光元件，可使厚度形成為較薄，其厚度較佳為0.5～10 μm，更佳為1～5 μm。
上述配向膜例如可藉由如下方式製造：於基材上塗佈配向膜形成組合物，藉由摩擦、偏光照射等而賦予配向性。上述配向膜形成組合物含有配向劑，且可進而含有溶劑、交聯劑、起始劑、分散劑、調平劑、矽烷偶合劑等。作為上述配向劑，例如可列舉：聚乙烯醇類、聚丙烯酸酯類、聚醯胺酸類、聚醯亞胺類。於使用藉由偏光照射而賦予配向性之配向劑之情形時，較佳為使用含有肉桂酸酯基之配向劑。用作上述配向劑之高分子之重量平均分子量例如為10,000～1,000,000左右。上述配向膜之厚度較佳為5～10,000 nm，就充分表現配向限制力之方面而言，更佳為10～500 nm。 上述液晶偏光層可自基材剝離並轉印而積層，亦可直接積層上述基材。上述基材擔任作為保護膜或相位差板、視窗膜之透明基材之職責之情形時亦較佳。
作為上述保護膜，只要為透明之高分子膜即可，可使用與上述視窗膜之透明基材中所使用之材料或添加劑相同者。又，可為塗佈環氧樹脂等陽離子硬化組合物或丙烯酸酯等自由基硬化組合物並硬化而獲得之塗佈型之保護膜。該保護膜視需要可含有塑化劑、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、如顏料或染料之著色劑、螢光增白劑、分散劑、熱穩定劑、光穩定劑、抗靜電劑、抗氧化劑、潤滑劑、溶劑等。該保護膜之厚度較佳為200 μm以下，更佳為1～100 μm。若保護膜之厚度為上述範圍，則存在該膜之柔軟性不易下降之傾向。
上述λ/4相位差板係對與入射光之行進方向正交之方向(膜之面內方向)提供λ/4相位差之膜。上述λ/4相位差板可為藉由將纖維素系膜、烯烴系膜、聚碳酸酯系膜等高分子膜延伸而製造之延伸型相位差板。上述λ/4位相差板視需要可含有相位差調整劑、塑化劑、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、如顏料或染料之著色劑、螢光增白劑、分散劑、熱穩定劑、光穩定劑、抗靜電劑、抗氧化劑、潤滑劑、溶劑等。 上述延伸型相位差板之厚度較佳為200 μm以下，更佳為1～100 μm。若延伸型位相差板之厚度為上述範圍，則存在該延伸型位相差板之柔軟性不易下降之傾向。 進而作為上述λ/4相位差板之其他一例，可列舉：塗佈液晶組合物而形成之液晶塗佈型相位差板。 上述液晶組合物含有顯示向列型、膽固醇狀、層列型等液晶狀態之液晶性化合物。上述液晶組合物具有聚合性官能基。 上述液晶組合物可進而含有起始劑、溶劑、分散劑、調平劑、穩定劑、界面活性劑、交聯劑、矽烷偶合劑等。 上述液晶塗佈型相位差板可與上述液晶偏光層同樣地藉由如下方式製造：於底層上塗佈液晶組合物並硬化而形成液晶相位差層。液晶塗佈型相位差板較之延伸型相位差板，可使厚度形成為較薄。上述液晶偏光層之厚度較佳為0.5～10 μm，更佳為1～5 μm。 上述液晶塗佈型相位差板可自基材剝離並轉印而積層，亦可直接積層上述基材。上述基材擔任作為保護膜或相位差板、視窗膜之透明基材之職責之情形時亦較佳。
通常，波長越短越顯示較大之雙折射，波長越長越顯示較小之雙折射之材料較多。於該情形時，無法於整個可見光區域達成λ/4相位差，故而以對視感度較高之560 nm附近以成為λ/4之方式使面內相位差成為較佳為100～180 nm，更佳為130～150 nm之方式設計。使用有具有與通常相反之雙折射率波長分散特性之材料之逆分散λ/4相位差板於可使視認性變得優良之方面而言較佳。作為此種材料，例如延伸型相位差板可使用日本專利特開2007-232873號公報等中記載者，液晶塗佈型相位差板可使用日本專利特開2010-30979號公報等中記載者。 又，作為其他方法，亦已知藉由組合λ/2相位差板而獲得寬頻帶λ/4相位差板之技術(例如，日本專利特開平10-90521號公報等)。λ/2相位差板亦係藉由與λ/4相位差板相同之材料方法而製造。延伸型相位差板與液晶塗佈型相位差板之組合為任意，藉由均使用液晶塗佈型相位差板，可使厚度變得較薄。 已知為提高斜方向之視認性而於上述圓偏光板積層正C板之方法(例如，日本專利特開2014-224837號公報等)。正C板可為液晶塗佈型相位差板，亦可為延伸型相位差板。該相位差板之厚度方向之相位差較佳為-200～-20 nm，更佳為-140～-40 nm。
＜觸控感測器＞ 本發明之可撓性顯示裝置如上所述較佳為具備觸控感測器。觸控感測器係用作輸入機構。作為觸控感測器，可列舉電阻膜方式、表面聲波方式、紅外線方式、電磁感應方式、靜電電容方式等各種樣式，較佳可列舉靜電電容方式。 靜電電容方式觸控感測器係劃分為活性區域及位於上述活性區域之外廓部之非活性區域。活性區域係顯示面板中顯示畫面之區域(顯示部)所對應之區域，係感知使用者之觸摸之區域，非活性區域係顯示裝置中未顯示畫面之區域(非顯示部)所對應之區域。觸控感測器可包含：具有可撓性之特性之基板；上述基板之活性區域中形成之感知圖案；形成於上述基板之非活性區域且用以經由上述感知圖案與焊墊部而與外部之驅動電路連接之各感測線。作為具有可撓性之特性之基板，可使用與上述視窗膜之透明基板相同之材料。
上述感知圖案可具備形成於第1方向之第1圖案及形成於第2方向之第2圖案。第1圖案與第2圖案配置於相互不同之方向。第1圖案及第2圖案形成於同一層，為感知觸摸地點，各個圖案必須電性連接。第1圖案係複數個單元圖案經由接頭而相互連接之形態，而第2圖案係成為複數個單元圖案相互分離為島嶼形態之構造，故而為將第2圖案電性連接，需要另外之橋接電極。用於第2圖案之連接之電極可應用眾所周知之透明電極。作為該透明電極之素材，例如可列舉：銦錫氧化物(ITO)、銦鋅氧化物(IZO)、氧化鋅(ZnO)、銦鋅錫氧化物(IZTO)、銦鎵鋅氧化物(IGZO)、鎘錫氧化物(CTO)、PEDOT(poly(3,4-ethylenedioxythiophene)，聚(3,4-伸乙二氧基噻吩))、奈米碳管(CNT)、石墨烯、金屬線等，較佳可列舉ITO。該等可單獨或混合兩種以上使用。金屬線中所使用之金屬並無特別限定，例如可列舉：銀、金、鋁、銅、鐵、鎳、鈦、硒、鉻等，該等可單獨或混合兩種以上使用。 橋接電極可於感知圖案上部經由絕緣層形成於上述絕緣層上部，可於基板上形成橋接電極，於其上形成絕緣層及感知圖案。上述橋接電極可藉由與感知圖案相同之素材而形成，亦可藉由鉬、銀、鋁、銅、鈀、金、鉑、鋅、錫、鈦或該等中之兩種以上之合金而形成。 第1圖案與第2圖案必須電性絕緣，故而於感知圖案與橋接電極之間形成絕緣層。該絕緣層可僅形成於第1圖案之接頭與橋接電極之間，或亦可形成為覆蓋感知圖案整體之層。於覆蓋感知圖案整體之層之情形時，橋接電極可經由形成於絕緣層之接觸孔而連接第2圖案。
上述觸控感測器可進而於基板與電極之間含有光學調節層，作為用以適宜補償形成感知圖案之圖案區域與未形成感知圖案之非圖案區域間之透過率之差，具體而言因該等區域中之折射率之差而誘發之透光率之差之機構。該光學調節層可含有無機絕緣物質或有機絕緣物質。光學調節層可將含有光硬化性有機黏合劑及溶劑之光硬化組合物塗佈於基板上而形成。上述光硬化組合物可進而含有無機粒子。藉由上述無機粒子，可提高光學調節層之折射率。 上述光硬化性有機黏合劑可於不損害本發明之效果之範圍內例如含有丙烯酸酯系單體、苯乙烯系單體、羧酸系單體等各單體之共聚物。上述光硬化性有機黏合劑例如可為含有含環氧基之重複單元、丙烯酸酯重複單元、羧酸重複單元等相互不同之各重複單元之共聚物。 作為上述無機粒子，例如可列舉：氧化鋯粒子、氧化鈦粒子、氧化鋁粒子等。 上述光硬化組合物亦可進而含有光聚合起始劑、聚合性淡苔、硬化助劑等各添加劑。
＜接著層＞ 形成上述可撓性圖像顯示裝置用積層體之各層(視窗膜、圓偏光板、觸控感測器)以及構成各層之膜構件(直線偏光板、λ/4相位差板等)可藉由接著劑而接合。作為該接著劑，可使用水系接著劑、有機溶劑系接著劑、無溶劑系接著劑、固體接著劑、溶劑揮散型接著劑、濕氣硬化型接著劑、加熱硬化型接著劑、厭氧硬化型接著劑、活性能量線硬化型接著劑、硬化劑混合型接著劑、熱熔融型接著劑、感壓型接著劑(黏著劑)、再濕型接著劑等通常所使用之接著劑等，較佳可使用水系溶劑揮散型接著劑、活性能量線硬化型接著劑、黏著劑。接著劑層之厚度可根據所要求之接著力等而適宜調節，較佳為0.01～500 μm，更佳為0.1～300 μm。上述可撓性圖像顯示裝置用積層體中存在複數個接著層，各自之厚度及種類可相同，亦可不同。
作為上述水系溶劑揮散型接著劑，可將聚乙烯醇系聚合物、澱粉等水溶性聚合物、乙烯-乙酸乙烯酯系乳液、苯乙烯-丁二烯系乳液等水分散狀態之聚合物用作主劑聚合物。除上述主劑聚合物與水外，亦可調配交聯劑、矽烷系化合物、離子性化合物、交聯觸媒、抗氧化劑、染料、顏料、無機填料、有機溶劑等。於藉由上述水系溶劑揮散型接著劑而接著之情形時，將上述水系溶劑揮散型接著劑注入被接著層間並貼合被接著層後，使之乾燥，藉此可賦予接著性。使用上述水系溶劑揮散型接著劑之情形時，該接著層之厚度較佳為0.01～10μm，更佳可為0.1～1 μm。於複數層中使用上述水系溶劑揮散型接著劑之情形時，各個層之厚度或種類可相同，亦可不同。
上述活性能量線硬化型接著劑可藉由含有照射活性能量線而形成接著劑層之反應性材料之活性能量線硬化組合物之硬化而形成。上述活性能量線硬化組合物可含有與硬塗組合物中所含者相同之自由基聚合性化合物及陽離子聚合性化合物之至少一種聚合物。上述自由基聚合性化合物可使用與硬塗組合物中之自由基聚合性化合物相同之化合物。 上述陽離子聚合性化合物可使用與硬塗組合物中之陽離子聚合性化合物相同之化合物。 作為活性能量線硬化組合物中所使用之陽離子聚合性化合物，尤佳為環氧化合物。為降低作為接著劑組合物之黏度，含有單官能之化合物作為反應性稀釋劑之情形時亦較佳。
活性能量線組合物為降低黏度可含有單官能之化合物。作為該單官能之化合物，可列舉：於1分子中具有1個(甲基)丙烯醯基之丙烯酸酯系單體或於1分子中具有1個環氧基或氧環丁基之化合物，例如(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等。 活性能量線組合物可進而含有聚合起始劑。作為該聚合起始劑，可列舉：自由基聚合起始劑、陽離子聚合起始劑、自由基及陽離子聚合起始劑等，該等可適宜選擇使用。該等聚合起始劑係藉由活性能量線照射及加熱之至少一種而分解，產生自由基或陽離子，從而進行自由基聚合與陽離子聚合者。可使用硬塗組合物之記載中，可藉由活性能量線照射而使自由基聚合或陽離子聚合中之至少任一者開始之起始劑。 上述活性能量線硬化組合物可進而含有離子捕捉劑、抗氧化劑、鏈轉移劑、密接賦予劑、熱塑性樹脂、填充劑、流動黏度調整劑、塑化劑、消泡劑溶劑、添加劑、溶劑。於藉由上述活性能量線硬化型接著劑而接著兩個被接著層之情形時，將上述活性能量線硬化組合物塗佈於被接著層之任一者或兩者後貼合，對任一個被接著層或兩個被接著層照射活性能量線並使之硬化，藉此可接著。使用上述活性能量線硬化型接著劑之情形時，該接著層之厚度較佳為0.01～20 μm，更佳可為0.1～10 μm。於複數個接著層形成中使用上述活性能量線硬化型接著劑之情形時，各個層之厚度或種類可相同，亦可不同。
作為上述黏著劑，根據主劑聚合物，分類為丙烯酸系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、橡膠系黏著劑、聚矽氧系黏著劑等，可使用任一者。黏著劑中除主劑聚合物外，亦可調配交聯劑、矽烷系化合物、離子性化合物、交聯觸媒、抗氧化劑、黏著賦予劑、塑化劑、染料、顏料、無機填料等。使構成上述黏著劑之各成分溶解、分散於溶劑，獲得黏著劑組合物，將該黏著劑組合物塗佈於基材上後加以乾燥，藉此形成黏著劑層接著層。黏著層可直接形成，亦可將另外形成於基材者進行轉印。為覆蓋接著前之黏著面，使用離型膜之情形時亦較佳。使用上述活性能量線硬化型接著劑之情形時，該接著層之厚度較佳為0.1～500 μm，更佳為1～300 μm。於複數層中使用上述黏著劑之情形時，各個層之厚度或種類可相同，亦可不同。
＜遮光圖案＞ 上述遮光圖案可用作上述可撓性圖像顯示裝置之邊框或外殼之至少一部分。藉由遮光圖案而將配置於上述可撓性圖像顯示裝置之邊緣部之配線隱藏從而不易被視認，藉此圖像之視認性提高。上述遮光圖案可為單層或複數層之形態。遮光圖案之顏色並無特別限制，可為黑色、白色、金屬色等多種顏色。遮光圖案可藉由用以顯現顏色之顏料及丙烯酸系樹脂、酯系樹脂、環氧系樹脂、聚胺基甲酸酯、聚矽氧等高分子而形成。該等可單獨使用，或亦可以兩種以上之混合物使用。上述遮光圖案可藉由印刷、微影術、噴墨等各種方法而形成。遮光圖案之厚度較佳為1～100 μm，更佳為2～50 μm。又，對遮光圖案之厚度方向賦予傾斜等形狀之情形時亦較佳。 [實施例]
以下，藉由實施例進一步詳細說明本發明，但本發明不受以下實施例之限定。例中之「%」及「份」只要無特別記載，則表示質量%及質量份。首先說明物性值之測定方法。
＜重量平均分子量＞ 凝膠滲透層析(GPC)測定 (1)預處理方法 使試樣溶解於γ-丁內酯(GBL)而製為20質量%溶液後，藉由DMF溶離液稀釋至100倍，以0.45 μm薄膜過濾器進行過濾，將所得者作為測定溶液。 (2)測定條件 管柱：TSKgel SuperAWM-H×2+SuperAW2500×1(6.0 mm I.D.×150 mm×3根) 溶離液：DMF(添加10 mmol之溴化鋰) 流量：0.6 mL/分鐘 檢測器：RI檢測器 管柱溫度：40℃ 注入量：20 μL 分子量標準：標準聚苯乙烯
＜醯亞胺化率＞ 醯亞胺化率係藉由1 H-NMR測定如以下方式求得。 (1)預處理方法 使試樣溶解於氘代二甲基亞碸(DMSO-d6 )而製為2質量%溶液，將其作為測定溶液。 (2)測定條件 測定裝置：JEOL製造 400 MHz NMR裝置 JNM-ECZ400S/L1 標準物質：DMSO-d6 (2.5 ppm) 試樣溫度：室溫 累計次數：256次 緩和時間：5秒鐘 (3)醯亞胺化率解析方法 (3-1)聚醯亞胺樹脂A之醯亞胺化率 將關於含有聚醯亞胺樹脂A之測定溶液而獲得之1 H-NMR光譜中觀測之苯質子中，源自醯亞胺化前後無變化之結構之苯質子A之積分值設為IntA 。 又，將源自聚醯亞胺樹脂中殘存之醯胺酸結構之醯胺質子之積分值設為IntB 。自該等積分值基於下式求出聚醯亞胺樹脂A之醯亞胺化率。於下述式中，α係聚醯胺酸(醯亞胺化率0%)之情形時之相對於醯胺質子1個之苯質子A之個數比率。 醯亞胺化率(%)=100×(1－α×IntB /IntA ) (3-2)聚醯胺醯亞胺樹脂A之醯亞胺化率 將關於含有聚醯胺醯亞胺樹脂A之測定溶液而獲得之1 H-NMR光譜中觀測之苯質子中，源自醯亞胺化前後無變化之結構，且不受源自聚醯胺醯亞胺樹脂中殘存之醯胺酸結構之結構之影響之苯質子C之積分值設為IntC 。 又，將觀測之苯質子中源自醯亞胺化前後無變化之結構，且受源自聚醯胺醯亞胺樹脂A中殘存之醯胺酸結構之結構之影響苯質子D之積分值設為IntD 。自該等積分值基於下式求出β值。 β=IntD /IntC 其次，為獲得將β換算為醯亞胺化率之相關式，對醯亞胺化率不同之複數個聚醯胺醯亞胺樹脂，以與上述相同之方式求得β值，並且使用HSQC(heteronuclear single quantum coherence，異核單量子關係)光譜求得醯亞胺化率，自該等結果獲得以下相關式。 醯亞胺化率(%)=k×β+100 上述相關式中，k為常數。 繼而，將關於聚醯胺醯亞胺樹脂A而獲得之β代入上述相關式，獲得聚醯胺醯亞胺樹脂A之醯亞胺化率(%)。
＜平均一次粒徑＞ 使用YUASA IONICS(股)製造之比表面積測定裝置MONOSORB MS-16，測定使矽溶膠於300℃下乾燥而成之粉末之比表面積，使用測定之比表面積S(m2 /g)，藉由D(nm)=2720/S之式算出平均一次粒徑。
＜清漆之黏度＞ 依據JIS K 8803：2011，使用Brookfield公司製造之E型黏度計DV-II+Pro進行測定。測定溫度為25℃。
＜膜之厚度＞ 使用Mitutoyo(股)製造之ID-C112XBS，測定10點以上之膜之厚度，算出其平均值。
＜功能層之厚度＞ 使用Filmetrics公司製造之F20桌上膜厚系統，測定功能層之厚度。
＜膜之全光線透過率、霧度(Haze)＞ 使用Konica Minolta(股)製造之分光測色計CM-3700A測定上述光學特性值。
＜膜之黃度＞ 使用Konica Minolta(股)製造之分光測色計CM-3700A測定光學膜之黃度(Yellow Index：YI值)。具體而言，於無樣品之狀態下進行背景測定後，將光學膜設置於樣品保持器，進行對300～800 nm之光之透過率測定，求出三刺激值(X、Y、Z)，基於下述式算出YI值。 YI=100×(1.2769X－1.0592Z)/Y
依據JIS K 5600-5-4：1999，測定光學積層體之功能層表面之鉛筆硬度。測定時之負荷為750 g，測定速度為4.5 mm/秒。
＜表面電阻率之測定＞ 使用電阻率計(Mitsubishi Chemical Analytech(股)製造，Hiresta UP MCP-HT450型)，依據JIS K 6911測定光學積層體之表面電阻率(Ω/sq)。將樣品切割為50 mm×50 mm之大小，將所得樣品於23℃、50% RH下放置24小時。其後，測定光學積層體之功能層側之表面電阻率。再者，該裝置之測定上限為1.0E+14 Ω/sq，於具有其以上之表面電阻率之情形時，於裝置上記為OVER。
＜光學膜或光學積層體之光學均質性之評價方法＞ 1.投影圖像及背景圖像之拍攝 於暗室中，如圖2所示，配置光源1、測定膜2、投影面3及相機6，進行投影圖像4之拍攝。光源1與測定膜2之距離為250 cm，測定膜2與投影面3之距離為30 cm，測定膜2與投影面3平行配置，相機6設置於自光源1向屏幕之法線之正下方，相機6與投影面3(屏幕)之距離為30 cm，相機角度7(使相機自以對屏幕成為垂直之方式面向之狀態，向上側傾斜之角度)為25度。又，背景圖像之拍攝係除於圖2中卸除測定膜2以外，以與投影圖像之拍攝相同之方式進行。測定條件及拍攝條件之詳細內容如下所示。 光源：LED光源(林時計工業(股)製造「LA-HDF15T」) 測定膜：將以下實施例及比較例中製造之光學膜或光學積層體切出200 mm×300 mm，作為測定試樣。 投影面：白色之市售之電影觀賞用之屏幕(Theaterhouse(股)製造，「BTP600FHD-SH1000」) 相機：Nikon(股)製造「COOLPIX(註冊商標) P600」 相機之詳細設定：拍攝模式 手動拍攝 圖像尺寸 2 M 聚焦 手動聚焦(距離0.3 m) 快門速度 1/2秒 光圈值(F值) 4.2 閃光燈 OFF
2.傅立葉變換 於本實施例中將相機設置於上述相機角度之位置，故而於投影圖像中產生傾斜。故而，首先為修正投影圖像之傾斜，決定傾斜修正條件。再者，於投影像無變形之情形時不需要修正。 (傾斜修正條件之決定) 於透明之膜上寫入10 cm×10 cm之正方形，於上述1之條件下拍攝基準投影圖像。藉由Adobe Systems公司製造之Photoshop(註冊商標)CS4讀入所得基準投影圖像，使用透鏡修正之變形修正功能，以相機與屏幕相當於90度之方式修正，以TIFF形式保存。將此時之條件作為傾斜修正條件。自傾斜修正後之基準投影圖像，計算縱、橫各自之每個像素之長度(縱：816 pixel=10 cm，橫：906 pixel=10 cm)。 (傅立葉變換) 對藉由上述方式對測定膜所獲得之投影圖像，於藉由上述方式決定之傾斜修正條件下進行修正，將修正後之圖像以TIFF形式保存。藉由使用圖像解析軟體「Image-J，ver.1.48」將所得傾斜修正後之投影圖像變換為8-bit之灰度而數值化。再者，自傾斜修正後之基準投影圖像獲得之縱、橫各自之每個像素之長度用作Set Scale。於灰度圖像中選擇10.2 cm×11.2 cm(縱×橫)之尺寸之矩形之範圍，使用Image-J將該選擇之範圍之圖像進行傅立葉變換，獲得倒空間像。對傅立葉變換後之倒空間像，於Set Scale輸入正確之值(水平方向：1 pixel=11.3 cm-1 ，垂直方向：1 pixel=12.55 cm-1 )。 3.經空白修正之譜線輪廓之最大強度(Ymh1 及Ymv1 )之測定 於藉由上述方式獲得之倒空間像中，對通過倒空間像之中心之水平方向(h1方向)及垂直方向(v1方向)之各方向製作譜線輪廓。線寬為10像素。將所得譜線輪廓以text形式保存。其次，以Microsoft公司之Excel(ver.14.0)讀入該text形式之資料，如下述方式將譜線輪廓標準化，對水平方向(h1方向)及垂直方向(v1方向)之各方向，獲得Y''之譜線輪廓，將各譜線輪廓中最大強度Ymax 設為Ymh1 及Ymv1 ，將自顯示最大強度Ymh1 及Ymv1 之頻率減去經空白修正之譜線輪廓之總頻率之中央值Xcen 所得之值Xmax 分別設為Xmh1 及Xmv1 。使用實施例1中獲得之水平方向(h1方向)之譜線輪廓為例，說明標準化方法。 (標準化方法) 將Y值成為最大之頻率作為X之中心(Xcen )，將此時之Y值設為Ycen 。其次，以Xcen 為中心，對兩端分別為50像素之合計100像素之區域，求出Y之平均值，將該平均值作為基準線(Ybase )。並且，以Ycen =100、Ybase =0之方式，依據下式修正資料Y，獲得Y'。 [數9] Y'=(Y－Ybase )×100/(Ycen －Ybase ) 對圖4所示之實施例1中獲得之譜線輪廓(資料Y)，進行上述修正，藉此獲得如圖5所示之譜線輪廓A(資料Y')。 其次，對1中獲得之背景圖像亦進行同樣之操作，獲得背景圖像之譜線輪廓。具體而言，獲得如圖6所示之譜線輪廓B。 繼而，藉由Excel自上述分佈A減去背景之分佈B，進行空白修正。於實施例1中，自圖5所示之譜線輪廓A之資料Y'減去如圖6所示之譜線輪廓B之資料，獲得如圖7所示之經空白修正之譜線輪廓A-B。 將如此獲得之譜線輪廓平滑化，獲得Y''之分佈，將其用於譜線輪廓之最大強度(Ymh1 及Ymv1 )之測定。曲線圖之平滑化係依據下式，算出作為21個資料之平均值之yi 而進行。 [數10]
Figure 02_image023
(視認性之官能評價) 於調光為50～100勒克司之室內環境下，自仰角80度之角度，目視檢查所製作之膜，自映入之背景之變形評價視認性。其結果示於表2。再者，視認性之評價基準如下所述。 ◎：背景中完全未確認變形。 〇：背景中幾乎未確認變形。 △：背景中確認有非常細小之變形，但為無問題之級別。 ×：背景中確認明確之變形。
＜殘存溶劑量＞ 使用TG-DTA(SII(股)製造之EXSTAR6000 TG/DTA6300)，將實施例1及2以及比較例及2中獲得之透明樹脂膜自30℃升溫至120℃，於120℃下保持5分鐘，其後以5℃/分鐘之升溫速度升溫至400℃。算出相對於120℃下之膜之質量之自120℃至250℃之膜之質量減少之比作為溶劑之含量(稱為殘存溶劑量)。
於以下製造例及實施例中使用之簡稱如下所述。 TFMB：2,2'-雙(三氟甲基)-4,4'-二胺基聯苯 6FDA：4,4'-(六氟亞異丙基)二鄰苯二甲酸二酐 TPC：對苯二甲醯氯 OBBC：4,4'-氧基雙(苯甲醯氯) DMAc：N,N-二甲基乙醯胺 GBL：γ-丁內酯 PET：聚對苯二甲酸乙二酯
＜製造例＞ 製造例1：聚醯胺醯亞胺樹脂1之製造 於氮氣環境下，準備於可分離式燒瓶中具備攪拌葉之反應容器、及油浴。於設置於油浴之反應容器中投入TFMB 45份、DMAc 768.55份。一面於室溫下攪拌反應容器內之內容物一面使TFMB溶解於DMAc。其次，於反應容器內進而投入6FDA 19.01份，將反應容器內之內容物於室溫下攪拌3小時。其後，於反應容器中投入OBBC 4.21份、繼而TPC 17.30份，將反應容器內之內容物於室溫下攪拌1小時。繼而，於反應容器內進而投入4-甲基吡啶4.63份與乙酸酐13.04份，將反應容器內之內容物於室溫下攪拌30分鐘。攪拌後，使用油浴將容器內溫度升溫至70℃，維持於70℃，進而攪拌3小時，獲得反應液。 將所得反應液冷卻至室溫，以絲狀投入大量之甲醇中，使沈澱物析出。將析出之沈澱物取出，以甲醇浸漬6小時後，以甲醇洗淨。其次，於100℃下進行沈澱物之減壓乾燥，獲得聚醯胺醯亞胺樹脂1。所得聚醯胺醯亞胺樹脂1之重量平均分子量為400,000，醯亞胺化率為99.0%。
製造例2：聚醯亞胺樹脂1之製造 準備於可分離式燒瓶中安裝有矽膠管、攪拌裝置及溫度計之反應器、及油浴。於該燒瓶內投入6FDA 75.52份及TFMB 54.44份。一面將其以400 rpm攪拌一面添加DMAc 519.84份，持續攪拌直至燒瓶之內容物成為均勻之溶液。繼而，一面使用油浴以容器內溫度成為20～30℃之範圍之方式進行調整一面進而持續攪拌20小時，使之反應而生成聚醯胺酸。30分鐘後，將攪拌速度變更為100 rpm。攪拌20小時後，將反應系統溫度返回至室溫，添加DMAc 649.8份，以聚合物濃度成為10質量%之方式進行調整。進而，添加吡啶32.27份、乙酸酐41.65份，於室溫下攪拌10小時進行醯亞胺化。自反應容器取出聚醯亞胺清漆。將所得聚醯亞胺清漆滴加至甲醇中進行再沈澱，將所得粉體加熱乾燥而去除溶劑，獲得作為固形物成分之聚醯亞胺系樹脂1。對所得聚醯亞胺系樹脂1進行GPC測定，結果重量平均分子量為320,000。又，聚醯亞胺之醯亞胺化率為98.6%。
製造例3：矽溶膠1之製備 將藉由溶膠-凝膠法製作之平均一次粒徑(以BET法測定之平均一次粒徑)12 nm之非晶質矽溶膠作為原料，藉由溶劑置換，製備GBL置換矽溶膠。將所得溶膠以網眼10 μm之薄膜過濾器過濾，獲得GBL置換矽溶膠1。所得GBL置換矽溶膠1中，氧化矽粒子之含量為30～32質量%。
製造例4：清漆(1)之製備 將製造例1中獲得之聚醯胺醯亞胺樹脂1及製造例3中獲得之矽溶膠1，以GBL溶劑中之聚醯胺醯亞胺樹脂：氧化矽粒子之組成比成為70：30之方式混合。於所得混合液中，添加相對於聚醯胺醯亞胺樹脂與氧化矽粒子之總質量為2.0 phr之UV-A紫外線吸收劑「Sumisorb(註冊商標) 250」(分子量389，Sumika Chemtex(股)製造)及相對於聚醯胺醯亞胺樹脂與氧化矽粒子之總質量為35 ppm之上藍劑「Sumiplast(註冊商標) Violet B」(Sumika Chemtex(股)製造)，攪拌至均勻，獲得清漆(1)。清漆(1)之固形物成分為9.7%，25℃下之黏度為39,600 cps。
製造例5：清漆(2)之製備 使製造例2中獲得之聚醯亞胺樹脂1及相對於該聚醯亞胺樹脂為2.0 phr之紫外線吸收劑「Sumisorb 250」(分子量389，Sumika Chemtex(股)製造)於GBL：DMAc=1：9之混合溶劑中以16.5質量%之濃度溶解，獲得清漆(2)。清漆(2)之固形物成分為16.5%，25℃下之黏度為36,800 cps。
製造例6：光硬化性樹脂組合物1 將三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(新中村化學(股)製造，A-TMPT)28.4質量份、季戊四醇四丙烯酸酯(新中村化學(股)製造，A-TMMT)28.4質量份、作為光聚合起始劑之1-羥基環己基苯基酮(BASF(股)製造，Irgacure(註冊商標) 184)1.8質量份、雙(氟磺醯基)醯亞胺鋰(東京化成工業(股)製造，LiFSI)2.4質量份、調平劑(BYK-Chemie Japan(股)製造，BYK(註冊商標)-307)0.1質量份、以及丙二醇1-單甲醚(東京化成工業(股)製造)39質量份進行攪拌混合，獲得光硬化性樹脂組合物1。
製造例7：光硬化性樹脂組合物2 除不混合雙(氟磺醯基)醯亞胺鋰以外，攪拌混合與製造例6相同之化合物，獲得光硬化性樹脂組合物2。
實施例1 將清漆(1)塗佈於PET膜(東洋紡(股)「COSMOSHINE(註冊商標) A4100」，厚度188 μm，厚度分佈±2 μm)上，進行流涎成形，成形為清漆之塗膜。此時，線速度為0.8 m/分鐘。使清漆之塗膜在於80℃下加熱10分鐘後，於100℃下加熱10分鐘，繼而於90℃下加熱10分鐘，最後於80℃下加熱10分鐘之乾燥條件下乾燥，形成乾燥塗膜。其後，自PET膜剝離塗膜，獲得厚度58 μm、寬度700 mm、長度500 m之膜輥形態之原料膜1。原料膜1中之殘存溶劑量為9.7質量%。繼而，利用膜橫向延伸裝置(拉幅機)將原料膜3於200℃下25分鐘、延伸倍率0.98倍之條件下加熱，藉此獲得厚度50 μm之聚醯胺醯亞胺膜1。聚醯胺醯亞胺膜1中之殘存溶劑量為0.7質量%。 利用棒式塗佈機於所得聚醯胺醯亞胺膜1之單面以輥對輥方式，以乾燥後之厚度成為10 μm之方式塗佈光硬化性樹脂組合物1。其後，於80℃之烘箱中進行3分鐘乾燥，以高壓水銀燈500 mJ/cm2 之能量照射紫外線使之硬化，藉此獲得長度400 m之膜輥形態之光學積層體1。光學積層體1中之功能層之厚度為10 μm。
實施例2 除使用光硬化性樹脂組合物2代替光硬化性樹脂組合物1以外，以與實施例1相同之方法，獲得長度400 m之膜輥形態之光學積層體2。光學積層體2中之功能層之厚度為11 μm。
實施例3 除使用清漆(2)代替清漆(1)，將乾燥條件變更為於75℃下加熱7.5分鐘後，於120℃下加熱7.5分鐘，繼而於70℃下加熱7.5分鐘，最後於80℃下加熱7.5分鐘之條件以外，以與實施例1相同之方法，獲得厚度89 μm、寬度700 mm、長度600 m之膜輥形態之原料膜2。原料膜2中之殘存溶劑量為9.6質量%。繼而，除使用原料膜2代替原料膜1以外，以與實施例1相同之方法，獲得厚度77 μm之聚醯亞胺膜1。聚醯亞胺膜1中之殘存溶劑量為1.1質量%。 除使用聚醯亞胺膜1代替聚醯胺醯亞胺膜1以外，以與實施例2相同之方法，獲得長度500 m之膜輥形態之光學積層體3。光學積層體3中之功能層之厚度為9 μm。
比較例1 使用清漆(1)，除將乾燥條件變更為於70℃下加熱10分鐘後，於80℃下加熱10分鐘，繼而於100℃下加熱10分鐘，最後於100℃下加熱10分鐘之條件以外，以與實施例1相同之方法，獲得厚度58 μm、寬度700 mm、長度400 m之膜輥形態之原料膜3。原料膜3中之殘存溶劑量為10.1質量%。繼而，除使用原料膜3代替原料膜1以外，以與實施例1相同之方法，獲得厚度50 μm之聚醯胺醯亞胺膜2。聚醯胺醯亞胺膜2中之殘存溶劑量為0.8質量%。 除使用聚醯胺醯亞胺膜2代替聚醯胺醯亞胺膜1以外，以與實施例2相同之方法，獲得長度290 m之膜輥形態之光學積層體4。光學積層體4中之功能層之厚度為10 μm。
比較例2 除使用清漆(2)，將乾燥條件變更為於100℃下加熱7.5分鐘後，於120℃下加熱7.5分鐘，繼而於60℃下加熱7.5分鐘，最後於60℃下加熱7.5分鐘之條件以外，以與實施例1相同之方法，獲得厚度89 μm、寬度700 mm、長度300 m之膜輥形態之原料膜4。原料膜4中之殘存溶劑量為9.9質量%。繼而，除使用原料膜4代替原料膜1以外，以與實施例1相同之方法，獲得厚度77 μm之聚醯亞胺膜2。聚醯亞胺膜2中之殘存溶劑量為1.0質量%。 除使用聚醯亞胺膜2代替聚醯胺醯亞胺膜1以外，以與實施例2相同之方法，獲得長度190 m之膜輥形態之光學積層體5。光學積層體5中之功能層之厚度為11 μm。
對實施例及比較例中獲得之光學積層體，依據上述測定方法測定各種物性值，結果示於表1及表2。再者，實施例及比較例之膜之霧度均為0.2。又，關於表2中之用以評價光學均質性之各值，測定試樣記為膜之值係對積層功能層前之聚醯胺醯亞胺膜或聚醯亞胺膜測定之值，測定試樣記為積層體之值係對積層功能層後之光學積層體測定之值。視認性之評價係對光學積層體評價之結果。
[表1]
   清漆 光硬化性樹脂組合物 全光線透過率(%) YI 鉛筆硬度 表面電阻率(Q/sq)
實施例 1 (1) 1 90.8 2.0 2H(功能層側) 6B(光學F側) 3.90E+10 (功能層側) ＜1.0E+14 (光學F側)
2 (1) 2 90.4 2.0 3H(功能層側) -
3 (2) 2 91.0 1.9 3H(功能層側) -
比較例 1 (1) 2 91.0 1.4 3H(功能層側) -
2 (2) 2 90.9 1.4 3H(功能層側) -
[表2]
   光學均質性 視認性
測定試樣 Ymh Xmh Ymv Xmv A*1 B*2 A/B
實施例 1 積層體 21.0 41.7 22.6 43.0 43.6 9.2 4.7 ◎
膜 20.0 41.2 4.4 21.0 24.5 7.9 3.1
2 膜 20.0 41.2 4.4 21.0 24.5 7.9 3.1 ◎
   3 膜 16.2 1.8 10.7 1.5 26.9 1.8 14.9 〇
比較例 1 膜 91.0 1.4 72.5 10.8 17.8 4.3 90.3 △
2 膜 90.9 1.4 48.9 2.1 17.3 1.6 66.2 ×
*1 ：A=Ymh +Ymv *2 ：B=(Xmh +Xmv )1/2
作為實施例1～3之光學積層體或光學積層體中所含之光學膜，Ymh 及Ymv 為40以下，A/B未達30，視認性之評價均為良好之◎或〇。相對於此，作為比較例1及2之光學積層體中所含之光學膜，Ymh 超過40，A/B為30以上，視認性之評價結果為×。再者，關於比較例1及2之光學積層體，使用光學積層體作為測定膜之情形時之Ymh 等之結果未記載，但認為與將光學膜作為測定膜所獲得之結果同樣地，Ymh 等及A/B不在關於本案發明之光學積層體所特定之範圍內。又，除可對實施例1之光學積層體中之功能層賦予硬塗功能外，亦可賦予抗靜電功能。同樣地，實施例1～3之功能層係除硬塗功能外，亦可賦予抗靜電功能、防眩功能、低反射功能、抗反射功能及防污功能等進一步之功能之層。
1:光源 2:測定膜 3:投影面 4:投影圖像 5:光 6:相機 7:相機角度
圖1係表示獲得投影圖像之步驟中之配置例之概略圖。 圖2係用以說明實施例及比較例中之獲得投影圖像之步驟中之配置之概略圖。 圖3係用以說明譜線輪廓中之Ymax 、Xmax 及Xcen 之圖。 圖4係表示實施例1之自投影圖像獲得之標準化前之譜線輪廓之圖。 圖5係表示實施例1之自投影圖像獲得之標準化後之譜線輪廓之圖。 圖6係表示實施例1之自背景圖像獲得之標準化後之譜線輪廓之圖。 圖7係表示自實施例1之自投影圖像獲得之標準化後之譜線輪廓減去實施例1之自背景圖像獲得之標準化後之譜線輪廓所得之譜線輪廓之圖。 圖8係表示將自實施例1之自投影圖像獲得之標準化後之譜線輪廓減去實施例1之自背景圖像獲得之標準化後之譜線輪廓所得之譜線輪廓平滑化所得之譜線輪廓之圖。

Claims (12)

  1. 一種光學積層體，其係具有含有聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂之光學膜、及積層於該光學膜之至少單面之功能層者，並且 若於將使用上述光學膜並藉由投影法而獲得之投影圖像進行傅立葉變換所得之膜倒空間像中，將相互正交之方向h及方向v之譜線輪廓分別設為譜線輪廓h及譜線輪廓v，於將上述投影法中不使用上述膜而獲得之背景圖像進行傅立葉變換所得之背景倒空間像中，將相互正交之方向h'及方向v'之譜線輪廓分別設為譜線輪廓h'及譜線輪廓v'，將自譜線輪廓h減去譜線輪廓h'所得之譜線輪廓(h－h')之最大強度設為Ymh ，將顯示最大強度Ymh 之頻率設為Xmh ，將自譜線輪廓v減去譜線輪廓v'所得之譜線輪廓(v－v')之最大強度設為Ymv ，將顯示最大強度Ymv 之頻率設為Xmv ，則Ymh 及Ymv 均為40以下，Ymh 、Ymv 、Xmh 及Xmv 滿足下述關係： [數11] (Ymh +Ymv )/(Xmh +Xmv )1/2 ＜30。
  2. 一種光學積層體，其係具有含有聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂之光學膜、及積層於該光學膜之至少單面之功能層者，並且 若於將使用上述光學積層體並藉由投影法而獲得之投影圖像進行傅立葉變換所得之膜倒空間像中，將相互正交之方向h及方向v之譜線輪廓分別設為譜線輪廓h及譜線輪廓v，於將上述投影法中不使用上述光學積層體而獲得之背景圖像進行傅立葉變換所得之背景倒空間像中，將相互正交之方向h'及方向v'之譜線輪廓分別設為譜線輪廓h'及譜線輪廓v'，將自譜線輪廓h減去譜線輪廓h'所得之譜線輪廓(h－h')之最大強度設為Ymh ，將顯示最大強度Ymh 之頻率設為Xmh ，將自譜線輪廓v減去譜線輪廓v'所得之譜線輪廓(v－v')之最大強度設為Ymv ，將顯示最大強度Ymv 之頻率設為Xmv ，則Ymh 及Ymv 均為40以下，Ymh 、Ymv 、Xmh 及Xmv 滿足下述關係： [數12] (Ymh +Ymv )/(Xmh +Xmv )1/2 ＜30。
  3. 如請求項1或2之光學積層體，其中功能層之至少一個為具備選自由硬塗功能、抗靜電功能、防眩功能、低反射功能、抗反射功能及防污功能所組成之群中之至少一種功能之層。
  4. 如請求項1或2之光學積層體，其中光學積層體之至少一面之鉛筆硬度為H以上。
  5. 如請求項1或2之光學積層體，其中光學積層體之至少一面之表面電阻率為1.0×1013 Ω/sq以下。
  6. 如請求項1或2之光學積層體，其中光學積層體之黃度為3.0以下。
  7. 如請求項1或2之光學積層體，其中寬度方向之長度為20 cm以上，長度方向之長度為1 m以上。
  8. 如請求項1或2之光學積層體，其係可撓性顯示裝置之前面板用之膜。
  9. 一種可撓性顯示裝置，其具備如請求項1至8中任一項之光學積層體。
  10. 如請求項9之可撓性顯示裝置，其進而具備觸控感測器。
  11. 如請求項9或10之可撓性顯示裝置，其進而具備偏光板。
  12. 一種如請求項1至8中任一項之光學積層體之製造方法，其至少包含： (a)將至少含有聚醯亞胺系樹脂及/或聚醯胺系樹脂、以及溶劑之清漆塗佈於支持體上並乾燥，從而形成塗膜之步驟， (b)自支持體剝離塗膜之步驟， (c)將剝離之塗膜加熱，從而獲得膜之步驟，及 (d)於膜之至少單面積層功能層，從而獲得光學積層體之步驟。
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