TW201923337A - 缺陷檢查裝置、缺陷檢查方法及膜的製造方法 - Google Patents

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Abstract

本發明提供將不同的檢查光學系統整合而成的缺陷檢查裝置、缺陷檢查方法及膜的製造方法。本發明的一實施形態的缺陷檢查裝置(3A)為膜(100)的缺陷檢查裝置，其具備：光照射部(10A)，其輸出向膜的檢查區域(A)照射的檢查光(L)；以及攝像部(20A)，其拍攝檢查區域；其中，光照射部與攝像部中的至少一方係具有使預定的偏光方向的光選擇性地通過的濾光部(12)，濾光部係構成為能夠調整預定的偏光方向。

Description

缺陷檢查裝置、缺陷檢查方法及膜的製造方法
本發明係有關缺陷檢查裝置、缺陷檢查方法及膜的製造方法。
已知有對偏光膜及相位差膜等光學膜、電池的隔膜所使用的膜等的缺陷進行檢測的缺陷檢查裝置。在這種缺陷檢查裝置中，由輸送部對膜進行輸送，由光照射部向膜的檢查區域照射光，由攝像部拍攝膜的檢查區域，基於拍攝到的圖像來進行缺陷檢查。作為缺陷檢查裝置，例如已知有使用了基於正透射法的檢查光學系統的裝置(參照專利文獻1)以及使用了基於正交尼科爾(crossed Nicol)透射法的檢查光學系統的裝置(參照專利文獻2)。
[先前技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：日本特開2012-167975號公報
專利文獻2：日本特開2007-212442號公報
在缺陷檢查中，為了更加可靠地檢測缺陷，期望利用複數個不同的檢查光學系統(例如正透射檢查光學系統和正交尼科爾檢查光學系統)來檢測缺陷。然而，若分別準備這些檢查光學系統，則引入成本和管理成本變高，因此，期望複數個檢查光學系統的整合。
因此，本發明的目的在於，提供一種將不同的檢查光學系統整合而成的缺陷檢查裝置、缺陷檢查方法及膜的製造方法。
本發明的一態樣的缺陷檢查裝置為膜的缺陷檢查裝置該缺陷檢查裝置係具備：光照射部，其輸出向上述膜的檢查區域照射的檢查光；以及攝像部，其拍攝上述檢查區域；其中，上述光照射部與上述攝像部中的至少一方具有使預定的偏光方向的光選擇性地通過的濾光部，上述濾光部係構成為能夠調整上述預定的偏光方向。
本發明的另一態樣的缺陷檢查方法為膜的缺陷檢查方法，該缺陷檢查方法係包括：檢查光照射步驟，利用光照射部向上述膜的檢查區域照射檢查光；以及攝像步驟，利用攝像部對上述檢查區域進行拍攝；其中，上述光照射部與上述攝像部中的至少一方係具有使預定的偏光方向的光選擇性地通過的濾光部，上述濾光部係構成為能夠調整上述預定的偏光方向。
在上述缺陷檢查裝置及上述缺陷檢查方法中，在利用光照射部向膜的檢查區域照射了檢查光的狀態 下，利用攝像部對檢查區域進行拍攝。因此，能夠利用攝像部來獲取被來自光照射部的檢查光照明了的檢查區域的檢查圖像。上述光照射部與上述攝像部中的至少一方係具有使預定的偏光方向的光選擇性地通過的濾光部，上述濾光部係構成為能夠調整上述預定的偏光方向。因此，若利用濾光部來調整上述預定的偏光方向，則能夠獲得不同的檢查狀態的檢查圖像。亦即，在一個缺陷檢查裝置中能夠對不同的檢查光學系統進行整合，藉由對濾光部選擇性地通過的光的偏光方向進行調整，能夠實現上述不同的檢查光學系統各自的缺陷檢查。
也可以是，上述缺陷檢查裝置及上述缺陷檢查方法中的上述濾光部係具有液晶濾光器，該液晶濾光器係構成為在液晶單元的單面設置有直線偏光膜。在該情況下，根據向液晶濾光器施加的電壓的有無，能夠在短時間內(例如0.1msec至25msec)調整在液晶濾光器內通過的光的偏光方向。
也可以是，一實施形態的缺陷檢查裝置中的上述膜為具有直線偏光特性的光學膜，上述光照射部具有光源、以及配置在上述光源與上述膜之間的上述濾光部。在一實施形態的缺陷檢查方法中，也可以是，上述膜為具有直線偏光特性的光學膜，上述光照射部係使來自光源的光通過上述濾光部，藉此輸出上述預定的偏光方向的檢查光，在上述檢查光照射步驟中，利用上述濾光部來調整上述檢查光的上述預定的偏光方向。
在該情況下，檢查光的預定的偏光方向被調整，因此，關於具有直線偏光特性的光學膜的缺陷檢查，例如能夠在平行尼科爾狀態下進行，並且也能夠在正交尼科爾狀態或半交叉(half cross)尼科爾狀態下進行。在本說明書中，平行尼科爾狀態係指：兩個偏光方向(或者偏光方向及偏光軸)實質上平行、換言之兩個偏光方向(或者偏光方向及偏光軸)所成的角度為0°以上且1°以下的狀態，較佳為0°的狀態；正交尼科爾狀態係指：兩個偏光方向(或者偏光方向及偏光軸)所成的角度實質上正交、換言之為85°以上且105°以下的狀態，較佳為90°的狀態，半交叉尼科爾狀態係指：兩個偏光方向(或者偏光方向及偏光軸)所成的角度大於1°且小於85°的狀態。
在一實施形態的缺陷檢查裝置中，也可以是，上述膜為具有直線偏光特性的光學膜，上述光照射部具有：光源；偏光分離元件，其將來自上述光源的光分離為偏光方向相互正交的第一偏振光與第二偏振光；光路合成部，其配置在由上述偏光分離元件分離出的上述第二偏振光的光路上，將由上述偏光分離元件分離出的上述第一偏振光的光路合成到上述第二偏振光的光路中；光學系統，其將由上述偏光分離元件分離出的上述第一偏振光引導到上述光路合成部；以及上述濾光部，其配置在被上述光學系統引導的上述第一偏振光的光路上；其中，上述膜配置在上述第二偏振光的光路上，上述濾光部係切換：使上述第一偏振光選擇性地通過的狀態、和使上述第二偏振光選 擇性地通過的狀態。
在該構成中，光學膜具有使第一偏振光通過的直線偏光特性。在濾光部使第一偏振光選擇性地通過的情況下，利用偏光分離元件將來自光源的輸出光分離為第一偏振光與第二偏振光之後，分離出的第一偏振光與第二偏振光的光路被光路合成部合成，並朝向作為檢查對象的膜輸出。因此，在濾光部使第一偏振光通過的情況下，從光照射部輸出無偏光的檢查光。無偏光的檢查光包含第一偏振光，因此，能夠對具有直線偏光特性的光學膜進行平行尼科爾狀態下的缺陷檢查。在濾光部使第二偏振光選擇性地通過的情況下，當來自光源的輸出光被偏光分離元件分離為第一偏振光與第二偏振光時，分離出的第一偏振光被濾光部遮斷。因此，從光路合成部僅输出第二偏振光。因此，在濾光部使第二偏振光選擇性地通過的情況下，從光照射部輸出作為第二偏振光的檢查光。因此，能夠對具有直線偏光特性的光學膜進行正交尼科爾狀態下的缺陷檢查。
也可以是，上述光照射部具有偏光膜，該偏光膜在上述第二偏振光的光路上配置在上述偏光分離元件與上述光路合成部之間，且相對於上述膜以正交尼科爾狀態配置，並且使上述第二偏振光通過。
也可以是，一實施形態的缺陷檢查裝置中的上述膜為具有直線偏光特性的光學膜，上述攝像部具有相機、以及配置在上述相機與上述膜之間的上述濾光部。 在一實施形態的缺陷檢查方法中，也可以是，上述膜為具有直線偏光特性的光學膜，上述攝像部係經由上述濾光部並利用相機對上述膜的上述檢查區域進行拍攝，在上述攝像步驟中，對上述濾光部通過的光的上述預定的偏光方向進行調整。
在該情況下，藉由對濾光部通過的光的偏光方向進行切換，從而能夠將具有直線偏光特性的光學膜與濾光部的配置關係例如在平行尼科爾狀態與正交尼科爾狀態或半交叉尼科爾狀態之間進行切換。因此，例如，關於具有直線偏光特性的光學膜的缺陷檢查，例如能夠在平行尼科爾狀態下進行，並且也能夠在正交尼科爾狀態或半交叉尼科爾狀態下進行。
也可以是，一實施形態的缺陷檢查裝置更具有配置在上述膜與上述攝像部之間的第一直線偏光膜，上述膜為不具有直線偏光特性的膜，上述光照射部具有光源、以及配置在上述光源與上述膜之間的上述濾光部。在一實施形態的缺陷檢查方法中，也可以是，上述膜為不具有偏光特性的膜，上述光照射部使來自光源的光通過上述濾光部，藉此輸出上述預定的偏光方向的檢查光，在上述檢查光照射步驟中，由上述濾光部切換上述檢查光的上述預定的偏光方向，在上述攝像步驟中，上述攝像部係經由配置在上述膜與上述攝像部之間的第一直線偏光膜來拍攝上述檢查區域。
在該情況下，藉由對通過濾光部的光的偏 光方向進行切換，從而能夠利用第一直線偏光膜與濾光部形成平行尼科爾狀態，並且能夠形成正交尼科爾狀態或半交叉尼科爾狀態。因此，即便在膜不具有直線偏光特性的情況下，也能夠實施例如平行尼科爾狀態下的缺陷檢查與正交尼科爾狀態或半交叉尼科爾狀態下的缺陷檢查。
也可以是，一實施形態的缺陷檢查裝置更具有配置在上述攝像部與上述膜之間的第一直線偏光膜，上述膜為不具有偏光特性的膜，上述光照射部具有：光源；偏光分離元件，其將來自上述光源的光分離為偏光方向相互正交的第一偏振光與第二偏振光；光路合成部，其配置在上述第二偏振光的光路上，將上述第一偏振光的光路合成到上述第二偏振光的光路中；光學系統，其將由上述偏光分離元件分離出的上述第一偏振光引導到上述光路合成部；第二直線偏光膜，其在上述第二偏振光的光路上配置在上述偏光分離元件與上述光路合成部之間，且相對於上述第一直線偏光膜以正交尼科爾狀態配置，並且使上述第二偏振光通過；以及上述濾光部，其配置在被上述光學系統引導的上述第一偏振光的光路上；上述膜配置在上述第二偏振光的光路上，上述濾光部係切換：使上述第一偏振光選擇性地通過的狀態、和使上述第二偏振光選擇性地通過的狀態。
在該情況下，也能夠切換通過濾光部的光的偏光方向，藉此利用第一直線偏光膜和濾光部形成平行尼科爾狀態，並且形成正交尼科爾狀態。因此，即便在膜 不具有直線偏光特性的情況下，也能夠實施例如平行尼科爾狀態下的缺陷檢查和正交尼科爾狀態下的缺陷檢查。
也可以是，一實施形態的缺陷檢查裝置更具有配置在上述光照射部與上述膜之間的第一直線偏光膜，上述膜為不具有偏光特性的膜，上述攝像部具有相機、以及配置在上述相機與上述膜之間的上述濾光部。在一實施形態的缺陷檢查方法中，也可以是，上述膜為不具有偏光特性的膜，上述光照射部使來自光源的光通過上述濾光部，藉此輸出上述預定的偏光方向的檢查光，上述攝像部係經由上述濾光部並利用相機來拍攝上述膜的上述檢查區域，在上述檢查光照射步驟中，隔著配置在上述光照射部與上述膜之間的第一直線偏光膜向上述光學膜照射上述檢查光，在上述攝像步驟中，對上述濾光部通過的光的上述預定的偏光方向進行調整。
在該情況下，能夠切換通過濾光部的光的偏光方向，藉此利用第一直線偏光膜和濾光部形成平行尼科爾狀態，並且形成正交尼科爾狀態或半交叉尼科爾狀態。因此，即便在膜為不具有直線偏光特性的情況下，也能夠實施例如平行尼科爾狀態下的缺陷檢查與正交尼科爾狀態或半交叉尼科爾狀態下的缺陷檢查。
也可以是，一實施形態的缺陷檢查裝置具有兩個上述光照射部，兩個上述光照射部中的一方亦即第一光照射部係配置在從上述膜觀察時與上述攝像部相反的一側，兩個上述光照射部中的另一方亦即第二光照射部係 配置在從上述膜觀察時與上述攝像部相同的一側。
在該情況下，第一光照射部與攝像部構成透射檢查光學系統，第二光照射部與攝像部構成反射檢查光學系統。因此，在上述構成中，透射檢查光學系統與反射檢查光學系統被整合。
本發明的另一態樣涉及膜的製造方法，係包括藉由上述本發明的另一態樣所記載的缺陷檢查方法來檢查上述膜的步驟。
如以上方式，本發明能夠提供將不同的檢查光學系統整合而成的缺陷檢查裝置、缺陷檢查方法及膜的製造方法。
1‧‧‧缺陷檢查系統
2‧‧‧輸送部
3A、3B、3C、3D、3E、3F、3G、3H、3I‧‧‧缺陷檢查裝置
4‧‧‧標記裝置
10A、10B、10C、10D‧‧‧光照射部
10A1‧‧‧第一光照射部
10A2‧‧‧第二光照射部
11‧‧‧光源(光照射部)
12、12A‧‧‧液晶濾光器
12a‧‧‧直線偏光膜
12b‧‧‧液晶單元
12c‧‧‧直線偏光膜
13‧‧‧偏光分離元件
14‧‧‧光路合成部
15A‧‧‧第一反射鏡(光學系統)
15B‧‧‧第二反射鏡(光學系統)
16‧‧‧直線偏光膜
17‧‧‧光源
20A、20B‧‧‧攝像部
21‧‧‧相機
20A‧‧‧攝像部
30‧‧‧控制裝置
40‧‧‧直線偏光膜(第一直線偏光膜)
100、100A‧‧‧光學膜(膜)
101‧‧‧膜主體
102‧‧‧保護膜
103‧‧‧保護膜
A‧‧‧檢查區域
L‧‧‧檢查光
M‧‧‧記號
R‧‧‧輸送輥(輸送部)
PA1、PA2、PA3、PA4、PA5‧‧‧偏光軸
第1圖係包含第一實施形態的缺陷檢查裝置在內的缺陷檢查系統的示意圖。
第2圖係第一實施形態的缺陷檢查裝置的示意圖，第2圖(a)顯示缺陷檢查裝置具有的液晶濾光器(濾光部)為截止狀態的情況，第2圖(b)顯示缺陷檢查裝置具有的液晶濾光器(濾光部)為導通狀態的情況。
第3圖係第二實施形態的缺陷檢查裝置的示意圖。
第4圖係第三實施形態的缺陷檢查裝置的示意圖。
第5圖係第四實施形態的缺陷檢查裝置的示意圖。
第6圖顯示驗證實驗的第一檢查中的檢查圖像，第6圖(a)係正反射檢查光學系統中的檢查圖像，第6圖(b)係正 交尼科爾反射檢查光學系統中的檢查圖像。
第7圖顯示驗證實驗的第二檢查中的檢查圖像，第7圖(a)係正反射檢查光學系統中的檢查圖像，第7圖(b)係正交尼科爾反射檢查光學系統中的檢查圖像。
第8圖係第五實施形態的缺陷檢查裝置的示意圖。
第9圖係第六實施形態的缺陷檢查裝置的示意圖。
第10圖係第七實施形態的缺陷檢查裝置的示意圖。
第11圖係第八實施形態的缺陷檢查裝置的示意圖。
第12圖係第九實施形態的缺陷檢查裝置的示意圖。
以下，參照圖式對本發明的實施形態進行說明。針對相同的元件標注相同的符號，並省略重複的說明。圖式的尺寸比率未必與說明的尺寸比率一致。
第一實施形態
第1圖係包含第一實施形態的缺陷檢查裝置在內的缺陷檢查系統的示意圖。缺陷檢查系統1具備輸送部2及缺陷檢查裝置3A，一邊利用輸送部2沿著帶狀的光學膜100的長邊方向對帶狀的光學膜100進行輸送，一邊利用配置在輸送路徑中的缺陷檢查裝置3A進行光學膜100的缺陷檢查。
輸送部2具有輸送輥R。輸送部2除了輸送輥R之外，還可以具備對要輸送的光學膜100賦予張力的張力賦予裝置。第1圖中顯示用以方便說明的XYZ正交坐標。X方向表示光學膜100的寬度方向，Y方向表示光學 膜100的輸送方向。Z方向表示與X方向及Y方向分別正交的方向。在其他圖式的說明中，也存在利用同樣的XYZ正交坐標進行說明的情況。
如第1圖所示，缺陷檢查系統1也可以具備標記裝置4。標記裝置4係利用從缺陷檢查裝置3A送來的缺陷資訊而在光學膜100上標注記號M的裝置。標記裝置4例如包括沿著光學膜100的寬度方向X延伸的臂部、及具有筆等的標記頭。藉由標記頭在臂部上沿寬度方向X移動而在光學膜100上標注記號M。標記裝置4可以構成為由缺陷檢查裝置3A進行控制，或者標記裝置4本身也可以具有計算機這樣的控制部。另外，標記裝置4也可以對從缺陷檢查裝置3A送來的缺陷資訊進行二維編碼化，並列印到光學膜100上。
由缺陷檢查裝置3A進行的缺陷檢查除了包括對在光學膜100的製造步驟(包括輸送步驟)時可能產生的缺陷進行檢測的處理之外，還可以包括生成表示檢查出的缺陷在光學膜100中的位置的缺陷圖的處理。該缺陷例如是在光學膜100的製造步驟中混入到光學膜100內的氣泡、異物及亮點、附著於光學膜100的異物、在光學膜100上產生的凹凸等。
利用第2圖來說明第一實施形態的缺陷檢查裝置3A。第2圖係第一實施形態的缺陷檢查裝置3A的示意圖，第2圖(a)顯示缺陷檢查裝置3A具有的液晶濾光器(濾光部)為截止狀態的情況，第2圖(b)顯示缺陷檢查裝 置3A具有的液晶濾光器(濾光部)為導通狀態的情況。
在第2圖中，作為由缺陷檢查裝置3A進行檢查的光學膜100，例示具有直線偏光特性的偏光膜。以下，如果沒有特別說明，則作為偏光膜的光學膜100係膜主體101、保護膜102以及保護膜103的積層體。
膜主體101具有直線偏光特性。在第一實施形態中，膜主體101的偏光軸PA1與光學膜100的輸送方向亦即Y方向平行。膜主體101的材料的例子為PVA(Polyvinyl Alcohol)。保護膜102、103貼合在膜主體101的兩面上。保護膜102、103的材料的例子為TAC(Triacetyl cellulose)。
光學膜100可以在保護膜102、103各自的與膜主體101相接的面的相反側的面上更具有防護膜、隔離膜等膜。防護膜、隔離膜等膜例如能夠借助黏合劑或膠黏劑貼合於保護膜102、103。也可以將保護膜102、103中的任一方置換成隔離膜等膜。隔離膜及防護膜的材料的例子為PET(Polyethylene Terephthalate)。防護膜及隔離膜在將光學膜100貼合於例如液晶面板或其他光學膜等的前後被從光學膜100剝離。
以下，將在光學膜100的輸送方向(膜主體101的偏光軸PA1方向)上偏光的光稱為第一偏振光，將在與第一偏振光正交的方向上偏光的光稱為第二偏振光。
缺陷檢查裝置3A具備：光照射部10A及攝像部20A。缺陷檢查裝置3A也可以具備對光照射部10A 及攝像部20A進行控制的控制裝置30。以下，如果沒有特別說明，則對具備控制裝置30的方式進行說明。在其他實施形態中也是同樣的。
光照射部10A配置在從光學膜100觀察時與攝像部20A相反的一側。光照射部10A將向作為檢查對象的光學膜100照射的檢查光L朝向光學膜100的檢查區域A(參照第1圖)輸出。光照射部10A具有光源11及液晶濾光器12，且使從光源11輸出的無偏光的光通過液晶濾光器12而作為具有預定的偏光狀態的檢查光L輸出。第2圖中，以雙箭頭顯示第一偏振光的偏光方向，以黑圓點顯示第二偏振光的偏光方向。
光源11只要能夠輸出無偏光且對光學膜100的組成以及性質不造成影響的光，則不受限定。光源11的例子包括金屬鹵化物燈、鹵素傳輸燈、螢光燈等。如第1圖所示，光源11能夠在光學膜100的寬度方向上延伸。或者也可以是，光照射部10A具備複數個光源11，且該複數個光源11沿光學膜100的寬度方向離散地配置。
在第一實施形態中，液晶濾光器12使來自光源11的輸出光所包含的偏振光中的預定的偏光方向的光選擇性地通過。液晶濾光器12在被施加了固定的電壓的狀態下為導通狀態，在未施加上述固定的電壓的狀態下為截止狀態。藉由切換液晶濾光器12的導通/截止狀態，藉此切換液晶濾光器12通過的光的偏光方向。液晶濾光器12與控制裝置30電性連接，由控制裝置30控制導通/截 止。在以下的說明中，如果沒有特別說明，則液晶濾光器12通過的光的預定的偏光方向的調整意味著在相互正交的第一偏振光與第二偏振光之間進行偏光方向的切換。然而，藉由控制向液晶濾光器12施加的電壓，從而能夠調整預定的偏光方向。
液晶濾光器12具有直線偏光膜12a及液晶單元12b。直線偏光膜12a具有直線偏光特性。液晶單元12b藉由在隔著隔膜配置的一對玻璃板之間填充液晶材料而構成。在上述一對玻璃板的內表面形成有取向方向相互正交的取向膜。
液晶濾光器12以直線偏光膜12a與光學膜100形成正交尼科爾的方式、亦即以從Z方向觀察時直線偏光膜12a的偏光軸PA2與膜主體101的偏光軸PA1正交的方式配置。因此，偏光軸PA2的方向是與紙面正交的方向。因此，在第2圖中以黑圓點顯示偏光軸PA2。在其他圖式中也是同樣的。
液晶濾光器12以直線偏光膜12a位於光源11側的方式配置在光源11與光學膜100之間。因此，當來自光源11的無偏光的輸出光向液晶濾光器12入射時，僅具有沿著直線偏光膜12a的偏光軸PA2的偏光方向的光亦即第二偏振光通過直線偏光膜12a，向液晶單元12b入射。
在液晶濾光器12為截止狀態的情況下，入射到液晶單元12b的第二偏振光在液晶單元12b內偏光方 向旋轉90°，如第2圖(a)所示，作為第一偏振光輸出。亦即，在液晶濾光器12為截止狀態時，看上去是第一偏振光選擇性地通過液晶濾光器12。另一方面，在液晶濾光器12為導通狀態的情況下，向液晶單元12b施加了電壓。在該情況下，如第2圖(b)所示，輸出第二偏振光。亦即，在液晶濾光器12為導通狀態時，第二偏振光選擇性地通過液晶濾光器12。
因此，光照射部10A通過對液晶濾光器12進行導通/截止控制，從而具有對作為第一偏振光的檢查光L與作為第二偏振光的檢查光L進行切換並向光學膜100照射的功能。
第2圖所示的液晶濾光器12與光學膜100的配置關係相當於在將光學膜100貼合於液晶濾光器12的液晶單元12b的情況下構成液晶面板的配置關係。
攝像部20A具有拍攝光學膜100的至少一個相機21。在第1圖中，例示攝像部20A具有沿著光學膜100的寬度方向配置的複數個相機21的形態。相機21為CCD相機的區域感測器相機。相機21也可以為線感測器相機。在相機21為線感測器相機的情況下，能夠藉由使相機21與光學膜100相對地移動來拍攝光學膜100的檢查區域A。攝像部20A(具體而言為相機21)與控制裝置30電性連接，對攝像時序進行控制，並且向控制裝置30輸入獲得的攝像資料。
控制裝置30對光照射部10A及攝像部20A 進行控制。在第一實施形態中，對控制裝置30控制液晶濾光器12及相機21的方式進行說明，但例如控制裝置30也可以控制光源11的光輸出時序。控制裝置30具有例如計算機(運算部)。控制裝置30也可以具有針對從攝像部20輸入的攝像資料而檢測缺陷部分並實施對缺陷部分進行增強顯示的圖像處理的功能、針對光學膜100的圖像而生成顯示缺陷位置的缺陷圖的功能等。在缺陷檢查系統1如第1圖所例示般具備標記裝置4的形態中，控制裝置30也可以如第1圖所示般也與標記裝置4電性連接，對標記裝置4進行控制，將基於檢測到的缺陷資訊的記號M向光學膜100賦予。
接著，針對利用缺陷檢查裝置3A來檢查光學膜100的方法進行說明。在實施缺陷檢查時，從光照射部10A向光學膜100的檢查區域A照射預定的偏光狀態(預定的偏光方向)的檢查光L(檢查光照射步驟)。在檢查光照射步驟中向光學膜100照射了檢查光L時，利用攝像部20A(更具體而言是相機21)對檢查區域A進行拍攝(攝像步驟)。
在檢查光照射步驟中，藉由對液晶濾光器12進行導通/截止控制，來切換檢查光L的預定的偏光狀態。具體而言，例如，首先將液晶濾光器12設置為截止狀態，向光學膜100照射作為第一偏振光的檢查光L。之後，將液晶濾光器12設置為導通狀態，向光學膜100照射作為第二偏振光的檢查光L。在將液晶濾光器12設置為導通狀態之後，也可以切換成截止狀態。
在攝像步驟中，與檢查光L的預定的偏光狀態的切換同步地，利用攝像部20A對檢查區域A進行拍攝。
在上述缺陷檢查方法中，在檢查光照射步驟中向光學膜100照射作為第一偏振光的檢查光L時，在檢查光L與光學膜100處於平行尼科爾狀態下，亦即，在檢查光L的偏光方向與光學膜100所具有的膜主體101的偏光軸PA1的方向實質上一致的狀態下，檢查光L向光學膜100入射。另一方面，在檢查光照射步驟中向光學膜100照射作為第二偏振光的檢查光L時，在檢查光L與光學膜100處於正交尼科爾狀態下，亦即，在檢查光L的偏光方向與偏光軸PA1實質上正交的狀態下，檢查光L向光學膜100入射。
因此，與液晶濾光器12應通過的光的預定的偏光方向的切換同步地，由攝像部20A對檢查區域A進行拍攝，藉此，在攝像步驟中獲得分別以相對於光學膜100為平行尼科爾狀態的檢查光L(平行尼科爾光)及正交尼科爾狀態的檢查光L(正交尼科爾光)照明了光學膜100的情況下的檢查圖像。
接著，對包含利用了第1圖及第2圖所示的缺陷檢查裝置3A的缺陷檢查方法在內的光學膜100的製造方法進行說明。在此，如第2圖所示，以製造保護膜102、膜主體101及保護膜103的積層體亦即光學膜100的情況為例進行說明。
在製造光學膜100時，一邊將帶狀的膜主體101、帶狀的保護膜102及帶狀的保護膜103分別沿長邊方向輸送，一邊在膜主體101的一方的單面上貼合保護膜102，在另一方的單面上貼合保護膜103(貼合步驟)。膜主體101與保護膜102及保護膜103之間的貼合例如能夠使用一對貼合輥來進行。在貼合步驟中，可以向膜主體101同時貼合保護膜102及保護膜103，也可以向膜主體101貼合保護膜102及保護膜103中的一方之後，再貼合另一方。
在上述貼合步驟之後，一邊將作為保護膜103、膜主體101及保護膜102的積層體的光學膜100向缺陷檢查裝置3A中的光照射部10A與攝像部20A之間輸送，一邊利用缺陷檢查裝置3A進行光學膜100的缺陷檢查(缺陷檢查步驟)。在缺陷檢查步驟中，通過上述說明的缺陷檢查方法進行光學膜100的缺陷檢查。在缺陷檢查系統1具備標記裝置4的形態中，也可以實施根據缺陷檢查步驟的結果而利用標記裝置4向光學膜100賦予記號M的步驟(標記步驟)。
在上述製造方法中，針對作為保護膜103、膜主體101及保護膜102的積層體的光學膜100，由缺陷檢查裝置3A實施了缺陷檢查。然而，也可以將貼合保護膜103及保護膜102之前的膜主體101作為光學膜，由缺陷檢查裝置3A進行缺陷檢查。
在缺陷檢查裝置3A及利用了缺陷檢查裝置 3A的缺陷檢查方法中，藉由對液晶濾光器12進行導通/截止控制，從而能夠利用一個裝置來獲得以平行尼科爾狀態照射時的光學膜100的檢查圖像以及以正交尼科爾狀態照射時的光學膜100的檢查圖像。
因此，缺陷檢查裝置3A具有將基於平行尼科爾的透射檢查光學系統(以下稱為“正透射檢查光學系統”)、及基於正交尼科爾的透射檢查光學系統(以下稱為正交尼科爾透射檢查光學系統)整合為一個的構成。缺陷根據其種類而會有僅能利用正透射檢查光學系統及正交尼科爾透射檢查光學系統中的某一系統進行檢測的情況。若如缺陷檢查裝置3A般將正透射檢查光學系統與正交尼科爾透射檢查光學系統整合到一個裝置中，則容易可靠地檢測光學膜100內的缺陷。
此外，在為能夠利用正透射檢查光學系統及正交尼科爾透射檢查光學系統中的任一系統進行檢測的缺陷的情況下，例如當藉由正透射檢查光學系統顯現出的缺陷在正交尼科爾透射檢查光學系統的檢查圖像中未顯現時，能夠判斷為該缺陷產生在比膜主體101靠上側(攝像部20A側)的位置。亦即，能夠識別光學膜100中的缺陷產生層。因此，在具有上述缺陷檢查方法的光學膜100的製造方法中，更加容易製造不包含缺陷的作為產品的光學膜100。
在缺陷檢查裝置3A中，能夠藉由液晶濾光器12的導通/截止控制來切換正透射檢查光學系統的缺陷檢查與正交尼科爾透射檢查光學系統的缺陷檢查。能夠在 更短的時間內(例如0.1msec至25msec)進行液晶濾光器12的切換，因此，能夠有效地實施兩個檢查光學系統的缺陷檢查。因此，在包含上述缺陷檢查方法的光學膜100的製造方法中，能夠有效地生產不包含缺陷的作為產品的光學膜100。
第二實施形態
第一實施形態是光照射部具備液晶濾光器(濾光部)且在光學膜100的下側配置有液晶濾光器的形態。然而，如第3圖所示，缺陷檢查裝置的攝像部也可以具備液晶濾光器。
第3圖係第二實施形態的缺陷檢查裝置3B的示意圖。缺陷檢查裝置3B具有光照射部10B及攝像部20B。在第3圖中，以一點鏈線的箭頭示意性地顯示光的光路的一例。
光照射部10B在不具有液晶濾光器12這一點上與第一實施形態的光照射部10A不同。光照射部10B所具有的光源11的構成與第一實施形態的情況是同樣的。
攝像部20B在具有配置在相機21與光學膜100之間的液晶濾光器12這一點上與第一實施形態的攝像部20A不同。相機21的構成與第一實施形態的情況是同樣的。相機21與控制裝置30電性連接，與第一實施形態同樣地由控制裝置30控制。
攝像部20B所具有的液晶濾光器12的構成 與第一實施形態的情況是同樣的。液晶濾光器12與控制裝置30電性連接，由控制裝置30進行導通/截止控制。
液晶濾光器12配置為：直線偏光膜12a位於攝像部20B側，且直線偏光膜12a的偏光軸PA2與膜主體101的偏光軸PA1成為正交尼科爾狀態。在這樣的配置中，從液晶單元12b側向液晶濾光器12入射光。因此，在液晶濾光器12處於截止狀態下，液晶濾光器12係使具有與直線偏光膜12a的偏光軸PA2正交的偏光方向的第一偏振光選擇性地通過。但是，入射到液晶濾光器12的第一偏振光在通過液晶單元12b的期間，偏光方向旋轉90°，作為第二偏振光而輸出。另一方面，在液晶濾光器12處於導通狀態下，液晶濾光器12係使第二偏振光選擇性地通過。在液晶濾光器12處於導通狀態下，入射到液晶濾光器12的第二偏振光在維持其偏光方向的狀態下從液晶濾光器12輸出。
接著，對利用缺陷檢查裝置3B來檢查光學膜100的缺陷的方法進行說明。在實施缺陷檢查時，將來自光照射部10B的無偏光的輸出光作為檢查光L向光學膜100的檢查區域A照射(檢查光照射步驟)。在檢查光照射步驟中向光學膜100照射了檢查光L時，利用攝像部20B(更具體而言是相機21)對檢查區域A進行拍攝(攝像步驟)。更詳細而言，利用相機21經由液晶濾光器12對光學膜100進行拍攝。在攝像步驟中，與液晶濾光器12的導通/截止控制同步地利用相機21對光學膜100進行拍攝，藉 此，獲得液晶濾光器12處於導通狀態時的檢查圖像，且獲得液晶濾光器12處於截止狀態時的檢查圖像。
缺陷檢查裝置3B也與第一實施形態的情況同樣，是將正透射檢查光學系統與正交尼科爾透射檢查光學系統整合而成的裝置。對這一點進行說明。為了說明方便，首先，假定為光學膜100中不存在缺陷。
在上述檢查光照射步驟中，向光學膜100照射作為無偏光的光的檢查光L。由於光學膜100的膜主體101具有偏光軸PA1，因此，從光學膜100輸出檢查光L所包含的第一偏振光並向液晶濾光器12入射。
若液晶濾光器12處於截止狀態，則來自光學膜100的第一偏振光如前述方式通過液晶濾光器12並在該通過過程中被轉換成第二偏振光，之後作為第二偏振光而輸出。從液晶濾光器12輸出的第二偏振光由相機21接受。因此，在液晶濾光器12處於截止狀態的情況下，獲得光學膜100的透射圖像。亦即，在將液晶濾光器12設置為截止狀態的情況下，缺陷檢查裝置3B的檢查光學系統作為正透射檢查光學系統發揮功能。
另一方面，如液晶濾光器12處於導通狀態，則如前述方式，液晶濾光器12使第二偏振光選擇性地通過，因此，來自光學膜100的第一偏振光不通過液晶濾光器12。換言之，導通狀態的液晶濾光器12作為相對於光學膜100以正交尼科爾狀態配置的偏光濾光器而發揮功能。亦即，在將液晶濾光器12設置為導通狀態的情況下，缺陷檢查裝 置3B的檢查光學系統作為正交尼科爾透射檢查光學系統發揮功能。
因此，缺陷檢查裝置3B也是將正透射檢查光學系統與正交尼科爾透射檢查光學系統整合而成的裝置。
在使缺陷檢查裝置3B作為正透射檢查光學系統發揮功能的情況下，當光學膜100中包含缺陷時，光被缺陷遮擋，或者偏光狀態在缺陷部分被擾亂，藉此，在檢查圖像中，缺陷部分例如顯現為暗的區域。
另一方面，在使缺陷檢查裝置3B作為正交尼科爾透射檢查光學系統發揮功能的情況下，若在光學膜100的比膜主體101靠上側(攝像部20B側)的位置不存在缺陷，則由於如前述方式從光學膜100輸出第一偏振光，因此，檢查圖像實質上成為全黑的圖像。若在光學膜100的比膜主體101靠上側(攝像部20B側)的位置存在缺陷，則由於來自膜主體101的第一偏振光的偏光狀態被缺陷擾亂，因此，來自光學膜100的輸出光包含第二偏振光。該第二偏振光能夠通過導通狀態的液晶濾光器12，因此，向相機21入射光。因而，在檢查圖像中缺陷顯現為亮點。
缺陷檢查裝置3B也是將正透射檢查光學系統與正交尼科爾透射檢查光學系統整合而成的裝置，正透射檢查光學系統與正交尼科爾透射檢查光學系統係藉由液晶濾光器12的導通/截止控制來切換。因此，缺陷檢查裝置3B也具有與第一實施形態的缺陷檢查裝置3A同樣的作 用效果。
此外，在能夠利用正透射檢查光學系統及正交尼科爾透射檢查光學系統中的任一系統進行檢測的缺陷的情況下，例如當藉由正透射檢查光學系統顯現出的缺陷在正交尼科爾透射檢查光學系統的檢查圖像中未顯現時，能夠判斷為該缺陷產生在比膜主體101靠上側(攝像部20A側)的位置。亦即，在缺陷檢查裝置3B中，也能夠識別光學膜100中的缺陷產生層。
缺陷檢查裝置3B能夠代替缺陷檢查裝置3A而應用於第1圖所示的缺陷檢查系統1。因此，包含利用了缺陷檢查裝置3B的缺陷檢查方法在內的光學膜100的製造方法具有與第一實施形態同樣的作用效果。
第三實施形態
第4圖係第三實施形態的缺陷檢查裝置3C的示意圖。在第4圖中，也以一點鏈線示意性地顯示光的光路。
第4圖所示的缺陷檢查裝置3C在代替第一實施形態中的攝像部20A而具備第二實施形態中說明的攝像部20B這一點，與第一實施形態的缺陷檢查裝置3A不同。光照射部10A所具有的液晶濾光器12、攝像部20B所具有的液晶濾光器12及相機21與第一實施形態及第二實施形態的情況同樣地與控制裝置30電性連接，且由控制裝置30進行控制。
對利用缺陷檢查裝置3C來檢查光學膜100的缺陷的方法進行說明。在實施缺陷檢查時，從光照射部 10A向光學膜100的檢查區域A(參照第1圖)照射檢查光L(檢查光照射步驟)。在檢查光照射步驟中向光學膜100照射了檢查光L時，利用攝像部20B(更具體而言是相機21)對檢查區域A進行拍攝(攝像步驟)。
在檢查光照射步驟中，對光照射部10A所具有的液晶濾光器12進行導通/截止控制，藉此與第一實施形態的情況同樣地切換檢查光L的預定的偏光狀態(預定的偏光方向)。在攝像步驟中，根據光照射部10A所具有的液晶濾光器12的導通/截止控制，對攝像部20B所具有的液晶濾光器12進行導通/截止控制，與光照射部10A及攝像部20B分別具有的液晶濾光器12的導通狀態與截止狀態的組合相應地獲得檢查圖像。
具體而言，在將光照射部10A所具有的液晶濾光器12設置為截止狀態時，對攝像部20B所具有的液晶濾光器12進行導通/截止控制，在將攝像部20B所具有的液晶濾光器12設置為截止狀態及導通狀態時分別獲得檢查圖像。在將光照射部10A所具有的液晶濾光器12設置為導通狀態時，對攝像部20B所具有的液晶濾光器12進行導通/截止控制，在將攝像部20B所具有的液晶濾光器12設置為截止狀態及導通狀態時分別獲得檢查圖像。因此，在缺陷檢查裝置3C中，獲得與表1所示的情形a至情形d對應的檢查圖像。
在情形a時，向光學膜100照射平行尼科爾狀態的檢查光L，因此，從光學膜100輸出第一偏振光。第一偏振光如第二實施形態所說明之方式能夠通過情形a時的液晶濾光器12。因此，情形a時的檢查光學系統相當於正透射檢查光學系統。
在情形b時，與情形a同樣地，從光學膜100輸出第一偏振光。在情形b時，攝像部20B的液晶濾光器12被設置為導通狀態，因此，在光學膜100不存在缺陷的情況下(更具體而言，在比膜主體101靠上側的位置不存在缺陷的情況下)，光不通過攝像部20B所具有的液晶濾光器12。因此，情形b相當於正交尼科爾透射檢查光學系統。
在情形c及情形d時，向光學膜100照射正交尼科爾狀態的檢查光L，因此，情形c及情形d相當於正交尼科爾透射檢查光學系統。
如此，在缺陷檢查裝置3C中，正透射檢查 光學系統與正交尼科爾透射檢查光學系統也被整合，藉由液晶濾光器12的導通/截止控制來切換兩個光學系統。因此，缺陷檢查裝置3C及使用了缺陷檢查裝置3C的缺陷檢查方法具有與第一實施形態的缺陷檢查裝置3A同樣的作用效果。
缺陷檢查裝置3C能夠代替缺陷檢查裝置3A而應用於第1圖所示的缺陷檢查系統1。因此，包含利用了缺陷檢查裝置3B的缺陷檢查方法在內的光學膜100的製造方法具有與第一實施形態同樣的作用效果。在缺陷檢查裝置3C中，能夠在上述情形a至情形d這四個狀態下分別實施光學膜100的缺陷檢查，因此，容易進行與光學膜100相應的檢查。
第四實施形態
第一實施形態至第三實施形態中說明的缺陷檢查裝置3A、3B、3C採用了透射檢查光學系統。然而，如第5圖示意性所示，缺陷檢查裝置也可以採用反射檢查光學系統。第5圖係第四實施形態的缺陷檢查裝置3D的示意圖。在第5圖中，也以一點鏈線示意性顯示光的光路的一例。
缺陷檢查裝置3D在相對于作為檢查對象的光學膜100而言光照射部10A和攝像部20A配置在同一側這一點上與第一實施形態的缺陷檢查裝置3A不同。換言之，在缺陷檢查裝置3D中，以在第一實施形態的缺陷檢查裝置3A中來自光照射部10A的檢查光L被光學膜100反射的情況下該反射光向攝像部20A入射的方式配置光照 射部10A及攝像部20A。光照射部10A及攝像部20A的構成與第一實施形態是同樣的，並且，利用了缺陷檢查裝置3D的光學膜100的缺陷檢查方法與第一實施形態是同樣的。
缺陷檢查裝置3D採用了反射檢查光學系統，因此，藉由對液晶濾光器12進行導通/截止控制，從而能夠利用一個裝置來獲得向光學膜100照射了相對於光學膜100為平行尼科爾狀態的檢查光L(平行尼科爾光)的情況下的反射檢查圖像、以及向光學膜100照射了相對於光學膜100為正交尼科爾狀態的檢查光L(正交尼科爾光)的情況下的反射檢查圖像。因此，缺陷檢查裝置3D將平行尼科爾狀態的反射檢查光學系統(以下稱為“正反射檢查光學系統”)與正交尼科爾狀態的反射檢查光學系統(以下稱為正交尼科爾反射檢查光學系統)整合為一個。此外，正反射檢查光學系統與正交尼科爾反射檢查光學系統係藉由對液晶濾光器12進行導通/截止控制而被切換。因此，缺陷檢查裝置3D及利用了缺陷檢查裝置3D的光學膜100的缺陷檢查方法具有與第一實施形態的情況同樣的作用效果。
缺陷檢查裝置3D如前述方式採用了反射檢查光學系統。在來自光照射部10A的檢查光L為第一偏振光的情況下，檢查光L能夠向比膜主體101靠下側的位置(第5圖中為保護膜103)傳播。因此，在正反射檢查光學系統中，也能夠檢測比膜主體101靠下側的位置所包含的缺陷。反之，在來自光照射部10A的檢查光L為第二偏振光 的情況下，檢查光L無法向比膜主體101靠下側的位置傳播。因此，在正交尼科爾反射檢查光學系統中，雖然能夠檢查位於膜主體101及比膜主體101靠上側的位置的缺陷，但無法檢測比膜主體101靠下側的缺陷。因此，在缺陷檢查裝置3D中，藉由對正反射檢查光學系統的檢查與正交尼科爾反射檢查光學系統的檢查進行切換，還能夠確定缺陷在光學膜100的厚度方向上的位置。
具體而言，若能夠藉由分別利用了正反射檢查光學系統及正交尼科爾反射檢查光學系統的檢查而檢測到缺陷，則該缺陷位於膜主體101及比膜主體101靠上側的位置。反之，若在正反射檢查光學系統中檢測到缺陷而在正交尼科爾反射檢查光學系統中未檢測到缺陷，則該缺陷位於比膜主體101靠下側的位置。如此，在缺陷檢查裝置3D中，能夠更加詳細地識別缺陷的位置。對驗證這一點的實驗(驗證實驗)進行說明。在驗證實驗的說明中，針對與目前為止的說明中的構成元件對應的元件標注同樣的符號來進行說明。
驗證實驗
驗證實驗中使用的光學膜100係將保護膜103、膜主體101及保護膜102依序積層而成的膜。保護膜102、103的材料為TAC，膜主體101的材料為PVA。驗證實驗中使用的光學膜100使用了在保護膜102側混入有氣泡的膜。
在驗證實驗中，使用了第5圖所示的構成的缺陷檢查裝置3D。但是，相機21採用線感測器相機， 藉由使線感測器相機與光學膜100相對地移動，從而獲得光學膜100的檢查圖像。
第一檢查
在第一檢查中，以使保護膜102側位於光照射部10A及攝像部20A側的方式將光學膜100設置於缺陷檢查裝置3D，且將液晶濾光器12設置為截止狀態及導通狀態，藉此，利用正反射檢查光學系統和正交尼科爾反射檢查光學系統而獲得光學膜100的檢查圖像。第6圖係顯示第一檢查中的檢查圖像，第6圖(a)係正反射檢查光學系統中的檢查圖像，第6圖(b)係正交尼科爾反射檢查光學系統中的檢查圖像。
第二檢查
在第二檢查中，相對於第一檢查的情況而在顛倒了光學膜100的狀態下在缺陷檢查裝置3D上設置了光學膜100。亦即，以使保護膜102側位於與光照射部10A及攝像部20A相反的一側的方式將光學膜100設置於缺陷檢查裝置3D。然後，與第一檢查的情況同樣地，利用正反射檢查光學系統與正交尼科爾反射檢查光學系統而獲得光學膜100的檢查圖像。第7圖係顯示第二檢查中的檢查圖像，第7圖(a)係顯示正反射檢查光學系統中的檢查圖像，第7圖(b)係顯示正交尼科爾反射檢查光學系統中的檢查圖像。在第7圖(a)及(b)，一點鏈線所示的區域是相互對應的區域。
在第一檢查中，在正反射檢查光學系統的檢查與正交尼科爾反射檢查光學系統的檢查中都能夠確認 出氣泡缺陷。在該情況下，如前述般，推斷為缺陷位於比膜主體101靠上側的位置。而且，在第一檢查中，包含氣泡缺陷的保護膜102位於比膜主體101靠光照射部10A及攝像部20A側的位置，因此，能夠理解相對於膜主體101的缺陷位置與可根據檢查圖像而判斷的缺陷位置一致。
在第二檢查中，在正反射檢查光學系統的檢查中，在第7圖(a)的由一點鏈線包圍的區域內能夠確認出氣泡缺陷，而在正交尼科爾反射檢查光學系統的檢查中，在第7圖(b)的由一點鏈線包圍的區域內無法確認出氣泡缺陷。在該情況下，如前述般，推斷為缺陷位於比膜主體101靠下側的位置。而且，在第二檢查中，包含氣泡缺陷的保護膜102位於相對於膜主體101而與光照射部10A及攝像部20A相反的一側，因此，能夠理解相對於膜主體101的缺陷位置與可根據檢查圖像而判斷的缺陷位置一致。
因此，在缺陷檢查裝置3D中，通過對正反射檢查光學系統及正交尼科爾反射檢查光學系統各自的缺陷檢查的結果進行比較，能夠更加具體地確定缺陷的位置。
缺陷檢查裝置3D能夠代替缺陷檢查裝置3D而應用於第1圖所示的缺陷檢查系統1。因此，包含利用了缺陷檢查裝置3D的缺陷檢查方法在內的光學膜100的製造方法具有與第一實施形態同樣的作用效果。
第五實施形態
第8圖係第五實施形態的缺陷檢查裝置3E的示意圖。缺陷檢查裝置3E在具備第一光照射部10A1和第二光照射 部10A2這一點上與第一實施形態的缺陷檢查裝置3A不同。在第8圖中，也以一點鏈線示意性地顯示光的光路的一例。
第一光照射部10A1配置在從光學膜100觀察時與攝像部20A相反的一側，向光學膜100傾斜地入射檢查光L。除了像這樣以傾斜地入射檢查光L的方式配置有第一光照射部10A1這一點以外，第一光照射部10A1的構成與第一實施形態的光照射部10A的構成是同樣的。
第二光照射部10A2係與第四實施形態中說明的光照射部10A同樣的構成及配置。亦即，第二光照射部10A2以與攝像部20A一起構成反射檢查光學系統的方式相對於光學膜100配置。第二光照射部10A2可以配置為基於分別來自第一光照射部10A1及第二光照射部10A2的檢查光L而從光學膜100輸出的光向攝像部20A所具有的相機21的受光面的相同的區域入射，也可以配置為向攝像部20A所具有的相機21的受光面的不同的區域入射。
控制裝置30與第一光照射部10A1及第二光照射部10A2各自的液晶濾光器12電性連接，對第一光照射部10A1及第二光照射部10A2各自的液晶濾光器12進行導通/截止控制。
接著，對利用了缺陷檢查裝置3E的光學膜100的缺陷檢查方法進行說明。首先，針對基於分別來自第一光照射部10A1及第二光照射部10A2的檢查光L而從光學膜100輸出的光向攝像部20A所具有的相機21的受光面的相同的區域入射的方式進行說明。
在實施缺陷檢查時，從第一光照射部10A1向光學膜100的檢查區域A(參照第1圖)照射檢查光L，並且，從第二光照射部10A2向光學膜100的檢查區域A照射檢查光L(檢查光照射步驟)。在檢查光照射步驟中向光學膜100照射了檢查光L時，利用攝像部20A對光學膜100進行拍攝(攝像步驟)。
在檢查光照射步驟中，在不同的時序從第一光照射部10A1及第二光照射部10A2向光學膜100的檢查區域A照射檢查光L。而且，在從第一光照射部10A1及第二光照射部10A2分別輸出檢查光L時，對輸出檢查光L的光照射部(第一光照射部10A1或第二光照射部10A2)所具有的液晶濾光器12進行導通/截止控制，藉此切換檢查光L的預定的偏光狀態。
例如，在從第一光照射部10A1輸出檢查光L的情況下，將第一光照射部10A1所具有的液晶濾光器12設置為截止狀態而向光學膜100照射作為第一偏振光的檢查光L。接著，將第一光照射部10A1所具有的液晶濾光器12設置為導通狀態而向光學膜100照射作為第二偏振光的檢查光L。在從第二光照射部10A2輸出檢查光L的情況下，與第一光照射部10A1的情況同樣地，對第二光照射部10A2所具有的液晶濾光器12進行導通/截止控制。
在攝像步驟中，與從第一光照射部10A1輸出檢查光L時的液晶濾光器12的導通/截止控制同步地，利用攝像部20A的相機21對光學膜100的檢查區域A進 行拍攝。同樣地，與從第二光照射部10A2輸出檢查光L時的液晶濾光器12的導通/截止控制同步地，利用攝像部20A的相機21對光學膜100的檢查區域A進行拍攝。
針對基於分別來自第一光照射部10A1及第二光照射部10A2的檢查光L而從光學膜100輸出的光向攝像部20A所具有的相機21的受光面的不同的區域入射的情況下的缺陷檢查方法進行說明。在該情況下也具有上述檢查光照射步驟和攝像步驟。
其中，在檢查光照射步驟中，也可以在相同的時序從第一光照射部10A1及第二光照射部10A2輸出檢查光L。而且，對第一光照射部10A1及第二光照射部10A2各自具有的液晶濾光器12進行導通/截止控制。第一光照射部10A1所具有的液晶濾光器12的導通/截止控制的時序與第二光照射部10A2所具有的液晶濾光器12的導通/截止控制的時序可以相同也可以不同。
在攝像步驟中，與第一光照射部10A1及第二光照射部10A2各自具有的液晶濾光器12的導通/截止控制的時序同步地，利用攝像部20A的相機21對光學膜100的檢查區域A進行拍攝。
在缺陷檢查裝置3E中，第一光照射部10A1及攝像部20A構成第一實施形態中說明的透射檢查光學系統。因此，缺陷檢查裝置3E及在缺陷檢查裝置3E中利用了第一光照射部10A1的缺陷檢查具有與第一實施形態中說明的缺陷檢查裝置3A同樣的作用效果。
在缺陷檢查裝置3E中，第二光照射部10A2及攝像部20A構成第四實施形態中說明的反射檢查光學系統。因此，缺陷檢查裝置3E及在缺陷檢查裝置3E中利用了第二光照射部10A2的缺陷檢查具有與第四實施形態中說明的缺陷檢查裝置3E同樣的作用效果。
此外，缺陷檢查裝置3E係將透射檢查光學系統與反射檢查光學系統整合而成的裝置。因此，能夠利用一個裝置來檢測在透射檢查光學系統中能檢測的缺陷以及在反射檢查光學系統中能檢測的缺陷，能夠更加可靠地檢測光學膜100的缺陷。
缺陷檢查裝置3E能夠代替缺陷檢查裝置3A而應用於第1圖所示的缺陷檢查系統1。因此，包含利用了缺陷檢查裝置3E的缺陷檢查方法在內的光學膜100的製造方法具有與第一實施形態同樣的作用效果。
第六實施形態
第9圖係第六實施形態的缺陷檢查裝置3F的示意圖。缺陷檢查裝置3F在代替光照射部10A而具備光照射部10C這一點上與第一實施形態的缺陷檢查裝置3A不同。在第9圖中，也以一點鏈線示意性地顯示光的光路。
光照射部10C係具有光源11、偏光分離元件13、光路合成部14、第一反射鏡15A、第二反射鏡15B、直線偏光膜16以及液晶濾光器12。光源11的構成及液晶濾光器12的構成與第一實施形態是同樣的。
偏光分離元件13配置在來自光源11的輸出 光的光路上，將來自光源11的無偏光的輸出光分離成偏光方向相互正交的第一偏振光與第二偏振光。具體而言，使第二偏振光透射過並反射第一偏振光。偏光分離元件13的例子是使用了APF(Advanced Polarizing Film)的元件，例如，是在棱鏡、玻璃板等的一側面形成有APF的元件。
光路合成部14係配置在第二偏振光的光路上。具體而言，在Z方向上配置在偏光分離元件13與光學膜100之間。光路合成部14是將由偏光分離元件13分離出的第一偏振光的光路合成到第二偏振光的光路中並輸出的光學元件。光路合成部14在使第一偏振光及第二偏振光的光路一致的狀態下將第一偏振光及第二偏振光向光學膜100側輸出。光路合成部14的例子與偏光分離元件13相同。
第一反射鏡15A及第二反射鏡15B係構成將由偏光分離元件13分離出的第一偏振光向光路合成部14引導的光學系統。具體而言，第一反射鏡15A配置在偏光分離元件13的側方，將來自偏光分離元件13的第一偏振光向光學膜100側反射。第二反射鏡15B配置在由第一反射鏡15A反射後的第一偏振光的光路上且配置在光路合成部14的側方，將由第一反射鏡15A反射後的第一偏振光向光路合成部14側反射。
直線偏光膜16係具有直線偏光特性的光學膜。直線偏光膜16在偏光分離元件13與光路合成部14之間配置在第二偏振光的光路上。直線偏光膜16配置為其 偏光軸PA3與光學膜100成為正交尼科爾狀態，亦即，從Z方向觀察時膜主體101的偏光軸PA1與直線偏光膜16的偏光軸PA3正交。
液晶濾光器12在第一反射鏡15A與第二反射鏡15B之間配置在第一偏振光的光路上。液晶濾光器12配置為直線偏光膜12a位於第二反射鏡15B側，直線偏光膜12a的偏光軸PA2與光學膜100成為平行尼科爾狀態。在這樣的配置中，在液晶濾光器12處於導通狀態下，液晶濾光器12使第一偏振光通過。另一方面，在液晶濾光器12處於截止狀態下，液晶濾光器12遮斷第一偏振光。
在上述光照射部10C的構成中，來自光源11的輸出光由偏光分離元件13分離為第二偏振光與第一偏振光。具體而言，第二偏振光透射過偏光分離元件13，第一偏振光向第一反射鏡15A側反射。
透射過了偏光分離元件13的第二偏振光向直線偏光膜16入射。直線偏光膜16的偏光軸PA3的方向與第二偏振光的偏光方向相同，因此，來自偏光分離元件13的第二偏振光通過直線偏光膜16而向光路合成部14入射。
另一方面，由偏光分離元件13反射後的第一偏振光被第一反射鏡15A向第二反射鏡15B側反射。在第一反射鏡15A與第二反射鏡15B之間配置有液晶濾光器12，因此，由第一反射鏡15A反射後的第一偏振光向液晶濾光器12入射。
若液晶濾光器12處於導通狀態，則第一偏振光通過液晶濾光器12。透過了液晶濾光器12的第一偏振光被第二反射鏡15B反射而向光路合成部14入射。
光路合成部14使通過了直線偏光膜16的第二偏振光與來自第二反射鏡15B的第一偏振光的光路在一致的狀態下輸出。換言之，光路合成部14對第二偏振光與第一偏振光進行合成，作為無偏光的光而輸出。因此，在液晶濾光器12處於導通狀態下，光照射部10C輸出無偏光的檢查光L。
若液晶濾光器12處於截止狀態，則第一偏振光被液晶濾光器12遮斷，因此，第一偏振光不到達光路合成部14。因此，從光路合成部14僅輸出通過了直線偏光膜16的第二偏振光。亦即，在液晶濾光器12處於截止狀態下，光照射部10C輸出作為第二偏振光的檢查光L。
如此，在光照射部10C中，藉由對液晶濾光器12進行導通/截止控制，能夠切換無偏光的檢查光L與第二偏振光的檢查光L並輸出。
光照射部10C藉由液晶濾光器12的導通/截止控制而能夠切換檢查光L的偏光狀態並輸出，因此，使用了缺陷檢查裝置3F的光學膜100的缺陷檢查方法與缺陷檢查裝置3A的情況是同樣的。
在檢查光L處於無偏光狀態的情況下，檢查光L包含第一偏振光。因此，在第六實施形態中，在液晶濾光器12處於導通狀態的情況下，向光學膜100照射作 為平行尼科爾光的檢查光L。另一方面，在液晶濾光器12處於截止狀態且檢查光L為第二偏振光的情況下，向光學膜100照射作為正交尼科爾光的檢查光L。因此，在缺陷檢查裝置3F中，正透射檢查光學系統與正交尼科爾透射檢查光學系統被整合，且藉由液晶濾光器12的導通/截止控制來切換這些檢查光學系統。因此，缺陷檢查裝置3F及使用了缺陷檢查裝置3F的光學膜的缺陷檢查方法具有與第一實施形態的情況同樣的作用效果。
當光通過液晶濾光器12後，與例如通過偏光膜的情況相比，光量衰減。然而，在將缺陷檢查裝置3F用作正交尼科爾透射檢查光學系統來實施缺陷檢查時，第二偏振光不通過液晶濾光器12，因此，在正交尼科爾透射檢查光學系統的檢查中，容易確保光學膜100的照明所需的光量。在將缺陷檢查裝置3F用作正透射檢查光學系統來實施缺陷檢查時，第一偏振光通過液晶濾光器12。在該情况下，如前述般，發生光量的衰减。但是，在正透射時，與正交尼科爾透射相比，容易確保光學膜100的照明所需的光量。因此，光量的衰减的影響小。根據液晶濾光器12的構成，能夠藉由調整向液晶濾光器12施加的電壓來調整通過直線偏光膜12a的光量。結果，在使用了液晶濾光器12的缺陷檢查裝置3F中，能夠降低為了獲得缺陷檢查所需的光量而需要的來自光源11的光量的增加量，光源11的選擇幅度大，並且有助於節能。
缺陷檢查裝置3F能夠代替缺陷檢查裝置 3A而應用於第1圖所示的缺陷檢查系統1。因此，包含利用了缺陷檢查裝置3F的缺陷檢查方法在內的光學膜100的製造方法具有與第一實施形態同樣的作用效果。
在第六實施形態中，針對光照射部10C具有光源11、偏光分離元件13、光路合成部14、第一反射鏡15A、第二反射鏡15B、直線偏光膜16以及液晶濾光器12的情況進行了說明。然而，光照射部10C具有光源11、偏光分離元件13、光路合成部14、第一反射鏡15A、第二反射鏡15B以及液晶濾光器12即可。亦即，光照射部10C也可以不具有直線偏光膜16。在光照射部10C具有直線偏光膜16的實施形態中，使通過了直線偏光膜16的光的偏光方向的精度提高。因此，能夠以更加準確的正交尼科爾狀態來實施檢查。
第七實施形態
第10圖係第七實施形態的缺陷檢查裝置3G的示意圖。缺陷檢查裝置3G在光照射部10C以與攝像部20A一起構成反射檢查光學系統的方式配置在從光學膜100觀察時與攝像部20A相同的一側這一點上與第六實施形態不同。除了該不同點以外，與第六實施形態是同樣的，因此，缺陷檢查裝置3G及使用了缺陷檢查裝置3G的缺陷檢查方法的作用效果也與第六實施形態是同樣的。在第10圖中，也以一點鏈線示意性地顯示光的光路的一例。
缺陷檢查裝置3G的構成相當於在第四實施形態的缺陷檢查裝置3D中將光照射部10A替換為光照射 部10C而得到的構成。因此，缺陷檢查裝置3G及使用了缺陷檢查裝置3G的缺陷檢查方法也具有與第四實施形態中說明的反射檢查光學系統所具有的作用效果同樣的作用效果。
在第七實施形態中，也與第六實施形態的情況同樣地，光照射部10C也可以不具有直線偏光膜16。光照射部10C具有直線偏光膜16的情況下的作用效果與第六實施形態的情況是同樣的。
在第六實施形態及第七實施形態中，為了提高由偏光分離元件13分離出的兩個偏光的偏光方向精度，也可以在偏光分離元件13與液晶濾光器12之間、較佳在第一反射鏡15A與液晶濾光器12之間，進一步設置與第一偏振光處於平行尼科爾的狀態的直線偏光膜。
第八實施形態
第11圖係第八實施形態的缺陷檢查裝置3H的示意圖。缺陷檢查裝置3H在代替光照射部10C而具備光照射部10D這一點上與第六實施形態的缺陷檢查裝置3F不同。在第11圖中，也以一點鏈線示意性地顯示光的光路的一例。
光照射部10D係具有光源11、光路合成部14、直線偏光膜16、光源17以及液晶濾光器12A。光源11、光路合成部14及直線偏光膜16的構成與第六實施形態是同樣的。此外，光源11、直線偏光膜16及光路合成部14的配置關係除了在光源11與直線偏光膜16之間未配置偏光分離元件13這一點以外，與第六實施形態的情況是 同樣的。
光源17配置在光路合成部14的側方(沿著Y方向的側方)。在光源17與光路合成部14之間配置有液晶濾光器12A。液晶濾光器12A作為藉由導通/截止的切換來切換使第一偏振光通過的情況與將光遮斷的情況的光閘發揮功能。光源17及液晶濾光器12A配置為：從液晶濾光器12A輸出的第一偏振光在入射到光路合成部14時，與通過直線偏光膜16而入射到光路合成部14的第二偏振光的光路合成。
例如，如第11圖所示，液晶濾光器12A具有液晶單元12b、在液晶單元12b的一個面設置的直線偏光膜12a、以及在液晶單元12b的另一個面(與設置直線偏光膜12a的面相反的面)設置的直線偏光膜12c。直線偏光膜12a的偏光軸PA2與直線偏光膜12c的偏光軸PA5正交。液晶濾光器12A配置為，直線偏光膜12c面向光源17，並且偏光軸PA2與偏光軸PA1成為平行尼科爾狀態。在這樣的液晶濾光器12A的構成及配置中，在液晶濾光器12A處於截止狀態下，來自光源17的光(無偏振光)中的第一偏振光選擇性地通過液晶濾光器12A，在液晶濾光器12A處於導通狀態下，來自光源17的光被遮斷。
光照射部10D在從光源11及光源17分別輸出了光的狀態下，藉由對液晶濾光器12A進行導通/截止控制，從而具有與光照射部10C同樣的功能。因此，缺陷檢查裝置3H及使用了缺陷檢查裝置3H的光學膜100的缺 陷檢查方法具有與第六實施形態的情況同樣的作用效果。
在缺陷檢查裝置3H中，藉由將光源17設為截止狀態，亦即，停止來自光源17的光的輸出，也能夠實現正交尼科爾透射檢查光學系統。
在缺陷檢查裝置3H中，採用了透射檢查光學系統，但也可以如第七實施形態隻方式，將光照射部10D配置在與攝像部20A相同的一側而採用反射檢查光學系統。
第九實施形態
在第一實施形態至第八實施形態中，說明了將具有直線偏光特性的光學膜作為檢查對象的缺陷檢查裝置。然而，光學膜也可以不具有直線偏光特性。作為第九實施形態，對不具有直線偏光特性的光學膜為檢查對象的情況下的缺陷檢查裝置進行說明。第12圖是第九實施形態的缺陷檢查裝置3I的示意圖。
缺陷檢查裝置3I係對不具有直線偏光特性的光學膜100A的缺陷進行檢查的裝置。作為光學膜100A的例子，舉出第2圖所示的保護膜102及保護膜103、相位差膜等。
缺陷檢查裝置3I在具備直線偏光膜(第一直線偏光膜)40這一點上與第一實施形態的缺陷檢查裝置3A不同。以該不同點為中心對缺陷檢查裝置3I進行說明。
直線偏光膜40係具有直線偏光特性的膜，具有偏光軸PA4。直線偏光膜40以與液晶濾光器12的直 線偏光膜12a形成正交尼科爾的方式配置在光學膜100A與攝像部20A之間。在第12圖中，以Y方向與偏光軸PA4的方向一致的方式配置有直線偏光膜40。
對利用缺陷檢查裝置3I來檢查光學膜100A的缺陷的方法進行說明。在實施缺陷檢查時，從光照射部10A向光學膜100A的檢查區域照射預定的偏光狀態的檢查光L(檢查光照射步驟)。在檢查光照射步驟中向光學膜100A照射了檢查光L時，利用攝像部20A(更具體而言是相機21)對檢查區域進行拍攝(攝像步驟)。
在檢查光照射步驟中，與第一實施形態的情況同樣地，藉由對液晶濾光器12進行導通/截止控制來切換檢查光L的預定的偏光狀態。在攝像步驟中，與檢查光L的預定的偏光狀態的切換同步地，利用攝像部20A對光學膜100A的檢查區域進行拍攝。
由於光學膜100A不具有直線偏光特性，因此，第一偏振光及第二偏振光都透射過光學膜100A。在光學膜100A與攝像部20A之間配置有直線偏光膜40，第一偏振光通過直線偏光膜40，第二偏振光被直線偏光膜40遮斷。
因此，在缺陷檢查裝置3I中，正透射檢查光學系統與正交尼科爾透射檢查光學系統也被整合，這些檢查光學系統的切換係藉由液晶濾光器12的導通/截止控制而實施。因此，缺陷檢查裝置3I及使用了缺陷檢查裝置3I的缺陷檢查方法具有與第一實施形態的情況同樣的作用 效果。
在將第1圖中由輸送部2輸送的檢查對象設為光學膜100A的情況下，缺陷檢查裝置3I能夠代替第1圖的缺陷檢查系統1的缺陷檢查裝置3A而應用。缺陷檢查裝置3I及包含利用了缺陷檢查裝置3I的缺陷檢查方法在內的光學膜的製造方法具有與第一實施形態的情況同樣的作用效果。
缺陷檢查裝置3I及利用了缺陷檢查裝置3I的光學膜100A的缺陷檢查方法也可以應用於製造光學膜100A本身的情況，例如也可以在製造光學膜100的過程中，用於向膜主體101貼合之前被輸送的保護膜102及保護膜103的缺陷檢查。
將缺陷檢查裝置3I作為缺陷檢查裝置3A的變形例進行了說明。然而，在作為第二實施形態、第四實施形態至第八實施形態而說明的缺陷檢查裝置的構成中，根據也如第九實施形態所說明般更具備直線偏光膜40，藉此能夠實施不具有直線偏光特性的光學膜100A的缺陷檢查。具體而言，在如第四實施形態至第七實施形態所說明之方式，照射部具有液晶濾光器12的情況下，在不具有直線偏光特性的光學膜100A與攝像部之間將直線偏光膜40配置為如第九實施形態所說明般與液晶濾光器12的直線偏光膜12a形成正交尼科爾即可。在如第八實施形態所說明般光照射部具備直線偏光膜16及液晶濾光器12A的情況下，在不具有直線偏光特性的光學膜100A與攝像部之 間將直線偏光膜40配置為與直線偏光膜16形成正交尼科爾即可。需要說明的是，第六實施形態至第八實施形態的缺陷檢查裝置在為了實施光學膜100A的缺陷檢查而具備直線偏光膜40的情況下，直線偏光膜40對應於第一直線偏光膜，直線偏光膜16對應於第二直線偏光膜。
如第二實施形態所說明般，在攝像部具有液晶濾光器12的情況下，在光學膜與光照射部之間將直線偏光膜40配置為如第九實施形態所說明之方式與液晶濾光器12的直線偏光膜12a形成正交尼科爾即可。
在如第三實施形態所說明般光照射部及攝像部均具有液晶濾光器的情況下，利用光照射部及攝像部各自的液晶濾光器的導通/截止控制的組合，能夠實現光學膜100A的缺陷檢查。
作為不具有偏光特性的膜而例示了光學膜，但不具有偏光特性的膜的例子也可以為電池用隔膜等。
以上，對本發明的各種實施形態進行了說明。然而，本發明不局限於上述各種實施形態，在不脫離本發明的宗旨的範圍內能夠進行各種變形。
在例示的各種實施形態中，一個控制裝置控制液晶濾光器及相機，但也可以相對於液晶濾光器及相機設置不同的控制裝置。在上述各種實施形態中，主要說明了缺陷檢查裝置具備控制裝置的方式，但控制裝置也可以為與缺陷檢查裝置獨立的構成元件。例如也可以為缺陷檢查系統的構成元件，還可以為缺陷檢查裝置的用戶適當 準備的裝置。
濾光部只要能夠切換應通過的光的偏光方向即可，不局限於液晶濾光器。
在檢查對象是具有直線偏光特性的膜的情況下，說明了如下的方式：將膜與液晶濾光器配置為：通過了濾光部的光所具有的預定的偏光方向與膜的偏光軸成為平行尼科爾狀態或正交尼科爾狀態。然而，根據檢查對象的不同，也可以將濾光部與膜配置為：通過了濾光部的光所具有的預定的偏光方向與膜的偏光軸成為半交叉尼科爾狀態。或者在濾光部為液晶濾光器的情況下，也可以以通過了濾光部的光所具有的預定的偏光方向與膜的偏光軸成為半交叉尼科爾狀態的方式調整向液晶濾光器施加的電壓來實施檢查。在檢查對象為不具有直線偏光特性的膜的情況下，濾光部與成對的直線偏光膜的配置關係也可以如前述那樣為半交叉尼科爾狀態。在檢查對象為不具有直線偏光特性的膜的情況下且在濾光部為液晶濾光器的情況下，也可以以通過了濾光部的光所具有的預定的偏光方向與和濾光部成對的直線偏光膜的偏光軸的關係成為半交叉尼科爾狀態的方式調整向液晶濾光器施加的電壓來實施檢查。
目前為止所例示的各種實施形態也可以適當彼此組合。例如，也可以將在一個實施形態中說明的光照射部置換為其他實施形態的光照射部，還可以將在一個實施形態中說明的攝像部置換為其他實施形態的攝像部。

Claims (17)

  1. 一種缺陷檢查裝置，為膜的缺陷檢查裝置，前述缺陷檢查裝置係具備：光照射部，其輸出向前述膜的檢查區域照射的檢查光；以及攝像部，其對前述檢查區域進行拍攝；前述光照射部與前述攝像部中的至少一方係具有使預定的偏光方向的光選擇性地通過的濾光部，前述濾光部係構成為能夠調整前述預定的偏光方向。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的缺陷檢查裝置，其中，前述濾光部係具有液晶濾光器，該液晶濾光器係構成為在液晶單元的單面設置有直線偏光膜。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述的缺陷檢查裝置，其中，前述膜為具有直線偏光特性的光學膜，前述光照射部具有：光源；以及前述濾光部，其配置在前述光源與前述膜之間。
  4. 如申請專利範圍第1或2項所述的缺陷檢查裝置，其中，前述膜為具有直線偏光特性的光學膜，前述光照射部具有：光源； 偏光分離元件，其將來自前述光源的光分離為偏光方向相互正交的第一偏振光與第二偏振光；光路合成部，其配置在由前述偏光分離元件分離出的前述第二偏振光的光路上，將由前述偏光分離元件分離出的前述第一偏振光的光路合成到前述第二偏振光的光路中；光學系統，其將由前述偏光分離元件分離出的前述第一偏振光引導到前述光路合成部；以及前述濾光部，其配置在被前述光學系統引導的前述第一偏振光的光路上；前述膜係配置在前述第二偏振光的光路上，前述濾光部係切換：使前述第一偏振光選擇性地通過的狀態、和使前述第二偏振光選擇性地通過的狀態。
  5. 如申請專利範圍第4項所述的缺陷檢查裝置，其中，前述光照射部具有偏光膜，該偏光膜係在前述第二偏振光的光路上配置在前述偏光分離元件與前述光路合成部之間，且相對於前述膜以正交尼科爾狀態配置，並且使前述第二偏振光通過。
  6. 如申請專利範圍第1至5項中任一項所述的缺陷檢查裝置，其中，前述膜為具有直線偏光特性的光學膜，前述攝像部具有：相機；以及前述濾光部，其配置在前述相機與前述膜之間。
  7. 如申請專利範圍第1或2項所述的缺陷檢查裝置，其中，前述缺陷檢查裝置更具有配置在前述膜與前述攝像部之間的第一直線偏光膜，前述膜為不具有直線偏光特性的膜，前述光照射部具有：光源；以及前述濾光部，其配置在前述光源與前述膜之間。
  8. 如申請專利範圍第1或2項所述的缺陷檢查裝置，其中，前述缺陷檢查裝置更具有配置在前述攝像部與前述膜之間的第一直線偏光膜，前述膜為不具有偏光特性的膜，前述光照射部具有：光源；偏光分離元件，其將來自前述光源的光分離為偏光方向相互正交的第一偏振光與第二偏振光；光路合成部，其配置在前述第二偏振光的光路上，將前述第一偏振光的光路合成到前述第二偏振光的光路中；光學系統，其將由前述偏光分離元件分離出的前述第一偏振光引導到前述光路合成部；第二直線偏光膜，其在前述第二偏振光的光路上配置在前述偏光分離元件與前述光路合成部之間，且相對 於前述第一直線偏光膜以正交尼科爾狀態配置，並且使前述第二偏振光通過；以及前述濾光部，其配置在被前述光學系統引導的前述第一偏振光的光路上；前述膜係配置在前述第二偏振光的光路上，前述濾光部係切換：使前述第一偏振光選擇性地通過的狀態、和使前述第二偏振光選擇性地通過的狀態。
  9. 如申請專利範圍第1或2項所述的缺陷檢查裝置，其中，前述缺陷檢查裝置更具有配置在前述光照射部與前述膜之間的第一直線偏光膜，前述膜為不具有偏光特性的膜，前述攝像部具有：相機；以及前述濾光部，其配置在前述相機與前述膜之間。
  10. 如申請專利範圍第1至9項中任一項所述的缺陷檢查裝置，其中，前述缺陷檢查裝置係具有兩個前述光照射部，兩個前述光照射部中的一方亦即第一光照射部係配置在從前述膜觀察時與前述攝像部相反的一側，兩個前述光照射部中的另一方亦即第二光照射部係配置在從前述膜觀察時與前述攝像部相同的一側。
  11. 一種缺陷檢查方法，為膜的缺陷檢查方法，該缺陷檢查方法係包括： 檢查光照射步驟，利用光照射部向前述膜的檢查區域照射檢查光；以及攝像步驟，利用攝像部對前述檢查區域進行拍攝；前述光照射部與前述攝像部中的至少一方係具有使預定的偏光方向的光選擇性地通過的濾光部，前述濾光部係構成為能夠調整前述預定的偏光方向。
  12. 如申請專利範圍第11項所述的缺陷檢查方法，其中，前述濾光部具有液晶濾光器，該液晶濾光器係構成為在液晶單元的單面設置有直線偏光膜。
  13. 如申請專利範圍第11或12項所述的缺陷檢查方法，其中，前述膜為具有直線偏光特性的光學膜，前述光照射部係使來自光源的光通過前述濾光部，藉此輸出前述預定的偏光方向的檢查光，在前述檢查光照射步驟中，利用前述濾光部來調整前述檢查光的前述預定的偏光方向。
  14. 如申請專利範圍第11至13項中任一項所述的缺陷檢查方法，其中，前述膜為具有直線偏光特性的光學膜，前述攝像部經由前述濾光部並利用相機對前述膜的前述檢查區域進行拍攝，在前述攝像步驟中，對前述濾光部通過的光的前述預定的偏光方向進行調整。
  15. 如申請專利範圍第11或12項所述的缺陷檢查方法，其中，前述膜為不具有偏光特性的膜，前述光照射部係使來自光源的光通過前述濾光部，藉此輸出前述預定的偏光方向的檢查光，在前述檢查光照射步驟中，利用前述濾光部來切換前述檢查光的前述預定的偏光方向，在前述攝像步驟中，前述攝像部係經由配置在前述膜與前述攝像部之間的第一直線偏光膜來拍攝前述檢查區域。
  16. 如申請專利範圍第11或12項所述的缺陷檢查方法，其中，前述膜為不具有偏光特性的膜，前述光照射部係使來自光源的光通過前述濾光部，藉此輸出前述預定的偏光方向的檢查光，前述攝像部係經由前述濾光部並利用相機來拍攝前述膜的前述檢查區域，在前述檢查光照射步驟中，係隔著配置在前述光照射部與前述膜之間的第一直線偏光膜而向前述膜照射前述檢查光，在前述攝像步驟中，對前述濾光部通過的光的前述預定的偏光方向進行調整。
  17. 一種膜的製造方法，係包括申請專利範圍第11至16項中任一項前述的缺陷檢查方法。
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