JP5278784B1 - パターン検査装置及びパターン検査方法、パターン基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明に係るパターン検査装置は、試料と共役な位置に配置され、一部の照明光の偏光状態を変化させ、偏光方向がそれぞれ異なる第1直線偏光、第2直線偏光を含む照明光を生成する1/2波長板130と、一方の直線偏光を第1方向に分割して第1、第2のビームを生成するルーフプリズムペアと、他方の直線偏光を第1方向と異なる第2方向に分割して第3、第4ビームを生成するルーフプリズムペアと、パターン基板における視野の一部である第1領域に第1ビームと第2ビームとを照射し、視野内において第1領域と異なる第2領域に第3ビームと第4ビームとを照射する対物レンズ105と、第1、第2ビームによる回折光を検出するTDI120a、第3、第4ビームによる回折光を検出するTDI120bとを備える。
【選択図】図1
Description
本発明の第3の態様に係るパターン検査装置は、上記の検査装置において、前記第1方向と前記第2方向とは直交していることを特徴とする。
これにより、直交する2方向のパターンを有するパターン基板の検査を高感度で行うことが可能となる。
本発明の実施の形態1に係るパターン検査装置について、図1〜3を用いて説明する。実施の形態1では、EUVマスクのパターン検査を行う検査装置を例として説明を行う。図1は、実施の形態1に係るパターン検査装置100の照明光学系全体の構成を示す図である。図2は、パターン検査装置100で用いられるビーム整形部の構成を示す図である。図3は、パターン検査装置100による照明光の照射状態を説明するための図である。
本発明の実施の形態2に係るパターン検査装置について、図5を用いて説明する。図5は、実施の形態2に係るパターン検査装置200の照明光学系全体の構成を示す図である。パターン検査装置200は通常のフォトマスクを検査する装置である。パターン検査装置200はフォトマスクに対して透過照明を行う。
101a、101b、101c、101d レンズ
102 ホモジナイザー
103a、103b、103c、103d 反射照明光
104 ハーフミラー
105 対物レンズ
105a 視野
106 EUVマスク
107a、107b ミラー
108 投影レンズ
109 空間分割ミラー
110 ビーム整形部
111a、111b PBS
112a、112b ミラー
113a、113b ルーフプリズムペア
120a、120b TDIカメラ
121a、121b センサー面
130 1/2波長板
200 パターン検査装置
201a、201b、201c、201d レンズ
202 ホモジナイザー
203a、203b、203c 透過照明光
204 コンデンサレンズ
205 対物レンズ
206 フォトマスク
207a、207b ミラー
208 投影レンズ
209 空間分割ミラー
220a、220b TDIカメラ
221a、221b センサー面
230 1/2波長板
310 ビーム整形部
311 PBS
312 ミラー
313 ルーフプリズムペア
410 ビーム整形部
411 PBS
412 ミラー
413 空間分割ミラー
L1 レーザ光
D11、D12、D13、D21、D22 回折光
A、B 照明領域
Claims (13)
- 試料と共役な位置に配置され、一部の照明光の偏光状態を変化させ、偏光方向がそれぞれ異なる第1直線偏光、第2直線偏光を含む照明光を生成する1/2波長板と、
前記第1直線偏光と前記第2直線偏光とを分離する分離手段と、前記第1直線偏光を第1方向に分割して第1ビーム及び第2ビームを生成する第1分割手段と、前記第2直線偏光を前記第1方向と異なる第2方向に分割して第3ビームと第4ビームを生成する第2分割手段とを含むビーム整形部と、
パターン基板における視野の一部である第1領域に前記第1ビームと前記第2ビームとを照射し、前記視野内において前記第1領域と異なる第2領域に前記第3ビームと前記第4ビームとを照射する光学系と、
前記第1、第2ビームによる前記パターン基板からの光を検出する第1検出器と、
前記第3、第4ビームによる前記パターン基板からの光を検出する第2検出器と、
を備えるパターン基板検査装置。 - 前記第1直線偏光の偏光方向と前記第2直線偏光の偏光方向とは直交していることを特徴とする請求項1に記載のパターン検査装置。
- 前記第1方向と前記第2方向とは直交していることを特徴とする請求項1又は2に記載のパターン検査装置。
- 前記第1、第2ビームにより前記第1方向の偏光ダイポール照明が構成され、
前記第3、第4ビームにより前記第2方向の偏光ダイポール照明が構成されることを特徴とする請求項1、2又は3に記載のパターン検査装置。 - 前記パターン基板は、X方向、Y方向に延びるパターンを有し、
前記第1方向は前記X方向に略平行であり、前記第2方向は前記Y方向に略平行であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のパターン検査装置。 - 前記ビーム整形部は、前記光学系の瞳位置に配置されていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のパターン検査装置。
- 前記ビーム整形部における前記第1直線偏光と、前記第2直線偏光の光路長は略等しいことを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載のパターン検査装置。
- 前記第1、第2の分割手段は、ルーフプリズムであることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載のパターン検査装置。
- 前記照明光生成手段は、前記パターン基板と共役な位置に配置され、入射する光の一部の偏光状態を変化させる1/2波長板であることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載のパターン検査装置。
- 前記1/2波長板は、前記照明光の断面の半分の位置まで挿入されている請求項9に記載のパターン検査装置。
- 偏光方向がそれぞれ異なる第1直線偏光、第2直線偏光を含む照明光を生成し、
前記第1直線偏光と前記第2直線偏光とを分離し、
第1直線偏光を第1方向に分割して第1のビーム及び第2のビームを生成し、
前記第2直線偏光を前記第1方向と異なる第2方向に分割して第3ビームと第4ビームを生成し、
生成された第1、第2、第3、第4ビームを合成してパターン基板に照射し、
前記第1、第2ビームによる前記パターン基板からの光を検出し、
前記第3、第4ビームによる前記パターン基板からの光を検出するパターン検査方法。 - 前記第1直線偏光の偏光方向及び前記第2直線偏光の偏光方向が、前記パターン基板に設けられたパターンに平行であることを特徴とする請求項11に記載のパターン検査方法。
- 請求項11又は12に記載の検査方法によりマスクを検査し
検査されたマスクの欠陥を修正し、
欠陥修正されたマスクを介して基板を露光し、
前記露光された基板を現像する現像するパターン基板の製造方法。
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