TW201903878A - 工作夾台 - Google Patents

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Abstract

[課題]設成避免發生下述之事態:由於在吸引保持板狀工件的工作台上於保持時將密封構件朝向保持面側擠壓來接觸於工件的被保持面,因而產生吸引力的洩漏。 [解決手段]一種工作夾台,是設置於對具有翹曲之板狀工件進行加工的加工裝置上,且具備:基台;板狀保持部,具備有吸引路,該吸引路是使配設於該基台上且面積比工件的面積稍小的保持面連通至吸引源;及環狀密封部,圍繞保持部且上端比保持面更突出,環狀密封部是在吸引源連通至保持面而使吸引力作用於保持面時接觸於工件的下表面的外周部分,且上端朝保持面方向上之從保持面的中心遠離的方向移動,而以保持面與上端成為相同高度並接觸於工件下表面的狀態來吸引保持工件。

Description

工作夾台
發明領域 本發明是有關於一種吸引保持板狀工件的工作夾台。
發明背景 以工作夾台的保持面吸引保持外周部分已向上翹曲之板狀工件的下表面,且在以磨石對已吸引保持在工作夾台上的板狀工件的上表面進行磨削的磨削裝置中,會由於板狀工件的翹曲,而導致在板狀工件的下表面的外周部分與工作夾台的保持面之間出現間隙。並且,會有工作夾台的吸引力從該間隙洩漏而變得無法吸引保持板狀工件的問題。為了處理這個問題,有設成將該間隙堵塞以使吸引力不洩漏的工作夾台(參照例如專利文獻1)。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1:日本專利特開2014-072510號公報
發明概要 發明欲解決之課題 在上述的專利文獻1中所記載的工作夾台,是設成以形成為環狀的密封構件將上述間隙堵塞,以使吸引力不洩漏。這是因為藉由設成使比板狀工件的翹曲力更大的吸引力作用至板狀工件並使密封構件變形成被擠壓,並使密封構件的上端與保持面成為齊平面,因而形成密封構件之作為密封的功能可被發揮。
但是,藉由例如將密封構件朝向工作夾台的保持面側擠壓,會有下述情況:密封構件變得未充分發揮作為密封的功能,亦即有變得容易產生吸引力的洩漏。雖然作為對策而使密封構件具有一定程度的彈力,但是具有這種一定程度的彈力的密封構件,會由於在吸引保持時被擠壓而蓄積有讓板狀工件從保持面遠離的方向的反彈力。因此,在吸引保持中作用於板狀工件之吸引力必須設得比反彈力更大。
據此,有防止產生下述事態之課題:在吸引保持板狀工件的工作夾台上,由於在吸引保持時將密封構件朝向保持面側擠壓來接觸於板狀工件的被保持面(下表面),而產生吸引力的洩漏。 用以解決課題之手段
用以解決上述課題之本發明是一種工作夾台,其是設置在藉由裝設有加工具之加工機構來對具有翹曲之板狀工件進行加工的加工裝置上,並具有吸引保持板狀工件之保持面,該工作夾台具備:基台;板狀的保持部,具備有吸引路,該吸引路是使配設於該基台之上且面積比板狀工件的面積稍小的該保持面連通至吸引源;及環狀密封部,圍繞該保持部且上端比該保持面更突出,該環狀密封部是在吸引源連通至該保持面而使吸引力作用於該保持面時接觸於板狀工件的下表面的外周部分,且該上端朝該保持面方向上之從該保持面的中心遠離的方向移動,而以該保持面與該上端成為相同高度並接觸於板狀工件的下表面的狀態,來防止該吸引力的洩漏並吸引保持板狀工件。 發明效果
本發明之工作夾台,因為具備基台;板狀的保持部,具備有吸引路,該吸引路是使配設於該基台之上且面積比板狀工件的面積稍小的保持面連通至吸引源;及環狀密封部,圍繞保持部且上端比保持面更突出,環狀密封部是在吸引源連通至保持面而使吸引力作用於保持面時接觸於板狀工件的下表面的外周部分,且上端朝保持面方向上之從保持面的中心遠離的方向移動,而以保持面與上端成為相同高度並接觸於板狀工件的下表面的狀態來吸引保持板狀工件,所以可以在不產生吸引力的洩漏的情形下,吸引保持板狀工件。又,吸引保持時的板狀工件,雖然具有源自翹曲之從保持面反彈之力,但由於不存在環狀密封部的反彈力(欲從已變形的狀態回復為原本的狀態之力)進一步施加於板狀工件之情形,因此變得可更確實地吸引保持板狀工件。
用以實施發明之形態 圖1是顯示具有吸引保持板狀工件W的保持面310之工作夾台3的分解立體圖,圖2是顯示已組裝的狀態之工作夾台3的立體圖。工作夾台3具備有基台30、板狀的保持部31與環狀密封部32,該板狀的保持部31具備有使配設於基台30之上且面積比板狀工件W的面積稍小的保持面310連通至吸引源7的吸引路311(在圖1中未圖示),該環狀密封部32是圍繞保持部31。 雖然工作夾台3是配設在例如藉由裝設有磨削輪作為加工具的加工機構來對具有翹曲的板狀工件W進行磨削加工的手動式的磨削裝置上,但是所配設的加工裝置並非限定於此的加工裝置。
板狀工件W是例如於加工後成為電路板(PCB)等的工件,並具備縱橫之長度各自為數十公分的矩形狀的外形,且是形成為其上表面Wa尚未組裝有器件或配線等的狀態。在圖1所示的例子中,雖然板狀工件W是Y軸方向兩側的外周部分朝向上方翹曲,但亦可為四邊的外周部分全部朝向上方翹曲。
基台30是例如將規定的合金等形成為圓盤狀而成的基台,且在其上表面30a是將複數個(在圖1所示的例子中為10個)螺孔300隔著規定的間隔而形成為大致四角環狀。
板狀的保持部31是例如由不銹鋼(SUS)等金屬材料所構成的矩形狀的平板,且能夠以其上表面即保持面310吸引保持板狀工件W,且保持面310的面積是形成為比板狀工件W的面積稍小的面積。保持部31是以圖未示的螺栓固定在基台30的上表面30a的中央、或是以接著劑來固接。在保持面310上是將複數個吸引孔310c縱橫地隔著規定的間隔來形成。如圖5所示,各吸引孔310c是連通於形成在板狀的保持部31的內部的吸引路311,且在開口於保持部31的下表面的吸引路311的一端,是透過基台30而連通有由真空產生裝置及壓縮機等所構成的吸引源7。
具備四角環狀的外形之圖1所示的環狀密封部32,是以例如橡膠或海綿等具備適度的彈性的構件所形成,且具備有例如嵌合保持部31的開口320、圍繞已嵌合於開口320的保持部31的變形部321、及從變形部321的下端朝向開口320的外側水平地延伸的矩形狀的外延部322。
由側面視角下矩形狀的4片側壁所構成的變形部321,因為在各側壁的接合部分(角落部分)形成有縱方向(Z軸方向)的凹口,所以各側壁變得可朝向開口320的外側彎曲。
環狀密封部32,是例如藉由圖1所示的四個固定板35而形成為圍繞保持部31並固定於基台30的上表面30a。固定板35具備例如縱截面成為大致L字形的外形,且具備有平板部350及支撐部351,該平板部350是將螺栓插通孔350c朝向厚度方向(Z軸方向)貫通形成,該支撐部351是在平板部350豎立設置且從側邊支撐環狀密封部32的變形部321的下側部分。再者,亦可將4個固定板35一體地形成為四角環狀,又,亦可將固定板35與環狀密封部32一體地形成。 此外,亦可將由4片側壁所構成的變形部321一體地形成為四角環狀。再者,在將變形部321一體形成的情況下,側壁的角落部分宜為比中央部分更容易變形的材質或形狀。 作為變形部321的側壁的角落部分形成為比中央部分更容易變形的材質的情況之一例,是如圖3所示,將側壁的中央部分以橡膠板G形成,且將相接於橡膠板G的角落部分以海綿P來形成,而將以海綿P所形成的角落部分做成容易變形。 作為變形部321的側壁的角落部分形成為比中央部分更容易變形的形狀的情況之一例,是如圖4所示,相較於整體以橡膠板或海綿所形成的變形部321的中央部分的厚度,將角落部分的厚度形成得較薄來做成容易變形。
將基台30上的保持部31嵌入環狀密封部32的開口320,而將環狀密封部32載置於基台30的上表面30a。接著,將4個固定板35各自在環狀密封部32的外延部322上以沿著變形部321的方式載置,此外,讓基台30的螺孔300與各固定板35的螺栓插通孔350c重合。並且,使10支固定螺栓36(在圖1中,僅顯示一支)於各螺栓插通孔350c穿過並螺合於各螺孔300,藉此,成為在固定板35的平板部350的下表面與基台30的上表面30a之間將環狀密封部32的外延部322夾入的狀態,並如圖2所示,成為將環狀密封部32固定在基台30上的狀態。 如圖2所示,當將環狀密封部32以圍繞保持部31的狀態固定在基台30上時,環狀密封部32的變形部321的上端321a是成為位於比保持部31的保持面310更朝上方規定距離的狀態,即成為比保持面310更朝向上方突出的狀態。
以下,說明關於在圖5所示之吸引保持板狀工件W之時的工作夾台3的動作。首先,將板狀工件W搬送到工作夾台3上,並定位成板狀工件W的中心大致位於工作夾台3的保持面310的中心。接著,將板狀工件W以將下表面Wb朝向下側的狀態來載置於保持面310上。
藉由作動吸引源7,將吸引源7所產生的吸引力透過吸引路311傳達至吸引孔310c,而使吸引力作用於保持面310。藉由已傳達至保持面310之吸引力,將板狀工件W一面矯正翹曲一面藉由保持面310從下表面Wb的中央側來進行吸引保持,以進一步使環狀密封部32的變形部321的上端321a接觸於板狀工件W的下表面Wb的外周部分。
因為板狀工件W的下表面Wb的外周部分的翹曲一面被矯正一面朝變形部321的上端321a進行接觸,所以會使變形部321的上端321a朝保持面方向上之從保持面310的中心遠離的方向移動,而使變形部321的上端321a如圖6所示地朝向外側彎曲,並使保持面310與上端321a成為相同高度。其結果,成為環狀密封部32無間隙地接觸於板狀工件W的下表面Wb的外周部分而充分發揮作為密封的功能的狀態,而可讓適當的吸引力作用在板狀工件W的下表面Wb。 再者,無論是在如圖3所示地將變形部321的側壁的角落部分以比中央部分更容易變形的材質來形成的情況下、或是如圖4所示地將變形部321的側壁的角落部分形成為比中央部分更容易變形的形狀的情況下,都是藉由吸引保持板狀工件W,而使上端321a隨著變形部321的角落部分的變形一起朝向外彎曲,且讓保持面310與上端321a成為相同高度,而成為環狀密封部32充分發揮作為密封的功能之狀態。
本發明之工作夾台3,因為具備基台30;板狀的保持部31,具備有吸引路311,該吸引路311是使配設於基台30之上且面積比板狀工件W的面積稍小的保持面310連通至吸引源7;及環狀密封部32,圍繞保持部31且上端321a比保持面310更突出,環狀密封部32是在吸引源7連通至保持面310而使吸引力作用於保持面310時接觸於板狀工件W的下表面Wb的外周部分,且上端321a朝保持面310方向上之從保持面的中心遠離的方向移動,而以保持面310與上端321a成為相同高度並接觸於板狀工件W的下表面Wb的狀態來吸引保持板狀工件W,所以可以在不產生吸引力的洩漏的情形下,吸引保持板狀工件W。又,在吸引保持時,作業人員變得毋須從上方將板狀工件W朝向保持面310來按壓。 吸引保持時的板狀工件W,因為具有源自翹曲之從保持面310反彈之力(欲將板狀工件W的外周部分朝上方舉起之力),且環狀密封部32所具有之欲從已變形的狀態回復為原本的狀態之力的方向,相對於藉由保持面310而被吸引保持的板狀工件W並非是垂直的+Z方向,而是成為朝保持面310的中心接近的方向,所以不會有環狀密封部32的回復力進一步施加至源自板狀工件W的翹曲之從保持面310反彈之力上的情形。因此,變得可更確實地吸引保持板狀工件W。
本發明之工作夾台並非受限於上述記載的例子之工作夾台,又,關於圖示於附加圖式之工作夾台3的各構成等,也不受限於此,且可在能夠發揮本發明之效果的範圍內適當變更。
3‧‧‧工作夾台
30‧‧‧基台
30a‧‧‧基台的上表面
300‧‧‧螺孔
31‧‧‧保持部
310‧‧‧保持面
310c‧‧‧吸引孔
311‧‧‧吸引路
32‧‧‧環狀密封部
320‧‧‧開口
321‧‧‧變形部
321a‧‧‧上端
322‧‧‧外延部
35‧‧‧固定板
350‧‧‧平板部
350c‧‧‧螺栓插通孔
351‧‧‧支撐部
36‧‧‧固定螺栓
7‧‧‧吸引源
G‧‧‧橡膠板
P‧‧‧海綿
W‧‧‧板狀工件
Wa‧‧‧板狀工件的上表面
Wb‧‧‧板狀工件的下表面
X、+X、-X、+Y、-Y、+Z、-Z‧‧‧方向
圖1是顯示工作夾台的構造之一例的分解立體圖。 圖2是顯示工作夾台之一例的立體圖。 圖3是局部地顯示使環狀密封部的變形部的角落部分形成為容易變形之材質的情況之一例的立體圖。 圖4是局部地顯示使環狀密封部的變形部的角落部分形成為容易變形之形狀的情況之一例的立體圖。 圖5是顯示將板狀工件載置於工作夾台之狀態的截面圖。 圖6是顯示以工作夾台吸引保持板狀工件之狀態的截面圖。

Claims (1)

  1. 一種工作夾台,是設置在藉由裝設有加工具之加工機構來對具有翹曲之板狀工件進行加工的加工裝置上,並具有吸引保持板狀工件之保持面,該工作夾台具備: 基台; 板狀的保持部,具備有吸引路,該吸引路是使配設於該基台之上且面積比板狀工件的面積稍小的該保持面連通至吸引源;及 環狀密封部,圍繞該保持部且上端比起該保持面更突出, 該環狀密封部是在吸引源連通至該保持面而使吸引力作用於該保持面時接觸於板狀工件的下表面的外周部分,且該上端朝該保持面方向上之從該保持面的中心遠離的方向移動,而以該保持面與該上端成為相同高度並接觸於板狀工件的下表面的狀態,來防止該吸引力的洩漏並吸引保持板狀工件。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6880112B2 (ja) * 2019-07-08 2021-06-02 株式会社日本ピスコ 移動装置の吸着機構
CN112792711B (zh) * 2020-12-31 2022-05-17 武汉风帆电化科技股份有限公司 一种晶硅片碱抛光装置及抛光工艺
JP2023061565A (ja) 2021-10-20 2023-05-02 株式会社ディスコ ウェーハの研削方法及び研削装置

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2520977A (en) * 1947-05-08 1950-09-05 Lens Block Corp Vacuum lens block
JPH03289154A (ja) * 1990-04-05 1991-12-19 Toshiba Corp 半導体ウエーハチャック装置
JP2768867B2 (ja) * 1991-03-29 1998-06-25 株式会社日立製作所 真空チャック装置
TW200303593A (en) * 2002-02-19 2003-09-01 Olympus Optical Co Substrate sucking apparatus
JP5446662B2 (ja) * 2008-09-26 2014-03-19 Nok株式会社 密封構造
JP5486970B2 (ja) * 2010-03-17 2014-05-07 東京エレクトロン株式会社 基板脱着方法及び基板処理装置
JP2014072510A (ja) * 2012-10-02 2014-04-21 Disco Abrasive Syst Ltd チャックテーブル
CN203529438U (zh) * 2013-07-22 2014-04-09 温州阿尔贝斯气动有限公司 一种真空吸盘
CN105161449A (zh) * 2014-05-30 2015-12-16 盛美半导体设备(上海)有限公司 晶圆固定装置
JP6325933B2 (ja) * 2014-07-28 2018-05-16 日本特殊陶業株式会社 真空チャック
JP6732429B2 (ja) * 2014-11-28 2020-07-29 キヤノン株式会社 基板保持装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法
JP6400120B2 (ja) * 2014-12-12 2018-10-03 キヤノン株式会社 基板保持装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法
CN204584958U (zh) * 2015-01-26 2015-08-26 青海青玻实业有限公司 一种玻璃搬运用吸盘装置
JP6486770B2 (ja) * 2015-05-20 2019-03-20 株式会社ディスコ 切削装置
CN207795254U (zh) * 2018-01-15 2018-08-31 廊坊市建科汇峰科技有限公司 盾构机用密封圈

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