TW201841847A - 導電糊料組成物及用其製成的半導體裝置 - Google Patents

導電糊料組成物及用其製成的半導體裝置 Download PDF

Info

Publication number
TW201841847A
TW201841847A TW107108764A TW107108764A TW201841847A TW 201841847 A TW201841847 A TW 201841847A TW 107108764 A TW107108764 A TW 107108764A TW 107108764 A TW107108764 A TW 107108764A TW 201841847 A TW201841847 A TW 201841847A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
paste composition
insulating layer
paste
oxide
composition
Prior art date
Application number
TW107108764A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI745562B (zh
Inventor
卡曼 托拉狄
保羅 道格拉斯 凡諾依
起洁 郭
布萊恩J 勞林
吉斯匹 史卡德拉
Original Assignee
美商杜邦股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 美商杜邦股份有限公司 filed Critical 美商杜邦股份有限公司
Publication of TW201841847A publication Critical patent/TW201841847A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI745562B publication Critical patent/TWI745562B/zh

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/14Conductive material dispersed in non-conductive inorganic material
    • H01B1/16Conductive material dispersed in non-conductive inorganic material the conductive material comprising metals or alloys
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/0224Electrodes
    • H01L31/022408Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
    • H01L31/022425Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D1/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on inorganic substances
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/24Electrically-conducting paints
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40Additives
    • C09D7/60Additives non-macromolecular
    • C09D7/61Additives non-macromolecular inorganic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/20Conductive material dispersed in non-conductive organic material
    • H01B1/22Conductive material dispersed in non-conductive organic material the conductive material comprising metals or alloys
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
    • H01L21/71Manufacture of specific parts of devices defined in group H01L21/70
    • H01L21/768Applying interconnections to be used for carrying current between separate components within a device comprising conductors and dielectrics
    • H01L21/76838Applying interconnections to be used for carrying current between separate components within a device comprising conductors and dielectrics characterised by the formation and the after-treatment of the conductors
    • H01L21/76841Barrier, adhesion or liner layers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
    • H01L21/71Manufacture of specific parts of devices defined in group H01L21/70
    • H01L21/768Applying interconnections to be used for carrying current between separate components within a device comprising conductors and dielectrics
    • H01L21/76838Applying interconnections to be used for carrying current between separate components within a device comprising conductors and dielectrics characterised by the formation and the after-treatment of the conductors
    • H01L21/76841Barrier, adhesion or liner layers
    • H01L21/7685Barrier, adhesion or liner layers the layer covering a conductive structure
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/0216Coatings
    • H01L31/02161Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
    • H01L31/02167Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells
    • H01L31/02168Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells the coatings being antireflective or having enhancing optical properties for the solar cells
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/0224Electrodes
    • H01L31/022408Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
    • H01L31/022425Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells
    • H01L31/022441Electrode arrangements specially adapted for back-contact solar cells
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/042PV modules or arrays of single PV cells
    • H01L31/048Encapsulation of modules
    • H01L31/0481Encapsulation of modules characterised by the composition of the encapsulation material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/06Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers
    • H01L31/068Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers the potential barriers being only of the PN homojunction type, e.g. bulk silicon PN homojunction solar cells or thin film polycrystalline silicon PN homojunction solar cells
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/18Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/18Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
    • H01L31/1804Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof comprising only elements of Group IV of the Periodic Table
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/0248Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
    • H01L31/0256Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by the material
    • H01L31/0264Inorganic materials
    • H01L31/028Inorganic materials including, apart from doping material or other impurities, only elements of Group IV of the Periodic Table
    • H01L31/0288Inorganic materials including, apart from doping material or other impurities, only elements of Group IV of the Periodic Table characterised by the doping material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/0248Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
    • H01L31/0352Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their shape or by the shapes, relative sizes or disposition of the semiconductor regions
    • H01L31/035272Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their shape or by the shapes, relative sizes or disposition of the semiconductor regions characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Sustainable Development (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Sustainable Energy (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Electrodes Of Semiconductors (AREA)

Abstract

本發明提供了一種厚膜糊料組成物,該厚膜糊料組成物包含分散在有機介質中的導電金屬和氧化物組成物。該糊料組成物被印刷在具有一個或多個絕緣層的太陽能電池裝置的正側面上並被燒製以形成電極,並且適用於具有高度摻雜和輕摻雜的發射極結構兩者的裝置。

Description

導電糊料組成物及用其製成的半導體裝置
本揭露涉及一種導電糊料組成物,該導電糊料組成物在多種電氣和電子裝置的構造中是有用的;並且更具體地涉及一種在產生導電結構(包括提供與光伏打打裝置的低接觸電阻連接的電極)中有用的糊料組成物;用此類糊料組成物構造的裝置;以及一種用於構造該等裝置之方法。
常規的光伏打電池結合具有在不同多數-載子導電類型的半導體材料之間的結的半導體結構,如在n型半導體與p型半導體之間形成的p-n結。更具體地,結晶Si光伏打電池典型地藉由將受控雜質(稱為摻雜劑)加入到純化的矽(其係本征半導體)中製成。來自IUPAC第13族的摻雜劑(例如,B)被稱為“受主摻雜劑”並產生p型材料,其中多數電荷載子係正“電洞”,或電子空位。來自IUPAC第15族的摻雜劑(例如,P)被稱為“施主摻雜劑”並產生n型材料,其中多數電荷載子係負電子。摻雜劑可以藉由在矽晶體生長期間直接包含在熔體中添加到本體材料中。表面的摻雜通常藉由在表面處提供呈液體或氣體形式的摻雜劑,並且然後熱處理基礎半導體以使摻雜劑原子向內擴散來實現。離子注入,可能有進一步熱處理,也用於表面摻雜。在一些實現方式中,n型材料和/或p型材料可以各自分別由具有不同水平的相對摻雜劑濃度的區域構成。具有增強量的摻雜劑的區域常規地被表示為n-、n+、n++、以及p-、p+、p++,指示按順序摻雜水平漸增的區域。
當電池被諸如太陽光的適當波長的電磁輻射照射時,隨著電子-電洞對電荷載子遷移到結的電場區域並分開,跨p-n結產生電勢(電壓)差。空間上分開的電荷載子藉由在一個或兩個表面處與半導體接觸的電極收集。電池因此被適配成向連接到電極的電力負載供應電流,從而提供能夠做有用功的從入射太陽能轉換的電能。由於太陽光幾乎始終是光源,光伏打電池通常被稱為“太陽能電池”。理想地,每個電極與相關聯的裝置之間存在低電阻連接,並且電極本身具有高電導率,使得在將入射光能轉換為可用電能中的來源的效率最大化,具有在該裝置內的最小歐姆損耗。
工業光伏打電池通常以平面結構的形式提供,例如基於摻雜的晶體矽晶圓的平面結構,該平面結構已被金屬化,即提供有呈導電金屬觸點的形式的電極,所產生的電流可以通過該等電極流動。最常見地,該等電極被提供在總體平面電池結構的相反側上。常規地,它們藉由將合適的導電金屬糊料施用到半導體主體的相應表面上並且此後燒製該糊料以形成薄的金屬層來產生。
在常見的平面p基構型中,負電極位於電池的待暴露於光源的一側(“前”、“光接收”或“太陽”側,在普通太陽能電池的情況下其係暴露於陽光的一側);正電極位於電池的另一側(“背”或“非照射”側)。例如,許多商業電池係使用200 µm厚的p型Si晶圓與n型Si層的0.4 µm厚層(在前表面處)構造的。p型晶圓係基底。n型層係發射體並且藉由磷(P)摻雜劑擴散或離子注入到Si晶圓內製成。還已知具有平面n基構型的電池,其中p型和n型區域與p基構型互換。太陽能光伏打系統被認為係環境有益的,因為它們降低了在常規發電廠中對燃燒化石燃料的需求。
光伏打電池通常被製造成具有在它們的正側面表面上的絕緣層以提供使入射光的利用率最大化的抗反射特性。然而,在該構型中,通常必須除去絕緣層的一部分以允許上覆的正側面電極與下面的半導體接觸。指定用於製造正側面電極的導電金屬糊料典型地包括用作印刷用載體的有機介質中攜帶的玻璃料和導電物質(例如銀顆粒)。電極可以藉由以下方式形成:以適當的圖案(例如,藉由網版印刷)沈積糊料組成物並且此後燒製該糊料組成物和基底以溶解或以其他方式穿透絕緣的抗反射層並燒結金屬粉末,使得形成與半導體結構的電連接。
該糊料組成物的具體配方對用其構造的電極的電學和機械特性二者都具有強大但高度不可預測的影響。為了獲得成品電池的良好的電學特徵(例如,高光轉換效率和填充率以及低接觸電阻和電源電阻),該組成物必須在燒製期間完全穿透或蝕刻穿過抗反射層以便建立良好的電接觸,而並不損害下面的半導體。然而,還希望的是在燒製時形成電極與基底之間的強烈黏附性結合。在許多常規的糊料組成物的情況下,尚未證明有可能可靠地燒製印刷的晶圓,以便同時獲得良好的黏附性和電特性。
雖然在形成諸如光伏打電池的裝置中有用的各種方法和組成物係已知的,然而仍然需要允許製造圖案化導電結構的組成物,該等導電結構提供改善的整體裝置電性能並且有利於快速且高效地以常規和新穎的架構二者製造此類裝置。
本揭露的實施方式提供了一種用於形成位於半導體基底上的導電結構之糊料組成物,該半導體基底在其主表面上具有絕緣層,該糊料組成物包含: 無機固體部分,該無機固體部分包含: (a) 按固體的重量計93%至99%的導電金屬源,以及 (b) 按固體的重量計1%至7%的基於氧化物的易熔材料,以及 有機載體,該無機固體部分的成分分散在該有機載體中, 其中該基於氧化物的易熔材料包含按氧化物的陽離子百分比計的以下物質: 20%至35% PbO, 35%至48% TeO2 , 5%至12% Bi2 O3 , 3.5%至6.5% WO3 , 0至2% B2 O3 , 10%至20% Li2 O,以及 0.5%至8% Na2 O, 其前提係該易熔材料中的TeO2 的陽離子百分比與WO3 的陽離子百分比的比率範圍係從7.5 : 1至10 : 1, 並且其中當被沈積在該絕緣層上並被燒製時,該糊料組成物能夠穿透該絕緣層並形成電連接到該半導體基底上的該導電結構。
另一個實施方式提供了一種用於形成導電結構之方法,該方法包括: (a) 提供具有第一和第二主表面和位於該第一主表面上的第一絕緣層的半導體基底; (b) 將前述糊料組成物施用到該第一絕緣層的至少一部分上,並且 (c) 燒製該半導體基底、該第一絕緣層和該糊料組成物,使得該第一絕緣層被穿透,形成該導電結構,並且在該導電結構與該半導體基底之間建立電連接。
還揭露了在前述方法的實踐中使用本發明糊料組成物形成的製品。此類製品包括半導體裝置和光伏打電池。本發明的方法可用於形成接觸矽半導體之電極,該等電極包括藉由任何在此所描述的方法形成的導電結構。本發明的糊料組成物和方法在太陽能電池中使用的輕摻雜的Si晶圓上形成電極中是尤其有用的。
本揭露的不同方面涉及需要具有機械穩健的並且耐久的高導電性電極的高性能半導體和其他電子裝置,連同適合於它們的製造之方法。
一方面提供了一種糊料組成物,該糊料組成物在產生用於此類裝置中的導電結構中是有用的。該糊料組成物包含功能性導電組分,諸如導電金屬源;基於氧化物的易熔材料;以及有機載體,該有機載體充當分散於其中的無機成分的載體。除了溶劑之外,該有機載體可以包括可以賦予希望的功能特性的一種或多種組分如聚合物、表面活性劑、增稠劑、觸變膠、和黏合劑,包括但不限於在沈積和電極形成過程中希望的那些。
在另一個方面,該糊料組成物有益地用於製作光伏打裝置的高品質電極。理想地,該糊料組成物促進金屬化的形成,該金屬化:(a) 提供與基底的相對低的電阻接觸;(b) 保存下面的基底的電氣特性;並且 (c) 牢固地黏附至該下面的半導體基底上。據信,合適的糊料組成物有助於蝕刻表面絕緣層,該等絕緣層通常被包括在半導體結構如光伏打電池中,如使導電電極與下面的半導體之間的良好接觸所需的。
另外的實施方式提供一種光伏打電池,該光伏打電池包括一個或多個用本發明糊料組成物製成的導電結構。此類電池可以在一些實現方式中提供高光電轉換效率、高填充率、低串聯電阻、以及電極與基底之間的良好的機械黏附中的一項或多項的任何組合。
典型地,電極和其他類似的導電跡線係藉由將糊料組成物網版印刷到基底上提供的,雖然可替代地可使用其他沈積形式,包括但不限於電鍍、擠出或共擠出、從注射器分配、噴墨、成型印刷、多版印刷、或帶式印刷。在沈積之後,將該組成物在升高的溫度下燒製。在實際燒製之前視情況進行單獨的乾燥步驟。
本發明組成物有益地用於製造用於常規光伏打裝置的電極以及具有交替架構的電極中。它能夠製成電極,該等電極提供與輕摻雜的發射體(LDE)晶圓的高品質連接,該等晶圓通常被認為對於以前的糊料是有問題的。
本發明組成物也可用於形成用於其他目的的導電跡線,如有待被結合到電氣或電子裝置中的半導體模組中使用的那些。如熟練技術人員將會認識到的那樣,在此所述的糊料組成物可被稱為“導電的”,意指該組成物可被形成為某種結構並且此後被加工以表現出足以用於在裝置和與其連接的電路之間傳導電流的導電性。
I. 無機組分
A. 導電金屬
本發明糊料組成物包括導電金屬源。示例性的金屬包括但不限於銀、金、銅、鎳、鈀、鉑、鋁、以及它們的合金和混合物。在一些實施方式中,該導電金屬選自由以下各項組成之群組:Ag、Cu和Pd;可替代地,該導電金屬基本上由銀組成,這有益於其可加工性和高導電性。然而,包含至少一些非貴金屬的組成物也可用於降低成本或改變其他特性。
該導電金屬可作為金屬粉末直接結合在本發明糊料組成物中。在另一個實施方式中,直接結合兩種或更多種此類金屬或合金的混合物。可替代地,金屬由金屬氧化物或鹽提供,該金屬氧化物或鹽在暴露於燒製熱時分解以形成金屬。如在此所用,術語“銀”應當理解為係指元素銀金屬、銀的合金、以及它們的混合物,並且可進一步包括來源於氧化銀(Ag2 O或AgO)或銀鹽諸如AgCl、AgNO3 、AgOOCCH3 (乙酸銀)、AgOOCF3 (三氟乙酸銀)、Ag3 PO4 (正磷酸銀)、或它們的混合物的銀。與糊料組成物的其他組分相容的任何其他形式的導電金屬也可用在某些實施方式中。可以類似地得到用於功能性導電材料的本發明糊料中使用的其他金屬。
在本發明糊料組成物中使用的導電金屬粉末可被提供為具有以下形態的精細分散的顆粒,包括但不限於以下形態中的任何一種或多種:粉末形式、薄片形式、球狀形式、棒形式、粒狀形式、結節形式、層狀或塗覆形式、其他不規則形式、或它們的混合物。通常,銀薄片藉由研磨過程由較大的顆粒產生,而大致球形的顆粒由沈澱過程產生。
導電金屬或導電金屬源也可被提供為膠態懸浮液,在這種情況下,膠態載體將不被包括在對固體(膠態材料為它們的一部分)的重量百分比的任何計算中。
金屬的粒度不受任何特定限制。如在此所用,“粒度”旨在係指“中值粒度”或d50 ,藉由中值粒度係指50%體積分佈尺寸。粒度分佈還可以藉由其他參數,例如d90 來表徵,這意味著按體積計90%的顆粒小於d90 。體積分佈粒度可藉由熟習該項技術者所理解的許多方法來確定,包括但不限於Microtrac粒度分析儀(蒙哥馬利維爾,賓夕法尼亞州(Montgomeryville,PA))所利用的雷射繞射方法和分散方法。也可使用雷射散射,例如,使用從堀場儀器公司(Horiba Instruments Inc.)(爾灣,加利福尼亞州(Irvine, CA))可商購的型號LA-910粒度分析儀。在不同的實施方式中,如使用Horiba LA-910分析器測量的,金屬顆粒的中值尺寸係大於0.2 μm且小於10 μm、或大於0.5 μm且小於10 μm、或大於0.4 μm且小於5 μm、或大於0.5 μm且小於10 μm。
在實施方式中,本發明的糊料組成物的固體部分包括主要為球形並且可以具有相對窄的尺寸分佈的銀顆粒。可替代地,顆粒可以是多個尺寸分佈的混合物,並且一些或全部顆粒可以具有不同的形態。
如下文進一步描述的,導電金屬或導電金屬源可分散在有機載體中,該有機載體用作用於存在於配製物中的金屬相和其他成分的載體。導電金屬可以包含該糊料組成物的組成的任何多種百分比。為了達到成品導電結構的高電導率,通常較佳的是導電金屬的濃度盡可能得高,同時保持糊料組成物的涉及加工或最終用途的其他所需特性,例如對於均勻、機械穩健的並且黏附性的接觸和充分滲透存在於該基底上的任何表面鈍化和/或抗反射塗層的需要。使導電結構與下面的裝置之間的體電阻率和接觸電阻最小化有益地傾向於降低裝置的電源電阻。
在一個實施方式中,導電金屬或從其衍生該金屬的物質包含該厚膜糊料組成物的固體組分的從約93 wt%至約99 wt%。在另外的實施方式中,基於該厚膜糊料組成物的固體組分,導電金屬源包含從約93 wt%、94 wt%、或95 wt%至約98 wt%或99 wt%。
在此所用的導電金屬,尤其是當呈粉末形式時,可為塗覆的或未塗覆的;例如,其可至少部分地塗覆有表面活性劑以有利於加工。合適的塗層表面活性劑包括例如硬脂酸、棕櫚酸、硬脂酸鹽、棕櫚酸鹽、以及它們的混合物。也可利用的其他表面活性劑包括月桂酸、油酸、癸酸、肉豆蔻酸、亞油酸、以及它們的混合物。也可利用的其他表面活性劑包括聚環氧乙烷、聚乙二醇、苯并***、聚(乙二醇)乙酸和其他類似的有機分子。在塗層表面活性劑中使用的合適的抗衡‑離子包括但不限於氫、銨、鈉、鉀、以及它們的混合物。當導電金屬為銀時,其可以,例如,塗覆有含磷化合物。
B. 基於氧化物的易熔材料
本發明糊料組成物包含基於氧化物的易熔材料,其應理解為係指含有一種或多種類型的陰離子(其中至少80%係氧陰離子)和陽離子的組成物。在不同的實施方式中,氧化物組分的至少90%、95%、98%、或基本上所有的陰離子係氧陰離子。
該易熔材料典型地呈精細分散的粉末的形式。術語“易熔”,如在此使用的,係指材料在加熱(諸如在燒製操作中使用的加熱)時變成流體的能力。該易熔材料可以是結晶或者部分或完全玻璃狀或無定形的。在實施方式中,在此該易熔材料係氧化物粉末,例如玻璃料,這係指可以由粉碎操作產生的精細粉末狀的玻璃材料。
在一些實施方式中,該易熔材料由一種或多種易熔亞組分構成。也就是說,該氧化物組分可以包含單一、均勻且緊密混合的材料或具有不同的可識別的組成物的複數成分材料。例如,該易熔材料可以包含玻璃材料或兩種或更多種玻璃材料的混合物。應當理解的是,首先被完全熔融(並因此緊密混合)的一些混合氧化物可在冷卻後相分離成具有不同組成的晶粒、區域或域的微結構。此種微結構仍然被認為具有緊密混合的陽離子。
原子水平的緊密混合與物理混合不同。在後者中,複數成分材料(每種典型地由宏觀顆粒組成)貫穿整個製備保持區別的,例如,如由混合不同粉末而不在任何點處將它們熔融在一起而產生的。
如在此所用,術語“玻璃”係指微粒固體形式,如氧化物或氟氧化物,其至少主要是無定形的,這意味著短程原子有序緊鄰任何選定原子即在第一配位殼層中被保留,但在較大原子能級距離處耗散(即,不存在長程週期性有序)。因此,完全無定形材料的X-射線繞射圖呈現出結晶材料的寬的、擴散峰,並且不是輪廓分明的窄峰。在後者中,特徵晶面的規則間距產生窄峰,該等窄峰在倒易空間中的位置係根據布拉格定律。
應當理解的是,取決於其元素含量和製備記錄,部分或完全結晶的易熔材料可包含單個或多個結晶相。技術人員將認識到在一些情況下熔融並且然後固化不對應於單一結晶相的組成物可導致具有不同組成和原子結構的區域的微結構,即使該等不同構成元素最初藉由完全熔融緊密混合。這樣的再固化材料的粉末X-射線繞射圖案將表現出對應於其中的結晶相的峰的重疊。只要在熔融操作期間該等構成原子緊密化學地混合,再固化材料被認為係均質的、緊密的混合物,即使它具有多晶微結構,其中可辨認地存在兩種結晶成分的晶粒,雖然是相互混合的。
如使用Horiba LA-910分析器測量的,本發明組成物中的易熔材料的中值粒度可在約0.5至10 μm、或約0.8至5 μm、或約1至3 μm的範圍內。
在不同的實施方式中,該厚膜糊料可包括基於固體按重量計1%至7%、1.5%至5%、1.5%至4%、或2%至3.5%的量的氧化物組成物。
易熔材料
在實施方式中,作為易熔材料有用地結合在本發明的糊料組成物中的鉛-碲-氧化物(Pb-Te-O)組成物,基於氧化物的組成物,包含以下各項、基本由以下各項組成、或由以下各項組成: 20%至35% PbO, 35%至48% TeO2 , 5%至12% Bi2 O3 , 3.5%至6.5% WO3 , 0至2% B2 O3 , 10%至20% Li2 O,以及 0.5%至8% Na2 O, 基於氧化物的陽離子百分比,並且其前提係該易熔材料中的TeO2 的陽離子百分比與WO3 的陽離子百分比的比率範圍係從7.5 : 1、8 : 1、8.5 : 1、或9 : 1至10 : 1。該Pb-Te-O組成物可以由組合提供以上組成物的氧化物粉末的混合物來製備。
在一些實施方式中,該Pb-Te-O組成物進一步包含至少一種附加成分,包括但不限於以下各項中的任一項:TiO2 、SiO2 、K2 O、Rb2 O、Cs2 O、Al2 O3 、MgO、CaO、SrO、BaO、V2 O5 、ZrO2 、HfO2 、MoO3 、Ta2 O5 、RuO2 、Mn2 O3 、Ag2 O、ZnO、Ga2 O3 、GeO2 、In2 O3 、SnO2 、Sb2 O3 、P2 O5 、CuO、NiO、Cr2 O3 、Fe2 O3 、CoO、Co2 O3 、Co3 O4 、Y2 O3 、鑭系元素氧化物、或它們的混合物。(術語“鑭系元素”應理解為共同地指具有57至71的原子序數的週期表的元素,即,La-Lu。)在另一個實施方式中,該附加成分係SiO2 、Ag2 O、ZnO、P2 O5 、V2 O5 、Al2 O3 、MgO、TiO2 、Cr2 O3 、CuO、或ZrO2 中的一種或多種。該等附加成分的合計量可以範圍為從下限至上限,其中基於總Pb-Te-O組成物,該下限係0、0.25、0.5、1、2、或5 wt%並且該上限係7.5、10、或15 wt%。
在一個實施方式中,已經發現含有Li2 O的Pb-Te-O玻璃組成物在使玻璃蝕刻穿過太陽能電池晶圓上的SiNx :Hy 和相似的鈍化或抗反射層中是有效的。其他鹼金屬氧化物(Na2 O、K2 O、Cs2 O、和Rb2 O)典型地是較不有效的蝕刻劑,儘管它們可以增強玻璃的其他特性並且因此也可以有益地被包括在內。在不同的實施方式中,總鹼金屬氧化物含量可為0至5 wt%、0.1 wt%至3 wt%、或0.25 wt%至3 wt%。
在實施方式中,該Pb-Te-O可包括兩種或更多種不同粉末的組合;單獨地,該等粉末可具有不同的組成,並且可在或可不在如上所述的範圍內;然而,該等粉末的組合可以在如上所述的範圍內。例如,該Pb-Te-O組成物可以包括一種粉末(該粉末包括包含組Pb、Te、Bi、W、B、Li、Na、和O的元素中的一些但不是全部的均勻粉末)以及第二均勻粉末(該第二均勻粉末包括不同的一種或多種前述元素或相同元素(不同比例)),其中兩種粉末的元素共同滿足前述組成範圍。還考慮了包括滿足前述範圍的Pb-Te-O組成物和具有不同組成的附加的易熔材料的組成物。例如,本發明組成物中包含的不同易熔材料可具有不同的熱行為,例如不同的軟化溫度和/或玻璃化轉變溫度。
易熔材料的製備和表徵
在實施方式中,本發明的易熔材料可藉由常規玻璃製造技術和設備生產。例如,可以將成分稱重並按所需比例混合,並且然後在爐中的鉑合金坩堝中加熱。可將該等成分加熱到峰值溫度(例如,在800ºC至1400ºC、或1000°C至1200°C、或900ºC至1100ºC的範圍內的溫度)並保持一段時間使得該材料形成熔融物,該熔融物基本上是液體且均勻的(例如,20分鐘至2小時)。將該熔融物視情況進行攪拌,間歇地或連續地。在一個實施方式中,熔融過程導致其中構成化學元素在原子水平上均勻地且緊密地混合的材料。熔融的材料然後典型地以任何合適的方式淬火,包括但不限於使其通過反向旋轉的不銹鋼輥之間以形成0.25至0.50 mm厚的片狀物,藉由將其傾倒在厚的不銹鋼板上,或藉由將其倒入合適的淬滅流體中。然後將所得的顆粒研磨以形成粉末或玻璃料,該粉末或玻璃料典型地可以具有0.2至3.0 μm的d50
還可以使用其他生產技術。生產此類材料領域的技術人員因此可採用替代的合成技術,包括但不限於在非貴金屬坩堝中熔融、在陶瓷坩堝中熔融、溶膠-凝膠法、噴霧熱解、或適用於製造粉末形式的玻璃的其他技術。
可以使用熟習該項技術者已知的任何尺寸減小方法來將本發明糊料組成物的成分的粒度降低至所希望的水平。此類方法包括但不限於,球磨、介質研磨、噴射研磨、振動研磨等,具有或沒有溶劑存在。如果使用溶劑,水係較佳的溶劑,但是也可以使用其他溶劑,如醇類、酮類、和芳烴類。可將表面活性劑加入該溶劑中以幫助顆粒的分散,如果希望的話。
玻璃化學領域的熟習該項技術者將認識到,易熔材料在此描述為包括一定百分比的某些組分。具體地,可藉由命名各個組分來指定該等物質的組成物,所述各個組分可以以指定百分比組合以形成起始材料,所述起始材料隨後被加工,例如,如在此所述,以形成玻璃或其他易熔材料。此類命名對於熟習該項技術者為常規的。換句話講,易熔材料含有某些組分,並且那些組分的百分比可以表示為對應氧化物或其他形式的重量百分比。
可替代地,除非上下文另外指明,否則在此的組成物中的一些藉由陽離子百分比來闡明,陽離子百分比基於特定材料中所含的總陽離子。當然,如此指定的組成物包括電荷平衡所需量的與各種陽離子相關的氧或其他陰離子。技術人員將認識到組成物可以藉由成分的重量百分比等效地指定,並且將能夠執行所需的數值轉化。
技術人員將進一步認識到,在此的任何易熔材料,無論是以例如構成氧化物的重量百分比、莫耳百分比或陽離子百分比指定,可替代地可以藉由從當混合和燒製時產生相同的總體組成的不同組分以必需的量供應所需的陰離子和陽離子來製備。例如,在不同的實施方式中,用於化合物Li2 O的鋰可以直接從氧化物供應或可替代地從在加熱時分解以產生Li2 O的合適的有機或無機含鋰化合物(如Li2 CO3 )供應。技術人員還將認識到,在製造易熔材料過程期間可能釋放一定部分的揮發性物種(例如二氧化碳)。
熟習該項技術者已知的是在此描述的一些氧化物的陽離子以多於一種穩定化合價或氧化狀態存在。例如,鈷可以以多個可能的氧化狀態存在,其中報導了分別具有式CoO、Co2 O3 、和Co3 O4 的鈷(II)、鈷(III)、和鈷(II,III)氧化物。包括此類陽離子的在此的易熔材料可以使用任何已知氧化物,或在空氣中加熱時形成氧化物的化合物製備。
雖然氧通常是本發明糊料組成物的兩種易熔材料中的主要陰離子,但所述氧的某個部分可由氟或其他鹵素陰離子化學取代以改變影響燒製的氧化物組分的某些特性,諸如化學特性、熱特性、或流變特性。在一個實施方式中,本發明糊料組成物的任何配製物中的氧化物組成物的氧陰離子的高達10%被一種或多種鹵素陰離子(包括氟)取代。例如,高達10%的氧陰離子可由氟取代。鹵素陰離子可以由任何組成物的陽離子的鹵化物供應,該等組成物的陽離子可以替換在該配製物中的對應氧化物的某部分。
技術人員還將認識到,易熔材料,例如藉由如在此所述的熔融技術製備的易熔材料,可以藉由已知的分析方法來表徵,包括但不限於:電感耦合電漿發射光譜法(ICP-ES)、電感耦合電漿原子發射光譜法(ICP-AES)等。此外,可使用以下示例性技術:X射線螢光光譜法(XRF)、核磁共振光譜法(NMR)、電子順磁共振波譜法(EPR)、梅斯堡譜法、電子微探針能量分散光譜法(EDS)、電子微探針波長色散光譜法(WDS)、陰極發光法(CL)。基於用此類分析方法獲得的結果,技術人員可以計算出可以被處理以產生特定易熔材料的起始組分的百分比。
添加劑
本發明的糊料組成物可以進一步包含視情況的離散氧化物添加劑。預期該添加劑可包含一種元素的氧化物、不同元素的兩種或更多種離散氧化物、或多種元素的離散混合氧化物。如在此使用的,術語“元素的氧化物”包括氧化物本身和元素的任何其他有機或無機化合物兩者,或者純元素本身(如果其在加熱時氧化或分解以形成相關氧化物的話)。已知在加熱時分解的此類化合物包括但不限於,前述元素的碳酸鹽、硝酸鹽、亞硝酸鹽、氫氧化物、乙酸鹽、甲酸鹽、檸檬酸鹽和皂,以及它們的混合物。例如,Zn金屬、乙酸鋅、碳酸鋅和甲醇鋅係在燒製時氧化或分解成氧化鋅的潛在的添加劑。氧化物係離散的,因為它不以原子水平與含鉛-碲的基礎氧化物混合,但是分別存在於該糊料組成物中。在實施方式中,該離散的氧化物添加劑能以基於該糊料組成物的總重量範圍係從0.01至5 wt.%、或0.05至2.5 wt.%、或0.1至1 wt.%的量存在於該糊料組成物中。該添加劑可以作為任何尺寸的顆粒包括在內,只要它們可以結合到本發明的糊料組成物中並提供其所要求的功能。
可能的添加劑材料包括TiO2 、SiO2 、Al2 O3 、MgO、V2 O5 、ZrO2 、B2 O3 、MoO3 、WO3 、Mn2 O3 、Ag2 O、ZnO、Ga2 O3 、GeO2 、Bi2 O3 、Li3 PO4 、Li2 CO3 、Li2 WO4 、Na2 CO3 、CuO、NiO、Cr2 O3 、Fe2 O3 、CoO、Co2 O3 、以及Co3 O4 。已經發現有用的另一種添加劑係鋰釕氧化物,如VerNooy等人的美國專利號US 8,808,581中所述的,將該專利出於所有目的藉由引用於此結合在此。
II. 有機載體
本發明的組成物的無機組分通常與有機載體混合以形成被稱為“糊料”或“油墨”的相對黏性的材料,該材料具有的稠度和流變性使其適用於印刷方法,包括但不限於網版印刷。
有機載體通常提供介質,無機組分在糊料組成物的化學和功能特性的良好的穩定度的情況下分散在該介質中。具體地,該糊料組成物較佳的是具有如下穩定性,所述穩定性不僅與必需的製造、裝運、和儲存相容,而且也與在沈積(例如藉由網版印刷方法)過程中所遇到的條件相容。理想的是,載體的流變性使得其賦予該糊料組成物良好的施用特性,包括穩定且均勻的固體分散、用於印刷的適當的黏度和觸變性、糊料固體和基底(印刷將在其上發生)的適當的可潤濕性、沈積之後的快速乾燥速率、和穩定的燒製特性。如在此所定義,有機介質不被認為係厚膜糊料組成物中包含的無機固體的一部分。
各種各樣的惰性材料可以視情況混合在本發明糊料組成物中的有機介質中,包括但不限於,視情況包含增稠劑、黏合劑、和/或穩定劑的惰性非水性液體。藉由“惰性”意指一種材料,該材料可藉由燒製操作除去而不留下任何實質殘餘物並且沒有有害於糊料或最終導體線特性的其他影響。
在本發明糊料組成物的有機載體的配製物中有用的物質包括但不限於在美國專利號7,494,607和國際專利申請公開號WO 2010/123967 A2中揭露的任何一種或多種物質,二者都是出於所有目的以其全文藉由引用於此結合在此。所揭露的物質包括乙基纖維素、乙基羥乙基纖維素、木松香及其衍生物、乙基纖維素和酚醛樹脂的混合物、乙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素、低級醇的聚甲基丙烯酸酯、乙二醇的單烷基醚、單乙酸酯醇、和萜烯例如α-或β-萜品醇或它們與其他溶劑例如煤油、鄰苯二甲酸二丁酯、丁基卡必醇、丁基卡必醇乙酸酯、己二醇和高沸點醇以及醇酯的混合物。有機載體還可以包括天然衍生的成分,例如各種植物來源的油、皂、樹脂、或樹膠。任何上述聚合物或其他合適的聚合物可以以任何有效量存在於有機載體中。例如,該聚合物可以包含8 wt%至15 wt%的有機組成物,或0.1 wt%至5 wt%的總糊料組成物。
較佳的酯醇係2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇的單異丁酸酯,其從伊士曼化工公司(Eastman Chemical)(金斯波特,田納西州(Kingsport, TN))以TEXANOL™可商購的。一些實施方式還可以在有機載體中結合揮發性液體以促進施用於基底上之後的快速硬化。將該等以及其他溶劑的各種組合進行配製以提供所需的黏度和揮發性。本發明糊料組成物可根據需要調節至預定的、可‑網版印刷的黏度,例如,藉由加入一種或多種附加溶劑。
在一個實施方式中,該有機載體可以包括一種或多種選自下組的組分,該組由以下各項組成:雙(2-(2丁氧基乙氧基)乙基)己二酸酯、二元酯、環氧妥爾酸辛酯(octyl epoxy tallate)、異十四烷醇和氫化松香的季戊四醇酯。該糊料組成物還可包括附加的添加劑或組分。
在本發明糊料組成物中有用的二元酯可包括一種或多種選自下組的二甲酯,該組由以下各項組成:己二酸的二甲酯、戊二酸的二甲酯、和琥珀酸的二甲酯。包含不同比例的二甲酯的各種形式的此類材料可以是從英威達(Invista)(威明頓,德拉瓦州(Wilmington, DE))以DBE®商品名可獲得的。對於本發明糊料組成物,較佳的型式作為DBE-3銷售並且據製造商所述,基於二元酯的總重量,含有85至95重量百分比的己二酸二甲酯、5至15重量百分比的戊二酸二甲酯、和0至1.0重量百分比的琥珀酸二甲酯。
另外的成分可以視情況結合到有機載體中,例如增稠劑、穩定劑、和/或熟習該項技術者已知的其他常用添加劑。有機載體可為一種或多種聚合物在溶劑中的溶液。此外,有效量的添加劑(如表面活性劑或潤濕劑)可以是有機載體的一部分。除了被包括作為該糊料組成物的導電金屬粉末上的塗層的任何表面活性劑外,這種添加的表面活性劑可以被包括在有機載體中。合適的潤濕劑包括磷酸酯以及大豆磷脂。無機和有機觸變劑二者也可以存在。
在常用的有機觸變劑之中是氫化蓖麻油及其衍生物,但是代替該等物質或除了該等物質外可以使用其他合適的試劑。當然,並不總是需要結合觸變劑,因為溶劑和樹脂特性加上任何懸浮液中固有的剪切稀化在這方面可能單獨地是合適的。
有機介質可包含揮發性液體以促進在基底上施用厚膜糊料組成物後快速硬化。
厚膜糊料組成物中有機介質的最佳量取決於施用糊料的方法和所用的具體有機介質。
本發明糊料組成物中的有機載體和無機組分的比例可以根據施用糊料的方法和所用的有機載體的種類變化。在一個實施方式中,本發明糊料組成物典型地包含約50 wt%至95 wt%、76 wt%至95 wt%、或85 wt%至95 wt%的無機組分和約5 wt%至50 wt%、5 wt%至24 wt%、或5 wt%至15 wt%的有機載體,以及與其相關的物質。
厚膜糊料組成物的製備
本發明糊料組成物典型地藉由將成分與任何方便的機械混合系統組合來製備。成分可以以任何順序組合,只要它們均勻地分散並且最終配製物具有特性使得它可以在最終用途期間成功地施用。提供高剪切的混合方法可能是有用的。
III. 導電結構的形成
A. 基底
本揭露的一個方面提供了一種方法,該方法可用於在基底上形成導電結構。通常,該方法首先需要製造任何所需構型的先質結構,通常包括提供基底並將糊料組成物以合適的圖案施用到其上的步驟。然後對所施用的糊料組成物和基底進行燒製以產生導電結構,這經常稱為“金屬化”。最常見地,該基底係平面的且相對薄的,因此限定在其相應側面上相反的第一主表面和第二主表面。本發明糊料組成物可用於在該等主表面中的一個或兩個上形成電極。
B. 絕緣層
在一些實施方式中,本發明糊料組成物與基底(如半導體基底)結合使用,該基底具有位於基底的主表面中的一個或多個上的絕緣或鈍化或抗反射層。該層可包含但不限於,選自以下各項的一種或多種組分:氧化鋁;氧化鈦;氮化矽;SiNx :Hy (在隨後的燒製過程期間用於鈍化的非化學計量含氫氮化矽);氧化矽;氮化矽、氧化物、或含碳氧氮化物;以及氧化矽/氧化鈦。可以存在該等材料中的任何的單個均勻層或多個連續子層。廣泛使用氮化矽和SiNx :Hy 。在1與200 nm厚之間的鈍化層適合於典型應用。
在用於製造光伏打電池的實現方式中,該絕緣層典型地被結構化以提供減反射特性,以降低從電池的表面反射的入射光的量。降低反射損失的光的量提高電池對入射光的利用率並增加其可產生的電流。因此,絕緣層通常表示為減反射塗層(ARC)。根據層材料的組成和折射率,該層的厚度較佳的是被選擇為最大化減反射特性。例如,絕緣ARC層可以具有在1與200 nm之間的厚度。在一種方法中,調整沈積加工條件以改變該層的化學計量,由此將特性例如折射率改變至所希望的值。對於具有約1.9至2.0的折射率的氮化矽層,約700至900 Å(70至90 nm)的厚度係合適的。
絕緣層可藉由微電子學領域已知的方法沈積在基底上,諸如任何形式的化學氣相沈積(CVD),包括電漿增強CVD(PECVD)和熱CVD、熱氧化、或濺射。在另一個實施方式中,基底塗覆有液體材料,所述材料在熱處理下分解或與基底反應以形成絕緣層。在還另一個實施方式中,在存在含氧氣氛或含氮氣氛的情況下對基底進行熱處理以形成絕緣層。可替代地,無絕緣層被特別地施用到基底上,但天然形成的物質諸如矽晶圓上的氧化矽可用作絕緣層。
本發明的方法視情況包括在施用糊料組成物之前在半導體基底上形成絕緣層的步驟。
在本發明方法的一些實現方式中,該糊料組成物係有用的,無論絕緣層是被特別地施用的還是天然存在的。糊料的氧化物和非氧化物組分可以一致地起作用以便在燒製期間結合、溶解、或以其他方式穿透任何絕緣層材料的一些或全部的厚度。
C. 施用
取決於所使用的裝置架構和具體基底材料,本發明的組成物可作為糊料以多種不同的構型或圖案施用到半導體基底的主表面的預先選定的部分上。該預先選定的部分可以包括主表面的總面積的任何部分。所覆蓋的面積可以範圍為從一小部分至高達基本上全部面積。在一個實施方式中,將糊料施用到半導體基底上,該半導體基底可以是單晶體、類單晶(cast mono)、多晶體、多晶、或帶狀矽、或任何其他半導體材料。
施用可以使用多種沈積方法完成,包括網版印刷以及以上討論的其他示例性沈積方法。在一個實施方式中,該糊料組成物可以施用在存在於基底的相關主表面上的任何絕緣層上。
導電組成物可以以任何有用的圖案沈積。例如,導電糊料的施用可用於形成光伏打電池先質,其中該糊料以一種構型被沈積在半導體基底的預先選定的部分上,該構型被指定為藉由燒製操作轉化成一種導電結構,該導電結構包括與基底電接觸的至少一個電極。在一種實現方式中,該至少一個電極被配置成連接到外部電路,電能有待被供應到該外部電路。
用於光伏打電池的正側面電極的電極圖案通常包括從一個或多個更大的匯流條延伸的多個窄格線或指狀物。此類圖案允許電池中產生的電流從正側面提取而沒有過度的電阻損耗,同時使藉由金屬化遮蓋的面積最小化,該金屬化固有地減少了可轉化成電能的入射光能的量。理想的是,電極圖案的特徵應當用預先選定的厚度和形狀被很好地限定,並且具有與下面的結構的高電導率和低接觸電阻。均勻且具有高的高度與寬度的比率的指狀物有益於增加有效導體橫截面積(從而降低電阻),同時最小化遮蓋的面積。在一個實施方式中,導電指狀物的導線的寬度可以是20至200 μm;25至100 µm;或35至75 μm、或15至35 μm。在一個實施方式中,導電指狀物的導線的厚度可以是5至50 μm;10至35 µm;或15至30 μm。
D. 燒製
在本發明方法中可以使用通常稱為“燒製”的熱處理操作以實現導電結構的形成,該導電結構提供與下面的基底(例如PV(光伏打)電池中的半導體晶圓)的高品質電接觸。在此構型中,該導電結構因此可用作用於將PV電池連接到電力負載的電極。乾燥操作視情況先於燒製操作,並且在適度的溫度下進行以硬化糊料組成物,這可包括去除其最揮發性有機物。
燒製操作被認為藉由有機材料的揮發和/或熱解實現來自沈積的糊料的有機載體的基本上完全燒盡。雖然本發明不受任何具體操作理論限制,據信在燒製期間,易熔材料起作用以有效穿透通常存在於晶圓上的絕緣層,例如天然存在的或有意形成的鈍化層和/或減反射塗層。這樣的結果經常稱為“燒穿”。各種糊料組分也被認為促進提供需要的導電性的金屬粉末(例如銀)的燒結。
理想的是,燒製過程導致基本上完全除去絕緣層而不與下面的Si基底進一步組合或形成大量的非導電性或導電性差的夾雜物。進一步希望的是燒製提供一種導電結構,該導電結構具有良好的電特性,包括高體電導率和與下面的半導體材料的低表面電阻率連接,由此降低電池的電源阻抗。雖然一些實施方式可以用限於分散在印刷區域上方的導電域的電接觸起作用,但較佳的是,接觸在基本上整個印刷區域上方是均勻的。還有益的是導電金屬結構係機械上穩健的並且牢固地黏附到基底上,其中在由導電元件覆蓋的基底的基本上所有區域上方形成冶金結合。
由此形成的接觸將進一步使得網版印刷的晶體矽太陽能電池在前表面(J0e)處具有降低的飽和電流密度、和伴隨的增加的Voc和Jsc、以及因此改進的太陽能電池的性能。據信,合適配製的糊料將促進其他令人希望的電極特徵,包括高體電導率和以金屬化圖案形成窄的高縱橫比接觸線的能力,以進一步降低串聯電阻並最小化電極對入射光的遮蔽,以及與基底的良好黏附性。
在一個實施方式中,用於燒製的烘箱或爐子的設定點溫度可在約300ºC與約1000ºC之間、或在約300ºC與約525ºC之間、或在約300ºC與約650ºC之間、或在約650ºC與約950ºC之間的範圍內。燒製可使用任何合適的熱源進行,並且可以在由空氣、氮氣、惰性氣體、或含氧混合物例如氧氣和氮氣的混合氣體構成的氣氛中進行。
在一個實施方式中,燒製使用帶式爐實現。將承載印刷的糊料組成物圖案的基底放置在以高輸送速率(例如在約100至約500 cm/分鐘之間)輸送通過爐的熱區的帶上,其中產生的保持時間在約0.05至約5分鐘之間。可使用多個溫度區來控制爐中的所期望的熱分佈,並且所述區的數目可變化,例如,在3至11個區之間。使用帶式爐進行的燒製操作的溫度常規上由該爐的最熱區中的爐設定點指定,但已知的是在這樣的方法中由經過的基底所取得的峰值溫度略微低於最高設定點。還可以考慮熟習該項技術者已知的其他批次和連續快速燒製爐設計。
E. 半導體裝置製造
本揭露的實施方式涉及一種包括基底和導電電極的裝置結構,該裝置結構可藉由上述方法形成。
如在此提供的導電結構可以被有效地用於寬範圍的電氣、電子、和半導體裝置中。在沒有限制的情況下,此種裝置包括光電二極體、光伏打電池、以及太陽能電池板或其他類似製品,其中一個或多個導電結構起電極的作用,藉由該等電極該裝置可以連接至其他電路。使用在此揭露的方法單獨地或共同地製造的裝置可以結合到更大的結構中,諸如包括多個相互連接的光伏打電池的太陽能電池板。
本發明的糊料組成物的某些實施方式在製造在半導體晶圓上構造的PV電池的電極中是有用的,該等半導體晶圓具有n型和p型摻雜劑兩者的一系列濃度和分佈,包括其中存在於基底的主表面上的絕緣層(例如氮化矽層)必須被穿透以建立接觸的那些。
商業PV生產曾經由在所謂的“高度摻雜的發射體”(HDE)Si晶圓基底上構造的電池支配,但“輕摻雜的發射體”(LDE)晶圓越來越多地引起人們的關注。這兩類p基晶圓由發射體區域的摻雜劑濃度來區分。例如,已經廣泛使用具有以下發射體的HDE Si晶圓,該發射體具有範圍係從9至15 × 1020 原子/cm3 的磷[P表面 ]和/或範圍係從3至4 × 1020 原子/cm3 的活性[P表面 ]的總表面濃度。在較低的整體摻雜劑濃度下,在總摻雜劑表面濃度與活性摻雜劑表面濃度之間存在較小的差異。LDE晶圓在此被理解為具有其中[P表面 ]低於3 × 1020 原子/cm3 的發射體。
總摻雜劑濃度通常使用SIMS(二次離子質譜)深度剖析方法測量。[參見,例如,Diffusion in Silicon[矽中的擴散],S. W. Jones,IC Knowledge公司,2008第56-62頁]。活性摻雜劑濃度通常使用SRP(擴散電阻探測)[同上,第61頁]或ECV(電化學電容電壓[同上,第57頁]方法測量。還已知的是總摻雜劑濃度影響發射體表面處的薄層電阻率,其中較高的摻雜總體上導致降低的電阻率。
摻雜劑濃度對PV電池的構造和操作兩者具有顯著的影響。具體地,已經發現更容易製造使得在HDE晶圓上良好電接觸的電極,但原則上可以用LDE晶圓獲得較高的整體光轉換效率。
如以上解釋的,在PV電池上的入射光產生了電子-電洞對電荷載子。有用的電能從在電池電極處收集並通過與電池連接的電力負載的那些載子獲得的。然而,一些載子對從不到達電極,而是與Si晶格結合並在p-n結附近的電池內複合。因此,來自產生該等對的入射光的能量不能作為有用的電能被提取。這種消散被稱為複合損耗;它典型地隨著發射體中的摻雜劑水平的增加而增加,這被認為係由增加水平的Si晶格中的晶體缺陷或其他電擾動產生的。超過活性濃度(非活性P)的P摻雜劑導致Shockley-Read-Hall(SRH)複合能量損耗。高於1 × 1020 原子/cm3 的活性P摻雜劑濃度導致俄歇(Auger)複合能量損耗。此類損耗在成品電池中的VOC (開路電壓)和ISC (短路電流)兩者的減少上是顯然的。在可見太陽光譜的短波長(藍色)端的光的損耗更高,其主要在非常接近電池的太陽表面處被吸收。
在一些情況下,採用LDE晶圓的太陽能電池實施方式藉由降低複合損耗來實現改進的太陽能電池性能。然而,基於LDE的電池提供改進的電池性能的固有電位在實踐中經常未完全實現,這歸因於形成從操作電池有效提取電流所需的高品質、低歐姆損耗金屬接觸的更大的困難,其中表面摻雜劑濃度係佔優勢的預測因素。與到HDE晶圓的觸點相比,到LDE晶圓的金屬觸點具有對電荷載子隧穿的更大的能量障壁。較大的障壁進而降低隧穿電流並增加接觸電阻率。
電阻損耗和複合損耗兩者係有害的,因為兩者降低了在將入射光能轉化為有用電能方面的電池效率,但使良好接觸的困難已經妨礙了從用於商業太陽能電池生產的HDE至LDE晶圓的演變。理想的厚膜金屬化糊料將可靠地接觸具有低表面摻雜劑濃度的發射體,但不會損壞發射體結構。具有藉由用此種糊料的網版印刷製造的電極的晶體矽太陽能電池能夠在前表面(J0e )處具有降低的飽和電流密度,使得能夠增加VOC 和JSC ,導致改進的服務性能。糊料的其他期望特徵將包括高體電導率;以金屬化圖案形成窄的高縱橫比指狀線的能力,以進一步降低串聯電阻並最小化電極對入射光的遮蔽;以及與基底的良好黏附性。
本發明的糊料組成物的實施方式有益地用於製造LDE晶圓上的電極中,其中[P表面 ]係至多0.5 × 1020 、0.6 × 1020 、0.75 × 1020 、1.0 × 1020 、1.5 × 1020 、1.75 × 1020 、2.0 × 1020 、2.5 × 1020 、或3.0 × 1020 原子/cm3
實施本發明用於製造光伏打電池裝置的方法的一種可能的步驟順序由圖1A-1F描繪。雖然參考具有平面架構的p基電池(HDE或LDE)來描述該方法,但是在製造平面n基電池或具有其他架構的電池中有用的可比較的步驟也將是顯而易見的。
圖1A示出了p型基底10,其可為任何已知類型的Si,包括但不限於,單晶體、多結晶、單結晶、或多晶矽。例如,基底10可藉由從已由拉製或鑄造方法形成的鑄塊切片薄層而獲得。在一種實現方式中,Si鑄塊摻雜有B以使其為p型。可藉由使用鹼性水溶液例如氫氧化鉀水溶液或氫氧化鈉水溶液、或者使用氫氟酸與硝酸的混合物蝕刻掉約10至20 μm的基底表面來移除表面損壞和污染(例如,來自用鋼絲鋸切片)。此外,可用鹽酸和視情況的過氧化氫的混合物來洗滌基底以除去重金屬,例如黏附在基底表面上的鐵。儘管未具體描繪,基底10可具有第一主表面12,該主表面為紋理化的以減少光反射。紋理化可藉由用鹼性水溶液諸如氫氧化鉀水溶液或氫氧化鈉水溶液蝕刻主表面來產生。基底10還可以由矽帶形成。
在圖1B中,形成了n型擴散層20以與下面的p型材料產生p-n結。n型擴散層20可藉由任何合適的摻雜方法來形成,諸如熱擴散由三氯氧化磷(POCl3 )提供的磷(P)或離子注入。如所示,n型擴散層20在矽p型基底的整個表面上形成。在其他實現方式中,該擴散層被限制在頂部主表面,避免了以下描述的除去過程的需要。擴散層的深度可藉由控制擴散溫度和時間而變化,並且通常在約0.3至0.5 µm的厚度範圍內形成。n型擴散層可具有從幾十歐姆/平方直至約120歐姆/平方範圍的薄層電阻率。在一些替代實現方式(未示出)中,在第二(後)主表面14上的層中添加了高於本體的水平的B的附加摻雜。
在用抗蝕劑等保護n型擴散層20的一個表面之後,藉由蝕刻將n型擴散層20從大多數表面上除去使得其僅保留在基底10的第一主表面12上,如圖1C所示。然後使用有機溶劑等將抗蝕劑移除。
接下來,如圖1D所示,也用作抗反射塗層的絕緣層30在n型擴散層20上形成。絕緣層通常為氮化矽(SiN),但是也可以是另一種材料的層,如SiNx :H(即,絕緣層係在隨後的燒製過程期間用於鈍化的非化學計量的包含氫的SiN)、氧化鈦、氧化矽、混合的氧化矽/氧化鈦、或氧化鋁。在不同的實施方式中,絕緣層可呈相同或不同材料的單層或多層的形式。
接下來,電極在基底的這兩個主表面12和14上形成。如圖1E所示,將如在此提供的糊料組成物90網版印刷在第一主表面12的絕緣層30上並且然後乾燥。對於光伏打電池,糊料組成物90通常以預定的導電線圖案來施用,所述導電線從一個或多個匯流條垂直延伸,所述匯流條佔據所述表面的一個預定部分。還將鋁糊料60和背側面銀糊料70網版印刷到背側面(基底的第二主表面14)上並且依次將它們乾燥。
網版印刷操作可以按任何順序進行。出於生產效率的利益,典型地藉由如下方式來加工所有該等糊料:在空氣或含氧氣氛中,通常在約700ºC至約975ºC範圍內的溫度下將它們共燒製從數秒至數十分鐘的一段時間。方便地使用紅外線加熱的帶式爐用於高通量。
如圖1F所示,燒製導致所繪出的正側面上的糊料組成物90燒結並穿透絕緣層30,從而獲得與n型擴散層20的電接觸,這係被稱為“燒穿”的情況。這種燒穿狀態,即,糊料與絕緣層30反應並穿過該絕緣層的程度,取決於絕緣層30的品質和厚度、糊料的組成、以及燒製條件。據信高品質的燒穿狀態在獲得光伏打電池的高轉換效率方面是重要因素。因此燒製將糊料90轉化為電極91,如圖1F所示。
燒製進一步導致鋁從背側面鋁糊料60擴散到矽基底中,從而形成含有高濃度的鋁摻雜劑的p+層40。該層一般被稱為背表面場(BSF)層,並且有助於改善太陽能電池的能量轉換效率。燒製將乾燥的鋁糊料60轉化為鋁背面電極61。同時燒製背側面銀糊料70,使其成為銀或銀/鋁背面電極71。據信在燒製期間,在背側面鋁與背側面銀之間的邊界呈現合金狀態,從而實現電連接。鋁電極占背面電極的大部分面積,這部分地歸因於需要形成p+層40。由於入射光無需穿透背側面,因此可覆蓋基本上整個表面。同時,由於對鋁電極進行焊接係不可行的,因此在背側面上形成銀或銀/鋁背面電極71作為允許互連的銅帶等的焊接附接的電極。儘管銀糊料70被描繪成與鋁糊料60覆蓋相同的面積,但是電極71足以覆蓋仍然容納該焊料附接的有限區域。
如上所述製造的半導體裝置可被結合到光伏打電池中。在另一個實施方式中,光伏打電池陣列包括多個如所描述的上述半導體裝置。該陣列的裝置可以使用在此描述的方法製造。
E. 其他裝置類型和架構
結合例如以上描述的那些的步驟的方法在構造具有其他類型或架構的裝置中是有用的。
例如,已經做出努力藉由替換可能產生構造和操作缺陷的常規的鋁BSF層40來改進圖1F中描繪的構型。在一些情況下,不同的熱膨脹引起層40過度地翹曲整體晶圓,這在生產期間使處理複雜並且甚至可能引起破裂。作為反射表面,層40還是次最優的,因為否則可能反射回到晶圓本體內用於光電轉換的一些量的長波長光被損失,因此減少了整體裝置的轉換效率。鋁BSF層在鈍化後表面上比其他途徑還較不有效。
通常被稱為“PERC”(鈍化的發射極和後電池)的一種改進的架構在1989年在A. W. Blakers等人,Applied Physics Letters[應用物理學快報],55 (1989),第1363-1365頁中提出。PERC架構需要用由與用於提供正側面鈍化和抗反射的那些類似的材料的一個或多個子層組成的介電層替換鋁BSF層40。合適的材料包括氧化鋁;氧化鈦;氮化矽;SiNx :Hy ;氧化矽;氮化矽、氧化物、或含碳氧氮化物;以及氧化矽/氧化鈦。理想地,此種介電層提供了更高的反射率和更好的後鈍化,由此降低複合損耗並改進長波長入射光的利用率。然後使用雷射燒蝕過程在介電層中生產圖案化的開口。開口通常被稱為過孔。將後表面用含Al糊料網版印刷。在燒製過程期間,Al在過孔區域中熔融並且局部地用p型Al摻雜劑摻雜下面的Si,但是印刷的Al層在未開放的電介質的區域中與下面的Si基底在別處不相互作用。
將清楚的是,可以使用類似的方法來製造具有其他架構的光伏打電池或其他電氣、電子和半導體裝置中的導電結構,所有該等都被考慮在本揭露的範圍內。
實例
從下面所述的一系列實例(實例1-12)和那些實例與對比實例CE1 – CE6的比較,可更全面地理解本發明的某些實施方式的操作和效應。該等實例所基於的實施方式僅是代表性的,並且選擇那些實施方式來示例本發明的各方面並不表示未在該等實例中描述的材料、組分、反應物、條件、技術和/或構型不適合於在此使用,或不表示未在該等實例中描述的主題被排除在所附申請專利範圍及其等效物的範圍之外。
實例1
對比實例1
氧化物組分製備
在此用於該等糊料組成物中的合適的玻璃料藉由共混必需的固體氧化物或其他合適的先質(例如,碳酸鹽)製備。該共混物然後在Pt坩堝中加熱並保持在足以將成分熔融在一起的溫度下,並且此後傾倒到不銹鋼淬火板上。將固化的物質研磨成粗粉末並且然後球磨以獲得所希望的小粒度,例如2至3 μm的d90 (使用Horiba LA-910分析儀測量)。典型地,研磨在具有氧化鋯介質和視情況含有0.5 wt% TRITONTM X-100辛基酚乙氧基化物表面活性劑(從密西根州米德蘭陶氏化學公司(Dow Chemical Company, Midland, MI)可獲得)的異丙醇或水的聚乙烯容器中進行。粉碎的粉末藉由離心或過濾回收並且然後乾燥。
因此如描述的製成具有被指定為玻璃料A至G和對比玻璃料CE-A至CE-C的的標稱組成物的玻璃。該等組成物在表Ia中藉由它們的氧化物成分的重量百分比指定並且在表Ib中藉由陽離子百分比指定。計算的TeO2 和WO3 成分的量的按重量計的比率和陽離子百分比分別在表Ia和Ib的最後一欄中給出。將玻璃料A至G合適地結合在本發明的糊料組成物中。
表Ia 玻璃料組成物 (重量%)
表Ib 玻璃料組成物 (陽離子%)
實例2 - 5
對比實例CE2 – CE4
藉由將必需量的無機固體(包括如在以上實例1中描述的玻璃料和合適的Ag粉末)和有機載體組合並且機械混合來製備合適用於構造正側面電極中的糊料組成物。
銀粉
實例2-5和對比實例CE3-CE4的糊料組成物用以下物質的混合物來製備:(a) 按重量計90%的精細分散的Ag粉末,具有主要球形形狀,具有約2 µm的d50 的粒度分佈(如使用Horiba LA-910分析儀在異丙醇分散體中測量的)以及 (b) 按重量計10%的Ag粉末,具有主要球形形狀和約0.6 µm的d50 。對比實例CE2用僅前述2 µm的Ag粉末來製備。
有機載體
有機載體可以使用行星式離心Thinky®混合器(從加利福尼亞州拉古納山Thinky®美國公司(Thinky® USA, Inc., Laguna Hills, CA)可獲得)來混合成分被製備為母料。合適的配方在以下表II中列出,其中百分比按重量計給出。TEXANOL™酯醇溶劑係從田納西州金斯波特伊士曼化工公司(Eastman Chemical Company, Kingsport, TN)可獲得。在一些實現方式中,某些載體組分(例如,樹脂或纖維素)視情況首先與該溶劑的一部分混合並加熱以實現溶解並且此後添加到該母料的剩餘部分中。小百分比的標稱溶劑含量通常被保留以允許稍後的黏度調節,如下文進一步描述的。
表II 有機載體組成物
糊料製備
表III中列出了實例2-5和對比實例CE2-CE5的糊料組成物。
典型地,首先將無機固體(包括氧化物組分和Ag粉末)藉由在玻璃罐中將它們翻滾混合持續約15 min來進行組合。然後將該混合物通過三次添加到含有來自上述母料的有機載體的罐中並在每次添加之後使用上述Thinky®混合器在2000 RPM下混合1分鐘,由此將固體成分充分分散在有機載體中。
在最後一次添加後,使糊料冷卻並且藉由添加溶劑並在2000 RPM下Thinky混合1分鐘將黏度調節為在300與400 Pa-s之間。然後將糊料反復通過三輥研磨機(例如,紐約哈派克(Hauppauge, New York)的Charles Ross and Son公司的三輥研磨機,具有25 μm間隙,在零壓力下使用3次通過並且在100 psi(0.7 MPa)下3次通過)。
使每一種糊料組成物在輥研磨後靜置至少16小時,並且然後用附加TEXANOL™溶劑將其黏度調整到約300 Pa-s以使其適合於網版印刷。使用具有14號轉軸和6號杯的布氏黏度計(布魯克菲爾德公司,米德爾伯勒,麻塞諸塞州(Brookfield Inc., Middleboro, MA))方便地測量黏度。可在10 RPM下3分鐘之後獲取黏度值。典型地,發現約300 Pa-s的黏度產生良好的網版印刷結果,但是取決於精確的印刷參數,某些變化(例如±50 Pa-s或更高)將是可接受的。
可以根據ASTM標準測試方法D 1210‑05使用商業研磨細度(FOG)儀錶(精密量具和工具,代頓,俄亥俄州(Precision Gage and Tool, Dayton, Ohio))測量每種糊料組成物的分散度。FOG值常規指定為X/Y,這意味著所檢測到的最大顆粒的尺寸係X μm,並且中值尺寸係Y μm。對於本發明糊料組成物典型地獲得15/8或更好的FOG值。
上述方法被確定產生足夠均勻以獲得可重複的太陽能電池性能的糊料組成物材料。
電池製造
一般而言,藉由使用網版印刷機諸如從加利福尼亞州聖克拉拉的應用材料公司(Applied Materials, Inc., Santa Clara, CA)可獲得的Baccini網版印刷機將期望的糊劑組成物以預定圖案網版印刷到具有n型發射體(具有約2.4 ´ 1020 原子/cm3 的[P表面 ]值)的標稱六英吋p型薄矽晶圓的正側面上來形成用於下面的示例性光伏打電池的電極。正側面電極形成為包括從匯流條垂直延伸的大量指狀物的梳狀圖案(以下稱為“匯流條/指狀物”構型)。背側面電極藉由網版印刷Solamet® PV36S含Al糊料(從德拉瓦州威明頓杜邦公司(E. I. duPont de Nemours and Company, Wilmington, DE)可商購)形成,或等效於在燒製時產生全平面Al-Si共晶背接觸。在印刷和乾燥之後,該等電池在快速熱處理、多區帶式爐中燒製,如由明尼蘇達州明尼阿波里斯Despatch公司(Despatch, Minneapolis, MN)提供的那種。
電氣測試
在此報導的電氣特性可以使用從德國法蘭克福h.a.l.m.電子公司(h.a.l.m. elektronik GmbH, Frankfurt am Main, Germany)可獲得的Halm太陽能電池測試儀來測量。I-V測試儀中的Xe弧燈模擬已知強度的日光並照射電池前表面。測試在光伏打電池上在25±1.0ºC下用1.0 Sun的光強度進行。測試儀利用四點接觸方法來測量在多個負載電阻設定值下的電流(I)和電壓(V)以確定電池的I-V曲線。光能量轉換效率(Eff)、填充因子(FF)、和表觀串聯電阻(Ra )從每個電池的I-V曲線獲得。Ra 以常規方式定義為在開路電壓附近I-V曲線的局部斜率的負倒數。如熟習該項技術者認識到的,Ra 係方便確定的,並且係對於Rs (電池的真實串聯電阻)的接近的近似值。
使用本領域中已知的常規方法作為傳輸線(或轉移長度)方法(TLM)進行比接觸電阻ρc (以每單位面積的歐姆的單位表示的)的測量,如在Janoch等人,“Contact Resistance Measurement – Observations on Technique and Test Parameters[接觸電阻測量-技術和測試參數上的觀察],”2015年6月14-19日洛杉磯新奧爾良42nd IEEE Photovoltaic Specialists Conference[第42屆IEEE光伏打專家會議]中描述的。
電氣測試在光伏打電池的燒製後進行。對於每個實例,將至少3個電池的測試組在給定的爐週期內燒製,其中將電氣數據報告為測試組內的平均值。對於每個爐條件和運行週期,用已知的商業晶圓樣品和導電糊料製造對照電池。對照電池被包括在每個燒製中並此後進行測試。加工和電氣測試被假設有效,只要對照電池的結果在確定的限制內。當然,前述方案係示例性的並且本領域熟習該項技術者將認識到適合於熱處理和測試效率和其他相關其電特性的其他設備和程式。
表III中提供了使用實例2-5和對比實例CE2-CE4的糊料組成物製成的電池的電氣測試結果。
表III 糊料組成物和PV電池特性
可見具有用本揭露的糊料組成物構造的正側面電極的實例2-5的電池有益地展示了比其電極係使用具有對比玻璃料的糊料組成物製造的對比實例CE2-CE4的電池展示的較高的光能轉換效率(Eff)、填充因子(FF)和表觀串聯電阻(Ra )和較低的接觸電阻率(ρc )。開路電壓(Voc )值係可比較的。ρc 的降低係尤其值得注意的,因為迄今為止其通常已經被認為ρc 可以僅僅藉由在較高溫度下燒製而降低,這種較高的溫度有害地引起導致降低的效率的發射體損害。
實例6 - 12
對比實例CE5 – CE6
如表IV中列出的,藉由使用具有不同玻璃料負載量的糊料組成物來構造並且測試附加的光伏打電池來延伸前述實例和對比實例。實例6-12和對比實例CE6的糊料組成物用對於實例2-5使用的相同的90%/10%的Ag粉末的混合物來製成。對比實例CE5的糊料組成物用100%的與對比實例CE2相同的2 µm的粉末來製成。如以前,具有用本揭露的糊料組成物製成的電極的電池展示了優於用包括在先玻璃料的糊料製成的那些的電氣特性。進一步看出,對於實例10-15,在2.4%的玻璃料負載量下比在2.1%或2.7%下的效率更高。
IV 糊料組成物和PV電池特性
儘管已相當充分詳細地描述了本發明,但將要理解的是這種細節不必嚴格地遵守,相反熟習該項技術者可想到所有落入如由所附申請專利範圍限定的本發明範圍內的其他的變化和修改。
例如,技術人員將認識到,原材料的選擇可能無意地含有雜質,該等雜質可能在處理過程中結合到氧化物組成物或其他糊料成分中。該等附帶的雜質可在百萬分之幾百到百萬分之幾千的範圍內存在。通常在此所用的工業材料中出現的雜質係熟習該項技術者已知的。
雜質的存在不會實質上改變氧化物組分、其中的易熔材料、用氧化物製成的糊料組成物的化學和流變特性,或使用該糊料組成物製造的燒製裝置的電特性。例如,採用使用本發明糊料組成物製成的導電結構的太陽能電池可具有在此所述的效率和其他電特性,即使該糊料組成物包括雜質。
在此所述的氧化物組成物和構成易熔材料的實施方式,包括在此的實例,不是限制性的;預期玻璃化學領域的熟習該項技術者可對附加成分進行微量替換,並且基本上不會改變玻璃組成物的所希望特性,包括其與基底和其上的任何絕緣層的相互作用。
凡在此列舉或確定某一數值範圍之處,該範圍包括其端點以及位於該範圍內的所有單獨的整數和分數,並且還包括由其中該等端點和內部整數及分數的所有各種可能組合形成的每一個較窄範圍以在相同程度的所述範圍內形成更大數值群的子群,如同明確給出了該等較窄範圍中的每一者一樣。當數值範圍在此被描述為大於指定值時,該範圍仍然是有限的並且被如在此所述的本發明的上下文內切實可行的值限定其上限。當數值範圍在此被描述為小於指定值時,該範圍仍然被非零值限定其下限。
在本說明書中,除非在使用情形下另外明確指明或相反指示,在本發明主題的實施方式被論述或描述為包含、包括、含有、具有某些特徵或要素、由某些特徵或要素組成或由某些特徵或要素構成時,除了明確論述或描述的那些以外的一個或多個特徵或要素也可存在於該實施方式中。然而,本發明主題的替代實施方式可被論述或描述為基本上由某些特徵或要素組成,其中將實質改變操作原理或實施方式的區別特性的實施方式特徵或要素在此不存在。本發明主題的另一個替代實施方式可被論述或描述為由某些特徵或要素組成,在該實施方式中或在其非本質變型中,僅存在所具體論述或描述的特徵或要素。另外,術語“包含/包括”旨在包括由術語“基本上由…組成”和“由…組成”涵蓋的實例。相似地,術語“基本上由…組成”旨在包括由術語“由…組成”涵蓋的實例。
當量、濃度、或者其他值或參數以範圍、較佳的範圍、或一系列上限較佳值和下限較佳值給出時,這應當被理解為具體揭露了由任何範圍上限或較佳值與任何範圍下限或較佳值的任一配對所形成的所有範圍,而不論該範圍是否被單獨揭露。當在此描述數值範圍時,除非另行說明,該範圍旨在包括其端點,以及該範圍中的所有整數與分數。不旨在將本發明的範圍限制為限定範圍時描述的具體值。
在本說明書中,除非在使用背景下另外明確指明或相反指示,在此所述的量、尺寸、範圍、製劑、參數以及其他數量和特徵,尤其是當由術語“約”修飾時,可以但不必是精確的,並且還可接近和/或大於或小於(如所希望的)所述值,以反映公差、轉化因子、四捨五入、測量誤差等,並且將在指定值之外的在本發明上下文中具有與指定值等效功能和/或操作的那些值包括在所述指定值內。
10‧‧‧p型基底
12‧‧‧基底10的第一主表面(前或光接收側)
14‧‧‧基底10的第二主表面(背側面)
20‧‧‧n型擴散層
30‧‧‧絕緣層
40‧‧‧p+層
60‧‧‧在背側面上形成的鋁糊料
61‧‧‧鋁背面電極(藉由燒製背側面鋁糊料獲得)
70‧‧‧在背側面上形成的銀或銀/鋁糊料
71‧‧‧銀或銀/鋁背面電極(藉由燒製背側面糊料獲得)
90‧‧‧如在此提供的並且在正側面上形成的導電糊料;以及
91‧‧‧導電正面電極(藉由燒製該正側面導電糊料形成)
當參考本發明的較佳的實施方式的以下詳細描述和附圖時,將更充分地理解本發明並且其他優點將變得顯而易見,其中貫穿若干視圖相似的參考號表示相似的元件並且其中: 圖1A-1F展示了可製造半導體裝置的方法的連續步驟。該裝置進而可以被結合到光伏打電池中。如圖1A-1F所用的參考號包括以下:

Claims (8)

  1. 一種用於形成位於半導體基底上的導電結構的糊料組成物,該半導體基底在其主表面上具有絕緣層,該糊料組成物包含: 無機固體部分,該無機固體部分包含: (a) 按固體的重量計93%至99%的導電金屬源,以及 (b) 按固體的重量計1%至7%的基於氧化物的易熔材料,以及 有機載體,該無機固體部分的成分分散在該有機載體中, 其中該基於氧化物的易熔材料包含按氧化物的陽離子百分比計的以下物質: 20%至35% PbO, 35%至48% TeO2 , 5%至12% Bi2 O3 , 3.5%至6.5% WO3 , 0至2% B2 O3 , 10%至20% Li2 O,以及 0.5%至8% Na2 O, 其前提係該易熔材料中的TeO2 的陽離子百分比與WO3 的陽離子百分比的比率範圍係從7.5 : 1至10 : 1, 並且其中當被沈積在該絕緣層上並被燒製時,該糊料組成物能夠穿透該絕緣層並形成電連接到該半導體基底上的該導電結構。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之糊料組成物,其中該基於氧化物的易熔材料進一步包含以下各項中的至少一種:TiO2 、SiO2 、K2 O、Rb2 O、Cs2 O、Al2 O3 、MgO、CaO、SrO、BaO、V2 O5 、ZrO2 、HfO2 、MoO3 、Ta2 O5 、RuO2 、Mn2 O3 、Ag2 O、ZnO、Ga2 O3 、GeO2 、In2 O3 、SnO2 、Sb2 O3 、P2 O5 、CuO、NiO、Cr2 O3 、Fe2 O3 、CoO、Co2 O3 、Co3 O4 、Y2 O3 、鑭系元素氧化物、或它們的混合物。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之糊料組成物,其中該基於氧化物的易熔材料包含至少兩種具有不同組成的粉末的組合。
  4. 一種用於形成導電結構的方法,該方法包括: (a) 提供具有第一和第二主表面和位於該第一主表面上的第一絕緣層的半導體基底; (b) 將如申請專利範圍第1項所述之糊料組成物施用到該第一絕緣層的至少一部分上,並且 (c) 燒製該半導體基底、該第一絕緣層和該糊料組成物,使得該第一絕緣層被穿透,形成該導電結構,並且在該導電結構與該半導體基底之間建立電連接。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之方法,其中該半導體基底被配置成形成為具有呈現於該第一主表面處的輕摻雜的n型發射體以及呈現於該第二主表面處的p型基底的裝置,該輕摻雜的發射體包含P摻雜的Si,其中P原子的體積濃度小於3 ´ 1020 原子/cm3
  6. 如申請專利範圍第5項所述之方法,其中該半導體基底進一步包含位於該第二主表面上的第二絕緣層,去除該第二絕緣層的限定圖案化開口區域的部分,將含鋁糊料組成物施用到該第二絕緣層上,並且在該燒製期間,來自該糊料組成物的鋁與矽相互作用以在該圖案化開口區域中產生局部的背表面場,由此形成第二導電結構並且在該第二導電結構與該第二主表面處的該半導體基底之間建立電連接。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之方法,其中將該含鋁糊料組成物施用到基本上全部的該第二絕緣層上。
  8. 一種製品,其藉由如申請專利範圍第5至7項中任一項所述之方法製成。
TW107108764A 2017-04-18 2018-03-15 導電糊料組成物及用其製成的半導體裝置 TWI745562B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201762486709P 2017-04-18 2017-04-18
US62/486709 2017-04-18

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201841847A true TW201841847A (zh) 2018-12-01
TWI745562B TWI745562B (zh) 2021-11-11

Family

ID=63790293

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW107108764A TWI745562B (zh) 2017-04-18 2018-03-15 導電糊料組成物及用其製成的半導體裝置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US10658528B2 (zh)
JP (1) JP7098397B2 (zh)
KR (1) KR102031570B1 (zh)
CN (1) CN108735334B (zh)
TW (1) TWI745562B (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI697015B (zh) * 2019-03-05 2020-06-21 南韓商大州電子材料股份有限公司 太陽能電池前電極用糊劑組合物及其製備方法

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8497420B2 (en) 2010-05-04 2013-07-30 E I Du Pont De Nemours And Company Thick-film pastes containing lead- and tellurium-oxides, and their use in the manufacture of semiconductor devices
KR20180090245A (ko) * 2016-12-30 2018-08-10 디케이 일렉트로닉 머티리얼스 컴퍼니, 리미티드 태양 전지의 전극을 제조하는데 이용되는 페이스트 조성물, 태양 전지의 전극 및 태양 전지
CN110255888B (zh) * 2019-06-12 2022-04-15 浙江光达电子科技有限公司 用于晶硅太阳能perc电池正面银浆料的玻璃组合物及其制备方法
CN110255889B (zh) * 2019-06-12 2022-03-15 浙江光达电子科技有限公司 用于晶硅太阳能双面钝化perc电池正面银浆料的玻璃组合物及其制备方法

Family Cites Families (88)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4293451A (en) 1978-06-08 1981-10-06 Bernd Ross Screenable contact structure and method for semiconductor devices
JPS5933869A (ja) 1982-08-20 1984-02-23 Hitachi Ltd 半導体装置用電極材料
JPS60140880A (ja) 1983-12-28 1985-07-25 Hitachi Ltd 太陽電池の製造方法
JPS6236040A (ja) 1985-08-08 1987-02-17 Iwaki Glass Kk 低融点封着用硝子
JPH01138150A (ja) 1987-11-25 1989-05-31 Ohara Inc 低融性ガラス
US4945071A (en) 1989-04-19 1990-07-31 National Starch And Chemical Investment Holding Company Low softening point metallic oxide glasses suitable for use in electronic applications
JPH03218943A (ja) 1989-11-28 1991-09-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd 封着ガラス
US5245492A (en) 1989-11-28 1993-09-14 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Magnetic head
US5013697A (en) 1990-06-21 1991-05-07 Johnson Matthey Inc. Sealing glass compositions
US5066621A (en) 1990-06-21 1991-11-19 Johnson Matthey Inc. Sealing glass composition and electrically conductive formulation containing same
JPH04270140A (ja) 1990-06-21 1992-09-25 Johnson Matthey Inc シーリングガラス組成物および導電性成分を含む同組成物
GB9015072D0 (en) 1990-07-09 1990-08-29 Cookson Group Plc Glass composition
US5118362A (en) 1990-09-24 1992-06-02 Mobil Solar Energy Corporation Electrical contacts and methods of manufacturing same
US5240884A (en) 1991-09-05 1993-08-31 Johnson Matthey, Inc. Silver-glass die attach paste
JP3148303B2 (ja) 1991-10-18 2001-03-19 株式会社住田光学ガラス 耐熱耐真空用光学繊維束の製造方法
US5188990A (en) 1991-11-21 1993-02-23 Vlsi Packaging Materials Low temperature sealing glass compositions
JPH05175254A (ja) 1991-12-20 1993-07-13 Nippon Electric Glass Co Ltd 低融点接着組成物
CA2107906C (en) 1992-02-25 1998-05-05 Kazushige Koyama Zinc oxide varistor and process for the production thereof
US5334558A (en) 1992-10-19 1994-08-02 Diemat, Inc. Low temperature glass with improved thermal stress properties and method of use
US5663109A (en) 1992-10-19 1997-09-02 Quantum Materials, Inc. Low temperature glass paste with high metal to glass ratio
US5336644A (en) 1993-07-09 1994-08-09 Johnson Matthey Inc. Sealing glass compositions
JPH0897011A (ja) 1994-09-26 1996-04-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd 酸化亜鉛バリスタ用電極材料
JP3541070B2 (ja) 1994-11-15 2004-07-07 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー 自動車ガラスの厚膜導電体ペースト
JP3624482B2 (ja) 1995-09-22 2005-03-02 株式会社村田製作所 導電性ペーストおよびそれを用いた蛍光表示管
JPH10340621A (ja) 1997-06-05 1998-12-22 Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk 導体ペースト
JP3740251B2 (ja) 1997-06-09 2006-02-01 キヤノン株式会社 太陽電池モジュールの製造方法
JP2001284754A (ja) 2000-03-30 2001-10-12 Kyocera Corp ガラスセラミック回路基板
JP4487596B2 (ja) 2004-02-27 2010-06-23 Tdk株式会社 積層セラミック電子部品用の積層体ユニットの製造方法
JP4846219B2 (ja) 2004-09-24 2011-12-28 シャープ株式会社 結晶シリコン太陽電池の製造方法
US20060102228A1 (en) 2004-11-12 2006-05-18 Ferro Corporation Method of making solar cell contacts
US7494607B2 (en) 2005-04-14 2009-02-24 E.I. Du Pont De Nemours And Company Electroconductive thick film composition(s), electrode(s), and semiconductor device(s) formed therefrom
US7556748B2 (en) 2005-04-14 2009-07-07 E. I. Du Pont De Nemours And Company Method of manufacture of semiconductor device and conductive compositions used therein
US7435361B2 (en) 2005-04-14 2008-10-14 E.I. Du Pont De Nemours And Company Conductive compositions and processes for use in the manufacture of semiconductor devices
US7462304B2 (en) 2005-04-14 2008-12-09 E.I. Du Pont De Nemours And Company Conductive compositions used in the manufacture of semiconductor device
US8093491B2 (en) 2005-06-03 2012-01-10 Ferro Corporation Lead free solar cell contacts
US7771623B2 (en) 2005-06-07 2010-08-10 E.I. du Pont de Nemours and Company Dupont (UK) Limited Aluminum thick film composition(s), electrode(s), semiconductor device(s) and methods of making thereof
EP2015367A4 (en) 2006-04-25 2011-10-05 Sharp Kk ELECTRO-CONDUCTIVE PASTE FOR A SOLAR BATTERY ELECTRODE
JP4918182B2 (ja) 2006-09-26 2012-04-18 Hoya株式会社 ガラス成形体の製造方法及び製造装置、並びに光学素子の製造方法
CN100408256C (zh) 2006-11-26 2008-08-06 常熟市华银焊料有限公司 一种含镓、铟、镍和铈的无镉银钎料
US9093590B2 (en) 2006-12-26 2015-07-28 Kyocera Corporation Solar cell and solar cell manufacturing method
KR100787463B1 (ko) 2007-01-05 2007-12-26 삼성에스디아이 주식회사 글래스 프릿, 실링재 형성용 조성물, 발광 장치 및 발광 장치의 제조방법
WO2008134417A1 (en) 2007-04-25 2008-11-06 Ferro Corporation Thick film conductor formulations comprising silver and nickel or silver and nickel alloys and solar cells made therefrom
JP5272373B2 (ja) 2007-10-17 2013-08-28 セントラル硝子株式会社 多結晶Si太陽電池
WO2009052356A2 (en) 2007-10-18 2009-04-23 E. I. Du Pont De Nemours And Company Conductive compositions and processes for use in the manufacture of semiconductor devices
EP2193526A1 (en) * 2007-10-18 2010-06-09 E. I. du Pont de Nemours and Company Conductive compositions and processes for use in the manufacture of semiconductor devices: mg-containing additive
US7736546B2 (en) 2008-01-30 2010-06-15 Basf Se Glass frits
JP5525714B2 (ja) 2008-02-08 2014-06-18 日立粉末冶金株式会社 ガラス組成物
EP2260493A1 (en) 2008-04-09 2010-12-15 E. I. du Pont de Nemours and Company Conductive compositions and processes for use in the manufacture of semiconductor devices
US7608206B1 (en) 2008-04-18 2009-10-27 E.I. Dupont De Nemours & Company Non-lead resistor composition
US8158504B2 (en) 2008-05-30 2012-04-17 E. I. Du Pont De Nemours And Company Conductive compositions and processes for use in the manufacture of semiconductor devices—organic medium components
KR101225909B1 (ko) 2008-08-07 2013-01-24 교토 에렉스 가부시키가이샤 태양전지소자의 전극형성용 도전성 페이스트, 태양전지소자 및 그 태양전지소자의 제조방법
JP5414409B2 (ja) 2009-01-16 2014-02-12 日立粉末冶金株式会社 低融点ガラス組成物、それを用いた低温封着材料及び電子部品
KR101269710B1 (ko) 2009-03-27 2013-05-30 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 도전성 페이스트 및 그것을 사용한 전극 배선을 구비하는 전자 부품
CN102365246B (zh) 2009-03-27 2014-07-09 日立粉末冶金株式会社 玻璃组合物及使用其的导电性糊组合物、电极配线元件和电子部件
JP5567785B2 (ja) 2009-03-31 2014-08-06 三菱マテリアル株式会社 導電性組成物及びそれを用いた太陽電池の製造方法
JP2010251645A (ja) 2009-04-20 2010-11-04 Namics Corp 太陽電池及びその電極形成用導電性ペースト
WO2010123967A2 (en) 2009-04-22 2010-10-28 E. I. Du Pont De Nemours And Company Glass compositions used in conductors for photovoltaic cells
US7910393B2 (en) 2009-06-17 2011-03-22 Innovalight, Inc. Methods for forming a dual-doped emitter on a silicon substrate with a sub-critical shear thinning nanoparticle fluid
JP2011018425A (ja) 2009-07-10 2011-01-27 Showa Denko Kk 磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録再生装置
JP5559510B2 (ja) 2009-10-28 2014-07-23 昭栄化学工業株式会社 太陽電池素子及びその製造方法
JP5559509B2 (ja) 2009-10-28 2014-07-23 昭栄化学工業株式会社 太陽電池電極形成用導電性ペースト
US9054242B2 (en) 2010-02-08 2015-06-09 E I Du Pont De Nemours And Company Process for the production of a MWT silicon solar cell
US8497420B2 (en) 2010-05-04 2013-07-30 E I Du Pont De Nemours And Company Thick-film pastes containing lead- and tellurium-oxides, and their use in the manufacture of semiconductor devices
US9129725B2 (en) * 2010-12-17 2015-09-08 E I Du Pont De Nemours And Company Conductive paste composition containing lithium, and articles made therefrom
US8486308B2 (en) * 2010-12-17 2013-07-16 E I Du Pont De Nemours And Company Conductive paste composition containing lithium, and articles made therefrom
EP2666168A1 (en) 2011-01-18 2013-11-27 Heraeus Precious Metals North America Conshohocken LLC Electroconductive paste compositions and solar cell electrodes and contacts made therefrom
US20130049148A1 (en) 2011-02-22 2013-02-28 E I Du Pont De Nemours And Company Conductive paste composition and semiconductor devices made therewith
JP5048142B2 (ja) 2011-03-04 2012-10-17 日本電産コパル株式会社 カメラ装置
US8900487B2 (en) * 2011-03-24 2014-12-02 E I Du Pont De Nemours And Company Conductive paste composition and semiconductor devices made therefrom
US8512463B2 (en) 2011-04-05 2013-08-20 E I Du Pont De Nemours And Company Thick film paste containing bismuth-tellurium-oxide and its use in the manufacture of semiconductor devices
US8696948B2 (en) 2011-08-11 2014-04-15 E I Du Pont De Nemours And Company Thick film paste containing lead—tellurium—lithium—titanium—oxide and its use in the manufacture of semiconductor devices
US9023254B2 (en) 2011-10-20 2015-05-05 E I Du Pont De Nemours And Company Thick film silver paste and its use in the manufacture of semiconductor devices
US8771554B2 (en) 2011-10-20 2014-07-08 E I Du Pont De Nemours And Company Thick film silver paste containing Al2O3 and lead-tellurium—oxide and its use in the manufacture of semiconductor devices
US20130186463A1 (en) 2011-12-06 2013-07-25 E I Du Pont De Nemours And Company Conductive silver paste for a metal-wrap-through silicon solar cell
CN102496404B (zh) 2011-12-27 2013-10-30 华东理工大学 一种高效晶硅太阳电池用电极银浆
US9087937B2 (en) 2012-05-10 2015-07-21 E I Du Pont De Nemours And Company Glass composition and its use in conductive silver paste
KR20140017052A (ko) * 2012-07-27 2014-02-11 주식회사 휘닉스소재 페이스트 조성물, 및 이를 포함하는 태양 전지용 전극 및 태양 전지
US8969709B2 (en) * 2012-08-30 2015-03-03 E I Du Pont De Nemours And Company Use of a conductive composition containing lead—tellurium-based oxide in the manufacture of semiconductor devices with lightly doped emitters
JP5756447B2 (ja) 2012-10-31 2015-07-29 株式会社ノリタケカンパニーリミテド 太陽電池用導電性ペースト組成物
KR101600652B1 (ko) * 2012-11-12 2016-03-07 제일모직주식회사 태양전지 전극용 페이스트 및 이로부터 제조된 전극
KR101400133B1 (ko) * 2013-11-28 2014-05-28 덕산하이메탈(주) 은 페이스트 조성물 및 이를 이용하여 제조된 태양전지
GB201407418D0 (en) * 2014-04-28 2014-06-11 Johnson Matthey Plc Conductive paste, electrode and solar cell
CN104726085A (zh) 2014-07-02 2015-06-24 济南大学 一种核壳结构量子点复合纳米晶荧光探针及制备方法
JP5816738B1 (ja) * 2014-11-27 2015-11-18 株式会社ノリタケカンパニーリミテド 導電性組成物
JP6531421B2 (ja) * 2015-02-19 2019-06-19 セントラル硝子株式会社 Bi2O3−TeO2−SiO2−WO3−RO系ガラス
CN105990433A (zh) * 2015-03-04 2016-10-05 和舰科技(苏州)有限公司 一种低电阻沟槽型金属氧化物半导体场效应晶体管及其自对准工艺
JP6074483B1 (ja) * 2015-11-10 2017-02-01 株式会社ノリタケカンパニーリミテド 導電性組成物
CN105489710B (zh) * 2016-01-22 2018-05-29 四川银河星源科技有限公司 一种全背电极太阳能电池的生产工艺

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI697015B (zh) * 2019-03-05 2020-06-21 南韓商大州電子材料股份有限公司 太陽能電池前電極用糊劑組合物及其製備方法

Also Published As

Publication number Publication date
TWI745562B (zh) 2021-11-11
CN108735334B (zh) 2021-08-03
US20180301574A1 (en) 2018-10-18
CN108735334A (zh) 2018-11-02
JP7098397B2 (ja) 2022-07-11
JP2018182331A (ja) 2018-11-15
US10658528B2 (en) 2020-05-19
KR102031570B1 (ko) 2019-10-15
KR20180117048A (ko) 2018-10-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10861985B2 (en) Conductive paste composition and semiconductor devices made therewith
US9640675B2 (en) Conductive paste composition and semiconductor devices made therefrom
JP5746325B2 (ja) 鉛−テルル−ホウ素−酸化物を含有する厚膜ペーストと半導体デバイスの製造においてのそれらの使用
JP6185232B2 (ja) 低濃度ドーピングのエミッタを備えた半導体デバイスの製造における、鉛−テルルをベースとする酸化物を含有する導電性組成物の使用
US9129725B2 (en) Conductive paste composition containing lithium, and articles made therefrom
TWI745562B (zh) 導電糊料組成物及用其製成的半導體裝置
US20130049148A1 (en) Conductive paste composition and semiconductor devices made therewith
JP2015532776A (ja) 導電性ペースト組成物および導電性ペースト組成物で製造される半導体デバイス
US10784383B2 (en) Conductive paste composition and semiconductor devices made therewith
US9793025B2 (en) Conductive paste composition and semiconductor devices made therewith
US20170141245A1 (en) Conductive paste composition and semiconductor devices made therewith
US9236161B2 (en) Conductive paste composition and semiconductor devices made therewith
US9761742B2 (en) Conductive paste composition and semiconductor devices made therewith