TW201829553A - 感光性樹脂組合物及由其製備之固化膜 - Google Patents
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Abstract
本發明係關於一種感光性樹脂組合物及由其形成之固化膜,其中所述感光性樹脂組合物可藉由使用醇溶劑以及習知使用之矽氧烷聚合物及醌二疊氮化合物而改良敏感性,所述醇溶劑經由醇與所述醌二疊氮化合物中之重氮基萘醌(DNQ)基團之間的相互作用而增強於顯影劑中之溶解度;以及可甚至在後烘烤之後形成具有極佳膜保留率之固化膜。
Description
本發明係關於一種感光性樹脂組合物及一種由其製備之固化膜。詳言之,本發明係關於一種提供極佳之敏感性及膜保留率之正型感光性樹脂組合物,及由其製備且用於液晶顯示器、有機EL顯示器及其類似者之固化膜。
一般而言,出於防止液晶顯示器或有機EL顯示器中透明電極與資料線之間接觸的絕緣目的,透明平坦化膜係在薄膜電晶體(TFT)基板上形成。經由靠近資料線定位之透明像素電極,可增加面板之孔徑比,且可獲得高亮度/解析度。為了形成此類透明平坦化膜,採用若干加工步驟來賦予特定圖案輪廓,且由於需要較少之加工步驟,因此在此製程中廣泛採用正型感光性樹脂組合物。特定言之,含有矽氧烷聚合物之正型感光性樹脂組合物作為具有高耐熱性、高透明度及低介電常數之材料而眾所周知。
然而,使用習知正型感光性矽氧烷組合物之平坦化膜或顯示元件具有比使用負型感光性矽氧烷組合物之平坦化膜及顯示元件更慢之敏感性。因此,需要改良形成劑之敏感性。
同時,韓國公開專利公開案第2008-0065984號揭示一種 包括矽氧烷化合物及1-第三丁氧基-2-丙醇之正型感光性矽氧烷樹脂組合物,教示到1-第三丁氧基-2-丙醇改良樹脂組合物之可塗佈性。此外,韓國公開專利公開案第2010-0015288號揭示一種包括黏合劑樹脂、酸產生劑及醇有機溶劑之正型抗蝕劑組合物,教示到倘若進行採用正型組合物作為第一及第二抗蝕劑組合物之雙圖案化,則為防止第一抗蝕圖案在第二抗蝕劑塗覆於第一抗蝕圖案上時溶解,使用醇溶劑作為第二抗蝕劑組合物之溶劑係有效的。然而,此等專利公開案在藉由使用醇溶劑改良感光性樹脂組合物之光學特性諸如敏感性、膜保留率及其類似者方面未有報道。
(專利文獻1)韓國公開專利公開案第2008-0065984號
(專利文獻2)韓國公開專利公開案第2010-0015288號
相應地,本發明旨在提供一種正型感光性樹脂組合物,其可藉由使用醇溶劑改良敏感性,所述醇溶劑經由其與醌二疊氮化合物之重氮基萘醌(DNQ)基團之間的相互作用增強於顯影劑中之溶解度;以及可甚至在後烘烤之後形成具有極佳膜保留率之固化膜。本發明亦旨在提供一種由所述組合物形成且用於液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置及其類似者之固化膜。
為了實現上文目標,本發明提供一種包括以下之感光性樹 脂組合物:(A)矽氧烷聚合物;(B)基於1,2-醌二疊氮之化合物;及(C)包括醇之溶劑,其中所述醇在大氣壓下具有80至140℃之沸點。
本發明之正型感光性樹脂組合物可藉由使用具有低沸點之醇溶劑以及習知使用之矽氧烷聚合物及醌二疊氮化合物改良敏感性,所述醇溶劑經由醇與醌二疊氮化合物之重氮基萘醌(DNQ)基團之間的相互作用增強曝光之一部分於顯影劑中之溶解度。此外,感光性樹脂組合物可甚至在後烘烤之後提供具有極佳膜保留率之固化膜。
根據本發明之感光性樹脂組合物包括(A)矽氧烷聚合物;(B)基於1,2-醌二疊氮之化合物;及(C)包括醇之溶劑,且可視情況進一步包括(D)環氧化合物;(E)由下文式2表示之至少一種矽烷化合物;(F)界面活性劑及/或(G)助黏劑。
在下文中,將詳細地闡述感光性樹脂組合物之各組分。
在本發明中,「(甲基)丙烯醯基」意指「丙烯醯基」及/或「甲基丙烯醯基」,且「(甲基)丙烯酸酯」意指「丙烯酸酯」及/或「甲基丙烯酸酯」。
矽氧烷聚合物(聚矽氧烷)包含矽烷化合物及/或其水解 產物之縮合物。
在此情況下,矽烷化合物或其水解產物可為單官能至四官能矽烷化合物。
因此,矽氧烷聚合物可包括選自以下Q型、T型、D型及M型之矽氧烷結構單元。
- Q型矽氧烷結構單元:包括矽原子及相鄰四個氧原子之矽氧烷結構單元,其可來源於例如四官能矽烷化合物或具有四個可水解基團之矽烷化合物之水解產物。
- T型矽氧烷結構單元:包括矽原子及相鄰三個氧原子之矽氧烷結構單元,其可來源於例如三官能矽烷化合物或具有三個可水解基團之矽烷化合物之水解產物。
- D型矽氧烷結構單元:包括矽原子及相鄰兩個氧原子之矽氧烷結構單元(亦即,直鏈矽氧烷結構單元),其可來源於例如雙官能矽烷化合物或具有兩個可水解基團之矽烷化合物之水解產物。
- M型矽氧烷結構單元:包括矽原子及一個相鄰氧原子之矽氧烷結構單元,其可來源於例如單官能矽烷化合物或具有一個可水解基團之矽烷化合物之水解產物。
舉例而言,矽氧烷聚合物(A)可包括至少一個來源於由下文式1表示之矽烷化合物之結構單元,且矽氧烷聚合物可為例如由式1表示之矽烷化合物及/或其水解產物之縮合物。
[式1](R1)nSi(OR2)4-n
在上文式1中,R1為C1-12烷基、C2-10烯基或C6-15芳基,其中倘若在同一分子中存在複數個R1,則各別R1可相同或不同,且倘 若R1為烷基、烯基或芳基,則其氫原子可經部分或全部取代,且其中R1可包括含有雜原子之結構單元;R2為氫、C1-6烷基、C2-6醯基或C6-15芳基,其中倘若在同一分子中存在複數個R2,則各別R2可相同或不同,且倘若R2為烷基、醯基或芳基,則其氫原子可經部分或全部取代;且n為0至3之整數。
包括含有雜原子之結構單元之R1的實例可包含醚、酯及硫化物。
矽烷化合物可為n為0之四官能矽烷化合物、n為1之三官能矽烷化合物、n為2之雙官能矽烷化合物或n為3之單官能矽烷化合物。
矽烷化合物之特定實例可包含例如作為四官能矽烷化合物之四乙醯氧基矽烷、四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、四丁氧基矽烷、四苯氧基矽烷、四苯甲氧基矽烷及四丙氧基矽烷;作為三官能矽烷化合物之甲基三氯矽烷、甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、甲基三異丙氧基矽烷、甲基三丁氧基矽烷、乙基三甲氧基矽烷、乙基三乙氧基矽烷、乙基三異丙氧基矽烷、乙基三丁氧基矽烷、丁基三甲氧基矽烷、五氟苯基三甲氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、d 3-甲基三甲氧基矽烷、九氟丁基乙基三甲氧基矽烷、三氟甲基三甲氧基矽烷、正丙基三甲氧基矽烷、正丙基三乙氧基矽烷、正丁基三乙氧基矽烷、正己基三甲氧基矽烷、正己基三乙氧基矽烷、癸基三甲氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、對羥基苯基三甲氧基矽烷、 1-(對羥基苯基)乙基三甲氧基矽烷、2-(對羥基苯基)乙基三甲氧基矽烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基三甲氧基矽烷、三氟甲基三乙氧基矽烷、3,3,3-三氟丙基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三乙氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三乙氧基矽烷、[(3-乙基-3-氧雜環丁烷基)甲氧基]丙基三甲氧基矽烷、[(3-乙基-3-氧雜環丁烷基)甲氧基]丙基三乙氧基矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷及3-三甲氧基矽烷基丙基琥珀酸;作為雙官能矽烷化合物之二甲基二乙醯氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷、二苯基二甲氧基矽烷、二苯基二乙氧基矽烷、二苯基二苯氧基矽烷、二丁基二甲氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、(3-縮水甘油氧基丙基)甲基二甲氧基矽烷、(3-縮水甘油氧基丙基)甲基二乙氧基矽烷、3-(2-胺基乙基胺基)丙基二甲氧基甲基矽烷、3-胺基丙基二乙氧基甲基矽烷、3-氯丙基二甲氧基甲基矽烷、3-巰基丙基二甲氧基甲基矽烷、環己基二甲氧基甲基矽烷、二乙氧基甲基乙烯基矽烷、二甲氧基甲基乙烯基矽烷及二甲氧基二-對甲苯基矽烷;以及作為單官能矽烷化合物之三甲基矽烷、三丁基矽烷、三甲基甲氧基矽烷、三丁基乙氧基矽烷、(3-縮水甘油氧基丙基)二甲基甲氧基矽烷及(3-縮水甘油氧基丙基)二甲基乙氧基矽烷。
在四官能矽烷化合物中較佳的係四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷及四丁氧基矽烷;在三官能矽烷化合物中較佳的係甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、甲基三異丙氧基矽烷、甲基三丁氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、乙基三甲氧基矽烷、乙基三乙氧基矽烷、乙基三異丙氧基矽烷、乙基三丁氧基矽烷及丁基三甲氧基矽烷;在雙官能矽烷化合物中較佳的係二甲基二甲氧基矽烷、二苯基二甲氧基矽烷、二苯基二乙 氧基矽烷、二苯基二苯氧基矽烷、二丁基二甲氧基矽烷及二甲基二乙氧基矽烷。
此等矽烷化合物可單獨或以其兩種或更多種之組合使用。
製備由上文式1表示之矽烷化合物之水解產物或其縮合物的條件不受特定限制。舉例而言,所期望之水解產物或縮合物可藉由以下方式製備:在諸如乙醇、2-丙醇、丙酮及乙酸丁酯之溶劑中稀釋式1矽烷化合物;向其中添加反應所必需之水及作為催化劑之酸(例如鹽酸、乙酸、硝酸及其類似物)或鹼(例如氨、三乙胺、環己胺、氫氧化四甲基銨及其類似物);接著攪拌由此獲得之混合物以完成水解聚合反應。
藉由式1矽烷化合物之水解聚合所獲得之縮合物(矽氧烷聚合物)的重量平均分子量較佳在500至50,000範圍內。在此範圍內,感光性樹脂組合物可具有所期望之膜形成特性、溶解度及顯影劑中溶解率。
可視情況選擇製備中所使用之溶劑及酸或鹼催化劑之種類以及其量而無特定限制。水解聚合可在20℃或更低之低溫下進行,但反應亦可藉由加熱或回流促進。反應所需之時間可視包含矽烷單體之種類及濃度、反應溫度等之各種條件而變化。一般而言,獲得重量平均分子量為約500至50,000之縮合物所需之反應時間在15分鐘至30天範圍內;然而,本發明中之反應時間不限於此。
矽氧烷聚合物(A)可包括直鏈矽氧烷結構單元(亦即,D型矽氧烷結構單元)。直鏈矽氧烷結構單元可來源於雙官能矽烷化合物,例如由n為2之式1表示之矽烷化合物。特定言之,矽氧烷聚合物(A)包括來源於n為2之式1矽烷化合物之結構單元,其量以Si原子莫耳數計為0.5至50莫耳%,且較佳1至30莫耳%。在此範圍內,固化膜 可維持恆定硬度且展現可撓性特性,由此進一步改良相對於外部應力之抗裂性。
此外,矽氧烷聚合物(A)可包括來源於由n為1之式1表示之矽烷化合物的結構單元(亦即,T型結構單元)。較佳地,矽氧烷聚合物(A)包括來源於由n為1之式1表示之矽烷化合物的結構單元,其量比率以Si原子莫耳數計為40至85莫耳%,更佳50至80莫耳%。在此量範圍內,感光性樹脂組合物可形成具有更精確之圖案輪廓之固化膜。
此外,考慮到固化膜之硬度、敏感性及保留率,矽氧烷聚合物(A)較佳包括來源於具有芳基之矽烷化合物之結構單元。舉例而言,矽氧烷聚合物(A)可包括來源於具有芳基之矽烷化合物之結構單元,其量以Si原子莫耳數計為30至70莫耳%,且較佳為35至50莫耳%。在此範圍內,矽氧烷聚合物及1,2-萘醌二疊氮化合物之相容性良好,且由此可防止敏感性的過度降低,同時獲得固化膜之更有利之透明度。來源於具有芳基作為R1之矽烷化合物之結構單元可為來源於n為1且R1為芳基之式1矽烷化合物、特定言之n為1且R1為苯基之式1矽烷化合物之結構單元(亦即,T苯基型結構單元)。
矽氧烷聚合物(A)可包括來源於由n為0之式1表示之矽烷化合物的結構單元(亦即,Q型結構單元)。較佳地,矽氧烷聚合物(A)包括來源於由n為0之式1表示之矽烷化合物的結構單元,其量以Si原子莫耳數計為10至40莫耳%且較佳15至35莫耳%。在此範圍內,感光性樹脂組合物可將圖案形成期間其於鹼性水溶液中之溶解度維持在適當程度,由此防止由組合物之溶解度減小或溶解度急劇增加所導致之任何缺陷。
如本文所用,術語「以Si原子莫耳數計之莫耳%」係指相對於構成矽氧烷聚合物之所有結構單元中所含有之Si原子的總莫耳數,特定結構單元中所含有之Si原子之莫耳數的百分比。
矽氧烷聚合物(A)中之矽氧烷單元之莫耳量可自Si-NMR、1H-NMR、13C-NMR、IR、TOF-MS、元素分析、灰分確定及其類似者之組合中量測。舉例而言,為了量測具有苯基之矽氧烷單元之莫耳量,對總矽氧烷聚合物進行Si-NMR分析,接著分析苯基鍵結之Si峰面積及苯基未鍵結之Si峰面積,且因此可自其間之峰面積比計算莫耳量。
基於排除溶劑之固體含量,以組合物之總重量計,本發明之感光性樹脂組合物可包括量為50至95wt%、較佳65至90wt%之矽氧烷聚合物(A)。在此量範圍內,樹脂組合物可將其顯影性維持在合適之水準,由此產生具有改良之膜保留率及圖案解析度之固化膜。
本發明之感光性樹脂組合物包括1,2-醌二疊氮化合物(B)。
1,2-醌二疊氮化合物可為在光致抗蝕劑領域中用作感光劑之任何化合物。
1,2-醌二疊氮化合物之實例包含酚化合物與1,2-苯醌二疊氮-4-磺酸或1,2-苯醌二疊氮-5-磺酸之酯;酚化合物與1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸或1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸之酯;其羥基經胺基取代之酚化合物與1,2-苯醌二疊氮-4-磺酸或1,2-苯醌二疊氮-5-磺酸之磺醯胺;其羥基經胺基取代之酚化合物與1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸或1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸之磺醯胺。上文化合物可單獨或以兩種或更多種化合物之組合及其類似 者使用。
酚化合物之實例包含2,3,4-三羥基二苯甲酮、2,4,6-三羥基二苯甲酮、2,2',4,4'-四羥基二苯甲酮、2,3,3',4-四羥基二苯甲酮、2,3,4,4'-四羥基二苯甲酮、雙(2,4-二羥苯基)甲烷、雙(對羥基苯基)甲烷、三(對羥基苯基)甲烷、1,1,1-三(對羥基苯基)乙烷、雙(2,3,4-三羥基苯基)甲烷、2,2-雙(2,3,4-三羥基苯基)丙烷、1,1,3-參(2,5-二甲基-4-羥基苯基)-3-苯丙烷、4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚、雙(2,5-二甲基-4-羥基苯基)-2-羥基苯基甲烷、3,3,3',3'-四甲基-1,1'-螺雙茚-5,6,7,5',6',7'-己醇、2,2,4-三甲基-7,2',4'-三羥基黃烷及其類似物。
1,2-醌二疊氮化合物之更特定實例包含2,3,4-三羥基二苯甲酮與1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸之酯、2,3,4-三羥基二苯甲酮與1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸之酯、4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚與1,2-萘醌二疊氮-4-磺酸之酯、4,4'-[1-[4-[1-[4-羥基苯基]-1-甲基乙基]苯基]亞乙基]雙酚與1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸之酯及其類似物。
上文化合物可單獨或以兩種或更多種化合物之組合使用。
藉由使用前述較佳化合物,可改良正型感光性樹脂組合物之透明度。
基於排除溶劑之固體含量,以100重量份之矽氧烷聚合物(A)計,1,2-醌二疊氮化合物(B)可按2至50重量份、較佳5至20重量份範圍內之量包括在感光性樹脂組合物中。當1,2-醌二疊氮化合物以上述量範圍使用時,樹脂組合物可更容易地形成不具有缺陷(諸如塗佈膜之粗糙表面及在顯影後在圖案底部之浮渣)的圖案。
本發明之感光性樹脂組合物包括有包括醇之溶劑(C)。 所述醇在大氣壓下可具有80至140℃、特定言之80至120℃之沸點。包括具有上文範圍內之沸點之醇的溶劑(C)可藉由經由醇與醌二疊氮化合物之重氮基萘醌(DNQ)基團之間的相互作用增強於顯影劑中之溶解度而改良敏感性。
一般而言,在曝光步驟期間重氮基萘醌基團藉由UV光變為重氮基酮。所得重氮基酮與存在於光致抗蝕劑組合物中之少量水(H2O)反應,由此變為易於溶解在鹼性顯影劑中之包括羧基之結構。在相關技術領域中,出於促進前述反應之目的,已將水添加至光致抗蝕劑組合物中。但在此情況下,由於存在大量水,因此光致抗蝕劑組合物之穩定性隨時間流逝而降低。因此,為了解決此問題,本發明可藉由借助於使用醇而非水增強重氮基萘醌在顯影劑中之溶解度而改良敏感性。此類反應機制顯示於以下反應流程1中。
感光性樹脂組合物中之溶劑之含量不受特定限制。舉例而言,可包括溶劑,使得固體含量以感光性樹脂組合物之總重量計為10至70重量%,較佳15至60重量%。固體含量係指排除溶劑之構成本發明 之樹脂組合物的組分。若溶劑含量在上文範圍內,則可容易地形成塗層,且流動性可維持在適當水準。
此外,可包括醇,其量以溶劑(C)之總重量計為1至78重量%,較佳5至60重量%,更佳10至50重量%。在上文含量範圍內,即使在少量的曝光能量下亦容易地形成圖案,且在後烘烤之後的顯影時膜保留率可保持在高水準。
醇可較佳為異丙醇、正丙醇、異丁醇、正丁醇、第二丁醇、第三丁醇、2-甲基-1-丁醇、2-甲基-2-丁醇、1-甲氧基-2-丁醇、1-戊醇、4-甲基-2-戊醇、烯丙醇、乙二醇單甲醚、乙二醇單***、丙二醇單甲醚、丙二醇單***、N,N-二甲基乙醇胺或其類似物;且更佳為異丙醇、正丙醇、異丁醇、正丁醇、第二丁醇、第三丁醇、2-甲基-2-丁醇、烯丙醇、丙二醇單甲醚或其類似物,其具有80至120℃之沸點。
上文醇可單獨或以其兩種或更多種之組合使用。
此外,溶劑(C)可包括除醇以外之另一種溶劑。此額外溶劑可為有機溶劑。其實例包含醚、二乙二醇烷基醚、乙二醇烷基醚乙酸酯、丙二醇單烷基醚乙酸酯、丙二醇單烷基醚丙酸酯、芳族烴、酮、酯及其類似物。
具體言之,額外溶劑可為醚,諸如四氫呋喃;二乙二醇烷基醚,諸如二乙二醇二甲醚、二乙二醇醚及二乙二醇乙基甲基醚;乙二醇烷基醚乙酸酯,諸如甲基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、乙二醇單丁基醚乙酸酯及乙二醇單***乙酸酯;丙二醇單烷基醚乙酸酯,諸如丙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇單***乙酸酯、丙二醇單丙基醚乙酸酯及丙二醇單丁基醚乙酸酯;丙二醇單烷基醚丙酸酯,諸如丙二醇單甲基醚丙酸酯、丙二醇單***丙酸酯、丙二醇單丙基醚丙酸酯及丙二醇單丁 基醚丙酸酯;芳族烴,諸如甲苯及二甲苯;酮,諸如甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮、2-庚酮及4-羥基-4-甲基-2-戊酮;酯,諸如乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸異丙酯、乙酸丁酯、2-羥基丙酸乙酯、2-羥基-2-甲基丙酸甲酯、2-羥基-2-甲基丙酸乙酯、羥基乙酸甲酯、羥基乙酸乙酯、羥基乙酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丙酯、乳酸丁酯、3-羥基丙酸甲酯、3-羥基丙酸乙酯、3-羥基丙酸丙酯、3-羥基丙酸丁酯、2-羥基-3-甲基丁酸甲酯、甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯、乙氧基乙酸丙酯、乙氧基乙酸丁酯、丙氧基乙酸甲酯、丙氧基乙酸乙酯、丙氧基乙酸丙酯、丙氧基乙酸丁酯、丁氧基乙酸甲酯、丁氧基乙酸乙酯、丁氧基乙酸丙酯、丁氧基乙酸丁酯、2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-甲氧基丙酸丁酯、2-乙氧基丙酸甲酯及2-乙氧基丙酸乙酯。
上文溶劑可單獨或以其兩種或更多種之組合使用。
在本發明之感光性樹脂組合物中,環氧化合物可額外與矽氧烷聚合物一起採用以便增加矽氧烷黏合劑之內部密度,由此改良待由其製備之固化膜之耐化學性。
環氧化合物可為含有至少一個環氧基之不飽和單體之同質寡聚物或異質寡聚物。
含有至少一個環氧基之不飽和單體之實例可包含(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、丙烯酸4-羥丁酯縮水甘油醚、(甲基)丙烯酸3,4-環氧丁酯、(甲基)丙烯酸4,5-環氧戊酯、(甲基)丙烯酸5,6-環氧己酯、(甲基)丙烯酸6,7-環氧庚酯、(甲基)丙烯酸2,3-環氧環戊酯、(甲基)丙烯酸 3,4-環氧環己酯、α-乙基丙烯酸縮水甘油酯、α-正丙基丙烯酸縮水甘油酯、α-正丁基丙烯酸縮水甘油酯、N-(4-(2,3-環氧丙氧基)-3,5-二甲基苯甲基)丙烯醯胺、N-(4-(2,3-環氧丙氧基)-3,5-二甲基苯基丙基)丙烯醯胺、烯丙基縮水甘油醚、2-甲烯丙基縮水甘油醚、鄰乙烯基苯甲基縮水甘油醚、間乙烯基苯甲基縮水甘油醚、對乙烯基苯甲基縮水甘油醚或其混合物。較佳地,可使用甲基丙烯酸縮水甘油酯。
環氧化合物可藉由此項技術中熟知之任何習知方法合成。
可商購之環氧化合物之實例可包含GHP03(甲基丙烯酸縮水甘油酯均聚物,Miwon Commercial Co.,Ltd.)。
環氧化合物(D)可進一步包括以下結構單元。
特定實例可包含來源於苯乙烯之任何結構單元;具有烷基取代基之苯乙烯,諸如甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、三乙基苯乙烯、丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、庚基苯乙烯及辛基苯乙烯;具有鹵素之苯乙烯,諸如氟苯乙烯、氯苯乙烯、溴苯乙烯及碘苯乙烯;具有烷氧基取代基之苯乙烯,諸如甲氧基苯乙烯、乙氧基苯乙烯及丙氧基苯乙烯;對羥基-α-甲基苯乙烯、乙醯基苯乙烯;具有芳族環之烯系不飽和化合物,諸如二乙烯基苯、乙烯基苯酚、鄰乙烯基苯甲基甲基醚、間乙烯基苯甲基甲基醚及對乙烯基苯甲基甲基醚;不飽和羧酸酯,諸如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、(甲基)丙烯酸四氫呋喃甲酯、(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-氯丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、甘油(甲基)丙烯酸酯、α-羥基甲基丙烯酸甲酯、α-羥基甲基丙烯酸 乙酯、α-羥基甲基丙烯酸丙酯、α-羥基甲基丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、乙氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基三乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基三丙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚(乙二醇)甲基醚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苯甲酯、(甲基)丙烯酸2-苯氧基乙酯、苯氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、對壬基苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、對壬基苯氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸酯1,1,1,3,3,3-六氟異丙酯、(甲基)丙烯酸八氟戊酯、(甲基)丙烯酸十七氟癸酯、(甲基)丙烯酸三溴苯酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯酯、(甲基)丙烯酸二環戊氧基乙酯及(甲基)丙烯酸二環戊烯氧基乙酯;具有N-乙烯基之三級胺,諸如N-乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基咔唑及N-乙烯基嗎啉;不飽和醚,諸如乙烯基甲基醚及乙烯基乙基醚;不飽和醯亞胺,諸如N-苯基順丁烯二醯亞胺、N-(4-氯苯基)順丁烯二醯亞胺、N-(4-羥基苯基)順丁烯二醯亞胺及N-環己基順丁烯二醯亞胺。來源於上文例示性化合物之結構單元可單獨或以其兩種或更多種之組合含於環氧化合物(D)中。
對於組合物之可聚合性,在此等實例中苯乙烯化合物為較佳的。
特定言之,就耐化學性而言,在此等化合物中,環氧化合物(D)更佳藉由不使用來源於含有羧基之單體之結構單元而不含羧基。
以構成環氧化合物(D)之結構單元之總莫耳數計,結構單元可按0至70莫耳%、較佳10至60莫耳%之量比率使用。在此量範圍內,固化膜可具有所期望之硬度。
環氧化合物(D)之重量平均分子量可在100至30,000、 較佳1,000至15,000範圍內。若環氧化合物之重量平均分子量為至少100,則固化膜可具有改良之硬度。同樣,若環氧化合物之重量平均分子量為30,000或更小,則固化膜可具有均一厚度,此適用於在其上平面化任何步驟。重量平均分子量藉由使用聚苯乙烯標準物進行凝膠滲透層析法(GPC,溶離劑:四氫呋喃)來測定。
以100重量份之排除溶劑之矽氧烷聚合物(A)的固體含量計,環氧化合物(D)可按0至40重量份、較佳5至25重量份之量包括在本發明之感光性樹脂組合物中。在所述量範圍內,感光性樹脂組合物之耐化學性及敏感性可為更有利的。
本發明之感光性樹脂組合物可包括至少一種由下文式2表示之矽烷化合物,尤其T型及/或Q型之矽烷單體,以由此在後加工中之處理期間藉由減少與環氧化合物例如環氧寡聚物相關之矽氧烷聚合物中之高度反應性矽烷醇基團(Si-OH)來改良耐化學性:[式2](R3)nSi(OR4)4-n
在上文式2中,R3為C1-12烷基、C2-10烯基或C6-15芳基,其中倘若在同一分子中存在複數個R3,則各別R3可相同或不同,且倘若R3為烷基、烯基或芳基,則其氫原子可經部分或全部取代,且其中R3可包括含有雜原子之結構單元;R4為氫、C1-6烷基、C2-6醯基或C6-15芳基,其中倘若在同一分子中存在複數個R4,則各別R4可相同或不同,且倘若R4為烷基、醯基或芳基,則其氫原子可經部分或全部取代;且n為0至3之整數。
包括含有雜原子之結構單元之R3的實例可包含醚、酯及硫化物。
矽烷化合物可為n為0之四官能矽烷化合物、n為1之三官能矽烷化合物、n為2之雙官能矽烷化合物或n為3之單官能矽烷化合物。
矽烷化合物之特定實例可包含例如作為四官能矽烷化合物之四乙醯氧基矽烷、四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、四丁氧基矽烷、四苯氧基矽烷、四苯甲氧基矽烷及四丙氧基矽烷;作為三官能矽烷化合物之甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、甲基三異丙氧基矽烷、甲基三丁氧基矽烷、乙基三甲氧基矽烷、乙基三乙氧基矽烷、乙基三異丙氧基矽烷、乙基三丁氧基矽烷、丁基三甲氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、d 3-甲基三甲氧基矽烷、正丙基三甲氧基矽烷、正丙基三乙氧基矽烷、正丁基三乙氧基矽烷、正己基三甲氧基矽烷、正己基三乙氧基矽烷、癸基三甲氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、對羥基苯基三甲氧基矽烷、1-(對羥基苯基)乙基三甲氧基矽烷、2-(對羥基苯基)乙基三甲氧基矽烷、4-羥基-5-(對羥基苯基羰氧基)戊基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三乙氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三乙氧基矽烷、[(3-乙基-3-氧雜環丁烷基)甲氧基]丙基三甲氧基矽烷、[(3-乙基-3-氧雜環丁烷基)甲氧基]丙基三乙氧基矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷及3-三甲氧基矽烷基丙基琥珀酸;作為雙官能矽烷化合物之二甲 基二乙醯氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷、二苯基二甲氧基矽烷、二苯基二乙氧基矽烷、二苯基二苯氧基矽烷、二丁基二甲氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、(3-縮水甘油氧基丙基)甲基二甲氧基矽烷、(3-縮水甘油氧基丙基)甲基二乙氧基矽烷、3-(2-胺基乙基胺基)丙基二甲氧基甲基矽烷、3-胺基丙基二乙氧基甲基矽烷、3-巰基丙基二甲氧基甲基矽烷、環己基二甲氧基甲基矽烷、二乙氧基甲基乙烯基矽烷、二甲氧基甲基乙烯基矽烷及二甲氧基二-對甲苯基矽烷;以及作為單官能矽烷化合物之三甲基矽烷、三丁基矽烷、三甲基甲氧基矽烷、三丁基乙氧基矽烷、(3-縮水甘油氧基丙基)二甲基甲氧基矽烷及(3-縮水甘油氧基丙基)二甲基乙氧基矽烷。
在四官能矽烷化合物中較佳的係四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷及四丁氧基矽烷;在三官能矽烷化合物中較佳的係甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、甲基三異丙氧基矽烷、甲基三丁氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、乙基三甲氧基矽烷、乙基三乙氧基矽烷、乙基三異丙氧基矽烷、乙基三丁氧基矽烷、丁基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三乙氧基矽烷;在雙官能矽烷化合物中較佳的係二甲基二甲氧基矽烷、二苯基二甲氧基矽烷、二苯基二乙氧基矽烷、二苯基二苯氧基矽烷、二丁基二甲氧基矽烷及二甲基二乙氧基矽烷。
此等矽烷化合物可單獨或以其兩種或更多種之組合使用。
以100重量份之排除溶劑之矽氧烷聚合物(A)的固體含量計,矽烷化合物(E)可按0至20重量份、較佳4至12重量份之量包括在感光性樹脂組合物中。在所述量範圍內,可進一步改良待形成之固 化膜之耐化學性。
本發明之感光性樹脂組合物可進一步包括界面活性劑以增強其可塗佈性。
界面活性劑之種類不受限制,但較佳的係基於氟之界面活性劑、基於矽之界面活性劑、非離子界面活性劑及其類似物。
界面活性劑之具體實例可包含基於氟之界面活性劑及基於矽之界面活性劑,諸如由Dow Corning Toray Silicon Co.,Ltd.製造之FZ-2122;由BM CHEMIE Co.,Ltd.製造之BM-1000及BM-1100;由Dai Nippon Ink Chemical Kogyo Co.,Ltd.製造之Megapack F-142 D、Megapack F-172、Megapack F-173及Megapack F-183;由Sumitomo 3M Ltd.製造之Florad FC-135、Florad FC-170 C、Florad FC-430及Florad FC-431;由Asahi Glass Co.,Ltd.製造之Sufron S-112、Sufron S-113、Sufron S-131、Sufron S-141、Sufron S-145、Sufron S-382、Sufron SC-101、Sufron SC-102、Sufron SC-103、Sufron SC-104、Sufron SC-105及Sufron SC-106;由Shinakida Kasei Co.,Ltd.製造之Eftop EF301、Eftop EF303及Eftop EF352;由Toray Silicon Co.,Ltd.製造之SH-28 PA、SH-190、SH-193、SZ-6032、SF-8428、DC-57及DC-190;非離子界面活性劑,諸如聚氧化乙烯烷基醚,包含聚氧化乙烯月桂基醚、聚氧化乙烯硬脂醯基醚、聚氧化乙烯油基醚及其類似物;聚氧化乙烯芳基醚,包含聚氧化乙烯辛基苯基醚、聚氧化乙烯壬基苯基醚及其類似物;及聚氧化乙烯二烷基酯,包含聚氧化乙烯二月桂酸酯、聚氧化乙烯二硬脂酸酯及其類似物;以及有機矽氧烷聚合物KP341(由Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.製造)、基於(甲基)丙烯酸酯之共聚物Polyflow第 57號及第95號(Kyoei Yuji Chemical Co.,Ltd.)及其類似物。其可單獨或以其兩種或更多種之組合使用。
以100重量份之排除溶劑之矽氧烷聚合物(A)的固體含量計,界面活性劑(F)可按0.001至5重量份、較佳0.05至2重量份之量包括在感光性樹脂組合物中。在所述量範圍內,可改良組合物之可塗佈性。
本發明之感光性樹脂組合物可進一步包括助黏劑以改良其對基板之黏著性。
助黏劑可包括至少一個選自由以下組成之群的反應性基團:羧基、(甲基)丙烯醯基、異氰酸酯基、胺基、巰基、乙烯基及環氧基。
助黏劑之種類不受特定限制,且其實例可包含選自由以下組成之群的至少一者:三甲氧基矽烷基苯甲酸、γ-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙醯氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、γ-異氰酸酯基丙基三乙氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、N-苯基胺丙基三甲氧基矽烷及β-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷,且較佳之實例可包含γ-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷或N-苯基胺丙基三甲氧基矽烷,其可增加膜保留率且對基板具有良好之黏著性。
以100重量份之排除溶劑之矽氧烷聚合物(A)的固體含量計,助黏劑(G)可按0至5重量份、較佳0.001至2重量份之量包括在感光性樹脂組合物中。在所述量範圍內,可進一步改良對基板之黏著性。
除上文以外,僅當本發明之感光性樹脂組合物之物理特性未受到不利影響時才可在其中包括其他添加劑組分。
根據本發明之感光性樹脂組合物可用作正型感光性樹脂組合物。
特定言之,本發明之感光性樹脂組合物可藉由使用具有低沸點之醇溶劑以及習知使用之矽氧烷聚合物及醌二疊氮化合物來改良敏感性,當醌二疊氮化合物之重氮基萘醌(DNQ)基團在曝光步驟期間曝光時,所述醇溶劑增強曝光之一部分於顯影劑中之溶解度。此外,感光性樹脂組合物甚至在後烘烤之後可提供具有極佳膜保留率之固化膜。
此外,本發明提供一種由感光性樹脂組合物形成之固化膜。
固化膜可藉由此項技術中已知之方法形成,所述方法例如將感光性樹脂組合物塗佈在基板上接著固化之方法。
此處,在所期望之厚度例如2至25μm方面,塗佈步驟可藉由旋塗法、隙縫塗佈法、滾塗法、網板印刷法、塗覆器法或其類似方法進行。
在固化步驟中,具體言之,可使塗佈在基板上之感光性樹脂組合物在例如60至130℃之溫度下經歷預烘烤以移除溶劑;接著使用具有所期望圖案之光罩曝光;且使用例如氫氧化四甲基銨(TMAH)溶液之顯影劑經歷顯影,以在塗層上形成圖案。此處,基於200至500nm波長帶中之365nm波長,可按10至200mJ/cm2之曝光率進行曝光。此外,可使用低壓汞燈、高壓汞燈、超高壓汞燈、金屬鹵化物燈、氬氣雷射等作為用於曝光(照射)之光源。必要時亦可使用X射線、電子射線等。
此後,必要時,在例如150至300℃之溫度下使圖案化塗層經歷後烘烤10分鐘至5小時,以製備所期望之固化膜。
由此製備之固化膜具有耐熱性、透明度、介電性、耐溶劑性、耐酸性及耐鹼性方面之極佳物理特性。
因此,當組合物經歷熱處理或浸沒於溶劑、酸、鹼等中或與溶劑、酸、鹼等接觸時,固化膜具有極佳透光率而無表面粗糙度。因此,固化膜可有效地用作液晶顯示器或有機EL顯示器之TFT基板之平坦化膜;有機EL顯示器之分區;半導體裝置之層間介電質;光波導之核心或包層材料等。
此外,本發明提供一種藉由上文製備方法形成之含矽固化膜,及包含固化膜作為保護膜之電子部件。
下文中,將參考以下實例更詳細地描述本發明。然而,此等實例僅為了說明本發明而提供,且本發明之範疇不限於此。
在以下實例中,重量平均分子量藉由使用聚苯乙烯標準物進行凝膠滲透層析法(GPC)來測定。
向配備有回流冷凝器之反應器中添加40wt%苯基三甲氧基矽烷、15wt%甲基三甲氧基矽烷、20wt%四乙氧基矽烷及20wt%純水,接著向其中添加5wt%丙二醇單甲基醚乙酸酯(PGMEA),隨後在0.1wt%草酸催化劑存在下回流並攪拌混合物7小時,接著將其冷卻。之後,用PGMEA稀釋反應產物使得固體含量為40wt%。合成重量平均分子量為約5,000至8,000Da之矽氧烷聚合物。
向配備有回流冷凝器之反應器中添加20wt%苯基三甲氧基矽烷、30wt%甲基三甲氧基矽烷、20wt%四乙氧基矽烷及15wt%純水,且接著向其中添加15wt% PGMEA,隨後在0.1wt%草酸催化劑存在下回流且攪拌混合物6小時,且接著將其冷卻。之後,用PGMEA稀釋反應產物使得固體含量為30wt%。合成重量平均分子量為約8,000至13,000Da之矽氧烷聚合物。
向配備有回流冷凝器之反應器中添加20wt%苯基三甲氧基矽烷、30wt%甲基三甲氧基矽烷、20wt%四乙氧基矽烷及15wt%純水,且接著向其中添加15wt% PGMEA,隨後在0.1wt%草酸催化劑存在下回流且攪拌混合物5小時,且接著將其冷卻。之後,用PGMEA稀釋反應產物使得固體含量為30wt%。合成重量平均分子量為約9,000至15,000Da之矽氧烷聚合物。
將配備有冷凝器之三頸燒瓶置於具有自動溫控器之攪拌器上。將100重量份之包含甲基丙烯酸縮水甘油酯之單體(100莫耳%)、10重量份之2,2'-偶氮雙(2-甲基丁腈)及100重量份之PGMEA放於燒瓶中,且向燒瓶中饋入氮氣。將燒瓶加熱至80℃,同時緩慢攪拌混合物, 且將溫度維持5小時以獲得重量平均分子量為約6,000至10,000Da之環氧化合物。接著向其中添加PGMEA以將其固體含量調節至20wt%。
使用上文合成實例中所獲得之化合物製備以下實例及比較實例之感光性樹脂組合物。
此外,以下化合物用於實例及比較實例中:
實例1:混合32.85重量份之合成實例1中所製備之矽氧烷聚合物(A-1)溶液、32.85重量份之合成實例2中所製備之矽氧烷聚合物(A-2)溶液及34.3重量份之合成實例3中所製備之矽氧烷聚合物(A-3)溶液。接著,均勻地混合以100重量份之總矽氧烷聚合物計16.7重量份的作為基於1,2-醌二疊氮之化合物的TPA-517(B-1)、0.7重量份之BIOC 25(B-2)、14.3重量份之合成實例4中所製備之環氧化合物 (D)、6.9重量份之矽烷單體(E)及0.3重量份之界面活性劑。將此混合物溶解於醇與PGMEA(按重量計,異丙醇(C-1):PGMEA=15:85)作為溶劑之混合物中,使得固體含量為22wt%。將混合物攪拌5小時且經由具有0.2μm孔隙之膜濾器過濾,以獲得固體含量為22wt%之組合物溶液。
實例2至4及比較實例1至5:以與實例1相同之方式製備組合物溶液,但如下表3中所描述改變組分及/或其量。
藉由旋塗將上文實例及比較實例中所製備之組合物各自塗佈於玻璃基板上。接著在保持在110℃下之熱板上預烘烤經塗佈基板90秒,以形成厚度為3μm之乾燥膜。藉由使用校準器(型號名稱:MA6),使乾燥膜經由具有大小在1μm至30μm範圍內之正方形孔之圖案的遮罩,以0至200mJ/cm2之曝光率基於365nm之波長而曝光某一時間段,所述校準器發射波長為200nm至450nm之光。接著將所述膜在23℃下經由覆液噴嘴(puddle nozzle)用2.38wt%氫氧化四甲基 銨之水性顯影劑顯影。接著在對流烘箱中在230℃下加熱由此獲得之曝光膜30分鐘,以製備固化膜。
對於經由10μm大小之遮罩形成之孔洞圖案,量測獲得10μm臨界尺寸(CD,單位:μm)所需之曝光能量的量。曝光能量越低,固化膜之敏感性越好。對於同一組合物,敏感性亦轉化成百分比單位。此處,比較實例1及2用作參考。所轉化之敏感性%越低,以mJ/cm2為單位之敏感性越好。
對於同一組合物,敏感性(所轉化之%)=敏感性(mJ/cm2)×100/參考敏感性(mJ/cm2)
藉由旋塗將上文實例及比較實例中所製備之組合物各自塗佈於氮化矽基板上。接著在保持在110℃下之熱板上預烘烤經塗佈基板90秒,以形成厚度為3μm之乾燥膜。將乾燥膜在23℃下經由覆液噴嘴用2.38wt%氫氧化四甲基銨之水性顯影劑顯影。接著在對流烘箱中在230℃下加熱經過顯影之膜30分鐘,以製備固化膜。藉由使用非接觸型膜厚度量測設備(SNU Precision),藉由計算以百分比為單位的最終固化膜之厚度與在預烘烤之後立即得到的膜之厚度的比率來生成膜保留率(%)。數值越高,膜保留率越好。
膜保留率(%)=(最終固化膜之厚度/預烘烤後之膜之厚度)×100
測試結果顯示於下表4中。
如上表4中所示,由實例之組合物形成的所有固化膜-處於範疇本發明內-具有極佳之敏感性及膜保留率。相反,由根據比較實例之組合物形成的固化膜-不處於本發明之範疇內-顯示至少一種不利之特性。
Claims (6)
- 一種感光性樹脂組合物,包括:(A)矽氧烷聚合物;(B)基於1,2-醌二疊氮之化合物;及(C)包括醇之溶劑,其中所述醇在大氣壓下具有80至140℃之沸點。
- 如申請專利範圍第1項所述的感光性樹脂組合物,其中所述醇按以所述溶劑(C)之總重量計5至60wt%之量包括在內。
- 如申請專利範圍第1項所述的感光性樹脂組合物,其中所述矽氧烷聚合物(A)包括至少一個來源於由式1表示之矽烷化合物之結構單元:[式1](R 1) nSi(OR 2) 4-n其中R 1為C 1-12烷基、C 2-10烯基或C 6-15芳基,其中倘若在同一分子中存在複數個R 1,則各別R 1可相同或不同,且倘若R 1為烷基、烯基或芳基,則其氫原子可經部分或全部取代,且其中R 1可包括含有雜原子之結構單元;R 2為氫、C 1-6烷基、C 2-6醯基或C 6-15芳基,其中倘若在同一分子中存在複數個R 2,則各別R 2可相同或不同,且倘若R 2為烷基、醯基或芳基,則其氫原子可經部分或全部取代;且n為0至3之整數。
- 如申請專利範圍第3項所述的感光性樹脂組合物,其中所述矽氧烷聚合物(A)包括來源於由n為0之式1表示之矽烷化合物的結構單元。
- 如申請專利範圍第1項所述的感光性樹脂組合物,其進一步包括環氧化合物。
- 如申請專利範圍第1項所述的感光性樹脂組合物,其進一步包括至少一種由式2表示之矽烷化合物:[式2](R 3) nSi(OR 4) 4-n其中R 3為C 1-12烷基、C 2-10烯基或C 6-15芳基,其中倘若在同一分子中存在複數個R 3,則各別R 3可相同或不同,且倘若R 3為烷基、烯基或芳基,則其氫原子可經部分或全部取代,且其中R 3可包括含有雜原子之結構單元;R 4為氫、C 1-6烷基、C 2-6醯基或C 6-15芳基,其中倘若在同一分子中存在複數個R 4,則各別R 4可相同或不同,且倘若R 4為烷基、醯基或芳基,則其氫原子可經部分或全部取代;且n為0至3之整數。
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