TW201722917A - 用以製備噠嗪酮類除草劑的中間物及該等的製程 - Google Patents

用以製備噠嗪酮類除草劑的中間物及該等的製程 Download PDF

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Abstract

所揭示者係用以製備式1化合物之程序，□其係自式2化合物製備，其中X、R1、R2、R3、R4、R5、n、R6、R7、G、及W係如本揭露中所定義。亦揭示係式2及式4化合物□其中X、R1、R2、R3、R4、R5、n、R6、R7、G、及W係如本揭露中所定義。亦揭示用於製備式2及式4化合物之方法。

Description

用以製備噠嗪酮類除草劑的中間物及該等的製程
此發明關於某些可用於作為除草劑的噠嗪酮化合物之製備及彼等之製備方法。
本發明關於製備某些式1噠嗪酮除草劑之方法、用於製備彼等之新穎中間物、及用於製備這些中間物之新穎方法。
本發明提供一種用於製備式1化合物之程序 其中R1係H、C1-C7烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C2- C3氰烷基、C1-C4硝基烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧基烷基、或C3-C7烷基硫基烷基；R2係C1-C7烷基、C3-C8烷基羰基烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C2-C3氰烷基、C1-C4硝基烷基、C2-C7鹵烷氧基烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧基烷基、或C2-C3烷氧基羰基；或苯基，其可選地經鹵素、C1-C4烷基、或C1-C4鹵烷基取代；X係O或S；或X係-C(R6)=C(R7)-，其中鍵結至R6的碳原子亦鍵結至鍵結至R4的碳原子，並且鍵結至R7的碳原子亦鍵結至式1中的苯環部分；各R3獨立地係鹵素、-CN、硝基、C1-C5烷基、C2-C5烯基、C2-C5炔基、C3-C5環烷基、C4-C5環烷基烷基、C1-C5鹵烷基、C3-C5鹵烯基、C3-C5鹵炔基、C2-C5烷氧基烷基、C1-C5烷氧基、C1-C5鹵烷氧基、C1-C5烷基硫基、C1-C5鹵烷基硫基、或C2-C5烷氧基羰基；n係0、1、2、或3；且R4、R6、及R7獨立地係H、鹵素、硝基、-CN、C1-C5烷基、C2-C5烯基、C2-C5炔基、C3-C5環烷基、C4-C5環烷基烷基、C1-C5鹵烷基、C3-C5鹵烯基、C3-C5鹵炔基、C2-C5烷氧基烷基、C1-C5烷氧基、C1-C5鹵烷氧基、C1-C5烷基硫基、C1-C4烷基亞磺醯基、C1-C4烷基磺醯基、C1-C5鹵烷基硫基、或C2-C5烷氧基羰基；其包含將式2除草劑中間物化合物水解， 其中R1、R2、R3、n、R4、X、R6、及R7係如上文針對式1所定義者；且Pyr係吡啶環，其可選地經鹵素或C1-C4烷基取代。
本發明亦係關於一種式2除草劑中間物化合物， 其中R1係H、C1-C7烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C2-C3氰烷基、C1-C4硝基烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧基烷基、或C3-C7烷基硫基烷基；R2係C1-C7烷基、C3-C8烷基羰基烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C4-C7 環烷基烷基、C2-C3氰烷基、C1-C4硝基烷基、C2-C7鹵烷氧基烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧基烷基、或C2-C3烷氧基羰基；或苯基，其可選地經鹵素、C1-C4烷基、或C1-C4鹵烷基取代；X係O或S；或X係-C(R6)=C(R7)-，其中鍵結至R6的碳原子亦鍵結至鍵結至R4的碳原子，並且鍵結至R7的碳原子亦鍵結至式2中的苯環部分；各R3獨立地係鹵素、-CN、硝基、C1-C5烷基、C2-C5烯基、C2-C5炔基、C3-C5環烷基、C4-C5環烷基烷基、C1-C5鹵烷基、C3-C5鹵烯基、C3-C5鹵炔基、C2-C5烷氧基烷基、C1-C5烷氧基、C1-C5鹵烷氧基、C1-C5烷基硫基、C1-C5鹵烷基硫基、或C2-C5烷氧基羰基；n係0、1、2、或3；R4、R6、及R7獨立地係H、鹵素、硝基、-CN、C1-C5烷基、C2-C5烯基、C2-C5炔基、C3-C5環烷基、C4-C5環烷基烷基、C1-C5鹵烷基、C3-C5鹵烯基、C3-C5鹵炔基、C2-C5烷氧基烷基、C1-C5烷氧基、C1-C5鹵烷氧基、C1-C5烷基硫基、C1-C4烷基亞磺醯基、C1-C4烷基磺醯基、C1-C5鹵烷基硫基、或C2-C5烷氧基羰基；且Pyr係吡啶環，其可選地經鹵素或C1-C4烷基取代。
本發明亦提供一種用於製備式2除草劑中間物化合物之程序，其包含將式4除草劑中間物化合物 其中R1係H、C1-C7烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C2-C3氰烷基、C1-C4硝基烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧基烷基、或C3-C7烷基硫基烷基；R2係C1-C7烷基、C3-C8烷基羰基烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C2-C3氰烷基、C1-C4硝基烷基、C2-C7鹵烷氧基烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧基烷基、或C2-C3烷氧基羰基；或苯基，其可選地經鹵素、C1-C4烷基、或C1-C4鹵烷基取代；且Pyr係吡啶環，其可選地經鹵素或C1-C4烷基取代；與式3化合物之反應產物環化 其中X係O或S；或X係-C(R6)=C(R7)-，其中鍵結至R6的碳原子亦鍵結至鍵結至R4的碳原子，並且鍵結至R7的碳原子亦鍵結至式3中的苯環部分；各R3獨立地係鹵素、-CN、硝基、C1-C5烷基、C2-C5烯基、C2-C5炔基、C3-C5環烷基、C4-C5環烷基烷基、C1-C5鹵烷基、C3-C5鹵烯基、C3-C5鹵炔基、C2-C5烷氧基烷基、C1-C5烷氧基、C1-C5鹵烷氧基、C1-C5烷基硫基、C1-C5鹵烷基硫基、或C2-C5烷氧基羰基；n係0、1、2、或3；且R4、R6、及R7獨立地係H、鹵素、硝基、-CN、C1-C5烷基、C2-C5烯基、C2-C5炔基、C3-C5環烷基、C4-C5環烷基烷基、C1-C5鹵烷基、C3-C5鹵烯基、C3-C5鹵炔基、C2-C5烷氧基烷基、C1-C5烷氧基、C1-C5鹵烷氧基、C1-C5烷基硫基、C1-C4烷基亞磺醯基、C1-C4烷基磺醯基、C1-C5鹵烷基硫基、或C2-C5烷氧基羰基。
本發明亦係關於一種式4除草劑中間物化合物， 其中 R1係H、C1-C7烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C2-C3氰烷基、C1-C4硝基烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧基烷基、或C3-C7烷基硫基烷基；R2係C1-C7烷基、C3-C8烷基羰基烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C2-C3氰烷基、C1-C4硝基烷基、C2-C7鹵烷氧基烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧基烷基、或C2-C3烷氧基羰基；或苯基，其可選地經鹵素、C1-C4烷基、或C1-C4鹵烷基取代；且Pyr係吡啶環，其可選地經鹵素或C1-C4烷基取代。
本發明亦提供一種用於製備式4除草劑中間物化合物之程序，其包含使式5化合物， 其中R2係C1-C7烷基、C3-C8烷基羰基烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C2-C3氰烷基、C1-C4硝基烷基、C2-C7鹵烷氧基烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧基烷基、C2-C3烷氧基羰 基；或苯基，其可選地經鹵素、C1-C4烷基、或C1-C4鹵烷基取代；且Pyr係吡啶環，其可選地經鹵素或C1-C4烷基取代；與式6肼接觸R1NHNH2 6其中R1係H、C1-C7烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C2-C3氰烷基、C1-C4硝基烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧基烷基、或C3-C7烷基硫基烷基。
如本文中所使用，用語「包含(comprises/comprising)」、「包括(includes/including)」、「具有(has/having)」、「含有(contains/containing)」、「特徵在於(characterized by)」或其任何其他變型係意圖涵蓋非排他性的涵括，並受到任何明確指示的限制。例如，包含元件列表之製程或方法不一定僅限於那些元件，而是可以包括其他未明確列出的元件或為該製程或方法固有的元件。
連接詞「由......組成(consisting of)」排除任何未指明的元件、步驟或、成分。假使在請求項中，該連接詞會使請求項不包括列舉材料以外的材料，但原本與該等材料相關的雜質除外。當該詞「由......組成(consisting of)」出現在請求項主體的子句而非緊接著前言，其只限制在該子句中提到的元件；其他元件並不會從請求項的整體排除。
連接詞「主要由...組成(consisting essentially of)」係用以界定除了字面揭示的材料、步驟、特徵、組分、或元件以外還包括材料、步驟、特徵、組分、或元件的組成物或方法，前提是這些額外的材料、步驟、特徵、組分、或元件不會實質影響請求保護的發明之基本和新穎特徵。用語「主要由......組成(consisting essentially of)」居於「包含(comprising)」與「由......組成(consisting of)」之間的中間地帶。
當申請人使用開放式用語如「包含(comprising)」定義發明或其部分時，應易於理解(除非另有陳述)該描述應解讀為亦使用用語「主要由......組成(consisting essentially of)」或「由......組成(consisting of)」來描述該發明。
再者，除非有明確相反陳述，否則「或(or)」係指涵括性的或而非排他性的或。例如，以下任何一種情況均滿足條件A或B：A為真(或存在)且B為假(或不存在)、A為假(或不存在)且B為真(或存在)、以及A和B皆為真(或存在)。
同時，在本發明之元件或組分之前的不定冠詞「一(a,an)」在關於該元件或組分的出現數量(即出現次數)方面意為非限制性。因此「一(a,an)」應理解為包括一或至少一，且該元件或組分的單數詞形亦包括複數，除非該數目顯然是指單數。
如本文中所使用，用語「烷化(alkylating)」係指親核劑從含碳自由基置換脫離基諸如鹵化物或磺酸酯的反應。除非另有說明，用語「烷化」並不限制含碳基團為烷基。
在以上敘述中，用語「烷基(alkyl)」無論是單獨使用或在複合詞如「烷基硫基(alkylthio)」或「鹵烷基(haloalkyl)」中使用，皆包括直鏈或支鏈烷基，諸如甲基、乙基、正丙基、異丙基、或不同的丁基、戊基、或己基異構物。「烯基(alkenyl)」包括直鏈或支鏈烯，如乙烯基、1-丙烯基、2-丙烯基、以及不同的丁烯基、戊烯基、及己烯基異構物。「烯基」也包括多烯類，如1,2-丙二烯基及2,4-己二烯基。「炔基」包括直鏈或支鏈炔烴如乙炔基、1-丙炔基、2-丙炔基與不同之丁炔基、戊炔基與己炔基異構物。「炔基(alkynyl)」亦可包括含多個三鍵的部分，如2,5-己二炔基。
「烷氧基(alkoxy)」包括例如甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、以及不同的丁氧基異構物、戊氧基異構物、和己氧基異構物。「烷氧基烷基(alkoxyalkyl)」表示在烷基上有烷氧基取代。「烷氧基烷基(alkoxyalkyl)」之實例包括CH3OCH2、CH3OCH2CH2、CH3CH2OCH2、CH3CH2CH2CH2OCH2、及CH3CH2OCH2CH2。「烷氧基烷氧基(alkoxyalkoxy)」表示在烷氧基上有烷氧基取代。「烷基硫 基(alkylthio)」包括支鏈或直鏈烷基硫基部分，像是甲基硫基、乙基硫基、以及不同的丙基硫基異構物、丁基硫基異構物、戊基硫基異構物、及己基硫基異構物。「烷基硫基烷基(alkylthioalkyl)」表示在烷基上有烷基硫基取代。「烷基硫基烷基(alkylthioalkyl)」之實例包括CH3SCH2、CH3SCH2CH2、CH3CH2SCH2、CH3CH2CH2CH2SCH2、及CH3CH2SCH2CH2。「氰基烷基(Cyanoalkyl)」表示經一個氰基取代的烷基。「氰基烷基」之實例包括NCCH2及NCCH2CH2(可替代地標示為CH2CH2CN)。「硝基烷基(nitroalkyl)」表示經一個硝基取代的烷基。「硝基烷基(nitroalkyl)」之實例包括-CH2NO2及-CH2CH2NO2。
「環烷基(cycloalkyl)」包括例如環丙基、環丁基、環戊基、及環己基。用語「環烷基烷基(cycloalkylalkyl)」表示在烷基部分上有環烷基取代。「環烷基烷基(cycloalkylalkyl)」的實例包括環丙基甲基、環戊基乙基、及其他鍵結至直鏈或支鏈烷基的環烷基部分。
用語「鹵素(halogen)」無論是單獨使用或在複合詞如「鹵烷基(haloalkyl)」中使用，或者當使用於如「經鹵素取代之烷基(alkyl substituted with halogen)」的描述中時，包括氟、氯、溴、或碘。再者，當使用於複合詞如「鹵烷基(haloalkyl)」中，或者當使用於如「經鹵素取代之烷基(alkyl substituted with halogen)」的描述中時，該烷基可經相同或不同的鹵素原子部分或全部取代。「鹵烷基(haloalkyl)」或「經鹵素取代之烷基(alkyl substituted with halogen)」的實例包括F3C、ClCH2、CF3CH2、及CF3CCl2。用語「鹵烷氧基 (haloalkoxy)」、「鹵烷氧基烷基(haloalkoxyalkyl)」、「鹵烷基硫基(haloalkylthio)」、「鹵烯基(haloalkenyl)」、「鹵炔基(haloalkynyl)」、及類似者之定義皆類似於用語「鹵烷基(haloalkyl)」。「鹵烷氧基(haloalkoxy)」之實例包括CF3O-、CCl3CH2O-、HCF2CH2CH2O-、及CF3CH2O-。「鹵烷氧基烷基(haloalkoxyalkyl)」之實例包括CF3OCH2-、CCl3CH2OCH2-、HCF2CH2CH2OCH2-、及CF3CH2OCH2-。「鹵烷基硫基(haloalkylthio)」之實例包括CCl3S-、CF3S-、CCl3CH2S-、及ClCH2CH2CH2S-。「鹵烯基(haloalkenyl)」之實例包括(Cl)2C=CHCH2-、及CF3CH2CH=CHCH2-。「鹵炔基(haloalkynyl)」之實例包括HC≡CCHCl-、CF3C≡C-、CCl3C≡C-、及FCH2C≡CCH2-。
「烷氧基羰基(Alkoxycarbonyl)」表示鍵結至C(=O)部分的直鏈或支鏈烷氧基部分。「烷氧基羰基(alkoxycarbonyl)」之實例包括CH3OC(=O)-、CH3CH2OC(=O)-、CH3CH2CH2OC(=O)-、(CH3)2CHOC(=O)-、及不同之丁氧基羰基異構物、或戊氧基羰基異構物。「烷基羰基烷基(Alkylcarbonylalkyl)」表示透過直鏈或支鏈烷基鍵結的直鏈或支鏈烷基羰基部分。「烷基羰基烷基(alkylcarbonylalkyl)」之實例包括CH3C(=O)CH2-、CH3CH2C(=O)CH2-、CH3CH2CH2C(=O)CH2-、(CH3)2CHC(=O)CH2-、及不同之丁氧基羰基異構物、或戊氧基羰基異構物。
取代基中的碳原子總數係由「Ci-Cj」前綴表示，其中i和j是從1到7的數字。例如，C1-C4烷基磺醯基表示甲基磺醯基至丁 基磺醯基；C2烷氧基烷基表示CH3OCH2-；C3烷氧基烷基表示例如CH3CH(OCH3)-、CH3OCH2CH2-、或CH3CH2OCH2-；而C4烷氧基烷基表示總共含有4個碳原子之經烷氧基取代之烷基之各種異構物，實例包括CH3CH2CH2OCH2-、及CH3CH2OCH2CH2-。
當化合物係經帶有下標之取代基取代時，則該下標表示該取代基之數目可超過1個，該等取代基(當它們超過1個時)係獨立地選自所界定取代基之群組，例如(R3)n，其中n係1、2、或3。當基團含有可係氫之取代基(例如R4)時，則當採取氫為此取代基時，可得知此等同於該基團係未經取代。當可變基團係顯示為選擇性連接至一位置時，例如(R3)n其中n可為0，則氫可能在該位置上，即使該可變基團的定義中並未述及。當基團上的一或多個位置係「未經取代(not substituted或unsubstituted)」時，則氫原子連接於該一或多個位置以佔據任何自由價。用語「環系(ring system)」表示二或更多個稠環。
本發明之化合物可存在為一或多種立體異構物。各種立體異構物包括鏡像異構物、非鏡像異構物、阻轉異構物、和幾何異構物。鏡像異構物為組成相同但其原子在空間中之排列不同的異構物，並且包括鏡像異構物、非鏡像異構物、順反異構物(亦稱為幾何異構物)、及阻轉異構物。阻轉異構物係因繞著單鍵之旋轉受限而來，其中旋轉障壁高到足以能夠單離異構物物種。所屬領域中具有通常知識者將明瞭，一種立體異構物當相對於其他立體異構物經濃化(enriched)或當與其他立體異構物分離時，可具有更高活性及/或可能展現出有益 的效果。此外，所屬技術領域具有通常知識者知道如何分離、濃化、及/或選擇性製備所述立體異構物。本發明的化合物可呈現為立體異構物之混合物、個別之立體異構物、或為光學活性形式。
式2及式4除草劑中間物一般以多於一種形式存在，且因而包括彼等所代表之化合物的所有結晶形式和非晶形式。非晶形式包括固體實施例(諸如蠟與膠)以及液體實施例(諸如溶液與熔體)。結晶形式包括基本上代表單晶類型的實施例及代表多形體(即不同結晶類型)混合物的實施例。用語「多形體(polymorph)」係指可以結晶成不同晶形之化合物的特定晶形，這些晶形在晶格內具有不同的分子排列及/或構形。雖然多形體可以有同樣的化學組成，但它們也可以在組成上因為共結晶水或其他分子的存在或不存在而有所不同，該共結晶水或其他分子可弱結合或強結合在晶格內。多形體可以在化學、物理、和生物特性諸如晶體形狀、密度、硬度、顏色、化學穩定性、熔點、吸濕性、懸浮率、溶解速率、和生物利用性有所不同。所屬領域中具有通常知識者將瞭解到，式2及式4除草劑中間物化合物之多形體相較於式2或式4除草劑中間物化合物的相同化合物之另一種多形體或多形體混合物，可顯示出有利效果(例如適於製備程序中的製備)。式2或式4除草劑中間物化合物的特定多形體之製備和單離可以藉由所屬領域中具有通常知識者已知的方法達成，包括例如使用選定的溶劑和溫度來結晶。關於多形性之綜合論述，請參見R.Hilfiker,Ed.,Polymorphism in the Pharmaceutical Industry,Wiley-VCH,Weinheim,2006。
所屬技術領域中具有通常知識者會認知到，因為在程序條件下，化學化合物可以彼等之對應非鹽類形式或鹽類形式而單離(isolaged)。由此，取決於製備式1化合物的方法中所利用之鹼，可使用本程序或多個程序單離廣泛多種的式1化合物之鹽類。同樣地，取決於製備式2除草劑中間物化合物的方法中所使用之鹼，式2除草劑中間物化合物可以鹽類形式或非鹽類形式而單離。適合的鹽類包括含無機酸或有機酸的酸加成鹽，該等無機酸或有機酸諸如氫溴酸、鹽酸、硝酸、磷酸、硫酸、乙酸、丁酸、反丁烯二酸、乳酸、順丁烯二酸、丙二酸、草酸、丙酸、水楊酸、酒石酸、4-甲苯磺酸、或戊酸。本發明包含式2及式4除草劑中間物化合物與製造式1化合物以及式2和式4除草劑中間物化合物之方法。
如發明內容中所述之本發明的實施例包括：
實施例A1.如發明內容中所述之用於製備式1化合物之程序，其中水解式2除草劑中間物化合物係在適合的溶劑中且在適合的有機鹼或無機鹼存在下來進行。
實施例A2.如實施例A1之程序，其中水解係在選自N-甲基吡咯啶酮、H2O、N,N-二甲基甲醯胺、及二甲基亞碸之溶劑中，且該鹼係選自氫氧化鈉、氫氧化鉀、或碳酸鉀下來進行。
實施例A3.如實施例A2之程序，其中水解係在選自N-甲基吡咯啶酮及水之溶劑中，且該鹼係選自氫氧化鈉或氫氧化鉀之無機鹼下來進行。
實施例A4.如實施例A1之程序，其中水解係在N-甲基吡咯啶酮及H2O之混合物中，且該鹼係氫氧化鈉下來進行。
實施例A5.如實施例A1至A4中任一項之程序，其中，在式1化合物中，R1係H、C1-C7烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C1-C7鹵烷基、C2-C7烷氧基烷基、或C3-C7烷基硫基烷基；R2係C1-C7烷基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C1-C7鹵烷基、或C2-C7烷氧基烷基；各R3獨立地係鹵素、C1-C5烷基、C3-C5環烷基、C4-C5環烷基烷基、C1-C5鹵烷基、C2-C5烷氧基烷基、C1-C5烷氧基、C1-C3鹵烷氧基、或C1-C5烷基硫基；n為0、1或2；R4、R6、及R7獨立地係H、鹵素、C1-C5烷基、C3-C5環烷基、C4-C5環烷基烷基、C1-C5鹵烷基、C2-C5烷氧基烷基、C1-C5烷氧基、C1-C5烷基硫基；且其中在式2化合物中，R1、R2、R3、n、R4、X、R6、及R7係如上文針對式1所定義者；且Pyr係吡啶環，其可選地經F、Cl、Br、或CH3取代。
實施例A6.如實施例A5之程序，其中，在式1化合物中，R1係H、C1-C7烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、或C4-C7環烷基烷基；R2係C1-C7烷基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、或C2-C7烷氧基烷基；X係S；或X係-C(R6)=C(R7)-，其中鍵結至R6的碳原子亦鍵結至鍵結至R4的碳原子，並且鍵結至R7的碳原子亦鍵結至式2中的苯環部分；各R3獨立地係鹵素、C1-C5烷基、C3-C5環烷基、或C1-C5烷氧基；R4、R6、及R7獨立地係H、鹵素、C1-C5烷基、或C1-C5烷氧基；且其中在式2化合物中，R1、R2、R3、R4、X、R6、及R7係如上文針對式1所定義者；且Pyr係2-吡啶基環，其可選地經F、Cl、Br、或CH3取代。
實施例A7.如實施例A6之程序，其中，在式1化合物中，R1係H或C1-C7烷基；R2係C1-C7烷基或C3-C7環烷基；X係S；各R3獨立地係鹵素、C1-C5烷基、或C1-C5烷氧基；R4係H、鹵素、或C1-C5烷基；且 其中在式2化合物中，R1、R2、R3、R4、及X係如上文針對式1所定義者；且Pyr係未經取代之2-吡啶基環。
實施例A8.如實施例A6之程序，其中，在式1化合物中，R1係H或C1-C7烷基；R2係C1-C7烷基或C3-C7環烷基；X係-C(R6)=C(R7)-，其中鍵結至R6的碳原子亦鍵結至鍵結至R4的碳原子，並且鍵結至R7的碳原子亦鍵結至式2中的苯環部分；各R3獨立地係鹵素、C1-C5烷基、或C1-C5烷氧基；R4、R6、及R7獨立地係H、鹵素、或C1-C5烷基；且其中在式2化合物中，R1、R2、R3、R4、X、R6、及R7係如上文針對式1所定義者；且Pyr係未經取代之2-吡啶基環。
實施例A9.如實施例A1至A8中任一項之程序，其中R1係H或CH3；且R2係CH3或c-Pr。
實施例A10.如實施例A9之程序，其中R1係CH3；且R2係CH3。
實施例A11.如實施例A1至A10中任一項之程序，其中用語「水解(hydrolyzing)」係以「去保護(de-protecting)」取代。
實施例B1.如發明內容中所界定之式2除草劑中間物化合物，其中R1係H、C1-C7烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C1-C7鹵烷基、C2-C7烷氧基烷基、或C3-C7烷基硫基烷基；R2係C1-C7烷基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C1-C7鹵烷基、或C2-C7烷氧基烷基；各R3獨立地係鹵素、C1-C5烷基、C3-C5環烷基、C4-C5環烷基烷基、C1-C5鹵烷基、C2-C5烷氧基烷基、C1-C5烷氧基、C1-C5鹵烷氧基、或C1-C5烷基硫基；n為0、1或2；R4、R6、及R7獨立地係H、鹵素、C1-C5烷基、C3-C5環烷基、C4-C5環烷基烷基、C1-C5鹵烷基、C2-C5烷氧基烷基、C1-C5烷氧基、或C1-C5烷基硫基；且Pyr係吡啶環，其可選地經F、Cl、Br、或CH3取代。
實施例B2.如實施例B1之除草劑中間物化合物，其中R1係H、C1-C7烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、或C4-C7環烷基烷基； R2係C1-C7烷基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、或C2-C7烷氧基烷基；X係S；或X係-C(R6)=C(R7)-，其中鍵結至R6的碳原子亦鍵結至鍵結至R4的碳原子，並且鍵結至R7的碳原子亦鍵結至式2中的苯環部分；各R3獨立地係鹵素、C1-C5烷基、C3-C5環烷基、或C1-C5烷氧基；R4、R6、及R7獨立地係H、鹵素、C1-C5烷基、或C1-C5烷氧基；且Pyr係2-吡啶基環，其可選地經F、Cl、Br、或CH3取代。
實施例B3.如實施例B2之除草劑中間物化合物，其中R1係H或C1-C7烷基；R2係C1-C7烷基或C3-C7環烷基；X係S；各R3獨立地係鹵素、C1-C5烷基、或C1-C5烷氧基；R4係H、鹵素、或C1-C5烷基；且Pyr係未經取代之2-吡啶基環。
實施例B4.如實施例B2之除草劑中間物化合物，其中R1係H或C1-C7烷基；R2係C1-C7烷基或C3-C7環烷基； X係-C(R6)=C(R7)-，其中鍵結至R6的碳原子亦鍵結至鍵結至R4的碳原子，並且鍵結至R7的碳原子亦鍵結至式2中的苯環部分；各R3獨立地係鹵素、C1-C5烷基、或C1-C5烷氧基；R4、R6、及R7獨立地係H、鹵素、或C1-C5烷基；且Pyr係未經取代之2-吡啶基環。
實施例B5.如實施例B1至B4中任一項之除草劑中間物化合物，其中R1係H或CH3；且R2係CH3或c-Pr。
實施例B6.如實施例B5之除草劑中間物化合物，其中R1係CH3；且R2係CH3。
實施例C1.如發明內容中所述之用於製備式2除草劑中間物化合物之程序，其中將式4除草劑中間物化合物與式3化合物之反應產物環化係在適合的有機鹼或無機鹼存在下來進行，其中，在式4中，R1係H、C1-C7烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C1-C7鹵烷基、C2-C7烷氧基烷基、或C3-C7烷基硫基烷基； R2係C1-C7烷基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C1-C7鹵烷基、或C2-C7烷氧基烷基；且其中在式3化合物中，各R3獨立地係鹵素、C1-C5烷基、C3-C5環烷基、C4-C5環烷基烷基、C1-C5鹵烷基、C2-C5烷氧基烷基、C1-C5烷氧基、C1-C5鹵烷氧基、或C1-C5烷基硫基；n為0、1或2；且R4、R6、及R7獨立地係H、鹵素、C1-C5烷基、C3-C5環烷基、C4-C5環烷基烷基、C1-C5鹵烷基、C2-C5烷氧基烷基、C1-C5烷氧基、或C1-C5烷基硫基。
實施例C2.如實施例C1之程序，其中將式4除草劑中間物化合物與式3化合物之反應產物環化係在適合的有機鹼存在下來進行，且其中在式4中，R1係H或C1-C7烷基；R2係C1-C7烷基或C3-C7環烷基；且其中在式3化合物中，X係S；或X係-C(R6)=C(R7)-，其中鍵結至R6的碳原子亦鍵結至鍵結至R4的碳原子，並且鍵結至R7的碳原子亦鍵結至式3中的苯環部分；各R3獨立地係鹵素、C1-C5烷基、C3-C5環烷基、或C1-C5烷氧基；且 R4、R6、及R7獨立地係H、鹵素、C1-C5烷基、或C1-C5烷氧基。
實施例C3.如實施例C2之程序，其中將式4除草劑中間物化合物與式3化合物之反應產物環化係在選自三甲基胺、三乙基胺、及三丁基胺之適合的鹼存在下來進行，且其中在式4化合物中，R1係H或C1-C7烷基；R2係C1-C7烷基或C3-C7環烷基；且其中在式3化合物中，X係S；各R3獨立地係鹵素、C1-C5烷基、或C1-C5烷氧基；且R4係H、鹵素、或C1-C5烷基。
實施例C4.如實施例C2之程序，其中將式4除草劑中間物化合物與式3化合物之反應產物環化係在選自三甲基胺、三乙基胺、及三丁基胺之適合的鹼存在下來進行，且其中在式4化合物中，R1係H或C1-C7烷基；R2係C1-C7烷基或C3-C7環烷基；或X係-C(R6)=C(R7)-，其中鍵結至R6的碳原子亦鍵結至鍵結至R4的碳原子，並且鍵結至R7的碳原子亦鍵結至式3中的苯環部分；各R3獨立地係鹵素、C1-C5烷基、或C1-C5烷氧基；且R4、R6、及R7獨立地係H、鹵素、或C1-C5烷基。
實施例C5.如實施例C1至C4中任一項之程序，其中 R1係H或CH3；且R2係CH3或c-Pr。
實施例C6.如實施例C5之程序，其中R1係CH3；且R2係CH3。
實施例C7.式1化合物，其係使用式2化合物藉由實施例A1至A10中任一項之程序而製備，其特徵在於藉由實施例C1至C6中任一項之方法來製備式2化合物。
實施例C8.式2化合物，其係藉由實施例C1至C6中任一項之程序而製備。
實施例C9.如實施例C1至C8中任一項之程序，其中該敘述「將式4除草劑中間物化合物與式3化合物之反應產物環化(cyclizing the product of the reaction of a herbicide intermediate compound of Formula 4 with a compound of Formula 3)」係以「將式4除草劑中間物化合物與式3化合物環化(cyclizing a herbicide intermediate compound of Formula 4 with a compound of Formula 3)」取代。
實施例D1.式4除草劑中間物化合物，其中R1係H、C1-C7烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C1-C7鹵烷基、C2-C7烷氧基烷基、或C3-C7烷基硫基烷基； R2係C1-C7烷基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C1-C7鹵烷基、或C2-C7烷氧基烷基；且Pyr係吡啶環，其可選地經F、Cl、Br、或CH3取代。
實施例D2.如實施例D1之除草劑中間物化合物，其中R1係H、C1-C7烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、或C4-C7環烷基烷基；R2係C1-C7烷基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、或C2-C7烷氧基烷基；且Pyr係2-吡啶基環，其可選地經F、Cl、Br、或CH3取代。
實施例D3.如實施例D2之除草劑中間物化合物，其中R1係H或C1-C7烷基；R2係C1-C7烷基或C3-C7環烷基；且Pyr係未經取代之2-吡啶基環。
實施例D4.如實施例D1至D3中任一項之除草劑中間物化合物，其中R1係H或CH3；且R2係CH3或c-Pr。
實施例D5.如實施例D4之除草劑中間物化合物，其中R1係CH3；且R2係CH3。
實施例E1.如發明內容中所述之用於製備式4除草劑中間物化合物之程序，其中，在式5化合物中， R2係C1-C7烷基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C1-C7鹵烷基、或C2-C7烷氧基烷基；且其中在式6化合物中，R1係H、C1-C7烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C1-C7鹵烷基、C2-C7烷氧基烷基、或C3-C7烷基硫基烷基。
實施例E2.如實施例E1之程序，其中，在式5化合物中，R2係C1-C7烷基或C3-C7環烷基；且其中在式6化合物中，R1係H或C1-C7烷基。
實施例E3.如實施例E3之程序，其中，在式5化合物中，R2係CH3或c-Pr；且其中在式6化合物中，R1係H或CH3。
實施例E4.如實施例E3之程序，其中在式5化合物中，R2係CH3；且其中在式6化合物中，R1係CH3。
實施例E5.式2化合物，其係使用式4化合物藉由實施例C2至C4中任一項之程序而製備，其特徵在於藉由實施例E1至E4中任一項之方法來製備式4化合物。
實施例E6.式4化合物，其係藉由實施例E1至E4中任一項之程序而製備。
本發明之實施例(包括上述實施例A1至A11、B1至B6、C1至C9、D1至D5、以及E1至E6還有任何其他本文中所述之實施例)可以任何方式組合，並且實施例中之變項描述不僅關於式1化合物，亦關於可用於製備式1化合物之式2、式4、式5、及式6起始中間物化合物。此外，本發明的實施例(包括上述實施例A1至A11、B1至B6、C1至C9、D1至D5、以及E1至E6還有任何其他本文中所述之實施例、及任何其組合)均關於本發明之化合物及方法。
式1化合物可藉由合成有機化學技術領域中已知的一般方法來製備。在所屬技術領域中已知有各式各樣的合成方法能製備芳族及非芳族雜環及環系；相關方法的廣泛回顧請參見Comprehensive Heterocyclic Chemistry,A.R.Katritzky及C.W.Rees總編輯，Pergamon Press,Oxford,1984之第八卷集，以及Comprehensive Heterocyclic Chemistry II,A.R.Katritzky,C.W.Rees及E.F.V.Scriven總編輯，Pergamon Press,Oxford,1996之第十二卷集。
式1羥基噠嗪酮類可藉由如方案1中所示，在鹼性水性條件下水解式2吡啶基磺醯基噠嗪酮類(即「水解(hydrolyzing)」抑 或是「去保護(de-protecting)」)而製成。適合的鹼類(水解鹼類「(hydrolyzing bases)」抑或是「去保護鹼類(de-protecting bases)」)實例包括但不限於氫氧化鈉、氫氧化鉀、其他鹼性金屬或鹼金屬氫氧化物及鹼金屬或鹼性金屬碳酸鹽。針對此反應之可用的共溶劑包括但不限於甲醇、乙醇、異丙醇、丙酮、乙腈、四氫呋喃、二、二甲基亞碸、N,N-二甲基甲醯胺、或N-甲基吡咯啶酮(或其混合物)。該水解反應通常係在約0至120℃之範圍的溫度中進行。溶劑、鹼、溫度、及加入時間之效果均係相依的，且反應條件的選擇對於將副產物之形成減至最小而言係重要的。經鹼調介之吡啶基磺醯基水解產生水性混合物，其包含所得的式1羥基噠嗪酮之離子化形式。以適合的酸(諸如鹽酸、硫酸、或乙酸)來酸化產生游離羥基噠嗪酮1，其可藉由所屬技術領域中具有通常知識者已知方法(包括沈澱法、萃取法、結晶法、或蒸餾法)而單離。在一些情況中，可能需要藉由層析術來純化。
式2吡啶基磺醯基噠嗪酮類可藉由如方案2中所示，在適合的鹼及溶劑存在下將式3經取代之芳基草醯氯或雜芳基草醯氯與式4吡啶基磺醯基甲基腙環化而製備。較佳的鹼類(即「環化鹼類(cyclizing bases)」)包括但不限於三烷基胺類(諸如三乙基胺或Hunigs氏鹼)；脒鹼類，諸如1,8-二吖雙環[5.4.0]十一-7-烯(DBU)；吡啶；或金屬碳酸鹽。此環化反應之溶劑可係非質子性或質子性且包括但不限於甲醇、乙醇、異丙醇、二甲氧基乙烷、丙酮、乙腈、二烷、二乙基醚、四氫呋喃、二甲基亞碸、N,N-二甲基甲醯胺、或N-甲基吡咯啶酮(或其混合物)。該環化反應可在一個溫度範圍下運行，通常在0℃至溶劑回流溫度。該環化反應可於無水條件下反應或於schotten-Baumann條件下以水性混合物形式反應。
式2除草劑中間物化合物(吡啶基磺醯基噠嗪酮類)可藉由將式4除草劑中間物化合物(吡啶基磺醯基甲基腙)與式3化合物(經取代之芳基草醯氯或雜芳基草醯氯)之反應產物環化而製備。 如本文中所使用，該敘述「反應產物(product of the reaction)」係指式2A酮-醯胺化合物。式2A化合物可以中間物之形式而經單離，但其通常在用於反應式4化合物與式3化合物之相同環化鹼的存在下原位環化。如方案2A中所示，式2A酮-醯胺化合物在適合的鹼及溶劑存在下環化。較佳的用於環化式2A化合物之鹼大致上係與上文針對方案2所界定之「環化鹼」相同，但亦包括氫化鈉、烷氧化鈉、或其他金屬烷氧化物。適宜的「環化鹼」亦包括單烷基胺、二烷基胺、或三烷基胺鹼類，諸如甲基胺、二乙基胺、或N,N-二異丙基乙基胺。
式4腙類係藉由經取代之式6肼(即R1NHNH2)與式5吡啶基磺醯基酮化合物反應而可合成取得，如方案3中所示。此反應之適合溶劑包括甲醇、乙醇、異丙醇、二甲氧基乙烷、丙酮、乙腈、二烷、二乙基醚、四氫呋喃、二甲基亞碸、N,N-二甲基甲醯胺、或N-甲基吡咯啶酮(或其混合物)。在一些情況中，若等量或更多的鹼加至反應混合物以原位轉化成肼游離鹼，則可使用肼的鹽類 (即鹽酸鹽或硫酸鹽)。用於製備該游離肼的有效鹼類之實例包括金屬乙酸鹽(即乙酸鉀或乙酸鈉)、金屬碳酸鹽或金屬碳酸氫鹽(即碳酸鉀)、及吡啶。此反應之溫度一般係0℃至室溫之範圍。一些式4腙類係經單離為幾何異構物，其可以混合物或經分離(藉由結晶或層析術)成同側及反側異構物用於下一步驟，其中彼等任一者均可用於隨後之環化中。
式5吡啶基磺醯基酮可藉由先前於文獻中所報導之方法而製成(Tetrahedron 2010,66(48),p 9445-9449；Asian Journal of Organic Chemistry,2014,3(7),p 766-768，及WO 2009106817)。大致上，式Pyr-SH吡啶基硫醇(其可部分或完全以硫代吡啶酮互變異構物存在)能在鹼(諸如碳酸鉀、氫氧化鉀、氫氧化鈉、或吡啶)存在下於適合的溶劑(較佳的是丙酮、乙腈、乙醇、二甲基亞碸、N,N-二甲基甲醯胺、或N-甲基吡咯啶酮(或其混合物))中在0℃至100℃之範圍的溫度下與式XCH2COR2之α-鹵酮(其中X係鹵素)反應。
在一些情況中，式3經取代之芳基草醯氯或雜芳基草醯氯可藉由式7經適當取代之芳基化合物或雜芳基化合物與乙基草醯氯或甲基草醯氯在路易斯酸(諸如三氯化鋁)存在下、在氯化溶劑(即二氯甲烷)、甲苯、或二甲苯中、在0℃至該溶劑的回流溫度之範圍的溫度下夫-夸醯化(Friedal-Crafts acylation)而製成。所得的式8草酸酯化合物可接著經水解成游離酸或該游離酸之鈉鹽。所得的游離酸可接著藉由與草醯氯或磺醯氯在諸如甲苯、二氯甲烷、或二氯乙烷之溶劑中反應而轉化至對應的式3醯氯。一些製備芳基草醯氯之文獻參考包括：WO 2015035051；Tetrahedron 2015,71(35),p 5776-5780；J.A.C.S. 2015,137(14),p 4626-4629、及WO 2012033225。或者，式8草酸酯類可自式9經取代之溴芳基化合物(bromoaryls)及溴雜芳基化合物(bromoheteroaryls)在溶劑(諸如四氫呋喃)中藉由與鎂反應初始形成格任亞試劑(Grignard Reagent)，並隨後加入草酸乙酯或草酸甲酯(CO2Et2或CO2Me2)反應而製成「參見WO 2012033225及Chem.Comm. 2014,50(100),p 15987-15990」。
式3化合物可如方案5中所示，藉由將酯水解成羧酸、隨後以草醯氯處理以提供式3醯氯而製備。式8化合物為商購可得者或可藉由所屬技術領域中所習知之方法來製備。
會認知到，上述使用所述方法用於製備式1、式2、及式4之化合物的一些試劑及反應條件，可能無法與某些存在於中間物中的官能性相容。在這些情況中，將保護/去保護序列或官能基相互轉化納入合成中，將有助於獲得所欲產物。保護基的使用和選擇對於具有化學合成通常知識者而言將是顯而易見的(請參見例如Greene,T.W.；Wuts,P.G.M.Protective Groups in Organic Synthesis,2nd ed.；Wiley：New York,1991)。所屬技術領域中具有通常知識者將會認知到，在一些情況下，在引入給定試劑(如在任何個別方案中所述者)後，可能必須進行未詳述之額外常規合成步驟以完成式1、式2、及式4化合物之合成。所屬技術領域中具有通常知識者亦將會認知到，可能必須以與所特定呈現者所意味之次序不同的次序，來執行以上方案中所說明步驟之組合以製備式1、式2、及式4化合物。所屬技 術領域中具有通常知識者亦將會認知到，式1、式2、及式4化合物與本文中所述之中間物可經受各式親電子、親核、自由基、有機金屬、氧化、與還原反應以加入取代基或修飾現有取代基。
下列非限制實例係意欲說明本案於製備式1、式2、及式4化合物及製備式2及式4中間物之程序。所有NMR譜係以在CDCl3中於500MHz下自四甲基矽烷之低場區呈現，除非另有指明。
合成實例1 4-(4-氟-1-萘基)-5-羥基-2,6-二甲基-3(2H)-噠嗪酮之製備 步驟A：1-(2-吡啶基磺醯基)-2-丙酮的製備
1-(2-吡啶基硫基)-2-丙酮(例如Bradsher,C.K and Lohr D.F.,J.Het.Chem. 1966,3,27-32)(9.26g,55.44mmol)溶於水(150mL)、四氫呋喃(150mL)、及甲醇(150mL)之溶劑混合物中，並將Oxone®(單過硫酸鉀)(66g,292mmol)加入。將兩相反應混合物在室溫下攪拌24h。將反應混合物濃縮至1/3體積，並以乙酸乙酯(3×50mL)萃取。將有機層以水(2×20mL)及鹽水(30mL)洗滌。將有機層合併、以MgSO4乾燥、並於減壓下濃縮以提供棕色油狀的標題化合物(8.00g)。
1H NMR δ 8.75(m,1H),8.12(m,1H),8.00(t,1H),7.64(m,1H),4.48(s,2H),2.41(s,3H)。
步驟B：1-(2-吡啶基磺醯基)-2-丙酮2-甲基腙(化合物3)的製備
於1-(2-吡啶基磺醯基)-2-丙酮化合物(即實例1步驟A之產物)(8.00g,44.00mmol)在氯仿(30mL)中之溶液，將硫酸鎂(8.00g,66.46mmol)加入。將混合物在室溫下攪拌，且在5min內將甲基胼(2.62mL,50.00mmol)逐滴加入。將反應混合物在室溫下攪拌3h。將反應混合物以Celite®矽藻土助濾劑過濾，以氯仿(30mL)洗滌。在減壓下濃縮該濾液以提供濃稠棕色油狀的標題化合物(9.00g)。
1H NMR δ 8.82(m,1H),8.00(m,1H),7.92(t,1H),7.62(m,1H),4.82(bs,1H),4.22(s,2H),2.78(s,3H),1.89(d,3H)。由NMR可觀察到明顯存有28%的第二異構物。
步驟C：4-氟-α-側氧基-1-萘乙酸乙酯的製備
將氯化鋁(30.2g,226mmol)在二氯甲烷(200mL)中之懸浮液冷卻至0℃。將該懸浮液攪拌，並將含有1-氟萘(25.1g,172mmol)及氯乙醛酸乙酯(25.2g,184mmol)在二氯甲烷(150mL)中之溶液在30min內逐滴加入(輕微放熱，反應混合物最高溫係約7℃)。將混合物攪拌15min，並使之在室溫下攪拌4h。將反應混合物緩慢加至冰水(300mL)及1N水性鹽酸(50mL)之溶液。將兩相混合物攪拌30min，並將有機層分離。將有機層以水(2×25mL)與鹽水(30mL)洗滌、乾燥(MgSO4)，並在減壓下濃縮以提供黃色油(42g)。將此材料以己烷(150mL)稀釋並攪拌。將所得的經形成之沈澱物藉由過濾收集，以己烷(15mL)洗滌，並乾燥以提供灰白色固體之標題化合物(34g)。
1H NMR δ 9.21(m,1H),8.21(m,1H),8.00(m,1H),7.77(m,1H),7.63(m,1H)7.34(m,1H),4.52(q,2H),1.50(t,3H)。
步驟D：4-氟-α-側氧基-1-萘乙酸的製備
將4-氟-α-側氧基-1-萘乙酸乙酯(即實例1步驟C之產物)(21g,85mmol)溶於四氫呋喃(35mL)，並將1N氫氧化鈉水性溶液(112mL,101mmol)加入，將該反應混合物攪拌2h。自該反應混合物沈澱出固體。以水(100mL)稀釋該混合物。將1N水性鹽酸加入，直到該反應混合物之pH係3為止。將所得的固體藉由過濾收集，以水(2×20mL)、己烷(1×20mL)洗滌，並在真空下乾燥以提供白色固體之標題化合物(15g)。
1H NMR δ 9.21(m,1H),8.21(m,1H),8.00(m,1H),7.77(m,1H),7.63(m,1H),7.34(m,1H)。
步驟E：4-氟-α-側氧基-1-萘乙醯氯的製備
將4-氟-α-側氧基-1-萘乙酸(即實例1步驟D之產物)(2.18g,10mmol)懸浮於二氯甲烷(20mL)中，並將草醯氯(3.81g,30mmol)一次加入，隨之加入3滴N,N-二甲基甲醯胺，並將該反應混合物於室溫下攪拌3h。在減壓下濃縮該反應混合物以提供黃色固體之標題化合物(2.4g)。
1H NMR δ 9.21(m,1H),8.21(m,1H),8.10(m,1H),7.80(m,1H),7.77(m,1H),7.34(m,1H)。
步驟F：4-(4-氟-1-萘基)-2,6-二甲基-5-(2-吡啶基磺醯基)-3(2H)-噠嗪酮(化合物1)的製備
將1-(2-吡啶基磺醯基)-2-丙酮2-甲基腙(即實例1步驟B中所獲得之產物)(2.5g,11mmol)溶於二氯甲烷(20mL)中，並將三乙基胺(2.6g,26mmol)加入。將反應混合物以冰水冷卻至5℃，且將4-氟-α-側氧基-1-萘乙醯氯(即實例1步驟E中所獲得之產物)於二氯甲烷(2.4g,10mmol)中之懸浮液在5min內加入。將反應混合物在室溫下再攪拌18h。將反應混合物以水(50mL)稀釋，並以二氯甲烷(3×30mL)萃取。將有機層再以水(2×20mL)及鹽水(20mL)洗滌，並乾燥(MgSO4)。將有機層過濾並在減壓下濃縮以提供固體產物。將該固體產物懸浮於二氯甲烷：二乙基醚(2：8)(30mL)中，並將所得之固體收集、在真空下乾燥以提供淺黃色固體之標題化合物(2.2g)。
1H NMR δ 8.21(m,1H),7.91(m,1H),7.42(m,1H),7.30(m,1H),7.23(m,2H),7.12(m,3H),6.8(m,1H),3.84(s,3H),2.88(s,3H)。
步驟G：4-(4-氟-1-萘基)-5-羥基-2,6-二甲基-3(2H)-噠嗪酮的製備
將4-(4-氟-1-萘基)-2,6-二甲基-5-(2-吡啶基磺醯基)-3(2H)-噠嗪酮(即實例1步驟F中所獲得之產物)(0.41g,1mmol)溶於1,4-二烷(5mL)中，並將氫氧化鈉(0.100g,2.5mmol)加入，隨之加入水(0.5mL)，且將該反應混合物於90℃加熱1h。將該反應混合 物在減壓下濃縮，並將殘餘固體懸浮於水(5mL)中。藉由加入1N的水性鹽酸而將該混合物酸化至pH為3。將所得的固體在室溫下攪拌15min，並藉由過濾收集，以水(2×5mL)、己烷(2×5mL)洗滌，並在真空下乾燥以提供灰白色固體之標題化合物(0.265g)。
1H NMR(dmso-d6)δ 10.21(bs,1H),8.15(d,1H),7.70(m,1H),7.55(m,2H),7.40(m,1H),7.30(m,1H)。
合成實例2 4-(2,5-二甲基苯并[b]噻吩-3-基)-5-羥基-2,6-二甲基-3(2H)-噠嗪酮之製備 步驟A：1-[(2-氯-2-丙烯-1-基)硫基]-4-甲基苯的製備
將2,3-二氯-1-丙烯(20.5g,185mmol)加至4-甲基苯硫酚(22.0g,177mmol)於丙酮(150mL)中之溶液。將該混合物冷卻至12℃，並將碳酸鉀(26g,188mmol)於水(75mL)中之溶液逐滴加入歷時15min。將反應混合物在20℃下攪拌18h。將混合物以水(400mL)及己烷(500mL)稀釋。萃取混合物並收集有機層。將有機層以水(2×50mL)與鹽水(50mL)洗滌，並在減壓下濃縮以提供澄清橘色油狀之標題化合物(34.7g)。
1H NMR δ 7.29(m,2H),7.24(m,2H),5.23(m,2H),3.66(m,2H),2.32(s,3H)。
步驟B：2,5-二甲基苯并[b]噻吩的製備
將1-[(2-氯-2-丙烯-1-基)硫基]-4-甲基苯(即實例2步驟A中的化合物)(34.7g,175mmol)加至N,N-二甲基苯胺(200mL,947mmol)，並將所得之混合物以氮沖洗(flush)10min。將反應混合物緩慢加熱至195℃歷時24h。將反應混合物在減壓下濃縮以移除N,N-二甲基苯胺。將殘餘物以己烷(500mL)稀釋，並過濾以移除任何不可溶之固體。將濾液以1N水性鹽酸(2×50mL)、水(2×50mL)洗滌，並將有機層收集。將該有機層在減壓下濃縮以提供琥珀色油(20.95g)。將此材料進一步藉由以己烷沖提的矽凝膠管柱層析術來純化，以提供結晶黃色固體之標題化合物(17g)。
1H NMR δ 7.79(d,1H),7.41(s,1H),7.23(d,1H),6.80(d,1H),2.57(s,3H),2.43(s,3H)。
步驟C：2,5-二甲基-α-側氧基苯并[b]噻吩-3-乙酸乙酯的製備
在氮氛圍下，將2,5-二甲基苯并[b]噻吩(即實例2步驟B中的化合物)(23g,140mmol)溶於二氯甲烷(280mL)中，冷卻至0℃，並將氯側氧基乙酸乙酯(ethyl chlorooxoacatate)(18mL,160mmol)加入歷時2min。將反應混合物攪拌，並將氯化鋁(24g,180mmol)分次加入歷時1h。將反應混合物在周圍溫度下攪拌18h。將反應混合物倒至冰與水(300mL)及1N水性鹽酸(50mL)之混合物上。將混合物攪拌1h並將有機層分離。將有機層以水(2×20mL)及鹽水(20mL)洗滌。將有機層以MgSO4乾燥、並於減壓下濃縮以提供琥珀色油狀的標題化合物(37.6g)。
1H NMR δ 8.20(s,1H),7.64(d,1H),7.23(d,1H),4.45(q,2H),2.73(s,3H),2.47(s,3H),1.43(t,3H)。
步驟D：2,5-二甲基-α-側氧基苯并[b]噻吩-3-乙酸的製備
將2,5-二甲基-α-側氧基苯并[b]噻吩-3-乙酸乙酯(即實例2步驟C中所獲得之產物)(30.25g,115mmol)溶於四氫呋喃中，並將1N水性氫氧化鈉(150mL,150mmol)加入。將反應混合物在68℃下加熱2h。使反應混合物回至室溫，並在減壓下濃縮以形成固體殘餘物。將該固體殘餘物以水(100mL)稀釋，並以6N鹽酸酸化至pH 3，並以二氯甲烷萃取(3×50mL)。將有機層收集、以水(2×20mL)、鹽水(20mL)洗滌、以MgSO4乾燥並過濾。在減壓下濃縮濾液以提供淺黃色固體之標題化合物(26g)。
1H NMR δ 10.4(bs,1H),8.12(s,1H),7.65(d,1H),7.21(d,1H),2.79(s,3H),2.47(s,3H)。
步驟E：2,5-二甲基-α-側氧基苯并[b]噻吩-3-乙醯氯的製備
將2,5-二甲基-α-側氧基苯并[b]噻吩-3-乙酸(即實例2步驟D中所獲得之產物)(12.55g，及53.6mmol)溶於二氯甲烷(50mL)中，並加入3滴N,N-二甲基甲醯胺。將混合物在室溫下攪拌，且將草醯氯(13.6mL,160mmol)逐滴加入。將反應混合物在室溫下攪拌2h。將混合物在減壓下濃縮以提供淺黃色固體之標題化合物(13.56g)。
1H NMR δ 8.15(s,1H),7.70(d,1H),7.31(d,1H),2.81(s,3H),2.50(s,3H)。
步驟F：4-(2,5-二甲基苯并[b]噻吩-3-基)-2,6-二甲基-5-(2-吡啶基磺醯基)-3(2H)-噠嗪酮(化合物2)的製備
將1-(2-吡啶基磺醯基)-2-丙酮2-甲基腙(即實例1步驟B中所獲得之化合物)(2.5g,11mmol)溶於二氯甲烷(20mL)中，並將三乙基胺(2.6g,26mmol)加入。將反應混合物以冰水冷卻至5℃，且將2,5-二甲基-a-側氧基苯并[b]噻吩-3-乙醯氯懸浮液(即實例3步驟E中所獲得之產物)(2.53g,10mmol)在5min內加入。使反應混合物回溫至室溫，並在室溫下再攪拌18h。將反應混合物以水(50mL)稀釋，並以二氯甲烷(3×30mL)萃取。將有機層再以水(2×20mL)及鹽水(20mL)洗滌，並以MgSO4乾燥。將有機層過濾並在減壓下濃縮以提供固體。將該固體進一步藉由矽凝膠管柱層析術、以在己烷中之乙酸乙酯梯度沖提來純化以提供呈淺黃色固體之標題化合物(3.25g)。
1H NMR δ 8.25(s,1H),7.40(d,1H),7.31(m,2H),6.91(m,1H),6.81(m,1H),6.63(m,1H),3.83(s,3H),2.91(s,3H),2.35(s,3H),2.27(s,3H)。
步驟G：4-(2,5-二甲基苯并[b]噻吩-3-基)-5-羥基-2,6-二甲基-3(2H)-噠嗪酮之製備
將4-(2,5-二甲基苯并[b]噻吩-3-基)-2,6-二甲基-5-(2-吡啶基磺醯基)-3(2H)-噠嗪酮(即實例2步驟F中所獲得之產物)(1.65g,3.88mmol)溶於N-甲基吡咯啶酮中，將氫氧化鈉(0.40g,10mmol)加入，隨之加入水(1mL)，且將反應混合物於90℃加熱2h。使反應混合物回溫至周圍溫度，接著將水(10mL)及甲苯(15mL)加入。將混合物轉移至分液漏斗，並將甲苯層移除。將水層以1N的水性鹽酸酸化至pH 3，並將混合物以二氯甲烷(2×20mL)萃取。將有機層收集、以MgSO4乾燥、並在減壓下濃縮以提供半固體狀的產物。將此固體進一步藉由矽凝膠管柱層析術、以在己烷中之乙酸乙酯梯度沖提來純化以提供呈灰白色固體之標題化合物(0.70g)。
1H NMR δ 7.68(d,1H),7.14(d,1H),7.07(s,1H),5.65(s,1H),3.77(s,3H),2.4(s,6H),2.36(s,3H)。
可用於製備本發明化合物並用於程序中之中間物實例係示於表1至5。表I-1a至I-3d中之R3基團的位置係基於以下所示之位標編號。
表中使用的縮寫如下面所示：Me意指甲基，Et意指乙基，Pr意指丙基，且Ph意指苯基。
表1
X係S，R1係Me，R2係Me，且Pyr係2-吡啶基。
表2係以相同方式建構，除了列標題「X係S，R1係Me，且R2係Me。」用下列針對表2所列示之列標題(即「X係S，R1係Me，且R2係Me。」)來替換。因此表2中之第一個項目係式1化合物，其中X係S，R1係Me，R2係Me，(R3)n係「-」(即n係0；無R3取代)，且R4係H。表3至表643係以類似方式建構。
表644
表644的建構與表1相同，惟表1中的結構係以上文針對表644之結構來替換。
表645至表1288
表645的建構與表2相同，惟表2中的結構係以上文針對表644之結構來替換。表646至表1288係與表3至表644中相同方式建構。
表1289
Pyr係2-吡啶基
本揭露亦包括表1289A至表1289I中所述之化合物，其中表1289之標題列(即Pyr係2-吡啶基)係以下列各表之標題列來替換。
表1290
X為S，R1為Me，且R2為Me。
X為S，R1為Me，且R2為Et。
X為S，R1為Et，且R2為Me。
X為S，R1為Et，且R2為Et。
X為-CH=CH-，R1為Me，且R2為Me。
X為-CH=CH-，R1為Me，且R2為Et。
X為-CH=CH-，R1為Et，且R2為Me。
X為-CH=CH-，R1為Et，且R2為Et。
X為-CH=CCl-，R1為Et，且R2為Me。
X為-CH=CCl-，R1為Et，且R2為Et。
X係-CH=CF-，R1係Me，且R2係Me。
X係-CH=CF-，R1係Me，且R2係Et。
X係-CH=CF-，R1係Et，且R2係Me。
X係-CH=CF-，R1係Et，且R2係Et。
表1291
表1291的建構與表1290相同，惟結構係以下列者替換
表1292
表1292的建構與表1291相同，惟結構係以下列者替換
表1293
Pyr係2-吡啶基
**1H NMR請參見合成實例1步驟A
本揭露亦包括表1293A至表1293I中所列之化合物，其中表1293之標題列(即Pyr係2-吡啶基)係以下列各表之標題列來替換。
表1294
Pyr係2-吡啶基
本揭露亦包括表1294A至表1294I中所列之化合物，其中表1294之標題列係以下列各表之標題列來替換。
下列索引表中使用下列縮寫：「Me」係甲基，「Cmpd.No.」係「化合物編號」，「Ex.」係「實例」，且後面所接編號代表該化合物於該編號之實例中製備而成。
索引表A
*1H NMR數據請參見合成實例。
索引表B
*1H NMR數據請參見合成實例。

Claims (13)

  1. 一種用於製備式1化合物之程序， 其中R1係H、C1-C7烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C2-C3氰烷基、C1-C4硝基烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧基烷基、或C3-C7烷基硫基烷基；R2係C1-C7烷基、C3-C8烷基羰基烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C2-C3氰烷基、C1-C4硝基烷基、C2-C7鹵烷氧基烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧基烷基、或C2-C3烷氧基羰基；或苯基，其可選地經鹵素、C1-C4烷基、或C1-C4鹵烷基取代；X係O或S；或X係-C(R6)=C(R7)-，其中鍵結至R6的碳原子亦鍵結至鍵結至R4的碳原子，並且鍵結至R7的碳原子亦鍵結至式1中的苯環部分； 各R3獨立地係鹵素、-CN、硝基、C1-C5烷基、C2-C5烯基、C2-C5炔基、C3-C5環烷基、C4-C5環烷基烷基、C1-C5鹵烷基、C3-C5鹵烯基、C3-C5鹵炔基、C2-C5烷氧基烷基、C1-C5烷氧基、C1-C5鹵烷氧基、C1-C5烷基硫基、C1-C5鹵烷基硫基、或C2-C5烷氧基羰基；n係0、1、2、或3；且R4、R6、及R7獨立地係H、鹵素、硝基、-CN、C1-C5烷基、C2-C5烯基、C2-C5炔基、C3-C5環烷基、C4-C5環烷基烷基、C1-C5鹵烷基、C3-C5鹵烯基、C3-C5鹵炔基、C2-C5烷氧基烷基、C1-C5烷氧基、C1-C5鹵烷氧基、C1-C5烷基硫基、C1-C4烷基亞磺醯基、C1-C4烷基磺醯基、C1-C5鹵烷基硫基、或C2-C5烷氧基羰基；其包含將式2 除草劑中間物化合物水解，其中R1、R2、R3、n、R4、X、R6、及R7係如上文針對式1所定義者；且 Pyr係吡啶環，其可選地經鹵素或C1-C4烷基取代。
  2. 一種式2除草劑中間物化合物， 其中R1係H、C1-C7烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C2-C3氰烷基、C1-C4硝基烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧基烷基、或C3-C7烷基硫基烷基；R2係C1-C7烷基、C3-C8烷基羰基烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C2-C3氰烷基、C1-C4硝基烷基、C2-C7鹵烷氧基烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧基烷基、或C2-C3烷氧基羰基；或苯基，其可選地經鹵素、C1-C4烷基、或C1-C4鹵烷基取代；X係O或S；或X係-C(R6)=C(R7)-，其中鍵結至R6的碳原子亦鍵結至鍵結至R4的碳原子，並且鍵結至R7的碳原子亦鍵結至式2中的苯環部分； 各R3獨立地係鹵素、-CN、硝基、C1-C5烷基、C2-C5烯基、C2-C5炔基、C3-C5環烷基、C4-C5環烷基烷基、C1-C5鹵烷基、C3-C5鹵烯基、C3-C5鹵炔基、C2-C5烷氧基烷基、C1-C5烷氧基、C1-C5鹵烷氧基、C1-C5烷基硫基、C1-C5鹵烷基硫基、或C2-C5烷氧基羰基；n為0、1或2；R4、R6、及R7獨立地係H、鹵素、硝基、-CN、C1-C5烷基、C2-C5烯基、C2-C5炔基、C3-C5環烷基、C4-C5環烷基烷基、C1-C5鹵烷基、C3-C5鹵烯基、C3-C5鹵炔基、C2-C5烷氧基烷基、C1-C5烷氧基、C1-C5鹵烷氧基、C1-C5烷基硫基、C1-C4烷基亞磺醯基、C1-C4烷基磺醯基、C1-C5鹵烷基硫基、或C2-C5烷氧基羰基；且Pyr係吡啶環，其可選地經鹵素或C1-C4烷基取代。
  3. 如請求項2之除草劑中間物化合物，其中R1係H、C1-C7烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C1-C7鹵烷基、C2-C7烷氧基烷基、或C3-C7烷基硫基烷基；R2係C1-C7烷基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C1-C7鹵烷基、或C2-C7烷氧基烷基；各R3獨立地係鹵素、C1-C5烷基、C3-C5環烷基、C4-C5環烷基烷基、C1-C5鹵烷基、C2-C5烷氧基烷基、C1-C5烷氧基、C1-C5鹵烷氧基、或C1-C5烷基硫基； R4、R6、及R7獨立地係H、鹵素、C1-C5烷基、C3-C5環烷基、C4-C5環烷基烷基、C1-C5鹵烷基、C2-C5烷氧基烷基、C1-C5烷氧基、或C1-C5烷基硫基；且Pyr係吡啶環，其可選地經F、Cl、Br、或CH3取代。
  4. 如請求項3之除草劑中間物化合物，其中R1係H、C1-C7烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、或C4-C7環烷基烷基；R2係C1-C7烷基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、或C2-C7烷氧基烷基；X係S；或X係-C(R6)=C(R7)-，其中鍵結至R6的碳原子亦鍵結至鍵結至R4的碳原子，並且鍵結至R7的碳原子亦鍵結至式2中的苯環部分；各R3獨立地係鹵素、C1-C5烷基、C3-C5環烷基、或C1-C5烷氧基；R4、R6、及R7獨立地係H、鹵素、C1-C5烷基、或C1-C5烷氧基；且Pyr係2-吡啶基環，其可選地經F、Cl、Br、或CH3取代。
  5. 如請求項4之除草劑中間物化合物，其中R1係H或C1-C7烷基；R2係C1-C7烷基或C3-C7環烷基；X係S；各R3獨立地係鹵素、C1-C5烷基、或C1-C5烷氧基；R4係H、鹵素、或C1-C5烷基；且Pyr係未經取代之2-吡啶基環。
  6. 如請求項4之除草劑中間物化合物，其中R1係H或C1-C7烷基； R2係C1-C7烷基或C3-C7環烷基；X係-C(R6)=C(R7)-，其中鍵結至R6的碳原子亦鍵結至鍵結至R4的碳原子，並且鍵結至R7的碳原子亦鍵結至式2中的苯環部分；各R3獨立地係鹵素、C1-C5烷基、或C1-C5烷氧基；R4、R6、及R7獨立地係H、鹵素、或C1-C5烷基；且Pyr係未經取代之2-吡啶基環。
  7. 一種用於製備式2除草劑中間物化合物之方法， 其包含將式4除草劑中間物化合物， 其中R1係H、C1-C7烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C2-C3氰烷基、C1-C4硝基烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧基烷基、或C3-C7烷基硫基烷基； R2係C1-C7烷基、C3-C8烷基羰基烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C2-C3氰烷基、C1-C4硝基烷基、C2-C7鹵烷氧基烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧基烷基、或C2-C3烷氧基羰基；或苯基，其可選地經鹵素、C1-C4烷基、或C1-C4鹵烷基取代；且Pyr係吡啶環，其可選地經鹵素或C1-C4烷基取代；與式3化合物之間的反應產物環化， 其中X係O或S；或X係-C(R6)=C(R7)-，其中鍵結至R6的碳原子亦鍵結至鍵結至R4的碳原子，並且鍵結至R7的碳原子亦鍵結至式3中的苯環部分；各R3獨立地係鹵素、-CN、硝基、C1-C5烷基、C2-C5烯基、C2-C5炔基、C3-C5環烷基、C4-C5環烷基烷基、C1-C5鹵烷基、C3-C5鹵烯基、C3-C5鹵炔基、C2-C5烷氧基烷基、C1-C5烷氧基、C1-C5鹵烷氧基、C1-C5烷基硫基、C1-C5鹵烷基硫基、或C2-C5烷氧基羰基； n係0、1、2、或3；且R4、R6、及R7獨立地係H、鹵素、硝基、-CN、C1-C5烷基、C2-C5烯基、C2-C5炔基、C3-C5環烷基、C4-C5環烷基烷基、C1-C5鹵烷基、C3-C5鹵烯基、C3-C5鹵炔基、C2-C5烷氧基烷基、C1-C5烷氧基、C1-C5鹵烷氧基、C1-C5烷基硫基、C1-C4烷基亞磺醯基、C1-C4烷基磺醯基、C1-C5鹵烷基硫基、或C2-C5烷氧基羰基。
  8. 一種式4除草劑中間物化合物， 其中R1係H、C1-C7烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C2-C3氰烷基、C1-C4硝基烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧基烷基、或C3-C7烷基硫基烷基；R2係C1-C7烷基、C3-C8烷基羰基烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C2-C3氰烷基、C1-C4硝基烷基、C2-C7鹵烷氧基烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧基烷 基、或C2-C3烷氧基羰基；或苯基，其可選地經鹵素、C1-C4烷基、或C1-C4鹵烷基取代；且Pyr係吡啶環，其可選地經鹵素或C1-C4烷基取代。
  9. 如請求項8之除草劑中間物化合物，其中R1係H、C1-C7烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C1-C7鹵烷基、C2-C7烷氧基烷基、或C3-C7烷基硫基烷基；R2係C1-C7烷基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C1-C7鹵烷基、或C2-C7烷氧基烷基；且Pyr係吡啶環，其可選地經F、Cl、Br、或CH3取代。
  10. 如請求項9之除草劑中間物化合物，其中R1係H、C1-C7烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、或C4-C7環烷基烷基；R2係C1-C7烷基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、或C2-C7烷氧基烷基；且Pyr係2-吡啶基環，其可選地經F、Cl、Br、或CH3取代。
  11. 如請求項10之除草劑中間物化合物，其中R1係H或C1-C7烷基；R2係C1-C7烷基或C3-C7環烷基；且Pyr係未經取代之2-吡啶基環。
  12. 如請求項11之除草劑中間物化合物，其中R1係H或CH3；且 R2係CH3或c-Pr。
  13. 一種用於製備式4除草劑中間物化合物之方法， 其包含使式5化合物， 其中R2係C1-C7烷基、C3-C8烷基羰基烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C2-C3氰烷基、C1-C4硝基烷基、C2-C7鹵烷氧基烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧基烷基、或C2-C3烷氧基羰基；或苯基，其可選地經鹵素、C1-C4烷基、或C1-C4鹵烷基取代；且Pyr係吡啶環，其可選地經鹵素或C1-C4烷基取代；與式6肼接觸R1NHNH2 6其中 R1係H、C1-C7烷基、C3-C8烷氧基羰基烷基、C4-C7烷基環烷基、C3-C7烯基、C3-C7炔基、C3-C7環烷基、C4-C7環烷基烷基、C2-C3氰烷基、C1-C4硝基烷基、C1-C7鹵烷基、C3-C7鹵烯基、C2-C7烷氧基烷基、C3-C7烷基硫基烷基。
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