TW201718613A - 金屬錯合物 - Google Patents

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Abstract

本發明係關於金屬錯合物及包含這些金屬錯合物之電子裝置，尤其是有機電致發光裝置。

Description

金屬錯合物
本發明係關於適用於作為有機電致發光裝置中之發射體的金屬錯合物。
在使用有機半導體作為功能性材料之有機電致發光裝置(OLED)中，所用之發光材料經常為顯現磷光而非螢光之有機金屬錯合物。基於量子力學的原因，使用有機金屬化合物作為磷光發射體可能實現高達四倍的能量效率及功率效率。大體而言，仍需要對顯現三重態發射之OLED進行改善，尤其在效率、工作電壓及壽命方面。
此情況中，磷光OLED中所用之三重態發射體特別為銥錯合物及鉑錯合物。所用之銥錯合物尤其為具有芳族配位基之雙-及參-鄰位金屬化錯合物，其中配位基係經由帶負電荷之碳原子及未帶電荷之氮原子結合至金屬。此錯合物之實例為參(苯基吡啶基)銥(III)及其衍生物。文獻揭示多個相關配位基與銥錯合物或鉑錯合物，例如具有1-或3-苯基異喹啉配位基之錯合物、具有2-苯基喹啉之錯合 物、或具有苯基喹噁啉之錯合物。即使使用此些金屬錯合物已達到良好結果，但仍期望進一步的改善，尤其有關錯合物之效率及壽命方面。
根據先前技術之一些金屬錯合物的進一步問題為其於有機溶劑中之低溶解度。例如，參(苯並[h]喹啉)銥(III)實際上不可溶於多種標準有機溶劑，例如芳族烴或氯苯。除了相當地增加錯合物製備中之純化困難度之外，低溶解度亦使其難以或完全不可能使用這些錯合物於OLED之溶液處理的製造中。因此，能夠利用到具有較高溶解度之衍生物會是合乎需要的，然而衍生作用不應惡化其電子性質。
另外需要改善根據先前技術之一些金屬錯合物的昇華性質。例如，具有高昇華溫度因而意指這些材料在合成後用於純化之昇華以及於真空處理方法之OLED製造中的高熱應力。能夠利用到具有低昇華溫度之衍生物會是合乎需要的，然而衍生作用不應惡化其電子性質。
因此本發明所要解決的問題為提供適於作為供OLED用之發射體的新穎金屬錯合物。特別要解決的問題為提供可顯現與效率、工作電壓、壽命、色彩座標、溶解度及/或氧化安定性有關之改善性質的發射體。
意外地已發現，下面更詳細說明之特別金屬螯合錯合物可解決此問題且用於有機電致發光裝置中具有極良好之適應性。因此本發明提供這些金屬錯合物及包含這些錯合物之有機電致發光裝置。
EP 1400514揭示具有苯基吡啶配位基之銥錯合物，其 中苯基及吡啶基藉由具2至10個碳原子之直鏈或支鏈伸烷基彼此橋連。並沒有揭示其中橋連單元為伸環烷基或相應雙環單元之結構。所揭示之結構具在吡啶基與苯基之間具有約15-25°之明顯扭轉角。然而欲使配位至金屬最適化且因此使錯合物有較高安定性，扭轉角應最小化且較佳地為0°或約0°。
本發明提供式(1)化合物M(L)n(L’)m 式(1)
其含有式(2)之子結構M(L)n：
其中所用之符號及指數如下：M為銥或鉑；CyC為下式(CyC)之結構：
其中該基團於標識#的位置結合至CyN且於標識*的位置配位至M，且該雙環基(其於下文中以式(3)描述)鍵結至CyC標識o的位置；CyN為下式(CyN)之結構：
其中該基團於標識#的位置結合至CyC且於標識*的位置配位至M，且該雙環基(其於下文中以式(3)描述)鍵結至CyN標識o的位置；X於每一情況為相同或不同且為CR或N，前提是CyC中至多兩個符號X及CyN中至多兩個符號X為N；Y於每一情況為相同或不同且為CR2或O，前提是當y>1時，無氧原子直接地彼此鍵結；Z於每一情況為相同或不同且為CR2或O，前提是當z>1時，無氧原子直接地彼此鍵結；R於每一情況為相同或不同且為H、D、F、Cl、Br、I、N(R1)2、CN、NO2、OH、COOR1、C(=O)N(R1)2、Si(R1)3、B(OR1)2、C(=O)R1、P(=O)(R1)2、S(=O)R1、S(=O)2R1、OSO2R1、具1至20個碳原子之直鏈烷基、烷氧基或烷硫基或具2至20個碳原子之烯基或炔基或具3至20個碳原子之支鏈或環狀烷基、烷氧基或烷硫基(各者分別可被一或多個R1基取代，其中一或多個非相鄰CH2基可被R1C=CR1、R1C=N、C≡C、Si(R1)2、C=O、NR1、O、S或CONR1替代且其中一或多個氫原子可被D、F、Cl、Br、I或CN替代)、或具有5至40個芳族環原子且於每一情況中可被一或多個R1基取代之芳族或雜芳族環系統、或具有5至40個芳族環原子且可被一或多個R1基取代之芳氧基或雜芳氧基、或具有5至40個芳族環原子 且可被一或多個R1基取代之芳烷基或雜芳烷基、或具有10至40個芳族環原子且可被一或多個R1基取代之二芳基胺基、二雜芳基胺基或芳基雜芳基胺基；同時，兩個相鄰R基亦可一起形成單或多環之脂族、芳族或雜芳族環系統；R1於每一情況為相同或不同且為H、D、F、Cl、Br、I、N(R2)2、CN、NO2、Si(R2)3、B(OR2)2、C(=O)R2、P(=O)(R2)2、S(=O)R2、S(=O)2R2、OSO2R2、具1至20個碳原子之直鏈烷基、烷氧基或烷硫基或具2至20個碳原子之烯基或炔基或具3至20個碳原子之支鏈或環狀烷基、烷氧基或烷硫基(各者分別可被一或多個R2基取代，其中一或多個非相鄰CH2基可被R2C=CR2、R2C=N、C≡C、Si(R2)2、C=O、NR2、O、S或CONR2替代且其中一或多個氫原子可被D、F、Cl、Br、I、CN或NO2替代)、或具有5至40個芳族環原子且於每一情況中可被一或多個R2基取代之芳族或雜芳族環系統、具有5至40個芳族環原子且可被一或多個R2基取代之芳氧基或雜芳氧基、或具有5至40個芳族環原子且可被一或多個R2基取代之芳烷基或雜芳烷基、或具有10至40個芳族環原子且可被一或多個R2基取代之二芳基胺基、二雜芳基胺基或芳基雜芳基胺基；同時，二或多個相鄰R1基可一起形成單或多環之脂族、芳族或雜芳族環系統；R2於每一情況為相同或不同且為H、D、F或具1至20個碳原子之脂族、芳族及/或雜芳族有機基，其中一或 多個氫原子亦可被F替代；同時，二或多個R2取代基亦可一起形成單或多環系統；L’於每一情況為相同或不同且為配位基；y於每一情況為相同或不同且為1、2、3、4、5、6或7；z於每一情況為相同或不同且為1、2、3、4、5、6或7；n為1、2或3；m為0、1、2、3或4；同時，亦可能地二或多個配位基L連接一起，或者L藉由單鍵或二價橋或三價橋連接至L’，如此形成三牙、四牙、五牙或六牙配位基系統；此外亦可能地，取代基R額外地配位至M。
因此式(2)之子結構具有下面結構：
式(2)的結構中，CyC及CyN彼此經由共價鍵連接。此外，額外地連接CyC與CyN之雙環橋的存在為本發明所必需。根據本發明，此橋具有下式(3)之結構：
其中虛鍵表示鍵結至CyC或CyN。當鍵結至Y及/或Z之R基一起形成環系統時，式(3)之雙環結構變為多環結構。在透視圖中，此橋可表示如下：
本發明上下文中之芳基含有6至40個碳原子；本發明上下文中之雜芳基含有2至40個碳原子及至少一個雜原子，前提是碳原子及雜原子的總數至少為5。雜原子較佳地選自N、O及/或S。較佳地，雜芳基含有1、2或3個雜原子，其中至多一個選自O及S。要了解本文中之芳基或雜芳基意指簡單芳族環(亦即苯)、或簡單雜芳族環(例如吡啶、嘧啶、噻吩等等)、或稠合芳基或雜芳基(例如萘、蒽、菲、喹啉、異喹啉等等)。
本發明上下文中之芳族環系統於環系統中含有6至60個碳原子。本發明上下文中之雜芳族環系統於環系統中含有1至60個碳原子及至少一個雜原子，前提是碳原子及雜原子的總數至少為5。雜原子較佳地選自N、O及/或S。應該理解的是，本發明上下文中之芳族或雜芳族環系統意指未必僅含有芳基或雜芳基之系統，而是其中亦可能地有二或多個芳基或雜芳基被非芳族單元(較佳地小於10%之不為H的原子)例如碳、氮或氧原子或羰基所中斷之系統。例如，諸如9,9’-螺雙茀、9,9-二芳基茀、三芳基胺、二芳基醚、二苯乙烯等等系統亦被視為是本發明上下 文中之芳族環系統，及同樣地其中二或多個芳基被例如直鏈或環狀烷基或被矽基所中斷之系統。此外，其中二或多個芳基或雜芳基彼此直接鍵結之系統(例如聯苯基或聯三苯基)同樣地應被視為是芳族或雜芳族環系統。
應理解本發明上下文中之環狀烷基、烷氧基或烷硫基意指單環、雙環或多環基。當二或多個取代基一起形成脂族環系統時，本發明上下文中之術語“脂族環系統”亦包括雜脂族環系統。
要理解，本發明上下文中，其中個別氫原子或CH2基亦可被上述基團取代之C1-至C40-烷基意指例如，甲基、乙基、正丙基、異丙基、環丙基、正丁基、異丁基、二級丁基、三級丁基、環丁基、2-甲基丁基、正戊基、二級戊基、三級戊基、2-戊基、新戊基、環戊基、正己基、二級己基、三級己基、2-己基、3-己基、新己基、環己基、1-甲基環戊基、2-甲基戊基、正庚基、2-庚基、3-庚基、4-庚基、環庚基、1-甲基環己基、正辛基、2-乙基己基、環辛基、1-雙環[2.2.2]辛基、2-雙環[2.2.2]辛基、2-(2,6-二甲基)辛基、3-(3,7-二甲基)辛基、金剛烷基、三氟甲基、五氟乙基、2,2,2-三氟乙基、1,1-二甲基-正己-1-基、1,1-二甲基-正庚-1-基、1,1-二甲基-正辛-1-基、1,1-二甲基-正癸-1-基、1,1-二甲基-正十二烷-1-基、1,1-二甲基-正十四烷-1-基、1,1-二甲基-正十六烷-1-基、1,1-二甲基-正十八烷-1-基、1,1-二乙基-正己-1-基、1,1-二乙基-正庚-1-基、1,1-二乙基-正辛-1-基、1,1-二乙基-正癸-1-基、1,1-二乙 基-正十二烷-1-基、1,1-二乙基-正十四烷-1-基、1,1-二乙基-正十六烷-1-基、1,1-二乙基-正十八烷-1-基、1-(正丙基)環己-1-基、1-(正丁基)環己-1-基、1-(正己基)環己-1-基、1-(正辛基)環己-1-基及1-(正癸基)環己-1-基。烯基要理解為意指例如乙烯基、丙烯基、丁烯基、戊烯基、環戊烯基、己烯基、環己烯基、庚烯基、環庚烯基、辛烯基、環辛烯基或環辛二烯基。炔基要理解為意指例如乙炔基、丙炔基、丁炔基、戊炔基、己炔基、庚炔基或辛炔基。C1-至C40-烷氧基要理解為意指例如甲氧基、三氟甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、異丁氧基、二級丁氧基、三級丁氧基或2-甲基丁氧基。
芳族或雜芳族環系統具有5-60個芳族環原子且亦可於每一情況中被上述基團取代且可經由任何期望位置連接至芳族或雜芳族系統，要理解為其意指例如衍生自下列者之基團：苯、萘、蒽、苯並蒽、菲、苯並菲、芘、、苝、、苯並、稠四苯、稠五苯、苯並芘、聯苯、伸聯苯、聯三苯、伸聯三苯、茀、螺雙茀、二氫菲、二氫芘、四氫芘、順-或反-茚並茀、順-或反-單苯並茚並茀、順-或反-二苯並茚並茀、參茚並苯、異參茚並苯、螺參茚並苯、螺異參茚並苯、呋喃、苯並呋喃、異苯並呋喃、二苯並呋喃、噻吩、苯並噻吩、異苯並噻吩、二苯並噻吩、吡咯、吲哚、異吲哚、咔唑、吲哚並咔唑、茚並咔唑、吡啶、喹啉、異喹啉、吖啶、啡啶、苯並-5,6-喹啉、苯並-6,7-喹啉、苯並-7,8-喹啉、啡噻、啡噁、吡唑、吲 唑、咪唑、苯並咪唑、萘並咪唑、菲並咪唑、吡啶並咪坐、吡並咪唑、喹噁啉並咪唑、噁唑、苯並噁唑、萘並噁唑、蒽並噁唑、菲並噁唑、異噁唑、1,2-噻唑、1,3-噻唑、苯並噻唑、嗒、苯並嗒、嘧啶、苯並嘧啶、喹噁啉、1,5-二氮雜蒽、2,7-二氮雜芘、2,3-二氮雜芘、1,6-二氮雜芘、1,8-二氮雜芘、4,5-二氮雜芘、4,5,9,10-四氮雜苝、吡、啡、啡噁、啡噻、螢紅環、啶、氮雜咔唑、苯並咔啉、啡啉、1,2,3-***、1,2,4-***、苯並***、1,2,3-噁二唑、1,2,4-噁二唑、1,2,5-噁二唑、1,3,4-噁二唑、1,2,3-噻二唑、1,2,4-噻二唑、1,2,5-噻二唑、1,3,4-噻二唑、1,3,5-三、1,2,4-三、1,2,3-三、四唑、1,2,4,5-四、1,2,3,4-四、1,2,3,5-四、嘌呤、喋啶、吲哚及苯並噻二唑。
較佳者為式(1)化合物，其特徵在於彼等未帶電荷，亦即為電中性。此係以簡易方式藉選擇配位基L及L’之電荷以使其補償錯合金屬原子M之電荷而達成。
式(1)錯合物中，指數n及m係選擇使得於金屬M的總配位數(根據此金屬)對應於此金屬慣常之配位數者。此配位數在銥(III)方面為6，而鉑(II)之配位數為4。
本發明之較佳實施態樣中，M為銥(III)且指數n為1、2或3，較佳地為2或3。當指數n=1時，則另外四個單牙，或兩個雙牙，或一個雙牙與兩個單牙，或一個三牙與一個單牙，或一個四牙配位基L’，較佳為兩個雙牙配位基L’，配位至金屬。當指數n=2時，則另外一個雙牙 或兩個單牙配位基L’，較佳為一個雙牙配位基L’，配位至金屬。當指數n=3時，則指數m=0。
本發明之進一步較佳實施態樣中，M為鉑(II)且指數n為1或2。當指數n=1時，則另外一個雙牙或兩個單牙配位基L’，較佳為一個雙牙配位基L’，配位至金屬M。當指數n=2時，則指數m=0。
本發明之較佳實施態樣中，式(CyC)的基團中，至多一個X為N且兩個其他X基為CR。更佳地，式(CyC)的基團中，所有基均為CR。
CyC基之較佳實施態樣為下式(CyC-1)至(CyC-5)之結構，其中此基團於每一情況中於標識#的位置結合至CyN且於標識*的位置配位至M，且該式(3)之雙環基鍵結至標識o的位置，
其中R具有上文給予之定義。
如上所述，相鄰的R基亦可一起形成脂族、芳族或雜芳族環系統。較佳的CyC基為下示之(CyC-1a)至(CyC-1k)及(CyC-2a)至(CyC-5a)基，其中在(CyC-1b)至(CyC-1k)的情況中，經由R基而形成環，
其中所用之符號具有上文給予之定義，W於每一情況為相同或不同且為NR1、O或S，且R及R1基團較佳地彼此並未形成芳族或雜芳族環系統。
特佳者為(CyC-1a)、(CyC-1b)、(CyC-1f)、(CyC-1h)及(CyC-1i)基，且極特佳者為(CyC-1a)基。
本發明之較佳實施態樣中，式(CyN)的基團中，至多一個X為N且兩個其他X基為CR。更佳地，式(CyN)的基團中，所有X基均為CR。
CyN基之較佳實施態樣為下式(CyN-1)至(CyN-4)之結構，其中此基團於每一情況中於標識#的位置結合至CyC且於標識*的位置配位至M，且該式(3)之雙環基鍵結至CyN標識o的位置，
其中R具有上文給予之定義。
如上所述，相鄰的R基亦可一起形成脂族、芳族或雜芳族環系統。較佳的CyN基為下示之(CyN-1a)至(CyN-1c)及(CyN-2a)基，其中在(CyN-1b)、(CyN-1c)及(CyN-2a)的情況中，經由R基而形成環，
其中所用之符號具有上文給予之定義，且R及R1基較佳地彼此並未形成芳族或雜芳族環系統。
較佳基團為(CyN-1a)、(CyN-1b)及(CyN-1c)基。
上述較佳之CyC及CyN基可彼此依所需組合。適當之CyC及CyN於配位基L中之組合尤其如下：
當被具體指定為上述特佳者之CyC及CyN基彼此組合時尤其更佳。特佳者為CyC及CyN於配位基L中之下列組合：
最佳地，式(2)的結構為下式(2a)的結構：
其中所用之符號及指數具有上文給予之定義。
當X為CR時，這些R基於每一情況為相同或不同且較佳地選自由以下所組成之群組：H、D、F、Br、I、N(R1)2、CN、Si(R1)3、B(OR1)2、C(=O)R1、具1至10個碳原子之直鏈烷基或具2至10個碳原子之烯基或具3至10個碳原子之支鏈或環狀烷基(各者分別可被一或多個R1基取代，其中一或多個氫原子可被D或F替代)、或具有5至24個芳族環原子且可於每一情況中被一或多個R1基取代之芳族或雜芳族環系統；同時，二個較佳地相鄰之R基一起或者R與R1亦可一起形成環系統。更佳地，這些R基於每一情況為相同或不同且選自由以下所組成之群組：H、D、F、N(R1)2、具1至6個碳原子之直鏈烷基或具3至10個碳原子之支鏈或環狀烷基，其中一或多個氫原子可被D或F替代、或芳族或雜芳族環系統，該芳族或雜芳族環系統具有6至13個芳族環原子且可於每一情況中被一或多個R1基取代；同時，兩個相鄰R基一起或者R與R1一起亦可形成環系統。相同偏好亦應用在苯基吡啶配位基結構上之式(2a)中所描述的R基。
較佳之R1基於每一情況為相同或不同且為H、D、 F、具1至10個碳原子之直鏈烷基或烷氧基或具2至20個碳原子之烯基或具3至10個碳原子之支鏈或環狀烷基或烷氧基(各者分別可被一或多個R2基取代，其中一或多個氫原子可被F替代)、或具有5至24個芳族環原子且於每一情況中可被一或多個R2基取代之芳族或雜芳族環系統；同時，二或多個相鄰R1基可一起形成單或多環脂族、芳族或雜芳族環系統。特佳之R1基於每一情況為相同或不同且為H、D、F、具1至4個碳原子之直鏈烷基或具3至6個碳原子之支鏈或環狀烷基或具6至13個芳族環原子之芳族或雜芳族環系統(各者分別可被一或多個R2基取代，但較佳地未經取代)；同時，二或多個相鄰R1基可一起形成單或多環脂族、芳族或雜芳族環系統。
如上所述，CyN及CyC或上文詳述之較佳實施態樣被式(3)之雙環基橋連對本發明是必要的，其中較佳實施態樣詳述於下文中：
式(3)基團包含雙環結構，其中此結構上之取代基形成環亦可導致形成多環結構。由於雙環結構，式(3)並不具有任何苄基氫(benzylic proton)。此係有利的，因為苄基氫具有較高之反應性，會導致降低金屬錯合物之安定性。
本發明之較佳實施態樣中，Y及Z於每一情況為相同 或不同且為CR2或O，其中當y2時，(Y)y基中至多兩個Y為O，且當z2時，(Z)z基中至多兩個Z為O。更佳地，(Y)y基中至多一個Y且(Z)z基中至多一個Z為O。最佳地，Y及Z於每一情況為相同或不同且為CR2。極特佳實施態樣中，此基團因而為純脂族基而非雜脂族基。
本發明進一步較佳實施態樣中，y及z於每一情況為相同或不同且為1、2、3、4或5，更佳地為1、2、3或4，且最佳地為2、3或4。此上下文中，y及z之各種組合是可能的。指數y及z之適當組合之實例具體示於下表中：
當Y及/或Z為CR2時，這些R基於每一情況為相同或不同且選自由以下所組成之群組：H、D、F、具1至10個碳原子且可被一或多個R1基取代但較佳，未經取代之直鏈烷基、具3至10個碳原子且可被一或多個R1基取代但較佳未經取代之支鏈或環狀烷基、或具6至13個芳族環原子且可於每一情況中被一或多個R1基取代之芳族或雜芳族環系統；同時，二或多個R基亦可能一起形成環系統。更佳地，R基於每一情況為相同或不同且選自由以下所組成之群組：H、F、具1至4個碳原子之直鏈烷基、 具3或4個碳原子之支鏈烷基、及可被具1至4個碳原子之烷基取代但較佳未經取代之苯基；同時，二或多個R基亦可一起形成環系統。
較佳之R1基與上文已詳述者相同。
當Y及/或Z上之R基一起形成環系統時，此導致形成多環結構。
適當之式(3)雙環結構之實例為下文所列之式(3a)至(3e)的結構，且適當之式(3)的多環結構之實例為下文所列之式(3f)至(3q)的結構：
這些基團亦可被一或多個R基取代，其中R較佳地為具有1至4個碳原子之烷基。然而，這些基團較佳未經取代。
本發明進一步之實施態樣中，於相對於金屬配位之鄰 位鍵結至配位的芳基或雜芳基CyC或CyN上的取代基R亦同樣地為配位至金屬M的基團。較佳之配位的R基為芳基或雜芳基，例如苯基或吡啶基、芳基或烷基氰化物、芳基或烷基異氰化物、胺或醯胺、醇或醇鹽、硫醇或硫醇鹽、膦、亞磷酸根、羰基官能基、羧酸根、脲或芳基或烷基炔化物。
如上所述，代替R基，亦可使橋連單元存在於配位的芳基或雜芳基CyC或CyN上且將配位基L連接至一或多個其他配位基L或L’。本發明之較佳實施態樣中，將位在相對於CyC或CyN之配位原子的鄰或間位的R基中之一者替換成橋連單元，使得配位基具有三牙或多牙或多足特徵。亦可能地存在兩個此種類之橋連單元。此導致形成巨環配位基或穴狀化合物。
具有多牙配位基之較佳結構為下列(4)至(9)之金屬錯合物：
其中所用之符號及指數具有上文給予之定義。
這些式(4)至(9)的結構中，V較佳地為單鍵或為含有1至80個來自第三、第四、第五及/或第六主族(根據IUPAC之13、14、15或16族)原子的橋連單元、或為將子配位基L彼此共價鍵結或將L共價鍵結至L’的3至6員碳環或雜環。此情況下，橋連V單元亦可具有不對稱結構，意指V與L和L’之鍵聯不必相同。橋連V單元可為未帶電荷、帶單一個、兩個或三個負電荷、或帶單一個、兩個或三個正電荷。較佳地，V為未帶電荷、帶單一負電荷或單一正電荷，特別佳地未帶電荷。此情況下，V電荷較佳經選擇以使產生整體未帶電荷之錯合物。同時，以上所給予之子結構MLn之偏好應用在配位基上且n較佳為至少2。
V基團之確切結構及化學組成對錯合物之電子性質並不具有任何重要影響，因為此基團的功能本質地係藉由將L彼此橋連或將L與L’橋連來增加錯合物之化學及熱安定性。
當V為三價基，亦即三個配位基L彼此橋連或者兩個配位基L橋連至L’或者一個配位基L橋連至兩個配位基L’時，V較佳地於每一情況為相同或不同且選自由以下所組成 之群組：B、B(R1)-、B(C(R1)2)3、(R1)B(C(R1)2)3 -、B(O)3、(R1)B(O)3 -、B(C(R1)2C(R1)2)3、(R1)B(C(R1)2C(R1)2)3 -、B(C(R1)2O)3、(R1)B(C(R1)2O)3 -、B(OC(R1)2)3、(R1)B(OC(R1)2)3 -、C(R1)、CO-、CN(R1)2、(R1)C(C(R1)2)3、(R1)C(O)3、(R1)C(C(R1)2C(R1)2)3、(R1)C(C(R1)2O)3、(R1)C(OC(R1)2)3、(R1)C(Si(R1)2)3、(R1)C(Si(R1)2C(R1)2)3、(R1)C(C(R1)2Si(R1)2)3、(R1)C(Si(R1)2Si(R1)2)3、Si(R1)、(R1)Si(C(R1)2)3、(R1)Si(O)3、(R1)Si(C(R1)2C(R1)2)3、(R1)Si(OC(R1)2)3、(R1)Si(C(R1)2O)3、(R1)Si(Si(R1)2)3、(R1)Si(Si(R1)2C(R1)2)3、(R1)Si(C(R1)2Si(R1)2)3、(R1)Si(Si(R1)2Si(R1)2)3、N、NO、N(R1)+、N(C(R1)2)3、(R1)N(C(R1)2)3 +、N(C=O)3、N(C(R1)2C(R1)2)3、(R1)N(C(R1)2C(R1)2)+、P、P(R1)+、PO、PS、P(O)3、PO(O)3、P(OC(R1)2)3、PO(OC(R1)2)3、P(C(R1)2)3、P(R1)(C(R1)2)3 +、PO(C(R1)2)3、P(C(R1)2C(R1)2)3、P(R1)(C(R1)2C(R1)2)3 +、PO(C(R1)2C(R1)2)3、S+、S(C(R1)2)3 +、S(C(R1)2C(R1)2)3 +、或式(10)至(15)單元
其中虛鍵各自表示鍵結至子配位基L或L’的鍵，且Z於每一情況為相同或不同且選自由以下所組成之群組：單鍵、O、S、S(=O)、S(=O)2、NR1、PR1、P(=O)R1、C(R1)2、C(=O)、C(=NR1)、C(=C(R1)2)、Si(R1)2及BR1，且X1於每一情況為相同或不同且為CR1或N，其中每環至多三個X1為N。所用之其他符號具有上文給予之定義。
當V為二價基，亦即兩個配位基L彼此橋連或者一個配位基L橋連至L’時，V較佳地於每一情況為相同或不同且選自由以下所組成之群組：BR1、B(R1)2 -、C(R1)2、C(=O)、Si(R1)2、NR1、PR1、P(R1)2 +、P(=O)(R1)、P(=S)(R1)、O、S、Se、或式(16)至(25)單元
其中虛鍵各自表示鍵結至子配位基L或L’的鍵，Q於每一情況為相同或不同且為C(R1)2、N(R1)、O或S，所用之其他符號各自具有上文所列之定義。
接下來為式(1)中出現之較佳配位基L’之說明。如同於式(4)、(6)及(8)中所指明，當配位基L’係經由橋連V單元鍵結至L時，亦可能相應地選擇配位基L’。
配位基L’較佳地為未帶電荷、單陰離子、雙陰離子或三陰離子配位基，更佳地為未帶電荷或單陰離子配位基。彼等可為單牙、雙牙、三牙或四牙，且較佳地為雙牙，亦即較佳地具有兩個配位點。如上所述，所述配位基L’亦可經由橋連V基鍵結至L。更佳地，所述配位基L’為雙陰離子及單陰離子。
較佳之未帶電荷單牙配位基L’選自由以下所組成之群組：一氧化碳、一氧化氮、烷基氰化物(例如乙腈)、芳基氰化物(例如苯甲腈)、烷基異氰化物(例如甲基異腈)、芳基異腈、(例如異苯甲腈)、胺(例如三甲胺、三乙胺)、啉、膦(尤其是鹵基膦、三烷基膦、三芳基膦或烷基芳 基膦，例如三氟膦、三甲膦、三環己膦、三-三級丁膦、三苯膦、參(五氟苯基)膦、二甲基苯基膦、甲基二苯基膦、雙(三級丁基)苯基膦)、亞磷酸酯(例如亞磷酸三甲酯、亞磷酸三乙酯)、胂(例如三氟胂、三甲胂、三環己胂、三-三級丁基胂、三苯胂、參(五氟苯基)胂)、(例如三氟、三甲、三環己、三-三級丁基、三苯、參(五氟苯基))、含氮雜環(例如吡啶、嗒、吡、嘧啶、三、及碳烯(carbene)，尤其是Arduengo碳烯)。
較佳之單陰離子單牙配位基L’係選自氫陰離子、氘陰離子、鹵陰離子F-、Cl-、Br-及I-、烷基炔陰離子(例如甲基-C≡C-、三級丁基-C≡C-)、芳基炔陰離子(例如苯基-C≡C-)、氰陰離子、氰酸根、異氰酸根、硫氰酸根、異硫氰酸根、脂族或芳族醇鹽(例如甲醇鹽、乙醇鹽、丙醇鹽、異丙醇鹽、三級丁醇鹽、酚鹽)、脂族或芳族硫醇鹽(例如甲烷硫醇鹽、乙烷硫醇鹽、丙烷硫醇鹽、異丙烷硫醇鹽、三級硫丁醇鹽、硫酚鹽)、胺化物(例如二甲基胺化物、二乙基胺化物、二異丙基胺化物)、啉鹽、羧酸根(例如乙酸根、三氟乙酸根、丙酸根、苯甲酸根)、芳基(例如苯基、萘基)、及陰離子性含氮雜環(諸如吡咯鹽、咪唑鹽、吡唑鹽)。同時，這些基團中之烷基較佳地為C1-C20-烷基，更佳地為C1-C10-烷基，最佳地為C1-C4-烷基。芳基亦理解為意指雜芳基。這些基團具有上文給予之定義。
較佳之雙或三陰離子配位基為O2-、S2-、導致R-C≡M形式之配位的碳化物(carbide)、及導致R-N=M形式之配 位的氮烯(nitrene)(其中R通常為取代基)、或N3-。
較佳之未帶電荷或單或雙陰離子之雙牙或更高的多牙配位基L’係選自二胺(例如乙二胺、N,N,N’,N’-四甲基乙二胺、丙二胺、N,N,N’,N’-四甲基丙二胺、順-或反-二胺基環己烷、順-或反-N,N,N’,N’-四甲基二胺基環己烷)、亞胺(例如2-[1-(苯基亞胺基)乙基]吡啶、2-[1-(2-甲基苯基亞胺基)乙基]吡啶、2-[1-(2,6-二異丙基苯基亞胺基)乙基]吡啶、2-[1-(甲基亞胺基)乙基]吡啶、2-[1-(乙基亞胺基)乙基]吡啶、2-[(1-(異丙基亞胺基)乙基]吡啶、2-[1-(三級丁基亞胺基)乙基]吡啶)、二亞胺(例如1,2-雙(甲基亞胺基)乙烷、1,2-雙(乙基亞胺基)乙烷、1,2-雙(異丙基亞胺基)乙烷、1,2-雙(三級丁基亞胺基)乙烷、2,3-雙(甲基亞胺基)丁烷、2,3-雙(乙基亞胺基)丁烷、2,3-雙(異丙基亞胺基)丁烷、2,3-雙(三級丁基亞胺基)丁烷、1,2-雙(苯基亞胺基)乙烷、1,2-雙(2-甲基苯基亞胺基)乙烷、1,2-雙(2,6-二異丙基苯基亞胺基)乙烷、1,2-雙(2,6-二-三級丁基苯基亞胺基)乙烷、2,3-雙(苯基亞胺基)丁烷、2,3-雙(2-甲基苯基亞胺基)丁烷、2,3-雙(2,6-二異丙基苯基亞胺基)丁烷、2,3-雙(2,6-二-三級丁基苯基亞胺基)丁烷)、含兩個氮原子之雜環(例如2,2’-聯吡啶、o-啡啉)、二膦(例如雙(二苯膦基)甲烷、雙(二苯膦基)乙烷、雙(二苯膦基)丙烷、雙(二苯膦基)丁烷、雙(二甲膦基)甲烷、雙(二甲膦基)乙烷、雙(二甲膦基)丙烷、雙(二乙膦基)甲烷、雙(二乙膦基)乙烷、雙(二乙膦基)丙烷、雙(二-三級丁膦基)甲烷、雙(二-三級丁膦 基)乙烷、雙(三級丁膦基)丙烷)、由1,3-二酮(例如乙醯基丙酮、苯甲醯基丙酮、1,5-二苯基乙醯基丙酮、二苯甲醯基甲烷、雙(1,1,1-三氟乙醯基)甲烷)所衍生之1,3-二酮化物、由3-酮酯(例如乙醯基乙酸乙酯)所衍生之3-酮化物、由胺基羧酸(例如吡啶-2-羧酸、喹啉-2-羧酸、甘胺酸、N,N-二甲基甘胺酸、丙胺酸、N,N-二甲胺基丙胺酸)所衍生之羧酸根、由水楊亞胺(例如甲基水楊亞胺、乙基水楊亞胺、苯基水楊亞胺)所衍生之水楊亞胺酸根、由二醇(例如乙二醇、1,3-丙二醇)所衍生之二醇鹽、由二硫醇(例如乙-1,2-二硫醇、丙-1,3-二硫醇)所衍生之二硫醇鹽、雙(吡唑基硼酸根)、雙(咪唑基)硼酸根、3-(2-吡啶基)二唑或3-(2-吡啶基)***。
較佳之三牙配位基為含氮雜環之硼酸根，例如肆(1-咪唑基)硼酸根及肆(1-吡唑基)硼酸根。
進一步較佳者為雙牙的單陰離子、未帶電荷或雙陰離子配位基L’，尤其為單陰離子配位基，連同金屬為具至少一個金屬-碳鍵的環金屬化五員環或六員環，尤其環金屬化五員環。這些尤其為通常用於供有機電致發光裝置用之磷光金屬錯合物領域中的配位基，亦即苯基吡啶、萘基吡啶、苯基喹啉、苯基異喹啉型等等之配位基，各者分別可被一或多個R基取代。熟諳此磷光電致發光裝置技術者知道許多此類配位基，且可以無需運用本發明技能地選擇此種類之其他配位基作為式(1)化合物之配位基L’。通常特別適於供此目的之組合的情況為具有下列式(26)至(50) 所示之兩個基團者，其中一個基團較佳地經由未帶電荷之氮原子或碳烯碳原子結合且另一基團較佳地經由帶負電之碳原子或帶負電之氮原子結合。配位基L’可接著由式(26)至(50)基團於標示#的位置彼此結合而形成。這些基團中配位至金屬的位置以*指示。這些基團亦可經由一或多個橋連V單元鍵結至配位基L。
這些式中，X、R及W具有上文給予之定義。較佳地每一基團中至多三個X符號為N，更佳地每一基團中至多兩個X符號為N，且甚至更佳地每一基團中至多一個X符號為N。尤佳地，所有X符號均為CR。
同時，經由相鄰取代基形成環，亦可能地由兩個個別之芳基或雜芳基形成稠合雜芳基，作為雙牙配位基L’而配位至M。這些之實例為下式(51)、(52)及(53)之配位基：
其中所用之符號具有上文給予之定義。
式(52)配位基之適當實施態樣的實例可見於專利申請案WO 2010/086089、WO 2011/157339及WO 2014/008982中。
其他適當之協同配位基L’的結構為非完全雜芳族但在配位基礎結構中具有酮基，如同於WO 2011/044988、WO 2014/094962、WO 2014/094961及WO 2014/094960所揭示。
適當之協同配位基L’(其中個別配位基上的基團彼此形成環系統)之實例列於下表中，亦於每一情況中引用CAS編號：
同樣較佳的配位基L’為η5-環戊二烯基、η5-五甲基環戊二烯基、η6-苯或η7-環庚三烯基，各者分別可被一或多個R基取代。
同樣較佳的配位基L’為1,3,5-順,順-環己烷衍生物(尤 其是具式(54)者)、1,1,1-三(伸甲基)甲烷衍生物(尤其是具式(55)者)、及1,1,1-三取代甲烷(尤其是具式(56)及(57)者)。
其中，各式中，示出配位至金屬M的配位，R為如上所定義者，且A於每一情況為相同或不同且為O-、S-、COO-、PR2或NR2。
當配位基L’由式(26)至(50)之結構所組成時，這些結構中之較佳R基與上文已詳述之當X為CR之式(2)所用之R基相同。
本發明之較佳實施態樣中，L’經由一或多個芳族或雜芳族基配位至M，但並不經由非芳族及非雜芳族基配位。
本發明之錯合物可為面式(facial)或假面式(pseudofacial)配位，或者可為經式(meridional)或假經式(pseudomeridional)配位。
配位基L亦可依結構而為手性。例如在當式(3)的結構中之(Y)y及(Z)z基不同或者當彼等含有具一或多個立體中心之取代基例如烷基、烷氧基、二烷胺基或芳烷基時就是此情況。既然錯合物之基礎結構亦可為手性結構，故可能有非鏡像異體物及多重鏡像異體物對之形成。彼情況中，本發明之錯合物可包括不同非鏡像異體物之混合物或 相應之消旋物及個別分離出之非鏡像異體物或鏡像異體物。
化合物亦可以手性、鏡像異體物純錯合物形式使用，其可發射圓偏振光。此可具有優點，因為此可能地省掉裝置上的偏振濾光鏡。此外，此錯合物亦適用於安全標記中，因為不但發光，彼等亦具有成為輕易可讀特徵的偏振光。
上述較佳實施態樣可彼此依所需組合。本發明之特別較佳實施態樣中，上述較佳實施態樣同時地適用。
本發明進一步提供製備式(1)金屬錯合化合物之方法，其係藉將相應之游離配位基L及隨意地L’與式(58)之金屬醇鹽、與式(59)之金屬酮基酮化物、與式(60)之金屬鹵化物、與式(61)之二聚合的金屬錯合物、或與式(62)之金屬錯合物反應
其中符號M、m、n及R具有上文給予之定義，Hal=F、Cl、Br或I，L”為醇(尤其為具1至4個碳原子之醇)、或腈(尤其為乙腈或苯甲腈)、且(Anion)為未配位的 陰離子，例如三氟甲磺酸根。
同樣地可能使用金屬化合物，尤其是銥化合物，帶有醇鹽及/或鹵化物及/或羥基團及酮基酮化物基團二者。這些化合物亦可帶有電荷。特別適於作為反應物之相應的銥化合物乃揭示於WO 2004/085449中。特別適當者為[IrCl2(acac)2]-，例如Na[IrCl2(acac)2]，含有乙醯丙酮化物衍生物作為配位基之金屬錯合物，例如Ir(acac)3或參(2,2,6,6-四甲基庚烷-3,5-二酮酸)銥、及IrCl3．xH2O，其中x典型地為2至4的數目。適當鉑反應物為例如PtCl2、K2[PtCl4]、PtCl2(DMSO)2、Pt(Me)2(DMSO)2或PtCl2(苯甲腈)2。
錯合物之合成較佳地如同WO 2002/060910、WO 2004/085449及WO 2007/065523所述地進行。雜配錯合物亦可例如根據WO 2005/042548合成。此情況中，合成亦可例如藉熱或光化學方法及/或藉微波照射法活化。反應之活化方面，亦可能地額外加入路易斯酸，例如銀鹽或AlCl3。
反應可無需添加溶劑或熔化助劑地於待o-金屬化之相應配位基熔體中進行。可能隨意地將溶劑或熔化助劑加入。適當溶劑或質子性或非質子性溶劑諸如脂族及/或芳族醇(甲醇、乙醇、異丙醇、三級丁醇等等)、寡-及多元醇(乙二醇、丙-1,2-二醇、甘油等等)、醇醚(乙氧基乙醇、二乙二醇、三乙二醇、聚乙二醇等等)、醚(二及三乙二醇二甲基醚、二苯基醚等等)、芳族、雜芳族及/或脂族烴(甲 苯、二甲苯、、氯苯、吡啶、二甲基吡啶、喹啉、異喹啉、十三烷、十六烷等等)、醯胺(DMF、DMAC等等)、內醯胺(NMP)、亞碸(DMSO)或碸(二甲碸、環丁碸等等)。適當之熔化助劑為於室溫為固體形式但當將反應混合物加熱時會熔化且使反應物溶化之化合物，如此形成均質熔體。特別適當者為聯苯、間-聯三苯、三聯苯、1,2-、1,3-或1,4-雙苯氧基苯、三苯基氧化膦、18-冠醚-6、酚、1-萘酚、氫醌等等。
如有需要，可能藉由這些方法，繼之進行例如再結晶或昇華的純化，以得高純度，較佳地大於99%(藉1H NMR及/或HPLC方法測知)之本發明式(1)化合物。
本發明化合物亦可藉由適當取代，例如藉以較長烷基(約4至20個碳原子，尤其支鏈烷基)、或隨意經取代的芳基(例如二甲苯基、基或支鏈聯三苯基或聯四苯基)取代而成為可溶性。然後這些化合物可以足夠濃度、於室溫溶於標準有機溶劑(例如甲苯或二甲苯)中以能夠於溶液中處理錯合物。這些可溶性化合物具有特別良好之適應性以供由溶液中例如藉印刷法處理。
本發明化合物亦可與聚合物混合。同樣可能地將這些化合物共價併至聚合物中。此在被脫離基(諸如溴、碘、氯、硼酸或硼酸酯)、或被反應性可聚合性基團(諸如烯烴或氧雜環丁烷)取代之化合物尤其可能。這些可作為用於製造相應寡聚物、樹枝狀聚合物或聚合物之單體。寡聚化或聚合化反應較佳地經由鹵素官能基或硼酸官能基或經由 可聚合基團而達成。另外可能地將聚合物經由此種類之基團交聯。本發明化合物及聚合物可以交聯或未交聯的層之形式使用。
因此本發明進一步提供含有一或多種以上詳述本發明化合物之寡聚物、聚合物或樹枝狀聚合物，其中存在有一或多個本發明化合物鍵結至聚合物、寡聚物或樹枝狀聚合物的鍵。根據本發明化合物之鍵聯，其因此形成寡聚物或聚合物之側鏈或者併入主鏈中。聚合物、寡聚物或樹枝狀聚合物可為共軛、部分共軛或未共軛。寡聚物或聚合物可為直鏈、支鏈或樹狀。寡聚物、樹枝狀聚合物及聚合物中之本發明化合物的重複單元方面，採用如上所述之相同偏好。
寡聚物或聚合物之製備方面，本發明之單體係與其他單體均聚或共聚。較佳者為共聚物，其中式(1)單元或上述較佳實施態樣係以0.01至99.9莫耳%，較佳地5至90莫耳%，更佳地20至80莫耳%的量存在。形成聚合物基礎骨架之適當且較佳的共聚單體係選自茀類(例如根據EP 842208或WO 2000/022026)、螺雙茀類(例如根據EP 707020，EP 894107或WO 2006/061181)、對伸苯類(例如根據WO 92/18552)、咔唑類(例如根據WO 2004/070772或WO 2004/113468)、噻吩類(例如根據EP 1028136)、二氫菲類(例如根據WO 2005/014689)、順-及反-茚並茀類(例如根據WO 2004/041901或WO 2004/113412)、酮類(例如根據WO 2005/040302)、菲類(例如根據WO 2005/104264 或WO 2007/017066)或其他複數種這些單元。聚合物、寡聚物及樹枝狀聚合物又可含有其他單元，例如電洞傳輸單元(尤其以三芳胺為基礎者)、及/或電子傳輸單元。
由液相中例如藉旋轉塗佈法或藉印刷法處理本發明化合物方面，需要本發明化合物的調合物。這些調合物可例如為溶液、分散液或乳膠。欲供此目的，較佳地可使用二或多種溶劑之混合物。適當且較佳之溶劑為例如甲苯、茴香醚、鄰-、間-或對-二甲苯、苯甲酸甲酯、、四氫萘、六甲基二氫化茚、藜蘆醚、THF、甲基-THF、THP、氯苯、二噁烷、苯氧基甲苯(尤其3-苯氧基甲苯)、(-)-葑酮、1,2,3,5-四甲基苯、1,2,4,5-四甲基苯、1-甲基萘、2-甲基苯並噻唑、2-苯氧基乙醇、2-吡咯啶酮、3-甲基茴香醚、4-甲基茴香醚、3,4-二甲基茴香醚、3,5-二甲基茴香醚、苯乙酮、α-萜品醇、苯並噻唑、苯甲酸丁酯、異丙苯、環己醇、環己酮、環己基苯、十氫萘、十二烷基苯、苯甲酸乙酯、二氫化茚、苯甲酸甲酯、NMP、p-異丙基甲苯、苯***、1,4-二異丙基苯、二苄醚、二乙二醇丁基甲基醚、三乙二醇丁基甲基醚、二乙二醇二丁醚、三乙二醇二甲醚、二乙二醇單丁醚、三丙二醇二甲醚、四乙二醇二甲醚、2-異丙基萘、戊基苯、己基苯、庚基苯、辛基苯、1,1-雙(3,4-二甲基苯基)乙烷或這些溶劑之混合物。
因此本發明又進一步提供調合物，其包含本發明化合物或本發明的寡聚物、聚合物或樹枝狀聚合物及至少一種其他化合物。此其他化合物可例如為溶劑。此其他化合物 可另外地為同樣地用於電子裝置中的其他有機或無機化合物，例如基質材料。此其他化合物亦可為聚合性。
用於製備本發明化合物的有用中間體化合物為相應之游離配位基。因此本發明進一步提供下式(63)的化合物：
其中所用之符號及指數具有上文給予之定義。同時，上述用於本發明金屬錯合物的偏好亦相應地應用在式(63)之游離配位基。
上述式(1)化合物及以上詳述之較佳實施態樣可作為電子裝置中的活性組份。因此本發明進一步提供式(1)化合物或根據較佳實施態樣於電子裝置中的用途。
電子裝置要理解係意指包含陽極、陰極及至少一層的任何裝置，該層包含至少一種有機或有機金屬化合物。故本發明之電子裝置包含陽極、陰極及至少一層，該層包含至少一種以上詳述之式(1)的化合物。較佳之電子裝置選自由以下所組成之群組：有機電致發光裝置(OLED、PLED)、有機積體電路(O-IC)、有機場效應電晶體(O-FET)、有機薄膜電晶體(O-TFT)、有機發光電晶體(O-LET)、有機太陽能電池(O-SC)、有機光偵測器、有機光感受器、有機場淬息裝置(O-FQD)、發光電化學池(LEC)及有機雷射二極體(O-laser)，於至少一層中包含至少一種以 上詳述之式(1)化合物。特佳者為有機電致發光裝置。活性組份通常為配置在陽極與陰極之間的有機或無機材料，例如電荷注入材料、電荷傳輸材料或電荷阻斷體材料，但尤其為發光材料及基質材料。本發明化合物於有機電致發光裝置中顯現特別良好之作為發光材料的性質。因此本發明之較佳實施態樣為有機電致發光裝置。此外，本發明化合物亦可用於製造單態氧或用於光催化作用中。
有機電致發光裝置包含陰極、陽極及至少一發光層。除了這些層之外，其亦可又包含其他層，例如每一情況中一或多個電洞注入層、電洞傳輸層、電洞阻斷體層、電子傳輸層、電子注入層、激子阻斷體層、電子阻斷體層、電荷產生層及/或有機或無機p/n接面。同時可能地，一或多個電洞傳輸層為p摻雜型，例如經金屬氧化物(諸如MoO3或WO3)或含(全)氟化之缺電子性芳族系統摻雜，且/或一或多個電子傳輸層為n摻雜型。同樣地可能在兩個發光層之間配置中間層，這些中間層具有例如激子阻斷功能及/或可控制電致發光裝置中的電荷平衡。然而在此應該指出，未必這些層中之每一層都必須存在。
此情況中，可能地有機電致發光裝置含有一個發光層、或者含有複數個發光層。如果存在複數個發光層，則這些較佳地具有數個整體介於380nm與750nm之間的最大發射值，使得整體導致發射白光；另言之，係使用可為螢光或磷光之各種發光化合物於發光層中。尤其較佳者為三層系統，其中該三層顯現藍、綠及橙或紅色之發光(基 礎結構方面參見例如，WO 2005/011013)，或為具有三個以上發光層之系統。所述系統亦可為雜合系統，其中一或多個層為螢光且一或多個其他層為磷光。
本發明之較佳實施態樣中，有機電致發光裝置包含作為一或多個發光層中之發光化合物的式(1)化合物或以上詳述之較佳實施態樣。
當使用式(1)化合物作為發光層中之發光化合物時，其較佳地與一或多種基質材料組合。以發射體及基質材料之整體混合物為基準，式(1)化合物及基質材料之混合物含有0.1體積%至99體積%之間，較佳地1體積%至90體積%之間，更佳地3體積%至40體積%之間，且尤其5體積%至15體積%之間的式(1)化合物。相應地，以發射體及基質材料之整體混合物為基準，所述混合物含有99.9體積%至1體積%之間，較佳地99體積%至10體積%之間、更佳地97體積%至60體積%之間，且尤95體積%至85體積%之間的基質材料。
所用之基質材料通常可為已知之用於根據先前技術目的的任何材料。基質材料的三重態能級較佳地高於發射體的三重態能級。
用於本發明化合物之適當基質材料為酮、氧化膦、亞碸及碸(例如根據WO 2004/013080、WO 2004/093207、WO 2006/005627或WO 2010/006680)、三芳基胺、咔唑衍生物(例如CBP(N,N-雙咔唑基聯苯基)、m-CBP或揭示於WO 2005/039246、US 2005/0069729、JP 2004/288381、 EP 1205527、WO 2008/086851或US 2009/0134784的咔唑衍生物)、吲哚並咔唑衍生物(例如根據WO 2007/063754或WO 2008/056746)、茚並咔唑衍生物(例如根據WO 2010/136109或WO 2011/000455)、氮雜咔唑(例如根據EP 1617710、EP 1617711、EP 1731584、JP 2005/347160)、雙極基質材料(例如根據WO 2007/137725)、矽烷(例如根據WO 2005/111172)、氮雜硼雜環戊烯或硼酸酯(例如根據WO 2006/117052)、二氮雜矽雜噻咯(diazasilole)衍生物(例如根據WO 2010/054729)、二氮雜磷雜環戊二烯(diazaphosphole)衍生物(例如根據WO 2010/054730)、三衍生物(例如根據WO 2010/015306、WO 2007/063754或WO 2008/056746)、鋅錯合物(例如根據EP 652273或WO 2009/062578)、二苯並呋喃衍生物(例如根據WO 2009/148015)、或橋連咔唑衍生物(例如根據US 2009/0136779、WO 2010/050778、WO 2011/042107或WO 2011/088877)。
較佳地亦可使用複數種不同基質材料成為混合物形式，尤其是至少一種電子傳導性基質材料及至少一種電洞傳導性基質材料。較佳組合為例如，使用芳族酮、三衍生物或氧化膦衍生物與三芳基胺衍生物或咔唑衍生物作為用於本發明金屬錯合物之混合基質。同樣地較佳者為使用電荷傳輸基質材料與電惰性基質材料(與電荷傳輸沒有顯著(如果有的話)的牽連)之混合物，如同述於例如WO 2010/108579中者。
進一步較佳地使用二或多種三重態發射體連同基質之 混合物。此情況中，具有較短波發射光譜之三重態發射體係作為具有較長波發射光譜之三重態發射體的共基質。例如，可能地使用本發明式(1)化合物作為供較長波發光三重態發射體例如發綠光或紅光之三重態發射體用的共基質。
本發明化合物亦可用於電子裝置之其他功能中，例如作為電洞注入或傳輸層中之電洞傳輸材料、作為電荷產生材料或作為電子阻斷體材料。同樣可能地使用本發明錯合物作為供發光層中之其他磷光金屬錯合物用之基質材料。
亦可能根據確切結構及取代而以各種功能直接地使用式(63)之游離配位基於電子裝置中，尤其於有機電致發光裝置中。
較佳陰極為具有低功函數的金屬、金屬合金或多層結構，其由各種金屬例如鹼土金屬、鹼金屬、主族金屬或鑭系元素(例如Ca、Ba、Mg、Al、In、Mg、Yb、Sm等等)所組成。此外，適當者為由鹼金屬或鹼土金屬及銀所組成之合金，例如由鎂及銀所組成之合金。在多層結構之情況中，除了所述之金屬之外，亦可能地使用具有相對高功函數的其他金屬例如Ag，在此情況中，通常使用金屬之組合諸如Mg/Ag、Ca/Ag或Ba/Ag。較佳地亦可在金屬陰極與有機半導體之間引入具有高介電常數之材料的薄中間層。供此目的之可用材料實例為鹼金屬或鹼土金屬氟化物，但亦可為相應之氧化物或碳酸鹽(例如LiF、Li2O、BaF2、MgO、NaF、CsF、Cs2CO3等等)。同樣地可用於此 目的者為有機鹼金屬錯合物，例如Liq(喹啉鋰)。此層之層厚度較佳地為0.5至5nm之間。
較佳陽極為具有高功函數的材料。較佳地，陽極具有相對於真空大於4.5eV的功函數。首先，具有高氧化還原電位的金屬適於供此目的，例如Ag、Pt或Au。其次，金屬/金屬氧化物電極(例如Al/Ni/NiOx、Al/PtOx)亦佳。一些應用方面，所述電極中至少一個必須為透明或部分透明的，使能夠進行有機材料的照射(O-SC)或光的發射(OLED/PLED，O-laser)。此處較佳之陽極材料為導電混合型金屬氧化物。提供之特佳者為氧化銦錫(ITO)或氧化銦鋅(IZO)。進一步提供之較佳者為導電性摻雜型有機材料，尤其是導電性摻雜型聚合物，例如PEDOT、PANI或這些聚合物之衍生物。進一步較佳地是在當p摻雜型電洞傳輸材料作為電洞注入層地被施至陽極時，此情況中適當的p摻雜物為金屬氧化物例如MoO3或WO3、或(全)氟化缺電子性芳族系統。其他適當之p摻雜物為HAT-CN(六氫基六氮雜聯伸三苯)或得自Novaled之NPD9。此種層簡化了電洞注入至具有低HOMO的材料中，亦即在大小方面為大HOMO的材料。
其他層中，通常可能地使用根據先前技術用於所述層的任何材料，且熟諳此藝者可以在不運用本發明技能的情況下將電子裝置中的任何這些材料與本發明材料組合。
所述裝置被相應地(根據其應用)結構化、接點連接且最後被密封，因為此些裝置的壽命於水及/或空氣的存在 下嚴重地縮短之故。
額外較佳者為有機電致發光裝置，其特徵在於一或多個層藉由昇華法包覆。此情況中，材料係藉蒸汽沈積法於真空昇華系統中、於典型地小於10-5毫巴、較佳地小於10-6毫巴之起始壓力下施用。亦可能地起始壓力甚至更低或甚至更高，例如小於10-7毫巴。
同樣地較佳者為有機電致發光裝置，其中一或多個層藉OVPD(有機汽相沈積)法或經由載體氣體昇華的協助來塗覆。此情況中，材料係於10-5毫巴至1巴之間的壓力施用。此方法之特別案例為OVJP(有機蒸汽噴印)法，其中所述材料係藉由噴嘴直接施用且因此結構化(例如，M.S.Arnold et al.,Appl.Phys.Lett.2008,92,053301)。
額外地較佳者為有機電致發光裝置，其特徵在於一或多個層係由溶液中例如藉旋塗法或藉任何印刷法例如網版印刷法、柔版印刷法、平版印刷法或噴嘴印刷法，但更佳地LITI(光誘導熱成像法或光轉印法)或噴墨印刷法製得。欲供此目的，需要可溶性化合物，其係例如經由適當之取代而得。
有機電致發光裝置亦可藉由溶液中施加一或多個層及藉蒸汽沈積法施加一或多個其他層而製成雜合系統。例如，可能地由溶液中施加包含式(1)化合物及基質材料之發光層，再藉於減壓下進行蒸汽沈積法將電洞阻斷體層及/或電子傳輸層施加至其上。
這些方法通常為熟諳此藝者已知且可由熟諳此藝者毫 無困難地應用至包含式(1)化合物或以上詳述之較佳實施態樣的有機電致發光裝置。
本發明之電子裝置，尤其有機電致發光裝置，具有顯著之下列一或多個出人意外之優於先前技術的優點：
1. 包含作為發光材料之本發明化合物的有機電致發光裝置具有極良好之壽命。更特別地，此壽命與根據先前技術之類似化合物(其不是式(3)的基團，且相應脂族橋不含雙環或多環結構)相比有所改善。
2. 本發明之金屬錯合物具有極良好之熱安定性。
3. 本發明之金屬錯合物於多種有機溶劑尤其於有機烴中具有優良之溶解度。同時，與不含式(3)之結構單元的類似化合物相比，溶解度獲得顯著改善。此導致錯合物合成期間簡化之純化作用，且導致其於溶液處理法例如印刷法中之OLED的製造中之優良適應性。
4. 本發明之金屬錯合物於空氣及光下具有極高之氧化安定性，故其可能地由溶液中例如藉印刷法，甚至於空氣下處理。
5. 與不含式(3)之結構單元的類似化合物相比，本發明之金屬錯合物具有減少之聚集作用。與不含式(3)之結構單元的類似錯合物相比，此表現出較低之昇華溫度。
這些上述優點並未伴隨其他電子性質的惡化。
本發明藉由下面實例詳細闡述，而不意在藉此限制之。熟諳此藝者可以不運用本發明技能地使用給定的細節以製得本發明之其他電子裝置且因而實施在所申請專利之 整體範圍的本發明。
除非另有指定，否則下列合成法係於保護氣體氣氛下、於乾燥化溶劑中進行。金屬錯合物額外地排除光地或於黃光下處理。溶劑及試劑可購自例如Sigma-ALDRICH或ABCR。方括號中之個別數字及引述個別化合物的號碼係關於文獻中已知之化合物的CAS號。
A：合成子S及配位基L之合成： 實例S1及L1：
類似於G.Abbiati et al.,J.Org.Chem.,2003,68,18,6959。
將73.1g(500mmol)1-四氫萘酮[529-34-0]、44.1g(800mmol)炔丙胺[2450-71-7]及2.9g(10mmol)二氯金酸鈉(sodium dichloroaurate(I))[21534-24-7]之1000ml無水乙醇液於熱壓器中、於130℃攪拌12小時。冷卻後，將乙醇於減壓下移除，再將殘留物置於300ml二氯甲烷中，再通過矽膠床過濾。將濾液濃縮後，將殘留物於減壓下(p約0.05毫巴，T約185℃)蒸餾。產量：58.9g(325mmol)，65%；純度：藉1H NMR測得為約98%。
下列化合物可以類似之方法製得，可能地將粗製產物藉蒸餾法、Kugelrohr蒸餾法、再結晶法或層析法純化：
實例S14：
類似於L.Ren et al.,Green Chemistry,2015,17,2369。
於25℃將35mg(0.1mmol)三氟甲烷磺酸錳(II)[55120-76-8]加至2.0g(10mmol)S12、6.9g(50mmol)過氧化三級丁醇[75-91-2](65重量%之水液)及50ml三級丁醇之混合物中，再將混合物攪拌30小時。將45ml溶劑於減壓下移除，將200ml水加至殘留物中，再將混合物以每次200ml之二氯甲烷萃取三次。將結合之萃取物以 每次200ml之水清洗五次及以每次100ml之飽和氯化鈉溶液清洗兩次，再於硫酸鎂上乾燥。使用移除溶劑後所餘留的油狀物而不必進一步純化。產量：1.7g(7.9mmol)，79%；純度：藉1H NMR測得為約95%。
以類似之方法，可能地由S13中製得S15。產率：76%。
實例S16：
邊良好攪拌地邊將10份各11.2g(375mmol)之重鉻酸鈉二水合物每30分鐘地分次加至45.3g(250mmol)S1、250ml冰醋酸及250ml乙酸酐之混合物中，然後將混合物於室溫攪拌1天及於35℃攪拌3天。然後將黃色懸浮液小心地攪拌(放熱！)至5kg冰中，再攪拌另30分鐘，再將黃色固狀物空吸法濾出，以每次300ml之水清洗五次，再藉空吸法乾燥。將粗製產物溶於500ml二氯甲烷中，再通過矽膠床過濾。將二氯甲烷於減壓下移除，再將固狀物藉以200ml熱甲醇攪拌一次予以萃取。產量：29.9g(143mmol)，57%；純度：藉1H NMR測得為約99%。
以類似之方式，可能地製得下列化合物：
實例S27：
甲醇鈉溶液係由23.0g(1mol)鈉及2000ml甲醇製得。邊攪拌邊將87.1g(500mol)1,3-丙酮二羧酸二甲酯[1830-54-2]加至甲醇鈉溶液中，再將混合物攪拌另10分鐘。然後將41.8g(200mmol)S16以固狀形式加入。於迴流下攪拌16小時後，將甲醇於減壓下移除。將1000ml冰醋酸(小心：泡沫形成！)小心地加至殘留物中，再將60ml水及180ml濃鹽酸加至此棕色溶液中。將反應混合物於迴流下加熱16小時，然後令其冷卻，倒至5kg冰上，邊冷卻邊藉加入固狀氫氧化鈉溶液中和。將沈澱之固狀物以空吸法濾出，以每次300ml之水清洗三次，再於減壓下乾燥。將粗製產物於2000ml二氯甲烷中、於40℃攪拌1小時，然後在仍溫之時通過矽藻土床(Celite bed)過濾以移除不可溶的部分。將二氯甲烷於減壓下移除後，將殘留物於沸騰時溶於100ml二噁烷中，然後將500ml甲醇由80℃開始逐滴加入。冷卻及於室溫攪拌另12小時後，將固狀物以空吸法濾出，以少量甲醇清洗再於減壓下乾燥。產量：29.5g(102mmol)，51%；純度：藉1H NMR測得為約90%。將所得產物轉化而無需進一步純化。
以類似之方式，可能地製得下列化合物：
實例L5：
將28.9g(100mmol)S27、50.1g(1mol)水合肼、67.3g(1.2mol)氫氧化鉀及400ml乙二醇之混合物於迴流下加熱4小時。然後將溫度逐漸增加，再將所形成之水及過量之水合肼於水分離器上蒸餾出。於迴流下16小時後，令反應混合物冷卻，倒至2升水中，再以每次500ml之二氯甲烷萃取三次。將二氯甲烷相以每次300ml之水清洗五次及以每次300ml之飽和氯化鈉溶液清洗兩次，再於硫酸鎂上乾燥。將二氯甲烷於減壓下移除後，將油狀殘留 物於矽膠上以二氯甲烷進行層析(Rf約0.6)。欲進一步純化，所得淺黃色油狀物可進行Kugelrohr蒸餾法或由甲醇中再結晶。產量：12.0g(46mmol)，46%；純度：1H NMR測得約為99%。
以類似之方式，可能地製得下列化合物：
C：金屬錯合物之合成： 1)參-面式均配銥錯合物 實例Ir(L5)3：
變化A：
起初將9.2g(35mmol)配位基L5、4.90g(10mmol)參乙醯丙酮銥(III)[15635-87-7]及100g氫醌[123-31-9]之混合物裝至具有玻璃護套磁芯之500ml二頸圓底燒瓶中。將燒瓶裝備水分離器(用於比水更低密度的介質)及以氬氣覆蓋之空調器。將燒瓶置於金屬加熱浴中。將儀器以氬氣由頂部經由氬氣覆蓋系統吹洗15分鐘，令氬氣流向二頸燒瓶的側頸。經由二頸燒瓶的側頸，將玻璃護套Pt-100熱電偶引至燒瓶中，再將末端放置在恰在磁性攪拌器芯之上。然後將儀器以一些家用鋁箔散繞數層予以熱絕緣，此絕緣達到水分離器之提升管的中部。然後將儀器以加熱的實驗室攪拌器快速加熱至260℃，以浸至熔化之攪拌的反應混合物中的Pt-100熱感器測量。接下來的1.5小時期間，保持反應混合物於260℃，在此過程中將小量之冷凝物蒸餾出，再收集於水分離器中。冷卻至100℃後，將500ml甲醇小心加至熔化塊中，再沸煮直至形成黃色懸浮液為止。將所得黃色懸浮液通過雙端玻璃料(P3)過濾，再將黃色固狀物以100ml甲醇清洗三次，然後於減壓下乾燥。粗製產量：定量。將黃色產物藉以甲苯進行連續熱萃取五次(每一情況中最初裝入的量約150ml，萃取殼筒：來自Whatman之由纖維素所製之標準索氏(Soxhlet)殼筒)同時小心地排除空氣及光予以進一步純化。最後，將產物於高真空下進行分昇華(p約10-5毫巴，T 340℃)。產量：7.6g(7.8mmol)，78%。純度：藉HPLC測得為>99.9%。
變化B：
類似於實例Ir(L5)3、變化A之步驟，惟使用300ml乙二醇[107-21-1]而非100g氫醌，且混合物係於迴流下攪拌48小時。冷卻至70℃後，將混合物以300ml乙醇稀釋，再將固狀物以空吸法(P3)濾出，以每次100ml之乙醇清洗三次再於減壓下乾燥。如變化A地完成進一步之純化。產量：4.4g(4.5mmol)，45%。純度：藉HPLC測得為>99.9%。
變化C：
以[順,反-二氯(雙乙醯丙酮]銥(III)酸鈉作為銥反應物
將10mmol[順,反-二氯(雙乙醯丙酮]銥(III)酸鈉[876296-21-8]及40mmol配位基之100ml乙二醇(或另為丙二醇或二乙二醇)混合液於溫和迴流下、於溫和氬氣流下加熱特定之時間。冷卻至60℃後，邊攪拌邊將混合物以50ml乙醇與50ml 2N鹽酸之混合物稀釋，再攪拌另1小時，然後將沈澱之固狀物以空吸法濾出，以各30ml乙醇清洗三次，然後於減壓下乾燥。如A所述地純化。產量：5.9g(6.1mmol)，61%。純度：藉HPLC測得為>99.9%。
根據變化A、B及C所得之錯合物的純化以及藉重複熱萃取法之純化亦可藉再結晶法或藉層析法達成。
如果使用手性配位基，則所衍生之面式金屬錯合物以 非鏡像異體物混合物形式獲得。比起C1點群之鏡像異構物，C3點群之鏡像異構物Λ,△通常於萃取物中具有低得多之溶解度，因而累積於母液中。以此方式將C3由C1非鏡像異體物中分離出是可能的。此外，非鏡像異體物亦可藉層析法分離。如果使用C1點群之配位基為鏡像異體物純質形式，則結果是C3點群之Λ,△非鏡像異體物對。此非鏡像異體物可藉結晶法或層析法分離且因此以鏡像異體物純化合物形式獲得。
以類似之方式，可能地製得下列化合物：
2)[Ir(L)2Cl]2型之銥錯合物 變化A：
邊良好攪拌邊將22mmol配位基、10mmol氯化銥(III)水合物[876296-21-8]、75ml 2-乙氧基乙醇及25ml水之混合物於迴流下加熱16-24小時。如果配位基於迴流下不完全地溶解於溶劑混合物中，則將1,4-二噁烷加入直至形成溶液為止。冷卻後，將沈澱之固狀物以空吸法濾出，以乙醇/水(1：1，v/v)清洗兩次，然後於減壓下乾燥。將所得之式[Ir(L)2Cl]2的氯二聚物進一步轉化而不必純化。
變化B：
將10mmol雙乙醯丙酮二氯銥酸(III)鈉[876296-21-8] 22mmol配位基L及玻璃護套之磁性攪拌棒藉於減壓(10-5毫巴)下熔化於厚壁100ml玻璃安瓶中並予以密封。氫醌可作為熔化助劑及反應介質地加入。將安瓶於特定的溫度加熱特定的時間，此期間中將熔融混合物經由磁性攪拌棒的協助進行攪拌。冷卻(小心：安瓶通常處於壓力下)後，將安瓶開啟，將燒結塊以100g玻璃珠粒(直徑3mm)於100ml特定之懸浮液(懸浮液介質係選擇使配位基具有良好溶解度但式[Ir(L)2Cl]2之氯二聚物於其中具有微溶性者；典型之懸浮液介質為甲醇、乙醇、二氯甲烷、丙酮、乙酸乙酯、甲苯等等)中攪拌3小時，且於此過程中機械蒸煮。將微懸浮液由玻璃珠粒中傾析出，將此[Ir(L)2Cl]2固體(其仍含有約2當量NaCl，下文稱之為粗製氯二聚物)以空吸法濾出，再於減壓下乾燥。將所得之式[Ir(L)2Cl]2粗製氯二聚物進一步轉化而不必純化。
3)[Ir(L)2(HOMe)2]OTf型之銥錯合物
將5ml甲醇然後10mmol三氟甲烷磺酸銀(I)[2923-28-6]加至5mmol氯二聚物[Ir(L)2Cl]2之150ml二氯甲烷懸浮液中，再將混合物於室溫攪拌18小時。將沈澱之氯化銀(I)以空吸法通過矽藻土床濾出，將濾液濃縮至乾，將黃色殘留物置於30ml甲苯或環己烷中，再將固狀物濾出，以正庚烷清洗再於減壓下乾燥。將所得之式[Ir(L)2(HOMe)2]OTf產物進一步轉化而不必純化。
4)雜配的參-面式銥錯合物：
將10mmol配位基L或L’、10mmol雙(甲醇)雙[2-(2-吡啶基-κN]苯基-κC]銥(III)三氟甲烷磺酸鹽[1215692-14-0]或本發明[Ir(L)2(HOMe)2]OTf型銥錯合物、11mmol 2,6-二甲基吡啶及150ml乙醇之混合物於迴流下加熱40 小時。冷卻後，將沈澱之固狀物以空吸法濾出，以每次30ml乙醇清洗三次，再於減壓下乾燥。將所得粗製產物於矽膠上進行層析(溶劑或其混合物，例如乙酸乙酯、DCM、THF、甲苯、正庚烷、環己烷)，再如同1)變化A所述地進行分昇華。
5)含有Arduengo碳烯型配位基之雜配銥錯合物：
類似於A.G.Tennyson et al.,Inorg.Chem.,2009,48,6924之法製備。
將22mmol配位基先質(咪唑鎓鹽)、10mmol銥氯二聚物[Ir(L)2Cl]2、10mmol氧化銀(I)300ml 1,2-二氯乙烷之混合物於90℃攪拌30小時。冷卻後，將沈澱之固狀物以空吸法通過矽藻土床濾出，再以30ml 1,2-二氯乙烷清洗一次，再將濾液於減壓下濃縮至乾。將所得粗製產物於矽膠上進行層析(溶劑或其混合物，例如乙酸乙酯、二氯甲烷、THF、甲苯、正庚烷、環己烷)，再如同1)變化A 所述地進行分昇華。
6)含有非-o-金屬化配位基L’之Ir(L)2L’型銥錯合物
將25mmol配位基L’、10mmol銥氯二聚物[Ir(L)2Cl]2、30mmol碳酸氫鈉、100ml 2-乙氧基乙醇及30ml水之混合物於90℃攪拌16小時。冷卻後，將沈澱之固狀物以空吸法濾出，以各30ml乙醇清洗三次，再於減壓下乾燥。將所得粗製產物於矽膠上進行層析(溶劑或其混合物，例如乙酸乙酯、二氯甲烷、THF、甲苯、正庚烷、環己烷)或予以再結晶，再如同1)變化A所述地進行分昇華。
7)含有非-o-金屬化配位基L’之PtLL’型鉑錯合物
類似於J.Brooks et al.,Inorg.Chem.2002,41,3055之法製備。
將20mmol配位基L、10mmol K2PtCl4、75ml 2-乙氧基乙醇及25ml水之混合物於迴流下加熱16小時。冷卻及將100ml水加入後，將沈澱之固狀物以空吸法濾出，30ml水清洗一次再於減壓下乾燥。將所得式[PtLCl]2 鉑氯二聚物懸浮於100ml 2-乙氧基乙醇中，將30mmol配位基L’及50mmol碳酸鈉加入，再將反應混合物於100℃攪拌16小時，然後於減壓下濃縮至乾。將所得粗製產物於矽膠上進行層析(溶劑或其混合物，例如乙酸乙酯、二氯甲烷、THF、甲苯、正庚烷、環己烷)或予以再結晶，再如同1)變化A所述地進行分昇華。
熱安定性之比較
熱安定性之比較方面，將各50mg化合物Ir(L1)3(根據EP 1400514之比較實例)及Ir(L5)3、以及Ir200(比較實 例)及Ir202於玻璃安瓶中、於減壓下(p約10-5毫巴)熔化且予以密封，然後排除光地加熱至350℃ 14天。熱處理結束後，藉以眼睛目測評估及藉HPLC-MS以檢查樣品之變化。本發明錯合物Ir(L5)3及Ir202於熱處理結束後以眼睛目測評估並未出現變化。經由HPLC-MS的協助未偵測到任何變化。錯合物Ir(L1)3及Ir200(比較實例)已呈現橙棕色的變色。經由HPLC-MS的協助，偵測到數量約0.5%(數個物種)的分解。分解峰的質量(M+ -2H及M+ -4H)顯示有一部分之二氫苯並[h]喹啉配位基藉由消氫反應(脫氫反應)轉化成苯並[h]喹啉配位基。此熱分解對OLED建構而言是有高度問題的，因為藉脫氫反應形成之錯合物同樣地於OLED中具發射性但於相較於起始錯合物發射長得多的波長，使得OLED組件於系統操作之過程中可能產生色彩偏移。
光化學安定性之比較
將1毫莫耳Ir(L1)3(比較實例)及Ir(L5)3之甲苯溶液於試管中、於空氣及日光下靜置10小時。其後，藉薄層層析法(矽膠盤，洗提液：甲苯：二氯甲烷9：1)檢查樣品。與原始樣品相比，Ir(L5)3未顯現變化。Ir(L1)3(比較實例)之層析顯現數種第二組份(起始斑點及具有Rf低於樣品者之兩個斑點)，其並未在原始材料中觀察到。根據NMR研究，比較錯合物之不安定性可歸因於二氫苯並[h]喹啉配位基之CH2基與三重態敏化所產生之單態氧的反 應，形成氧化產物(氫過氧化物、醇、酮)。這些氧化產物對由溶液中於標準實驗室條件下處理所得之OLED組件的性質(例如組件壽命)具有不利的效應。
OLED的製造 1)真空處理裝置
本發明之OLED及根據先前技術之OLED係藉由根據WO 2004/058911之一般方法製得，此一般方法被改編成此處所述的情況(所用之層厚度、材料之變化)。
下面實例中，呈現各種OLED之結果。玻璃飾板連同結構化ITO(50nm，氧化銦錫)形成其中OLED施加至其上的基板。OLED基本上具有以下之層結構：基板/電洞傳輸層1(HTL1)(由摻雜3% NDP-9(市售得自Novaled)之HTM所組成)，20nm/電洞傳輸層2(HTL2)/隨意之電子阻斷體層(EBL)/發光層(EML)/隨意之電洞阻斷體層(HBL)/電子傳輸層(ETL)/隨意之電子注入層(EIL)及最終之陰極。此陰極係由厚度100nm之鋁層所形成。
首先說明真空處理OLED。欲達此目的，所有材料均藉熱蒸汽沈積法於真空室中施加。此情況中，發光層通常是由至少一個基質材料(host material)及加至此基質材料中的發光摻雜劑(發射體)以特定之體積比例藉共蒸發法所組成。以諸如M3：M2：Ir(L1)3(55%：35%：10%)形式提供之細節在此處意指材料M3係以55體積%之比例、M2以35體積%之比例且Ir(L1)3以10體積%之比例存在於層 中。類似地，電子傳輸層亦可由兩種材料之混合物所組成。OLED之確切結構可見於表1中。用於製造OLED的材料示於表3中。
OLED以標準方法特徵化。欲達此目的，乃將電致發光光譜、功率效率(以cd/A測得)及電壓(於1000cd/m2以V測得)由電流-電壓-亮度特徵(IUL特徵)中測得。針對選定之實驗，測定其壽命。壽命係定義為使發光度由特定的起始發光度降落到某一比例後的時間。數字LD50意指此特定的壽命為使發光度掉到起始發光度之50%，亦即例如由1000cd/m2掉落到500cd/m2的時間。根據發光顏色，選擇不同的起始亮度。經由熟諳此藝者已知之轉化公式的協助，其他起始發光度之壽命值可轉換成數字。此上下文中，以起始發光度1000cd/m2的壽命為標準數字。
本發明化合物於磷光OLED中作為發射體材料之用途
本發明化合物之一用途為於OLED發光層中作為磷光發射體材料。根據表4之銥化合物係作為根據先前技術之比較。OLED的結果整理於表2中。
2)以可溶性功能材料製成之溶液處理裝置
本發明之錯合物亦可由溶液中處理，此情況導致OLED在處理技術方面比真空處理之OLED簡單得多，不過仍具有良好的性質。此組件的製造係以聚合型發光二極體(PLED)的製造為基準，其已在文獻中描述多次(例如於WO 2004/037887中)。此結構係由基板/ITO/PEDOT(80 nm)/中間層(80nm)/發光層(80nm)/陰極所組成。欲達此目的，使用得自Technoprint的基板(鈉鈣玻璃)，其中ITO結構(氧化銦錫，透明導電性陽極)乃施加至其上。將基板於清潔室中以去離子水及清潔劑(Deconex 15 PF)清潔，然後藉UV/臭氧電漿處理法予以活化。其後，同樣地於清潔室中，將作為緩衝層之80nm PEDOT層(PEDOT為來自H.C.Starck,Goslar之聚噻吩衍生物(Baytron P VAI 4083 sp.)，其以水性分散液形式供應)藉旋塗法施加。所需之轉速依稀釋程度及特定之旋塗器幾何學而定(80nm之典型值為4500rpm)。欲由層中移除殘留之水，乃將基材於熱盤上、於180℃烘烤10分鐘。所用之中間層用於電洞注入；此情況中，使用來自Merck之HIL-012。中間層亦可另外地被一或多個層替代，該一或多個層僅必須符合不會在後續處理步驟中將EML沈積物由溶液中再度瀝濾出的條件。在製造發光層方面，將本發明之發射體連同基質材料一起溶於甲苯中。如同在此處，當欲藉由旋塗法達成裝置典型之80nm層厚度時，此溶液之典型固體含量在16至25g/l之間。第1型溶液處理裝置含有由(聚苯乙烯)：M5：M6：Ir(L)3(20%：30%：40%：10%)所組成之發光層；第2型裝置含有由(聚苯乙烯)：M5：M6：Ir(L204)3：Ir(L)3(20%：20%：40%：15%：5%)所組成之發光層。於惰性氣氛中(在此情況於氬中)旋塗發光層，再於130℃烘烤30分鐘。最後，藉蒸汽沈積法施加由鋇(5nm)然後鋁(100nm)所組成之陰極(得自Aldrich之高純度金 屬，尤其鋇99.99%(型號474711)；來自Lesker等等之蒸汽沈積系統，典型之蒸汽沈積壓力5×10-6毫巴)。隨意可能地首先將電洞阻斷體層，然後電子傳輸層，然後再僅陰極(例如Al或LiF/Al)藉於減壓下進行蒸汽沈積法施加。欲保護裝置免於空氣及空氣濕度，最後封裝裝置，然後特徵化。所引述之OLED實例尚待最適化；表3總結所得數據。

Claims (16)

  1. 一種式(1)化合物，M(L)n(L’)m 式(1)其含有式(2)之子結構M(L)n： 其中所用之符號及指數如下：M為銥或鉑；CyC為式(CyC)之結構： 其中該基團於標識#的位置結合至CyN且於標識*的位置配位至M，且該含有Y及Z之雙環基鍵結至標識o的位置；CyN為式(CyN)之結構： 其中該基團於標識#的位置結合至CyC且於標識*的位置配位至M，且該含有Y及Z之雙環基鍵結至標識o的位置；X於每一情況為相同或不同且為CR或N，前提是CyC中至多兩個符號X及CyN中至多兩個符號X為N； Y於每一情況為相同或不同且為CR2或O，前提是當y>1時，無氧原子直接地彼此鍵結；Z於每一情況為相同或不同且為CR2或O，前提是當z>1時，無氧原子直接地彼此鍵結；R於每一情況為相同或不同且為H、D、F、Cl、Br、I、N(R1)2、CN、NO2、OH、COOR1、C(=O)N(R1)2、Si(R1)3、B(OR1)2、C(=O)R1、P(=O)(R1)2、S(=O)R1、S(=O)2R1、OSO2R1、具1至20個碳原子之直鏈烷基、烷氧基或烷硫基或具2至20個碳原子之烯基或炔基或具3至20個碳原子之支鏈或環狀烷基、烷氧基或烷硫基(各者分別可被一或多個R1基取代，其中一或多個非相鄰CH2基可被R1C=CR1、R1C=N、C≡C、Si(R1)2、C=O、NR1、O、S或CONR1替代且其中一或多個氫原子可被D、F、Cl、Br、I或CN替代)、或具有5至40個芳族環原子且於每一情況中可被一或多個R1基取代之芳族或雜芳族環系統、或具有5至40個芳族環原子且可被一或多個R1基取代之芳氧基或雜芳氧基、或具有5至40個芳族環原子且可被一或多個R1基取代之芳烷基或雜芳烷基、或具有10至40個芳族環原子且可被一或多個R1基取代之二芳基胺基、二雜芳基胺基或芳基雜芳基胺基；同時，兩個相鄰R基亦可一起形成單或多環之脂族、芳族或雜芳族環系統；R1於每一情況為相同或不同且為H、D、F、Cl、Br、I、N(R2)2、CN、NO2、Si(R2)3、B(OR2)2、C(=O)R2、 P(=O)(R2)2、S(=O)R2、S(=O)2R2、OSO2R2、具1至20個碳原子之直鏈烷基、烷氧基或烷硫基或具2至20個碳原子之烯基或炔基或具3至20個碳原子之支鏈或環狀烷基、烷氧基或烷硫基(各者分別可被一或多個R2基取代，其中一或多個非相鄰CH2基可被R2C=CR2、R2C=N、C≡C、Si(R2)2、C=O、NR2、O、S或CONR2替代且其中一或多個氫原子可被D、F、Cl、Br、I、CN或NO2替代)、或具有5至40個芳族環原子且於每一情況中可被一或多個R2基取代之芳族或雜芳族環系統、或具有5至40個芳族環原子且可被一或多個R2基取代之芳氧基或雜芳氧基、或具有5至40個芳族環原子且可被一或多個R2基取代之芳烷基或雜芳烷基、或具有10至40個芳族環原子且可被一或多個R2基取代之二芳基胺基、二雜芳基胺基或芳基雜芳基胺基；同時，二或多個相鄰R1基可一起形成單或多環之脂族、芳族或雜芳族環系統；R2於每一情況為相同或不同且為H、D、F或具1至20個碳原子之脂族、芳族及/或雜芳族有機基，其中一或多個氫原子亦可被F替代；同時，二或多個R2取代基亦可一起形成單或多環系統；L’於每一情況為相同或不同且為配位基；y於每一情況為相同或不同且為1、2、3、4、5、6或7；z於每一情況為相同或不同且為1、2、3、4、5、6或7； n為1、2或3；m為0、1、2、3或4；同時，亦可能地二或多個配位基L連接一起，或者L藉由單鍵或二價橋或三價橋連接至L’，如此形成三牙、四牙、五牙或六牙配位基系統；此外亦可能地，取代基R額外地配位至M。
  2. 根據申請專利範圍第1項之化合物，其中該式(CyC)的基團係選自式(CyC-1)至(CyC-5)之結構，且該式(CyN)的基團係選自式(CyN-1)至(CyN-3)之結構： 其中R具有申請專利範圍第1項所給予之定義。
  3. 根據申請專利範圍第1或2項之化合物，其中該式(CyC)的基團係選自式(CyC-1a)至(CyC-1k)及(CyC-2a)至(CyC-5a)之結構，且該式(CyN)的基團係選自式(CyN-1a)至(CyN-1c)及(CyN-2a)之結構： 其中所用的符號具有申請專利範圍第1或2項所給予之定義，且R及R1基團彼此並未形成芳族或雜芳族環系統，且W於每一情況為相同或不同且為NR1、O或S。
  4. 根據申請專利範圍第1項之化合物，其中該式(2)的結構為式(2a)的結構： 其中所用之該符號及指數具有申請專利範圍第1項所給予之定義。
  5. 根據申請專利範圍第1項之化合物，其中Y及Z於每一情況為相同或不同且為CR2。
  6. 根據申請專利範圍第1項之化合物，其中該指數y及z於每一情況為相同或不同且為1、2、3或4。
  7. 根據申請專利範圍第1項之化合物，其中當X=CR時，鍵結至相應碳原子之該R基於每一情況為相同或不同且選自由以下所組成之群組：H、D、F、Br、I、N(R1)2、CN、Si(R1)3、B(OR1)2、C(=O)R1、具1至10個碳原子之直鏈烷基或具2至10個碳原子之烯基或具3至10個碳原子之支鏈或環狀烷基(各者分別可被一或多個R1基取代，其中一或多個氫原子可被D或F替代)、或具有5至24個芳族環原子且可於每一情況中被一或多個R1基取代之芳族或雜芳族環系統；同時，二個較佳地相鄰之R基一起或者R與R1一起亦可形成環系統，且其中當Y及/或Z=CR2時，鍵結至相應碳原子之該R基於每一情況為相同或不同且選自由以下所組成之群組：H、D、F、具1至10個碳原子且可被一或多個R1基 取代之直鏈烷基、具3至10個碳原子且可被一或多個R1基取代之支鏈或環狀烷基、或具6至13個芳族環原子且可於每一情況中被一或多個R1基取代之芳族或雜芳族環系統；同時，二或多個R基亦可一起形成環系統。
  8. 根據申請專利範圍第1項之化合物，其中L’為雙牙單離子配位基。
  9. 根據申請專利範圍第8項之化合物，其中L’係選自由1,3-二酮衍生之1,3-二酮化物、由3-酮酯衍生之3-酮化物、由胺基羧酸衍生之羧酸根、及連同M為具有至少一個金屬-碳鍵之環金屬化五員環或六員環之配位基。
  10. 一種製備根據申請專利範圍第1至9項中任一項化合物之方法，其係藉將游離配位基L及隨意地L’與式(58)之金屬醇鹽、與式(59)之金屬酮基酮化物、與式(60)之金屬鹵化物、與式(61)之二聚合的金屬錯合物、或與式(62)之金屬錯合物、或與帶有醇鹽及/或鹵化物及/或羥基團且帶有酮基酮化物基團二者之金屬化合物反應 其中所用之該符號及指數具有申請專利範圍第1項所 給予之定義，Hal=F、Cl、Br或I，L”為醇或腈，且(Anion)為未配位陰離子。
  11. 一種含有一或多種根據申請專利範圍第1至9項中任一項之化合物的寡聚物、聚合物或樹枝狀聚合物，其中存在有一或多個該化合物鍵結至該聚合物、寡聚物或樹枝狀聚合物的鍵。
  12. 一種調合物，其包含根據申請專利範圍第1至9項中任一項之化合物或根據申請專利範圍第11項之寡聚物、聚合物或樹枝狀聚合物及至少一種另外之化合物。
  13. 一種式(63)的化合物， 其中所用之該符號及指數具有申請專利範圍第1項所給予之定義。
  14. 一種根據申請專利範圍第1至9項或13項中任一項之化合物、或根據申請專利範圍第11項之寡聚物、聚合物或樹枝狀聚合物之用途，其係用於電子裝置或用於單態氧之產生或用於光催化作用。
  15. 一種電子裝置，其包括根據申請專利範圍第1至9項或13項中任一項之化合物、或根據申請專利範圍第11項之寡聚物、聚合物或樹枝狀聚合物。
  16. 根據申請專利範圍第15項之電子裝置，其為有機 電致發光裝置，其中該根據申請專利範圍第1至9項中任一項之化合物係用作為一或多個發光層中之發光化合物。
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