TW201702737A - 感光性樹脂組成物、保護膜及元件 - Google Patents

感光性樹脂組成物、保護膜及元件 Download PDF

Info

Publication number
TW201702737A
TW201702737A TW104122367A TW104122367A TW201702737A TW 201702737 A TW201702737 A TW 201702737A TW 104122367 A TW104122367 A TW 104122367A TW 104122367 A TW104122367 A TW 104122367A TW 201702737 A TW201702737 A TW 201702737A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
weight
parts
photosensitive resin
compound
resin composition
Prior art date
Application number
TW104122367A
Other languages
English (en)
Inventor
黃偉杰
吳明儒
施俊安
Original Assignee
奇美實業股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 奇美實業股份有限公司 filed Critical 奇美實業股份有限公司
Priority to TW104122367A priority Critical patent/TW201702737A/zh
Priority to CN201610447935.3A priority patent/CN106338888A/zh
Publication of TW201702737A publication Critical patent/TW201702737A/zh

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/008—Azides
    • G03F7/0085—Azides characterised by the non-macromolecular additives

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

一種感光性樹脂組成物，包括鹼可溶樹脂(A)、鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)以及溶劑(C)，其中鹼可溶樹脂(A)是由不飽和羧酸或不飽和羧酸酐化合物(a1)、含環氧基之不飽和單體(a2)、由式(I)表示之不飽和單體(a3)及其他不飽和單體(a4)所共聚合而得： □在式(I)中，A為二價脂環族烴基，L1及L2各自獨立為單鍵、C1-C5二價烴基或經鹵素原子取代之C1-C5二價烴基，R為氫原子或甲基，Y1為-OH或-COOH。以前述感光性樹脂組成物製作的保護膜具有良好耐熱透光率。

Description

感光性樹脂組成物、保護膜及元件
本發明係有關於一種感光性樹脂組成物，且特別是有關於一種用以在元件中形成具有良好之耐熱透光率的保護膜的感光性樹脂組成物。
一般而言，製造液晶顯示元件或固態成像裝置等光學元件包含條件嚴苛之處理程序，例如以浸泡酸性溶劑或鹼性溶液之處理方式或以濺鍍(sputtering)之處理方式形成配線電極層時，基板表面會造成局部腐蝕或產生高溫。
因此，為了防止元件表面之元件受損，元件之表面須鋪設保護膜。保護膜須與基板具有優異之附著力，且須具有高透明度、高表面硬度與平滑的表面。保護膜亦應具有高耐熱性與耐光性，以於長期使用下不致有變色、黃化或白化等變質情況發生。此外，保護膜還需具有良好的耐水性、耐化性、耐溶劑性、耐酸性及耐鹼性等特性。
儘管已針對前述所需特性提出種種用於製作保護膜的感光性樹脂組成物，然而以習知的感光性樹脂組成 物製成的保護膜，仍有耐熱透光率不佳之問題，有待改善。
因此，本發明之一態樣是在提供一種感光性樹脂組成物，此感光性樹脂組成物包括鹼可溶性樹脂(A)、鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)以及溶劑(C)，其中各個成分將於下文進行詳細說明。以此種感光性樹脂組成物來製作保護膜時，可得到具有良好耐熱透光率的保護膜。
本發明之另一態樣在於提供一種保護膜，其利用前述的感光性樹脂組成物所製得。
本發明之又一態樣在於提供一種元件，包括前述的保護膜。
根據本發明之上述態樣，提出一種感光性樹脂組成物。此感光性樹脂組成物包含鹼可溶性樹脂(A)、鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)以及溶劑(C)。以下析述之。
在本文中，如果沒有特別指明某一基團是否經過取代，則該基團可表示經取代或未經取代的基團。例如，「烷基」可表示經取代或未經取代的烷基。另外，對某一基團冠以「CX」來描述時，表示該基團具有X個碳原子。另外，在本文中，有時以鍵線式(skeleton formula)表示化合物的(部份)結構。這種表示法可以省略碳原子、氫原子以及碳氫鍵。若結構式中已明確繪出原子或原子基團，則以繪示者為準。
感光性樹脂組成物 鹼可溶性樹脂(A)
本發明之鹼可溶性樹脂(A)係指可溶於鹼性水溶液中的樹脂，其構造並無特別限制，較佳地，鹼可溶性樹脂(A)例如可為具有羧酸基之樹脂。具體而言，鹼可溶性樹脂(A)可由一混合物於適當之聚合起始劑存在下所共聚合而得。
前述混合物可包含不飽和羧酸或不飽和羧酸酐化合物(a1)、含環氧基之不飽和單體(a2)、由式(I)表示之不飽和單體(a3)及其他不飽和單體(a4)。
不飽和羧酸或不飽和羧酸酐化合物(a1)
不飽和羧酸或不飽和羧酸酐化合物(a1)可為包含羧酸基或羧酸酐結構，以及用於聚合鍵結之不飽和鍵的化合物。不飽和羧酸或不飽和羧酸酐化合物(a1)之結構並無特別限制，且不飽和羧酸或不飽和羧酸酐化合物(a1)可包含但不限於不飽和單羧酸化合物、不飽和二羧酸化合物、不飽和酸酐化合物、多環型不飽和羧酸化合物、多環型不飽和二羧酸化合物或多環型不飽和酸酐化合物等。
前述不飽和單羧酸化合物之具體例可包含但不限於(甲基)丙烯酸、丁烯酸、α-氯丙烯酸、乙基丙烯酸、肉桂酸、2-(甲基)丙烯醯乙氧基丁二酸酯[2-(meth)acryloyloxyethyl succinate monoester]、2-(甲 基)丙烯醯乙氧基六氫化苯二甲酸酯、2-(甲基)丙烯醯乙氧基苯二甲酸酯或omega-羧基聚己內酯多元醇單丙烯酸酯(如東亞合成製造之商品，且其型號為ARONIX M-5300)等。
前述不飽和二羧酸化合物之具體例可包含但不限於馬來酸、富馬酸、甲基富馬酸、衣康酸或檸康酸等。
前述之不飽和酸酐化合物可為不飽和二羧酸化合物之酸酐化合物。
前述多環型不飽和羧酸化合物之具體例可包含但不限於5-羧基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-5-甲基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-5-乙基雙環[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-6-甲基雙環[2.2.1]庚-2-烯或5-羧基-6-乙基雙環[2.2.1]庚-2-烯。
前述多環型不飽和二羧酸化合物之具體例可包含但不限於5,6-二羧酸二環[2.2.1]庚-2-烯。
前述多環型不飽和酸酐化合物可為多環型不飽和二羧酸化合物之酸酐化合物。
前述不飽和羧酸或不飽和羧酸酐化合物(a1)可單獨一種使用或混合多種使用。
較佳地，不飽和羧酸或不飽和羧酸酐化合物(a1)之具體例可為丙烯酸、甲基丙烯酸、馬來酸酐、2-甲基丙烯醯乙氧基丁二酸酯或2-甲基丙烯醯基乙氧基六氫化苯二甲酸。
基於不飽和羧酸或不飽和羧酸酐化合物(a1)、 含環氧基之不飽和單體(a2)、由式(I)表示之不飽和單體(a3)及其他不飽和單體(a4)之總使用量為100重量份，不飽和羧酸或不飽和羧酸酐化合物(a1)之使用量可為10重量份至30重量份，較佳為15重量份至30重量份，且更佳可為15重量份至25重量份。
含環氧基之不飽和單體(a2)
含環氧基之不飽和單體(a2)可包含具有環氧基之(甲基)丙烯酸酯化合物、具有環氧基之α-烷基丙烯酸酯化合物或環氧丙醚化合物等。
前述具有環氧基之(甲基)丙烯酸酯化合物的具體例可包含但不限於(甲基)丙烯酸環氧丙酯、(甲基)丙烯酸2-甲基環氧丙酯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧丁酯、(甲基)丙烯酸6,7-環氧庚酯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧環己酯或(甲基)丙烯酸3,4-環氧環己基甲酯等。
前述具有環氧基之α-烷基丙烯酸酯化合物的具體例可包含但不限於α-乙基丙烯酸環氧丙酯、α-正丙基丙烯酸環氧丙酯、α-正丁基丙烯酸環氧丙酯或α-乙基丙烯酸6,7-環氧庚酯等。
前述環氧丙醚化合物之具體例可包含但不限於鄰-乙烯基苯甲基環氧丙醚(o-vinylbenzylglycidylether)、間-乙烯基苯甲基環氧丙醚(m-vinyl-benzylglycidylether)或對-乙烯基苯甲基環氧丙醚(p-vinylbenzylglycidylether)等。
前述含環氧基之不飽和單體(a2)可單獨一種使用或混合多種使用。
較佳地，含環氧基之不飽和單體(a2)的具體例可為甲基丙烯酸環氧丙酯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧環己基甲酯、甲基丙烯酸6,7-環氧庚酯、鄰-乙烯基苯甲基環氧丙醚、間-乙烯基苯甲基環氧丙醚或對-乙烯基苯甲基環氧丙醚。
基於不飽和羧酸或不飽和羧酸酐化合物(a1)、含環氧基之不飽和單體(a2)、由式(I)表示之不飽和單體(a3)及其他不飽和單體(a4)之總使用量為100重量份，含環氧基之不飽和單體(a2)之使用量可為25重量份至45重量份，較佳為30重量份至45重量份，且更佳可為30重量份至40重量份。
由式(I)表示之不飽和單體(a3)
不飽和單體(a3)是具有(甲基)丙烯醯氧基、脂環結構以及羥基和羧基兩者之一的不飽和單體。不飽和單體(a3)可由式(I)表示：
在式(I)中，A為二價脂環族烴基，L1及L2各自獨立為單鍵、C1-C5二價烴基或經鹵素原子取代之C1-C5二價 烴基，R為氫原子或甲基，Y1為-OH或-COOH。
較佳的實施例中，L1可為二價烷基；L2亦可為二價烷基；A可為具有環戊烷結構、環己烷結構、降冰片烷結構、三環癸烷結構或金剛烷結構的二價基團。
不飽和單體(a3)的具體例可以是下列式I-01到式I-34所示的化合物：
當鹼可溶性樹脂(A)之共聚合用單體中不包括由式(I)表示之不飽和單體(a3)時，由感光性樹脂組成物製得之保護膜的耐熱透光率不佳。
基於不飽和羧酸或不飽和羧酸酐化合物(a1)、含環氧基之不飽和單體(a2)、由式(I)表示之不飽和單體(a3)及其他不飽和單體(a4)之總使用量為100重量份，該由式(I)表示之不飽和單體(a3)的使用量可為5重量份至20重量份，較佳為8重量份至20重量份，且更佳為8重量份至15重量份；當由式(I)表示之不飽和單體(a3)的使用量為5重量份至20重量份時，由本發明之感光性樹脂組成物製作的保護膜具有較佳的耐熱透光率。
其他不飽和單體(a4)
其他不飽和單體(a4)可為(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸脂環族酯、(甲基)丙烯酸芳基酯、不飽和二羧酸二酯、(甲基)丙烯酸羥烷酯、(甲基)丙烯酸酯之聚醚、芳香乙烯化合物，或者前述化合物以外之其他不飽和化合物。
前述(甲基)丙烯酸烷基酯之具體例可包含但不限於(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸二級丁酯或(甲基)丙烯酸三級丁酯等。
前述(甲基)丙烯酸脂環族酯之具體例可包含但 不限於(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸-2-甲基環己酯、三環[5.2.1.02,6]癸-8-基(甲基)丙烯酸酯(亦可稱之為(甲基)丙烯酸雙環戊酯)、(甲基)丙烯酸二環戊氧基乙酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯或(甲基)丙烯酸四氫呋喃酯等。
前述(甲基)丙烯酸芳基酯之具體例可包含但不限於(甲基)丙烯酸苯基酯或甲基丙烯酸苯甲酯等。
前述不飽和二羧酸二酯之具體例可包含但不限於馬來酸二乙酯、富馬酸二乙酯或衣康酸二乙酯等。
前述(甲基)丙烯酸羥烷酯之具體例可包含但不限於(甲基)丙烯酸-2-羥基乙酯或(甲基)丙烯酸-2-羥基丙酯等。
前述(甲基)丙烯酸酯之聚醚的具體例可包含但不限於聚乙二醇單(甲基)丙烯酸酯或聚丙二醇單(甲基)丙烯酸酯等。
前述芳香乙烯化合物之具體例可包含但不限於苯乙烯、α-甲基苯乙烯、間-甲基苯乙烯，對-甲基苯乙烯或對-甲氧基苯乙烯等。
前述其他不飽和化合物的具體例可包含但不限於丙烯腈、甲基丙烯腈、氯乙烯、偏二氯乙烯、丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺、乙烯乙酯、1,3-丁二烯、異戊二烯、2,3-二甲基1,3-丁二烯、N-環己基馬來醯亞胺、N-苯基馬來醯亞胺、N-芐基馬來醯亞胺、N-丁二醯亞胺基-3-馬來醯亞胺苯甲酸酯、N-丁二醯亞胺基-4-馬來醯亞胺丁酸 酯、N-丁二醯亞胺基-6-馬來醯亞胺己酸酯、N-丁二醯亞胺基-3-馬來醯亞胺丙酸酯或N-(9-吖啶基)馬來醯亞胺等。
其他不飽和單體(a4)可單獨一種使用或混合多種使用。
前述其他不飽和單體(a4)之具體例較佳可為(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸苯甲酯、(甲基)丙烯酸雙環戊酯、(甲基)丙烯酸二環戊氧基乙酯、苯乙烯或對-甲氧基苯乙烯。
當鹼可溶性樹脂(A)之共聚合用單體(a4)中包括(甲基)丙烯酸羥烷酯時，由感光性樹脂組成物製得之保護膜的耐熱透光率較佳。
基於不飽和羧酸或不飽和羧酸酐化合物(a1)、含環氧基之不飽和單體(a2)、由式(I)表示之不飽和單體(a3)及其他不飽和單體(a4)之總使用量為100重量份，其他不飽和單體(a4)之使用量可為5重量份至60重量份，較佳為5重量份至47重量份，且更佳為20重量份至47重量份。
製備鹼可溶性樹脂(A)時所用的溶劑包含但不限於(1)醇類化合物：甲醇、乙醇、苯甲醇、2-苯乙醇，或3-苯基-1-丙醇等；(2)醚類化合物：四氫呋喃等；(3)二醇醚類化合物：乙二醇單丙醚、乙二醇單甲醚、乙二醇單***等；(4)乙二醇烷基醚醋酸酯：乙二醇丁醚醋酸酯、乙二 醇***醋酸酯、乙二醇甲醚醋酸酯等；(5)二乙二醇類化合物：二乙二醇單甲醚、二乙二醇單***、二乙二醇單丁醚、二乙二醇二甲醚(diethylene glycol dimethyl ether)、二乙二醇二***、二乙二醇甲***等；(6)二丙二醇類化合物：二丙二醇單甲醚、二丙二醇單***、二丙二醇二甲醚、二丙二醇二***、二丙二醇甲***等；(7)丙二醇單烷基醚類化合物：丙二醇單甲醚、丙二醇單***、丙二醇單丙醚、丙二醇單丁醚等；(8)丙二醇烷基醚醋酸酯類化合物：丙二醇甲醚醋酸酯(Propylene glycol monomethyl ether acetate)、丙二醇***醋酸酯、丙二醇丙醚醋酸酯、丙二醇丁醚醋酸酯等；(9)丙二醇烷基醚丙酸酯類化合物：丙二醇甲醚丙酸酯、丙二醇***丙酸酯、丙二醇丙醚丙酸酯、丙二醇丁醚丙酸酯等；(10)芳香烴類化合物：甲苯、二甲苯等；(11)酮類化合物：甲乙酮、環己酮、二丙酮醇等；(12)酯類化合物：乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、2-羥基丙酸乙酯、2-羥基-2-甲基丙酸甲酯、2-羥基-2-甲基丙酸乙酯、羥乙酸甲酯、羥乙酸乙酯、羥乙酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸丙酯、乳酸丁酯、3-羥基丙酸甲酯、3-羥基丙酸乙酯、3-羥基丙酸丙酯、3-羥基丙酸丁酯、2-羥基-3-甲基丁酸甲酯、甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯、乙氧基乙酸丙酯、乙氧基乙酸丁酯、丙氧基乙酸甲酯、丙氧基乙酸乙酯、丙氧基乙酸丙酯、丙氧基乙酸丁酯、丁氧基乙酸甲酯、丁氧基乙酸乙 酯、丁氧基乙酸丙酯、丁氧基乙酸丁酯、3-甲氧基丁基乙酸酯、2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-甲氧基丙酸丁酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸丁酯、2-丁氧基丙酸甲酯、2-丁氧基丙酸乙酯、2-丁氧基丙酸丙酯、2-丁氧基丙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸丙酯、3-甲氧基丙酸丁酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸丙酯、3-乙氧基丙酸丁酯、3-丙氧基丙酸甲酯、3-丙氧基丙酸乙酯、3-丙氧基丙酸丙酯、3-丙氧基丙酸丁酯、3-丁氧基丙酸甲酯、3-丁氧基丙酸乙酯、3-丁氧基丙酸丙酯、3-丁氧基丙酸丁酯等。
較佳地，製備鹼可溶性樹脂(A)時所用的溶劑是選自於二乙二醇二甲醚或丙二醇甲醚醋酸酯。此溶劑可單獨或混合使用。
製備鹼可溶性樹脂(A)時所使用的聚合起始劑包含但不限於偶氮化合物或過氧化物，可單獨或混合使用。
偶氮化合物例如但不限於：2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)[2,2'-Azobis(2,4-dimethylvaleronitrile)]、2,2’-偶氮雙(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮雙-2-甲基丁腈[2,2'-azobis-2-methyl butyronitrile]、4,4’-偶氮雙(4-氰基戊酸)、二甲基2,2’-偶氮雙(2-甲基丙酸酯)、2,2’-偶氮雙(4-甲氧基- 2,4-二甲基戊腈)等。
過氧化物例如但不限於：過氧化二苯甲醯、過氧化十二醯、叔丁基過氧化叔戊酸酯、1,1-雙(叔丁基過氧化)環己烷、過氧化氫等。
鹼可溶性樹脂(A)之分子量的調整，可透過使用單一種樹脂，或併用可使用兩種或兩種以上不同分子量之樹脂。較佳地，鹼可溶性樹脂(A)之重量平均分子量為3,000至100,000；又較佳地為4,000至80,000；更佳地為5,000至60,000。
鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)
本發明之感光性樹脂組成物中的鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)沒有特別的限制，可選用一般所使用的產品。鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)可為完全酯化或部份酯化的酯化物。較佳地，鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)是由鄰萘醌二疊氮磺酸或其鹽類與羥基化合物反應所製得。更佳地，鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)是由鄰萘醌二疊氮磺酸或其鹽類與多元羥基化合物反應所製得。
前述鄰萘醌二疊氮磺酸包含但不限於鄰萘醌二疊氮-4-磺酸、鄰萘醌二疊氮-5-磺酸、鄰萘醌二疊氮-6-磺酸等。前述鄰萘醌二疊氮磺酸的鹽類例如但不限於鄰萘醌二疊氮磺酸鹵鹽。
前述羥基化合物可單獨或混合使用，且前述羥基化合物包含但不限於：
(1)羥基二苯甲酮類化合物，例如但不限於2,3,4-三羥基二苯甲酮、2,4,4'-三羥基二苯甲酮、2,4,6-三羥基二苯甲酮、2,3,4,4'-四羥基二苯甲酮、2,4,2',4'-四羥基二苯甲酮、2,4,6,3',4'-五羥基二苯甲酮、2,3,4,2',4'-五羥基二苯甲酮、2,3,4,2',5'-五羥基二苯甲酮、2,4,5,3',5'-五羥基二苯甲酮、2,3,4,3',4',5'-六羥基二苯甲酮等。
(2)羥基芳基類化合物，例如但不限於由式(II-1)所示的羥基芳基類化合物：
於式(II-1)中，Rm至Ro表示氫原子或C1至C6的烷基；Rp至Ru表示氫原子、鹵素原子、C1至C6的烷基、C1至C6的烷氧基(alkoxy)、C1至C6的烯基(alkenyl)，或環烷基(cycloalkyl)；Rv及Rw表示氫原子、鹵素原子及C1至C6的烷基；x、y及z表示1至3的整數；k表示0或1。上式(II-1)所示的羥基芳基類化合物例如但不限於三(4-羥基苯基)甲烷、雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)-3-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-4-羥基苯基甲 烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-3-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)-3,4-二羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-3,4-二羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-3,5-二甲基苯基)-2,4-二羥基苯基甲烷、雙(4-羥基-2,5-二甲基苯基)-2,4-二羥基苯基甲烷、雙(4-羥基苯基)-3-甲氧基-4-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-4-羥基苯基)-3-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-4-羥基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-4-羥基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-4-羥基-6-甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-4-羥基-6-甲基苯基)-3-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-4-羥基-6-甲基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-4-羥基-6-甲基苯基)-3,4-二羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-6-羥基苯基)-3-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-6-羥基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-6-羥基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-6-羥基-4-甲基苯基)-2-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-6-羥基-4-甲基苯基)-4-羥基苯基甲烷、雙(3-環己基-6-羥基-4-甲基苯基)-3,4-二羥基苯基甲烷、1-[1-(4-羥基苯基)異丙基]-4-[1,1-雙(4-羥基苯基)乙基]苯、1-[1-(3-甲基-4-羥基苯基)異丙基]-4-[1,1-雙(3-甲基-4-羥基苯基)乙基]苯等。
(3)(羥基苯基)烴類化合物，例如但不限於由式(II-2)所示之(羥基苯基)烴類化合物：
式(II-2)中，Rx及Ry表示氫原子或C1至C6的烷基；x'及y'表示1至3的整數。式(II-2)所示的(羥基苯基)烴類化合物例如但不限於2-(2,3,4-三羥基苯基)-2-(2',3',4'-三羥基苯基)丙烷、2-(2,4-二羥基苯基)-2-(2',4'-二羥基苯基)丙烷、2-(4-羥基苯基)-2-(4'-羥基苯基)丙烷、雙(2,3,4-三羥基苯基)甲烷、雙(2,4-二羥基苯基)甲烷等。
(4)其他芳香族羥基類化合物，例如但不限於苯酚、對-甲氧基苯酚、二甲基苯酚、對苯二酚、雙酚A、萘酚、鄰苯二酚、1,2,3-苯三酚甲醚、1,2,3-苯三酚-1,3-二甲基醚、3,4,5-三羥基苯甲酸、部份酯化或部份醚化的3,4,5-三羥基苯甲酸等。
較佳地，羥基化合物是選自於1-[1-(4-羥基苯基)異丙基]-4-[1,1-雙(4-羥基苯基)乙基]苯、2,3,4-三羥基二苯甲酮、2,3,4,4'-四羥基二苯甲酮，或前述化合物的組合。
前述鄰萘醌二疊氮磺酸或其鹽類與羥基化合物的反應通常在二氧雜環己烷(dioxane)、氮-吡咯烷酮(N-pyrrolidone)、乙醯胺(acetamide)等有機溶媒中進行，同時在三乙醇胺、鹼金屬碳酸鹽或鹼金屬碳酸氫鹽等鹼性縮合劑存在下進行較有利。
較佳地，前述鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)的酯化度在50%以上，亦即以前述羥基化合物中的羥基總量為100mol%計，前述羥基化合物中有50mol%以上的羥基與鄰萘醌二疊氮磺酸或其鹽類進行酯化反應。更佳地，前述鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)的酯化度在60%以上。
基於鹼可溶性樹脂(A)的總量為100重量份，鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)的使用量範圍為5重量份至50重量份。較佳地，鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)的使用量範圍是8重量份至45重量份。更佳地，鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)的使用量範圍是10重量份至40重量份。
溶劑(C)
本發明之溶劑(C)以可完全溶解其他有機成分，且其揮發性必須高到在常壓下只需少許熱量便可使其從分散液中蒸發者為宜。因此，常壓下沸點低於150℃之溶劑最常被使用。
本發明適用之溶劑(C)可包含苯、甲苯或二甲苯等之芳香族溶劑；甲醇或乙醇等之醇類溶劑；乙二醇單丙醚、二乙二醇二甲醚、四氫呋喃、乙二醇單甲醚、乙二醇單***、二乙二醇甲醚、二乙二醇***或二乙二醇丁醚等之醚類溶劑；乙二醇甲醚醋酸酯、乙二醇***醋酸酯、丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇***醋酸酯、丙二醇丙醚醋酸酯或3-乙氧基丙酸乙酯等之酯類溶劑；甲乙酮或丙酮等之酮類溶劑。
較佳地，溶劑(C)可為二乙二醇二甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯或3-乙氧基丙酸乙酯之單獨一種或併用兩者。
基於鹼可溶性樹脂(A)之總使用量為100重量份，溶劑(C)之使用量為100重量份至1000重量份，較佳為120重量份至750重量份，且更佳可為150重量份至700重量份。
化合物(D)
本發明之鹼可溶性樹脂(A)較佳更包括式(III)所示之化合物(D)：
其中Ra、Rb及Rc各自獨立代表三烷氧基矽烷基，且X、Y、Z分別代表伸烷基(alkylene group)或伸芳基(arylene group)。其中伸烷基或伸芳基可具有取代基，前述取代基可為氨基、羥基、烷氧基或鹵素原子。
根據本發明之伸烷基之具體例為亞甲基、伸乙基、伸丙基、伸丁基、伸戊基、伸己基、伸庚基、伸辛基、伸壬基、伸癸基等碳原子數為1至10之伸烷基。根據本發明之伸芳基之具體例為伸苯基或伸萘基。
本發明之式(III)所示之化合物(D)之具體例為下式(III-1)至(III-9)所示之化合物：
當本發明之鹼可溶性樹脂(A)更包括式(III)所示之化合物(D)時，可進一步改善耐熱透光率。
基於鹼可溶性樹脂(A)的使用量為100重量份，式(III)所示之化合物(D)的使用量較佳為0.3重量份 至3重量份，更佳為0.4重量份至2.5重量份，尤佳為0.6重量份至2重量份。
添加劑(E)
本發明之感光性樹脂組成物選擇性地可進一步添加添加劑(E)，添加劑之選擇是本發明所屬技術領域中具通常知識者依需求進行選擇，包含但不限於填充劑、鹼可溶性樹脂(A)以外之高分子、紫外線吸收劑、防凝集劑、界面活性劑、密著促進劑、保存安定劑、耐熱性促進劑、硬化促進劑，或前述各種添加劑的組合。
填充劑的種類並無特別的限制，較佳地，填充劑為玻璃或鋁。
鹼可溶性樹脂(A)以外的高分子為聚乙烯醇、聚乙二醇單烷基醚，或聚氟丙烯酸烷酯。
紫外線吸收劑的種類並無特別的限制，較佳地，紫外線吸收劑為2-(3-第三丁基-5-甲基-2-羥基苯基)-5-氯苯基疊氮或烷氧基苯酮。
防凝集劑包含但不限於聚丙烯酸鈉。
界面活性劑包含但不限於含氟界面活性劑或有機矽界面活性劑，可單獨或混合使用，其作用在於促進該感光性樹脂組成物的塗布性。
含氟界面活性劑是指末端、主鏈及側鏈至少包含一氟烷基或一氟烯基的含氟界面活性劑，可例如但不限於1,1,2,2-四氟辛基(1,1,2,2-四氟丙基)醚、1,1,2,2-四 氟辛基己基醚、八乙二醇二(1,1,2,2-四氟丁基)醚、六乙二醇(1,1,2,2,3,3-六氟戊基)醚、八丙二醇二(1,1,2,2-四氟丁基)醚、六丙二醇(1,1,2,2,3,3-六氟戊基)醚、全氟十二烷基硫酸鈉、1,1,2,2,8,8,9,9,10,10-十氟十二烷、1,1,2,2,3,3-六氟癸烷、氟烷苯磺酸鈉、氟烷磷酸鈉、氟烷羧酸鈉、氟烷聚氧乙烯醚、二丙三醇四(氟烷聚氧乙烯醚)、氟烷銨碘、氟烷甜菜鹼、氟烷聚氧乙烯醚、全氟烷聚氧乙烯醚、全氟烷基烷醇等，該含氟界面活性劑的市售品例如但不限於BM-1000、BM-1100(以上由BM Chemical製)、Megafac F142D、Megafac F172、Megafac F173、Megafac F183、Megafac F178、Megafac F191、Megafac F471、Megafac F476(以上由大日本墨水及化學工業製)、Fluorad FC 170C、Fluorad FC-171、Fluorad FC-430、Fluorad FC-431(以上由住友化學製)Surflon S-112、Surflon S-113、Surflon S-131、Surflon S-141、Surflon S-145、Surflon S-382、Surflon SC-101、Surflon SC-102、Surflon SC-103、Surflon SC-104、Surflon SC-105、Surflon SC-106(以上由旭硝子公司製)、F-Top EF301、F-Top 303、F-Top 352(以上由新秋田化成製)、Ftergent FT-100、FT-110、FT-140A、FT-150、FT-250、FT-251、FTX-251、FTX-218、FT-300、FT-310、FT-400S(以上由NEOS Co.,Ltd.製)等。
有機矽界面活性劑的市售品可例如但不限於TORE有機矽DC3PA、DC7PA、SH11PA、SH21PA、SH28PA、SH29PA、SH30PA、SH-190、SH-193、SZ-6032、SF-8427、SF-8428、DC-57、DC-190(Dow Corning Toray Silicone製)、TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4446、TSF-4460、TSF-4452(GE東芝有機矽製)等。
除前述含氟界面活性劑或有機矽界面活性劑外，界面活性劑之具體例如：(1)聚氧乙烯烷基醚類，如月桂醇聚氧乙烯醚、聚氧乙烯硬脂酸醚、聚氧乙烯油基醚等；(2)聚氧乙烯芳基醚類，如聚氧乙烯正辛基苯醚、聚氧乙烯正壬基苯酚醚等；(3)聚氧乙烯二烷基酯，如聚氧乙烯二月桂酸、聚氧乙烯二硬脂酸等；(4)非離子界面活性劑，如KP-341(信越化學製)、poly flow No.57、poly flow No.95(共榮社油脂化學工業製)等。
密著促進劑包含但不限於官能性矽烷化合物，其作用在於增加感光性樹脂組成物與基材間的密著性。較佳地，官能性矽烷化合物是指包含羧基、烯基、異氰酸酯基、環氧基、胺基、巰基或鹵素的矽烷化合物。官能性矽烷化合物可以單獨或混合使用，例如但不限於對-羥基苯基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、乙烯三乙醯氧基矽烷、乙烯三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三(2-甲氧乙氧基)矽烷、γ-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧 基丙基三甲氧基矽烷(市售品例如信越化學製KBM403)、2-(3,4-環氧環己烷基)乙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基二甲基甲氧基矽烷、3-胺丙基三甲氧基矽烷、氮-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、氮-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-巰丙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基甲基二甲氧基矽烷等。
保存安定劑包含但不限於可為硫、醌、氫醌、聚氧化物、胺、亞硝基化合物或硝基化合物，可例如但不限於4-甲氧基苯酚、(氮-亞硝基-氮-苯基)羥胺鋁、2,2-硫代雙(4-甲基-6-第三丁基苯酚)、2,6-二-第三丁基苯酚等。
耐熱性促進劑包含但不限於氮-(烷氧基甲基)甘脲化合物或氮-(烷氧基甲基)三聚氰胺。氮-(烷氧基甲基)甘脲化合物可例如但不限於氮,氮,氮',氮'-四(甲氧基甲基)甘脲、氮,氮,氮',氮'-四(乙氧基甲基)甘脲、氮,氮,氮',氮'-四(正丙氧基甲基)甘脲、氮,氮,氮',氮'-四(異丙氧基甲基)甘脲、氮,氮,氮',氮'-四(正丁氧基甲基)甘脲、氮,氮,氮',氮'-四(第三丁氧基甲基)甘脲等；較佳地為氮,氮,氮',氮'-四(甲氧基甲基)甘脲。氮-(烷氧基甲基)三聚氰胺可例如但不限於氮,氮,氮',氮',氮",氮"-六(甲氧基甲基)三聚氰胺、氮,氮,氮',氮',氮",氮"-六(乙氧基甲基)三聚氰胺、氮,氮,氮',氮',氮",氮"-六(正丙氧基甲基)三聚氰胺、氮,氮,氮',氮',氮",氮"-六(異丙氧基甲基)三聚氰胺、氮,氮,氮',氮', 氮",氮"-六(正丁氧基甲基)三聚氰胺、氮,氮,氮',氮',氮",氮"-六(第三丁氧基甲基)三聚氰胺；較佳地為氮,氮,氮',氮',氮",氮"-六(甲氧基甲基)三聚氰胺。其中，氮-(烷氧基甲基)三聚氰胺的市售品可例如NIKARAKKU N-2702、MW-30M(三和化學製)。
硬化促進劑的作用在於降低感光性樹脂組成物的線膨脹係數。硬化促進劑包含但不限於：(1)含硫醇基的倍半矽氧烷，市售品可例如但不限於荒川化學製造之COMPOCERAN SQ-101、COMPOCERAN SQ-102、COMPOCERAN SQ-102-1、COMPOCERAN SQ-103、COMPOCERAN SQ105、COMPOCERAN SQ105-1，及COMPOCERAN SQ105-7；(2)含環氧基之化合物，可例如但不限於雙酚A二縮水甘油醚、雙酚F二縮水甘油醚、雙酚S二縮水甘油醚、氫化雙酚A二縮水甘油醚、氫化雙酚F二縮水甘油醚、氫化雙酚AD二縮水甘油醚、溴化雙酚A二縮水甘油醚、溴化雙酚F二縮水甘油醚、溴化雙酚S二縮水甘油醚等雙酚化合物的二縮水甘油醚；(3)胍胺(guanamine)化合物例如三聚氰胺(melamine)、胍胺、乙醯胍胺(acetoguanamine)，及苯胍胺(benzoguanamine)但不限於此；(4)胺類化合物，可例如但不限於二雙氰二胺、苄基二甲基胺、4-(二甲基胺基)-N,N-二甲基苄基胺、4-甲氧基-N,N-二甲基苄基胺，及4-甲基-N,N-二甲基苄基胺；及(5)咪唑衍生物(imidazole derivatives)及其鹽，可例如但不限於咪 唑、2-甲基咪唑、2-乙基咪唑、2-乙基-4-甲基咪唑、2-苯基咪唑、4-苯基咪唑、1-氰基乙基-2-苯基咪唑，及1-(2-氰基乙基)-2-乙基-4-甲基咪唑。
添加劑的使用量可由本發明所屬技術領域中具通常知識者依需求自行調整；較佳地，基於鹼可溶性樹脂(A)的總量為100重量份，添加劑(E)的使用量範圍為0重量份至30重量份。又較佳地，添加劑(E)的使用量範圍是0重量份至25重量份。更佳地，添加劑(E)的使用量範圍是0重量份至20重量份。
感光性樹脂組成物的製備
本發明之感光性樹脂組成物的製法是將鹼可溶性樹脂(A)、鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)以及溶劑(C)放置於攪拌器中攪拌，使其均勻混合成溶液狀態，必要時可添加化合物(D)及/或添加劑(E)。
保護膜的製備
本發明之保護膜是將如上所述之感光性樹脂組成物塗布於基材上，再經預烤、曝光、顯影及後烤處理後所形成。
本發明之保護膜的塗布方法沒有特別限制，可以藉由噴塗法、輥塗法、旋轉塗布法(旋塗法)、縫模塗敷法、棒塗法、噴墨法等塗布方法，較佳地為使用旋塗法或縫模塗敷法，將感光性樹脂組成物塗布在一基材上，再 經預烤(prebake)方式將溶劑去除而形成一預烤塗膜。其中，預烤的條件，依各組份的種類、配合比率而異，通常為溫度在60℃至110℃間，進行30秒鐘至15分鐘。較佳地，該塗膜的厚度為3μm至6μm。
預烤後，將塗膜於光罩下進行曝光，曝光所使用的光線可例如但不限於紫外線、遠紫外線、X射線、帶電粒子束；紫外線可例如g線(波長436nm)、h線、i線(波長365nm)等，遠紫外線可例如KrF準分子鐳射等，X射線可例如同步加速放射線等，帶電粒子束可例如電子束等。較佳地為紫外線，更佳地為g線或i線。當選用紫外線時，紫外線照射裝置粒如但不限於高水銀燈、超高水銀燈及金屬鹵素燈；較佳地，曝光量為50至1500J/m2。
顯影是浸漬於一顯影液中，根據組成物的組成而不同，歷時30秒至2分鐘，以去除不要的部分而形成特定的圖案。該顯影液的具體例為：(1)無機鹼，如氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、矽酸鈉、偏矽酸酸鈉，及氨；(2)第一級脂肪胺，如乙胺、正丙胺；(3)第二級脂肪胺，如二乙胺、二正丙胺；(4)第三級脂肪胺，如三甲胺、二乙胺甲基、二甲基乙基胺，及三乙胺；(5)第三級脂肪環酸，如吡咯、哌啶、N-甲基哌啶、N-甲基1,8-二氮雜雙環[5.4.0]-7-十一碳烯，及1,5-二氮雜雙環[4.3.0]-5-壬烯；(6)第三級芳香胺，如吡啶、甲基嘧啶、二甲基吡啶，及喹啉；及(7)第四級銨鹽鹼性化合物，如四甲基氫氧化銨、四乙基氫 氧化銨之水溶液。
此外，水溶性有機溶劑及/或表面活性劑，如甲醇、乙醇，亦可視需要添加於上述顯影液中。另外，顯影方法可例如但不限於盛液法、浸漬法、震盪浸漬法、沖洗法等適當的方法。
使用上述鹼性化合物所構成的顯影液時，通常於顯影後以水洗淨，再以壓縮空氣或壓縮氮氣風乾。並且，較佳地還採用高壓汞燈等進行一後曝光處理，對該塗膜全面照射放射線，使殘留的鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)化合物分解。更佳地，後曝光步驟中的曝光量為2000至5000J/m2。
接著，使用加熱板或烘箱等裝置進行後烤(postbake)處理，使塗膜固化。後烤溫度通常為120℃至250℃。其中，後烤時間是根據加熱機器的種類而不同而調整，例如，使用加熱板的加熱時間為5至30分鐘，使用烘箱的加熱時間為30至90分鐘。經過以上的處理步驟後，即可形成一保護膜。
基材可選自於應用在液晶顯示器中的無鹼玻璃、鈉鈣玻璃、強化玻璃(Pyrex玻璃)、石英玻璃或表面上已附著透明導電膜的玻璃等之基材及用於固體攝影元件等之光電變換元件基板(如：矽基板)等。
保護膜的應用
前述保護膜之應用方式，例如可形成於基材上 以提供一具有保護膜的元件。此類元件元件包含但不限於顯示元件、半導體元件或光波導路等。
以下利用數個實施方式以說明本發明之應用，然其並非用以限定本發明，本發明技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾。
製備鹼可溶性樹脂(A)
以下根據表1所示的比例製備合成例A-1至合成例A-9之鹼可溶性樹脂(A)。
合成例A-1
在一容積1000毫升之四口燒瓶上設置氮氣入口、攪拌器、加熱器、冷凝管及溫度計，並導入氮氣。依表1所示比例，將甲基丙烯酸(以下簡稱MAA)10重量份、甲基丙烯酸3,4-環氧環己基甲酯(以下簡稱EC-MAA)40重量份、由前文式I-13所示的化合物5重量份、甲基丙烯酸雙環戊脂(以下簡稱FA-513M)15重量份、甲基丙烯酸苯甲酯(以下簡稱BzMA)30重量份，以及溶劑二乙二醇二甲醚(以下簡稱Diglyme)300重量份以一次添加方式加入該四口燒瓶中。
使前述四口燒瓶內部充滿氮氣後，攪拌燒瓶之 內容物並使油浴升溫至85℃，將觸媒2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)(以下簡稱ADVN)5.0重量份溶於20重量份之Diglyme中，分為五等份之量於一小時內間隔添加在該四口燒瓶中。聚合過程的反應溫度維持在70℃，聚合時間4小時，待聚合完成後，自該四口燒瓶中取出聚合產物，將溶劑脫揮，製得鹼可溶性樹脂A-1。
合成例A-2至合成例A-9
合成例A-2至合成例A-9使用與合成例A-1之鹼可溶性樹脂的製作方法相同之製備方法，不同之處在於合成例A-2至合成例A-9係改變鹼可溶性樹脂之原料的種類與使用量及其聚合條件，且其配方及聚合條件如表1所示，在此不另贅述。
感光性樹脂組成物和保護膜的製備 實施例1
在一容積500毫升之三頸燒瓶中，加入100重量份的鹼可溶性樹脂A-1、5重量份的1-[1-(4-羥基苯基)異丙基]-4-[1,1-雙(4-羥基苯基)乙基]苯與鄰萘醌二疊氮-5-磺酸所形成之鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B-1)、100重量份的丙二醇甲醚醋酸酯(C-1)，以搖動式攪拌器攪拌均勻後，即可製得實施例1的感光性樹脂組成物。
將感光性樹脂組成物以旋轉塗布的方式，分別塗布在100 x 100 x 0.7mm3大小的素玻璃基板上，得到厚度約2μm的預塗膜，接著以110℃預烤2分鐘後，在 曝光機(AG500-4N；M&R Nano Technology製)與預塗膜間置入正光阻用光罩，且以能量為200J/cm2的紫外光照射預塗膜，接著，浸漬於23℃且0.4wt%的四甲基氫氧化銨的顯影液中1分鐘，除去曝光之部分，以純水洗淨後，再以曝光機直接照射顯影後之塗膜，其能量為300mJ/cm2。接著以230℃後烤60分鐘，可獲得素玻璃基板上具有圖樣之保護膜。以下記之評價方式進行評價，所得結果如表2所示。
實施例2至9及比較例1至2
實施例2至9及比較例1至3是以與實施例1相同的步驟來製備該感光性樹脂組成物和保護膜，不同的地方在於：製備感光性樹脂組成物時，改變原料的種類及其使用量，原料的種類及其使用量如表2所示。前述實施例和前述比較例的感光性樹脂組成物以下記之評價方式進行評價，所得結果如表2所示。
比較例3
在配有攪拌器和冷凝管的燒瓶中加入7重量份的2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)[2,2'-azobis(2,4-dimethylvaleronitrile)]以及200重量份的二乙二醇乙基甲基醚。接著再加入10重量份的甲基丙烯酸、40重量份的四氫-2H-吡喃-2-基甲基丙烯酸酯、40重量份的3-(甲基丙烯酰氧基甲基)-3-乙基氧雜環丁烷以及10重量份的前文式I-04表示的化合物。使前述燒瓶內部充滿氮氣後，緩慢攪拌燒瓶之內容物。聚合過程的反應溫度維持在70℃， 聚合時間5小時，待聚合完成後，自該四口燒瓶中取出聚合產物，將溶劑脫揮，製得鹼可溶性樹脂溶液A’-1。
將100重量份的鹼可溶樹脂溶液A’-1、3.5重量份的4,7-二正丁氧基-1-萘基四氫噻吩三氟甲磺酸鹽(4,7-di-n-butoxy-1-naphthyl tetrahydro-thiophenium trifluoromethanesulfonate)混合，通過具有0.2μm的孔尺寸的膜過濾器過濾，得到比較例3的感光性樹脂組成物。接著再以如前文所述的方式將感光性樹脂組成物製成保護膜，並以下記之評價方式進行評價。
比較例4
將100重量份前述之鹼可溶性樹脂A-1、20重量份的三丙烯酸三羥甲基丙酯、10重量份的1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-取代基]-乙烷酮1-(O-乙醯基肟)(汽巴精化有限公司製造之產品，且其型號為OXE-02)加至400重量份的丙二醇甲醚醋酸酯中，並以搖動式攪拌器攪拌均勻後，即可製得比較例4之負型感光性樹脂組成物。接著再以如前文所述的方式將感光性樹脂組成物製成保護膜，並以下記之評價方式進行評價。
評價方式
耐熱透光率：
將前述實施例以及比較例所製得之保護膜，再於烘箱中以230℃進行烘烤180分鐘，並以穿透吸收光譜分析儀(MCPD-Series，大塚科技)測量400nm至800nm波 長透過烘烤後保護膜的透光率，量測點為至少五點，將測得之數據平均後取400nm波長對應之透光率數值，此即為耐熱透光率之數據，並根據以下標準評價：
◎：95%≧耐熱透光率
○：90%≦耐熱透光率<95%
△：80%≦耐熱透光率<90%
╳：耐熱透光率<80%
除表2所示之評價結果以外，比較例3及比較例4的感光性樹脂組成物在製成保護膜後，其耐熱透光率的評價結果均小於80%。
根據前述評價結果可知，比較例1和比較例2的感光性樹脂組成物分別含有鹼可溶性樹脂A-8和鹼可溶性樹脂A-9，前述兩種鹼可溶性樹脂不具有衍生自前文所述之不飽和單體(a3)的結構。因此，以比較例1和比較例2的感光性樹脂組成物製作的保護膜表現出較差的耐熱透光率。比較例3和比較例4的感光性樹脂組成物無法形成本案所需圖案之保護膜，且其製得的保護膜也表現較差的耐熱透光率。
另一方面，在所有實施例中，合成鹼可溶性樹脂(A)時都使用了由式(I)表示之不飽和單體(a3)。因此，以每一實施例的感光性樹脂組成物製作的保護膜均表現出較佳的耐熱透光率。進一步觀察可以得知，將不飽和單體(a3)的用量限制於5重量份至20重量份(以所有不飽和單體的總量為100重量份計算)時，可使得最後的保護膜 產品具有優良的耐熱透光率。
再者，由於在實施例2、實施例5和實施例6的感光性樹脂組成物均添加了前文描述的化合物(D)，以前述感光性樹脂組成物製作的保護膜表現出更佳的耐熱透光率。
再者，由於在實施例2、實施例4和實施例5的感光性樹脂組成物中，鹼可溶性樹脂(A)之共聚合用單體(a4)包括(甲基)丙烯酸羥烷酯，以前述感光性樹脂組成物製作的保護膜表現出更佳的耐熱透光率。
需補充的是，本發明雖以特定的化合物、組成、反應條件、製程、分析方法或特定儀器作為例示，說明本發明之感光性樹脂組成物及其應用，惟本發明所屬技術領域中任何具有通常知識者可知，本發明並不限於此，在不脫離本發明之精神和範圍內，本發明之感光性樹脂組成物及其應用亦可使用其他的化合物、組成、反應條件、製程、分析方法或儀器進行。
雖然已以數種實施方式或實施例對本發明作揭露如上，然這些內容並非用以限定本發明，在本發明所屬技術領域中任何具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

Claims (7)

  1. 一種感光性樹脂組成物，包括：鹼可溶樹脂(A)，其中該鹼可溶樹脂(A)是由不飽和羧酸或不飽和羧酸酐化合物(a1)、含環氧基之不飽和單體(a2)、由式(I)表示之不飽和單體(a3)及其他不飽和單體(a4)所共聚合而得： 在該式(I)中，該A為二價脂環族烴基，該L1及該L2各自獨立為單鍵、C1-C5二價烴基或經鹵素原子取代之C1-C5二價烴基，該R為氫原子或甲基，該Y1為-OH或-COOH；鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)；以及一溶劑(C)。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之感光性樹脂組成物，更包括式(III)所示之化合物(D)； 其中該Ra、Rb及Rc各自獨立代表三烷氧基矽烷基，且該X、Y、Z分別代表伸烷基或伸芳基。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之感光性樹脂組成物，其中基於該鹼可溶樹脂(A)的使用量為100重量份，該鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)的使用量為5重量份到50重量份，且該溶劑(C)的使用量為100重量份到1000重量份。
  4. 如申請專利範圍第2項所述之感光性樹脂組成物，其中基於該鹼可溶樹脂(A)的使用量為100重量份，該化合物(D)的使用量為0.3重量份到3重量份。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之感光性樹脂組成物，其中基於該不飽和羧酸或不飽和羧酸酐化合物(a1)、該含環氧基之不飽和單體(a2)、該由式(I)表示之不飽和單體(a3)及該其他不飽和單體(a4)之總使用量為100重量份，該不飽和羧酸或不飽和羧酸酐化合物(a1)的使用 量為10重量份至30重量份，該含環氧基之不飽和單體(a2)的使用量為25重量份至45重量份，該由式(I)表示之不飽和單體(a3)的使用量為5重量份至20重量份，該其他不飽和單體(a4)的使用量為5重量份至60重量份。
  6. 一種保護膜，其是將申請專利範圍第1項至第5項中任一項所述之感光性樹脂組成物塗布於一基材上，再經一預烤處理、一曝光處理、一顯影處理及一後烤處理處理，而製得具有一圖案之該保護膜。
  7. 一種元件，包含如申請專利範圍第6項所述的保護膜。
TW104122367A 2015-07-09 2015-07-09 感光性樹脂組成物、保護膜及元件 TW201702737A (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW104122367A TW201702737A (zh) 2015-07-09 2015-07-09 感光性樹脂組成物、保護膜及元件
CN201610447935.3A CN106338888A (zh) 2015-07-09 2016-06-20 感光性树脂组成物、保护膜及元件

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW104122367A TW201702737A (zh) 2015-07-09 2015-07-09 感光性樹脂組成物、保護膜及元件

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW201702737A true TW201702737A (zh) 2017-01-16

Family

ID=57826754

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW104122367A TW201702737A (zh) 2015-07-09 2015-07-09 感光性樹脂組成物、保護膜及元件

Country Status (2)

Country Link
CN (1) CN106338888A (zh)
TW (1) TW201702737A (zh)

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI388581B (zh) * 2005-08-25 2013-03-11 Jsr Corp Side-chain unsaturated polymers, radiation-sensitive resin compositions, and spacers for liquid crystal display elements
CN101206402A (zh) * 2006-12-22 2008-06-25 住友化学株式会社 感光性树脂组合物
JP4935565B2 (ja) * 2007-08-01 2012-05-23 住友化学株式会社 感光性樹脂組成物
TWI474112B (zh) * 2012-09-27 2015-02-21 Chi Mei Corp 感光性樹脂組成物、保護膜及具有保護膜的元件

Also Published As

Publication number Publication date
CN106338888A (zh) 2017-01-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4207604B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの形成方法
TWI470359B (zh) 感光性樹脂組成物、保護膜及具有保護膜的元件
TWI524150B (zh) 感光性樹脂組成物、保護膜及具有保護膜之元件
TWI474112B (zh) 感光性樹脂組成物、保護膜及具有保護膜的元件
TWI524141B (zh) 感光性樹脂組成物、保護膜及具有保護膜之元件
TWI479269B (zh) 感光性聚矽氧烷組成物及其應用
TWI405038B (zh) A radiation-sensitive resin composition, an interlayer insulating film and a microlens, and a method for manufacturing the same
TW200907569A (en) Radiation-sensed resin composition, layer insulation film, microlens and forming method thereof
KR101538804B1 (ko) 감방사선성 수지 조성물, 및 층간 절연막과 그의 제조 방법
JP2017171748A (ja) 硬化膜、表示素子、硬化膜形成用材料及び硬化膜の形成方法
TWI361951B (zh)
TWI514073B (zh) Photosensitive resin composition and its application
TWI451194B (zh) 感放射線性樹脂組成物、層間絕緣膜與微透鏡及其製法
TWI430026B (zh) Sensitive linear resin composition, interlayer insulating film and microlens, and the like
TWI510857B (zh) Sensitive radiation linear resin composition, and interlayer insulating film and microlens and the like
JP5157860B2 (ja) 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜及びマイクロレンズ、並びにそれらの製造方法
JP2007101759A (ja) 感放射線性樹脂組成物ならびに層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成
TWI282905B (en) Radiation-sensitive resin composition, interlayer insulation film and micro-lens, and method for manufacturing those
TW201829553A (zh) 感光性樹脂組合物及由其製備之固化膜
TW201702737A (zh) 感光性樹脂組成物、保護膜及元件
TWI566037B (zh) 感光性樹脂組成物及其應用
TWI739767B (zh) 感光性樹脂組成物、自其製備之固化膜、及使用該感光性樹脂組成物形成圖案之方法
TW201445249A (zh) 感光性樹脂組成物及其應用
JP2009204864A (ja) 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法
JP5447161B2 (ja) マイクロレンズの形成方法、マイクロレンズ、固体撮像素子および感放射線性組成物