TW201543082A - 相機模組 - Google Patents

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Oh-Byoung Kwon
Soo-Cheol Lim
Byung-Woo Kang
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Samsung Electro Mech
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Abstract

本發明提供一種相機模組，其包含用以在補償歸因於諸如手部晃動之干擾的非預期相機移動時支援鏡身的驅動的多個滾珠軸承。所述鏡身可藉由在垂直於光軸的第一方向上施加的一個驅動力且藉由在垂直於所述光軸及所述第一方向兩者的第二方向上施加的另一驅動力獨立地在所述第一方向及所述第二方向上被驅動，藉此防止在補償諸如手部晃動之非所需運動時產生驅動移位，同時確保抵抗外部衝擊的可靠性且在補償干擾時具有減少的電力消耗。

Description

相機模組 【對相關申請案的交叉參考】
本申請案主張向韓國智慧財產局申請的以下韓國專利申請案的優先權及權利：在2014年4月11日申請的第10-2014-0043833號、在2014年5月30日申請的第10-2014-0066563號以及在2014年9月申請的第10-2014-0128689號，所述申請案的全部揭露內容以引用的方式併入本文中。
本發明是有關於一種相機模組。
最近，已採用具有高度功能性的超小型相機模組以用於諸如平板個人電腦及筆記型電腦或膝上型電腦的行動通信終端機中以及諸如智慧型電話之攜帶型電話中。
隨著行動通信終端機的小型化，影像品質可降級，此是因為在擷取影像時手部晃動的影響可為顯著的。因此，為了獲得逼真的影像品質，需要用於補償手部晃動的技術。
舉例而言，在擷取影像時，當手部晃動發生時，可使用應 用有光學影像穩定化(optical image stabilization,OIS)技術的致動器以進行光學影像穩定化以便補償手部晃動。
用於OIS的致動器可在垂直於光軸方向的方向上移動透鏡模組。為此目的，使用支援透鏡模組之懸線。
然而，在用於OIS之致動器中使用的懸線易受外部衝擊或其類似者，使得存在懸線可在OIS操作期間變形的風險，且因此可產生驅動移位。因此，難以確保產品可靠性。
此外，用於OIS之致動器會消耗大量電力。
本揭露內容之態樣可提供一種相機模組，其能夠確保抵抗外部衝擊的可靠性且防止在補償歸因於諸如手部晃動之干擾的非預期相機移動時產生的驅動移位。
本揭露內容之態樣亦可提供一種具有減少的電力消耗之相機模組。
根據本揭露內容之態樣，一種相機模組可包含多個滾珠軸承，其用以在補償歸因於(例如)手部晃動或行走的非所需運動時支援鏡身之驅動。鏡身可藉由在垂直於光軸之第一方向上施加的一個驅動力且藉由在垂直於光軸及第一方向兩者之第二方向上施加的另一驅動力獨立地在第一方向及第二方向上驅動，藉此(例如，但不限於)防止在補償諸如手部晃動之不當運動時產生驅動移位，同時確保抵抗外部衝擊的可靠性且在補償干擾時具有減少的電力消耗。亦描述其他實施例。以上概述並不包含本揭露內容之所有態樣的詳盡清單。預期本揭露內容包含可自以上概述之各種態 樣以及以下詳細描述中揭露且特定地在本申請案申請的申請專利範圍中指出的彼等態樣的所有合適組合實踐的所有相機模組。此等組合具有未在上述概述中特定敍述的具體優點。
100‧‧‧殼體
200‧‧‧外殼
210‧‧‧擋止件
230‧‧‧分離防止部件
231‧‧‧第一磁軛部分
233‧‧‧第二磁軛部分
300‧‧‧透鏡模組
310‧‧‧鏡身
330‧‧‧第三框架
331‧‧‧第二容納溝槽或第二容納部分
400‧‧‧第一框架
410‧‧‧第一容納溝槽或第一容納部分
500‧‧‧第二框架
510‧‧‧第一容納溝槽或第一容納部分
520‧‧‧第二容納溝槽或第二容納部分
600‧‧‧透鏡驅動裝置/手部晃動補償部分或干擾補償部分
610‧‧‧第一手部晃動補償部分或第一干擾補償部分
611‧‧‧第一磁體
613‧‧‧第一線圈
615‧‧‧第一霍耳感測器
620‧‧‧第二手部晃動補償部分或第二干擾補償部分
621‧‧‧第二磁體
623‧‧‧第二線圈
625‧‧‧第二霍耳感測器
630‧‧‧第二基板
700‧‧‧透鏡驅動裝置/自動聚焦驅動部分
710‧‧‧第三磁體
730‧‧‧第三線圈
750‧‧‧第三霍耳感測器
770‧‧‧第三基板
800‧‧‧第一基板
810‧‧‧影像感測器
910‧‧‧第一滾珠軸承部分或第一可移動部分
920‧‧‧第二滾珠軸承部分或第二可移動部分
930‧‧‧第三滾珠軸承部分或第三可移動部分
1000‧‧‧相機模組
自以下結合隨附圖式進行的詳細描述將更清楚地理解本揭露內容的上述及其他態樣、特徵以及優點，其中：圖1為說明根據本揭露內容中之例示性實施例之相機模組的示意性分解透視圖。
圖2A為說明設置於根據本揭露內容中之例示性實施例之相機模組中的第一框架及第一可移動部分的透視圖。
圖2B為說明設置於根據本揭露內容中之例示性實施例之相機模組中的第一框架及第一可移動部分的平面圖。
圖3A為說明第二框架容納在設置於根據本揭露內容中之例示性實施例之相機模組中的第一框架中的狀態的透視圖。
圖3B為說明第二框架容納在設置於根據本揭露內容中之例示性實施例之相機模組中的第一框架中的狀態的平面圖。
圖4A為圖3A的部分剖示透視圖。
圖4B為沿圖3B之線A-A'截取的橫截面圖。
圖5A為說明設置於根據本揭露內容中之例示性實施例之相機模組中的第一框架及第二框架以及第二可移動部分的透視圖。
圖5B為說明設置於根據本揭露內容中之例示性實施例之相機模組中的第一框架及第二框架以及第二可移動部分的平面圖。
圖6A為說明第二框架及第三框架容納在設置於根據本揭露 內容中之例示性實施例之相機模組中的第一框架中的狀態的透視圖。
圖6B為說明第二框架及第三框架容納在設置於根據本揭露內容中之例示性實施例之相機模組中的第一框架中的狀態的平面圖。
圖7A為圖6A的部分剖示透視圖。
圖7B為沿圖6B之線B-B'截取的橫截面圖。
圖8為說明根據本揭露內容中之例示性實施例之干擾補償部分與磁軛部分之間的關係的透視圖。
圖9為說明根據本揭露內容中之例示性實施例之設置於第一干擾補償部分中的第一磁體及第一線圈的透視圖。
圖10A及圖10B為說明根據本揭露內容中之例示性實施例之設置於第一干擾補償部分中的第一磁體及第一線圈的側視圖。
圖11為沿圖9之線C-C'截取的橫截面圖。
應注意，本揭露內容中對「實施例」或「所述實施例」的參考並不必定為同一實施例，且其意謂至少一個。
在下文中，將參看隨附圖式詳細描述本揭露內容的實施例。
然而，本揭露內容可以多種不同形式體現，且不應解釋為限於本文中所闡述的實施例。確切而言，提供此等實施例以使得本揭露內容將為透徹而完整的，且將向熟習此項技術者充分傳達本揭露內容之範疇。
在圖式中，為了清楚起見可誇示元件之形狀及尺寸，且將通篇使用相同的圖式元件符號以標明相同或類似元件。
此處，將定義關於方向的術語。如圖1中所見，光軸方向(Z軸方向)是指透鏡模組300的垂直方向，第一方向(X軸方向)是指垂直於光軸方向(Z軸方向)的方向且第二方向(Y軸方向)是指垂直於光軸方向(Z軸方向)及第一方向(X軸方向)兩者的方向。此等定義是僅出於說明的目的且不應限制申請專利範圍之範疇。上文所描述且在諸圖中示出的方向作為實例且當然，可取決於實施及利用而不同。
圖1為根據本揭露內容中之例示性實施例之相機模組的示意性分解透視圖。
參看圖1，根據例示性實施例的相機模組1000可包含外殼200、第一框架400、第二框架500、透鏡模組300、殼體100以及透鏡驅動裝置(600及/或700)。第一框架400可容納於外殼200中。第二框架500及透鏡模組300可容納於第一框架400中。殼體100可耦接至外殼200。
透鏡模組300可包含鏡身310及第三框架330。第三框架330可具有容納於其中的鏡身310。
鏡身310可具有(例如，但不限於)中空圓柱形形狀使得用於使物件成像的多個透鏡可容納於其中，且多個透鏡可設置於鏡身310中以配置於光軸上。
鏡身310中的透鏡的數目可取決於鏡身310的設計而變化，且各別透鏡可具有諸如相同折射率或不同折射率的光學特性。
鏡身310可耦接至第三框架330。舉例而言，鏡身310可 ***至設置於第三框架330中的中空部中且固定至或固定於所述中空部中。
第三框架330可連同第二框架500一起容納於第一框架400中。舉例而言，第二框架500及第三框架330可依序安置或堆疊於第一框架400的內部中。
因此，第二框架500可安置於第三框架330與第一框架400之間。
此外，第二框架500及第三框架330可安置成在光軸方向(Z軸方向)上與第一框架400的內部底表面間隔開。第二框架500及第三框架330亦可安置或定位成在諸如Z軸方向的光軸方向上彼此間隔開。
舉例而言，第一框架400的內部底表面及第二框架500的底表面可安置成在光軸方向(Z軸方向)上彼此間隔開，且第二框架500的頂表面及第三框架330的底表面可安置成在光軸方向(Z軸方向)上彼此間隔開。
第一框架400、第二框架500以及第三框架330可容納於外殼200中。
此外，上面安裝有影像感測器810的第一基板800可耦接至外殼200的底部。
外殼200可形成為在光軸方向(Z軸方向)上開放使得諸如來自相機模組1000外部的光的外部光可入射於影像感測器810上。
同時，為了自動聚焦，第一框架400、第二框架500以及第三框架330可在外殼200中在光軸方向(Z軸方向)上可移動。 然而，在自動聚焦操作期間，第一框架400、第二框架500以及第三框架330亦可在諸如X軸方向及/或Y軸方向的第一方向及/或第二方向上移動。
在此狀況下，擋止件210可安裝或形成於外殼200上且被配置以限制第一框架400、第二框架500以及第三框架330的移動範圍或距離。
擋止件210可用以防止包含於外殼200中的組件(諸如，第三框架330)由於外部衝擊或其類似者而與外殼200分離。
殼體100可耦接至外殼200以封圍(enclose)外殼200的至少一些外表面且充當用於阻隔在驅動相機模組1000期間產生及/或自不同於包含在相機模組1000中的組件的其他裝置產生的電磁波的電磁屏蔽。
亦即，若在驅動相機模組1000時產生的電磁波是朝外發射或發射至相機模組1000的外部，則電磁波可影響其他電子組件，此可引起通信錯誤或故障。
在本發明例示性實施例中，殼體100可由(例如，但不限於)金屬材料形成以藉此經由設置於第一基板800中的接地襯墊接地，使得殼體100充當電磁屏蔽。
另外，在殼體100是由塑膠射出產物形成的狀況下，導電漆可經塗覆至(例如，但不限於)殼體100的內表面或外表面以阻隔電磁波。
舉例而言，導電環氧樹脂可用作導電漆，但導電漆的材料不限於此。亦即，可使用具有導電性的各種材料且可將導電膜或導電膠帶附著至殼體100的內表面。
第一框架400、第二框架500及/或第三框架330可安置成可相對於外殼200進行相對移動。
此外，第三框架330及第二框架500可安置於第一框架400中且可相對於第一框架400進行相對移動。
為此目的，根據例示性實施例的相機模組1000可包含透鏡驅動裝置。
透鏡驅動裝置可包含手部晃動補償部分或干擾補償部分600及自動聚焦驅動部分700。
干擾補償部分600可被配置以補償不利地影響所擷取的影像的任何運動或干擾，諸如相機模組1000的非所需或非預期運動。然而，為達成說明的目的，本文中所描述的一些實例實施例將使用術語「手部晃動」，但不限於此。舉例而言，可使用干擾補償部分600以便校正歸因於諸如在擷取影像或移動影像時使用者的手部晃動或行走等因素的影像模糊或移動影像晃動。
舉例而言，當擷取影像的時候產生諸如使用者的手部晃動的非所需運動或干擾，手部晃動或干擾補償部分600可藉由允許第三框架330相對地移位以對應於手部晃動來補償手部晃動。
為此目的，干擾補償部分600可包含第一手部晃動補償部分或第一干擾補償部分610及第二手部晃動補償部分或第二干擾補償部分620。第一干擾補償部分610可在第一方向(X軸方向)上移動第二框架500及第三框架330。第二干擾補償部分620可在第二方向(Y軸方向)上移動第三框架330。
第一干擾補償部分610可包含一或多個第一磁體611及一或多個第一線圈613。第一線圈613可安置成面向第一磁體611 以便在第一方向(X軸方向)上產生驅動力，例如，用以在第一方向(諸如，X軸方向)上驅動第二框架500及/或第三框架330的力。第一干擾補償部分610可更包含被配置以感測第一磁體611的位置的第一霍耳感測器(hall sensor)615。
此外，第二干擾補償部分620可包含至少一個第二磁體621及至少一個第二線圈623。第二線圈623可安置成面向第二磁體621以便在第二方向(Y軸方向)上產生驅動力，例如，用以在第二方向(諸如，Y軸方向)上驅動第三框架330的力。第二干擾補償部分620可更包含被配置以感測第二磁體621的位置的第二霍耳感測器625。
第一磁體611及第二磁體621可安裝於第三框架330上。
第一線圈613及第二線圈623可安置成在垂直於光軸方向(Z軸方向)的方向上分別面向第一磁體611及第二磁體621。第一線圈613及第二線圈623可安裝於第二基板630上，且第二基板630可固定或耦接至外殼200。
第一磁體611及第二磁體621可安置成在垂直於光軸方向(Z軸方向)的平面上彼此正交。
第一干擾補償部分610可藉由第一磁體611與第一線圈613之間的電磁相互作用在第一方向(X軸方向)上產生驅動力。
此外，第二干擾補償部分620可藉由第二磁體621與第二線圈623之間的電磁相互作用在第二方向(Y軸方向)上產生驅動力。
因此，第三框架330可藉由第一干擾補償部分610的驅動力而可在第一方向(X軸方向)上移動。另外，第三框架330亦 可藉由第二干擾補償部分620的驅動力而可在第二方向(Y軸方向)上移動。
同時，第三框架330可連同第二框架500一起藉由第一干擾補償部分610相對於第一框架400進行相對移動，且可藉由第二干擾補償部分620相對於第二框架500進行相對移動。
在此狀況下，第一滾珠軸承部分或第一可移動部分910可經設置以支援或提供第二框架500及第三框架330相對於第一框架400的相對移動，且第二滾珠軸承部分或第二可移動部分920可經設置以支援或提供第三框架330相對於第二框架500的相對移動。在例示性實施例中，滾珠軸承用作第一可移動部分910及第二可移動部分920，但不限於此。第一可移動部分910可為可提供第二框架500及第三框架330相對於第一框架400的相對移動的任何類型的部分，且第二可移動部分920可為可提供第三框架330相對於第二框架500的相對移動的任何類型的部分。
就此而言，將參看圖2A至圖7B提供詳細描述。
自動聚焦驅動部分700可用於自動聚焦或變焦功能。
自動聚焦或變焦功能可藉由自動聚焦驅動部分700經由允許第一框架400可在光軸方向(Z軸方向)上移動而執行。
舉例而言，自動聚焦驅動部分700可包含第三磁體710、第三線圈730以及第三基板770。第三磁體710可設置於第一框架400的一個表面上。第三線圈730可安置成面向第三磁體710。第三基板770可將電力施加至第三線圈730。自動聚焦驅動部分700可更包含被配置以感測第三磁體710的位置的第三霍耳感測器750。
第三線圈730可安裝於第三基板770上以藉此安置成面向第三磁體710且第三基板770可固定至外殼200的一個表面。
自動聚焦驅動部分700可藉由第三磁體710與第三線圈730之間的電磁相互作用在光軸方向(Z軸方向)上移動第一框架400。
舉例而言，第三磁體710可形成磁場，且當電力經施加至第三線圈730時，驅動力可藉由第三磁體710與第三線圈730之間的電磁相互作用而產生以允許第一框架400在光軸方向(Z軸方向)上移動。
此處，由於第三框架330及第二框架500容納於第一框架400中，因此當第一框架400在光軸方向(Z軸方向)上移動時，第三框架330及第二框架500亦可連同第一框架400一起在光軸方向(Z軸方向)上移動。
亦即，第一框架400、第二框架500以及第三框架330可藉由自動聚焦驅動部分700在光軸方向(Z軸方向)上可移動。
在此狀況下，第一框架400、第二框架500及第三框架330可相對於外殼200進行移動。
第三滾珠軸承部分或第三可移動部分930可在光軸方向(Z軸方向)上設置於第一框架400的一個表面上以支援或提供第一框架400、第二框架500以及第三框架330相對於外殼200的相對移動。在例示性實施例中，滾珠軸承用作第三可移動部分930，但不限於此。第三可移動部分930可為可提供第一框架400相對於外殼200的相對移動的任何類型的部分。
第三可移動部分930可安置於第三磁體710的兩側處或 接近第三磁體710的兩側，與外殼200的內表面及第一框架400的一個表面接觸且在光軸方向(Z軸方向)上以滾動運動進行移動。
分離防止部件230可設置或形成為在外殼200的頂表面上鄰近於第三磁體710。
分離防止部件230可用以防止第三滾珠軸承部分或第三可移動部分930在外殼200與第一框架400之間分離。
圖2A為說明設置於根據本揭露內容中之例示性實施例之相機模組中的第一框架及第一可移動部分的透視圖，且圖2B為說明設置於根據本揭露內容中之例示性實施例之相機模組中的第一框架及第一可移動部分的平面圖。
此外，圖3A為說明第二框架容納在設置於根據本揭露內容中之例示性實施例之相機模組中的第一框架中的狀態的透視圖，且圖3B為說明第二框架容納在設置於根據本揭露內容中之例示性實施例之相機模組中的第一框架中的狀態的平面圖。
另外，圖4A為圖3A的部分剖示透視圖，且圖4B為沿圖3B之線A-A'截取的橫截面圖。
首先，將參看圖2A至圖4B描述第一干擾補償部分610。
第二框架500可容納於第一框架400中且可藉由第一干擾補償部分610在第一方向(X軸方向)上可移動。
此處，諸如滾珠軸承的第一可移動部分910可設置於第一框架400與第二框架500之間。
在本發明例示性實施例中，四個滾珠軸承設置於第一可移動部分910中，但本發明概念不受設置於本發明實施例的第一 可移動部分910中的滾珠軸承的數目限制。
第一可移動部分910可支撐第二框架500使得第二框架500可在維持與第一框架400的距離的同時在第一方向(X軸方向)上可移動。
第一容納溝槽或第一容納部分410及510可分別形成於第一框架400及第二框架500中以在其中或在其間容納第一滾珠軸承部分或第一可移動部分910。舉例而言，在本發明實施例中，溝槽形成於第一框架400及第二框架500中作為第一容納部分410及510以在其中容納第一滾珠軸承部分910，但不限於此。第一容納部分410及510可具有可與第一可移動部分910相關聯的任何形狀以提供第二框架500相對於第一框架400的相對移動。
第一容納部分410及510可分別形成於第一框架400的內部底表面及第二框架500的底表面中，且(例如)第一滾珠軸承部分910可***至第一容納溝槽410及510中或***於其間使得第一框架400及第二框架500安置成在光軸方向(Z軸方向)上彼此間隔開。
第一容納部分或第一容納溝槽410及510可導引第一滾珠軸承部分或第一可移動部分910在第一方向(X軸方向)上的滾動或移動運動，且限制第一可移動部分910在垂直於第一方向(X軸方向)的方向上的移動。
舉例而言，第一容納部分或第一容納溝槽410及510的寬度(Y軸方向)可形成為對應於第一可移動部分或第一滾珠軸承部分910的大小，且第一容納部分或第一容納溝槽410及510的長度(X軸方向)可形成為在第一方向(X軸方向)上伸長以便允 許第一可移動部分或第一滾珠軸承部分910具有在預定範圍內的滾動或移動運動。
因此，第一滾珠軸承部分或第一可移動部分910可在第一方向(X軸方向)上以滾動運動進行移動，但第一滾珠軸承部分或第一可移動部分910的移動在光軸方向(Z軸方向)及第二方向(Y軸方向)上可受限制。
因此，在第二框架500由第一可移動部分910支撐的狀態下，第二框架500可藉由第一干擾補償部分610在第一方向(X軸方向)上可移動。
為便於解釋，在圖2A至圖4B中，僅第二框架500說明為容納於第一框架400中；然而，第三框架330亦可容納於待在下文描述的第一框架400中，且第三框架330可取決於第二框架500的移動而在第一方向(X軸方向)上可移動。
亦即，第三框架330及第二框架500可藉由第一手部晃動補償部分610而可相對於第一框架400進行移動，且因此諸如在第一方向(X軸方向)上的手部晃動或非預期相機運動的干擾可得以補償。
由於第一滾珠軸承部分或第一可移動部分910的移動在光軸方向(Z軸方向)及第二方向(Y軸方向)上受限制，因此第二框架500及第三框架330可藉由第一干擾補償部分610的驅動力而僅可在第一方向(X軸方向)上移動。
圖5A為說明設置於根據本揭露內容中之例示性實施例之相機模組中的第一及第二框架以及第二可移動部分的透視圖，且圖5B為說明設置於根據本揭露內容中之例示性實施例之相機 模組中的第一及第二框架以及第二可移動部分的平面圖。
此外，圖6A為說明第二及第三框架容納在設置於根據本揭露內容中之例示性實施例之相機模組中的第一框架中的狀態的透視圖，且圖6B為說明第二及第三框架容納在設置於根據本揭露內容中之例示性實施例之相機模組中的第一框架中的狀態的平面圖。
另外，圖7A為圖6A的部分剖示透視圖，且圖7B為沿圖6B之線B-B'截取的橫截面圖。
將參看圖6A至圖7B描述第二干擾補償部分620。
第二框架500及第三框架330可容納於第一框架400中。
第二框架500及第三框架330可依序***至或堆疊於第一框架400中，且第一框架400、第二框架500以及第三框架330可安置成在光軸方向(Z軸方向)上彼此間隔開。
如上文所描述，第二框架500及第三框架330可藉由第一干擾補償部分610在第一方向(X軸方向)上可移動。
此處，第三框架330單獨地可藉由第二干擾補償部分620在第二方向(Y軸方向)上可移動。
第二滾珠軸承部分或第二可移動部分920可設置於第二框架500與第三框架330之間。
在本發明例示性實施例中，四個滾珠軸承設置於第二可移動部分920中，但本發明概念並不限制設置於本發明實施例的第二可移動部分920中的滾珠軸承的數目。
第二滾珠軸承部分或第二可移動部分920可支撐第三框架330使得第三框架330可在維持與第二框架500的距離的同時 在第二方向(Y軸方向)上可移動。
第二容納溝槽或第二容納部分520及331可分別形成於第二框架500及第三框架330中以在其中或在其間容納第二滾珠軸承部分或第二可移動部分920。舉例而言，在本發明實施例中，溝槽形成於第二框架500及第三框架330中作為第二容納部分520及331以在其中或其間容納第二滾珠軸承部分920，但不限於此。第二容納部分520及331可具有可與第二可移動部分920相關聯的任何形狀以提供第三框架330相對於第二框架500的相對移動。
第二容納部分或溝槽520及331可分別形成於第二框架500的頂表面及第三框架330的底表面中，且第二可移動部分或第二滾珠軸承部分920可***至第二容納部分或第二容納溝槽520及331中或***於其間使得第二框架500及第三框架330安置成在光軸方向(Z軸方向)上彼此間隔開。
第二容納部分或第二容納溝槽520及331可導引第二可移動部分或第二滾珠軸承部分920在第二方向(Y軸方向)上的滾動運動，且限制第二可移動部分920在垂直於第二方向(Y軸方向)的方向上的移動。
舉例而言，第二容納部分或第二容納溝槽520及331的寬度(X軸方向)可形成為對應於第二可移動部分或第二滾珠軸承部分920的大小，且第二容納部分或第二容納溝槽520及331的長度(X軸方向)可形成為在第二方向(Y軸方向)上伸長以便允許第二可移動部分或第二滾珠軸承部分920具有在預定範圍內的移動或滾動運動。
因此，第二可移動部分或第二滾珠軸承部分920可在第 二方向(Y軸方向)上以移動或滾動運動進行移動，但第二可移動部分920的移動在光軸方向(Z軸方向)及第一方向(X軸方向)上可受限制。
因此，在第三框架330由第二可移動部分920支撐的狀態下，第三框架330可藉由第二干擾補償部分620在第二方向(Y軸方向)上可移動。
亦即，第三框架330可藉由第二干擾補償部分620相對於第二框架500進行相對移動，且因此諸如在第二方向(Y軸方向)上的手部晃動或非預期相機運動的干擾可得以補償。
由於第二可移動部分920的移動在光軸方向(Z軸方向)及第一方向(X軸方向)上受限制，因此第三框架330可藉由第二干擾補償部分620的驅動力而僅可在第二方向(Y軸方向)上移動。
亦即，第三框架330可藉由第一干擾補償部分610的驅動力而在第一方向(X軸方向)上且藉由第二干擾補償部分620的驅動力而在第二方向(Y軸方向)上可獨立移動。
舉例而言，第三框架330可藉由第一干擾補償部分610的驅動力而僅可在第一方向(X軸方向)上移動，但第一干擾補償部分610可能不在第二方向(Y軸方向)及光軸方向(Z軸方向)上移動第三框架330。此外，第三框架330可藉由第二干擾補償部分620的驅動力而僅可在第二方向(Y軸方向)上移動，但第二干擾補償部分620可能不在第一方向(X軸方向)及光軸方向(Z軸方向)上移動第三框架330。
此外，第二框架500可藉由第一干擾補償部分610的驅 動力而僅可在第一方向(X軸方向)上在第一框架400內移動，但第一干擾補償部分610可能不在第二方向(Y軸方向)及光軸方向(Z軸方向)上移動第二框架500。此外，甚至藉由第二干擾補償部分620的驅動力，第二框架500仍可能無法在第二方向(Y軸方向)及光軸方向(Z軸方向)上可移動。
因此，第二框架500可僅在第一方向(X軸方向)上以一個自由度在第一框架400內可移動。
此外，第三框架330可在第一方向(X軸方向)及/或第二方向(Y軸方向)上以兩個自由度在第一框架400內可移動。
此處，第一框架400可在光軸方向(Z軸方向)上以一個自由度可移動。由於第二框架500及第三框架330安置於第一框架400內或耦接至第一框架400，因此第二框架500及第三框架330可連同第一框架400一起在光軸方向(Z軸方向)上可移動。
亦即，第二框架500可獨立地在第一框架400內具有一個自由度，且第三框架330亦可獨立地在第一框架400內具有兩個自由度，且因此第二框架500及第三框架330可連同第一框架400一起在光軸方向(Z軸方向)上可移動。
如上文所描述，由於第一可移動部分910及第二可移動部分920支撐第三框架330，因此驅動移位的產生可在補償諸如手部晃動的干擾時得以防止。
同時，第一干擾補償部分610的驅動力可大於第二干擾補償部分620的驅動力。
由於第一干擾補償部分610需要移動第二框架500及第三框架330，因此第一干擾補償部分610可產生比第二干擾補償部 分620所產生的驅動力的量大的量的驅動力以用於移動第三框架330。
因此，設置於第一手部晃動補償部分610中的第一磁體611可包含相對於彼此對稱地安置的兩個或兩個以上磁體。
此外，第一線圈613可包含安置成分別面向第一磁體611的兩個或兩個以上磁體的兩個或兩個以上線圈。
另外，自動聚焦驅動部分700的驅動力可大於第一干擾補償部分610及第二干擾補償部分620的驅動力。
由於自動聚焦驅動部分700需要移動第一框架400、第二框架500以及第三框架330中的全部，因此自動聚焦驅動部分700可產生的驅動力的量比第一干擾補償部分610所產生的驅動力的量大以移動第二框架500及第三框架330，且產生的驅動力的量比第二干擾補償部分620所產生的驅動力的量大以移動第三框架330。
圖8為說明根據本揭露內容中之例示性實施例之干擾補償部分與磁軛部分之間的關係的透視圖。
將參看圖8描述根據本揭露內容中之例示性實施例之干擾補償部分600(參見圖1)的驅動。
根據例示性實施例的相機模組1000可包含設置成在光軸方向(Z軸方向)上面向干擾補償部分600的多個磁軛部分231及233，其中多個磁軛部分231及233可安裝於第一框架400中。
舉例而言，第一磁軛部分231可安裝於第一框架400中以在光軸方向(Z軸方向)上面向第一干擾補償部分610，且第二磁軛部分233可安裝於第一框架400中以在光軸方向(Z軸方向) 上面向第二干擾補償部分620。
此處，磁力可在光軸方向(Z軸方向)上作用於干擾補償部分600與第一框架400之間。
舉例而言，安裝於第一框架400中的第一磁軛部分231及第二磁軛部分233可由磁性材料形成，且因此磁力可作用於第一磁軛部分231與第一干擾補償部分610之間及第二磁軛部分233與第二干擾補償部分620之間。磁力可指(例如)電吸引力。
第一磁軛部分231及第二磁軛部分233可固定至第一框架400，且因此第一手部晃動補償部分610及第二手部晃動補償部分620可分別藉由磁力在朝向第一磁軛部分231及第二磁軛部分233的方向上被拉動。
因此，第三框架330可在朝向第一框架400的方向被拉動，所述第三框架330包含或耦接至安裝於其中的第一干擾補償部分610及第二干擾補償部分620，所述第一框架400包含安裝於其中的第一磁軛部分231及第二磁軛部分233。
因此，第一框架400及第二框架500可維持與第一可移動部分或第一滾珠軸承部分910接觸的狀態，且第二框架500及第三框架330可維持與第二可移動部分或第二滾珠軸承部分920接觸的狀態。
因此，即使經由外部衝擊及其類似者，第三框架330、第一框架400以及第二框架500仍可維持其間的距離，且因此根據例示性實施例的相機模組1000可確保抵抗外部衝擊及其類似者的可靠性。
同時，在驅動信號未施加至第一干擾補償部分610及第 二干擾補償部分620的狀態下，第二框架500及第三框架330藉由電吸引力在第一方向(X軸方向)及第二方向(Y軸方向)上可不移動但固定。
當將驅動信號施加至第一干擾補償部分610時，可藉由第一磁體611與第一線圈613之間的電磁相互作用在第一方向(X軸方向)上產生驅動力。
在此狀況下，由於第一干擾補償部分610的驅動力的量值大於第一磁體611與第一磁軛部分231之間的電吸引力，因此第二框架500及第三框架330可藉由第一干擾補償部分610的驅動力在第一方向(X軸方向)上可移動。
然而，當施加至第一干擾補償部分610的驅動信號經移除或終止(terminate)時，第二框架500及第三框架330可藉由第一磁體611與第一磁軛部分231之間的電吸引力返回至初始位置。
此處，初始位置可指(例如)第二框架500及第三框架330在驅動信號經施加至第一干擾補償部分610之前的位置。
此外，當將驅動信號施加至第二干擾補償部分620時，可藉由第二磁體621與第二線圈623之間的電磁相互作用在第二方向(Y軸方向)上產生驅動力。
在此狀況下，由於第二干擾補償部分620的驅動力的量值大於第二磁體621與第二磁軛部分233之間的電吸引力，因此第三框架330可藉由第二干擾補償部分620的驅動力在第二方向(Y軸方向)上可移動。
然而，當施加至第二干擾補償部分620的驅動信號經移除或終止時，第三框架330可藉由第二磁體621與第二磁軛部分 233之間的電吸引力返回至初始位置。
此處，初始位置可指(例如)第三框架330在驅動信號經施加至第二干擾補償部分620之前的位置。
下文將描述自動聚焦驅動部分700與干擾補償部分600之間的相對安置。
在本發明實施例中，自動聚焦驅動部分700可基於第三框架330安置在垂直於光軸方向(Z軸方向)的平面的一側處，且干擾補償部分600可安置在垂直於光軸方向(Z軸方向)的平面的除其安置有自動聚焦驅動部分700的一側外的其他側處。
舉例而言，干擾補償部分600可安置在垂直於光軸方向(Z軸方向)的平面的三側處。
歸因於上述結構，設置於第一干擾補償部分610中的兩個磁體(第一磁體611)可安置成彼此平行，且設置於第二干擾補償部分620中的第二磁體621可安置成與設置於自動聚焦驅動部分700中的第三磁體710平行。
舉例而言，第一磁體611的兩個磁體可面向彼此，且第三框架330可安置或定位於第一磁體611的磁體之間。
此外，第二磁體621及第三磁體710可面向彼此，且第三框架330可安置或定位於第二磁體621與第三磁體710之間。
因此，第一磁體611的兩個磁體面向彼此所在的方向(亦即，X軸方向)可垂直於第二磁體621及第三磁體710面向彼此所在的方向(亦即，Y軸方向)，且第三框架330可由第一磁體611、第二磁體621以及第三磁體710封圍。
構成自動聚焦驅動部分700的第三磁體710可設置於第 一框架400中，且構成干擾補償部分600的第一磁體611及第二磁體621可設置於第三框架330中。
由於第三框架330容納於第一框架400中，因此第一磁體611及第二磁體621可安置成在垂直於光軸方向(Z軸方向)的平面上比第三磁體710更接近光軸。
同時，第一框架400的對應於第一磁體611及第二磁體621的部分可形成為開放的。
第一線圈613及第二線圈623可安置於第一框架400的開放部分中，使得設置於第三框架330中的第一磁體611及第二磁體621可安置成分別面向第一線圈613及第二線圈623。
由於第三線圈730安置成面向安置於第一框架400的一個表面上的第三磁體710，因此第三線圈730可定位於第一框架400的外部。
因此，第一線圈613及第二線圈623可安置成在垂直於光軸方向(Z軸方向)的平面上比第三線圈730更接近光軸。
亦即，在根據例示性實施例的相機模組1000中，干擾補償部分600可安置成在垂直於光軸的平面上比自動聚焦驅動部分700更接近光軸。
此外，在第三磁體710安裝於第一框架400上的狀態下，第一框架400可藉由自動聚焦驅動部分700在光軸方向(Z軸方向)上可移動，且在第一磁體611及第二磁體621安裝於第三框架330上的狀態下，容納於第一框架400中的第三框架330可取決於第一框架400的移動而在光軸方向(Z軸方向)上可移動。
亦即，在根據例示性實施例的相機模組1000中，第一磁 體611、第二磁體621以及第三磁體710中的全部可藉由自動聚焦驅動部分700在光軸方向(Z軸方向)上可移動。
同時，由於第三框架330可藉由干擾補償部分600相對於第一框架400進行相對移動，因此第一磁體611及第二磁體621可在第一方向(X軸方向)及第二方向(Y軸方向)以及光軸方向(Z軸方向)上可移動。
在根據例示性實施例的相機模組1000中，自動聚焦驅動部分700可不受干擾補償部分600的驅動力影響。
由於第二框架500及第三框架330可受干擾補償部分600的驅動力影響並藉由其移動且第一框架400可不移動，因此安裝於第一框架400上的第三磁體710在補償諸如手部晃動的干擾時不移動。
因此，歸因於待在補償諸如手部晃動或非預期相機運動的干擾時驅動或移動的元件的數目的減少，電力消耗可減少。
舉例而言，在需要補償第一方向(X軸方向)上的手部晃動或非預期運動的狀況下，僅移動第二框架500及第三框架330，且在需要補償第二方向(Y軸方向)上的手部晃動或不當相機運動的狀況下，僅移動第三框架330，但不移動上面安裝有自動聚焦驅動部分700的第一框架400，且因此可減少干擾補償所需的電力消耗。
圖9為說明根據本揭露內容中之例示性實施例之設置於第一干擾補償部分中的第一磁體及第一線圈的透視圖；圖10A及圖10B為說明根據本揭露內容中之例示性實施例之設置於第一干擾補償部分中的第一磁體及第一線圈的側視圖；且圖11為沿圖9 之線C-C'截取的橫截面圖。
設置於第一干擾補償部分610中的第一磁體611及第一線圈613可安置成在第一方向(X軸方向)上面向彼此以在第一方向(X軸方向)上產生驅動力。
此處，第一磁體611的大小可小於第一線圈613的大小。
此外，第一線圈613可具有(例如，但不限於)環形形狀，其具有形成於其中的中空部。
因此，如圖10A中所繪示，當在第一方向(X軸方向，自第一線圈613向光軸的方向)上檢視時，第一磁體611的外邊緣可被第一線圈613阻擋以藉此不可見，但第一磁體611的中心部分可經由第一線圈613的中空部為可見的。
此外，如圖10B中所繪示，當在第一方向(X軸方向，自光軸向第一線圈613的方向)上檢視時，第一線圈613的中空部可被第一磁體611阻擋以藉此不可見，但第一線圈613的外邊緣可視為突出於第一磁體611外部。
因此，當在第一方向(X軸方向)上檢視時，第一磁體611在光軸方向(Z軸方向)上的兩個末端部分與第一線圈613的部分可彼此重疊。
歸因於磁體及線圈的上述安置，可藉由第一磁體611與第一線圈613之間的電磁相互作用在第一方向(X軸方向)上產生驅動力，如圖11中所繪示。
為便於解釋，參看圖9至圖11僅詳細描述第一手部晃動補償部分610的第一磁體611及第一線圈613，但設置於第二手部晃動補償部分620中的第二磁體621及第二線圈623的安置與如 上文參看圖9至圖11所描述的第一磁體611及第一線圈613的安置相同。因此，第二干擾補償部分620可在第二方向(Y軸方向)上產生驅動力。
如上文所闡述，根據本揭露內容的一些例示性實施例，相機模組1000可確保抵抗外部衝擊的可靠性且防止在補償諸如手部晃動或非預期相機運動的干擾時產生驅動移位。
此外，相機模組1000可減少電力消耗。
雖然上文已示出並描述了例示性實施例，但對於熟習此項技術者將顯而易見的是，可在不脫離如由所附申請專利範圍所界定的本發明之範疇的情況下作出修改及變化。
100‧‧‧殼體
200‧‧‧外殼
210‧‧‧擋止件
230‧‧‧分離防止部件
231‧‧‧第一磁軛部分
233‧‧‧第二磁軛部分
300‧‧‧透鏡模組
310‧‧‧鏡身
330‧‧‧第三框架
400‧‧‧第一框架
500‧‧‧第二框架
600‧‧‧透鏡驅動裝置/手部晃動補償部分或干擾補償部分
610‧‧‧第一手部晃動補償部分或第一干擾補償部分
611‧‧‧第一磁體
613‧‧‧第一線圈
615‧‧‧第一霍耳感測器
620‧‧‧第二手部晃動補償部分或第二干擾補償部分
621‧‧‧第二磁體
623‧‧‧第二線圈
625‧‧‧第二霍耳感測器
630‧‧‧第二基板
700‧‧‧透鏡驅動裝置/自動聚焦驅動部分
710‧‧‧第三磁體
730‧‧‧第三線圈
750‧‧‧第三霍耳感測器
770‧‧‧第三基板
800‧‧‧第一基板
810‧‧‧影像感測器
910‧‧‧第一滾珠軸承部分或第一可移動部分
920‧‧‧第二滾珠軸承部分或第二可移動部分
930‧‧‧第三滾珠軸承部分或第三可移動部分
1000‧‧‧相機模組

Claims (59)

  1. 一種相機模組，包括：第一框架，容納於外殼中；以及第二框架及第三框架，容納於所述第一框架中，其中所述第二框架及所述第三框架被配置以可相對於所述第一框架移動，且所述第三框架被配置以可相對於所述第二框架移動。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的相機模組，其中所述第二框架及所述第三框架安置成在光軸方向上與所述第一框架間隔開。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的相機模組，其中所述第二框架及所述第三框架可在垂直於光軸的第一方向上相對於所述第一框架移動。
  4. 如申請專利範圍第3項所述的相機模組，其中第一可移動部分安置於所述第一框架與所述第二框架之間且被配置以在所述第一方向上運動。
  5. 如申請專利範圍第4項所述的相機模組，其中所述第一可移動部分包括可在所述第一方向上滾動的一或多個滾珠軸承。
  6. 如申請專利範圍第4項所述的相機模組，其中所述第一框架及所述第二框架具備與所述第一可移動部分相關聯的第一容納部分。
  7. 如申請專利範圍第6項所述的相機模組，其中所述第一容納部分具有容納包括於所述第一可移動部分中的一或多個滾珠軸承的溝槽。
  8. 如申請專利範圍第6項所述的相機模組，其中所述第一容 納部分經形成以導引所述第一可移動部分在所述第一方向上的所述運動，且限制所述第一可移動部分在垂直於所述第一方向的方向上的移動。
  9. 如申請專利範圍第3項所述的相機模組，更包括被配置以在所述第一方向上移動所述第二框架及所述第三框架的第一干擾補償部分。
  10. 如申請專利範圍第9項所述的相機模組，其中所述第一干擾補償部分包含耦接至所述第三框架的一或多個第一磁體及安置成面向所述第一磁體的一或多個第一線圈。
  11. 如申請專利範圍第10項所述的相機模組，其中所述一或多個第一磁體及所述一或多個第一線圈在所述第一方向上面向彼此。
  12. 如申請專利範圍第10項所述的相機模組，其中所述一或多個第一磁體小於所述一或多個第一線圈。
  13. 如申請專利範圍第12項所述的相機模組，其中所述一或多個第一線圈具有環形形狀，且所述一或多個第一磁體及所述一或多個第一線圈安置成當在所述第一方向上加以檢視時彼此部分地重疊。
  14. 如申請專利範圍第10項所述的相機模組，其中所述第一磁體對稱地安置為兩個，且所述第三框架安置於兩個所述第一磁體之間。
  15. 如申請專利範圍第14項所述的相機模組，其中所述第一線圈安置成兩個，且兩個所述第一線圈在所述第一方向上分別面向兩個所述第一磁體。
  16. 如申請專利範圍第3項所述的相機模組，其中所述第三框架可在垂直於所述光軸及所述第一方向兩者的第二方向上相對於所述第二框架移動。
  17. 如申請專利範圍第16項所述的相機模組，其中第二可移動部分安置於所述第二框架與所述第三框架之間且被配置以在所述第二方向上運動。
  18. 如申請專利範圍第17項所述的相機模組，其中所述第二可移動部分包括可在所述第二方向上滾動的一或多個滾珠軸承。
  19. 如申請專利範圍第17項所述的相機模組，其中所述第三框架及所述第二框架具備與所述第二可移動部分相關聯的第二容納部分。
  20. 如申請專利範圍第19項所述的相機模組，其中所述第二容納部分具有容納包括於所述第二可移動部分中的一或多個滾珠軸承的溝槽。
  21. 如申請專利範圍第19項所述的相機模組，其中所述第二容納部分經形成以導引所述第二可移動部分在所述第二方向上的所述運動，且限制所述第二可移動部分在垂直於所述第二方向的方向上的移動。
  22. 如申請專利範圍第16項所述的相機模組，更包括被配置以在所述第二方向上移動所述第三框架的第二干擾補償部分。
  23. 如申請專利範圍第22項所述的相機模組，其中所述第二干擾補償部分包含耦接至所述第三框架的第二磁體及安置成面向所述第二磁體的第二線圈。
  24. 如申請專利範圍第23項所述的相機模組，其中所述第二 磁體及所述第二線圈在所述第二方向上面向彼此。
  25. 如申請專利範圍第24項所述的相機模組，其中所述第二磁體小於所述第二線圈。
  26. 如申請專利範圍第24項所述的相機模組，其中所述第二線圈具有環形形狀，且所述第二磁體及所述第二線圈安置成當在所述第二方向上加以檢視時彼此部分地重疊。
  27. 如申請專利範圍第1項所述的相機模組，其中所述第一框架、所述第二框架以及所述第三框架可相對於所述外殼移動。
  28. 如申請專利範圍第27項所述的相機模組，其中所述第一框架、所述第二框架以及所述第三框架可在光軸方向上相對於所述外殼移動。
  29. 如申請專利範圍第28項所述的相機模組，其中第三可移動部分安置於所述第一框架與所述外殼之間且被配置以在所述光軸方向上運動。
  30. 如申請專利範圍第29項所述的相機模組，其中所述第三可移動部分包括可在所述光軸方向上滾動的滾珠軸承。
  31. 如申請專利範圍第28項所述的相機模組，更包括被配置以在所述光軸方向上移動所述第一框架、所述第二框架以及所述第三框架的自動聚焦驅動部分。
  32. 如申請專利範圍第31項所述的相機模組，其中所述自動聚焦驅動部分包含耦接至所述第一框架的第三磁體及安置成面向所述第三磁體的第三線圈。
  33. 如申請專利範圍第1項所述的相機模組，更包括： 第一干擾補償部分，在垂直於光軸的第一方向上移動所述第二框架及所述第三框架；以及第二干擾補償部分，其在垂直於所述光軸及所述第一方向兩者的第二方向上移動所述第三框架，其中所述第一干擾補償部分的驅動力的量值不同於所述第二干擾補償部分的驅動力的量值。
  34. 如申請專利範圍第33項所述的相機模組，更包括被配置以在光軸方向上移動所述第一框架、所述第二框架以及所述第三框架的自動聚焦驅動部分，其中所述自動聚焦驅動部分的驅動力的量值大於所述第一干擾補償部分的所述驅動力的所述量值及所述第二干擾補償部分的所述驅動力的所述量值。
  35. 如申請專利範圍第34項所述的相機模組，其中所述第一干擾補償部分及所述第二干擾補償部分安置成比所述自動聚焦驅動部分更接近所述光軸。
  36. 如申請專利範圍第34項所述的相機模組，其中所述第三框架由所述第一干擾補償部分及所述第二干擾補償部分以及所述自動聚焦驅動部分封圍。
  37. 如申請專利範圍第1項所述的相機模組，其中鏡身耦接至所述第三框架。
  38. 一種相機模組，其包括：第一框架，被配置以可在光軸方向上以一個自由度移動；以及第二框架及第三框架，在所述光軸方向上依序安置於所述第 一框架內，其中所述第二框架被配置以可在垂直於所述光軸方向的第一方向上以所述一個自由度在所述第一框架內移動，且所述第三框架被配置以可在所述第一方向及/或垂直於所述光軸方向及所述第一方向兩者的第二方向上以兩個自由度在所述第一框架內移動。
  39. 如申請專利範圍第38項所述的相機模組，其中第一可移動部分安置於所述第一框架與所述第二框架之間且被配置以在所述第一方向上運動。
  40. 如申請專利範圍第39項所述的相機模組，其中所述第一可移動部分包括可在所述第一方向上滾動的一或多個滾珠軸承。
  41. 如申請專利範圍第39項所述的相機模組，其中所述第一框架及所述第二框架具備與所述第一可移動部分相關聯的第一容納部分。
  42. 如申請專利範圍第41項所述的相機模組，其中所述第一容納部分具有容納包括於所述第一可移動部分中的一或多個滾珠軸承的溝槽。
  43. 如申請專利範圍第41項所述的相機模組，其中所述第一容納部分在所述第一方向上的長度大於所述第一容納部分在所述第二方向上的長度。
  44. 如申請專利範圍第38項所述的相機模組，更包括被配置以在所述第一方向上移動所述第二框架及所述第三框架的第一干擾補償部分。
  45. 如申請專利範圍第38項所述的相機模組，其中第二可移 動部分安置於所述第二框架與所述第三框架之間且被配置以在所述第二方向上運動。
  46. 如申請專利範圍第45項所述的相機模組，其中所述第二可移動部分包括可在所述第二方向上滾動的一或多個滾珠軸承。
  47. 如申請專利範圍第45項所述的相機模組，其中所述第二框架及所述第三框架具備與所述第二可移動部分相關聯的第二容納部分。
  48. 如申請專利範圍第47項所述的相機模組，其中所述第二可移動部分包括可在所述第二方向上滾動的一或多個滾珠軸承。
  49. 如申請專利範圍第47項所述的相機模組，其中所述第二容納部分在所述第二方向上的長度大於所述第二容納部分在所述第一方向上的長度。
  50. 如申請專利範圍第38項所述的相機模組，更包括被配置以在所述第二方向上移動所述第三框架的第二干擾補償部分。
  51. 如申請專利範圍第38項所述的相機模組，更包括：外殼，將所述第一框架容納於其中；以及第三可移動部分，其安置於所述第一框架與所述外殼之間且被配置以在所述光軸方向上運動。
  52. 如申請專利範圍第51項所述的相機模組，其中所述第三可移動部分包括可在所述光軸方向上滾動的一或多個滾珠軸承。
  53. 如申請專利範圍第51項所述的相機模組，更包括被配置以在所述光軸方向上移動所述第一框架、所述第二框架以及所述第三框架的自動聚焦驅動部分。
  54. 一種相機模組，包括： 第一框架；以及第二框架及第三框架，容納於所述第一框架中，其中所述第一框架至所述第三框架被配置以可在光軸方向上移動從而調整透鏡焦聚，所述第二框架及所述第三框架被配置以可在垂直於所述光軸方向的第一方向上在所述第一框架內移動，從而補償干擾，且所述第三框架被配置以可在垂直於所述光軸方向及所述第一方向兩者的第二方向上移動，從而補償所述干擾。
  55. 一種相機模組，其包括：外框架，被配置以可沿光軸移動；以及多個內框架，安置於所述外框架中且可在所述外框架中移動，其中一個所述內框架被配置以可在不同於另一個所述內框架的方向上移動。
  56. 如申請專利範圍第55項所述的相機模組，更包括：第一干擾補償部分，被配置以在第一方向上移動所述內框架；以及第二干擾補償部分，被配置以在第二方向上移動所述一個所述內框架。
  57. 如申請專利範圍第56項所述的相機模組，其中所述第一方向垂直於所述第二方向。
  58. 如申請專利範圍第55項所述的相機模組，更包括耦接至所述一個所述內框架的鏡身。
  59. 如申請專利範圍第55項所述的相機模組，更包括分別安置於所述外框架與所述另一個所述內框架之間及所述內框架之間 的可移動部分。
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