TW201431941A - 丙烯酸系共聚物、光學膜、偏光板及液晶顯示裝置 - Google Patents

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Yasuhiro Koike
Akihiro Tagaya
Sayako UCHIZAWA
Akira Matsuo
Yasuo Matsumura
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Abstract

本發明之課題在於提供一種配向雙折射及光彈性雙折射均較小且透明性及耐熱性優異之光學膜、以及具備該光學膜之偏光板及液晶顯示裝置。本發明之丙烯酸系共聚物含有N-芳香族取代順丁烯二醯亞胺單元0.5~35質量%、與製成均聚物時顯示負固有雙折射之(甲基)丙烯酸烷基酯單元60~85質量%作為構成單元。

Description

丙烯酸系共聚物、光學膜、偏光板及液晶顯示裝置
本發明係關於一種丙烯酸系共聚物，更詳細而言，關於一種於成形為膜狀之情形時配向雙折射及光彈性雙折射均較小且透明性、耐熱性及可撓性優異之丙烯酸系共聚物、以及使用其之光學膜、偏光板及液晶顯示裝置。
各種光學相關機器中所使用之膜狀之光學構件(例如液晶顯示裝置中所使用之膜、或角柱薄片之基板等)通常被稱為「光學膜」。該光學膜之重要光學特性之一有雙折射性。即，存在光學膜具有較大之雙折射性為不佳之情形。尤其是於IPS(In-Plane Switching，橫向電場效應)模式之液晶顯示裝置中，有因存在雙折射性較大之膜而對像質產生不良影響之虞，因此期望液晶顯示裝置所使用之偏光板之保護膜等使用雙折射性較低之光學膜。
作為偏光板之保護膜所使用之光學膜，例如於日本專利特開2011-242754號公報中揭示有含有以N-取代順丁烯二醯亞胺單元及(甲基)丙烯酸酯單元作為構成單元之(甲基)丙烯酸系聚合物的相位差較小之光學膜。
先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2011-242754號公報
然而，光學膜所顯示之雙折射有其主要原因在於聚合物主鏈之配向的配向雙折射與起因於對膜施加之應力之光彈性雙折射。
配向雙折射係通常藉由鏈狀之聚合物之主鏈進行配向而表現的雙折射，該主鏈之配向例如係於製造膜時之擠出成形或延伸等伴隨材料之流動之製程中產生，且其被固定於膜上而殘留。
另一方面，光彈性雙折射為伴隨膜之彈性變形所引起之雙折射。例如彈性應力因於自聚合物之玻璃轉移溫度附近冷卻至其以下之溫度時所產生之體積收縮而殘存於膜內，其成為光彈性雙折射之原因。又，亦會因光學膜於通常溫度下以固定於機器上之狀態受到之外力而於膜產生應力，表現出光彈性雙折射。
對於偏光板、尤其是應用於IPS用偏光板之光學膜，除期待透明性及耐熱性良好以外，亦期待其配向雙折射及光彈性雙折射之兩者充分小。
於日本專利特開2011-242754號公報中雖然有關於相位差較小即配向雙折射較小之光學膜之記載，但並無關於光彈性雙折射之記載，於該專利申請公開公報中並未實現透明性、耐熱性、配向雙折射及光彈性雙折射全部良好之光學膜。
因此，本發明之目的在於提供一種於成形為膜狀之情形時配向雙折射及光彈性雙折射均較小，且透明性、耐熱性及可撓性優異之丙烯酸系共聚物。又，本發明之目的在於提供一種含有該丙烯酸系共聚物而成之光學膜、及具備該光學膜之偏光板及液晶顯示裝置。
本發明之丙烯酸系共聚物係含有N-芳香族取代順丁烯二醯亞胺單元0.5~35質量%、與製成均聚物時顯示負固有雙折射之(甲基)丙烯酸烷基酯單元60~85質量%作為構成單元而成。
根據本發明，可實現於成形為膜狀之情形時配向雙折射及光彈性雙折射均較小，且透明性、耐熱性及可撓性優異之丙烯酸系共聚物。因此，使用本發明之丙烯酸系共聚物之光學膜可較佳地用作液晶顯示裝置等光學相關機器所使用的光學膜，尤其是可較佳地用作偏光板用保護膜。
於本發明中，較佳為丙烯酸系共聚物進而含有選自由N-烷基取代順丁烯二醯亞胺單元、及製成均聚物時顯示正固有雙折射之(甲基)丙烯酸酯單元所組成之群中的第3構成單元。
於本發明中，較佳為丙烯酸系共聚物係含有上述第3構成單元1~24質量%而成。
於本發明中，N-芳香族取代順丁烯二醯亞胺單元可包含N-苯基順丁烯二醯亞胺單元，又，上述(甲基)丙烯酸烷基酯單元可包含甲基丙烯酸甲酯單元。
於本發明中，上述第三構成單元可包含選自由N-環己基順丁烯二醯亞胺單元、丙烯酸苯氧基乙酯單元、甲基丙烯酸苯氧基乙酯單元、甲基丙烯酸苄酯單元、丙烯酸2,4,6-三溴苯酯單元及甲基丙烯酸2,2,2-三氟乙酯單元所組成之群中之至少一種。
於本發明中，較佳為上述丙烯酸系共聚物之重量平均分子量為0.5×105~3.0×105。
於本發明中，較佳為上述丙烯酸系共聚物之玻璃轉移溫度為120℃以上。
於本發明中，較佳為上述丙烯酸系共聚物之熔融流動速率為1.0g/10min以上。
於本發明中，較佳為上述丙烯酸系共聚物之殘存單體量為3質量%以下。
於本發明中，較佳為上述丙烯酸系共聚物之重量減少1%之熱分 解溫度為285℃以上。
又，本發明之另一態樣之光學膜係將包括含有上述丙烯酸系共聚物之樹脂材料的未延伸膜進行雙軸延伸所得者。
於本發明中，較佳為上述光學膜之面內相位差Re之絕對值及厚度方向相位差Rth的絕對值均為3.0nm以下。
於本發明中，較佳為上述光學膜之光彈性係數C之絕對值為3.0×10-12/Pa以下。
於本發明中，較佳為上述光學膜之依據JIS P8115所測定之MIT耐折度次數為150以上。
又，根據本發明之另一態樣，亦可提供一種具備上述光學膜之偏光板、及具備該偏光板之液晶顯示裝置。
根據本發明，可實現一種於成形為膜狀之情形時配向雙折射及光彈性雙折射均較小，且透明性、耐熱性及可撓性優異之丙烯酸系共聚物。因此，使用本發明之丙烯酸系共聚物之光學膜由於配向雙折射及光彈性雙折射均較小，因此可充分地降低對像質所造成之不良影響，可較佳地用作液晶顯示裝置等光學相關機器所使用之光學膜，尤其是可較佳地用作偏光板用保護膜。
以下對本發明之較佳實施形態進行說明。
<丙烯酸系共聚物>
本發明之丙烯酸系共聚物係含有N-芳香族取代順丁烯二醯亞胺單元0.5~35質量%、與製成均聚物時顯示負固有雙折射之(甲基)丙烯酸烷基酯單元60~85質量%作為必需之構成單元者。再者，於本發明 中，所謂(甲基)丙烯酸，係指丙烯酸或甲基丙烯酸。以下，對構成本發明之丙烯酸系共聚物之單體單元進行說明。
N-芳香族取代順丁烯二醯亞胺單元係由N-芳香族取代順丁烯二醯亞胺單體所得之構成單元。N-芳香族取代順丁烯二醯亞胺單元為芳香族基取代於順丁烯二醯亞胺單元之氮原子上之構成單元，該芳香族基可為單環芳香族基，亦可為多環芳香族基。
N-芳香族取代順丁烯二醯亞胺單元中之芳香族基之碳原子數較佳為6~18，更佳為6~14。
作為N-芳香族取代順丁烯二醯亞胺單元中之芳香族基，可列舉：苯基、萘基、蒽基、菲基等，該等之中，較佳為苯基、萘基，更佳為苯基。
即，作為N-芳香族取代順丁烯二醯亞胺單元，可列舉：N-苯基順丁烯二醯亞胺單元、N-萘基順丁烯二醯亞胺單元、N-蒽基順丁烯二醯亞胺單元、N-菲基順丁烯二醯亞胺單元等，該等之中，較佳為N-苯基順丁烯二醯亞胺單元、N-萘基順丁烯二醯亞胺單元，更佳為N-苯基順丁烯二醯亞胺單元。再者，丙烯酸系共聚物亦可具有一種或兩種以上之N-芳香族取代順丁烯二醯亞胺單元。
丙烯酸系共聚物中之N-芳香族取代順丁烯二醯亞胺單元之含量為0.5質量%以上，較佳為1質量%以上，更佳為3質量%以上，進而較佳為5質量%以上。若N-芳香族取代順丁烯二醯亞胺單元之含量過少，則於製成光學膜之情形時，存在面內相位差Re之絕對值、厚度方向相位差Rth之絕對值及光彈性係數C之絕對值變大之傾向。
又，丙烯酸系共聚物中之N-芳香族取代順丁烯二醯亞胺單元之含量為35質量%以下，較佳為32質量%以下，更佳為29質量%以下。若N-芳香族取代順丁烯二醯亞胺單元之含量過多，則於製成光學膜之情形時，存在面內相位差Re之絕對值、厚度方向相位差Rth之絕對值 及光彈性係數C變大之傾向。
於丙烯酸系共聚物不含如後述之第三構成單元之情形時，丙烯酸系共聚物中之N-芳香族取代順丁烯二醯亞胺單元之含量較佳為15~35質量%，更佳為17~32質量%。藉由將N-芳香族取代順丁烯二醯亞胺單元之含量設為上述範圍，而存在可獲得光學特性更進一步優異之光學膜之傾向。
作為製成均聚物時顯示負固有雙折射之(甲基)丙烯酸烷基酯單元，可列舉：丙烯酸甲酯單元、甲基丙烯酸甲酯單元、甲基丙烯酸異酯單元、甲基丙烯酸二環戊酯單元、甲基丙烯酸乙基金剛烷基酯單元、甲基丙烯酸甲基金剛烷基酯單元、甲基丙烯酸乙酯單元、甲基丙烯酸正丁酯單元、甲基丙烯酸環己酯單元等，該等之中，較佳為丙烯酸甲酯單元、甲基丙烯酸甲酯單元，更佳為甲基丙烯酸甲酯單元。再者，丙烯酸系共聚物亦可具有一種或兩種以上之(甲基)丙烯酸烷基酯單元。
丙烯酸系共聚物中之上述(甲基)丙烯酸烷基酯單元之含量為60質量%以上，較佳為62質量%以上，更佳為65質量%以上。若(甲基)丙烯酸烷基酯單元之含量過少，則存在於光學膜中厚度方向相位差Rth之絕對值及光彈性係數C之絕對值變大之傾向，又，亦存在膜容易黃變之問題。
又，丙烯酸系共聚物中之上述(甲基)丙烯酸烷基酯單元之含量為85質量%以下，較佳為83質量%以下，更佳為80質量%以下。若(甲基)丙烯酸烷基酯單元之含量過多，則存在丙烯酸系共聚物之Tg變低之傾向。
丙烯酸系共聚物除包含上述兩種構成單元以外，亦可包含選自由N-烷基取代順丁烯二醯亞胺單元、及製成均聚物時顯示正固有雙折射之(甲基)丙烯酸酯單元所組成之群中之第3構成單元。於丙烯酸系 共聚物含有上述第3構成單元之情形時，上述N-芳香族取代順丁烯二醯亞胺單元之含量較佳為0.5質量%以上，更佳為1質量%以上，進而較佳為3質量%以上，尤佳為5質量%以上。又，該含量較佳為25質量%以下，更佳為23質量%以下。藉由將N-芳香族取代順丁烯二醯亞胺單元之含量設為上述範圍，而存在可獲得光學特性進一步優異之光學膜之傾向。
又，丙烯酸系共聚物中之N-芳香族取代順丁烯二醯亞胺單元與第3構成單元之合計含量較佳為10質量%以上，更佳為12質量%以上，進而較佳為15質量%以上。又，N-芳香族取代順丁烯二醯亞胺單元與第3構成單元之合計含量較佳為40質量%以下，更佳為38質量%以下，進而較佳為35質量%以下。藉由將N-芳香族取代順丁烯二醯亞胺單元與第三構成單元之合計含量設為上述範圍，而存在可獲得光學特性進一步優異之光學膜之傾向。
N-烷基取代順丁烯二醯亞胺單元為由N-烷基取代順丁烯二醯亞胺單體所得之構成單元。N-烷基取代順丁烯二醯亞胺單元為烷基取代於順丁烯二醯亞胺單元之氮原子上之構成單元，該烷基可為鏈狀烷基，亦可為環狀烷基，較佳為環狀烷基。再者，鏈狀烷基表示不具有環結構之烷基，環狀烷基表示具有環結構之烷基。
N-烷基取代順丁烯二醯亞胺單元中之烷基之碳原子數較佳為1~10，更佳為3~8。
作為N-烷基取代順丁烯二醯亞胺單元中之烷基，可列舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第三丁基、正己基、2-乙基己基、十二烷基、月桂基、環己基等，該等之中，較佳為甲基、乙基、環己基，更佳為環己基。
即，作為N-烷基順丁烯二醯亞胺單元，可列舉：N-甲基順丁烯二醯亞胺單元、N-乙基順丁烯二醯亞胺單元、N-正丙基順丁烯二醯亞 胺單元、N-異丙基順丁烯二醯亞胺單元、N-正丁基順丁烯二醯亞胺單元、N-異丁基順丁烯二醯亞胺單元、N-第三丁基順丁烯二醯亞胺單元、N-正己基順丁烯二醯亞胺單元、N-2-乙基己基順丁烯二醯亞胺單元、N-十二烷基順丁烯二醯亞胺單元、N-月桂基順丁烯二醯亞胺單元、N-環己基順丁烯二醯亞胺單元等，該等之中，較佳為N-甲基順丁烯二醯亞胺單元、N-乙基順丁烯二醯亞胺單元、N-環己基順丁烯二醯亞胺單元，更佳為N-環己基順丁烯二醯亞胺單元。再者，N-烷基順丁烯二醯亞胺單元可為該等之中之一種，亦可含有兩種以上。
作為製成均聚物時顯示正固有雙折射之(甲基)丙烯酸酯單元，可列舉具有芳香環之(甲基)丙烯酸酯單元及具有氟原子之(甲基)丙烯酸酯單元，該等之中，可含有僅一種，又，亦可含有兩種以上。
於具有芳香環之(甲基)丙烯酸酯單元中，作為芳香環，可列舉：苯環、萘環、蒽環等，該等之中，較佳為苯環。作為具有苯環之(甲基)丙烯酸酯單元，例如可列舉：(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯單元、(甲基)丙烯酸苄酯單元、(甲基)丙烯酸2,4,6-三溴苯酯單元、(甲基)丙烯酸苯氧基二乙二醇酯單元、(甲基)丙烯酸聯苯酯單元、(甲基)丙烯酸五氟苄酯單元、(甲基)丙烯酸三氟苯酯單元，該等之中，較佳為(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯單元、(甲基)丙烯酸苄酯單元及(甲基)丙烯酸2,4,6-三溴苯酯單元。
又，作為具有氟原子之(甲基)丙烯酸酯單元，例如可列舉：具有氟取代芳香族基之(甲基)丙烯酸酯單元、具有氟化烷基之(甲基)丙烯酸酯單元。作為具有氟原子之(甲基)丙烯酸酯單元，較佳為(甲基)丙烯酸氟化烷基酯單元，作為(甲基)丙烯酸氟化烷基酯單元，可列舉：(甲基)丙烯酸三氟甲酯單元、(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯單元、(甲基)丙烯酸1-(三氟甲基)-2,2,2-三氟乙酯單元、(甲基)丙烯酸2,2,3,3-四氟丙酯單元、(甲基)丙烯酸2,2,3,3,3-五氟丙酯單元、(甲基)丙烯酸 1H,1H,5H-八氟戊酯單元等，該等之中，較佳為(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯單元。
於丙烯酸系共聚物包含第三構成單元之情形時，第三構成單元之含量可設為1質量%以上，亦可設為2質量%以上。又，丙烯酸系共聚物中之第三構成單元之含量可為26質量%以下，較佳為24質量%以下，更佳為22質量%以下。藉由將第三構成單元之含量設為上述範圍，而存在可獲得光學特性進一步優異之光學膜之傾向。
第3構成單元根據其種類而其最佳含量範圍不同。例如於第3構成單元為N-烷基取代順丁烯二醯亞胺單元之情形時，丙烯酸系共聚物中之第3構成單元之含量較佳為5質量%以上，更佳為7質量%以上，進而較佳為9質量%以上，尤佳為11質量%以上。又，N-烷基取代順丁烯二醯亞胺單元之含量較佳為22質量%以下，更佳為20質量%以下，進而較佳為17質量%以下，尤佳為14質量%以下。藉由將第三構成單元之含量設為上述範圍，而存在可獲得光學特性進一步優異之光學膜之傾向。
又，於第3構成單元為(甲基)丙烯酸酯單元之情形時，丙烯酸系共聚物中之第3構成單元之含量較佳為1質量%以上，更佳為1.5質量%以上，進而較佳為2質量%以上。又，(甲基)丙烯酸酯單元之含量較佳為25質量%以下，更佳為23質量%以下，進而較佳為20質量%以下。藉由將第三構成單元之含量設為上述範圍，而存在可獲得光學特性進一步優異之光學膜之傾向。
關於本發明之丙烯酸系共聚物，就成形為膜之情形時之可撓性及熔融流動速率(MFR)等膜製造效率之觀點而言，重量平均分子量(Mw)較佳為0.5×105~3.0×105，更佳為0.7×105~2.9×105，進而較佳為0.9×105~2.7×105。於本發明中，丙烯酸系共聚物之重量平均分子量之範圍並無限制，通常，若重量平均分子量過高，則存在丙烯酸系共 聚物之熔融時之黏度變得過高，而膜之製造效率變差之情形。例如於使用丙烯酸系共聚物藉由擠出成形機製造膜之情形時，擠出成形機具備用以將樹脂中之異物等去除之過濾器，若樹脂之熔融黏度變得過高，則存在對過濾器施加之壓力變高而過濾器性能下降或視情形過濾器破損之情形。若重量平均分子量為上述範圍內，則可抑制製造膜時之過濾器性能下降，可使製造效率提昇。
再者，本說明書中，丙烯酸系共聚物之重量平均分子量表示藉由Tosoh股份有限公司製造之HLC-8220 GPC(Gel Permeation Chromatography，凝膠滲透層析儀)所測定之標準聚苯乙烯分子量換算之值。再者，管柱係使用Tosoh股份有限公司製造之Super-Multipore HZ-M，測定條件可設為溶劑：HPLC(High Performance Liquid Chromatography，高效液相層析法)用四氫呋喃(THF)、流量：0.35ml/min、管柱溫度：40℃。
本發明之丙烯酸系共聚物之玻璃轉移溫度Tg較佳為120℃以上。藉此，膜之耐熱性進一步提昇，膜對熱之尺寸穩定性提昇，因此作為偏光板用保護膜而成為進一步較佳者。又，對於玻璃轉移溫度Tg之上限並無特別限制，於作為光學膜使用之情形時，就可達成光學膜之充分之耐熱性之觀點而言，可為160℃以下，亦可為150℃以下。
再者，本說明書中，玻璃轉移溫度表示使用SII NanoTechnology公司製造之示差掃描熱量測定裝置DSC7020，根據以升溫速度10℃/min升溫時之玻璃轉移點之起始溫度所求出之值。再者，試樣重量設為5mg~10mg。
本發明之丙烯酸系共聚物之熔融流動速率(MFR)較佳為1.0g/10min以上。由於上述丙烯酸系共聚物之流動性優異，因此藉由熔融擠出之膜成形變容易，膜之製造效率提昇。又，對於熔融流動速率(MFR)之上限並無特別限制，可為40g/10min以下，亦可為30g/10 min以下。
再者，本說明書中，熔融流動速率(MFR)表示使用東洋精機股份有限公司製造之熔融指數儀F-F01於3.8kg重負載、260℃條件下依據JIS K7020所測定之值。
又，本發明之丙烯酸系共聚物之重量減少1%之熱分解溫度(以下亦簡稱為「熱分解溫度」)較佳為285℃以上。本發明之丙烯酸系共聚物為如後述般適於光學膜之材料，通常於未延伸膜之製膜時經由高溫製程(例如熔融擠出步驟)。若此時產生丙烯酸系共聚物之分解或劣化，則存在產生因發泡而變得難以獲得平滑之膜，或產生異臭而作業性變差，或所得之膜變得容易發生著色等問題之情形。於本發明中，藉由將丙烯酸系共聚物之重量減少1%之熱分解溫度設為285℃以上，而可充分抑制製膜時之高溫製程中之丙烯酸系共聚物之分解或劣化，因此可作業性良好地獲得平滑且可充分地抑制著色之未延伸膜。又，膜之耐熱性進一步提昇，作為偏光板用保護膜而成為進一步較佳者。又，對於熱分解溫度之上限並無特別限制，就可達成作為光學膜之充分之耐熱性之觀點而言，可為400℃以下，亦可為350℃以下。
再者，本說明書中，熱分解溫度表示使用SII NanoTechnology公司製造之熱重差熱同步測定裝置TG/DTA7200，以升溫速度10℃/min升溫至180℃並保持60分鐘後，以升溫速度10℃/min升溫至450℃，以250℃下之試樣重量作為基準而重量減少1%時的溫度。
<丙烯酸系共聚物之製造方法>
本發明之丙烯酸系共聚物可藉由將上述三種單體單元共聚而獲得。聚合方法並無特別限制，例如可藉由塊狀聚合、懸浮聚合、乳化聚合、溶液聚合等方法而製造。該等之中，就聚合後之處理較容易，於聚合後之處理中無需用以去除有機溶劑之加熱等之觀點而言，較佳為懸浮聚合。
於本發明之丙烯酸系共聚物中，藉由利用懸浮聚合進行製造而成為色相特別優異者。懸浮聚合與溶液聚合不同，無需自聚合體系以高溫去除有機溶劑之步驟，因此可獲得色相更進一步優異之丙烯酸系共聚物。
然而，例如於將上述日本專利特開2011-242754號公報所記載之甲基丙烯酸甲酯與N-環己基順丁烯二醯亞胺之共聚物製膜而膜化之情形時，存在膜之色相變差之傾向。本發明者等人獲得色相變差之原因之一是聚合後之丙烯酸系共聚物中之殘存單體量較多之見解。而且，本發明者等人得知，藉由以特定比率含有如上所述之N-芳香族取代順丁烯二醯亞胺單元及製成均聚物時顯示負固有雙折射之(甲基)丙烯酸烷基酯單元、以及視所需之第3構成單元，而提昇單體轉化率，且充分降低聚合後之丙烯酸系共聚物中之殘存單體量。再者，即便於殘存單體量較多之情形時，丙烯酸系共聚物自身亦未見著色。根據本發明者等人之見解，於殘存單體量較多之情形時，因將含有丙烯酸系共聚物之樹脂材料膜化之步驟中之加熱等而產生黃變。
於本發明中，丙烯酸系共聚物之殘存單體量較佳為5質量%以下，更佳為4質量%以下，尤佳為3質量%以下。
懸浮聚合之條件並無特別限制，可適當應用公知之懸浮聚合之條件。以下，表示藉由懸浮聚合之丙烯酸系共聚物之製造方法之一態樣，但本發明並不限定於下述一例。
首先，以成為所需質量比率之方式分別計量單體(N-芳香族取代順丁烯二醯亞胺、(甲基)丙烯酸烷基酯及成為第三構成單元之單體)，將其總量設為100質量份。相對於單體總量100質量份，而將300質量份之去離子水及0.6質量份之作為分散劑之聚乙烯醇(Kuraray股份有限公司製造之KURARAY POVAL))投入至懸浮聚合裝置中，並開始攪拌。繼而，將計量之單體、作為聚合起始劑之日本油脂股份有限公司 製造之PEROYL TCP 1質量份、作為鏈轉移劑之1-辛硫醇0.22質量份投入至懸浮聚合裝置中。
其後，一面於懸浮聚合裝置中通入氮氣，一面將反應體系升溫至70℃，其後於70℃保持3小時使其反應。反應後，冷卻至室溫，視需要進行過濾、洗淨及乾燥等操作，可獲得粒子狀之丙烯酸系共聚物。根據上述方法，可容易地獲得重量平均分子量為0.5×105~3.0×105之丙烯酸系共聚物。
再者，上述聚合起始劑、鏈轉移劑及分散劑之種類及投入量為一例，且懸浮聚合之條件並不限定於上述。於懸浮聚合中，於可達成重量平均分子量0.5×105~3.0×105之範圍內可適當變更其條件。例如，丙烯酸系共聚物之重量平均分子量可藉由變更鏈轉移劑之投入量而適當調整。
作為聚合起始劑，例如可使用日本油脂股份有限公司製造之PEROYL TCP、PEROCTA O、Nyper BW等。又，聚合起始劑之使用量例如相對於單體總量100質量份，可為0.05~2.0質量份，亦可為0.1~1.5質量份。
作為鏈轉移劑，例如可使用1-辛硫醇、1-十二烷硫醇、第三-十二烷硫醇等硫醇類。又，鏈轉移劑之使用量可根據所需之重量平均分子量而適當變更，例如相對於單體總量100質量份，可設為0.05~0.6質量份，亦可為0.07~0.5質量份。
作為分散劑，例如可使用Kuraray股份有限公司製造之KURARAY POVAL等PVA(polyvinyl alcohol，聚乙烯醇)、聚丙烯酸鈉等。又，分散劑之使用量例如相對於單體總量100質量份，可為0.01~0.5質量份，亦可為0.02~0.3質量份。
懸浮聚合之條件可根據聚合起始劑、鏈轉移劑及分散劑之種類及使用量等而適當調整。例如，反應溫度可設為50~90℃，亦可較佳 為60~85℃。又，關於反應時間，只要確保反應充分地進行之時間即可，例如可設為2~10小時，較佳為3~8小時。再者，單體轉化率取決於反應活性物質之壽命、單體之反應性等，因此即便延長反應時間單體轉化率亦未必提昇。
本發明之丙烯酸系共聚物可較佳地用作光學膜用之樹脂材料。根據本發明之丙烯酸系共聚物，可獲得配向雙折射及光彈性雙折射均較小，透明性、耐熱性及可撓性優異之光學膜。
<光學膜>
本發明之光學膜係將含有上述丙烯酸系共聚物之樹脂材料進行製膜所得者，較佳為將藉由製膜所得之未延伸膜進行雙軸延伸所得者。藉由將未延伸之光學膜進行單軸或雙軸延伸，而光學膜之延伸強度或彎曲耐性等機械特性提昇，於本發明中，藉由使用如上所述之丙烯酸系共聚物，即便為經延伸之光學膜，配向雙折射及光彈性雙折射亦均較小，亦可具備優異之透明性、耐熱性及可撓性。以下，對本發明之光學膜之各種特性進行詳述。
光學膜之面內相位差Re之絕對值及厚度方向相位差Rth之絕對值較佳為均為3.0nm以下，更佳為2.5nm以下，進而較佳為2.0nm以下，尤佳為1.0nm以下，若面內相位差Re之絕對值及厚度方向相位差Rth之絕對值較小，則配向雙折射變小，因此可進一步較佳地用作光學膜，尤其是可進一步較佳地用作偏光板用保護膜。
光學膜之光彈性係數C之絕對值較佳為3.0×10-12(/Pa)以下，更佳為2.0×10-12(/Pa)以下，進而較佳為1.0×10-12(/Pa)以下，進一步較佳為5.0×10-13(/Pa)以下，亦可為1.0×10-13(/Pa)以下。若光彈性係數C之絕對值較小，則光彈性雙折射變小，因此光學可進一步較佳地用作光學膜，尤其是可進一步較佳地用作偏光板用保護膜。
光學膜之配向雙折射性可利用Axometrics公司製造之Axoscan裝 置測定作為膜之面內相位差值的延遲(Re)與作為厚度方向相位差值之Rth而進行評價。
於將膜面內之1方向之折射率設為nx，將與其正交之方向之折射率設為ny，且將膜之厚度設為d nm時，Re(單位：nm)係由下式(1)表示。
Re=(nx-ny)×d (1)
於將膜面內之一方向之折射率設為nx，將與其正交之方向之折射率設為ny，將膜之厚度方向之折射率設為nz，且將膜之厚度設為d nm時，Rth(單位：nm)係由下式(2)表示。
Rth=((nx+ny)/2-nz)×d (2)
膜之相位差值之符號係將於聚合物主鏈之配向方向上折射率較大者設為正，將於與延伸方向正交之方向上折射率較大者設為負。
光學膜之光彈性雙折射係與配向雙折射性同樣使用Axometrics公司製造Axoscan裝置測定膜之相位差值即延遲Re之由對膜施加之應力所致之變化量，作為光彈性係數C(單位：10-12/Pa)而求出。具體之光彈性係數C之計算方法如下式(3)所示。
C=△Re/(△σ×t) (3)
△σ為對膜施加之應力之變化量，單位為[Pa]，t為膜之膜厚，單位為[m]，△Re為與△σ之應力之變化量對應之面內相位差值的變化量，單位為[m]。光彈性係數C之符號係將於施加應力之方向上折射率變大者設為正，將於與施加應力之方向正交之方向上折射率變大者設為負。
光學膜之依據JIS P8115所測定之MIT耐折度次數較佳為150次以上。上述光學膜為充分滿足偏光板用保護膜所要求之可撓性者，因此可進一步較佳地用作偏光板用保護膜。又，上述光學膜之耐彎曲性優異，因此可進一步較佳地用於要求大面積化之用途。
再者，本說明書中，MIT耐折度試驗可使用TESTER SANGYO股份有限公司製造之BE-201 MIT耐折度試驗機進行。再者，TESTER SANGYO股份有限公司製造之BE-201 MIT耐折度試驗機亦稱作MIT耐折度試驗機。測定條件係設為負荷200g、彎折點尖端R為0.38、彎曲速度為175次/分鐘、彎曲角度為左右135°，膜樣品之寬度設為15mm。而且，將於光學膜之搬送方向上反覆彎曲時斷裂之彎曲次數與於寬度方向上反覆彎曲時斷裂之彎曲次數的平均值設為MIT耐折度次數。
若MIT耐折度次數為150次以上，則可防止於將延伸步驟後之光學膜搬送並捲取之步驟、或與偏光板等貼合等之步驟中斷裂。
又，作為偏光板用保護膜之耐熱衝擊性之試驗方法，已知有經由糨糊將膜貼合於玻璃基盤上，於-20℃至60℃之範圍內以30分鐘間隔將升溫、降溫重複進行500個循環的熱衝擊試驗，若上述MIT耐折度次數為150次以上，則可防止於熱衝擊試驗中於膜產生龜裂。
光學膜之MIT耐折度次數更佳為150次以上，進而較佳為160次以上，尤佳為170次以上。
光學膜之膜厚可設為10μm以上且150μm以下，亦可設為15μm以上且120μm以下。若膜厚為10μm以上，則膜之操作性變良好，若為150μm以下，則不易產生霧度之增加、或平均單位面積之材料成本之增加等問題。
於本實施形態中，光學膜可為將包括含有丙烯酸系共聚物之樹脂材料之未延伸膜於至少一方向上進行延伸所得之膜，較佳為於兩方向上進行延伸所得之膜(雙軸延伸膜)。例如，延伸倍率以面積比計可設為1.3倍以上，亦可設為1.5倍以上。又，延伸倍率以面積比計可為6.0倍以下，亦可為4.0倍以下。
又，作為光學膜之黃色調之指標之b*值較佳為1.00以下，更佳為 0.50以下，進而較佳為0.30以下。再者，作為黃色調之指標之b*值可使用日本電色工業股份有限公司製造之分光光度計(Spectrophotometer)SD6000測定光學膜之分光光譜而求出。
本發明之光學膜具有優異之耐光性。耐光性可根據光照射前後之膜物性值之變化量進行評價。作為膜物性值，可使用作為黃色調之指標的b*值、面內相位差Re、厚度方向相位差Rth、光彈性係數C、及MIT耐折度次數等。例如可使用氙氣耐候機[東洋精機製作所之Atlas Ci4000]對光學膜照射光，並以下述方式評價耐光性。
耐光性可根據自光照射前之b*值(b*1)減去光照射後之b*值所得的值△b*(=b*1-b*)、光照射前後之面內相位差Re之差值△Re(=光照射前Re-光照射後Re)、光照射前後之厚度方向相位差Rth之差值△Rth(=光照射前Rth-光照射後Rth)、光照射前後之光彈性係數C之差值△C(=光照射前C-光照射後C)、及光照射前後之MIT耐折度次數之差值△MIT(=光照射前MIT-光照射後MIT)進行評價。
本發明之光學膜亦可含有丙烯酸系共聚物以外之成分。即，於光學膜為將包括含有丙烯酸系共聚物之樹脂材料之未延伸膜於至少一方向上進行延伸所得者時，樹脂材料亦可含有丙烯酸系共聚物以外之成分。
作為丙烯酸系共聚物以外之成分，視需要可使用抗氧化劑、潤滑劑、紫外線吸收劑、穩定劑等可用於光學膜之添加劑。該等成分之調配量只要為可有效地發揮本發明之效果之範圍則並無特別限制，以樹脂材料之總量為基準，較佳為10質量%以下，更佳為5質量%以下。即，樹脂材料中之丙烯酸系共聚物之含量以樹脂材料之總量為基準，較佳為90質量%以上，更佳為95質量%以上，亦可為99質量%以上。
<光學膜之製造方法>
對本發明之光學膜之製造方法之一態樣進行詳述。於本態樣 中，光學膜可如上所述將包括含有丙烯酸系共聚物之樹脂材料之未延伸膜於一方向上進行延伸而獲得。即，本發明之光學膜之製造方法包括將含有丙烯酸系共聚物而成之樹脂材料熔融擠出而獲得未延伸膜之步驟(熔融擠出步驟)、及將上述未延伸膜進行雙軸延伸而獲得雙軸延伸膜之步驟(延伸步驟)。
熔融擠出步驟例如可藉由具備模唇之擠出製膜機而進行。此時，藉由將樹脂材料於擠出製膜機內加熱熔融，並自模唇連續地流出，而形成膜狀。
熔融擠出之擠出溫度較佳為130℃以上且300℃以下，進而較佳為150℃以上且280℃以下。若擠出溫度為130℃以上，則樹脂材料中之丙烯酸系共聚物可充分地熔融混練，因此可充分防止未熔融物於膜中之殘存。又，若為300℃以下，則可充分防止產生由熱分解所致之膜之著色、或分解物對模唇之附著等問題。
於使用T型模頭擠出裝置之熔融製膜法中，關於自T模唇流出之熔融樹脂最初所接觸之第1輥之溫度T1℃，將熔融樹脂之玻璃轉移溫度設為Tg℃時，較佳為(Tg-24)≦T1≦(Tg+24)之範圍，進而較佳為(Tg-20)≦T1≦(Tg+20)之範圍。若T1之溫度為(Tg-24)℃以上，則可抑制自T型模唇流出之熔融狀態之樹脂膜急速冷卻，因此可抑制因收縮不均而使製造之膜之厚度精度變差。若T1之溫度為(Tg+24)℃以下，則可抑制自T型模唇流出之熔融狀態之樹脂與第1輥黏牢。
再者，關於膜厚度不均(單位：%)，係指將對未延伸膜(坯膜)之兩端之邊緣各切掉10mm後之捲筒樣品在寬度方向上等間隔地測定20處所得之厚度的最大值設為t1 μm，將最小值設為t2 μm，將平均值設為t3 μm時，根據下述式(4)：厚度不均(%)=100×(t1-t2)/t3 (4)
算出之值。
於延伸步驟中，對熔融擠出步驟中所得之未延伸膜(坯膜)進行延伸而獲得光學膜。作為延伸方法，可適當選擇先前公知之單軸延伸法或雙軸延伸法。作為雙軸延伸裝置，例如於拉幅機延伸裝置中，可使用抓持膜端部之夾具間隔於膜之搬送方向上亦擴展之同時雙軸延伸裝置。又，於延伸步驟中，亦可應用組合利用周速差之輥間延伸及藉由拉幅機裝置之延伸的逐次雙軸延伸法。
延伸裝置亦可與擠出製膜機為連貫生產線。又，延伸步驟亦可利用將藉由擠出製膜機捲取之坯膜於離線下送出至延伸裝置進行延伸之方法而進行。
作為延伸溫度，於將坯膜之玻璃轉移溫度設為Tg(℃)時，較佳為Tg+2℃以上且Tg+20℃以下，進而較佳為Tg+5℃以上且Tg+15℃以下。若延伸溫度為Tg+2℃以上，則可充分防止延伸中膜之斷裂、或膜之霧度上升等問題之產生。又，若延伸溫度為Tg+20℃以下，則存在聚合物主鏈容易配向，可獲得進一步良好之聚合物主鏈配向度之傾向。
藉由對利用熔融製膜法製膜而成之坯膜進行延伸，可使聚合物主鏈配向，提昇膜之耐彎曲性，另一方面，若為包括雙折射率較小之聚合物材料之膜，則膜之相位差值會上升，於組入至液晶顯示裝置時像質變差。於本態樣中，藉由使用上述樹脂材料，可獲得兼有優異之光學特性與耐彎曲性之光學膜。
如上所述，根據本發明之製造方法，可獲得配向雙折射及光彈性雙折射均較小，透明性、耐熱性及可撓性優異之光學膜。
<偏光板>
本發明之偏光板為於偏光膜之至少一個面上具備上述光學膜作為保護膜者。上述光學膜之配向雙折射及光彈性雙折射均較小，因此根據具備上述光學膜作為保護膜之偏光板，可於應用於液晶顯示裝置 時充分抑制因保護膜所致之像質變差。
本發明之偏光板之除上述光學膜以外之構成要素並無特別限制，可設為與公知之偏光板同樣之構成。即，本發明之偏光板可為將公知之偏光板中之保護膜之至少一部分變更為上述光學膜者。偏光板例如亦可為具備上述光學膜、偏光層、偏光層保護膜及黏著層以該順序積層而成之構成者。
<液晶顯示裝置>
本發明之液晶顯示裝置為具備上述偏光板者。如上所述，本發明之偏光板為具備上述光學膜作為保護膜者，因此可充分抑制起因於保護膜之光學特性之像質之變差。因此，根據本發明之液晶顯示裝置，可實現良好之像質。
於本發明之液晶顯示裝置中，上述偏光板以外之構成要素並無特別限制，可設為與公知之液晶顯示裝置同樣之構成。例如可為將公知之液晶顯示裝置中之偏光板變更為上述偏光板者。
液晶顯示裝置例如亦可為具備上述偏光板、背光裝置、彩色濾光片、液晶層、透明電極及玻璃基板以該順序積層而成之構成者。
以上，對本發明之較佳實施形態進行了說明，但本發明並不限定於上述實施形態。
實施例
以下，藉由實施例更具體地對本發明進行說明，但本發明並不限定於實施例。
<丙烯酸系共聚物之合成評價方法>
丙烯酸系共聚物之重量平均分子量Mw、玻璃轉移溫度(Tg)、殘存單體量、熔融流動速率(MFR)、及質量減少1%之溫度係以如下所述之方式測定。
重量平均分子量Mw表示使用Tosoh股份有限公司製造之HLC- 8220 GPC所測定之標準聚苯乙烯分子量換算之值。又，管柱係使用Tosoh股份有限公司製造之Super-Multipore HZ-M，測定條件係設為溶劑：HPLC用四氫呋喃(THF)、流量：0.35ml/min、管柱溫度：40℃。
玻璃轉移溫度Tg係使用SII NanoTechnology公司製造之示差掃描熱量測定裝置DSC7020，並根據以升溫速度10℃/min升溫時之玻璃轉移點之起始溫度而求出。再者，丙烯酸系共聚物之試樣之質量設為5mg以上且10mg以下。
丙烯酸系共聚物之殘存單體量係利用以下之裝置及方法而測定。
(裝置)
氣相層析裝置：Agilent Technologies公司製造之GC 6850
管柱：HP-5 30m
烘箱溫度條件：於50℃下保持5分鐘後以10℃/min升溫至250℃，並保持10分鐘。
注入量：0.5μl
模式：分流法
分流比：80/1
載體：純氮氣
檢測器：FID(Flame Ionization Detector，火焰離子化檢測器)
(方法)
精確稱量丙烯酸系共聚物之粒子約1g，添加丙酮約10ml並加以攪拌，使該粒子完全溶解而製成丙酮溶液。於放有攪拌子之100ml容器中量取甲醇約90ml，滴加上述丙酮溶液使聚合物析出而製成漿液。繼而，精確稱量氯苯約0.1ml作為內部標準物質，並添加至上述漿液中，劇烈振盪使其充分混合。使用靜置該溶液並過濾上清液約1.5ml所得者，利用GC(氣相層析法)進行各單體之檢測。再者，各成 分之保持時間、面積/質量換算係數係如下述表1所記載。
各單體之GC面積值乘以面積/質量換算係數，並藉由以下之比例式算出各單體之質量。
內部標準物質質量：各單體質量=(內部標準物質GC面積值×面積/質量換算係數)：(各單體GC面積值×面積/質量換算係數)
藉由以上之方法求出精確稱量之丙烯酸系共聚物粒子中之各單體之殘存質量，將其總和除以精確稱量之丙烯酸系聚合物粒子之質量，藉此算出殘存單體量%。
熔融流動速率係使用東洋精機股份有限公司製造之熔融指數儀F-F01而測定。
關於質量減少1%之溫度，使用SII Nano Technology公司製造之示差熱熱質量同時測定裝置TG/DTA7200，以升溫速度10℃/min升溫至180℃並保持60分鐘後，以升溫速度10℃/min升溫至450℃，以250℃下之丙烯酸系共聚物作為基準求出質量減少1%時之溫度。
<丙烯酸系共聚物之合成>
如以下所述，合成丙烯酸系共聚物(a-1)~(a-9)、(b-1)~(b-7)，並測定所得之丙烯酸系共聚物之重量平均分子量Mw、玻璃轉移溫度 Tg、熔融流動速率MFR、殘存單體量、及質量減少1%之溫度。
(丙烯酸系共聚物(a-1)之合成)
於具備攪拌裝置、溫度感測器、冷凝管及氮氣導入管之反應釜中一併投入去離子水300質量份、及作為分散劑之聚乙烯醇(Kuraray股份有限公司製造之KURARAY POVAL)0.6質量份，並開始攪拌。其次，添加甲基丙烯酸甲酯(以下視情形表示為「MMA」)78質量份、N-苯基順丁烯二醯亞胺(以下視情形表示為「PhMI」)22質量份、作為聚合起始劑之日本油脂股份有限公司製造之PEROYL TCP 1質量份、及作為鏈轉移劑之0.22質量份之1-辛硫醇，一面向反應釜中通入氮氣，一面升溫至70℃。將到達70℃之狀態保持3小時後進行冷卻，藉由過濾、洗淨、乾燥而獲得粒子狀之丙烯酸系共聚物(a-1)。
(丙烯酸系共聚物(a-2)之合成)
使用甲基丙烯酸甲酯(MMA)80質量份及N-苯基順丁烯二醯亞胺(PhMI)20質量份作為單體，除此以外，以與丙烯酸系共聚物(a-1)同樣之方式進行丙烯酸系共聚物之合成，而獲得丙烯酸系用聚合物(a-2)。
(丙烯酸系共聚物(a-3)之合成)
使用甲基丙烯酸甲酯(MMA)83質量份及N-苯基順丁烯二醯亞胺(PhMI)17質量份作為單體，除此以外，以與丙烯酸系共聚物(a-1)同樣之方式進行丙烯酸系共聚物之合成，而獲得丙烯酸系用聚合物(a-3)。
(丙烯酸系共聚物(a-4)之合成)
使用甲基丙烯酸甲酯(MMA)79質量份、N-苯基順丁烯二醯亞胺(PhMI)15質量份、及丙烯酸苯氧基乙酯(以下視情形表示為「PhOEA」)6質量份作為單體，除此以外，以與丙烯酸系共聚物(a-1)同樣之方式進行丙烯酸系共聚物之合成，而獲得丙烯酸系用聚合物(a-4)。
(丙烯酸系共聚物(a-5)之合成)
使用甲基丙烯酸甲酯(MMA)82質量份、N-苯基順丁烯二醯亞胺(PhMI)16質量份、及丙烯酸苯氧基乙酯(PhOEA)2質量份作為單體，除此以外，以與丙烯酸系共聚物(a-1)同樣之方式進行丙烯酸系共聚物之合成，而獲得丙烯酸系用聚合物(a-5)。
(丙烯酸系共聚物(a-6)之合成)
使用甲基丙烯酸甲酯(MMA)80質量份、N-苯基順丁烯二醯亞胺(PhMI)9質量份、及甲基丙烯酸苯氧基乙酯(以下視情形表示為「PhOEMA」)11質量份作為單體，除此以外，以與丙烯酸系共聚物(a-1)同樣之方式進行丙烯酸系共聚物之合成，而獲得丙烯酸系用聚合物(a-6)。
(丙烯酸系共聚物(a-7)之合成)
使用甲基丙烯酸甲酯(MMA)81質量份、N-苯基順丁烯二醯亞胺(PhMI)17質量份、及甲基丙烯酸苯氧基乙酯(PhOEMA)2質量份作為單體，除此以外，以與丙烯酸系共聚物(a-1)同樣之方式進行丙烯酸系共聚物之合成，而獲得丙烯酸系用聚合物(a-7)。
(丙烯酸系共聚物(a-8)之合成)
使用甲基丙烯酸甲酯(MMA)83質量份、N-苯基順丁烯二醯亞胺(PhMI)8質量份、及甲基丙烯酸苄酯(以下視情形表示為「BnMA」)9質量份作為單體，除此以外，以與丙烯酸系共聚物(a-1)同樣之方式進行丙烯酸系共聚物之合成，而獲得丙烯酸系用聚合物(a-8)。
(丙烯酸系共聚物(a-9)之合成)
使用甲基丙烯酸甲酯(MMA)80質量份、N-苯基順丁烯二醯亞胺(PhMI)18質量份、及甲基丙烯酸苄酯(BnMA)2質量份作為單體，除此以外，以與丙烯酸系共聚物(a-1)同樣之方式進行丙烯酸系共聚物之合成，而獲得丙烯酸系用聚合物(a-9)。
(丙烯酸系共聚物(a-10)之合成)
使用甲基丙烯酸甲酯(MMA)78質量份、N-苯基順丁烯二醯亞胺(PhMI)0.5質量份、及N-環己基順丁烯二醯亞胺(以下視情形表示為「CHMI」)21.5質量份作為單體，除此以外，以與丙烯酸系共聚物(a-1)同樣之方式進行丙烯酸系共聚物之合成，而獲得丙烯酸系用聚合物(a-10)。
(丙烯酸系共聚物(a-11)之合成)
使用甲基丙烯酸甲酯(MMA)80質量份、N-苯基順丁烯二醯亞胺(PhMI)7質量份、及N-環己基順丁烯二醯亞胺(CHMI)13質量份作為單體，除此以外，以與丙烯酸系共聚物(a-1)同樣之方式進行丙烯酸系共聚物之合成，而獲得丙烯酸系用聚合物(a-11)。
(丙烯酸系共聚物(a-12)之合成)
使用甲基丙烯酸甲酯(MMA)81質量份、N-苯基順丁烯二醯亞胺(PhMI)2質量份、甲基丙烯酸苄酯(BnMA)12質量份、及N-環己基順丁烯二醯亞胺(CHMI)5質量份作為單體，除此以外，以與丙烯酸系共聚物(a-1)同樣之方式進行丙烯酸系共聚物之合成，而獲得丙烯酸系用聚合物(a-12)。
(丙烯酸系共聚物(a-13)之合成)
使用甲基丙烯酸甲酯(MMA)81質量份、N-苯基順丁烯二醯亞胺(PhMI)3質量份、甲基丙烯酸苄酯(BnMA)12質量份、及N-環己基順丁烯二醯亞胺(CHMI)4質量份作為單體，除此以外，以與丙烯酸系共聚物(a-1)同樣之方式進行丙烯酸系共聚物之合成，而獲得丙烯酸系用聚合物(a-13)。
(丙烯酸系共聚物(a-14)之合成)
使用甲基丙烯酸甲酯(MMA)65質量份、N-苯基順丁烯二醯亞胺(PhMI)16質量份、及甲基丙烯酸2,2,2-三氟乙酯(以下視情形表示為「3FMA」)19質量份作為單體，除此以外，以與丙烯酸系共聚物(a-1) 同樣之方式進行丙烯酸系共聚物之合成，而獲得丙烯酸系用聚合物(a-14)。
(丙烯酸系共聚物(a-15)之合成)
使用甲基丙烯酸甲酯(MMA)75質量份、N-苯基順丁烯二醯亞胺(PhMI)21質量份、及甲基丙烯酸2,2,2-三氟乙酯(3FMA)4質量份作為單體，除此以外，以與丙烯酸系共聚物(a-1)同樣之方式進行丙烯酸系共聚物之合成，而獲得丙烯酸系用聚合物(a-15)。
(丙烯酸系共聚物(a-16)之合成)
使用甲基丙烯酸甲酯(MMA)80質量份、N-苯基順丁烯二醯亞胺(PhMI)10質量份、及丙烯酸2,4,6-三溴苯酯(以下視情形表示為「TBPhA」)10質量份作為單體，除此以外，以與丙烯酸系共聚物(a-1)同樣之方式進行丙烯酸系共聚物之合成，而獲得丙烯酸系用聚合物(a-16)。
(丙烯酸系共聚物(a-17)之合成)
使用甲基丙烯酸甲酯(MMA)75質量份、N-苯基順丁烯二醯亞胺(PhMI)1質量份、及丙烯酸2,4,6-三溴苯酯(TBPhA)24質量份作為單體，除此以外，以與丙烯酸系共聚物(a-1)同樣之方式進行丙烯酸系共聚物之合成，而獲得丙烯酸系用聚合物(a-17)。
(丙烯酸系共聚物(a-18)之合成)
除將鏈轉移劑(1-辛硫醇)變更為0.47質量份以外，以與丙烯酸系共聚物(a-11)同樣之方式進行丙烯酸系共聚物之合成，而獲得丙烯酸系共聚物(a-18)。
(丙烯酸系共聚物(a-19)之合成)
除將鏈轉移劑(1-辛硫醇)變更為0.08質量份以外，以與丙烯酸系共聚物(a-11)同樣之方式進行丙烯酸系共聚物之合成，而獲得丙烯酸系共聚物(a-19)。
(丙烯酸系共聚物(a-20)之合成)
除將鏈轉移劑(1-辛硫醇)變更為0.08質量份以外，以與丙烯酸系共聚物(a-11)同樣之方式進行丙烯酸系共聚物之合成，而獲得丙烯酸系共聚物(a-19)。
(丙烯酸系共聚物(b-1)之合成)
使用甲基丙烯酸甲酯(MMA)82質量份及N-環己基順丁烯二醯亞胺(CHMI)18質量份作為單體，除此以外，以與丙烯酸系共聚物(a-1)同樣之方式進行丙烯酸系共聚物之合成，而獲得丙烯酸系共聚物(b-1)。
(丙烯酸系共聚物(b-2)之合成)
使用甲基丙烯酸甲酯(MMA)83質量份、N-環己基順丁烯二醯亞胺(CHMI)13質量份、及丙烯酸苯氧基乙酯(PhOEA)4質量份作為單體，除此以外，以與丙烯酸系共聚物(a-1)同樣之方式進行丙烯酸系共聚物之合成，而獲得丙烯酸系共聚物(b-2)。
(丙烯酸系共聚物(b-3)之合成)
使用甲基丙烯酸甲酯(MMA)83質量份、N-環己基順丁烯二醯亞胺(CHMI)14質量份、及甲基丙烯酸苯氧基乙酯(PhOEMA)3質量份作為單體，除此以外，以與丙烯酸系共聚物(a-1)同樣之方式進行丙烯酸系共聚物之合成，而獲得丙烯酸系共聚物(b-3)。
(丙烯酸系共聚物(b-4)之合成)
使用甲基丙烯酸甲酯(MMA)82質量份、N-環己基順丁烯二醯亞胺(CHMI)14質量份、及甲基丙烯酸苄酯(BnMA)4質量份作為單體，除此以外，以與丙烯酸系共聚物(a-1)同樣之方式進行丙烯酸系共聚物之合成，而獲得丙烯酸系共聚物(b-4)。
(丙烯酸系共聚物(b-5)之合成)
使用甲基丙烯酸甲酯(MMA)60質量份、N-環己基順丁烯二醯亞 胺(CHMI)18質量份、甲基丙烯酸苄酯(BnMA)4質量份、及甲基丙烯酸二環戊酯(以下視情形表示為「DCPMA」)18質量份作為單體，除此以外，以與丙烯酸系共聚物(a-1)同樣之方式進行丙烯酸系共聚物之合成，而獲得丙烯酸系共聚物(b-5)。
(丙烯酸系共聚物(b-6)之合成)
使用甲基丙烯酸甲酯(MMA)63質量份、N-環己基順丁烯二醯亞胺(CHMI)5質量份、甲基丙烯酸苄酯(BnMA)16質量份、及甲基丙烯酸二環戊酯(DCPMA)16質量份作為單體，除此以外，以與丙烯酸系共聚物(a-1)同樣之方式進行丙烯酸系共聚物之合成，而獲得丙烯酸系共聚物(b-6)。
(丙烯酸系共聚物(b-7)之合成)
使用甲基丙烯酸甲酯(MMA)65質量份、N-環己基順丁烯二醯亞胺(CHMI)19質量份、及甲基丙烯酸2,2,2-三氟乙酯(3FMA)16質量份作為單體，除此以外，以與丙烯酸系共聚物(a-1)同樣之方式進行丙烯酸系共聚物之合成，而獲得丙烯酸系共聚物(b-7)。
(丙烯酸系共聚物(b-8)之合成)
使用甲基丙烯酸甲酯(MMA)80質量份、N-環己基順丁烯二醯亞胺(CHMI)10質量份、及丙烯酸2,4,6-三溴苯酯(TBPhA)10質量份作為單體，除此以外，以與丙烯酸系共聚物(a-1)同樣之方式進行丙烯酸系共聚物之合成，而獲得丙烯酸系共聚物(b-8)。
(丙烯酸系共聚物(b-9)之合成)
使用甲基丙烯酸甲酯(MMA)80質量份、及N-環己基順丁烯二醯亞胺(CHMI)20質量份作為單體，除此以外，以與丙烯酸系共聚物(a-1)同樣之方式進行丙烯酸系共聚物之合成，而獲得丙烯酸系共聚物(b-9)。
(丙烯酸系共聚物(b-10)之合成)
除將鏈轉移劑(1-辛硫醇)變更為0.06質量份以外，以與丙烯酸系用聚合物(b-2)同樣之方式進行丙烯酸系共聚物之合成，而獲得丙烯酸系共聚物(b-10)。
以上述方式獲得之各丙烯酸系用聚合物之重量平均分子(Mw)、玻璃轉移溫度(Tg)、熔融流動速率(MFR)、殘存單體量、及質量減少1%之溫度之測定結果係如下述表2所示。
<光學膜之評價方法>
其次，使用所得之各丙烯酸系共聚物製造以下之實施例及比較例之光學膜。所得之實施例及比較例之各光學膜之厚度、厚度不均、面內相位差Re、厚度方向相位差Rth、光彈性係數C、MIT耐折度次數、作為黃色調之指標之b*值、及耐光性係按以下之方式測定。
光學膜(A-1)之厚度係使用數位測長機(Digimicro MF501，Nikon公司製造)測定。又，關於膜厚度不均(單位：%)，係設為將對膜原片之兩端之邊緣各切掉10mm後之捲筒樣品在寬度方向上等間隔地測定20處所得之厚度的最大值設為t1 μm，將最小值設為t2 μm，將平均值設為t3 μm時，作為厚度不均=100×(t1-t2)/t3所計算之值。
面內相位差Re及厚度方向相位差Rth係使用Axometrics公司製造之Axoscan裝置而測定。
光彈性係數C係使用Axometrics公司製造之Axoscan裝置測定膜之相位差值即延遲(Re)的由對光學膜施加之應力引起之變化量而求出。具體而言，如下式(3)所示。
C=△Re/(△σ×t) (3)
△σ為對膜施加之應力之變化量(單位：Pa)，t為膜之膜厚(單位：m)，△Re為與△σ之應力之變化量對應之面內相位差值的變化量(單位：m)。
MIT耐折度次數之測定係依據JIS P8115，使用TESTER SANGYO股份有限公司製造之BE-201 MIT耐折度試驗機進行。測定條件係設為負荷200g、彎折點尖端R為0.38、彎曲速度為175次/分鐘、彎曲角度為左右135°，膜樣品之寬度設為15mm。而且，將於光學膜之搬送方向(MD(Machine Direction，縱向)方向)上反覆彎曲時斷裂之彎曲次數與於寬度方向(TD(Transverse Direction，橫向)方向)上反覆彎曲時斷裂之彎曲次數的平均值設為MIT耐折度試驗次數。
作為黃色調之指標之b*值之測定係使用日本電色工業股份有限公司製造之分光光度計SD6000測定光學膜之分光光譜而求出。測定條件係使用氙氣耐候機[東洋精機製作所之Atlas Ci4000]，對光學膜進行放射照度60W/m2、黑面板溫度63±3℃、濕度50%RH、600小時光照射。
又，耐光性之評價係使用氙氣耐候機[東洋精機製作所之Atlas Ci4000]，對光學膜進行放射照度60W/m2、黑面板溫度63±3℃、濕度50%RH、600小時光照射。求出自光照射前之b*值(b*1)減去光照射後之b*值所得之值△b*(=b*1-b*)、光照射前後之面內相位差Re之差值△Re(=光照射前Re-光照射後Re)、光照射前後之厚度方向相位差Rth之差值△Rth(=光照射前Rth-光照射後Rth)、光照射前後之光彈性係數C之差值△C(=光照射前C-光照射後C)、及光照射前後之MIT耐折度次數之差值△MIT(=光照射前MIT-光照射後MIT)，對耐光性進行評價。
<光學膜之製造>
使用以如上所述之方式獲得之各丙烯酸系共聚物並藉由以下之表3中記載之製膜條件製造光學膜，測定光學膜之物性。
實施例1：光學膜(A-1)之製造
使用Technovel公司製造之雙軸螺桿式擠出機KZW-30MG將粒子狀之丙烯酸系共聚物(a-1)製成膜。雙軸擠出機之螺桿直徑為15mm，螺桿有效長(L/D)為30，於擠出機經由轉接器而設置有衣架型T型模頭。關於擠出溫度Tp(℃)，於玻璃轉移溫度為Tg(℃)之非結晶性聚合物之情形時，就下式(7)成為最佳之方面而言，設為238℃。
Tp=5(Tg+70)/4 (7)
又，將獲得膜原片時之第1輥溫度設為136℃。
利用井元製作所製造之雙軸延伸機將所得之膜原片(未延伸膜)進 行延伸(延伸溫度：Tg+9℃、延伸倍率：1.5×1.5倍、同時雙軸延伸)而獲得厚度40μm之光學膜(A-1)。所得之光學膜(A-1)亦如下述表4所示具有充分之可撓性，又，於目視檢查中無白濁，為透明性優異者。
實施例2：光學膜(A-2)之製造
將丙烯酸系共聚物(a-1)變更為丙烯酸系共聚物(a-2)，以如下述表3所示之方式變更第1輥溫度，除此以外，以與實施例1同樣之方式進行光學膜之製造，而獲得厚度40μm之光學膜(A-2)。所得之光學膜(A-2)亦如下述表4所示具有充分之可撓性，又，於目視檢查中無白濁，為透明性優異者。
實施例3：光學膜(A-3)之製造
將丙烯酸系共聚物(a-1)變更為丙烯酸系共聚物(a-3)，以如下述表3所示之方式變更第1輥溫度，除此以外，以與實施例1同樣之方式進行光學膜之製造，而獲得厚度40μm之光學膜(A-3)。所得之光學膜(A-3)亦如下述表4所示具有充分之可撓性，又，於目視檢查中無白濁，為透明性優異者。
實施例4：光學膜(A-4)之製造
將丙烯酸系共聚物(a-1)變更為丙烯酸系共聚物(a-4)，以如下述表3所示之方式變更第1輥溫度，除此以外，以與實施例1同樣之方式進行光學膜之製造，而獲得厚度40μm之光學膜(A-4)。所得之光學膜(A-4)亦如下述表4所示具有充分之可撓性，又，於目視檢查中無白濁，為透明性優異者。
實施例5：光學膜(A-5)之製造
將丙烯酸系共聚物(a-1)變更為丙烯酸系共聚物(a-5)，以如下述表3所示之方式變更第1輥溫度，除此以外，以與實施例1同樣之方式進行光學膜之製造，而獲得厚度40μm之光學膜(A-5)。所得之光學膜(A-5)亦如下述表4所示具有充分之可撓性，又，於目視檢查中無白 濁，為透明性優異者。
實施例6：光學膜(A-6)之製造
將丙烯酸系共聚物(a-1)變更為丙烯酸系共聚物(a-6)，以如下述表3所示之方式變更第1輥溫度，除此以外，以與實施例1同樣之方式進行光學膜之製造，而獲得厚度40μm之光學膜(A-6)。所得之光學膜(A-6)亦如下述表4所示具有充分之可撓性，又，於目視檢查中無白濁，為透明性優異者。
實施例7：光學膜(A-7)之製造
將丙烯酸系共聚物(a-1)變更為丙烯酸系共聚物(a-7)，以如下述表3所示之方式變更第1輥溫度，除此以外，以與實施例1同樣之方式進行光學膜之製造，而獲得厚度40μm之光學膜(A-7)。所得之光學膜(A-7)亦如下述表4所示具有充分之可撓性，又，於目視檢查中無白濁，為透明性優異者。
實施例8：光學膜(A-8)之製造
將丙烯酸系共聚物(a-1)變更為丙烯酸系共聚物(a-8)，以如下述表3所示之方式變更第1輥溫度，除此以外，以與實施例1同樣之方式進行光學膜之製造，而獲得厚度40μm之光學膜(A-8)。所得之光學膜(A-8)亦如下述表4所示具有充分之可撓性，又，於目視檢查中無白濁，為透明性優異者。
實施例9：光學膜(A-9)之製造
將丙烯酸系共聚物(a-1)變更為丙烯酸系共聚物(a-9)，以如下述表3所示之方式變更第1輥溫度，除此以外，以與實施例1同樣之方式進行光學膜之製造，而獲得厚度40μm之光學膜(A-9)。所得之光學膜(A-9)亦如下述表4所示具有充分之可撓性，又，於目視檢查中無白濁，為透明性優異者。
實施例10：光學膜(A-10)之製造
將丙烯酸系共聚物(a-1)變更為丙烯酸系共聚物(a-10)，以如下述表3所示之方式變更第1輥溫度，除此以外，以與實施例1同樣之方式進行光學膜之製造，而獲得厚度40μm之光學膜(A-10)。所得之光學膜(A-10)亦如下述表4所示具有充分之可撓性，又，於目視檢查中無白濁，為透明性優異者。
實施例11：光學膜(A-11)之製造
將丙烯酸系共聚物(a-1)變更為丙烯酸系共聚物(a-11)，以如下述表3所示之方式變更第1輥溫度，除此以外，以與實施例1同樣之方式進行光學膜之製造，而獲得厚度40μm之光學膜(A-11)。所得之光學膜(A-11)亦如下述表4所示具有充分之可撓性，又，於目視檢查中無白濁，為透明性優異者。
實施例12：光學膜(A-12)之製造
將丙烯酸系共聚物(a-1)變更為丙烯酸系共聚物(a-12)，以如下述表3所示之方式變更第1輥溫度，除此以外，以與實施例1同樣之方式進行光學膜之製造，而獲得厚度40μm之光學膜(A-12)。所得之光學膜(A-12)亦如下述表4所示具有充分之可撓性，又，於目視檢查中無白濁，為透明性優異者。
實施例13：光學膜(A-13)之製造
將丙烯酸系共聚物(a-1)變更為丙烯酸系共聚物(a-13)，以如下述表3所示之方式變更第1輥溫度，除此以外，以與實施例1同樣之方式進行光學膜之製造，而獲得厚度40μm之光學膜(A-13)。所得之光學膜(A-13)亦如下述表4所示具有充分之可撓性，又，於目視檢查中無白濁，為透明性優異者。
實施例14：光學膜(A-14)之製造
將丙烯酸系共聚物(a-1)變更為丙烯酸系共聚物(a-14)，以如下述表3所示之方式變更第1輥溫度，除此以外，以與實施例1同樣之方式 進行光學膜之製造，而獲得厚度40μm之光學膜(A-14)。所得之光學膜(A-14)亦如下述表4所示具有充分之可撓性，又，於目視檢查中無白濁，為透明性優異者。
實施例15：光學膜(A-15)之製造
將丙烯酸系共聚物(a-1)變更為丙烯酸系共聚物(a-15)，以如下述表3所示之方式變更第1輥溫度，除此以外，以與實施例1同樣之方式進行光學膜之製造，而獲得厚度40μm之光學膜(A-15)。所得之光學膜(A-15)亦如下述表4所示具有充分之可撓性，又，於目視檢查中無白濁，為透明性優異者。
實施例16：光學膜(A-16)之製造
將丙烯酸系共聚物(a-1)變更為丙烯酸系共聚物(a-16)，以如下述表3所示之方式變更第1輥溫度，除此以外，以與實施例1同樣之方式進行光學膜之製造，而獲得厚度40μm之光學膜(A-16)。所得之光學膜(A-16)亦如下述表4所示具有充分之可撓性，又，於目視檢查中無白濁，為透明性優異者。
實施例17：光學膜(A-17)之製造
將丙烯酸系共聚物(a-1)變更為丙烯酸系共聚物(a-17)，以如下述表3所示之方式變更第1輥溫度，除此以外，以與實施例1同樣之方式進行光學膜之製造，而獲得厚度40μm之光學膜(A-17)。所得之光學膜(A-17)亦如下述表4所示具有充分之可撓性，又，於目視檢查中無白濁，為透明性優異者。
實施例18：光學膜(A-18)之製造
將丙烯酸系共聚物(a-1)變更為丙烯酸系共聚物(a-18)，以如下述表3所示之方式變更第1輥溫度，除此以外，以與實施例1同樣之方式獲得未延伸膜。利用井元製作所製造之雙軸延伸機將所得之未延伸膜於延伸溫度Tg+9℃、延伸倍率1.5×1.0倍之條件下進行單軸延伸，進 行光學膜之製造，而獲得厚度40μm之光學膜(A-18)。所得之光學膜(A-18)亦如下述表4所示具有充分之可撓性，又，於目視檢查中無白濁，為透明性優異者。
實施例19：光學膜(A-19)之製造
將丙烯酸系共聚物(a-1)變更為丙烯酸系共聚物(a-19)，將延伸倍率變更為2.0×2.0倍，以如下述表3所示之方式變更第1輥溫度，除此以外，以與實施例1同樣之方式進行光學膜之製造，而獲得厚度40μm之光學膜(A-19)。所得之光學膜(A-19)亦如下述表4所示具有充分之可撓性，又，於目視檢查中無白濁，為透明性優異者。
實施例20：光學膜(A-20)之製造
除如下述表3所示將延伸倍率變更為1.5×1.0倍以外，以與實施例11同樣之方式進行光學膜之製造，而獲得厚度為40μm之光學膜(A-20)。所得之光學膜(A-20)亦如下述表4所示具有充分之可撓性，又，於目視檢查中無白濁，為透明性優異者。
實施例21：光學膜(A-21)之製造
除如下述表3所示將延伸倍率變更為2.0×2.0倍以外，以與實施例11同樣之方式進行光學膜之製造，而獲得厚度40μm之光學膜(A-21)。所得之光學膜(A-21)亦如下述表4所示具有充分之可撓性，又，於目視檢查中無白濁，為透明性優異者。
實施例22：光學膜(A-22)之製造
除如下述表3所示將第1輥溫度變更為147℃以外，以與實施例11同樣之方式進行光學膜之製造，而獲得厚度40μm之光學膜(A-22)。所得之光學膜(A-22)亦如下述表4所示具有充分之可撓性，又，於目視檢查中無白濁，為透明性優異者。
實施例23：光學膜(A-23)之製造
除如下述表3所示將第1輥溫度變更為107℃以外，以與實施例20 同樣之方式進行光學膜之製造，而獲得厚度40μm之光學膜(A-23)。所得之光學膜(A-23)亦如下述表4所示具有充分之可撓性，又，於目視檢查中無白濁，為透明性優異者。
比較例1：光學膜(B-1)之製造
將丙烯酸系共聚物(a-1)變更為丙烯酸系共聚物(b-1)，以如下述表5所示之方式變更第1輥溫度，除此以外，以與實施例1同樣之方式進行光學膜之製造，而獲得厚度40μm之光學膜(B-1)。所得之光學膜(A-4)如下述表6所示熱分解溫度較低，於耐熱性方面存在問題。
比較例2：光學膜(B-2)之製造
將丙烯酸系共聚物(a-1)變更為丙烯酸系共聚物(b-2)，以如下述表5所示之方式變更第1輥溫度，除此以外，以與實施例1同樣之方式進行光學膜之製造，而獲得厚度40μm之光學膜(B-2)。所得之光學膜(A-4)如下述表6所示玻璃轉移溫度較低，於耐熱性方面存在問題。
比較例3：光學膜(B-3)之製造
將丙烯酸系共聚物(a-1)變更為丙烯酸系共聚物(b-3)，以如下述表5所示之方式變更第1輥溫度，除此以外，以與實施例1同樣之方式進行光學膜之製造，而獲得厚度40μm之光學膜(B-3)。所得之光學膜(A-4)如下述表6所示熱分解溫度及玻璃轉移溫度較低，於耐熱性方面存在問題。
比較例4：光學膜(B-4)之製造
將丙烯酸系共聚物(a-1)變更為丙烯酸系共聚物(b-4)，以如下述表5所示之方式變更第1輥溫度，除此以外，以與實施例1同樣之方式進行光學膜之製造，而獲得厚度40μm之光學膜(B-4)。所得之光學膜(A-4)如下述表6所示熱分解溫度及玻璃轉移溫度較低，於耐熱性方面存在問題。
比較例5：光學膜(B-5)之製造
將丙烯酸系共聚物(a-1)變更為丙烯酸系共聚物(b-5)，以如下述表5所示之方式變更第1輥溫度，除此以外，以與實施例1同樣之方式進行光學膜之製造，而獲得厚度40μm之光學膜(B-5)。所得之光學膜(A-4)如下述表6所示熱分解溫度較低，於耐熱性方面存在問題。
比較例6：光學膜(B-6)之製造
將丙烯酸系共聚物(a-1)變更為丙烯酸系共聚物(b-6)，以如下述表5所示之方式變更第1輥溫度，除此以外，以與實施例1同樣之方式進行光學膜之製造，而獲得厚度40μm之光學膜(B-6)。所得之光學膜(A-4)如下述表6所示熱分解溫度較低，於耐熱性方面存在問題。
比較例7：光學膜(B-7)之製造
將丙烯酸系共聚物(a-1)變更為丙烯酸系共聚物(b-7)，以如下述表5所示之方式變更第1輥溫度，除此以外，以與實施例1同樣之方式進行光學膜之製造，而獲得厚度40μm之光學膜(B-7)。所得之光學膜(A-4)如下述表6所示熱分解溫度及玻璃轉移溫度較低，於耐熱性方面存在問題。
比較例8：光學膜(B-8)之製造
將丙烯酸系共聚物(a-1)變更為丙烯酸系共聚物(b-8)，以如下述表5所示之方式變更第1輥溫度，除此以外，以與實施例1同樣之方式進行光學膜之製造，而獲得厚度40μm之光學膜(B-8)。所得之光學膜(A-4)如下述表6所示玻璃轉移溫度較低，於耐熱性方面存在問題。
比較例9：光學膜(B-9)之製造
將丙烯酸系共聚物(a-1)變更為丙烯酸系共聚物(b-9)，以如下述表5所示之方式變更第1輥溫度，除此以外，以與實施例1同樣之方式進行光學膜之製造，而獲得厚度40μm之光學膜(B-9)。所得之光學膜(A-4)如下述表6所示熱分解溫度較低，於耐熱性方面存在問題。
比較例10：光學膜(B-10)之製造
除如下述表5所示將第1輥溫度變更為154℃以外，欲以與比較例9同樣之方式製造光學膜，但膜原片與第1輥黏牢而無法製膜。
比較例11：光學膜(B-11)之製造
除如下述表5所示將第1輥溫度變更為104℃以外，以與比較例9同樣之方式進行光學膜之製造，而獲得厚度40μm之光學膜(B-10)。所得之光學膜(B-10)如下述表6所示熱分解溫度較低，於耐熱性方面存在問題。
比較例12：光學膜(B-12)之製造
除將丙烯酸系共聚物(b-2)變更為丙烯酸系共聚物(b-10)以外，以與比較例2同樣之方式進行光學膜之製造，而獲得厚度40μm之光學膜(B-12)。所得之光學膜(B-12)如下述表6所示丙烯酸系共聚物之重量平均分子量較高，雙軸螺桿式擠出機中之過濾器前後壓差較大，因此不適於製造膜。
測定以上述方式獲得之實施例及比較例之光學膜之厚度不均、面內相位差Re、厚度方向相位差Rth、光彈性係數C、MIT耐折度次數、作為黃色調之指標之b*值、及耐光性。測定結果係如下述表4及表6所示。

Claims (17)

  1. 一種丙烯酸系共聚物，其係含有N-芳香族取代順丁烯二醯亞胺單元0.5~35質量%、與製成均聚物時顯示負固有雙折射之(甲基)丙烯酸烷基酯單元60~85質量%作為構成單元而成。
  2. 如請求項1之丙烯酸系共聚物，其進而含有選自由N-烷基取代順丁烯二醯亞胺單元、及製成均聚物時顯示正固有雙折射之(甲基)丙烯酸酯單元所組成之群中的第3構成單元。
  3. 如請求項2之丙烯酸系共聚物，其係含有上述第3構成單元1~24質量%而成。
  4. 如請求項1至3中任一項之丙烯酸系共聚物，其中上述N-芳香族取代順丁烯二醯亞胺單元包含N-苯基順丁烯二醯亞胺單元。
  5. 如請求項1至4中任一項之丙烯酸系共聚物，其中上述(甲基)丙烯酸烷基酯單元包含甲基丙烯酸甲酯單元。
  6. 如請求項2至5中任一項之丙烯酸系共聚物，其中上述第3構成單元包含選自由N-環己基順丁烯二醯亞胺單元、丙烯酸苯氧基乙酯單元、甲基丙烯酸苯氧基乙酯單元、甲基丙烯酸苄酯單元、丙烯酸2,4,6-三溴苯酯單元、及甲基丙烯酸2,2,2-三氟乙酯單元所組成之群中之至少一種。
  7. 如請求項1至6中任一項之丙烯酸系共聚物，其中上述丙烯酸系共聚物之重量平均分子量為0.5×105~3.0×105。
  8. 如請求項1至7中任一項之丙烯酸系共聚物，其中上述丙烯酸系共聚物之玻璃轉移溫度為120℃以上。
  9. 如請求項1至8中任一項之丙烯酸系共聚物，其中上述丙烯酸系 共聚物之熔融流動速率為1.0g/10min以上。
  10. 如請求項1至9中任一項之丙烯酸系共聚物，其中上述丙烯酸系共聚物之殘存單體量為3質量%以下。
  11. 如請求項1至10中任一項之丙烯酸系共聚物，其中上述丙烯酸系共聚物之質量減少1%之溫度為285℃以上。
  12. 一種光學膜，其係將包括含有如請求項1至11中任一項之丙烯酸系共聚物之樹脂材料的未延伸膜進行雙軸延伸而獲得。
  13. 如請求項12之光學膜，其中面內相位差Re之絕對值及厚度方向相位差Rth之絕對值均為3.0nm以下。
  14. 如請求項12或13之光學膜，其中光彈性係數C之絕對值為3.0×10-12/Pa以下。
  15. 如請求項12至14中任一項之光學膜，其中依據JIS P8115所測定之MIT耐折度次數為150以上。
  16. 一種偏光板，其具備如請求項12至15中任一項之光學膜。
  17. 一種液晶顯示裝置，其具備如請求項16之偏光板。
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