TW201430404A - 備製偏光鏡方法 - Google Patents

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Jun-Seok Kim
Min-Seok Kim
Na-Youn Kim
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Dongwoo Fine Chem Co Ltd
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Abstract

揭露的是一種用於備製偏光鏡的方法,包括:膨脹、染色、交聯、拉延以及乾燥可形成偏光鏡的薄膜,其中其滿足下述數學方程式1,Y≧-aX + 30 N/2mm,藉此當在液晶顯示裝置中使用該偏光鏡時,可減少其彎曲,同時改進漏光。

Description

備製偏光鏡方法
相關申請案
     此申請案主張於2013年1月21日在韓國智慧財產局申請的韓國專利申請案編號10-2013-0006310的優先權,其全部揭露內容併入於本文中以作為參考。

     本發明有關一種用於備製偏光鏡的方法。

     液晶顯示裝置(LCD)是一種影像顯示裝置,且相較於典型的影像顯示裝置,例如陰極射線管(CRT),具有實現用於減少裝置大小與重量的技術以及降低功率消耗的優勢。不像是CRT,LCD不是自發光的元件,但需要替代的光源以及液晶面板。作為這種LCD的光源,最常使用螢光燈,且LCD的液晶面板具有分別附接在其兩側的第一偏光板(下板)以及第二偏光板(上板)。該第一以及第二偏光板可阻擋或傳輸從燈發出的光。
     一般而言,偏光板具有包括下述的配置:設有第一偏光鏡保護薄膜、偏光鏡以第二偏光鏡保護薄膜的層板;塗佈至該層板一面的黏著層,以將其結合至液晶胞元;以及放在該層板另一面的表面保護薄膜。在本文中,上以及下偏光板具有相同的配置,以黏著至該液晶胞元的兩面。
     隨著LCD大小的增加與厚度的減少,以及其使用的增加,近來對於偏光板功能改進的需要已增加。因此,兩個具有不同特性的偏光板常用以分別作為上以及下偏光板。例如,作為上偏光板,使用的偏光板不只包括在偏光鏡的可見側的偏光鏡保護薄膜,也包括了寬視角補償薄膜、功能性塗層(硬塗層、抗靜電層、抗反射層,或諸如此類)或其層板。另一方面,採用了包括亮度改進薄膜、漫射保護薄膜或其層板的偏光板以及在偏光鏡的背光單元側的偏光鏡保護薄膜作為下偏光板。用於體現如上所述這種不同特徵的前述功能性薄膜、塗層或層板可具有不同的原料、厚度、拉延方向、物理特性,例如濕氣滲透性,或諸如此類。
     典型的偏光板包括由聚乙烯醇(PVA)薄膜形成的偏光鏡,該聚乙烯醇薄膜以固定方向拉延,並以雙色染料染色。所拉延的PVA薄膜根據溫度或濕度的改變而在拉延軸方向中收縮。特別是,在使用包括提供在偏光鏡上的不同功能性薄膜、塗層或其層板的偏光板作為每個上下偏光板的例子中,收縮可能由於上下偏光板之間的濕氣滲透性差異而增加,因此造成顯著捲曲的發生,其可造成液晶面板的彎曲。因此,發生了漏光,因此造成液晶面板的故障。
     雖然韓國專利註冊編號679,535揭露了一種在大小中的減少改變的偏光鏡、偏光板以及使用該偏光鏡的液晶顯示裝置,其沒有提出克服前述問題的解決方案。
     因此,本發明的目的是提供一種用於備製能夠減少彎曲行為以及漏光的偏光鏡的方法。
     根據具創造性方法備製的偏光鏡可用於液晶顯示裝置,以減少其彎曲,因此改進了該液晶顯示裝置的漏光。
     為了達成上述目的,本發明提供了下述。
     (1)一種用於備製偏光鏡的方法,包括:膨脹、染色、交聯、拉延以及乾燥可形成偏光鏡的薄膜,其中℃其滿足下述數學方程式1,Y≧-aX + 30 N/2mm(其中Y代表範圍為0至3.8 N/2mm的偏光鏡收縮;a是1 N/(2mm℃);以及X代表在交聯期間的交聯反應器溫度,其為60℃或更低)。
     (2)根據上述第(1)項所述的液晶顯示裝置,其中該偏光鏡的收縮是在80℃加熱該偏光鏡240分鐘之後在吸收軸方向中的收縮。
     (3)根據上述第(1)項所述的液晶顯示裝置,其中執行該拉延直到該偏光鏡具有30μm或更小的厚度。
     (4)根據上述第(1)項所述的液晶顯示裝置,其中執行該拉延直到累積的拉延比範圍為4至5.8倍。
     (5)根據上述第(1)項所述的液晶顯示裝置,其中在該乾燥過程中將500至850 N/m的張力施加至該可形成偏光鏡的薄膜。
     (6)一種偏光板,包括:藉由根據上述第(1)至(5)項任一所述的方法備製的偏光鏡;以及結合至該偏光鏡的至少一面的保護薄膜。
     (7)一種液晶顯示裝置,包括根據上述第(6)項所述的偏光板。
無。
     結合伴隨的圖式,從下述詳細的描述將更清楚地了解上述以及其他的目的、特徵以及本發明的其他優勢,其中:
第1圖是示例根據本發明數學方程式1範圍的圖表;
第2圖是示例範例1中所備製的偏光鏡彎曲度的視圖;
第3圖是示例範例2中所備製的偏光鏡彎曲度的視圖;
第4圖是示例範例3中所備製的偏光鏡彎曲度的視圖;
第5圖是示例範例4中所備製的偏光鏡彎曲度的視圖;
第6圖是示例範例5中所備製的偏光鏡彎曲度的視圖;
第7圖是示例範例6中所備製的偏光鏡彎曲度的視圖;
第8圖是示例範例7中所備製的偏光鏡彎曲度的視圖;以及
第9圖是示例比較性範例中所備製的偏光鏡彎曲度的視圖。
     本發明揭露了一種用於備製偏光鏡的,包括:膨脹、染色、交聯、拉延以及乾燥可形成偏光鏡的薄膜,其中其滿足下述數學方程式1,Y≧-aX + 30 N/2mm,藉此當在液晶顯示裝置使用該偏光鏡時,可減少其彎曲,同時改進漏光。
  此後,將更詳細地描述本發明。
  根據本發明用於備製偏光鏡的方法可包括膨脹、染色、交聯、拉延以及乾燥可形成偏光鏡的薄膜,並滿足下述數學方程式1:
    [數學方程式1]
    Y≧-aX+30 N/2mm
(其中Y代表範圍為0至3.8 N/2mm的偏光鏡收縮;a是1 N/(2mm℃);以及X代表在交聯期間交聯反應器的溫度,其為60℃或更低)。
  為了參考,數學方程式1的範圍示例於第1圖中。
  本發明是基於下述基礎而設計:如果在備製偏光鏡的過程中的交聯期間,交聯反應器的溫度與該偏光鏡收縮之間的關係滿足數學方程式1,當在其中使用該偏光鏡時,可減少液晶顯示裝置彎曲,同時改進漏光。
  用於控制偏光鏡收縮的方法不特別受限,但是,例如,可基於製程條件,例如在膨脹槽中的浸沒時間、在交聯反應器中的浸沒時間、拉延比、或諸如此類,來控制該偏光鏡的收縮。
  根據本發明的偏光鏡的收縮(其使用TA instrument Co.製造的TMA來測量)意指當轉換成單位寬度時,在開始於80℃加熱該偏光鏡240分鐘之後,在其吸收軸方向收縮具有2 mm(寬度)× 40 mm(length)大小的偏光鏡的力強度。該測量是藉由下述來執行:在兩個夾盤之間***具有2 mm寬度的偏光鏡,使得這些夾盤之間的間隙變成40 mm(在吸收軸方向中),其中一個夾盤是固定的,而另一個連接至測力器;連續地於80℃加熱該偏光鏡240分鐘;以及讀取該測力器上指出的值。
  可在滿足前述條件的範圍內藉由本技術領域中已知用於製造偏光鏡的任何傳統方法來備製該偏光鏡,該條件包括,例如,膨脹、染色、交聯以及乾燥可形成偏光鏡的薄膜的過程。過程的順序、重複的次數、個別過程的製程條件、或諸如此類不特別受限,只要它們是在本發明的目的以及範圍內。
     可形成偏光鏡的薄膜的種類不特別受限(如果它們是使用雙色材料(也就是碘)的可染色薄膜),然而,可包括,例如:聚乙烯醇薄膜,特別是皂化的聚乙烯醇薄膜,等等;親水性聚合物薄膜,例如聚乙烯對苯二甲酸酯薄膜、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物薄膜、乙烯-乙烯醇共聚物薄膜、纖維素薄膜,特別是其皂化的薄膜,等等;多烯校直薄膜,例如脫水聚乙烯醇薄膜、脫氯化氫的聚乙烯醇薄膜,或諸如此類。在這些之中,考慮到加強表面內的偏光性均勻性以及極佳染色親和力的效果,較佳使用聚乙烯醇(PVA)薄膜。
  可形成偏光鏡的薄膜的厚度不特別受限,但例如,範圍可為40至80μm。
  膨脹是包括下述的過程:在染色之前,將未拉延的可形成偏光鏡的薄膜浸沒裝有膨脹溶液的膨脹槽中;移除雜質(例如累積在該可形成偏光鏡的薄膜表面上的灰塵)、防結塊劑,等等;膨脹該可形成偏光鏡的薄膜,以改進拉延效率,同時預防不規則的染色,藉此增強該偏光鏡的物理特性。
    膨脹溶液一般可只單單為水(純水、去離子水),或,如果對其加入小量的甘油或碘化鉀,可改進聚合薄膜的可使用性以及膨脹。
  甘油以及碘化鉀的含量不特別受限,但例如,相對於膨脹溶液的總重量,可分別為5重量%或更少以及10重量%或更少。
  膨脹槽的溫度不特別受限,但例如,範圍可為20至45℃,且較佳為25至40℃。如果該膨脹槽的溫度是在前述範圍內,在後續過程中的拉延以及染色效率可變得極佳,且可預防由於過度膨脹造成的薄膜擴張。
  膨脹的進行時間(膨脹槽的浸沒時間)不特別受限,但例如,可為180秒或更短,較佳範圍為10至120秒,且更佳範圍為20至60秒。如果浸沒時間是在上述範圍內,可能抑制該薄膜由於過度膨脹而飽和,其隨之預防了該薄膜由於變脆弱造成的斷裂,並允許在染色期間碘的均勻吸收,藉此增強偏光性。

染色是將可形成偏光鏡的薄膜浸沒在裝有染色材料(即,含有碘的染色溶液)的染色槽中,並將碘吸附至該可形成偏光鏡的薄膜的過程。
  染色溶液可包括水、水溶性有機溶劑或其溶劑混合物以及碘。相對於染色溶液的總重量,本文中所使用的碘的含量範圍可為0.4至400 mmol/L,較佳為0.8至275 mmol/L,且更佳為1 至200 mmol/L。
  染色溶液可進一步包括作為穩定劑的碘化物,以改進染色效率。
  碘化物的種類不特別受限,但可包括,例如,碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦,或諸如此類。考慮到高水溶性,較佳使用碘化鉀。前述的材料可單獨或以其二或更多個組合而使用。
  碘化物的含量不特別受限,但例如,相對於染色溶液的總重量,範圍可為0.01至10重量%,且較佳為,0.01至5重量%。
  染色槽的溫度不特別受限,但例如,範圍可為5至42℃,且較佳為,10至35℃。
  可形成偏光鏡的薄膜在染色槽中的浸沒時間不特別受限,但例如,範圍可為1至20分鐘,且較佳為2至10分鐘。
  交聯是將被染色的可形成偏光鏡的薄膜浸沒在包含在交聯反應器中的交聯溶液中,以固定碘分子的過程,以預防染色特性被外部環境減少,其中該碘分子已物理上吸附至該薄膜。在防水的環境下,雙色染料不那麼常被洗滌,然而如果交聯反應不穩定,碘分子常根據環境而溶解或昇華。因此,必須有效率地執行該交聯反應。
    交聯溶液可包括硼化合物,例如硼酸、硼酸鈉,或諸如此類,以及作為溶劑的水,並進一步包括與水相容地可溶的有機溶劑。
  硼化合物的含量不特別受限,但例如,相對於交聯溶液的總重量,範圍可為1至7重量%,且較佳為2至6重量%。
  交聯溶液可進一步包括選自乙二醛以及戊二醛所組成的群組的至少一交聯劑,以改進交聯中的反應性。
  交聯劑的含量不特別受限,但例如,相對於交聯溶液的總重量,範圍可為1至10重量%,且較佳為,2至6重量%。
  交聯溶液可進一步包括小量的碘化物,以在偏光鏡的表面中具有偏光性的均勻性。
  碘化物可與染色過程中所使用的相同。
  碘化物的含量不特別受限,但例如,相對於交聯溶液的總重量,可包括0.05至15重量%,且較佳為0.5至11重量%。
  硼化合物對碘化物的重量比不特別受限,但例如,範圍可為1:0.1至3.5,且較佳為1:0.5至2.5。
  交聯溶液可進一步包括鹼金屬氯化物,以改進所備製的偏光鏡的顏色耐久性。
  鹼金屬氯化物不特別受限,但可包括,例如,氯化鋰、氯化鈉、氯化鉀、或諸如此類。
  鹼金屬氯化物的含量不特別受限,但例如,相對於1莫耳的碘化物,範圍可為0.22至4.5莫耳,且較佳為0.3至3.0莫耳。如果該鹼金屬氯化物的含量是在上述範圍內,可最大化改進顏色耐久性的效果。
  交聯反應器的溫度是60℃或更低,且較佳範圍為50至60℃,因為當其應用至液晶面板時,可最大化改進彎曲以及漏光的效果。
  在交聯反應器中可形成偏光鏡的薄膜的浸沒時間不特別受限,但例如,範圍可為1秒至15分鐘,且較佳為5秒至10分鐘。
  拉延過程的順序不特別受限,但例如,可在染色之前或之後,或在交聯之後執行拉延。或者,可與選自膨脹、染色以及交聯的至少一製程同時執行拉延。
  在完成這種拉延過程之後,可備製出具有均勻厚度的偏光鏡。
  在拉延之後,偏光鏡的厚度可為30 μm或更少,且較佳範圍為10至25μm。在該偏光鏡的厚度是在上述範圍內的情況中,該偏光鏡可具有優越的光學特性,例如偏光性,以及極佳的耐久性。
  偏光鏡的厚度與光學特性(例如偏光性)以及機械特性(例如張力強度)密切相關。也就是說,執行逐步的拉延以維持想要的該偏光鏡的光學以及機械特性。
  在個別步驟中拉延比的乘積(即,累積拉延比)不特別受限,但範圍可為4至5.8倍,且較佳為4.5至5.7倍。如果該累積拉延比是在上述範圍內,可能備製出具有低收縮的偏光鏡。

     隨選的是,用於備製根據本發明偏光鏡的方法可進一步包括在交聯之後沖洗。
  沖洗是將完成了交聯以及拉延的可形成偏光鏡的薄膜浸沒在含有沖洗溶液的沖洗槽中的過程,以移除不想要的雜質,例如在先前製程中附著至該可形成偏光鏡的薄膜的硼酸。
  沖洗溶液可為水(去離子水)或進一步含有碘化物加至於其。該碘化物可與染色過程中所使用的相同,且在這些之中,較佳使用碘化鈉或碘化鉀。碘化物的含量不特別受限,但例如,相對於該沖洗溶液的總重量,範圍可為0.1至10重量部分,且較佳為3至8重量部分。

沖洗槽的溫度不特別受限,但例如,範圍可為10至60℃,且較佳為15至40℃。
   沖洗可被省略,或是否則每當完成先前的製程(例如染色、交聯或拉延)時執行。此外,可重複沖洗至少一次,且這種重複將其沖洗的次數不特別受限。
   乾燥是乾燥所沖洗的PVA薄膜以及改進碘分子校直的過程,所述碘分子經歷了染色上色性(dying exhaustion)(由於乾燥所造成的縮頸)藉此製造出具有極佳光學特性的偏光鏡。
   乾燥可包括,例如,自然乾燥、風乾、加熱乾燥、遠紅外線乾燥、微波乾燥、熱風乾,或諸如此類。近年來,雖然一般使用熱風乾,最近已使用只活化薄膜中水的部分以乾燥該薄膜的微波乾燥方法。例如,可在20至90℃的溫度下執行熱風乾1至10分鐘。此外,較佳使用低乾燥溫度,以預防偏光鏡的惡化。更佳的是,溫度是80℃或更低,且最佳為60℃或更低。
   為了預防可形成偏光鏡的薄膜在拉延之後再次收縮,可施加張力。張力的強度不特別受限,但例如,範圍可為500至850 N/m,且較佳為500至600 N/m。如果該張力是在上述範圍內,可能減少薄膜的失敗,例如起縐、薄膜破裂、收縮,或諸如此類。
   此外,本發明可提供包括保護薄膜結合至偏光鏡的至少一面的偏光板。
   保護薄膜如果是具有極佳透明度、機械強度、熱穩定度、防水特性、等向特性、或諸如此類的薄膜,則不特別受限。更特別的是,前述的保護薄膜可包括,例如:聚酯薄膜,例如聚乙烯對苯二甲酸酯、聚乙烯間苯二甲酸酯、聚丁烯對苯二甲酸酯,等等;纖維素薄膜,例如二醋酸纖維素、三醋酸纖維素,等等;聚碳酸酯薄膜;聚丙烯酸薄膜,例如聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙基丙烯酸甲酯,等等;苯乙烯薄膜,例如聚苯乙烯、丙烯腈-苯乙烯共聚物,等等;聚烯烴薄膜;乙烯氯薄膜;聚醯胺薄膜,例如尼龍、芳香族聚醯胺,等等;亞胺薄膜;碸薄膜;聚醚酮薄膜;聚苯硫醚薄膜;乙烯醇薄膜;聚偏二氯乙烯薄膜;乙烯醇縮丁醛薄膜;烯丙醇酯薄膜;聚甲醛薄膜;胺甲酸酯薄膜;環氧樹脂薄膜;矽薄膜,或諸如此類。在這些之中,考慮聚合特性以及耐久性,特別較佳使用具有表面由鹼性材料皂化的纖維素薄膜。此外,該保護薄膜可具有光學層的功能。
   根據本發明,偏光板的結構不特別受限,但可為藉由在偏光鏡上結合不同光學層來形成的結構,其可滿足想要的光學特性。例如,該偏光板可具有:其中偏光鏡保護薄膜結合至偏光鏡的至少一面的結構;其中任何表面處理層,例如硬塗層、抗反射層、抗附著層、抗散射層或抗眩光層等等,結合至保護薄膜或偏光鏡的至少一面的結構;或其中補償視角之校直液晶層或其他的功能性薄膜結合至保護薄膜或偏光鏡的至少一面的結構。此外,結構結合至偏光板,該結構中,至少一光學層選自:用於製造各種影像顯示裝置(例如偏光性轉換裝置)的光學薄膜;反射鏡;半透光板;包括波板的(包括λ板)的阻滯板,例如1/2波板或1/4波板;視角補償薄膜;以及照明改進薄膜。更特別的是,具有保護薄膜結合至偏光鏡的一面的結構的偏光板較佳範例可包括:反射偏光板或包括結合保護薄膜以及反射鏡或半透光反射鏡結合至其的半透光板;具有阻滯板結合至其的橢圓或圓形偏光板;具有視角補償層或薄膜結合至其的寬視角偏光板;具有照明改進薄膜結合至其的偏光板,或諸如此類。
   此外,本發明可提供一種液晶顯示裝置,該液晶顯示裝置包括具有上述偏光板的液晶面板。
   液晶顯示裝置的結構不特別受限,但可為包括本技術領域中所使用的任何傳統液晶胞元以及上述偏光板的結構,該偏光板結合至該液晶胞元的兩面。此外,在該結構中可進一步包括用於將光提供至該液晶面板的背光單元以及用於控制該液晶面板的影像顯示的控制器。
   為了將偏光板結合至該液晶胞元,可將壓敏黏著劑(此後稱為「黏著劑」)塗佈至該偏光板的一面。這種塗佈可藉由本技術領域已知的任何一般方法來執行。用於該黏著劑的主要聚合物不特別受限,但大部分可包括:丙烯酸聚合物;矽聚合物;聚酯、聚胺甲酸酯、聚醯胺、聚醚;氟以及橡膠聚合物,或諸如此類。特別是,一般使用例如丙烯酸黏著劑的黏著劑,且該黏著劑可具有極佳的光學透光度以及適合的聚合性以及黏著性。此外,在耐久度方面,前述的黏著劑可具有低吸濕性、顯著的耐候性以及熱抗性。這些特性在控制氣泡的產生以及由於吸濕造成的分層方面是重要的。
   取決於用途以及再加工特性而適當地決定黏著層的厚度,例如,範圍可為1至500μm,較佳為5至200μm,且更佳為10至100μm。

     此後,將描述較佳的具體實施例以參照範例來更具體地了解本發明。然而,對於本領域技術人員將為顯而易見的是,這種具體實施例是提供用於示例的目的,且各種修飾以及替代方案是可能的,而不悖離本發明的範圍以及精神,且如同附帶的申請專利範圍所定義的,這種修飾以及替代方案被充分地包括在本發明中。
   範例
範例1
     在將透明且未拉延、具有99.9%或更高皂化程度以及75μm厚度的聚乙烯醇(PVA)薄膜(VF-PS,Kuraray Co.)浸沒於30℃的水(去離子水)以膨脹該薄膜之後,將所膨脹的薄膜再次浸沒於30℃含有3.5 mmol/L的碘以及2重量%的碘化鉀的染色溶液中以染色該薄膜。隨後,在54℃的溫度準備交聯反應器之後(其中包括了含有2重量%的碘化鉀、3.7重量%的硼酸以及4.5莫耳的氯化鋰比上1莫耳的碘化鉀比例的交聯溶液),將該薄膜浸沒於該交聯溶液中,以交聯該薄膜。在這些製程期間,拉延該薄膜以到達總共5.4倍的累積拉延比,以至於該PVA薄膜具有23μm的厚度。
     在完成交聯之後,將850N/m的張力施加至PVA薄膜,接著在乾燥爐中於70℃乾燥該PVA薄膜4分鐘,以備製偏光鏡。
     使用丙烯酸黏著劑,將具有23μm厚度的三醋酸纖維素薄膜結合至所備製的偏光鏡的兩側,以製造偏光板。

範例2
     除了交聯反應器的溫度是55℃之外,藉由如範例1中所描述的相同程序來備製偏光鏡。此外,製造了包括所備製的偏光鏡的偏光板。
範例3
     除了交聯反應器的溫度是55℃以及施加至乾燥爐中的薄膜的張力是500 N/m之外,藉由如範例1中所描述的相同程序來備製偏光鏡。此外,製造了包括所備製的偏光鏡的偏光板。
範例4
     除了交聯反應器的溫度是57℃以及施加至乾燥爐中的薄膜的張力是500 N/m之外,藉由如範例1中所描述的相同程序來備製偏光鏡。此外,製造了包括所備製的偏光鏡的偏光板。
範例5
     除了交聯反應器的溫度是58℃以及施加至乾燥爐中的薄膜的張力是500 N/m之外,藉由如範例1中所描述的相同程序來備製偏光鏡。此外,製造了包括所備製的偏光鏡的偏光板。
範例6
     除了拉延薄膜以到達5倍的累積拉延比、交聯反應器的溫度是58℃、以及施加至乾燥爐中的薄膜的張力是500 N/m之外,藉由如範例1中所描述的相同程序來備製偏光鏡。此外,製造了包括所備製的偏光鏡的偏光板。
範例7
     除了拉延薄膜以到達4.5倍的累積拉延比、交聯反應器的溫度是58℃、以及施加至乾燥爐中的薄膜的張力是500 N/m之外,藉由如範例1中所描述的相同程序來備製偏光鏡。此外,製造了包括所備製的偏光鏡的偏光板。
比較性範例
     除了總共的累積拉延比是6倍之外,藉由如範例1中所描述的相同程序來備製偏光鏡1。此外,製造了包括所備製的偏光鏡的偏光板。
實驗範例
1.收縮的測量
     將在範例以及比較性範例中所備製的每個偏光鏡切割成2 mm(寬度)× 40 mm(長度)的大小,以製造出樣本,然後,於80℃加熱240分鐘。在這之後,利用TMA將該樣本進行收縮的測量。測量結果示於下述表1中。
2. 偏光板彎曲度的測量
     利用二維計(由INTEK IMS Co.製造),將在範例以及比較性範例中所備製的每個偏光板進行最大彎曲度的測量。測量結果分別示例於表1、第2圖(範例1)、第3圖(範例2)、第4圖(範例3)、第5圖(範例4)、第6圖(範例5)、第7圖(範例6)、第8圖(範例7)以及第9圖(比較性範例)中。

[表1]

     參見表1以及第1圖至第9圖,可看到的是在範例1至7中所備製的每個偏光鏡具有2.16至3.66 N/2mm的小收縮,且當將其使用於偏光板中時,該偏光板具有0.77至2.51 mm的小彎曲度。因此,推測也可減少漏光。
然而,在比較性範例中所備製的偏光鏡具有相對大的3.93 N/2mm的收縮以及2.86 mm的彎曲度,這說明了該偏光板彎曲了非常多。因此,推測可能發生漏光。
無。

Claims (1)


1. 一種用於備製一偏光鏡的方法,包含:膨脹、染色、交聯、拉延以及乾燥一可形成偏光鏡的薄膜,其中其滿足下述數學方程式1,

 Y≧-aX + 30 N/2mm

 (其中Y代表範圍為0至3.8 N/2mm的該偏光鏡的一收縮;a是1 N/(2mm℃);以及X代表在交聯期間一交聯反應器的一溫度,其為60℃或更低)。

2. 如申請專利範圍第1項所述的方法,其中該偏光鏡的該收縮是在於80℃加熱該偏光鏡240分鐘之後在一吸收軸方向之收縮。

3. 如申請專利範圍第1項所述的方法,其中執行該拉延直到該偏光鏡具有30 μm或更少的一厚度。

4. 如申請專利範圍第1項所述的方法,其中執行該拉延直到一累積拉延比範圍為4至5.8倍。

5. 如申請專利範圍第1項所述的方法,其中在該乾燥過程中將500至850 N/m的一張力施加至該可形成偏光鏡的薄膜。

6. 一種偏光板,包含:藉由如申請專利範圍第1至5項任一項所述的方法來備製的偏光鏡;以及結合至該偏光鏡的至少一面的一保護薄膜。

7. 一種液晶顯示裝置,包含如申請專利範圍第6項所述的偏光板。
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