TW201415458A - 多層光記錄媒體製造用薄片、多層光記錄媒體以及黏著劑 - Google Patents

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Abstract

其為多層光記錄媒體製造用薄片1，用於製造將光記錄層11與黏著劑層12積層而成的多層光記錄媒體10，由光記錄層11與黏著劑層12積層而成；黏著劑層12由以聚合物作為主成分的黏著劑構成，上述聚合物含有含氟單體以及/或含矽單體作為構成單體組分，且黏著劑層12不具有區域結構(domain structure)，或者具有區域(domain)的大小為110nm以下的區域結構；將聚合物中作為構成單體組分的單體總量設為100質量%時，含氟單體以及含矽單體的合計含有量為10~100質量%。利用該多層光記錄媒體製造用薄片1，在光記錄層11與黏著劑層12的介面上，可以檢出充分強度的反射光，且在黏著劑層12的散射光少，可以製造雜訊(noise)少的多層光記錄媒體。

Description

多層光記錄媒體製造用薄片、多層光記錄媒體以及黏著劑
本發明係關於積層光記錄層和黏著劑層而形成的多層光記錄媒體，以及其製造中可以使用的多層光記錄媒體製造用薄片及黏著劑。
近年，為實現光記錄媒體中記錄資訊的高密度化，有研究提出了利用多光子吸收性材料的多層光記錄媒體。為了降低在這種多層光記錄媒體中的串音(cross talk)，有研究提出了一種在光記錄層與光記錄層之間設置非光記錄層的結構(譬如，參照專利文獻1及專利文獻2)。並且，於這種結構的多層光記錄媒體中，有研究檢討了一種通過照射記錄光而使光記錄層的形狀改變，光記錄層相對於中間層形成凸結構，由此將資訊記錄於光記錄層之方法(參照專利文獻3)。
為了製造如上所述之結構的多層光記錄媒體，通常採用旋塗法來形成各層，然後進行積層之方法。不過，此法有多層光記錄媒體的大面積化困難，材料受到限製等的問題。
為瞭解決上述問題，有研究提出採用壓敏型黏著性薄片(pressure-sensitive adhesive sheet)製造多層光記錄媒體的方法，這種壓敏型黏著性薄片是通過將含有曝光材料的光記錄層和黏著劑層進行積層而形成(參照專利文獻4)。通過使用 這種壓敏型黏著性薄片的製造方法，可以容易且大面積地製造多層光記錄媒體。
[專利文獻1]特開平11-250496號公報
[專利文獻2]特開2000-67464號公報
[專利文獻3]特開2012-89195號公報
[專利文獻4]特開2005-209328號公報
然而，在從來的多層光記錄媒體中，通過利用濺射(sputtering)等設置反射層，利用在反射層介面的反射光進行各層的檢出。近年，有研究進行了如下的探討：在上述那樣的多層光記錄媒體中，通過利用來自光記錄層與黏著劑層的介面的反射光檢出各層介面，從光記錄層進行資訊的讀取。
像這樣在利用來自光記錄層與黏著劑層的介面的反射光的情況下，與設置反射層的情況相比，必須檢出強度弱的反射光。以往的黏著劑層折射率比較高，與光記錄層的折射率差小，因此存在難於得到檢出所必需強度的反射光的情況。而且，由於黏著劑層的相分離狀態，散亂光多，其散亂光成為檢出反射光時的雜訊(noise)，有發生反射光檢出不良的時候。
本發明是鑒於上述情況而進行的，本發明的目的是提供一種能夠在光記錄層與黏著劑層的介面檢出充分強度的反射光，而且在黏著劑層的散亂光少，雜訊(noise)少的多層光記錄媒體，以及可以用於製造該多層光記錄媒體的多層光記錄媒體製造用薄片及黏著劑。
上述本發明之目的，可以用如下發明達成：第一，本發明提供一種多層光記錄媒體製造用薄片，其是用於製造積層光記錄層和黏著劑層而形成的多層光記錄媒體的多層光記錄媒體製造用薄片，其特徵在於：其是由光記錄層和黏著劑層積層而形成的；上述黏著劑層由以聚合物作為主成分的黏著劑構成，上述聚合物含有含氟單體以及/或含矽單體作為構成單體組分，且黏著劑層不具有區域結構(domain structure)，或者具有區域(domain)的大小為110nm以下的區域結構；將上述聚合物中作為構成單體組分的單體總量設為100質量%時，上述含氟單體以及含矽單體的合計含有量為10~100質量%(發明1)。
上述發明(發明1)中的黏著劑層折射率低，與光記錄層的折射率差大，在光記錄層與黏著劑層的介面，能夠得到檢出所必需的充分強度的反射光。而且在上述發明(發明1)中的黏著劑層，散亂光少，因此在光記錄層與黏著劑層的介面，檢出反射光時的雜訊(noise)少，可以抑製反射光檢出不良的發生。
上述發明(發明1)中，上述含氟單體較佳為含氟丙烯酸類單體，上述含矽單體較佳為含矽丙烯酸類單體(發明2)。
上述發明(發明1，2)中，上述聚合物較佳為含有具有官能團的丙烯酸類單體作為構成單體組分(發明3)。
上述發明(發明1~3)中，上述聚合物較佳為由 交聯劑進行交聯(發明4)。
上述發明(發明4)中，上述交聯劑較佳為選自由金屬類交聯劑、環氧類交聯劑以及氮丙啶類交聯劑所構成的群組中的至少一種(發明5)。
上述發明(發明1~5)中，上述黏著劑層較佳為折射率為1.45以下(發明6)。
上述發明(發明1~6)中，上述光記錄層較佳為含有光子吸收性材料(發明7)。
第二，本發明提供一種多層光記錄媒體，其特徵在於：其為使用上述多層光記錄媒體製造用薄片(發明1~7)而得到(發明8)。
第三，本發明提供一種多層光記錄媒體，其特徵在於：其為將光記錄層與黏著劑層積層而成；上述黏著劑層由以聚合物作為主成分的黏著劑構成，上述聚合物含有含氟單體以及/或含矽單體作為構成單體組分，並且上述黏著劑層不具有區域結構(domain structure)，或者具有區域(domain)的大小為110nm以下的區域結構；將上述聚合物中作為構成單體組分的單體總量設為100質量%時，上述含氟單體以及上述含矽單體的合計含有量為10~100質量%(發明9)。
上述發明(發明8，9)所述的多層光記錄媒體，如果向上述多層光記錄媒體照射記錄光，則在上述光記錄層與上述黏著劑層的介面，在上述光記錄層上形成凸部，在與上述形成了凸部的部分相接的上述黏著劑層上也可以形成凹部(發明10)。
第四，本發明提供一種黏著劑，其以聚合物作為主成分，上述聚合物含有含氟單體以及/或含矽單體作為構成單體組分，其特徵在於：將上述共聚合物中作為構成單體組分的單體總量設為100質量%時，上述含氟單體以及上述含矽單體的合計含有量為10~100質量%；上述黏著劑不具有區域結構(domain structure)，或者具有區域(domain)的大小為110nm以下的區域結構；將上述黏著劑製成厚度為10μm的黏著劑層時的折射率為1.45以下(發明11)。
根據本發明，在光記錄層與黏著劑層的介面，可以檢出充分強度的反射光，而且在黏著劑層中散亂光少，可以得到檢出反射光時的雜訊(noise)少的多層光記錄媒體。
1‧‧‧多層光記錄媒體製造用薄片
11‧‧‧光記錄層
12‧‧‧黏著劑層
13、13’‧‧‧剝離膜
2‧‧‧多層結構體
3‧‧‧基板
4‧‧‧黏著劑層
5‧‧‧透光性保護膜
10‧‧‧多層光記錄媒體
圖1為本發明的一個實施形態中所述的多層光記錄媒體製造用薄片的斷面圖。
圖2為本發明的一個實施形態中所述的多層光記錄媒體的斷面圖。
圖3為實例3中黏著劑層的由SPM所得到的DFM位相像的照片。
圖4為實例14中黏著劑層的由SPM所得到的DFM位相像的照片。
圖5為比較例4中黏著劑層的由SPM所得到的DFM位相像的照片。
以下，對本發明的實施形態進行說明。
在由本實施形態所提供的多層光記錄媒體中，利用記錄材料的光子吸收進行記錄。所謂光子吸收是指化合物吸收光子而被激發的現象。
〔光記錄媒體製造用薄片〕
圖1為本發明的一個實施形態中所述的多層光記錄媒體製造用薄片的斷面圖。本實施形態中所述的多層光記錄媒體製造用薄片1，由光記錄層11、積層在光記錄層11上的黏著劑層12、積層在光記錄層11的外側表面上的剝離膜13以及積層在黏著劑層12的外側表面上的剝離膜13’構成。不過，剝離膜13、剝離膜13’，在多層光記錄媒體製造用薄片1的使用時被剝下。多層光記錄媒體製造用薄片1中的剝離膜13或剝離膜13’也可以沒有。
〔光記錄層〕
作為構成光記錄層11的記錄材料(光記錄材料)，只要含有光子吸收性材料即可，可從所知的現有光記錄媒體的光記錄層構成材料中適當選擇任意的材料。所謂光子吸收性材料，譬如，可以列舉出一光子吸收性材料或多光子吸收性材料。所謂多光子吸收性材料，是指具有同時吸收2個以上的光子，向激發狀態遷移的性質的化合物。多光子吸收性材料因為光子吸收僅在光強度強的位置發生，空間分解能提高，因此能夠以光記錄媒體內部的一點為目標進行記錄。
其中，從實用上可得到足夠的記錄感度的角度而言，光記 錄層11較佳為含有多光子吸收性材料，其中較佳為含有二光子吸收橫截面積為0.1GM以上的二光子吸收性材料，特佳為含有100GM以上的二光子吸收性材料。這裏，「GM」的意思是10-50cm4‧s‧molecule-1‧photon-1。
作為如上所述的光記錄材料，可列舉如下：譬如，光子吸收性材料單獨構成的材料，由光子吸收性材料和被激發的光子吸收性材料的能量轉移所引起變化的其他反應性化合物所構成的材料，或根據需要以上述材料與基材(matrix)調配而得的材料等。
構成上述基材(matrix)的材料，雖然既可以是無機材料也可以是有機材料，但從多層光記錄媒體製造用薄片1製造的方便性以及材料的選擇肢多的觀點考慮，較佳為有機類高分子材料。這種高分子材料既可以是均質聚合物，也可以是共聚物，對於其單體的種類、分子量、聚合形態等沒有特別限製。
作為上述高分子材料的具體例，可列舉如下：各種聚乙烯、乙烯/1-丁烯共聚物、乙烯/4-甲基-1-戊烯共聚物、乙烯/1-己烯共聚物、聚丙烯、乙烯/丙烯共聚物、丙烯/1-丁烯共聚物、聚1-丁烯、1-丁烯/4-甲基-1-戊烯共聚物、聚4-甲基-1-戊烯、聚3-甲基-1-丁烯、乙烯/環狀烯烴共聚物、環狀烯烴類樹脂等的聚烯烴類、乙烯/醋酸乙烯酯共聚物、乙烯/丙烯酸共聚物或其金屬鹽、聚甲基丙烯酸甲基酯、脂肪環丙烯樹脂等的聚(甲基)丙烯酸酯、聚乙烯對苯二甲酸酯、聚鄰苯二甲酸乙二醇酯等的聚酯類樹脂、聚全氟乙烯、全氟烯基乙烯基醚聚合 物等的氟系樹脂、聚苯乙烯、聚乙烯醇、聚碳酸脂、聚苯硫醚、聚醚碸、聚醯亞胺、聚苯醚、烯烴/N-取代馬來醯亞胺共聚物、碳酸烯丙醇樹脂、環氧丙烯酸酯樹脂、氨甲酸酯丙烯酸酯樹脂等。這些高分子材料既可以單獨使用1種，也可以兩種以上混合使用。此外，在本說明書中，(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯兩者。其他類似用語亦相同。
另一方面，對於上述基材，光子吸收性材料可作為主鏈或側鏈成分進行化學結合，也可以僅分散或溶解於基材之中。作為這種光子吸收性材料沒有特別限製，可以使用各種化合物。作為此類光子吸收性材料，可列舉如下：譬如，花青色素、苯乙烯色素、吡喃鎓色素、噻喃(thiapyrylium)色素、部花青色素、烯丙叉色素、氧喏(oxonol)色素、方酸色素、薁鎓系(azulenium)色素、香豆素色素、吡喃色素、醌色素、蒽醌色素、三苯甲烷色素、二苯甲烷色素、氧雜蒽色素、硫二苯並呱喃(thioxanthene)色素、硫二苯胺(phenothiazine)色素、偶氮色素、次甲基偶氮(azomethine)色素、芴酮色素、二芳基乙烯色素、螺吡喃(spiropyran)色素、俘精酸酐(fulgide)色素、二萘嵌苯(perylene)色素、多烯色素、二苯胺色素、米帕林酮(quinacridone)色素、鎓系色素、卟啉(porphyrin)色素、酞花菁色素、苯乙烯系色素、伸苯基伸乙烯基(phenylenevinylene)色素、三苯胺系色素、哢唑(carbazolyl)系色素等。
作為上述光子吸收性材料的分子量，雖然沒有特別限製，不過以600以上為佳。當分子量在600以上時，能夠抑製光子吸收性材料向黏著劑層12的轉移。對於分子量的上 限，雖然沒有特別限製，不過通常來講，數平均分子量Mn(number-average molecular weight)在100,000左右。如此高分子量的光子吸收性材料，譬如，可以通過讓其對於前述的基材，作為主鏈或側鏈成分進行化學結合而獲得。此外，上述數平均分子量Mn，是根據膠凝體滲透色譜法(GPC法)測量的標準聚苯乙烯換算的值。
作為利用如上所述的光子吸收性化合物的記錄方式，可以列舉出：譬如，讀取折射率調變的方式，使用由於光而發生螢光特性變化的材料讀取螢光的方式，將由於光而產生酸的材料與酸發色性色素組合，或將消色劑與消色性色素組合來讀取吸收率調變或折射率調變的方式等。其中，上述讀取折射率調變的方式是使用像包含偶氮基或C=C基、C=N基的化合物那樣，由於光而發生異性化的材料，或像(甲基)丙烯酸酯化合物那樣，由於光而發生聚合反應的材料，或像有機光致變色材料那樣，由於光而發生可逆構造變化的材料等，由於光而發生電荷分佈的有機折射材料等的方式。
在這些記錄方式中，可以是光子吸收性化合物本身由於光子吸收而發生結構變化或發生反應，也可以是通過由於光子吸收而得的激發能量，從由於光子吸收而激發的光子吸收性化合物，向其他反應性化合物轉遞所引起的結構變化或反應。
光記錄層11的厚度沒有特別限製，通常為0.04μm~50μm左右，較佳為0.05μm~10μm。
〔黏著劑層〕
黏著劑層12為由以聚合物作為主成分的黏著劑構成，上 述聚合物含有含氟單體以及/或含矽單體作為構成單體組分，並且上述黏著劑層不具有區域結構(domain structure)，或者具有區域(domain)的大小為110nm以下的區域結構。將單體組分總量設為100質量%時，上述聚合物中作為構成單體組分的含氟單體以及含矽單體的合計含有量為10~100質量%。而且，上述黏著劑可以為壓感黏著劑，也可以為非壓感黏著劑，但是從多層光記錄媒體製造用薄片1使用的簡便性的觀點考慮，較佳為壓感黏著劑。
由上述那樣的材料及結構所構成的黏著劑層12，由於折射率低，與光記錄層11的折射率差大，因此在光記錄層11與黏著劑層12的介面，能夠得到檢出所必需的充分強度的反射光。而且由上述那樣的材料及結構所構成的黏著劑層12，由於散亂光少，因此在光記錄層11與黏著劑層12的介面，檢出反射光時的雜訊(noise)少，可以抑製反射光檢出不良的發生。
這裡，區域(domain)是指用掃描探針顯微鏡(SPM)的動態力模式(DFM)觀察位相像時所見的黏著劑層中的粒狀或島狀的樹脂組分。「沒有區域結構(domain structure)」是指在黏著劑層中不存在區域，全體成為一樣的狀態。而且，「區域的大小」是指在黏著劑層中存在區域，即粒狀或島狀的樹脂成分的大小，是指該粒狀部分或島狀部分的最大長度。具體而言，是把30個區域的最大長度的平均值稱為「區域的大小」。通過黏著劑層12不具有區域，或具有區域的大小為110nm以下的區域結構，在黏著劑層12的內部及介面的散亂光少。本 實施形態所涉及的黏著劑層12中的區域的大小，從使黏著劑層12所具有的區域的大小充分小，使散亂光少的目的考慮，相對於向光記錄層11進行記錄再生的光的波長，為110nm以下，較佳為80nm以下，更佳為50nm以下。
作為含氟單體沒有特別限定，可以列舉在分子內具有1個以上的聚合性不飽和基和氟原子的化合物，譬如，可列出在一個末端或兩末端上有(甲基)丙烯醯基、乙烯基、環氧基等的氟化合物等。其中，較佳為在一個末端上具有(甲基)丙烯醯基者。作為此類氟單體可以列舉如下：譬如，含氟丙烯酸類單體、四氟乙烯、六氟丙烯、氯氟乙烯、偏二氯乙烯、氟乙烯、全氟烷基乙烯基醚等。其中，較佳為含氟丙烯酸類單體。
作為含氟丙烯酸類單體，只要是含有1個以上的氟原子的丙烯酸類單體即可，無特別限定，譬如，可列舉出烷基的一部分或全部氫原子被氟原子取代了的碳原子數為2~20的具有氟烷基的氟(甲基)丙烯酸酯。
作為這樣的氟化(甲基)丙烯酸單體，譬如，可列舉如下：2,2,2-三氟代乙基(甲基)丙烯酸酯、1，1，1，3，3，3-六氟異丙基(甲基)丙烯酸酯、2,2,3,3-四氟代丙基(甲基)丙烯酸酯、2,2,3,3,3-五氟丙基(甲基)丙烯酸酯、1，2，2，2-四氟-1-(三氟甲基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2，2，3，3，4，4，4-七氟丁基(甲基)丙烯酸酯、3，3，4，4，5，5，6，6，7，7，8，8，8-十三氟辛基(甲基)丙烯酸酯、2-(全氟丁基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(全氟己基)乙基(甲基)丙烯酸酯、3-(全氟丁基)-2-羥基丙基(甲基) 丙烯酸酯、3-全氟己基-2-羥基丙基(甲基)丙烯酸酯、3-(全氟-3-甲基丁基)-2-羥基丙基(甲基)丙烯酸酯、1H，1H，3H-四氟丙基(甲基)丙烯酸酯、1H，1H，3H-六氟丁基(甲基)丙烯酸酯、1H,1H,5H-八氟戊基(甲基)丙烯酸酯、1H，1H，7H-十二氟庚基(甲基)丙烯酸酯、1H-1-(三氟甲基)三氟乙基(甲基)丙烯酸酯等。這些含氟丙烯酸類單體，既可單獨使用一種，也可兩種以上組合使用。
作為含矽單體沒有特別限製，可列舉分子內具有一個以上聚合性不飽和基的矽氧烷類化合物，譬如，可列舉在一個末端或兩末端上有(甲基)丙烯醯基、乙烯基、環氧基等的物質。作為此類單體可以列舉，譬如，含矽丙烯酸類單體。
作為含矽丙烯酸類單體，較佳為使用在側鏈具有矽原子含有基，同時具有碳原子為2~20烷基的(甲基)丙烯酸酯。
作為含矽丙烯酸類單體，譬如，可以列舉2-(三甲基甲矽氧烷)乙基(甲基)丙烯酸酯、3-〔3(三甲基甲矽氧烷)甲矽烷〕丙基(甲基)丙烯酸酯等。作為含矽丙烯酸單體的具體產品，可列舉出Chisso公司製的Silaplane FM系列、TM系列(產品名)(譬如，FM-7711、FM7721、FM7731、FM-0711、FM-0721、FM-0725、TM-0701、TM-0701T)等。這些含矽丙烯酸類單體既可以單獨使用一種，也可以將兩種以上組合使用。
上述聚合物通過含有規定量的含氟單體以及/或含矽單體，黏著劑層12的折射率變低，在光記錄層11與黏著劑層12的介面，可以得到檢出所必需的充分強度的反射光。
聚合物除了上述含氟單體以及/或含矽單體以外，作為構成單體，較佳為含有具有能夠形成交聯結構的官能團的丙烯酸系類單體。該具有官能團的丙烯酸類單體因為與後述的交聯劑反應結合，而形成交聯結構，因此黏著劑層的凝集力提高，可以防止黏著劑層的滲出。
在聚合物中能夠形成交聯結構的具有官能團的丙烯酸類單體的含有量，當將單體組分全量設為100品質%時，較佳為0.1質量%~10質量%，更佳為0.1質量%~5質量%。
作為能夠形成交聯結構的官能團，也根據所使用的黏著劑的種類而不同，但是通常可列舉出羧基、羥基、氨基及醯胺基。其中從與光記錄層的黏著性優異的觀點考慮，較佳為羧基以及羥基。
作為具有上述官能團的丙烯酸類單體，譬如，可列舉如下：(甲基)丙烯酸2-羥乙基酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙基酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙基酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁基酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丁基酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁基酯等的(甲基)丙烯酸羥基烷基酯、(甲基)丙烯酸單甲氨乙基酯、(甲基)丙烯酸單乙氨乙基酯、(甲基)丙烯酸單甲氨基丙基酯、(甲基)丙烯酸單乙氨基丙基酯等的(甲基)丙烯酸單烷基氨基烷基酯、丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、馬來酸、衣康酸、擰康酸、琥珀酸等乙烯性不飽和羧酸等。
其中，作為具有官能團的丙烯酸類單體，從聚合的均一性的觀點考慮，較佳為丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、馬來酸、衣康酸、擰康酸、琥珀酸等乙烯性不飽和羧酸。它們 既可以單獨使用，也可以兩種以上組合使用。
聚合物除了上述含氟單體以及/或含矽單體以外，作為構成單體，根據希望也可以含有不具有能夠形成交聯結構的官能團的(甲基)丙烯酸酯。
作為不具有能夠形成交聯結構的官能團的(甲基)丙烯酸酯，較佳為烷基的碳數為1~20的(甲基)丙烯酸烷基酯。作為烷基的碳數為1~20的(甲基)丙烯酸烷基酯，譬如，可以列舉如下：(甲基)丙烯酸甲基酯、(甲基)丙烯酸乙基酯、(甲基)丙烯酸丙基酯、(甲基)丙烯酸異丙基酯、(甲基)丙烯酸n-丁基酯、(甲基)丙烯酸異丁基酯、(甲基)丙烯酸t-丁基酯、(甲基)丙烯酸戊基酯、(甲基)丙烯酸己基酯、(甲基)丙烯酸環己基酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己基酯、(甲基)丙烯酸異辛基酯、(甲基)丙烯酸癸基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯、(甲基)丙烯酸十六烷酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、乙氧基-二乙二醇丙烯酸酯、异戊基丙烯酸酯、甲氧基-三乙二醇丙烯酸酯、2-乙基己基-二甘醇丙烯酸酯、甲氧基-聚乙二醇丙烯酸酯、甲氧基二丙二醇丙烯酸酯等。這些之中，較佳為烷基的碳數為4~20的(甲基)丙烯酸烷基酯。它們既可以單獨使用，也可以兩種以上組合使用。
聚合物根據希望，譬如，也可以含有乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等的乙烯酯類；乙烯、丙烯、異丁烯等烯烴類；氯化乙烯、氯亞乙烯等的鹵化烯烴類；苯乙烯、α-甲基苯乙烯等苯乙烯類單體；丁二烯、異戊二烯等二烯系單體；丙烯腈、甲基丙烯腈等腈系單體；丙烯醯胺、N-甲基丙烯醯胺、N, N-二甲基丙烯醯胺等丙烯醯胺類等其他單體，這些既可以單獨使用，也可以兩種以上組合使用。
上述聚合物中作為構成單體組分的含氟單體以及含矽單體的合計含有量，當將單體組分全量設為100品質%時，為10~100質量%。如果含氟單體以及含矽單體的合計含有量不滿10質量%，則難於如後所述那樣降低所得到的黏著劑層12的折射率。從降低折射率的觀點考慮，含氟單體以及含矽單體的合計含量，較佳為55~99．9質量%，更佳為60~99質量%，特佳為80~95質量%。
使用根據希望而用的其他單體(含有不具有能夠形成交聯結構的官能團的(甲基)丙烯酸酯)的情況下，上述聚合物中其他單體的含量較佳為0．1~90質量%以下。通過使用這種其他的單體，所得黏著劑易於設計成具有所希望的黏著物性。
對於上述聚合物的聚合形態，沒有特別限製，可以是無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物中的任何一種。並且，聚合物的分子量，其重量平均分子量(Mw)的較佳範圍是1萬~200萬，特佳範圍是5萬~100萬，更佳範圍是10萬~80萬。這裏，上述重量平均分子量(Mw)，是通過膠凝體滲透色譜(GPC)法測量的標準聚苯乙烯換算的值。
上述聚合物，可按常用的方法(譬如，乳化聚合法、溶液聚合法、懸浮聚合法、本體聚合法、水溶液聚合法等)，將上述單體組分的混合物聚合而調製。其中，從聚合時的穩定性和使用時易操作的觀點，較佳為在有機溶媒中用溶液聚合法 進行製造。
譬如，可將單體組分的混合物溶解於有機溶媒中後，加入目前通常公知的偶氮二異丁腈、2,2’-偶氮雙(2-氨基二丙烷)二鹽酸鹽、4,4’-偶氮雙(4-氰基纈草酸)等偶氮系聚合起始劑或過氧化苯甲醯等的過氧化物系聚合起始劑，讓其發生游離基聚合反應，從而製造上述聚合物。
上述聚合起始劑的使用量，相對於單體組分混合物100質量份，較佳範圍是0.01質量份~5質量份，特佳範圍是0.1質量份~1質量份。
游離基聚合通常是在10℃~100℃左右的溫度下，較佳為在50℃~90℃左右的溫度下，加熱1小時~20小時左右，較佳為加熱3小時~10小時左右。由此，可得到上述聚合物的有機溶劑溶液。
上述聚合物，既可以單獨使用一種，也可以兩種以上組合使用。
上述聚合物較佳為由交聯劑交聯。由此所得交聯劑的凝集力高，較佳作為多層光記錄媒體製造用薄片1中的黏著劑層12。
作為交聯劑，可以從金屬類交聯劑、環氧類交聯劑、氮丙啶類交聯劑以及異氰酸類交聯劑等作為交聯劑而慣用的物質中選擇。但是，其中較佳選擇選自由金屬類交聯劑、環氧類交聯劑、氮丙啶類交聯劑所組成的群組中的至少一種。交聯劑既可以單獨使用一種，也可以兩種以上組合使用。上述聚合物中的含氟單體以及含矽單體組分極性低，上述聚合物也容 易極性低，因此一般而言上述聚合物與交聯劑的相溶性變差，用所得的黏著劑層有易於出現區域結構的傾向。但是，如果使用上述較佳交聯劑，則上述聚合物與交聯劑的相溶性變高，所得的黏著劑層的區域結構的區域變小，光的散亂變少。
作為金屬交聯劑可列舉金屬螯合物化合物、金屬醇鹽、金屬鹽等，但是其中較佳為金屬螯合物化合物。作為金屬螯合物化合物沒有特別地限製，可從丙烯酸類壓感黏著劑中作為金屬螯合物類化合物使用的公知的化合物中適當選擇任意的物質。在這些金屬螯合物類化合物中，有金屬原子為鋁、鋯、鈦、鋅、鐵、錫等的螯合物化合物，不過從塗層液的使用期限(pot life)的設定等，易於控製反應性等觀點考慮，較佳為鋁螯合物化合物。
作為鋁螯合物化合物，譬如，可列舉如下：二異丙氧基鋁單油基乙醯醋酸鹽、單異丙氧基鋁雙油烯基乙醯醋酸鹽、單異丙氧基鋁單油酸酯單乙醯醋酸鹽、二異丙氧基鋁單十二乙醯醋酸鹽、二異丙氧基鋁單硬脂乙醯醋酸鹽、二異丙氧基鋁單異硬脂乙醯醋酸鹽、單異丙氧基鋁單-N-月桂醯-β-鋁氧化物單十二乙醯醋酸鹽、乙醯丙酮鋁、單乙醯丙酮鋁雙(異丁基乙醯醋酸鹽)螯合、單乙醯丙酮鋁雙(2-乙基己基乙醯醋酸鹽)螯合、單乙醯丙酮鋁雙(十二烷基乙醯醋酸鹽)螯合、單乙醯丙酮鋁雙(油烯基乙醯醋酸鹽)螯合等。這些既可以單獨使用一種，也可以兩種以上組合使用。
作為環氧類交聯劑，較佳為脂環式環氧類化合物或脂肪族環氧類化合物。作為脂環式環氧類化合物．脂肪族環 氧類化合物，譬如，可列舉如下：3,4-環氧環己基甲基、3,4-環氧環己基甲酸酯、1,3-雙(N,N’-二縮水甘油氨甲基)環己烷、氫加添雙酚A二縮水甘油醚、聚乙烯二醇二縮水甘油醚、聚丙烯二醇二縮水甘油醚、1,6-己二醇縮水甘油酯、己二酸縮水甘油酯、癸二酸縮水甘油酯等。這些既可以單獨使用一種，也可以兩種以上組合使用。
作為氮丙啶類交聯劑，較佳為脂肪族氮丙啶類化合物。作為脂肪族氮丙啶類化合物沒有特別限製，可從丙烯酸類壓感黏著劑中作為脂肪族氮丙啶類化合物使用的公知的化合物中適當選擇任意的物質。作為脂肪族氮丙啶類化合物，譬如，可列舉如下：三甲醇丙烷三(2-甲基-1-氮丙啶丙酸酯)、四羥甲基甲烷-三-β-氮丙啶丙酸酯、2,2’-雙羥基甲基丁醇-三[3-(1-氮丙啶)丙酸酯]、1,6-環己烷二乙烯尿素等。
上述交聯劑的調配量，從黏著劑性能的觀點考慮，相對於上述聚合物100質量份，通常可在0.01質量份~5.0質量份的範圍內選定，較佳範圍為0.05質量份~3.0質量份，特佳範圍為0.1質量份~1.0質量份。
在不損壞本實施形態的效果的範圍內，根據需要，以上述聚合物為主成分的黏著劑中還可以添加增黏劑、氧化防止劑、紫外線吸收劑、光穩定劑、軟化劑、填充劑、阻燃劑等。
這裡，構成黏著劑層12的黏著劑的玻璃轉移溫度，較佳為-30℃以下，更佳為-35℃~-85℃，特佳為-40℃~-80℃。通過使黏著劑的玻璃轉移溫度處於上述範圍，在由於 記錄光的照射而光記錄層形成凸結構，伴隨在黏著劑層側產生變形的記錄方式的情況下，在黏著劑層與光記錄層的介面記錄點生成得良好，所得的多層光記錄媒體記錄感度優異。
而且，構成黏著劑層12的黏著劑在0℃的複彈性模數較佳為10MPa以下，更較佳為0.0001~10MPa，進一步較佳為0.01~5MPa，特別較佳為0.1~5MPa。通過使於0℃的複彈性模數為上述範圍，在採用通過照射記錄光而光記錄層形成凸結構，伴隨在黏著劑層側產生變形的記錄方式的情況下，在黏著劑層與光記錄層的介面記錄點生成得良好，所得的多層光記錄媒體的記錄感度優異。另外，在0℃的複彈性模數為由下述方法所測定的值。
<黏著劑在0℃的複彈性模數的測定方法>
使黏著劑層12的厚度成為約2mm的方式，積層黏著劑層，將其裁斷成直徑為8mm的圓柱，製作測定用樣品。關於該測定用樣品，使用動的黏彈性測定裝置，測定頻率在1Hz，溫度在0℃時的複彈性模數。
黏著劑層12的厚度，較佳為1μm~50μm，特別較佳為2μm~40μm。通過將黏著劑層12的厚度控製於上述範圍，可以利用來自光記錄層11與黏著劑層12的介面的反射光檢出各層介面，從光記錄層11進行資訊的讀取。
黏著劑層12的折射率較佳為1.45以下，更佳為1.44以下，特佳為1.42以下，更特佳為1.40以下。通過將黏著劑層12的折射率控製於上述範圍，則與光記錄層11的折射率差變大，可從光記錄層11與黏著劑層12的介面得到檢出所 需要的充分的反射光。另外，通常的光記錄層11的折射率為1.58左右。本實施形態中的黏著劑層12通過使用上述黏著劑層，可以達到上述折射率。另外，本說明書中的折射率是使用阿貝(Abbe)折射率計，基於JIS K 7142(2008)而測定的值。
黏著劑層12的霧度值較佳為1.3%以下，特佳為0.7%以下，更佳為0.5%以下。霧度值大於1.3%時，則光的散亂過多，有可能不能作多層光記錄媒體的黏著劑層12使用。另外，本說明書中的霧度值為使用霧度測定計，基於JIS K 7105而測定的值。
黏著劑層12的保持力，較佳為保持70,000秒鐘時沒有錯位。當黏著劑層12在25℃下的保持力處於上述範圍時，黏著劑層12與其他層(主要是光記錄層11)的黏著力充分。這裏，本專利說明書中的保持力，是在黏著劑層(25mm×25mm)的一側表面上貼附聚乙烯對苯二甲酸酯膜，在另一側表面上貼附由不鏽鋼板(SUS304)構成的測試板，在黏著劑層施加1kg的重物，在40℃、50%RH環境下，根據JIS Z0327(2009)，測定70,000秒後的錯位量(μm)。
另外，構成黏著劑層12的黏著劑，在多層光記錄媒體黏著劑層以外的用途中也可以使用。其中，作為要降低折射率時的黏著劑可較佳使用，特別是作為折射率為1.45以下的黏著劑可較佳使用。上述黏著劑，譬如可以作為光導波路用樹脂、光學黏著劑、氟類材料黏著用樹脂等使用。
〔剝離膜〕
作為剝離膜13、剝離膜13’，只要是能夠把本實施形態中 的黏著劑層12剝離的剝離膜即可，可以使用以往公知的製品。譬如，可使用聚乙烯對苯二甲酸酯或聚丙烯等的樹脂膜，以及將這些樹脂膜用以往公知的剝離劑(譬如，矽系剝離劑、長鏈烷基系剝離劑、醇酸樹脂系剝離劑等)進行剝離處理而得的剝離膜。
為了分別給於光記錄層11或黏著劑層12平滑性，剝離膜13、剝離膜13’與光記錄層11或黏著劑層12接觸側的表面粗糙度(Ra)較佳為1μm以下，特佳為0.5μm以下。如果剝離膜13、剝離膜13’的表面粗糙度(Ra)超過1μm，則光記錄層11或黏著劑層12的表面粗糙度變大，可能會造成所得到的多層光記錄媒體的信號特性下降。剝離膜13、剝離膜13’的厚度通常在20μm~150μm左右。
並且，在剝離膜13、剝離膜13’較佳為以剝離力產生差異的形式構成。其中，較佳的情況是將先剝離的做成輕剝離型，將後剝離的做成重剝離型。還有，作為剝離力產生差異的方法，也可以將剝離膜13、剝離膜13’中之一用未處理過的樹脂膜製成，而另一個用剝離膜製成。
〔多層光記錄媒體製造用薄片的製造方法〕
上述多層光記錄媒體製造用薄片1，譬如，可按以下所示的方法進行製造。首先，調製光記錄層11用的塗佈劑，同時調製黏著劑層12用的塗佈劑。上述光記錄層11用的塗佈劑，包含構成光記錄層11的材料，根據希望還可包含溶媒。上述黏著劑層12用的塗佈劑，包含構成黏著劑層12的材料(黏著劑)，根據希望還可包含溶劑。
接著，(1)將記錄層11用的塗佈劑塗佈到剝離膜13的有剝離性的表面上，從而形成光記錄層11，然後，在其上塗佈黏著劑層12用的塗佈劑形成黏著劑層12，在該黏著劑層12的表面，將另一張剝離膜13’的有剝離性的表面重疊積層。或者(2)將黏著劑層12用的塗佈劑塗佈到剝離膜13’的有剝離性的表面上，從而形成黏著劑層12，然後，在其上塗佈光記錄層11用的塗佈劑形成光記錄層11，在該光記錄層11的表面，將另一張剝離膜13的有剝離性的表面重疊積層。或者(3)將記錄層11用的塗佈劑塗佈到剝離膜13的有剝離性的表面上，從而形成光記錄層11，並且，將黏著劑層12用的塗佈劑塗佈到剝離膜13’的有剝離性的表面上，從而形成黏著劑層12，積層光記錄層11和黏著劑層12以使兩者重疊。在塗佈劑的塗佈作業中，可以使用譬如滾壓塗佈機(kiss-roll coater)、逆轉輥塗佈機、刮刀塗佈機、輥式刮刀塗佈機、壓力塗佈機等的塗佈機械。
如上述那樣，所得到的多層光記錄媒體製造用薄片1，作為下面要介紹的多層光記錄媒體的製造材料是非常合適的。另外，圖1的構成多層光記錄媒體製造用薄片1為一例，黏著劑層12以及光記錄層11分別可以為單層，也可以為複數層。
此外，本實施形態所涉及的多層光記錄媒體製造用薄片1，根據需要，還可以設置用來加強該多層光記錄媒體製造用薄片1的透明樹脂層，為了在多層光記錄媒體內部建立位置資訊，作為記錄資訊坑(pit)及/或凹槽(groove)而在表面具 有凹凸的位置資訊賦予層，還有光學導波層、反射層、誘電體層等。此時，譬如上述透明樹脂層，可設置在光記錄層11與黏著劑層12之間，黏著劑層12的與光記錄層11相反側的面上，或光記錄層11的與黏著劑層12相反側的面上。並且，上述位置資訊賦予層，從其形成的方便性的觀點考慮，設置在與黏著劑層12反對側的最外層比較理想。
〔多層光記錄媒體〕
圖2為本發明的一個實施形態所涉及的多層光記錄媒體的斷面圖。本實施形態所述多層光記錄媒體10由基板3、結構體(以下稱為「多層結構體2」)和設置於多層結構體2上的透光性保護膜5構成。其中，上述結構體為設置於基板3上，由光記錄層11與黏著劑層12積層而成。
此外，本實施形態所涉及的多層光記錄媒體10，根據需要，還可以設置用來加強光記錄層11的透明樹脂層，為了在多層光記錄媒體內部建立位置資訊，作為記錄資訊坑(pit)及/或凹槽(groove)而在表面具有凹凸的位置資訊賦予層，還有光學導波層、反射層、誘電體層等。此時，譬如上述透明樹脂層，可設置在光記錄層11的與黏著劑層12相反側的面上。另外，如果照射記錄光，則在光記錄層11與黏著劑層12的介面在光記錄層11形成凸部，多層光記錄媒體可以是在與該形成凸部的部分接觸的黏著劑層12上形成凹部的記錄方式。
基板3由光學特性及剛性優異的材料構成。譬如，由聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚乙烯對苯二甲酸酯、聚烯烴等合成樹脂、玻璃類等構成。該基板3的厚度沒有特別 製限，但是，通常為0.03~2mm左右，較佳為0.05~1.5mm。基板3的厚度如果未滿0.03mm，則在積層工程中有操作困難的情況。基板3的厚度如果超過2mm，則多層光記錄媒體多種情況會超出需要變得過厚。
多層結構體2是由光記錄層11和黏著劑層12積層而形成的結構體，較佳為用前述多層光記錄媒體製造用薄片1來形成。
多層結構體2中光記錄層11和黏著劑層12的各自的積層數，雖然沒有特別限製，但下限通常為2層以上，較佳為5層以上。僅用1層得不到足夠的記錄密度。同時，上限通常為500層以下，較佳為200層以下。如果超過500層，則由於在各層上的光吸收及層間的光反射等，資訊的輸入和讀取有可能出現問題。
多層結構體2的厚度通常為10μm~5mm左右，較佳為20μm~2mm，更佳為50μm~1.2mm。
作為透光性保護膜5，通常使用透光性樹脂膜。作為上述樹脂膜沒有特別製限，可從以往作為光記錄媒體保護膜所常用的保護膜中適宜地選擇來使用。該透光性保護膜5的厚度，沒有特別製限，但是通常為3~600μm左右，較佳為5~150μm。透光性保護膜5的厚度如果超過600μm，則有可能在各層不能聚焦(focus)。如果透光性保護膜5的厚度未滿3μm，則有可能不能進行充分的保護。
就上述多層光記錄媒體10的製造方法的一例進行說明。
首先，準備基板3，在其上面形成黏著劑層4。該黏著劑層4的材料，既可以與構成上述黏著劑層12的黏著劑相同，也可以不同。
然後，將剝離膜13從多層光記錄媒體製造用薄片1上剝下，讓露出的光記錄層11與基板3上的黏著劑層4相對，將兩者結合在一起。接著，從該積層體上剝下剝離膜13’，讓黏著劑層12露出，並讓該黏著劑層12與從另外的多層光記錄媒體製造用薄片1上剝下剝離膜13後露出的光記錄層11相對，將兩者結合在一起。以下按照同樣的操作方法，依次重複進行積層，便得到由光記錄層11及黏著劑層12分別多次積層而構成的多層結構體2。
最後，將最上層的剝離膜13’剝下，在露出的黏著劑層12上黏貼透光性保護膜5，便得到多層光記錄媒體10。
作為製造多層光記錄媒體10的其他方法的例子，是先準備基板3，將剝離膜13’從多層光記錄媒體製造用薄片1上剝下，讓露出的黏著劑層12與基板3的表面相對，將兩者結合在一起。接著，從該積層體上剝下剝離膜13，讓光記錄層11露出，並讓該光記錄層11與從另外的多層光記錄媒體製造用薄片1上剝下剝離膜13’後露出的黏著劑層12相對，將兩者結合在一起。以下按照同樣的操作方法，依次重複進行積層，便得到由黏著劑層12及光記錄層11的多次積層而構成的多層結構體2。最後，將最上層的剝離膜13剝下，在露出的光記錄層11上貼附帶黏著劑層的透光性保護膜，便得到多層光記錄媒體10。
本實施形態所述的多層光記錄媒體10中，通過使用上述黏著劑層12，在光記錄層11與黏著劑層12的介面，能夠得到檢出所需要的充分強度的反射光。而且，在黏著劑層12的散亂光少，雜訊(noise)少，因此可以抑製反射光檢出不良的發生。
此外，多層光記錄媒體10也可以不使用多層光記錄媒體製造用薄片1進行製造。例如，在所規定的基材或基板3上面，塗佈黏著劑層12用的塗佈劑形成黏著劑層12，在該黏著劑層12上面，塗佈光記錄層11用的塗佈劑形成光記錄層11，再在該光記錄層11上，塗佈黏著劑層12用的塗佈劑形成黏著劑層12，重複這一工序，便可製造多層光記錄媒體10。或者，預先在剝離膜上形成光記錄層11，在所規定的基材或基板3上，塗佈黏著劑層12用的塗佈劑以形成黏著劑層12，在該黏著劑層12上積層上述光記錄層11，並剝下剝離膜，再在該光記錄層11上塗佈黏著劑層12用的塗佈劑以形成黏著劑層12，反複這一工序，便可製造多層光記錄媒體10。
以上所說明的實施形態，是為了幫助理解本發明而記載的，並非為限定本發明而記載。因此，上述實施形態中所發布的各項要素，也應涵蓋屬於本發明技術範圍的全部設計變更及等價物。
【實例】
下面，通過實例等對本發明進行更詳細的說明，不過本發明的範圍不受這些實例等的限定。
〔實例1~20，比較例1~5〕
(1)光記錄層的形成
將作為光子吸收性材料的1，1-雙-〔4-〔N，N-2(p-甲苯基)氨基〕苯基〕環己烷(東京化成工業公司製)10質量份與作為溶劑的甲苯90質量份進行混合，調配固形分濃度為10質量%的第1溶液。而且，將作為基材(matrix)的聚苯乙烯(Tosoh Corporation製造，F-80)10質量份與作為溶劑的甲苯90質量份進行混合，製成固形分濃度為10質量%的第2溶液。將上述第1溶液與上述第2溶液，以質量比為7：3的比例進行混合，將其設為光記錄層用塗層液。
向在厚度38μm的聚乙烯對苯二甲酸酯膜基材上用醇酸樹脂類剝離劑進行了剝離處理所形成的剝離膜的剝離層面，用凹版塗佈法塗佈上述光記錄層用塗層液，在110℃下讓其乾燥1分鐘，形成厚度為約1μm的光記錄層，得到了帶剝離膜的光記錄層。
(2)黏著劑層的形成
按造表1所示調配(組成)比例，調配表1所示含氟單體及/或含矽單體、具有官能團的丙烯酸類單體和(甲基)丙烯酸酯，加入偶氮二異丁腈(聚合起始劑)0.25質量份之後，讓其在乙酸乙酯中進行反應，得到丙烯酸酯共聚物(Mw=200,000)乙酸乙酯溶液(固形物濃度為20質量%)。向該溶液添加表1所示交聯劑，作為黏著劑層用塗層液。
向在厚度38μm的聚乙烯對苯二甲酸酯膜的一個表面用矽剝離劑進行了剝離處理所形成的剝離膜的剝離層面，用刮刀塗佈機塗佈上述黏著劑層用塗層液，在90℃下讓其 乾燥1分鐘，形成厚度為10μm的黏著劑層，得到帶剝離膜的黏著劑層。
表1所示記號如下。
<聚合物組成>
V-8F：丙烯酸1H，1H，5H-八氟戊基酯(大阪有機工業公司製，產品名稱「V-8F」)
V-4F：丙烯酸2，2，3，3-四氟代丙基酯(大阪有機工業公司製，產品名稱「V-4F」)
V-13F：丙烯酸3，3，4，4，5，5，6,6，7，7,8，8，8-十三氟辛基酯(大阪有機工業公司製，產品名稱「V-13F」)
M-3F：丙烯酸2，2，2-三氟代乙基酯(共榮社化學工業公司製，產品名稱「M-3F」)
TM-0701T：丙烯酸3-〔3(三甲基甲矽氧烷)甲矽烷〕丙基甲基酯(JNC公司製，產品名稱「TM-0701T」)
BA：丙烯酸丁基酯
2EHA：丙烯酸2-乙基己基酯
HEA：丙烯酸2-羥乙基酯
HOA-MS(N)：2-丙烯醯氧乙基(acryloyloxy ethyl)-琥珀酸
AAc：丙烯酸
<交聯劑>
M-5A：鋁螯合物類交聯劑(總研化學公司製，產品名 稱「M-5A」)
BXX5172：氮丙啶類交聯劑(總研化學公司製，產品名稱「BXX5172」)
8515：異氰酸酯類交聯劑(東洋油墨公司製，產品名稱「BHS-8515」)
Coronet HL：異氰酸酯類交聯劑(Nippon Polyurethane Industry Co.,Ltd.製，產品名稱「Coronet HL」)
TC-5：環氧類交聯劑(三菱氣體化學公司製，產品名稱「TC-5」)
(3)多層光記錄媒體製造用薄片的製作
將在上述(2)中得到的帶剝離膜黏著劑層的黏著劑層側面與上述(1)中得到的帶剝離膜光記錄層的光記錄層側面疊合一起，在室溫下，通過兩根橡膠輥進行壓接，製造了由光記錄層和黏著劑層積層而成的多層光記錄媒體製造用薄片。該多層光記錄媒體製造用薄片，由剝離膜/光記錄層(1μm)/黏著劑層(10μm)/剝離膜構成。
(4)多層光記錄媒體的製作
剝下在上述(3)所製作的多層光記錄媒體製造用薄片中的黏著劑層側的剝離片，在露出的黏著劑層上，重合聚碳酸酯薄片(厚度75μm)作為透光性保護膜，在室溫下，通過兩根橡膠輥進行壓接，將黏著劑層與透光性保護膜進行積層，剝下剝離片使光記錄層露出從而得到積層體A。
另一方面，將上述(2)所得的帶剝離片黏著劑層的黏著劑層側面與鏡面加工了的鏡面聚碳酸酯基板(厚度 1.1mm)重合，在室溫下通過兩根橡膠輥進行壓接，從而將黏著劑層與鏡面聚碳酸酯基板進行積層，剝下剝離片，使黏著劑層露出，得到積層體B。
將積層體A露出的光記錄層與積層體B露出的黏著劑層進行重合，在室溫下，通過兩根橡膠輥進行壓接，從而製作多層光記錄媒體。所得的多層光記錄媒體的構成為聚碳酸酯薄片(75μm)/黏著劑(10μm)/光記錄層/黏著劑(10μm)/鏡面聚碳酸酯基板(1.1mm)。
〔試驗例1〕(折射率的測定)
將在上述(2)所形成的黏著劑層(厚度為10μm)的折射率，在測定波長為589nm，使用阿貝(Abbe)折射率計(Atago公司製)，基於JIS K7142(2008)進行測定。結果示於表1。
〔試驗例2〕(保持力的測定)
將在上述(2)形成的黏著劑層(25mm×25mm)的一側面，貼附到聚乙烯對苯二甲酸酯膜(東洋紡績公司製，產品名稱：COSMOSHINE A4100，厚度：50μm)上，再從上述黏著劑層的另一側面剝下剝離膜，將露出的黏著劑層壓接到由不鏽鋼板(SUS304)構成的測試板。然後，在黏著劑層施加1kg的重物，在40℃、50%RH環境下，根據JIS Z0237(2009)，測定70,000秒後重物錯位量(μm)。結果示於表1。另外，將70,000秒後重物沒有落下的情況視為良好，將70,000秒後重物落下的情況視為不良。
〔試驗例3〕(區域大小的測定)
關於在上述(2)所形成的黏著劑層，使用掃描探針顯微 鏡(SPM；SII NanoTechnology公司製，SPA 300HV)，用動態力模式(DFM)觀察位相像，測定區域的大小(nm)。具體的是從進行觀察的位相像任意地抽出30個區域，測定各自的最大長度，將其平均值作為區域的大小。結果示於表1。
另外，圖3表示實例3中黏著劑層由SPM所得到的DFM位相像的照片，圖4表示實例14中黏著劑層由SPM所得到的DFM位相像的照片，圖5表示比較例4中黏著劑層由SPM所得到的DFM位相像的照片。
〔試驗例4〕(霧度值的測定)
在上述(2)所形成的黏著劑層的兩面，貼附聚乙烯對苯二甲酸酯膜(東洋紡績公司製，PET50A-4100)。對該積層體入射光，使用霧度計(日本電色工業公司製，NDH2000)，依照JIS K 7105對霧度值進行測定。結果示於表1。
〔試驗例5〕(雜訊位準的測定)
關於在上述(4)所製作的多層光記錄媒體，使用磁片測試裝置(disc tester)(Expert Magnetics公司製，BDT-SDX)，在波長405nm進行試驗，使用頻譜分析儀(spectrum analyzer)(Instek公司製，GSP-930)，檢出RF信號。其結果是：2MHz的信號強度如果不滿-77dBm的話，則將雜訊位準(noise level)判斷為◎(極其良好)；如果為-77dBm以上，不滿-74dBm的話，則將雜訊位準(noise level)判斷為○(良好)；如果為-74dBm以上的話，則將雜訊位準(noise level)判斷為×(不良)。結果示於表1。
〔試驗例6〕(玻璃轉移溫度的測定)
使用示差掃描熱量計(TAinstruments公司製，商品名「DSCQ2000」)，以20℃/分的升溫降溫速度，在-70~40℃的範圍，對構成黏著劑層的黏著劑的玻璃轉移溫度(Tg；℃)進行了測定。結果示於表1。
〔試驗例7〕(複彈性模數的測定)
將剝離片，從在上述(2)中得到的帶剝離片的黏著劑層剝離，使黏著劑層積層成約2mm的厚度，將其裁斷成直徑為8mm的圓柱，製作測定用樣品。關於該測定用樣品，使用動的黏彈性測定裝置(Rheometric社，機種名「DYNAMIC ANALYZER RDA-II」)，測定在頻率1Hz下，溫度在0℃時的複彈性模數(MPa)。結果示於表1。
如表1可知：實例所得的黏著劑層由於霧度低，折射率低為1.45以下，而且區域的大小(nm)為110nm以下，因此在黏著劑層與光記錄層的介面，反射光的強度強，雜訊(noise)少。另一方面，比較例1~比較例3的黏著劑層雖然雜訊(noise)低，但是折射率過高，因此在黏著劑層與光記錄層的介面，反射光的強度弱，沒能檢出RF信號。而且，比較例4、比較例5的黏著劑雖然霧度及折射率低，但是區域過大，因此在黏著劑層12的內部以及介面的散亂光多，沒能得到充分的RF信號強度，雜訊(noise)增多。
產業上的利用可能性
本發明有利於利用從光記錄層與黏著劑層的介面的反射光，檢出各層介面的多層光記錄媒體。
1‧‧‧多層光記錄媒體製造用薄片
11‧‧‧光記錄層
12‧‧‧黏著劑層
13、13’‧‧‧剝離膜

Claims (11)

  1. 一種多層光記錄媒體製造用薄片，其用於製造將光記錄層與黏著劑層積層而成的多層光記錄媒體，其特徵在於：其由光記錄層與黏著劑層積層而形成；上述黏著劑層由以聚合物作為主成分的黏著劑構成，上述聚合物含有含氟單體以及/或含矽單體作為構成單體組分，並且，上述黏著劑層不具有區域結構(domain structure)，或者具有區域(domain)的大小為110nm以下的區域結構；將上述聚合物中作為構成單體組分的單體總量設為100質量%時，上述含氟單體以及上述含矽單體的合計含有量為10~100質量%。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的多層光記錄媒體製造用薄片，其中，上述含氟單體為含氟丙烯酸類單體，上述含矽單體為含矽丙烯酸類單體。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述的多層光記錄媒體製造用薄片，其中，上述聚合物含有具有官能團的丙烯酸類單體作為構成單體組分。
  4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述的多層光記錄媒體製造用薄片，其中，上述聚合物由交聯劑進行交聯。
  5. 如申請專利範圍第4項所述的多層光記錄媒體製造用薄片，其中，上述交聯劑為選自由金屬類交聯劑、環氧類交聯劑以及氮丙啶類交聯劑所構成的群組中的至少一種。
  6. 如申請專利範圍第1至5項中任一項所述的多層光記錄媒 體製造用薄片，其中，上述黏著劑層的折射率為1.45以下。
  7. 如申請專利範圍第1至6項中任一項所述的多層光記錄媒體製造用薄片，其中，上述光記錄層含有光子吸收性材料。
  8. 一種多層光記錄媒體，其特徵在於：其為使用申請專利範圍第1至7項中任一項所述的多層光記錄媒體製造用薄片而得到。
  9. 一種多層光記錄媒體，其特徵在於：其為將光記錄層與黏著劑層積層而成；上述黏著劑層由以聚合物作為主成分的黏著劑構成，上述聚合物含有含氟單體以及/或含矽單體作為構成單體組分，並且上述黏著劑層不具有區域結構(domain structure)，或者具有區域(domain)的大小為110nm以下的區域結構；將上述聚合物中作為構成單體組分的單體總量設為100質量%時，上述含氟單體以及上述含矽單體的合計含有量為10~100質量%。
  10. 如申請專利範圍第8或9項所述的多層光記錄媒體，其特徵在於：向上述多層光記錄媒體照射記錄光時，在上述光記錄層與上述黏著劑層的介面上，在上述光記錄層上形成凸部，在與上述形成了凸部的部分相接的上述黏著劑層上形成凹部。
  11. 一種黏著劑，其以聚合物作為主成分，上述聚合物含有含氟單體以及/或含矽單體作為構成單體組分，其特徵在於： 將上述(甲基)丙烯酸酯共聚合物中作為構成單體組分的單體總量設為100質量%時，上述含氟單體以及上述含矽單體的合計含有量為10~100質量%；上述黏著劑不具有區域結構(domain structure)，或者具有區域(domain)的大小為110nm以下的區域結構；將上述黏著劑製成厚度為10μm的黏著劑層時的折射率為1.45以下。
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