TW201401410A - 用於平面基板之加工站與平面基板之加工方法 - Google Patents
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Abstract
本發明係有關於一種用於平面基板之加工站,其包括至少兩加工單元與至少兩平行佈置之基板傳送線,其中兩加工單元定位於兩傳送線之間並設有用於使基板自傳送線運動至加工單元及自加工單元返回傳送線之手段。該等用於使基板運動之手段具有四個各包括至少一基板架之線性傳送單元,其中第一線性傳送單元自第二傳送線引向第一加工單元,第二線性傳送單元自第一傳送線引向第一加工單元,第三線性傳送單元自第一傳送線引向第二加工單元,第四線性傳送單元自第二傳送線引向第二加工單元。
Description
本發明係有關於一種用於平面基板之加工站,其包括至少兩加工單元、至少兩平行佈置之基板傳送線以及用於使基板自傳送線運動至加工單元及自加工單元返回傳送線之手段,其中兩加工單元定位於兩傳送線之間。本發明另亦關於一種用本發明之加工站加工平面基板的方法。
國際專利申請公開案WO 2011/000442 A1揭露一種用於平面基板之同類型加工站,其實施為網板印刷加工站。未經加工之基板,尤其是未經印刷的太陽電池晶圓由傳送線轉運至印刷巢,再將印刷巢放在平面工作台上送往其中一網板印刷站。太陽電池晶圓完成印刷後印刷巢返回其起點,並將完成印刷之太陽電池晶圓再度轉運至傳送線。
國際專利申請公開案WO 2009/141319 A1揭露一種大體相同之太陽電池晶圓用網板印刷站,其旋轉分度台上共設四個印刷巢。太陽電池晶圓被放置在相應的印刷巢上,由旋轉分度台送往網板印刷站,再返回傳送線。傳送線在轉運至印刷巢之轉運點區域內配設升降帶,以便使印刷巢的運動路徑保持暢通,印刷巢得以運動至相應之轉運點。亦可以所謂的交叉流模式(Cross-Flow-Konfiguration)加工太陽電池晶圓,即第一傳送線將太陽電池晶圓轉運至印刷巢,印刷巢在太陽電池晶圓完成印刷後運動至第二傳送線,而後由第二傳送線將完成印刷之太陽電池晶圓運走。
本發明之目的在於對用於平面基板之加工站及平面基板之加工方法進行改良。
為此,本發明提出一種用於平面基板之加工站,其包括至少兩加工單元與至少兩平行佈置之基板傳送線,其中兩加工單元定位於兩傳送線之間並設有用於使基板自傳送線運動至加工單元及自加工單元返回傳送線之手段,該等用於使基板運動之手段具有四個各包括至少一基板架之線性傳送單元,其中第一線性傳送單元佈置於第二傳送線與第一加工單元之間,第二線性傳送單元佈置於第一傳送線與第一加工單元之間,第三線性傳送單元佈置於第一傳送線與第二加工單元之間,第四線性傳送單元佈置於第二傳送線與第二加工單元之間。
使用線性傳送單元能簡化結構,實現高速大流量運行,節能並將基板架高度精確地定位於加工單元區域。此種定位精度對太陽電池之印刷具決定性影響,因為指形接點通常極薄且其寬度可能為數分之一毫米。尤其是在太陽電池上加印多層指形接點時,定位精度極為重要。僅數分之一毫米之偏移便有可能導致第二層未被準確施覆於第一層之上,而是位於第一層側旁,從而致使太陽電池基本不可用。依照本發明所設置的線性傳送單元有助於實現高度精確之加工站。
根據本發明之改良方案,第一及第四線性傳送單元被構造成可使得相應的基板架運動至第二傳送線區域內之共用轉運點。根據本發明之改良方案,第二及第三線性傳送單元被構造成可使得相應的基板架運動至第一傳送線區域內之共用轉運點。
藉此,每次皆可有兩線性傳送單元在共用轉運點處自傳送線接收基板或者將基板轉運至傳送線。儘管設有兩加工單元與四個線性傳送單元,但如此一來僅需在每條傳送線上設置一個轉運點。該等轉運點例如可配設相機或其他類型之量測與檢驗裝置,以便檢驗未經印刷
之太陽電池是否完好,偵測其位置,並在太陽電池完成印刷後檢驗印跡定位是否正確,檢驗已完成印刷之太陽電池是否完好。由於每條傳送線僅需設一個轉運點,如此可簡化此類量測與檢驗站之結構。
根據本發明之改良方案,兩加工單元沿傳送線之傳送方向相隔一定距離佈置,四個線性傳送單元從俯視角度看形成一菱形結構。
採用菱形結構可在兩加工站與兩轉運點間建立連接且能使各加工單元與轉運點間的距離保持同等長度。菱形結構亦可理解為線性傳送單元呈方形佈置。
根據本發明之改良方案,線性傳送單元實施為線性導引裝置及在該線性導引裝置上運行之滑座,即所謂的線性軸。
利用此等線性軸能使基板架做快速線性運動,同時實現高定位精度。可以電力、氣壓或液壓等方式驅動線性軸。
根據本發明之改良方案,第一及第二傳送線在其與線性傳送單元間之相應轉運點區域內可分段偏離線性傳送單元之基板架的運動路徑。
藉此可使傳送線與用於接收或轉運晶圓之相應基板架間保持極小間隙,例如可用傳送帶轉運太陽電池晶圓。如此便不必再用搬運裝置抓持太陽電池晶圓,從而將太陽電池晶圓在印刷前後受損的風險降至最低。藉由使傳送線與基板架間保持較小間隙,亦可在轉運或接收太陽電池晶圓時實現高定位精度。
根據本發明之改良方案,第一及第二傳送線在相應轉運點區域內具有升降帶、摺疊帶、迴轉帶及/或伸縮帶。
傳送線可利用上述裝置分段偏離基板架之運動路徑,但仍可用帶式傳送裝置轉運或接收基板,而不必使用藉抓臂或其他機構抓持晶圓之搬運裝置。
根據本發明之改良方案,加工單元實施為網板印刷站,基板架
實施為印刷巢。
基板架較佳配設沿承載面運行之環帶。
可利用該環帶將基板放置於相應之基板架並將基板自基板架轉運至相應之傳送帶。作為環帶的替代方案,亦可設置可向前向後捲起的帶子,例如紙帶。
根據本發明之改良方案,環帶採用可透射及/或可透吸(durchsaugbar)設計。
若使用可透射環帶,則可在例如環帶下方設置光源並在環帶與之相對的另一側設置相機,反之亦可。一般而言,“可透射”亦指電磁輻射的可穿透性。若環帶採用可透吸設計,則可利用負壓將待加工基板固定在基板架上。在環帶採用可透吸設計之情況下,另一方面亦可利用氣流使基板至少分段脫離環帶並運走基板。
本發明用以解決上述課題之另一解決方案為一種利用本發明之加工站加工平面基板的方法,其中,藉由其中一線性傳送單元使未經加工之基板自其中一傳送線運動至一加工單元,並藉由同一線性傳送單元將完成加工之基板自該加工單元送回同一傳送線。
藉此可利用相應之線性傳送單元實現鐘擺式運行,即自一傳送線接收未經加工之基板並將其送往加工單元,在加工單元之後再度送回同一傳送線並再度放置於該傳送線上。由於傳送線以相同方向傳送完成加工及未經加工之基板,故未經加工之基板被轉運至基板架的方向與其自基板架被再度轉運至傳送線的方向相同。
根據本發明之改良方案,設置以下大體同時進行之傳送運動:- 藉由第一線性傳送單元使第一基板自第二傳送線運動至第一加工單元,及- 藉由第二線性傳送單元使第二基板自第一加工單元運動至第一傳送線。
藉此可大體在未經加工之第一基板運動至第一加工單元的同時,將已完成加工之第二基板運離第一加工單元。藉此可在加工基板,特別是印刷太陽電池時實現極短週期。
根據本發明之改良方案,設置以下大體同時進行之傳送運動:- 藉由第三線性傳送單元使第三基板自第一傳送線運動至第二加工單元,及- 藉由第四線性傳送單元使第四基板自第二加工單元運動至第二傳送線。
藉此可用四個線性傳送單元為兩加工單元高速裝料。利用兩傳送線完成未加工基板之輸送與已加工基板之運離。此種結構配設兩加工單元、四個線性傳送單元及兩傳送線,其優點在於即使當其中一加工單元發生故障或進行養護時仍能繼續工作,只不過加工能力有所降低。其優點主要在於,兩傳送線能繼續運走已加工基板,使得設置於該加工站下游之其他加工站可繼續工作,只不過加工能力有所降低。由此便可在運行過程中對加工站實施養護、維修或重裝工作,例如為網板印刷站更換網板,而不必停運整條生產線。
根據本發明之改良方案,在轉運點區域內將基板自傳送線轉運至線性傳送單元之基板架以及反過來將基板自基板架轉運至傳送線,並且傳送線在轉運點區域內分段運動,以便使基板架之運動路徑保持暢通。
傳送線在轉運點區域內運動並暫時使基板架之運動路徑保持暢通,藉此可在轉運或接收基板時在傳送線與基板架間實現極小間隙。如此一來便可用例如傳送帶轉運基板。
根據本發明之改良方案,傳送線之升降帶、摺疊帶、迴轉帶及/或伸縮帶在轉運點區域內運動,以便使基板架之運動路徑保持暢通。
藉此可暫時使基板架之運動路徑保持暢通,但仍能以保護材料
與精確定位之方式實現基板的快速轉運與接收。
本發明之其他特徵與優點包含於申請專利範圍及下文聯繫圖式對本發明之較佳實施方式所作之說明中。
10‧‧‧加工站
12‧‧‧加工單元/網板印刷站
14‧‧‧加工單元
16‧‧‧傳送線
18‧‧‧傳送線
20‧‧‧轉運點
22‧‧‧轉運點
24‧‧‧線性傳送單元
26‧‧‧線性傳送單元
28‧‧‧線性傳送單元
30‧‧‧線性傳送單元
32‧‧‧基板架
34‧‧‧基板架
36‧‧‧基板架
38‧‧‧基板架
40‧‧‧升降帶
42‧‧‧升降帶
44‧‧‧升降帶
46‧‧‧升降帶
50‧‧‧太陽電池晶圓
52‧‧‧第一傳送線之第一區段
54‧‧‧第一傳送線之區段
56‧‧‧太陽電池晶圓
58‧‧‧第二傳送線之第一區段
60‧‧‧第二傳送線之第二區段/滑座
62‧‧‧線性導引裝置
64‧‧‧環帶
66‧‧‧抽吸裝置
68‧‧‧光源
70‧‧‧相機
72‧‧‧清潔裝置
74‧‧‧相機/檢驗相機
76‧‧‧支承框架
78‧‧‧滾輪/張緊輪
80‧‧‧滾輪
82‧‧‧滾輪
84‧‧‧傳動帶
86‧‧‧雙向箭頭
88‧‧‧承載板
90‧‧‧區域
圖1係本發明用於平面基板之加工站的俯視示意圖,其實施為網板印刷站;圖2係圖1所示加工站中實施為印刷巢之基板架的側面示意圖;及圖3係圖1所示加工站中實施為印刷巢之基板架的另一示意圖。
圖1係用於平面基板之加工站10的示意圖,其在圖示實施例中為用於印刷太陽電池晶圓之網板印刷站。加工站10具有兩網板印刷裝置形式之加工單元12、14。兩平行佈置之傳送線16、18將未經加工之基板(即未經印刷之太陽電池晶圓)傳送至傳送線16、18上的轉運點20、22,再將完成加工的基板(即完成印刷之太陽電池晶圓)運離轉運點20、22。
加工站10具有四個線性傳送單元24、26、28及30。每個線性傳送單元24、26、28、30皆具有一實施為印刷巢之基板架32、34、36、38。藉第一線性傳送單元24可使基板架32自第二傳送線18上的轉運點22運動至第一加工單元12,再自第一加工單元返回該轉運點。藉第二線性傳送單元26可使基板架34自第一加工單元12運動至第一傳送線16上的轉運點20,再自該轉運點返回第一加工單元。藉第三線性傳送單元28可使基板架36自第一傳送線16上的轉運點20運動至第二加工單元14,再自第二加工單元返回該轉運點。藉第四線性傳送單元30可使基板架38自第二加工單元14運動至第二傳送線18上的轉運點22,再自該轉運點返回第二加工單元。基板架32、34、36、38的上述運動分別用
一雙向箭頭表示。線性傳送單元24、26、28、30分別實施為所謂的線性軸,即具有線性導引裝置及佈置於其上之滑座以及用於滑座之驅動裝置,例如藉線性馬達而實現的電機驅動裝置、主軸驅動裝置或者液壓或氣壓驅動裝置。利用此等線性軸可使得安裝於線性軸之滑座上的基板架32、34、36、38完成快速而高精度的運動。
沿傳送方向看,第一傳送線16與第二傳送線18在轉運點20、22前後分別配設升降帶40、42、44、46。如圖1所示,未經加工的太陽電池晶圓50在第一傳送線16之第一區段52上被向右傳送並到達升降帶40。而後未經加工的太陽電池晶圓50自升降帶40被轉運至基板架36,該基板架配設沿其承載面運行的環帶。太陽電池晶圓50一被放置於基板架36,該基板架即在第三線性傳送單元28作用下朝第二加工單元14方向移動,直至基板架36位於加工單元14下方。在此位置上便可用加工單元14的網板印刷裝置對太陽電池晶圓50作印刷處理。
為了使基板架36離開其在傳送線16上如圖1所示之位置,須使佈置於基板架36下游之升降帶42下降或上升,以便使升降帶42離開基板架36之運動區域。待基板架36朝第二加工單元14方向運動一段距離後,升降帶42便可再度返回其初始位置。大體在同一時間,升降帶40須上升或下降以便離開基板架34之運動區域,該基板架利用第二線性傳送單元26自其在加工單元12上如圖1所示之位置朝轉運點20方向運動。基板架34一到達轉運點20,便可將基板架34上已完成印刷之太陽電池晶圓50轉運至升降帶42,而後在第一傳送線16的區段54上由傳送線16向右(圖1)運離。
亦即,第二線性傳送單元26與第三線性傳送單元28及相應之基板架34、36實施鐘擺運動。當未經印刷之太陽電池晶圓被轉運至基板架36時,基板架34位於加工單元12並對太陽電池晶圓作印刷處理。當基板架36位於第二加工單元14時,基板架34位於轉運點20並將完成印
刷之太陽電池晶圓運走。
未經印刷之太陽電池晶圓50在第二傳送線18上以類似方式自第一區段58被轉運至升降帶44,再自該升降帶運動至基板架32。未經印刷之太陽電池晶圓50一被放置於基板架32,升降帶44即上升或下降,以便使基板架32的運動路徑保持暢通。基板架32隨後可載著未經加工之太陽電池晶圓50利用線性傳送單元24運動至第一加工單元12,以便對太陽電池晶圓作印刷處理。在基板架32朝第一加工單元12方向運動的同時,基板架34離開第一加工單元12並朝轉運點20方向運動,以便將完成印刷之太陽電池晶圓再度轉運至傳送線16。
在基板架32自轉運點22朝第一加工單元12方向運動的同時,基板架38載著完成印刷的太陽電池晶圓自其在第二加工單元14上之位置朝第二傳送線18上之轉運點22方向運動。為了不阻擋基板架38的運動區域,佈置於轉運點22下游之升降帶46上升或下降,直至基板架38到達轉運點22。而後使升降帶46與基板架38齊高,便可將基板架38上已完成印刷的太陽電池晶圓轉移至升降帶46,再由該升降帶交於第二傳送線18之第二區段60運走。尚在基板架38位於轉運點22期間,便利用升降帶44將一其他未經印刷之太陽電池晶圓50放置於基板架38,並且在升降帶46離開基板架38之運動區域後,使該太陽電池晶圓運動至第二加工單元14上如圖1所示之位置。
亦即,基板架32、38係先在轉運點22處卸料,即完成印刷之太陽電池晶圓在圖1中被向右運走。與此同時在轉運點22處重新為基板架32、38裝載在圖1中自左向右被傳送過來的未經印刷之太陽電池晶圓50。
基板架34、36在第一傳送線16上的轉運點20處以類似方式被同時卸料與裝料。
轉運點20、22區域內設有量測與檢驗站,其配設相機與影像處
理設備。藉此可在印刷處理前後檢驗太陽電池晶圓50、56有否受損,在基板架上之定位是否正確,亦可檢驗所加印之接點的定位與構型是否正確。
圖2係實施為印刷巢之基板架32的側面示意圖。基板架32佈置在滑座60上,該滑座自身則可縱向移動地安裝在線性導引裝置62上。線性導引裝置62、滑座60、基板架32及用於滑座60之未圖示驅動裝置構成線性傳送單元24。線性傳送單元26、28、30的結構大體與之相同。
基板架32具有沿其如圖2所示之上承載面運行的環帶64,太陽電池晶圓50平放於該環帶上,利用該環帶可將太陽電池晶圓50放置於印刷巢,再運離印刷巢。在圖2所示的狀態下,該環帶始終按順時針方向運動。環帶64採用可透射與可透吸設計。基板架32配設抽吸裝置66,藉由該抽吸裝置可在太陽電池晶圓50底面施加負壓。藉此可將太陽電池晶圓50不可移動地固定在基板架32上。由此在傳送基板架32與印刷太陽電池晶圓50期間避免太陽電池晶圓50發生相對於基板架32之滑移。
環帶64還進一步採用可透射設計。基板架32內設自下方照射太陽電池晶圓50的至少一光源68或電磁輻射源。檢驗相機70(一般為輻射感測器)佈置於基板架32上方,用於檢驗未經印刷時之太陽電池晶圓50,檢驗太陽電池晶圓50在基板架32上之位置,太陽電池晶圓完成印刷後檢驗其上之印跡,檢驗太陽電池晶圓內部及外表面是否斷裂,以及檢驗太陽電池晶圓輪廓。檢驗相機一般可利用電磁輻射以入射光或透射光完成檢驗。相機70可固定佈置於轉運點20、22區域,即不隨基板架32一同運動。
圖2亦示出升降帶44、46之示意圖。如前所述,利用升降帶44可將太陽電池晶圓50轉運至基板架32,環帶64在轉運過程中按順時針方向運行並接收太陽電池晶圓50。太陽電池晶圓50完成印刷後可被升降
帶46接收,其中環帶64同樣需如圖2所示按順時針方向運動以完成此轉運過程。參照圖1,當基板架32離開轉運點22或朝該轉運點方向運動時,升降帶44須上升或下降,以便使基板架32的運動路徑保持暢通。藉此可在升降帶44與基板架32之環帶64間實現極小間隙,從而以保護材料與精確定位之方式將太陽電池晶圓自升降帶44轉運至基板架32之環帶64。參照圖1,當基板架38朝轉運點22方向運動或離開該轉運點時,升降帶46以類似方式上升或下降。藉此亦可在升降帶46與基板架32間實現極小之轉運間隙。
網板印刷站工作時用升降帶44輸送未經印刷之太陽電池晶圓。位於印刷巢即基板架32上的太陽電池晶圓50在網板印刷站12完成印刷後由升降帶46運走。藉由環帶64可同時自升降帶44接收未經印刷之太陽電池晶圓並將完成印刷之太陽電池晶圓50轉運至升降帶46。藉此可實現較短週期。
基板架32進一步可配設用於環行式環帶64的清潔裝置72及用於檢驗環帶的檢驗裝置。例如可藉一其他相機74在接收及/或轉運太陽電池晶圓50期間檢驗環帶64有否受損以及有否受到污染。
圖3係圖2所示基板架32之另一傾斜俯視示意圖。基板架32實施為印刷巢,如圖所示,基板架32懸空架設在支承框架76上,該支承框架自身則固定於滑座60,該滑座可移動地佈置在線性導引裝置62上。將基板架32懸空架設於框架76,此可方便環帶64沿基板架32移動,進而亦方便環帶之安裝與更換。
環帶64藉由四個滾輪78、80、82(圖中僅示出其中三個)圍繞基板架32運行。其中滾輪82由傳動帶84(例如,齒帶)與未圖示之驅動裝置驅動。
滾輪78實施為張緊輪且可按雙向箭頭68所指方向相對於基板架32移動。張緊輪78藉此可將環帶64張緊或鬆開。更換環帶64時使張緊
輪78向內(在圖3中即向右上方)朝基板架32方向運動。由此鬆開環帶64,從而得以輕鬆自基板架32移除環帶。環帶64亦可方便地再度套設於基板架32。藉由使滾輪78在圖3中朝左下方做遠離基板架32之運動,可將環帶64再度張緊。因此,基板架32採用特殊的懸空式設計或佈置方式,能顯著簡化環帶64之更換。
環帶64沿承載板88運行,該承載板採用透明設計且在用虛線標示之區域90內配設通孔。如前文聯繫圖2所述,藉此可在區域90內施加負壓。由於環帶64採用可透吸設計,藉此可將平放在環帶64上的太陽電池晶圓連同環帶一起吸附在承載板88上,從而將太陽電池晶圓不可移動地固定住。承載板88之透明設計結合環帶64之可透射設計後,遂得以用透射光檢驗平放在環帶64上的太陽電池晶圓50。“透明”與“可透射”兩概念在此應理解為,其亦包括可見光範圍以外之電磁輻射的可穿透性。
圖2示出用於環帶64之其他檢驗相機74。利用相機74及設置於該相機後面之合適的影像辨識軟體可辨識環帶64有否受損以及有否受到污染。發現環帶64受到污染時,可先透過中央控制系統嘗試用清潔裝置72對環帶64作清潔處理。倘若用檢驗相機74作進一步檢驗時發現此清潔處理未達預期效果,則藉由控制系統使環帶64發生運動,使得污染區域位於基板架32上方,即位於承載板88上方。在此位置上操作者便可輕鬆對環帶64作清潔處理。
當此清潔處理未達預期效果時,須更換環帶64,如前所述,為此需向內移動張緊輪78,以便鬆開並釋放環帶64。
10‧‧‧加工站
12‧‧‧加工單元/網板印刷站
14‧‧‧加工單元
16‧‧‧傳送線
18‧‧‧傳送線
20‧‧‧轉運點
22‧‧‧轉運點
24‧‧‧線性傳送單元
26‧‧‧線性傳送單元
28‧‧‧線性傳送單元
30‧‧‧線性傳送單元
32‧‧‧基板架
34‧‧‧基板架
36‧‧‧基板架
38‧‧‧基板架
40‧‧‧升降帶
42‧‧‧升降帶
44‧‧‧升降帶
46‧‧‧升降帶
50‧‧‧太陽電池晶圓
52‧‧‧第一傳送線之第一區段
54‧‧‧第一傳送線之區段
56‧‧‧太陽電池晶圓
58‧‧‧第二傳送線之第一區段
60‧‧‧第二傳送線之第二區段/滑座
Claims (17)
- 一種用於平面基板之加工站,其包括至少兩加工單元(12,14)、至少兩平行佈置之基板傳送線(16,18)以及用於使該等基板自該等傳送線(16,18)運動至該等加工單元(12,14)及自該等加工單元返回該等傳送線之手段,其中該二加工單元(12,14)定位於該二傳送線(16,18)之間,其特徵在於,該等用於使基板運動之手段具有四個各包括至少一基板架(32,34,36,38)之線性傳送單元(24,26,28,30),其中一第一線性傳送單元(24)佈置於該第二傳送線(18)上之一轉運點(22)與該第一加工單元(12)之間,一第二線性傳送單元(26)佈置於該第一傳送線(16)上之一轉運點(20)與該第一加工單元(12)之間,一第三線性傳送單元(26)佈置於該第一傳送線(16)上之一轉運點(20)與該第二加工單元(14)之間,一第四線性傳送單元(30)佈置於該第二傳送線(18)上之一轉運點(22)與該第二加工單元(14)之間。
- 如申請專利範圍第1項之加工站,其特徵在於,該第一及第四線性傳送單元(24,30)被構造成可使得相應的基板架(32,38)運動至該第二傳送線(18)區域內之一共用轉運點(22)。
- 如申請專利範圍第1或2項之加工站,其特徵在於,該第二及第三線性傳送單元(26,28)被構造成可使得相應的基板架(32,38)運動至該第一傳送線(16)區域內之一共用轉運點(20)。
- 如前述申請專利範圍中至少一項之加工站,其特徵在於,該二加工單元(12,14)沿該等傳送線(16,18)之傳送方向相隔一定距離佈置,該四個線性傳送單元(24,26,28,30)從俯視角度看 形成一菱形結構。
- 如前述申請專利範圍中至少一項之加工站,其特徵在於,該等線性傳送單元(24,26,28,30)實施為線性導引裝置(62)及在該線性導引裝置上運行之滑座(60),即所謂的線性軸。
- 如前述申請專利範圍中至少一項之加工站,其特徵在於,該第一及第二傳送線(16,18)在其與該等線性傳送單元(24,26,28,30)間之相應轉運點(20,22)區域內可分段偏離該等線性傳送單元(24,26,28,30)之基板架(32,34,36,38)的運動路徑。
- 如申請專利範圍第6項之加工站,其特徵在於,該第一及第二傳送線(16,18)在相應轉運點(20,22)區域內具有升降帶(40,42,44,46)、摺疊帶、迴轉帶及/或伸縮帶。
- 如前述申請專利範圍中至少一項之加工站,其特徵在於,該等加工單元(12,14)實施為網板印刷站,該等基板架(32,34,36,38)實施為印刷巢。
- 如前述申請專利範圍中至少一項之加工站,其特徵在於,該等基板架配設沿承載面運行的一帶子。
- 如申請專利範圍第9項之加工站,其特徵在於,設有用於使該帶子以兩相反方向沿該承載面運動之裝置。
- 如前述申請專利範圍中至少一項之加工站,其特徵在於,該等基板架(32,34,36,38)配設沿承載面運行之環帶(64)。
- 如申請專利範圍第11項之加工站,其特徵在於,該環帶(64)採用可透射及/或可透吸設計。
- 一種利用如前述申請專利範圍中任一項之加工站(10)加工平面基板的方法,其特徵在於,藉由其中一該線性傳送單元(24,26,28,30)使未經加工之基板自該等傳送線(16,18)的其中一轉運點(20,22)運動至一加工單元 (12,14),並藉由同一線性傳送單元(24,26,28,30)將完成加工之基板自該加工單元(12,14)送回該等傳送線(16,18)之同一轉運點(20,22)。
- 如申請專利範圍第13項之方法,其特徵在於以下大體同時進行之傳送運動:藉由該第一線性傳送單元(24)使一第一基板自該第二傳送線(18)運動至該第一加工單元(14)並藉由該第二線性傳送單元(26)使一第二基板自該第一加工單元(14)運動至該第一傳送線(16)。
- 如申請專利範圍第13或14項之方法,其特徵在於以下大體同時進行之傳送運動:藉由該第三線性傳送單元(28)使一第三基板自該第一傳送線(16)運動至該第二加工單元(14)並藉由該第四線性傳送單元(30)使一第四基板自該第二加工單元(14)運動至該第二傳送線(18)。
- 如前述申請專利範圍第12至14項中至少一項之方法,其特徵在於,在轉運點(20,22)區域內將基板自該等傳送線(16,18)轉運至該等線性傳送單元(24,26,28,30)之基板架(32,34,36,38)以及反過來將基板自該等基板架轉運至該等傳送線,並且該等傳送線(16,18)在該等轉運點(20,22)區域內分段運動,以便使該等基板架(32,34,36,38)之運動路徑保持暢通。
- 如申請專利範圍第16項之方法,其特徵在於使該等傳送線(16,18)之升降帶(40,42,44,46)、摺疊帶、迴轉帶及/或伸縮帶進行運動,以便使該等基板架(32,34,36,38)之運動路徑保持暢通。
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Cited By (1)
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---|---|---|---|---|
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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KR20170091507A (ko) * | 2014-12-02 | 2017-08-09 | 어플라이드 머티어리얼스 이탈리아 에스.알.엘. | 기판을 프로세싱하기 위한 태양 전지 제조 장치, 및 태양 전지의 제조를 위해 기판을 프로세싱하기 위한 방법 |
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Family Cites Families (8)
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---|---|---|---|---|
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US20110016739A1 (en) * | 2009-05-06 | 2011-01-27 | Bescorp. Inc. | Multi-directional conveyor and method |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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CN112018010A (zh) * | 2014-12-02 | 2020-12-01 | 应用材料意大利有限公司 | 在生产太阳能电池基板上印刷的装置及传输该基板的方法 |
CN112018013A (zh) * | 2014-12-02 | 2020-12-01 | 应用材料意大利有限公司 | 在生产太阳能电池基板上印刷的装置及传输该基板的方法 |
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