TW201351223A - 觸摸屏及顯示裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種觸摸屏,其包括一基板、一透明導電層及一抗反射層。所述基板採用藍寶石製成,其包括一上表面及一與所述上表面相對的下表面。所述透明導電層設置在所述上表面。所述抗反射層設置在所述下表面,其用於提高投射至所述基板的光線的透射率。
Description
本發明涉及一種觸控面板,特別涉及一種使用藍寶石的觸控面板。
傳統的觸摸屏都包括一基板及一設置在所述基板上的透明導電層。為了提高所述觸摸屏的硬度和屈服強度,都會對傳統的基板進行物理或化學強化處理。然而,由於對所述基板的強化過程複雜,不利於批量生產。
有鑑於此,有必要提供一種具有較大硬度和屈服強度的觸摸屏以及使用該觸摸屏的顯示裝置。
一種觸摸屏,其包括一基板、一透明導電層及一抗反射層。所述基板採用藍寶石製成,其包括一上表面及一與所述上表面相對的下表面。所述透明導電層設置在所述上表面。所述抗反射層設置在所述下表面,其用於提高投射至所述基板的光線的透射率。
一種顯示裝置,其包括一顯示器及一設置在所述顯示器的表面的觸摸屏。所述觸摸屏包括一基板、一透明導電層及一抗反射層。所述基板採用藍寶石製成,其包括一上表面及一與所述上表面相對的下表面。所述透明導電層設置在所述上表面。所述抗反射層設置在所述下表面,其用於提高投射至所述基板的光線的透射率。
與先前技術相比,本發明提供的觸摸屏通過採用藍寶石作為基板,由於藍寶石具有較大的硬度和屈服強度,從而有效提高了觸摸屏的硬度和屈服強度,另外,通過在基板上設置抗反射層,有效提高了觸摸屏對光線的透射率。
下面將結合附圖與實施例對本技術方案作進一步詳細說明。
如圖1所示,為本發明實施方式提供的一觸摸屏100,其包括一基板10,一透明導電層20及一抗反射層30。
所述基板10呈平板狀,其採用藍寶石材料製成。所述藍寶石屬於剛玉族礦物,三方晶系,具有六方結構。所述藍寶石的主要化學成分為三氧化二鋁(Al2O3),其折射率為1.760-1.757,該藍寶石的結晶方向為a軸(110),c軸(0001),m軸(100)。所述藍寶石對波長為420-700nm的可見光線的透射率小於86%。所述基板10包括一上表面11及與所述上表面11相對的下表面12。
本實施方式中,所述藍寶石採用純淨的Al2O3模造成型。所述片狀的藍寶石是採用鐳射對長方體的藍寶石切割而成。可以根據觸摸屏100的尺寸大小切割不同大小和厚度的片狀的藍寶石。
所述透明導電層20設置在所述基板10的上表面11。該透明導電層20為一層碳納米管薄膜,該碳納米管薄膜包括多個定向排列的碳納米管。由於所述透明導電層20中的碳納米管平行且等間距設置,從而使得所述透明導電層20具有均勻的阻值分佈和透光特性,提高了觸摸屏100的解析度和準確率。
本實施方式中,所述碳納米管薄膜是通過在一矽片上化學氣相沉積而製成。然後,將所述成型的碳納米管薄膜從所述矽片上剝離。最後,將所述碳納米管薄膜貼附在所述基板10的上表面11。
所述抗反射層30是通過濺鍍或者蒸鍍的方式鍍設在所述基板10的下表面12,其用於提高對可見光線的透射率。所述抗反射層30由多個高折射率層和低折射率層沿所述下表面12至遠離該下表面12的方向堆疊而成。所述抗反射層30的膜系結構為(xHyL)η,4≤η≤8,1<x<2,1<y<2;η為正整數;其中H為1/4中心波長厚度的高折射率層,L為1/4中心波長厚度的低折射率層,xH為x/4中心波長厚度的高折射率層,yL為y/4中心波長厚度的低折射率層,η為高折射率層和低折射率層堆疊的週期數。本實施方式中,中心波長為透過或濾除光線的波長範圍的中間值。
所述高折射率層選擇二氧化鈦(TiO2)層,其折射率為2.705;所述低折射率層為二氧化矽(SiO2)層,其折射率為1.499。可以理解,所述高折射率層和所述低折射率層也可以由其他折射率相當之材料形成。
本實施方式所提供的所述觸摸屏100的硬度達到1500-200Kg/mm2、屈服強度達到300-400MPa、抗壓強度達到2GPa、溫差範圍為-40-2000℃,並具有抗高電壓和抗高頻等性質。所述觸摸屏100對可見光線的透射率為90%-99.5%。
如圖2所示,為使用本發明實施方式提供的觸摸屏100的顯示裝置200。所述顯示裝置200還包括一顯示器210,所述觸摸屏100設置在所述顯示器210的表面。所述顯示器210根據所述觸摸屏100所感觸的信號而顯示不同的圖像。首先,由於觸摸屏100具有較強的硬度和強度,可有效保護顯示器210受到損傷。其次,由於觸摸屏100具有抗高電壓和抗高頻的性質,所述顯示裝置200可用於工業環境中。再次,由於觸摸屏100對可見光線的透射率為90%-99.5%,有效保證了顯示裝置200的清晰度和解析度。
發明提供的觸摸屏通過採用藍寶石作為基板,由於藍寶石具有較大的硬度和屈服強度,從而有效提高了觸摸屏的硬度和屈服強度;進一步通過在基板上設置抗反射層,有效提高了觸摸屏對光線的透射率。
綜上所述,本發明確已符合發明專利之要件,遂依法提出專利申請。惟,以上所述者僅為本發明之較佳實施方式,自不能以此限制本案之申請專利範圍。舉凡熟悉本案技藝之人士援依本發明之精神所作之等效修飾或變化,皆應涵蓋於以下申請專利範圍內。
100...觸摸屏
10...基板
11...上表面
12...下表面
20...透明導電層
30...抗反射層
200...顯示裝置
210...顯示器
圖1為本發明實施方式提供的觸摸屏的結構示意圖。
圖2為使用圖1中的觸摸屏的顯示裝置的結構示意圖。
100...觸摸屏
10...基板
11...上表面
12...下表面
20...透明導電層
30...抗反射層
Claims (10)
- 一種觸摸屏,其包括一基板、一透明導電層及一抗反射層;所述基板採用藍寶石製成,其包括一上表面及一與所述上表面相對的下表面;所述透明導電層設置在所述上表面;所述抗反射層設置在所述下表面,其用於提高投射至所述基板的光線的透射率。
- 如申請專利範圍第1項所述的觸摸屏,其中:所述透明導電層為碳納米管薄膜。
- 如申請專利範圍第1項所述的觸摸屏,其中:所述藍寶石的折射率為1.760-1.757;該藍寶石的結晶方向為a軸(110),c軸(0001),m軸(100)。
- 如申請專利範圍第1項所述的觸摸屏,其中:所述抗反射層的膜系結構為(xHyL)η,4≤η≤8,1<x<2,1<y<2;η為正整數;其中H為1/4中心波長厚度的高折射率層,L為1/4中心波長厚度的低折射率層,xH為x/4中心波長厚度的高折射率層,yL為y/4中心波長厚度的低折射率層,η為高折射率層和低折射率層堆疊的週期數。
- 如申請專利範圍第4項所述的觸摸屏,其中:所述高折射率層為二氧化鈦層,其折射率為2.705;所述低折射率層為二氧化矽層,其折射率為1.499。
- 一種顯示裝置,其包括一顯示器及一設置在所述顯示器的表面的觸摸屏;所述觸摸屏包括一基板、一透明導電層及一抗反射層;所述基板採用藍寶石製成,其包括一上表面及一與所述上表面相對的下表面;所述透明導電層設置在所述上表面;所述抗反射層設置在所述下表面,其用於提高投射至所述基板的光線的透射率。
- 如申請專利範圍第6項所述的顯示裝置,其中:所述透明導電層為碳納米管薄膜。
- 如申請專利範圍第6項所述的顯示裝置,其中:所述藍寶石的折射率為1.760-1.757;該藍寶石的結晶方向為a軸(110),c軸(0001),m軸(100)。
- 如申請專利範圍第6項所述的顯示裝置,其中:所述抗反射層的膜系結構為(xHyL)η,4≤η≤8,1<x<2,1<y<2;η為正整數;其中H為1/4中心波長厚度的高折射率層,L為1/4中心波長厚度的低折射率層,xH為x/4中心波長厚度的高折射率層,yL為y/4中心波長厚度的低折射率層,η為高折射率層和低折射率層堆疊的週期數。
- 如申請專利範圍第9項所述的顯示裝置,其中:所述高折射率層為二氧化鈦層,其折射率為2.705;所述低折射率層為二氧化矽層,其折射率為1.499。
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