TW201340239A - 基板處理裝置 - Google Patents

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Koji Yasufuku
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Dainippon Screen Mfg
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Abstract

本發明係減輕對藉由橫行而將基板搬送至處理槽之上方之搬送裝置施加之荷重。本發明之基板處理裝置包含：處理槽，其係對所收容之基板實施特定之處理；第1搬送部，其係藉由一面保持使各基板以立於垂直方向之姿勢排列於水平方向之第1基板群一面沿著特定之第1通路橫行，而將該第1基板群搬送至上述處理槽之上方；第2搬送部，其係藉由一面保持使各基板以立於垂直方向之姿勢排列於水平方向之第2基板群一面沿著特定之第2通路橫行，而將該第2基板群搬送至上述處理槽之上方；及第3搬送部，其係藉由在上述處理槽之上方進行相對於上述第1搬送部及上述第2搬送部之相對上下移動，而自上述第1搬送部及上述第2搬送部分別接收上述第1基板群及上述第2基板群並集體搬送至上述處理槽。

Description

基板處理裝置
本發明係關於一種對複數片基板集體實施處理之基板處理裝置。成為處理之對象之基板包含例如半導體晶圓、液晶顯示裝置用基板、電漿顯示器用基板、FED(Field Emission Display：場發射顯示器)用基板、光碟用基板、磁碟用基板、光磁碟用基板、光罩用基板等(以下，僅稱為「基板」)。
於對基板實施使用藥液之處理之基板處理裝置中，有對複數片基板集體實施處理之批次式者。批次式之基板處理裝置之一例示於專利文獻1。該基板處理裝置係自晶圓搬送盒(Front Open Unified Pod，FOUP)取出未處理之第1基板群，將基板群之姿勢自水平姿勢變換為垂直姿勢。其後，將垂直姿勢之基板群保持於第1橫行保持部，使其橫行至交接位置為止。另一方面，該基板處理裝置自其他晶圓搬送盒(FOUP)取出未處理之第2基板群，以相同方式變換姿勢。將垂直姿勢之第2基板群保持於第2橫行保持部，使其橫行至交接位置為止。此時，第1橫行保持部與第2橫行保持部係於上下不同之2條通路上橫行。藉此，可對各基板群獨立地進行姿勢變換動作，故可提高基板之搬送處理速度。
其後，藉由使可集體保持第1及第2基板群之升降保持台上升，而於該升降保持台上進行分批組合。該基板處理裝置係藉由將經分批 組合之基板群集體保持之搬送機構而接收基板，並搬送至處理槽之上方。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2010-93230號公報
然而，專利文獻1之基板處理裝置存在如下等問題：因將預先分批組合之基板於水平方向上搬送至處理槽之上方，故對搬送裝置施加之荷重增大，導致搬送裝置之大型化。該問題今後會隨著基板之大型化而變得顯著。
本發明係為解決如此之問題而完成者，其目的在於提供一種可減輕對藉由橫行將基板搬送至集體處理經分批組合之基板之處理槽之上方的搬送裝置施加之荷重之技術。
為解決上述課題，第1態樣之基板處理裝置包含：處理槽，其係對所收容之基板實施特定之處理；第1搬送部，其係藉由一面保持使各基板以立於垂直方向之姿勢排列於水平方向而形成的第1基板群一面沿著特定之第1通路橫行，而將該第1基板群自基板取出部搬送至上述處理槽之上方；第2搬送部，其係藉由一面保持使各基板以立於垂直方向之姿勢排列於水平方向而形成的第2基板群一面沿著特定之第2通路橫行，而將該第2基板群自上述基板取出部搬送至上述處理槽之上方；及第3搬送部，其係藉由在上述處理槽之上方進行相對於上述第1搬送部及上述第2搬送部之相對之上下移動而自上述第1搬送部及上述第2搬送部將上述第1基板群及上述第2基板群分別接收並集體搬送至上述處理槽。
第2態樣之基板處理裝置係如第1態樣之基板處理裝置，其中上述第1搬送部與上述第2搬送部係以使上述第1搬送部沿著上述第1通路橫行時之上述第1基板群之下端成為較上述第2搬送部沿著上述第2通路橫行時之上述第2基板群之下端更為上方之方式，分別搬送上述第1基板群及上述第2基板群。
第3態樣之基板處理裝置係如第2態樣之基板處理裝置，其中上述第1搬送部與上述第2搬送部係以使上述第1搬送部沿著上述第1通路橫行時之上述第1基板群之下端成為較上述第2搬送部沿著上述第2通路橫行時之上述第2基板群之上端更為下方之方式，分別搬送上述第1基板群及上述第2基板群。
第4態樣之基板處理裝置係如第1至第3中任一態樣之基板處理裝置，其中上述第1通路與第2通路於自上方觀察時將上述處理槽夾於相互之間。
第5態樣之基板處理裝置係如第1至第3中任一態樣之基板處理裝置，其中上述第3搬送部係藉由1次上述相對之上下移動而接收上述第1基板群及上述第2基板群。
第6態樣之基板處理裝置係如第1至第3中任一態樣之基板處理裝置，其中上述第3搬送部係藉由上述相對之上下移動而於上述處理槽之上方之高度互不相同之2處分別接收上述第1基板群及上述第2基板群。
第7態樣之基板處理裝置係如第1至第3中任一態樣之基板處理裝置，其中藉由使上述第1搬送部與上述第2搬送部中之至少一者向下方移動，而由上述第3搬送部分別接收上述第1基板群及上述第2基板群。
第8態樣之基板處理裝置係如第1至第3中任一態樣之基板處理裝置，其進而包含：第1收納部，其係將上述第1基板群以排列於垂直方 向之狀態收納；第2收納部，其係將上述第2基板群以排列於垂直方向之狀態收納；及基板交接部，其依次進行第1交接動作與第2交接動作，該第1交接動作係自上述第1收納部集體取出上述第1基板群，以上述第1基板群排列於水平方向之方式集體變更上述第1基板群之姿勢，並將該變更後之上述第1基板***接至上述第1搬送部；該第2交接動作係自上述第2收納部集體取出上述第2基板群，以上述第2基板群排列於水平方向之方式集體變更上述第2基板群之姿勢，並將該變更後之上述第2基板***接至上述第2搬送部。
第9態樣之基板處理裝置係如第1至第3中任一態樣之基板處理裝置，其中上述第1搬送部與上述第2搬送部係以使至少上述第1基板群與上述第2基板群分別交接至上述第3搬送部時之上述第1基板群與上述第2基板群之配置關係成為上述第1基板群之各基板與上述第2基板群之各基板自上方觀察時不重疊之配置關係之方式，分別保持上述第1基板群及上述第2基板群。
第10態樣之基板處理裝置係如第1至第3中任一態樣之基板處理裝置，其中上述第1搬送部具備一對第1保持構件，藉由驅動該一對第1保持構件，可將該一對第1保持構件選擇性地設定為可保持上述第1基板群與上述第2基板群中之僅上述第1基板群之狀態，及可使上述第1基板群及上述第2基板群通過該一對第1保持構件之間之狀態；上述第2搬送部具備一對第2保持構件，藉由驅動該一對第2保持構件，可將該一對第2保持構件選擇性地設定為可保持上述第1基板群與上述第2基板群中之僅第2基板群之狀態，及可使上述第1基板群及上述第2基板群通過該一對第2保持構件之間之狀態。
根據第1至第10之任一態樣之發明，第1及第2搬送部係將分批組合前之各基板群分別搬送至處理槽之上方，第3搬送部係於處理槽之 上方進行相對於第1及第2搬送部相對之上下移動，而接收經搬送之各基板群。繼而，第3搬送部將經交接之各基板群集體搬送至處理槽。因此，可減輕對藉由水平方向上之橫行而將基板搬送至處理槽之上方之搬送裝置施加之荷重。
1‧‧‧基板處理裝置
2‧‧‧晶圓搬送盒搬入部
3‧‧‧基板取出部
5‧‧‧基板處理部
5a‧‧‧藥液處理部
5b‧‧‧水洗處理部
5c‧‧‧多功能處理部
7‧‧‧基板收納部
8‧‧‧晶圓搬送盒搬出部
9a‧‧‧基板移載搬送機構
9b‧‧‧基板移載搬送機構
11‧‧‧多功能處理槽
15‧‧‧升降機(第3搬送部)
15a‧‧‧升降機頭
15b‧‧‧升降機頭
15c‧‧‧上端部
16a‧‧‧第1基板浸漬機構
16b‧‧‧第1基板浸漬機構
18‧‧‧升降機
18a‧‧‧升降機頭
18b‧‧‧升降機頭
22‧‧‧基板支持構件
24‧‧‧基板支持構件
32‧‧‧保持構件
34‧‧‧保持構件
36‧‧‧保持構件
37‧‧‧旋轉軸
38‧‧‧保持構件
52‧‧‧槽部
54‧‧‧面
55‧‧‧面
62‧‧‧面
64‧‧‧面
66‧‧‧面
68‧‧‧旋轉軸
72‧‧‧面
74‧‧‧面
76‧‧‧面
78‧‧‧旋轉軸
92‧‧‧間隙
96‧‧‧半間距
98‧‧‧正常間距
102‧‧‧下端
104‧‧‧上端
106‧‧‧下端
108‧‧‧下端
112‧‧‧夾盤槽
114‧‧‧通槽
122‧‧‧夾盤槽
124‧‧‧通槽
201‧‧‧第1通路
202‧‧‧第2通路
AM1‧‧‧腕部
BH1‧‧‧機器手
BH2‧‧‧機器手
CB‧‧‧藥液槽
CR1‧‧‧基板移載機器人
CR2‧‧‧基板移載機器人
F1‧‧‧晶圓搬送盒
F2‧‧‧晶圓搬送盒
F3‧‧‧晶圓搬送盒
F4‧‧‧晶圓搬送盒
TR1‧‧‧搬送機器人(第1搬送部)
TR2‧‧‧搬送機器人(第2搬送部)
W1‧‧‧第1基板群
W2‧‧‧第2基板群
WB‧‧‧水洗槽
圖1係表示實施形態之基板處理裝置之構成之一例之立體圖。
圖2係用於說明基板移載機器人之動作之模式圖。
圖3係用於說明搬送機器人之保持構件之一例及其動作之圖。
圖4係用於說明搬送機器人之保持構件之一例及其動作之圖。
圖5係用於說明搬送機器人之保持構件之一例及其動作之圖。
圖6係用於說明基板移載機器人移載基板之動作之圖。
圖7係用於說明基板移載機器人移載基板之動作之圖。
圖8係用於說明基板移載機器人移載基板之動作之圖。
圖9係用於說明基板移載機器人移載基板之動作之圖。
圖10係用於說明搬送至處理槽之上方之基板之位置關係之圖。
圖11係用於說明搬送至處理槽之上方之基板之位置關係之圖。
圖12係用於說明升降機接收基板之動作之一例之圖。
圖13係用於說明升降機接收基板之動作之一例之圖。
圖14係用於說明升降機接收基板之動作之一例之圖。
圖15係用於說明升降機接收基板之動作之一例之圖。
圖16係用於說明升降機接收基板之動作之一例之圖。
圖17係表示自上方觀察圖15之保持構件之狀態之圖。
圖18係表示自上方觀察圖16之保持構件之狀態之圖。
圖19係用於說明搬送機器人之保持構件之其他例之圖。
圖20係用於說明搬送機器人之保持構件之其他例之圖。
圖21係用於說明搬送機器人之保持構件之其他例之圖。
圖22係用於說明搬送機器人之保持構件之其他例之圖。
圖23係用於說明升降機接收基板之動作之其他例之圖。
圖24係用於說明升降機接收基板之動作之其他例之圖。
圖25係表示實施形態之基板處理裝置之動作之一例之流程圖。
圖26係表示實施形態之基板處理裝置之動作之一例之流程圖。
圖27係表示實施形態之基板處理裝置之動作之一例之流程圖。
以下，基於圖式對本發明之一實施形態進行說明。圖式中對具有相同之構成及功能之部分標註相同之符號，下述說明中省略重複說明。又，各圖式係模式性表示者，例如，各圖式中之表示物之尺寸及位置關係未必為準確圖示者。又，一部分圖式中為了說明方向而附有座標軸。
<A.實施形態> <A-1.基板處理裝置之構成>
圖1係表示本發明之一實施形態之基板處理裝置1之構成之一例的立體圖。如圖所示，該裝置包含：晶圓搬送盒搬入部2，其投入收納有未處理基板之晶圓搬送盒F1及F2；基板取出部3，其係自載置於該晶圓搬送盒搬入部2之晶圓搬送盒F1及F2之內部同時取出複數個未處理基板；基板處理部5，其係將自晶圓搬送盒F1及F2取出之未處理基板依序進行清洗處理；基板收納部7，其係將清洗處理後之複數個已處理基板同時收納於空晶圓搬送盒F3及F4中；及晶圓搬送盒搬出部8，其係取出收納有已處理基板之晶圓搬送盒F3及F4。進而，於裝置之前側(-Y側)及後側(+Y側)，自基板取出部3至基板收納部7配置有基板移載搬送機構9a及9b，將清洗處理前、清洗處理中及清洗處理後之基板自一處搬送或移載至別處。
晶圓搬送盒搬入部2係晶圓搬送盒儲藏庫(緩衝器)，將內部收容 有未處理之25片基板(「第1基板群」)W1之晶圓搬送盒F1(「第1收納部」)及內部收納有未處理之25片基板(「第2基板群」)W2之晶圓搬送盒F2(「第2收納部」)搬入，並載置於晶圓搬送盒搬入部2之上部之特定位置。該等未處理之基板係以基板面平行於水平面之姿勢於垂直方向(Z方向)上等間隔地排列之狀態分別收納於晶圓搬送盒F1及F2。基板間之間隔例如設定為10 mm。又，於晶圓搬送盒F1及F2之各者之前表面(+X側)，分別配置有用於開閉阻塞晶圓搬送盒F1、F2之各者之前表面之各蓋之未圖示之開孔機。
基板取出部3具備多關節式之基板移載機器人CR1(「基板交接部」)。基板移載機器人CR1主要具備本體部及可圍繞特定之旋轉軸旋轉地構成之旋轉部，安裝於該旋轉部且具有關節部而能夠屈伸之腕部AM1(圖2)，及安裝於該腕部之前端之機器手BH1。基板移載機器人CR1係將收容於載置在晶圓搬送盒搬入部2上之特定位置之晶圓搬送盒F1之未處理基板移載至設於基板移載搬送機構9a之搬送機器人TR1，將收容於晶圓搬送盒F2之未處理基板移載至設於基板移載搬送機構9b之搬送機器人TR2。具體而言，基板移載機器人CR1係進行自晶圓搬送盒F1集體取出25片未處理基板，以於水平方向上等間隔地排列之方式集體變更取出之各基板之姿勢，將變更後之25片未處理基板交接至搬送機器人TR1之動作(「第1交接動作」)。又，基板移載機器人CR1同樣地進行自晶圓搬送盒F2集體取出25片未處理基板，以於水平方向上等間隔地排列之方式集體變更取出之各基板之姿勢，將變更後之25片未處理基板交接至搬送機器人TR2之動作(「第2交接動作」)。基板移載機器人CR1係依序進行該等交接動作。
搬送機器人TR1及TR2分別具備一對保持構件32及34。於一對保持構件32及34之一面刻設有夾盤槽112及122(圖9)，可垂直且相互平行地支持自基板移載機器人CR1交接之25片未處理基板。搬送機器人 TR1及TR2若自基板移載機器人CR1接收基板，則於分別沿第1通路201及第2通路202水平移動(橫行)後將所接收到之基板投入至基板處理部5。具體而言，搬送機器人TR1係一面保持自晶圓搬送盒F1取出之各基板以立於垂直方向之姿勢於水平方向上等間隔地排列之未處理之第1基板群W1一面沿著第1通路201橫行，將該基板群自基板取出部3搬送至基板處理部5之各處理槽之上方。又，搬送機器人TR2係一面保持自晶圓搬送盒F2取出之各基板以立於垂直方向之姿勢於水平方向上等間隔地排列之未處理之第2基板群W2一面沿著第2通路202橫行，將該基板群自基板取出部3搬送至基板處理部5之各處理槽之上方。再者，第1通路201與第2通路202係自上方(+Z側)觀察時將各處理槽夾於相互之間而對向。
基板處理部5包含具備收容藥液之藥液槽CB之藥液處理部5a、具備收容純水之水洗槽WB之水洗處理部5b、及具備於單一槽內進行各種藥液處理、水洗處理、或基板乾燥處理等之多功能處理槽11之多功能處理部5c。於藥液槽CB、水洗槽WB、多功能處理槽11上，分別可開閉地設有未圖示之蓋，於各處理槽中，對於所收容之基板分別實施特定之處理。藥液槽CB、水洗槽WB及多功能處理槽11分別相當於「處理槽」。
基板處理部5中，於藥液處理部5a及水洗處理部5b之前方側及後方側分別配置有第1基板浸漬機構16a及16b，其等中設有升降機15(第3搬送部」)。
升降機15包含分別設於第1基板浸漬機構16a及16b之可上下移動及橫行之升降機頭15a及15b、及跨越其等之間而設置之一對基板支持構件22。升降機15係藉由在藥液槽CB之上方進行相對於搬送機器人TR1及TR2之相對之上下移動，而自搬送機器人TR1及TR2分別接收第1基板群W1及第2基板群W2，並進行分批組合。該接收係藉由利用刻 設於一對基板支持構件22之槽部52(圖13)之槽來支持自搬送機器人TR1及TR2接收到之基板而進行。升降機15係將接收到之各基板群集體搬送至藥液槽CB及水洗處理部5b之水洗槽WB，並浸漬於藥液槽CB或浸漬於水洗槽WB。又，多功能處理部5c內部之升降機18係藉由在相互之間具有一對基板支持構件24之可上下移動之升降機頭18a及18b，而將自搬送機器人TR1及TR2接收到之第1基板群W1及第2基板群W2支持於多功能處理部5c之多功能處理槽11內。多功能處理槽11之開口部係以多功能處理槽11內收容有升降機18之狀態由蓋閉塞，進行包含與升降機18一併收容之基板之減壓乾燥處理之各種處理。
基板收納部7具有與基板取出部3相同之構造，設有多關節式之基板移載機器人CR2。基板移載機器人CR2具有與基板移載機器人CR1相同之構成，藉由機器手BH2接收保持於搬送機器人TR1之處理完畢之第1基板群W1並移載至載置於晶圓搬送盒搬出部8之空晶圓搬送盒F3中，接收保持於搬送機器人TR2之處理完畢之第2基板群W2並移載至載置於晶圓搬送盒搬出部8之空晶圓搬送盒F4中。分別移載有處理完畢之各基板群之晶圓搬送盒F3及F4自晶圓搬送盒搬出部8移出。
基板移載搬送機構9a及9b分別具備可水平移動及升降移動之搬送機器人TR1及TR2。且，藉由利用分別設於該搬送機器人TR1及TR2之一對可旋轉之保持構件32及34保持基板，基板移載機器人CR1將自晶圓搬送盒F1及F2取出之基板移載至設於基板處理部5之第1基板浸漬機構16a及16b之升降機15側，或自該升降機15側移載至設於相鄰之多功能處理部5c之升降機18側，或自該升降機18側移載至基板收納部7之基板移載機器人CR2。
<A-2.基板處理裝置之動作>
圖25~圖27係作為實施形態之基板處理裝置1之動作之一例而表 示動作流程S100之流程圖。圖25係對將自晶圓搬送盒取出之基板於處理槽之上方分批組合之前之動作表示概要之流程，圖26係表示自晶圓搬送盒F1取出之基板交接至搬送機器人TR1之動作之詳細動作流程。圖27係表示於升降機15交接基板之動作之詳細動作流程。以下，參照圖25~圖27之流程圖說明基板處理裝置1之動作。該說明中，一面適當參照其他圖式，一面亦進行裝置構成之必要之補充說明。
<A-2-1.動作之概要>
如圖25所示，動作流程S100中，首先，基板移載機器人CR1自晶圓搬送盒F1取出基板(第1基板群W1)(步驟S110)，將取出之第1基板群W1交接至搬送機器人TR1(步驟S120)。
圖2係用於說明基板移載機器人CR1自載置於晶圓搬送盒搬入部2之晶圓搬送盒F1取出第1基板群W1，並交接至搬送機器人TR1之動作之模式圖。於圖2中，基板移載機器人CR1進行該動作之過程中之基板移載機器人CR1之3個狀態分別由二點鏈線、單點鏈線、及實線表示。
由二點鏈線表示之基板移載機器人CR1係為了自載置於晶圓搬送盒搬入部2之晶圓搬送盒F1取出第1基板群W1，而將機器手BH1***至晶圓搬送盒F1內。於晶圓搬送盒F1內，以各基板面成為與水平面(XY平面)平行之姿勢於垂直方向(Z方向)上等間隔地排列之狀態收納有第1基板群W1。於機器手BH1中以與基板相同之間隔設有複數個支持板，藉由該***，而將第1基板群W1之各基板逐片地***至相互鄰接之各支持板之間之各間隔，藉由機器手BH1之夾盤機構分別夾緊而保持。又，機器手BH1亦具備解除該夾盤之解除機構，於將保持於機器手BH1之基板交接至搬送機器人時解除夾盤。作為該種機器手BH1，例如可採用日本專利第3745064號公報所揭示之基板搬送裝置之機器手部等。
由單點鏈線表示之基板移載機器人CR1係自晶圓搬送盒F1取出第1基板群W1之狀態。基板移載機器人CR1成為如下狀態：第1基板群W1之取出結束後，藉由變更機器手BH1之姿勢而將第1基板群W1以各基板立於垂直方向之姿勢、即與垂直面(XZ面)平行之姿勢於水平方向(Y方向)上等間隔地排列。本實施例中，基板移載機器人CR1之機器手BH1以保持有基板群W1之狀態，首先將基板自水平姿勢變換為立於垂直方向之姿勢，其後，藉由機器手BH1進行以垂直軸(Z軸)為中心之旋轉驅動而變換為圖2中實線所示之姿勢。
實線所示之基板移載機器人CR1係表示將保持於機器手BH1之第1基板群W1分別通過搬送機器人TR1之一對保持構件32之間，及搬送機器人TR2之一對保持構件34之間，並且向上方提昇之狀態。該提昇過程中，保持構件32及34係設定為下述之可通過狀態，第1基板群W1係不接觸於保持構件32及34而提昇。而且，第1基板群W1之下端被朝向保持構件32之上方提昇直至不接觸於保持構件32之位置為止後，搬送機器人TR1之一對保持構件32設定為下述可保持狀態。其後，機器手BH1將第1基板群W1向下方下降於第1基板群W1接觸於保持構件32時將第1基板群W1收納於保持構件32之夾盤槽112(圖7)，藉此，第1基板群W1自機器手BH1交接至搬送機器人TR1。該交接時，機器手BH1之夾盤機構被解除。再者，基板移載機器人CR2(圖1)具有與基板移載機器人CR1相同之構成，與基板移載機器人CR1相反，係將基板自搬送機器人TR1、TR2移載至晶圓搬送盒F3、F4。
步驟S120(圖25)之交接結束後，基板移載機器人CR1與第1基板群W1向搬送機器人TR1之交接同樣地，自晶圓搬送盒F2取出基板(第2基板群W2)(步驟S130)，將取出之第2基板群W2交接至搬送機器人TR2(步驟S140)。分別接收第1基板群W1及第2基板群W2之搬送機器人TR1及TR2向處理槽之上方移動(步驟S150)，進行第1基板群W1及 第2基板群W2向升降機15之交接(步驟S160)。
圖10及圖11係用於說明藉由搬送機器人TR1及TR2搬送至處理槽之上方之基板之位置關係之一例之圖。圖10係朝+Y方向觀察搬送機器人TR1及TR2之圖，圖11係朝+X方向觀察圖10之搬送機器人TR1及TR2之圖。
藉由使搬送機器人TR1沿著第1通路201橫行，一對保持構件32係以保持第1基板群W1之狀態沿箭頭X1移動。又，藉由使搬送機器人TR2沿著第2通路202橫行，一對保持構件34係以保持第2基板群W2之狀態沿箭頭X2移動。
如圖11所示，第1基板群W1與第2基板群W2係以如下方式分別被保持且搬送：於朝基板之移動方向(+X方向)觀察時，第2基板群W2之各基板看似分別逐片非接觸地***至第1基板群W1之鄰接之基板間之各間隙。
又，搬送機器人TR1與搬送機器人TR2係以搬送機器人TR1沿著第1通路201橫行時之第1基板群W1之下端106較搬送機器人TR2沿著第2通路202橫行時之第2基板群W2之下端108更為上方之方式分別搬送第1基板群W1及第2基板群W2。又，以較搬送機器人TR2沿第2通路202橫行時之第2基板群W2之上端104而下端106更為下方，且較搬送機器人TR1保持第1基板群W1而橫行時之保持構件32之下端102而上端104更為下方之方式分別搬送第1基板群W1及第2基板群W2。
因此，以第1基板群W1之下部與第2基板群W2之上部於自橫向觀察時重疊之方式進行搬送，故與以第1基板群W1與第2基板群W2自橫向觀察時不重疊之方式搬送之情形相比，可使基板處理裝置1之高度更低。該重疊可藉由如下操作等實現：例如以於朝基板之移動方向(+X方向)觀察時，第2基板群W2之各基板看似分別逐片地非接觸地***至第1基板群W1之鄰接之基板間之各間隙之方式，分別保持並搬送 第1基板群W1及第2基板群W2。
再者，第1基板群W1與第2基板群W2係由相互不同之通路搬送直至自上方觀察時到達至處理槽之上方為止，其後以於處理槽之上方於自上方觀察各基板群時，成為第2基板群W2之各基板分別逐片地非接觸地***至第1基板群W1之各基板間之各間隙之配置關係之方式搬送。即，搬送機器人TR1與搬送機器人TR2可以如下方式分別保持第1基板群W1及第2基板群W2：至少第1基板群W1與第2基板群W2分別交接至升降機15時之第1基板群W1與第2基板群W2之配置關係成為自上方觀察時第2基板群W2之各基板分別逐片地非接觸地***至第1基板群W1之相互鄰接之基板間之各間隙之配置關係。
<A-2-2.搬送機器人之保持構件之動作>
圖3~圖5係用於分別說明搬送機器人TR1及TR2之保持構件32及34之構成之一例及其動作之圖，圖3表示保持構件32及34被設定為可通過狀態之狀態。又，圖4及圖5表示保持構件32及34被設定為可保持狀態之狀態。圖3~圖5中，表示有以XZ平面切斷之一對保持構件32(34)之剖面形狀與第1基板群W1(第2基板群W2)之基板之位置關係，圖示有一對保持構件32(34)中+X側者，省略另一保持構件之圖示。省略圖示之保持構件之剖面形狀相對於YZ平面與圖示之保持構件之剖面形狀對稱。
搬送機器人TR1(TR2)係藉由使保持構件32(34)自轉而切換保持構件32(34)之可通過狀態與可保持狀態。更詳細而言，搬送機器人TR1係藉由驅動一對保持構件32，可將保持構件32選擇性地設定為僅可保持第1基板群W1與第2基板群W2中之第1基板群W1之狀態(「可保持狀態」)，及可使第1基板群W1及上述第2基板群W2通過一對保持構件32之間之狀態(「可通過狀態」)。又，搬送機器人TR2係藉由驅動一對保持構件34，可將保持構件34選擇性地設定為僅可保持第1基板群 W1與第2基板群W2中之第2基板群W2之狀態(可保持狀態)，及可使第1基板群W1及第2基板群W2通過一對保持構件34之間之狀態(可通過狀態)。
如圖3~圖5所示，保持構件32及34例如分別包含於Y軸方向上細長之三角柱狀之構件。保持構件32具有三面62、64、及66，保持構件34具有三面72、74、及76。保持構件32係由搬送機器人TR1驅動而以旋轉軸68為旋轉中心自轉，保持構件34係由搬送機器人TR2驅動而以旋轉軸78為旋轉中心自轉。
如下述之圖9所示，於面64交替地設有夾盤槽112及通槽114。第1基板群W1及第2基板群W2之基板間隔(基板間距)為例如10 mm之正常間距98，鄰接之夾盤槽112彼此之間隔設定為正常間距98。又，鄰接之夾盤槽112及通槽114之中心線彼此之間隔為正常間距98之一半，例如5 mm之半間距96。同樣地，於面74亦交替地設有夾盤槽122及通槽124。又，於面66(76)亦同樣地交替地設有夾盤槽112(122)及通槽114(124)。
如圖3所示，可通過狀態下，一對保持構件32(34)之面62(72)與YZ平面平行，面62彼此(72彼此)相互對向。面62彼此(72彼此)之間隔寬於第1基板W1(W2)之直徑，第1基板群W1及W2可上下(Z軸方向)通過一對保持構件32(34)之間。面62(72)亦被稱為「通過面」。於第1基板群W1及W2通過一對保持構件32(34)之間之中央部而上下移動時，於面62(72)與基板群之間有間隙92。
如圖4、圖5所示，可保持狀態下，一對保持構件32(34)之面64(74)彼此或面66(76)彼此之間隔窄於第1基板W1(W2)之直徑。因此，一對保持構件32(34)可保持第1基板群W1(W2)。更詳細而言，一對保持構件32(34)可藉由刻設於保持面之夾盤槽而保持第1基板群W1(W2)。
面64(74)例如係保持搬入至藥液槽CB等之前之未處理之基板之面，面66(76)例如係保持自水洗槽WB取出之已處理之基板之面。藉由切換保持未處理之基板之面與保持已處理之基板之面，可防止附著於未處理之基板之微粒等附著於已處理之基板。又，面64(74)及面66(76)亦稱為「保持面」。
圖19~圖22係用於說明搬送機器人之保持構件之其他例之圖。於圖19及圖20中表示以XZ平面切斷之一對保持構件36之剖面形狀與第1基板群W1之基板之位置關係，於圖21及圖22中表示以XZ平面切斷之一對保持構件38之剖面形狀與第1基板群W1之基板之位置關係。
一對保持構件36具有於Y軸方向上細長之板狀之形狀，可以旋轉軸37為中心旋轉。圖19表示保持構件36之可保持狀態，圖20表示保持構件36之可通過狀態。圖19、圖20所示之例中，保持構件36之面54及55中，面54為保持面，且亦為通過面，但亦可以例如面54及55中一者為保持面而另一者為通過面之方式使保持構件36進行動作。
一對保持構件38具有於Y軸方向上細長之四角柱狀之形狀，可左右(於+X方向及-X方向上)開閉。圖21表示保持構件38之可保持狀態，圖22表示保持構件38之可通過狀態。
作為搬送機器人TR1及搬送機器人TR2之保持構件，即便採用例如保持構件36或保持構件38等來代替保持構件32(34)，亦不會損壞本發明之有用性。
<A-2-3.自晶圓搬送盒取出之基板向搬送機器人之基板之交接動作>
圖6~圖9係用於說明基板移載機器人CR1將第1基板群W1移載至搬送機器人TR1之保持構件32，進而將第2基板群W2移載至搬送機器人TR2之保持構件34之動作之一例之圖。圖6~圖9中，圖示有自上方觀察一對保持構件32及34之每個對中+Y側之保持構件之狀態，省略另一者之圖示。圖6~圖9之動作例中之保持構件32及34係自上方觀察 時位於基板取出部3之相同位置，但為了便於說明，保持構件32與保持構件34左右(於Y軸方向上)分開進行圖示。再者，亦可於保持構件32及34自上方觀察時位於相互不同之位置之狀態下，進行藉由基板移載機器人CR1之基板之移載。
圖6中，保持構件32及34分別設定為圖3所示之可通過狀態。圖7、圖8中，保持構件32係設定為圖4所示之可保持狀態，保持構件34係設定為圖3所示之可通過狀態。圖9中，保持構件32及34係分別設定為圖4所示之可保持狀態。
於保持構件32之面64，交替地設有夾盤槽112及通槽114，於保持構件34之面74，交替地設有夾盤槽122及通槽124。鄰接之通槽彼此及夾盤槽彼此之各者之間隔為正常間距98，鄰接之通槽與夾盤槽之中心線彼此之間隔為半間距96。且，保持構件32與保持構件34相互於X軸方向上錯開半間距96。同樣地，於保持構件32之面66，亦交替地設有夾盤槽112及通槽114，於保持構件34之面76，亦交替地設有夾盤槽122及通槽124。
再者，保持構件32及34之可保持狀態可藉由圖5所示之狀態分別實現。即，可藉由一對保持構件32之一對面66保持第1基板群W1，藉由一對保持構件34之一對面76保持第2基板群W2。
以下，一面參照圖6、圖7，一面根據圖26之流程圖，就步驟S120(圖25)之處理之詳細進行說明。搬送機器人TR1(TR2)首先驅動一對保持構件32(34)，將一對保持構件32(34)設定為圖3、圖6所示之可通過狀態(步驟S210)。基板移載機器人CR1係以第1基板群W1可如圖6所示般分別通過一對保持構件32之間及一對保持構件34之間之方式，調整機器手BH1之位置及姿勢。該調整之後，基板移載機器人CR1使機器手BH1上升。藉由該上升而如圖6所示般，第1基板群W1通過一對保持構件34之面72彼此之間後，通過一對保持構件32之面62彼此之 間。繼而，機器手BH1將基板(第1基板群W1)保持於較搬送機器人TR1之保持構件32更為上方(步驟S220)。於該狀態下，第1基板群W1之下側之外緣被保持於較保持構件32更為上方，保持構件32不會干擾第1基板群W1而可進行自轉。繼而，搬送機器人TR1將保持構件32設定為例如圖4所示之可保持狀態(步驟S230)。繼而，基板移載機器人CR1之機器手BH1向下方移動，如圖7所示，將基板(第1基板群W1)交接至保持構件32之夾盤槽112(步驟S240)。基板移載機器人CR1之機器手BH1退避至一對保持構件34之下方(步驟S250)，步驟S120(圖25)之處理結束。
其次，基板移載機器人CR1之將第2基板群W2向一對保持構件34之交接動作係以相同方式進行。該動作中，首先，於將保持構件34設定為圖8所示之可通過狀態之狀態下，保持有第2基板群W2之機器手BH1上升。藉由該上升而如圖8所示，第2基板群W2通過一對保持構件34之面72彼此之間。繼而，機器手BH1將第2基板群W2保持於較保持構件34更為上方。於該狀態下，第2基板群W2之下側之外緣被保持於較保持構件34更為上方，保持構件34不會干擾第2基板群W2而可進行自轉。繼而，搬送機器人TR1將保持構件34設定為例如圖4所示之可保持狀態。繼而，機器手BH1向下方移動，如圖9所示，將第2基板群W2交接至保持構件32之夾盤槽122。機器手BH1退避至一對保持構件34之下方。
<A-2-4.基板向升降機之交接動作>
圖12~圖16係用於說明升降機15接收基板(第1基板群W1及第2基板群W2)之動作之一例之圖。圖12係朝+Y方向觀察藉由設定為保持狀態之一對保持構件32及34將第1基板群W1及W2分別搬送至藥液槽CB之上方之狀態之剖面圖。於第1基板群W1及第2基板群W2之下方，存在已下降至藥液槽CB內之具備一對基板支持構件22之升降機15。
圖13係向+X方向觀察圖12之狀態之剖面圖。圖14係表示圖12、圖13之升降機15向箭頭Z1之方向上升直至基板支持構件22抵到第2基板群W2之下側之端面為止之狀態之剖面圖。圖15係表示圖14之升降機15進而向箭頭Z1(圖14)之方向上升直至基板支持構件22抵到第1基板群W1之下側之端面為止之狀態之剖面圖。圖16係表示圖15之升降機15一面藉由基板支持構件22支持第1基板群W1及第2基板群W2，一面進而上升之狀態之剖面圖。該上升後，保持構件32及保持構件34自可保持狀態變更為可通過狀態。
圖17係表示自上方觀察圖15之保持構件32及34，以及第1基板群W1及第2基板群W2之狀態之圖。圖18係表示自上方觀察圖16之保持構件32及34，以及第1基板群W1及第2基板群W2之狀態之圖。
以下，參照圖27，對步驟S160(圖25)之處理之詳情進行說明。如圖27所示，首先，於設定為可保持狀態之保持構件32及34分別支持第1基板群W1及第2基板群W2之狀態下，以升降機15之基板支持構件22成為較搬送機器人TR1之保持構件32更為上方之方式移動升降機15(步驟S310)。繼而，於該上升過程中進行基板(第1基板群W1及第2基板群W2)向升降機15之基板支持構件22之交接(步驟S320)。
上述步驟S310~S320之處理中，升降機15自圖12、圖13所示之狀態開始向箭頭Z1之方向上升，如圖14所示，升降機15之一對基板支持構件22接觸於第2基板群W2之下端。且，第2基板群W2藉由支持於一對基板支持構件22之槽部52而交接至升降機15。升降機15進而上升，如圖15、圖17所示般一對基板支持構件22接觸於第1基板群W1之下端，第1基板群W1支持於一對基板支持構件22之槽部52，藉此交接至升降機15。
此時，若朝向-Z方向自上方觀察，則如圖17所示，面64及74之夾盤槽112及122看上去以中心線彼此之間隔為半間距96而交替排列。而 且，此時，第1基板群W1之各基板與第2基板群W2之各基板成為自上方觀察時不重疊之配置關係。且，支持於一對基板支持構件22之第2基板群W2係通過一對保持構件32之一對通槽114(圖9)之間。於基板支持構件22之槽部52，第2基板群W2之各基板逐片地***至第1基板群W1之各基板間之間隙。且，形成各基板以立於垂直方向之姿勢於水平方向上以半間距96等間隔地排列而形成之50片基板，並進行間距變換。如上所述，升降機15係藉由相對於第1基板群W1及第2基板群W2之相對之上下移動而於藥液槽CB之上方高度互不相同之2處分別接收第1基板群W1及第2基板群W2。
步驟S320之處理結束後，升降機15自圖15、圖17所示之狀態起，如圖16、圖18所示，保持構件32不會干擾第1基板群W1及第2基板群W2之下側之外緣而進而上升至可自轉之位置為止。繼而，搬送機器人TR1及TR2使保持構件32及34自轉而設定為可通過狀態(步驟S330)。
該可通過狀態中，於一對面62之間，保持有第1基板群W1及第2基板群W2。若自上方觀察，則面62及72看似重疊，在面62及72與第1基板群W1及第2基板群W2之間，於Y軸方向上具有間隙92。且，經間距變換之第1基板群W1及第2基板群W2可以支持於基板支持構件22之狀態，於下方通過一對面62彼此之間及一對面72彼此之間。
其次，升降機15係如圖16所示沿箭頭Z2移動於下方之處理槽之內部(步驟S340)，第1基板群W1及第2基板群W2集體被搬送至藥液槽CB內。即，升降機15係藉由相對於搬送機器人TR1及TR2之1次相對上下移動而接收第1基板群W1及第2基板群W2，並搬送至藥液槽CB內。升降機15之下降後，搬送機器人TR1及TR2自藥液槽CB之上方退避(步驟S350)，步驟S160(圖25)之處理結束。
圖23及圖24係用於說明升降機15接收基板(第1基板群W1及第2基 板群W2)之動作之其他例之圖。圖23所示之例中，不僅以虛線表示之升降機15朝箭頭Z1之方向上升，搬送機器人TR1及TR2分別下降而以虛線表示之保持構件32及34分別朝箭頭Z2之方向下降，藉此第1基板群W1及第2基板群W2交接至升降機15之一對基板支持構件22。
因此，升降機15可藉由與保持構件32及34未下降之情形時相比較短之移動行程而接收第1基板群W1及第2基板群W2，並集體搬送至處理槽(藥液槽CB)。圖23及圖24所示之例中，搬送機器人TR1及TR2之兩者向下方移動，但亦可藉由搬送機器人TR1及TR2中之至少一者向下方移動而由升降機15分別接收第1基板群W1及第2基板群W2。
圖24所示之例中，搬送第2基板群W2之下側之搬送機器人TR2係先行於搬送第1基板群W1之上側之搬送機器人TR1而沿著第2通路202(圖1)移動。且，於搬送機器人TR2之保持構件34到達至藥液槽CB之上方時，升降機15開始向箭頭Z1之方向上升。於該升降機15結束該上升之狀態下，升降機15之上端部15c位於較保持第1基板群W1而橫行之搬送機器人TR1之保持構件32之下端102更為下方。藉由該位置關係，搬送機器人TR1之保持構件32不會干擾升降機15而可沿著箭頭X3之方向移動將第1基板群W1搬送至升降機15之上方。升降機15與第1基板群W1及第2基板群W2分別於升降機15之上方備齊後使升降機15上升之情形相比，可預先於更上方等待第1基板群W1，故可進而縮短接收第1基板群W1及第2基板群W2而進行分批組合之前之時間。第1基板群W1保持於保持構件32並搬送至藥液槽CB之上方後，升降機15重新開始上升而接收第1基板群W1及第2基板群W2，集體搬送至藥液槽CB。
再者，第1基板群W1及第2基板群W2由升降機15集體搬送至處理槽時，即便未自正常間距98間距變換為半間距96，亦不會損害本發明之有用性。例如，作為第1基板群W1與第2基板群W2以正常間距98等 間隔地排列之複數個基板，亦可藉由升降機15集體搬送至處理槽。
根據如上所述構成之本實施形態之基板處理裝置，搬送機器人TR1及TR2係分別將分批組合之前之第1基板群W1及第2基板群W2搬送至處理槽之上方。繼而，升降機15於該處理槽之上方進行相對於搬送機器人TR1及TR2之相對之上下移動，接收所搬送之各基板群。繼而，升降機15將經交接之各基板群集體搬送至處理槽。因此，可減輕對藉由水平方向上之橫行而將基板搬送至處理槽之上方之搬送機器人TR1及搬送機器人TR2施加之荷重。
又，根據如上所述構成之本實施形態之基板處理裝置，搬送機器人TR1及TR2係以搬送機器人TR1橫行時之第1基板群W1之下端較上述搬送機器人TR2橫行時之第2基板群W2之下端更為上方之方式分別搬送第1基板群W1及第2基板群W2。因此，可將保持構件32及34之各者之移動通路以自上方觀察時相互重疊之方式設定，故可進而減小基板處理裝置之設置空間。
又，根據如上所述構成之本實施形態之基板處理裝置，搬送機器人TR1及TR2係以第1基板群W1之下端較第2基板群W2之上端更為下方之方式分別橫行而分別搬送第1基板群W1及第2基板群W2。因此，與以第1基板群W1之下端較第2基板群W2之上端更為上方之方式搬送之情形相比，可將基板處理裝置之高度抑制為更低。
又，根據如上所述構成之本實施形態之基板處理裝置，第1通路201與第2通路202係自上方觀察時將基板處理裝置之處理槽夾於相互之間而設置。因此，較將第1通路201及第2通路202設於處理槽之單側之情形而言，可縮短保持構件32及保持構件34之長度，故可進而減少對保持構件32及保持構件34施加之力矩。
又，根據如上所述構成之本實施形態之基板處理裝置，升降機15可藉由相對於搬送機器人TR1及TR2之1次之相對上下移動而接收第 1基板群W1及第2基板群W2並搬送至處理槽。因此，可使第1基板群W1及第2基板群W2之分批組合及集體搬送至處理槽更高速化。
又，根據如上所述構成之本實施形態之基板處理裝置，升降機15係藉由相對於搬送機器人TR1及TR2之相對之上下移動而於上述處理槽之上方之高度互不相同之2處分別接收第1基板群W1及上述第2基板群W2。因此，可將第1基板群W1及第2基板群W2以可進行間距變換之配置關係保持，使分批組合時之間距變換更容易。又，可以搬送機器人TR1及TR2之各者之保持構件相互不干擾之方式保持。
又，根據如上所述構成之本實施形態之基板處理裝置，藉由搬送機器人TR1及TR2中至少一者向下方移動，升降機15可分別接收第1基板群W1及第2基板群W2。因此，與搬送機器人未向下方移動之情形相比，可進而縮短升降機15之移動行程。
又，根據如上所述構成之本實施形態之基板處理裝置，基板移載機器人CR1係依序進行第1交接動作與第2交接動作，該第1交接動作係自晶圓搬送盒F1集體取出第1基板群W1，並交接至搬送機器人TR1；該第2交接動作係自晶圓搬送盒F2集體取出第2基板群W2，並交接至搬送機器人TR2。因此，與於基板取出部將第1基板群W1及第2基板群W2例如於具有升降保持台之推進器之該升降保持台上暫且分批組合後集體搬送至搬送機器人TR1及TR2之情形相比，可削減於該升降保持台之分批組合之步驟。又，搬送機器人TR1與搬送機器人TR2分別載置第1基板群W1及第2基板群W2，故可相互獨立地自基板取出部向處理槽之上方橫行。藉此，若下側之搬送機器人TR2先行而向處理槽之上方移動，則升降機15無需等待至搬送機器人TR1及搬送機器人TR2於處理層之上方備齊為止，而可預先上升至不會干擾搬送機器人TR2之保持構件32之高度。因此，可進而縮短處理槽之上方之分批組合之所需時間。
再者，基板處理裝置1中，各基板以正常間距98等間隔地排列之第1基板群W1及第2基板群W2以半間距96交替地分批組合。然而，例如，亦可藉由在處理槽之一者之單側移動之2台搬送機器人及在另一側移動之1台搬送機器人分別將正常間距之基板群搬送至處理槽之上方，並且使升降機15進行相對之上下移動，而將各基板群以1/3間距分批組合。又，分批組合之第1基板群W1及第2基板群W2可分別將25片作為一組運用，但並非必需為25片。例如即便於作為第1基板群W1將不足25片之數量之基板收納於晶圓搬送盒F1之情形時亦可無問題地使用。該情形時，雖於經分批組合之基板群產生非等間隔之部分，但無基板搬送上之問題。
已詳細地表示並記述了本發明，但上述之記述為所有態樣之例示而非限定。因此，本發明可於其發明之範圍內對事實形態進行適當變形、省略。例如，上述實施形態中，已處理之第1基板群W1及第2基板群W2係移載至晶圓搬送盒搬出部8之空晶圓搬送盒F3、F4而取出，但非限於此，例如，亦可構成為將已處理之第1基板群W1及第2基板群W2放回至原本收納其等之晶圓搬送盒F1、F2而收納取出。又，處理槽之種類、個數、配置亦無限定。上述實施形態中係於藥液槽CB之上方交接基板，但亦可於其他位置進行交接。又，上述實施形態中，升降機15、18為自處理槽之兩側支撐之兩端夾持型，搬送機器人TR1、TR2為僅自單側支撐之懸臂型，但亦可相反，亦可全部為懸臂型，或全部為兩端夾持型。
1‧‧‧基板處理裝置
2‧‧‧晶圓搬送盒搬入部
3‧‧‧基板取出部
5‧‧‧基板處理部
5a‧‧‧藥液處理部
5b‧‧‧水洗處理部
5c‧‧‧多功能處理部
7‧‧‧基板收納部
8‧‧‧晶圓搬送盒搬出部
9a‧‧‧基板移載搬送機構
9b‧‧‧基板移載搬送機構
11‧‧‧多功能處理槽
15‧‧‧升降機(第3搬送部)
15a‧‧‧升降機頭
15b‧‧‧升降機頭
16a‧‧‧第1基板浸漬機構
16b‧‧‧第1基板浸漬機構
18‧‧‧升降機
18a‧‧‧升降機頭
18b‧‧‧升降機頭
22‧‧‧基板支持構件
24‧‧‧基板支持構件
32‧‧‧保持構件
34‧‧‧保持構件
201‧‧‧第1通路
202‧‧‧第2通路
BH1‧‧‧機器手
BH2‧‧‧機器手
CB‧‧‧藥液槽
CR1‧‧‧基板移載機器人
CR2‧‧‧基板移載機器人
F1‧‧‧晶圓搬送盒
F2‧‧‧晶圓搬送盒
F3‧‧‧晶圓搬送盒
F4‧‧‧晶圓搬送盒
TR1‧‧‧搬送機器人(第1搬送部)
TR2‧‧‧搬送機器人(第2搬送部)
W1‧‧‧第1基板群
W2‧‧‧第2基板群
WB‧‧‧水洗槽

Claims (10)

  1. 一種基板處理裝置，其包含：處理槽，其係對所收容之基板實施特定之處理；第1搬送部，其係藉由一面保持使各基板以立於垂直方向之姿勢排列於水平方向而形成的第1基板群一面沿著特定之第1通路橫行，而將該第1基板群自基板取出部搬送至上述處理槽之上方；第2搬送部，其係藉由一面保持使各基板以立於垂直方向之姿勢排列於水平方向而形成的第2基板群一面沿著特定之第2通路橫行，而將該第2基板群自上述基板取出部搬送至上述處理槽之上方；及第3搬送部，其係藉由在上述處理槽之上方進行相對於上述第1搬送部及上述第2搬送部之相對之上下移動，而自上述第1搬送部及上述第2搬送部分別接收上述第1基板群及上述第2基板群並集體搬送至上述處理槽。
  2. 如請求項1之基板處理裝置，其中上述第1搬送部與上述第2搬送部係以使上述第1搬送部沿著上述第1通路橫行時之上述第1基板群之下端成為較上述第2搬送部沿著上述第2通路橫行時之上述第2基板群之下端更為上方之方式，分別搬送上述第1基板群及上述第2基板群。
  3. 如請求項2之基板處理裝置，其中上述第1搬送部與上述第2搬送部係以使上述第1搬送部沿著上述第1通路橫行時之上述第1基板群之下端成為較上述第2搬送部沿著上述第2通路橫行時之上述第2基板群之上端更為下方之方式，分別搬送上述第1基板群及上述第2基板群。
  4. 如請求項1至3中任一項之基板處理裝置，其中上述第1通路與第2通路於自上方觀察時將上述處理槽夾於相互之間。
  5. 如請求項1至3中任一項之基板處理裝置，其中上述第3搬送部係藉由1次上述相對之上下移動而接收上述第1基板群及上述第2基板群。
  6. 如請求項1至3中任一項之基板處理裝置，其中上述第3搬送部係藉由上述相對之上下移動而於上述處理槽之上方之高度互不相同之2處分別接收上述第1基板群及上述第2基板群。
  7. 如請求項1至3中任一項之基板處理裝置，其係藉由上述第1搬送部與上述第2搬送部中至少一者向下方移動，而由上述第3搬送部分別接收上述第1基板群及上述第2基板群。
  8. 如請求項1至3中任一項之基板處理裝置，其進而包含：第1收納部，其係將上述第1基板群以排列於垂直方向之狀態收納；第2收納部，其係將上述第2基板群以排列於垂直方向之狀態收納；及基板交接部，其係依次進行第1交接動作與第2交接動作，該第1交接動作係自上述第1收納部集體取出上述第1基板群，以上述第1基板群排列於水平方向之方式集體變更上述第1基板群之姿勢，並將該變更後之上述第1基板***接至上述第1搬送部；該第2交接動作係自上述第2收納部集體取出上述第2基板群，以上述第2基板群排列於水平方向之方式集體變更上述第2基板群之姿勢，並將該變更後之上述第2基板***接至上述第2搬送部。
  9. 如請求項1至3中任一項之基板處理裝置，其中上述第1搬送部與上述第2搬送部係以如下方式分別保持上述第1基板群及上述第2基板群：使至少上述第1基板群及上述第2基板群分別交接至上述第3搬送部時之上述第1基板群與上述第2基板群之配置關係，成為上述第1基板群之各基板與上述第2基板群之各基板自上方觀察時不重疊之配置關係。
  10. 如請求項1至3中任一項之基板處理裝置，其中上述第1搬送部具備一對第1保持構件，藉由驅動該一對第1保持構件，可將該一對第1保持構件選擇性地設定為可保持上述第1基板群與上述第2基板群中之僅上述第1基板群之狀態，及上述第1基板群及上述第2基板群可通過該一對第1保持構件之間之狀態；上述第2搬送部具備一對第2保持構件，藉由驅動該一對第2保持構件，可將該一對第2保持構件選擇性地設定為可保持上述第1基板群與上述第2基板群中之僅上述第2基板群之狀態，及上述第1基板群及上述第2基板群可通過該一對第2保持構件之間之狀態。
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