TW201336594A - 清潔面板之系統及方法 - Google Patents
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 188
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 45
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 claims abstract description 94
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims abstract description 71
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 61
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 33
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 26
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 8
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 claims description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 abstract description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 7
- 230000008878 coupling Effects 0.000 abstract description 3
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 abstract description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 abstract description 3
- 230000003313 weakening effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000011538 cleaning material Substances 0.000 description 14
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 9
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 6
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 4
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 239000008236 heating water Substances 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 229920001621 AMOLED Polymers 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000008400 supply water Substances 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/02—Cleaning by the force of jets or sprays
- B08B3/022—Cleaning travelling work
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
- B08B1/20—Cleaning of moving articles, e.g. of moving webs or of objects on a conveyor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B5/00—Cleaning by methods involving the use of air flow or gas flow
- B08B5/02—Cleaning by the force of jets, e.g. blowing-out cavities
- B08B5/023—Cleaning travelling work
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B2230/00—Other cleaning aspects applicable to all B08B range
- B08B2230/01—Cleaning with steam
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Abstract
本發明揭露一種用於面板之清潔系統,其包含用於噴灑蒸氣在面板上之蒸氣噴灑器以及用於噴灑冷卻水在面板上之冷卻水噴灑器,以及揭露一種面板之清潔方法,其透過蒸氣噴灑和冷卻水噴灑來執行清潔面板。當使用蒸氣噴灑面板時,附著在該面板之異物可暫時地膨脹或者經歷相變。在噴灑蒸氣之流程後,用冷卻水噴灑該面板,透過異物冷卻以及冷凝,其可減弱異物與面板之間的耦合力。
Description
相關申請案之交互參照
本申請案主張於2012年3月5日向韓國智慧財產局提出之韓國專利申請號第10-2012-0022137號之優先權及效益,其全部內容係於此併入作為參考。
本發明係有關於一種包含蒸氣裝置和冷卻裝置的清潔系統,以及使用該系統的清潔方法,特別是有關於一種用於清潔顯示面板的系統和及其方法。
近年來,因為對高品質顯示裝置之需求增加,例如液晶顯示器(LCD),電漿顯示面板(PDP),有機發光二極體(OLED)顯示器,以及其他相似裝置,因此已積極地執行研究開發該高品質顯示裝置。
因為高品質顯示裝置係為精密製造,甚至一點污染都可能造成缺陷。因此,在製造高品質顯示裝置時清潔流程變得非常重要的。亦即,移除面板上或者基板上的雜質等等的清潔流程係為避免顯示裝置之缺陷產生的重要因素。
特別的是,在敏感的顯示裝置之例子中,例如最近受到注目的主動陣列有機發光二極體(AMOLED)顯示器,因為其顯示面板之表面上係形成二氧化矽薄膜,所以顯示裝置之表面的強度較弱。因此,當執行一般的清潔方法如使用拋光帶進行磨光,刷洗,葉片清潔等等時,因為其清潔強度係強烈的,會造成顯示面板之二氧化矽薄膜脫落或者表面上出現刷痕之問題。同時,為了防止顯示表面受損,例如刷痕或者脫落,而減弱清潔強度,則無法如期取得充分的清潔效果。
因此,清潔系統及其方法之研發是迫切需要的,藉此在沒有對顯示面板之表面造成損害的情形下有效地除去雜質或者異物。
本發明係致力於提供一種清潔系統以及一種清潔方法,其能在不會對顯示面板之表面造成損害之情況下有效地移除存在於顯示面板之表面上的雜質或異物。
本發明係致力於提供一種用於清潔面板之系統,其包含蒸氣裝置以及冷卻裝置。
本發明係致力於提供一種清潔面板之方法,其包含蒸氣方法與冷卻方法。
本發明係致力於提供一種清潔系統以及一種清潔方法,其能在不損害顯示面板之表面之情況下,有效地移除存在於其表面上的物質。
本發明之例示性實施例係提供一種用於面板之清潔系統,其包含﹕一面板支撐件,面板係裝載於面板支撐件上;一清潔頭,係設置於面板支撐件之上面,其中清潔頭包含用於噴灑蒸氣在面板上之一蒸氣噴灑器,以及用於噴灑冷卻水在面板上之一冷卻水噴灑器。
從蒸氣噴灑器所噴灑出之蒸氣的溫度可介於50°C至100°C之間。從冷卻水噴灑器所噴灑出之冷卻水的溫度可介於0°C至20°C之間。
清潔頭可進一步包含一清潔液噴灑器,一帶式清潔器,以及一刷子中的至少一種。
本發明之用於面板之清潔系統可更包含一水槽,其中蒸氣噴灑器可連接至水槽,且蒸氣噴灑器可包含用於從水槽抽取水之一抽水器,用於加熱供應自抽水器之水以產生蒸氣的一加熱裝置,以及用於噴灑蒸氣之一蒸氣噴嘴。
用於面板之清潔系統可更包含用於施予空氣至面板之一空氣噴灑器。
空氣噴灑器可包含用於射出空氣之一葉片,且空氣可透過空氣噴灑用之葉片而噴灑出。
該面板可為一顯示面板。該顯示面板可為一有機發光二極體顯示面板。
本發明之另一例示性實施例係提供一種用於面板之清潔方法,其包含:裝載面板在一面板支撐件上;噴灑蒸氣在面板上;在噴灑蒸氣後噴灑冷卻水在面板上;以及使用一清潔構件處理面板。
在執行蒸氣之噴灑後可連續地執行冷卻水之噴灑。
在蒸氣之噴灑中所噴灑之蒸氣的溫度可控制於50°C至100°C之間。在蒸氣之噴灑中所噴灑之蒸氣的噴灑時間可控制於1秒至20秒之間。
在冷卻水之噴灑中所噴灑之冷卻水的溫度可控制於0°C至20°C之間。在冷卻水之噴灑中所噴灑之冷卻水的噴灑時間可控制於1秒至10秒之間。在冷卻水之噴灑中所噴灑之冷卻水的噴灑壓力係介於0.5 kgf/ cm2至1.5 kgf/ cm2之間。
使用清潔構件處理面板可包含噴灑一清潔液、使用一帶式清潔器進行帶式清潔、使用一刷子進行刷洗或其組合。
清潔方法可更包含噴灑空氣在該面板上。該空氣可透過空氣噴灑用之葉片噴灑而噴灑出。
該面板可為一顯示面板。該顯示面板可為一有機發光二極體顯示面板。
根據本發明的例示性實施例,待清潔的異物係首先以蒸氣處理,然後冷卻。當異物蒸氣處理而膨脹,則立即冷卻,且快速冷卻,可減弱該異物之釋放力量以及堅硬程度,使得該異物在隨後附加的清潔流程中可容易地被移除。在僅執行蒸氣進行清潔之例子中雖可清潔異物,但是會出現異物斑點。然而,根據本文所提出之方法,可執行清潔且不會出現異物斑點。
前述摘要係僅用於說明而非為任何限制性者。除了上述說明性質的態樣、實施例與特徵之外,進一步的態樣、實施例與特徵將藉由參考附圖及下列詳細說明而更清楚瞭解。
100...面板
101...異物
200...面板支撐件
300...清潔頭
400...蒸氣噴灑器
401...蒸氣
410...抽水器
420...加熱裝置
430...蒸氣噴嘴
440...水腔室
500...冷卻水噴灑器
501...冷卻水
610...帶式清潔器
620...預先淋水器
630...滾筒刷
640...清洗部件
650...空氣噴灑器
700...水槽
S10~S90...步驟流程
第1圖係顯示根據本發明之例示性實施例之用於面板之清潔系統的示意圖,其係示意地顯示藉由使用該清潔系統以清潔一顯示面板。
第2圖係顯示根據本發明之例示性實施例之在面板噴灑蒸氣後讓附著在面板之異物膨脹且接著噴灑冷卻水後使該異物冷凝而造成相變之示意圖。
第3圖係顯示根據本發明之例示性實施例之清潔系統中之清潔頭之配置示意圖。
第4圖係顯示根據本發明之例示性實施例之清潔流程之流程圖。
第5圖係顯示根據本發明之例示性實施例之用於面板之清潔系統之示意圖。
第2圖係顯示根據本發明之例示性實施例之在面板噴灑蒸氣後讓附著在面板之異物膨脹且接著噴灑冷卻水後使該異物冷凝而造成相變之示意圖。
第3圖係顯示根據本發明之例示性實施例之清潔系統中之清潔頭之配置示意圖。
第4圖係顯示根據本發明之例示性實施例之清潔流程之流程圖。
第5圖係顯示根據本發明之例示性實施例之用於面板之清潔系統之示意圖。
下文中,將參考附圖來詳細描述本發明之實施例。然而,本發明之範疇並不限於下列的例示性實施例以及圖式。
作為參考之用,為了容易的理解,該附圖中之個別的元件以及形狀係大略地繪製或誇張地繪製。而圖式中執行相同或相似功能的元件係以相同的參考標號來表示。
第1圖係大略地繪示本發明之例示性實施例之用於面板的清潔系統之結構。
下文中,為統一描述,用於實現本發明之例示性實施例之細節將根據用於作為面板用之顯示面板的清潔系統以及清潔方法來描述。
根據第1圖中所示之例示性實施例,用於面板的清潔系統包含面板支撐件200,其上係裝載有面板100,以及清潔頭300,其設置在面板支撐件200上。清潔頭300包含用於噴灑蒸氣401之蒸氣噴灑器400以及用於噴灑冷卻水501之冷卻水噴灑器500。在第1圖所示之例示性實施例中,除了蒸氣噴灑器400以及冷卻水噴灑器500,清潔頭300進一步包含帶式清潔器610。
蒸氣噴灑器400係用於噴灑蒸氣401到面板上的裝置。藉由暴露於蒸氣中,使得附著在面板上的異物可暫時地膨脹或經歷相變。
水係用於供應蒸氣噴灑器中的蒸氣。在所用之水中,特別的是可使用去離子水( DI water)。另一實施例中,可使用水混合清潔材料所製成之蒸氣,例如也可使用蒸發清潔液所製成之蒸氣,其中該清潔液係以表面活化劑以及化學清潔劑作為清潔材料而與水混合。
用於面板之清潔系統係包含水槽(未顯示),其儲存清潔所需的水。
如第5圖所示,蒸氣噴灑器400係連接水槽700,並可包含用於噴灑蒸氣之蒸氣噴嘴430。詳細地說,蒸氣噴灑器400可包含抽水器410,用以從水槽抽水以供給水至蒸氣噴灑器400;加熱裝置420,用以加熱從抽水器410供應的水以形成蒸氣;以及蒸氣噴嘴430,用於噴灑蒸氣。此外,蒸氣噴灑器400可包含水腔室(water chamber)440,用以加熱水以產生蒸氣並供給該蒸氣至蒸氣噴嘴430。
該蒸氣係透過蒸氣噴嘴430而噴灑在裝載於面板支撐件200上的面板100上。
蒸氣噴灑器400可進一步包含壓力控制器(未顯示),用於控制蒸氣之壓力。壓力控制器之範例中,可使用用於控制蒸氣壓力之壓力控制器,而該蒸氣係藉由供應空氣而從蒸氣噴嘴噴出。在用於面板之清潔系統之例示性實施例中,該蒸氣之噴灑壓力為1巴(bar)或更低。
蒸氣噴灑器400係連接分開的控制單元(未顯示),以控制蒸氣的噴灑時間。例如,可包含可控制蒸氣噴嘴430之開關之控制單元,以控制蒸氣噴嘴430之開關,從而控制蒸氣之噴灑時間。
蒸氣之噴灑時間可根據異物之種類以及面板之種類而變化,而蒸氣係於一時段來噴灑,其中該期段中附著在面板之異物能充分地膨脹或造成相變。因為相變的程度係根據每異物之種類而不同,所以蒸氣之噴灑時間可依需求而分別控制。在例示性實施例中,係以顯示面板作為面板之範例,但是考量附著在顯示面板之一般異物之特性,蒸氣之噴灑時間可為大約1秒至20秒。
蒸氣噴灑器400可以進一步包含用於測量蒸氣溫度之溫度測量構件以及用於控制蒸氣溫度之溫度控制單元。例如,溫度控制單元係連接至溫度測量構件以量測出蒸氣溫度以及可控制加熱裝置來控制蒸氣溫度。
蒸氣溫度可根據異物之種類而變化,並且可能為能讓異物產生相變以及膨脹的溫度。因為相變的溫度根據每一異物之種類而變化,蒸氣溫度可依需求而控制。根據本發明之例示性實施例,從蒸氣噴灑器噴灑出的蒸氣溫度可為50°C至100°C。考量附著在面板之異物的種類,狀態,以及其他相似參數,熟悉此領域之通常知識者可在該溫度範圍內控制蒸氣溫度。
冷卻水噴灑器500係在面板上曾有蒸氣噴灑之處噴灑冷卻水501的裝置,以冷卻被蒸氣加熱之異物,此即為清潔目的。透過添加冷卻水,來冷卻被蒸氣噴灑而膨脹或相位改變之異物,使其冷凝致使與面板之間的耦合力量減弱。
冷卻水噴灑器500與蒸氣噴灑器400設置在一起,使蒸氣噴灑至面板後冷卻水可立即噴灑,因此被蒸氣加熱而膨脹或相位改變的異物係冷卻。
從冷卻水噴灑器500噴灑出低溫的水。換言之,從冷卻水噴灑器500排出的冷卻水501之溫度係低於從蒸氣噴灑器400排出的蒸氣401之溫度。在所使用的水中,特別的是,可使用去離子水(DI water)。同時,可使用與另一個清潔材料混合的水,例如清潔液,其係以表面活化劑以及化學清潔劑作為清潔材料與水混合。
雖然未顯示在第1圖中,冷卻水噴灑器500係連接至儲存水之水槽,且可包含用於噴灑冷卻水之冷卻水噴嘴。冷卻水噴灑器500可包含用於從水槽抽水之抽水器。
如此,冷卻水噴灑器500以及蒸氣噴灑器400可連接至相同的水槽。從水槽抽水後,僅供應至蒸氣噴灑器的水被加熱製成蒸氣。
冷卻水噴灑器500可進一步包含用於控制冷卻水之噴灑壓力的壓力控制裝置(未顯示)。壓力控制裝置之範例中,可使用用於控制抽水器之裝置,其係供應水槽的水至噴嘴,以控制抽水壓力。
根據例示性實施例之用於面板的清潔系統中,冷卻水之噴灑壓力可在0.5 kgf/cm2至1.5 kgf/cm2之範圍內。
冷卻水噴灑器500可包含控制單元(未顯示),以控制冷卻水之噴灑時間。例如,可包含控制冷卻水噴嘴之開關的控制單元,以控制冷卻水噴嘴的開關,從而控制冷卻水的噴灑時間。
冷卻水之噴灑時間可根據異物之種類與面板之種類而改變,且冷卻水係噴灑一時段,在此時段中已膨脹或已相位變化的異物可充分地冷凝。冷卻水之噴灑時間可根據異物之種類與面板之種類而分別地控制。在此例示性實施例中,係以顯示面板作為面板之態樣,但是考量到附著在顯示面板上的一般異物之特性,冷卻水之噴灑時間可為大約1秒至10秒。
冷卻水噴灑器500可進一步包含用於測量冷卻水之溫度的溫度測量構件。冷卻水噴灑器500可進一步包含用於避免冷卻水之溫度上升的隔熱構件,或是用於維持冷卻水之溫度在一預設溫度或更低溫度的冷卻構件。
從冷卻水噴灑器500噴灑出的冷卻水之溫度可根據異物之種類而變化,且冷卻水之溫度係為可冷卻已相位改變或已膨脹之異物的溫度。根據本發明之例示性實施例,從冷卻水噴灑器500所噴灑出的冷卻水之溫度可為0°C至20°C。考量附著在面板之異物之種類,狀態,以及其他相似因素,熟悉此領域之通常知識者可在該溫度範圍內控制冷卻水之溫度。
在第1圖所示之實施例中,除了蒸氣噴灑器400以及冷卻水噴灑器500之外,清潔頭300更包含帶式清潔器610。
詳言之,除了蒸氣噴灑器400以及冷卻水噴灑器500之外,清潔頭300可以進一步包含清潔液噴灑器、帶式清潔器以及刷子之中的至少其一,舉例而言,第1圖中所示之用於面板之清潔系統係包含帶式清潔器610。
帶式清潔器610係使用帶式螺旋圓筒以磨光該面板之表面來執行清潔。帶式清潔器係稱為“拋光帶部件”。帶式清潔器可為此技術領域中常用來清潔的任一拋光帶。
雖然未顯示於圖示中,但清潔頭300可包含清潔液噴灑器。舉例而言,清潔液噴灑器可設置在帶式清潔器610內部或外部,並且可與帶式清潔器610分開設置。當帶式清潔器610執行帶式清潔時,清潔液噴灑器可噴灑清潔液在面板上。透過噴灑清潔液在面板上可提升帶式清潔之效率。在帶式清潔器610執行帶式清潔之前可立即噴灑清潔液。
第2圖係大略地顯示於蒸氣噴灑在面板上之後,使附著在面板100的異物101膨脹,然後藉由噴灑冷卻水而冷凝,以造成相變。
如第2圖所示,當異物101附著於面板100時,一般的清潔流程不容易完全地移除附著的異物。因此,在本發明之例示性實施例中,藉由施予蒸氣401至附著在面板100之表面的異物101而使得異物101膨脹。在此案子中,施予蒸氣401使得異物101之溫度提升至異物101的玻璃轉化溫度。
接著,異物101係因為暴露在冷卻水噴灑器500所排出的冷卻水501而冷凝。如上所述,當異物101因蒸氣401之高溫而膨脹後,然後被冷卻水501所凝縮,由於異物之性質改變或表面張力減弱,因此可在一般的清潔流程可能造成痕跡之情況下不著痕跡的移除異物。
第3圖係顯示根據本發明之另一例示性實施例之用於面板之清潔系統中之清潔頭300的配置。
在第3圖所示之例示性實施例中,清潔頭300包含蒸氣噴灑器400、冷卻水噴灑器500、帶式清潔器610、預先淋水器620、滾筒刷630、清洗部件640以及空氣噴灑器(或葉片)650。
雖然未顯示於圖示中,清潔頭300可包含清潔液噴灑器。清潔液噴灑器係連接冷卻水噴灑器500、帶式清潔器610、預先淋水器620或滾筒刷630,當冷卻水噴灑器500、帶式清潔器610、預先淋水器620、或滾筒刷630運作時,清潔液噴灑器係噴灑清潔液在面板上。
藉由清潔液噴灑器在面板上噴灑清潔液可提升清潔效率。從清潔液噴灑器排出的清潔液可為清潔材料混合溶劑而製成之清潔液。該溶劑可以是水或其他溶劑。清潔材料可為此技術領域中所熟知的材料。清潔材料之種類不以此為限制,且可包含液體清潔材料以及固體清潔材料。熟悉此領域之通常知識者可視需求選擇以及使用適當的清潔材料。
蒸氣噴灑器400、冷卻水噴灑器500以及帶式清潔器610係與第1圖所示之例示性實施例中所描述的相同。
預先淋水器620係於帶式清潔完成後供應水或清潔液至面板的部件。
滾筒刷630係包含刷子的部件,且為使用滾筒式刷子來清潔面板的部件。當使用包含於滾筒刷630中的滾筒式刷子來清潔面板時,清潔液或水可持續地施予面板。
當面板由滾筒刷630進行清潔時,清洗部件640係為藉由供應乾淨的水至面板來清潔面板之部件。在此例示性實施例中,清洗可為清潔的最後步驟。
空氣噴灑器650係為於清洗流程之後施予空氣至面板上之部件。空氣噴灑器650也可稱為乾燥部件,其係使用空氣來乾燥面板的部件。
根據本發明之例示性實施例,空氣噴灑器650可包含用於射出空氣之葉片,且空氣可透過葉片噴灑來進行空氣噴灑。
本發明之例示性實施例之清潔系統具有清潔顯示面板之優點。因此,在此例示性實施例中,面板可為顯示面板。根據本發明之實施例之清潔系統係有助於有機發光二極體顯示面板之清潔。因此,根據例示性實施例之顯示面板可為有機發光二極體顯示面板。
第1圖係大略地顯示本發明之例示性實施例中使用清潔系統來清潔顯示面板之流程。
第1圖中所示之面板的清潔方法包含:裝載待清潔之面板100在面板支撐件200上,噴灑蒸氣在面板100上,噴灑冷卻水在面板100上被施予蒸氣的地方,以及使用清潔構件來處理面板100。在此之使用清潔構件來處理面板之示例係包含有使用帶式清潔器610來清潔帶狀體。
在本發明之例示性實施例之使用清潔系統來執行清潔之例子中,當執行清潔時,裝載有面板100之面板支撐件200,或是清潔頭300之任一係在一預設方向上移動。或者,面板支撐件200以及清潔頭300係在彼此相反的方向上移動。
下文中,在本發明之例示性實施例中,如第1圖之箭頭所示,當執行清潔時,清潔頭300係固定的在一位置而面板支撐件200係從左邊向右邊移動,此情形將作為一舉例來說明。
下文中,在本發明之例示性實施例中,係以清潔作為面板之顯示面板作為實施例,以下將以清潔有機發光二極體顯示器之面板之情形做為實施例來說明。
請參閱第1圖,雖然未顯示在第1圖中,在待清潔之面板100裝載在面板支撐件200上之後,係首先執行蒸氣之噴灑。
蒸氣噴灑係由蒸氣噴灑器400來執行。附著在面板的異物可藉由從蒸氣噴灑器400射出的蒸氣401而暫時地膨脹或經歷相變。
在蒸氣之噴灑中,係使用藉由加熱水而取得的蒸氣。特別地,所使用的水可使用去離子水(DI water)。同時,可使用有混合一般清潔材料的水所製成的蒸氣,例如,也可以使用蒸發清潔液所製成的蒸氣,該清潔液係以表面活化劑以及化學清潔劑作為清潔材料再與水混合。
在例示性實施例之清潔中,蒸氣之噴灑壓力可為1巴(bar)或更少,而蒸氣之噴灑時間可為大約1秒至20秒。
噴灑在面板上之蒸氣的溫度係控制在50°C至100°C之間。
在噴灑蒸氣之後,執行噴灑冷卻水在面板上。
噴灑冷卻水係用以冷卻面板之異物的步驟,其中該異物係藉由蒸氣而加熱。亦即,藉由蒸氣噴灑而膨脹或相位改變之該異物係藉由冷卻水而冷卻與凝縮,使其與面板之間的耦合力量減弱。
在蒸氣噴灑之後係立即執行噴灑冷卻水。亦即,連續執行流程,在蒸氣噴灑後係立即噴灑冷卻水在面板上,如此,藉由蒸氣加熱而膨脹或相位改變的異物係冷卻。
在冷卻水噴灑之步驟中係噴灑相對低溫的水。特別地,所使用的水可使用去離子水。同時,可使用有混合一般清潔材料的水所製成的蒸氣,例如,也可以使用蒸發清潔液所製成的蒸氣,該清潔液係以表面活化劑以及化學清潔劑作為清潔材料再與水混合。
根據例示性實施例之清潔方法中,冷卻水能充分冷卻附著在面板上之異物,且冷卻水係以不會損害面板之壓力噴灑。考量此特性,冷卻水之噴灑壓力可在0.5 kgf/cm2至1.5 kgf/cm2之範圍內。
噴灑冷卻水直到已膨脹或相位改變的異物能充分地凝縮。可根據異物之種類以及面板之種類而分別控制冷卻水之噴灑時間。在此例示性實施例中,考量異物之特性,其係從作為面板之有機發光二極體顯示面板所產生,冷卻水之噴灑時間可為大約1秒至10秒。
從冷卻水噴灑器500噴灑的冷卻水之溫度可根據異物之種類而變化,且冷卻水之溫度係為可冷卻已膨脹或相位改變之異物的溫度。根據本發明的例示性實施例,從冷卻水噴灑器500噴灑之冷卻水的溫度可為0°C至20°C。考量附著在面板之異物的種類,狀態,以及其他因素,熟悉此領域之技術者可在該溫度範圍內控制冷卻水之溫度。
於使用該清潔系統來處理面板時,第1圖所示之清潔包含使用帶式清潔器610的帶式清潔。
詳言之,於使用該清潔系統來處理面板時,根據例示性實施例之面板清潔方法可包含噴灑清潔液,使用帶式清潔器之帶式清潔,以及使用刷子之刷洗中的至少其一,且根據第1圖所示之例示性實施例,面板之清潔方法包含使用清潔頭300中的帶式清潔器610的帶式清潔。
帶式清潔係使用帶式清潔器610中的帶式螺旋圓筒來磨光面板表面來進行清潔。在帶式清潔中,可噴灑清潔液。亦即,帶式清潔可與清潔液之噴灑一起執行。當執行帶式清潔時,清潔液可連續地噴灑或在帶式清潔之前噴灑。
第4圖顯示根據本發明的另一實施例之面板清潔方法之各個階段的流程圖。
第4圖所示之例示性實施例之清潔方法包含裝載待清潔的面板100在面板支撐件200上(步驟S10),使用蒸氣噴灑器400噴灑蒸氣401在面板100上(步驟S20),噴灑冷卻水501在面板被蒸氣噴灑的位置上,以冷卻面板100(步驟S30),帶式清潔(步驟S40),其可包含使用帶狀體來清潔面板,預先淋水(步驟S50),其可包含供應水或清潔液至面板以清洗該面板,使用滾筒式刷子之滾動刷洗(步驟S60),清洗(步驟 S70),乾燥(步驟S80),以及從面板支撐件200卸下已乾燥的面板(步驟S90)。
裝載(步驟S10)、蒸氣(步驟S20)、冷卻(步驟S30)以及帶式清潔(S40)係與第1圖所示之清潔方法之描述相同。
預先淋水(步驟S50)係在帶式清潔完成後供應水或清潔液至面板的步驟。亦即,在滾動刷洗之前,預先施予水或清潔液至面板。
滾動刷洗(步驟S60)即使用刷子進行刷洗。在例示性實施例中,滾動刷洗( S60)係使用滾筒刷630來清潔面板之步驟,其中滾筒刷630為第3圖所示之滾筒式刷子。在滾動刷洗期間,清潔液或水可連續施予至面板。
清洗(步驟S70)係藉由供應乾淨的水至經過滾動刷洗(S60)清潔之面板來清潔面板之步驟。清洗(S70)實質上即為清潔的最後步驟。
乾燥(步驟S80)係藉由使用空氣噴灑器650噴灑空氣至經過清洗(步驟S70)的面板的乾襙步驟。使用空氣噴灑器650之乾燥也可稱為空氣冷卻乾燥。空氣噴灑器650包含用於噴灑空氣之葉片,且空氣係透過用於噴灑空氣之葉片而噴灑出。
卸下(步驟S90)係從面板支撐件200上分離透過乾燥(S80)而已乾燥的面板的步驟。附加處理之其他流程可在完成清潔且已分離之面板上執行。
如上所述,本發明之用於面板的清潔系統之例示性實施例以及清潔方法之例示性實施例係已描述。各例示性實施例僅為用於描述本發明之範例,而本發明的範圍並不限於上述的實施例以及圖式。
承上,雖然本發明已參照其例示性實施例而特別地顯示及描述,將為所屬技術領域具通常知識者所理解的是,於不脫離以下申請專利範圍及其等效物所定義之本發明之精神與範疇下可對其進行形式與細節上之各種變更。
S10~S90...步驟流程
Claims (20)
- 一種用於面板之清潔系統,其包含﹕
一面板支撐件,一面板係裝載於該面板支撐件上;以及
一清潔頭,係設置該面板支撐件之上,該清潔頭包含:
一蒸氣噴灑器,係用以噴灑一蒸氣在該面板上;以及
一冷卻水噴灑器,係用以噴灑一冷卻水在該面板上。 - 如申請專利範圍第1項所述之用於面板之清潔系統,其中從該蒸氣噴灑器噴灑出的該蒸氣之一溫度係介於50°C至100°C之間。
- 如申請專利範圍第1項所述之用於面板之清潔系統,其中從該冷卻水噴灑器噴灑出的該冷卻水之一溫度係介於0°C至20°C之間。
- 如申請專利範圍第1項所述之用於面板之清潔系統,其中該清潔頭進一步包含一清潔液噴灑器、一帶式清潔器以及一刷子中的至少其一。
- 如申請專利範圍第1項所述之用於面板之清潔系統,更包含:
一水槽,係連接至該蒸氣噴灑器,該蒸氣噴灑器包含:
一抽水器,係用以從該水槽抽取水;
一加熱裝置,係用以對從該抽水器供應之水加熱以產生該蒸氣;以及
一蒸氣噴嘴,係用以噴灑該蒸氣。 - 如申請專利範圍第1項所述之用於面板之清潔系統,更包含一空氣噴灑器,係用以施予空氣至該面板。
- 如申請專利範圍第6項所述之用於面板之清潔系統,其中該空氣噴灑器包含一葉片以射出該空氣。
- 如申請專利範圍第1項所述之用於面板之清潔系統,其中該面板係一顯示面板。
- 如申請專利範圍第8項所述之用於面板之清潔系統,其中該顯示面板係一有機發光二極體顯示面板。
- 一種面板之清潔方法,其包含下列步驟﹕
裝載該面板在一面板支撐件上;
噴灑一蒸氣在該面板上;
在噴灑該蒸氣後噴灑冷卻水在該面板上; 以及
使用一清潔構件處理該面板。 - 如申請專利範圍第10項所述之面板之清潔方法,其中在執行該蒸氣之噴灑後連續地執行該冷卻水之噴灑。
- 如申請專利範圍第10項所述之面板之清潔方法,其中在該蒸氣之噴灑中所噴灑之該蒸氣之一溫度係介於50°C至100°C之間。
- 如申請專利範圍第10項所述之面板之清潔方法,其中在該蒸氣之噴灑中所噴灑之該蒸氣之一噴灑時間係介於1秒至20秒之間。
- 如申請專利範圍第10項所述之面板之清潔方法,其中在該冷卻水之噴灑中所噴灑之該冷卻水之一溫度係介於0°C至20°C之間。
- 如申請專利範圍第10項所述之面板之清潔方法,其中在該冷卻水之噴灑中所噴灑之該冷卻水之一噴灑時間係介於1秒至10秒之間。
- 如申請專利範圍第10項所述之面板之清潔方法,其中在該冷卻水之噴灑中所噴灑之該冷卻水之一噴灑壓力係介於0.5 kgf/cm2至1.5 kgf/cm2之間。
- 如申請專利範圍第10項所述之面板之清潔方法,其中使用該清潔構件處理該面板係包含從噴灑一清潔液、使用一帶式清潔器進行帶式清潔、使用一刷子進行刷洗以及其結合所組成的群組中選擇出的方法。
- 如申請專利範圍第10項所述之面板之清潔方法,更包含:
噴灑空氣在該面板上。 - 如申請專利範圍第10項所述之面板之清潔方法,其中該面板係一顯示面板。
- 如申請專利範圍第19項所述之面板之清潔方法,其中該顯示面板係一有機發光二極體顯示面板。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020120022137A KR20130101193A (ko) | 2012-03-05 | 2012-03-05 | 패널의 세정장치 및 세정방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201336594A true TW201336594A (zh) | 2013-09-16 |
Family
ID=49042114
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW101142721A TW201336594A (zh) | 2012-03-05 | 2012-11-16 | 清潔面板之系統及方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20130228195A1 (zh) |
KR (1) | KR20130101193A (zh) |
CN (1) | CN103286087A (zh) |
TW (1) | TW201336594A (zh) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101537337B1 (ko) * | 2014-01-02 | 2015-07-21 | 주식회사 대신이씨엠 | Ir 파장 선택이 가능한 건조장치 |
CN105691755B (zh) * | 2015-04-29 | 2017-10-27 | 江苏食品药品职业技术学院 | 一种具有喷汽装置的罐头自动擦罐机 |
WO2017019071A1 (en) | 2015-07-29 | 2017-02-02 | Hewlett-Packard Indigo, B.V. | Cleaning of a surface in a printing device |
CN107580528B (zh) * | 2015-07-29 | 2021-07-27 | 惠普深蓝有限责任公司 | 用于清洁打印设备中的表面的装置和方法 |
CN106041331B (zh) * | 2016-06-21 | 2018-10-02 | 昆山国显光电有限公司 | 一种oled基板冷却*** |
CN106238375A (zh) * | 2016-07-26 | 2016-12-21 | 汕头市洁能电器科技有限公司 | 高压蒸汽清洗机 |
CN108176679A (zh) * | 2017-12-28 | 2018-06-19 | 深圳市鑫承诺环保产业股份有限公司 | 一种金属薄膜在线清洗方法 |
IT201800002017U1 (it) * | 2018-03-05 | 2019-09-05 | Macchina per la sanificazione di carrelli di supermercato | |
CN209363167U (zh) * | 2019-01-09 | 2019-09-10 | 昆山国显光电有限公司 | 清洗设备 |
WO2021056490A1 (zh) * | 2019-09-28 | 2021-04-01 | 赣州市同兴达电子科技有限公司 | 一种液晶面板高效清洗装置 |
CN111627351B (zh) * | 2020-06-30 | 2022-04-19 | 张延忠 | 一种具有自清洗功能的高散热led广告牌 |
CN112071220B (zh) * | 2020-09-22 | 2021-06-22 | 安徽中健三维科技有限公司 | 一种循环水冷降温清洗led屏幕装置 |
CN114501945B (zh) * | 2022-01-26 | 2022-10-25 | 华南理工大学 | 一种服务器用喷雾液冷相变模组、控制方法及其制作方法 |
CN114939582A (zh) * | 2022-04-28 | 2022-08-26 | 吴世娟 | 一种循环水冷降温清洗led屏幕装置 |
CN115055427B (zh) * | 2022-06-13 | 2023-08-04 | 江西金屹有色金属有限公司 | 一种镀锡铜线外层蒸汽清洗装置 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5752532A (en) * | 1995-08-17 | 1998-05-19 | Schwenkler; Robert S. | Method for the precision cleaning and drying surfaces |
US7163588B2 (en) * | 1997-05-09 | 2007-01-16 | Semitool, Inc. | Processing a workpiece using water, a base, and ozone |
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US6610168B1 (en) * | 1999-08-12 | 2003-08-26 | Sipec Corporation | Resist film removal apparatus and resist film removal method |
JP4942263B2 (ja) * | 2001-08-31 | 2012-05-30 | ラムリサーチ株式会社 | 洗浄装置 |
JP2005259743A (ja) * | 2004-03-09 | 2005-09-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レジスト剥離装置およびそれを用いたレジスト剥離方法、半導体装置の製造方法 |
US6878215B1 (en) * | 2004-05-27 | 2005-04-12 | General Electric Company | Chemical removal of a metal oxide coating from a superalloy article |
JP2005347587A (ja) * | 2004-06-04 | 2005-12-15 | Sony Corp | ドライエッチング後の洗浄液組成物および半導体装置の製造方法 |
CN1891358A (zh) * | 2005-06-27 | 2007-01-10 | 岛田理化工业株式会社 | 基板清洗装置及基板清洗方法 |
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-
2012
- 2012-03-05 KR KR1020120022137A patent/KR20130101193A/ko not_active Application Discontinuation
- 2012-11-09 CN CN2012104473429A patent/CN103286087A/zh active Pending
- 2012-11-16 TW TW101142721A patent/TW201336594A/zh unknown
-
2013
- 2013-01-16 US US13/742,493 patent/US20130228195A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20130228195A1 (en) | 2013-09-05 |
CN103286087A (zh) | 2013-09-11 |
KR20130101193A (ko) | 2013-09-13 |
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