TW201239141A - Aluminium productor and method for making same - Google Patents

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Description

201239141 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 [0001] 本發明涉及一種鋁製品及其製備方法。 【先前技術】 _2] Μ舰技術（PVD)係-個非常環保的朗技術。以真 空鑛膜的方式所减賴層具有高硬度、高耐磨性、良 好的化學穩定性、與基體結合牢固以及亮麗的金屬外觀 等優點’因此真空鑛膜在紹、銘合金及不錢鋼等金屬基 ^ 材表面裝飾性處理領域的應用越來越廣。 [0003] 然而，由於鋁或鋁合金的標準電極電位很低，且pVD裝飾 性塗層本身不可避免的會存在微小的孔隙’因此，直接 於鋁或鋁合金基體表面錢覆諸如TiN層、TiN〇層、TiCN 層、CrN層、Cr_ iCN層或其他具有耐腐㈣的pVD 裝飾性塗層，亦不能有效防止所述鋁或鋁合金基體發生 電化學腐蝕，同時該PVD裝飾性塗層本身亦會發生異色、 脫落等現象。 V 【發明内容】 [0004] 有鑒於此，有必要提供一種具有良好的耐腐蝕性及裝飾 性外觀的鋁製品。 [0005] 另外，有必要提供一種上述鋁製品的製備方法。 [0006] 一種鋁製品’包括銘基體、依次形成於該鋁基體上的陽 極氧化膜及顏色層’該鋁基體包括經電化學蝕刻形成的 多孔表面，該多孔表面分佈有複數奈米孔，該奈米孔的 孔徑為8-20nm ;該陽極氧化膜及顏色層依次形成於該多 100111741 表單編號A0101 第3頁/共11頁 1002019646-0 201239141 孔表面上，遠顏色層藉由真空鍍膜的方式形成。 [0007] 一種鋁製品的製備方法，包括如下步驟： [0008] 提供銘基體； [0009] [0010] [0011] [0012] [0013] [0014] 100111741 藉由電化學關處理，使該叙基體形成多孔表面，該多 孔表面分佈有複數奈米孔，該奈米孔的孔徑為8 20nm; 藉由陽極氧化處理’以於該多孔表面形成陽極氧化膜； 藉由真空賴的方法，於該陽極氧化膜上形成顏色層。 所述銘製品先藉由電化學餘刻於減材上形成具有複數 奈米孔的多孔表面’再於該多孔表面上依次形成陽極氧 化膜及顏色層。所述複數奈米孔的形成可提高後續形成 於铭基體的陽極氧化膜及顏色層_著力。t所述㈣ =處於腐綠介質㈣，由於所述陽極氧化膜隔絕了铭 =與顏色層’㈣製品難以形成發生電化學腐姑所需 要的陰極與陽極，從而提高了㈣品㈣腐歸。所述 銘製品耐腐祕及顏色層的附著力提高的同時，還可避 所述顏色層發生異色、脫落等失效現象，從而使該铭 製品經長相使用後仍具有較好的裝飾性外觀。 【實施方式】 凊參閱圖1及圖2，本發明較佳實施例_製品⑽包括銘 基體10及依次形成於鋁基體10上的陽極氧化膜20及顏色 層30。該鋁製品100可為3C電子產品的殼體亦町為眼 邊忙建築用件及汽車等交通卫具的零部件等。 所述鋁基體1〇的材料為鋁或鋁合金。該鋁基體1〇經電化 鏡 表單坞號A0101 第4頁/共1丨頁 100201^ 201239141 學ϋ刻形成有一多孔表面12，該多孔表面i2上均勻分佈 有複數奈米孔122。所述奈米孔122的孔徑為8_20nm，較 佳為l〇-15nm。所述奈来孔122的深度遠小於所述顏色層 30的厚度。 [0015] 所述陽極氧化膜20形成於鋁基體1〇的多孔表面12上。該 1%極乳化膜20藉由陽極氧化處理得到。該陽極氡化膜的 厚度為5-20//m ’較佳為iO-lS/zm。 [0016] G 所述顏色層30藉由真空鍵膜的方式形成於陽極氧化膜2〇 的表面上。所述顏色層3〇的厚度為〇5_2_。所述顏色 層 30可為TiN層、TiNO層、TiCN層、CrN層、CrN〇層、 CrCN層或其他具有耐腐蝕性的裝飾性膜層。 [0017] 上述鋁製品100的製備方法，包括如下步驟： [0018] 首先，提供鋁基體1〇，該鋁基體1〇的材料為鋁或鋁合金 。該鋁基體1 0可以藉由沖壓成型得到。 [0019] G 對鋁基體10進行除油處理，將鋁基體10依次置於去離子 水及純度大於99.9%的丙酮中進行超聲波清洗3_5〇14。 清洗後將該鋁基體1〇乾燥備用。 [0020] 對經上述處理後的鋁基體進行鹼蚀處理，以去除鋁基 體10表面的氧化膜，同時使該鋁基體1〇表面變得平整。 該鹼蝕處理的條件為：以含有3〇-5〇g/L的氫氧化鈉和 卜2g/L的葡萄糖酸鈉的水溶液為鹼蝕液，所述鹼蝕液β 度為40-60°〇驗餘時間為1-5111丨11。 [0021] 對經鹼蝕處理的鋁基體1〇進行電化學蝕刻。該電化學蝕 100111741 表單編號Α0101 第5頁/共11頁 1002019646-0 201239141 刻的條件為：以含有250-35(3"丨的μ g几的硫酸、2〇-3〇g/L的 鹽酸及HOM/L的歧酸的水溶液為_液所 學蚀刻液的溫度為常溫，電化學_時間為5,min，電 流密度為6_1〇Α/‘。經上述電化學姓刻後形成具有所述 複數奈米孔122的多孔表面12。 [0022] [0023] [0024] [0025]
對經電化學_後的絲體1Q進行陽極氧化處理⑽ 該多孔表面12上形成陽極氧化膜2{)。該陽極氧化處理的 條件為：以含有180-220g/L的硫酸水溶液為電解液所 述電解液溫度為19-21°C，電解時間為2〇_4〇min，電流 密度為卜1.5A/m2。 "L 對該陽極氧化膜20進行封孔處理，以提高陽極氧化膜2〇 的耐腐㈣。該封孔處理的條件為：以5_1()^醋酸錄為 封孔液，該封孔液的溫度為9〇-10(rc，封孔時間為 10-15miη。 對經上述處理後的鋁基體10進行真空鍍膜處理以在該 陽極氧化膜20上形成顏色層3〇。該真空鍍膜方法可採用 濺鍍、蒸鍍或電弧電漿鍍。該步驟具體工藝可採用相應 方法的常規鍵膜工藝’鍍膜過程中藉由控韻膜時間來 控制顏色層30的厚度在所述範_，以紐使該顏色層 30呈現出預定的色彩。 製備所述紹製品100的方法還包括在除油、㈣及電化學 蝕刻後分別對鋁基體進行水洗的步驟。 本發明較佳實施方式的鋁製品100的製造方法，藉由電化 學蝕刻的方法於鋁基體10上形成具有複數奈米孔122的多 100111741 表單編號Α0101 第6頁/共11頁 1002019646-0 [0026] 201239141 孔表面12，再於該多孔表面12上依次形成陽極氧化膜2〇 及顏色層30。所述複數奈米孔122的形成可提高後續形成 於銘基體10的陽極氧化賴及顏色層3G的附著力。當所 述紹製品100處於腐钱性介質中時，由於所述陽極氧化膜 =了咖。與顏色層30,使”品m難以形成 二學:::需要的陰極與陽極，從而提高了銘製 的附著 Ο 、脫落等失效現象，從錢所相色層生異色 仍具有較好的裝飾性外觀。雜製品100經長時間使用後 【圖式簡單說明】 ❹ [0027] 圖1為本發明較佳實施例經電化 示意圖； [0028] 圖2為本發明較佳實 【主要元件符號說明】 [0029] 鋁製品：100 [0030] 鋁基體：10 [0031] 多孔表面：12 [0032] 奈米孔：122 [0033] 陽極氧化膜：20 [0034] 顏色層：30 的剖視示意 圖 100111741 表單編號A0101 第 頁/共11頁 1002019646-0

Claims (1)

  1. 201239141 七、申請專利範圍： 1 . 品’包括域肢形成於脑絲上的顏色層， 該顏色層藉由真空鍍膜的方式形成，其改良在於：該銘基 體包括經電化學钱刻形成的多孔表面，該多孔表面分佈有 複數π米孔’ 4奈米孔的孔徑為8 — 2〇nm ;該鋁製品還包 括形成於鋁基體與顏色層之間的陽極氧化膜，該陽極氡化 膜及顏色層依次形成於該多孔表面上。 2 ·如申清專利範圍第j項所述之銘製品其中所述陽極氧化 膜的厚度為5-20 Am。 3.如申請專利範圍第w所述之紹製品，其中所述顏色層的 尽度為0, 5 - 2 # m。 4 .—種鋁製品的製備方法，包括如下步驟： 提供鋁基體； 藉由電化學蝕刻處理，使該鋁基體形成多孔表面，該多孔 表面分佈有複數奈米孔，該奈米孔的孔徑為8_2〇nm ; 藉由陽極氧化處理，以於該多孔表面形成陽極氧化膜； 藉由真空鍍膜的方法，於該陽極氧化膜上形成顏色層。 5 .如申請專利範圍第4項所述之鋁製品的製備方法，其中所 述電化學蝕刻係以含有250-350g/L的硫酸、20-30g/L的 鹽酸及5-10的g/L的氫氟酸的水溶液為蝕刻液，蝕刻時間 為5-10min，電流密度為6_10A/dm2。 6 .如申請專利範圍第4項所述之鋁製品时製備方法其中所 逑陽極氧化處理以含有180 —220g/L的硫酸水溶液為電解 液，所述電解液溫度為19-21°C，電解時間為20-4〇min 電流迸度為1-1. 5A/m2。 100111741 表單編號A0101 第8頁/共11頁 1002019646- 201239141 7 .如申請專利範圍第4或6項所述之鋁製品的製備方法，其中 該鋁製品的製備方法還包括對該陽極氧化膜進行封孔處理 的步驟，該封孔處理以5-10g/L的醋酸鎳為封孔液，該封 孔液的溫度為90-1 00°C，封孔時間為10_15min。 8 .如申請專利範圍第4項所述之鋁製品的製備方法，其中該 鋁製品的製備方法還包括在所述化學蝕刻處理前，對鋁基 體進行預處理的步驟，該預處理包括對鋁基體除油及鹼蝕 處理。 9 .如申請專利範圍第8項所述之鋁製品的製備方法，其中所 〇 述鹼蝕係以含有30_50g/L的氫氧化鈉和1-2g/L的葡萄糖 酸納的水溶液為驗#液，所述驗触液溫度為40-60°C，驗 餘時間為1 - 5mi η。 100111741 表單編號 Α0101 第 9 頁/共 11 頁 1002019646-0
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Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102896431B (zh) * 2012-10-17 2014-10-15 山东电力集团公司电力科学研究院 一种避免夹渣的提高铝合金激光吸光率的激光焊接方法
CN102864478B (zh) * 2012-10-17 2015-02-25 马炳舵 一种铝制品表面处理工艺
CN104073800B (zh) * 2013-03-25 2017-11-28 联想(北京)有限公司 一种制造方法、壳体及电子设备
CN103276435B (zh) * 2013-05-21 2014-08-06 东莞劲胜精密组件股份有限公司 铝或铝合金表面微纳米加工方法及铝或铝合金结构
JP2015071826A (ja) * 2013-09-09 2015-04-16 日本ケミコン株式会社 アルミニウムの表面処理方法およびアルミニウム表面処理材
RU2569199C1 (ru) * 2014-06-10 2015-11-20 Федеральное государственное унитарное предприятие "Всероссийский научно-исследовательский институт авиационных материалов" (ФГУП "ВИАМ") Способ осаждения износостойкого покрытия на алюминиевые сплавы с высоким содержанием кремния
US10151021B2 (en) 2015-09-30 2018-12-11 Apple Inc. Durable cosmetic finishes for titanium surfaces
CN106702198B (zh) * 2016-12-22 2018-05-15 东南大学 一种铝介孔材料及其制备方法
US20190062885A1 (en) * 2017-08-29 2019-02-28 Facebook, Inc. Aluminum alloy having visible grains and aluminum alloy colored by double anodization
CN108893739A (zh) * 2018-06-27 2018-11-27 歌尔股份有限公司 铝合金材料及其制备方法
CN111334749A (zh) * 2018-12-19 2020-06-26 富智康精密电子（廊坊）有限公司 铝合金件的表面处理方法及铝制品
CN109913924B (zh) * 2019-03-15 2020-06-26 安徽华淮新材料有限公司 一种高硅铝合金压铸件阳极氧化方法
CN112342603B (zh) * 2019-08-09 2022-08-02 富联裕展科技(深圳)有限公司 金属制品和金属复合体，及其制备方法
US10842035B1 (en) * 2019-09-05 2020-11-17 Apple Inc. Nitrided titanium surfaces with a natural titanium color
CN112389033A (zh) * 2020-10-10 2021-02-23 厦门大学 一种用于电池封装的彩色铝塑膜及其制备方法
CN115341169A (zh) * 2021-05-14 2022-11-15 北京小米移动软件有限公司 表面处理方法

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB453042A (en) * 1934-12-31 1936-09-03 Mallory Patents Holding Compan Improvements in and relating to the etching of metals
US4346128A (en) * 1980-03-31 1982-08-24 The Boeing Company Tank process for plating aluminum substrates including porous aluminum castings
JPS58122724A (ja) * 1982-01-18 1983-07-21 Toshiba Corp 半導体素子の製造方法
JPS591699A (ja) * 1982-06-26 1984-01-07 Mitsubishi Alum Co Ltd アルミニウム又はアルミニウム合金の皮膜生成法
JP2627563B2 (ja) * 1989-09-18 1997-07-09 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版用支持体の製造方法
EP0802267B1 (de) * 1996-04-18 2000-01-05 Alusuisse Technology & Management AG Aluminiumoberfläche mit Interferenzfarben
DE10027932C2 (de) * 2000-05-31 2003-10-02 Infineon Technologies Ag Verfahren zur Bildung eines Kontaktlochs in einer Isolierschicht eines elektronischen oder mikroelektronischen Bauelements
DE20021660U1 (de) * 2000-12-20 2002-05-02 Alanod Aluminium Veredlung Gmb Verbundmaterial
DE20021657U1 (de) * 2000-12-20 2002-05-02 Alanod Aluminium Veredlung Gmb Abdeckteil für eine Lichtquelle
US6869671B1 (en) * 2002-06-03 2005-03-22 University Of Notre Dame Enabling nanostructured materials via multilayer thin film precursor and applications to biosensors
US6904935B2 (en) * 2002-12-18 2005-06-14 Masco Corporation Of Indiana Valve component with multiple surface layers
JP2005173120A (ja) * 2003-12-10 2005-06-30 Fuji Photo Film Co Ltd 低反射構造体および低反射構造体の作製方法
WO2006014753A1 (en) * 2004-07-23 2006-02-09 Sundew Technologies, Llp Capacitors with high energy storage density and low esr
US7442491B2 (en) * 2005-03-17 2008-10-28 Fujifilm Corporation Aluminum alloy blank for lithographic printing plate and support for lithographic printing plate
US7575611B2 (en) * 2006-08-09 2009-08-18 Ultracell Corporation Fuel processor for use in a fuel cell system
JP2008126151A (ja) * 2006-11-21 2008-06-05 Alumite Shokubai Kenkyusho:Kk 陽極酸化アルミニウム皮膜を用いた触媒体
JP2008140904A (ja) * 2006-11-30 2008-06-19 Nichicon Corp 電解コンデンサ用アルミニウム電極箔の製造方法
CN101210340B (zh) * 2006-12-30 2010-08-25 比亚迪股份有限公司 一种电化学蚀刻液及蚀刻方法
CN101676439A (zh) * 2008-09-18 2010-03-24 浙江帝龙新材料股份有限公司 铝带材连续阳极氧化自动生产线
JP2010271029A (ja) * 2009-04-23 2010-12-02 Sumitomo Heavy Ind Ltd 蓄冷式冷凍機、蓄冷式冷凍機用ロータリバルブの製造方法、および蓄冷式冷凍機の製造方法
JP5614960B2 (ja) * 2009-09-03 2014-10-29 東洋アルミニウム株式会社 折り曲げ強度が向上した多孔質アルミニウム材料及びその製造方法
KR101055501B1 (ko) * 2010-02-12 2011-08-08 삼성전기주식회사 인쇄회로기판 및 인쇄회로기판의 제조방법
KR101173060B1 (ko) * 2010-10-11 2012-08-13 현대자동차주식회사 연료전지용 금속분리판 및 그 표면처리방법

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