TW201235221A - Birefringent transfer foil - Google Patents

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201235221 • —»- -Γ 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關於-種具有由含有具有至少⑽反應性 基的液晶性化合物的組合物所形成的雙折射性層的雙折射 性轉印箔、及利用該雙折射性轉印箔而轉印有:含有具有 至少1個反應性基的液晶性化合物的組合物所形成的雙 射性層的物品。 【先前技術】 呈現雙折射性的膜近年來亦應用於對高級品牌商品或 代金券、商品券、㈣、翻卡、項轉件等實施特殊 的士面加工，尤其提出有將使用雙折射性圖案的圖像應用 於安全標籤（security label)(日本專利特開2〇〇1_633〇〇號 公報、日本專利特開2009_175208號公報）。雙折射性圖案 具有在不具有偏光性的通常光源下幾乎不可見，另一方面 藉由罩上偏光鏡而潛像（latent image )可見化的特殊性質， 不易複製。藉由將此種雙折射性難製成標籤並貼附在擔 憂會被偽造的物^上，視需要湘偏光鏡等進行確認 鑑別真品與偽造品。 西一:、、;、而即使“叙本身難以複製，但在可從真品上剝離 標織的情況下’仍有自真品上剝離標籤並轉貼在偽造品上 ^虞。作為其賴，現提出有將雙折射性圖案形成在轉印 v自上’再轉印至成為對象的物品上*使用（日本專利 2〇10:113249號公報於該情況下，由於雙折射性圖 以較薄的㈣形式存在，故而難以剝離，或容易被剝離力 4 201235221. 破壞，因此可防止轉貼。 在雙折射性圖案是源於液晶性化合物的配向而形成的 情況下，較期待如曰本專利特開2〇1〇_113249號公報中所 §己載般使用配向膜。為了製成薄膜或削減成本，先前研究 出使配向膜兼具保護層等其他層的功能，日本專利特開 2010-113249號公報中亦提及了兼作配向膜與保護層的情 况。另外，關於具有液晶層的轉印箔，亦有實際使用丙烯 酸（acrylic)製樹脂而兼作配向膜與保護層的例子（曰本 專利特開2010-105183號公報）。 【發明内容】 本發明的課題在於削減具有由含有具有至少】個反應 性基的液晶性化合物的組合物卿成的雙折射性層的雙折 ^性轉印H、尤其是上述雙折紐層為圖案化光學里向性 射性轉㈣的製造成本。具體而言，本發明的課 性化人種雙折射性轉㈣，其是具有用於上述液晶 =生轉㈣，其賦予適當的雙折;性=== 表面保護性、從支碰的剝離性、及透明性。 的八人針對可形成具有作為躲液晶性化合物 讃:圖層的功能’並且具有透明性與表面保 覆研究從==撐體的剝離性的層的材料進行反 即，本發明提供下述[1]至。 ⑴一種雙折射性轉印落，其是包含依序為臨時支撐 201235221 1 J^lf 體、配向層、及由含有具有至少1個反應性基的液晶性化 合物的組合物所形成的雙折射性層的雙折射性轉印箔，並 且上述配向層是含有烷基醚化纖維素或烷基醚化孅 羥基烷基衍生物的層。 / Μ ' [2] 如[1]所述之雙折射性轉印箔，其中上述烷基醚化 纖維素中的烷基、以及上述烷基醚化纖維素的羥基烷基衍 生物中的烷基醚化纖維素中的烷基及羥基烷基均為碳原^ 數為1〜3個的烷基或羥基烷基。 、 [3] 如[1]或[2]所述之雙折射性轉印箔，i中 含有甲基纖維素、經丙基甲基纖维素、或經;== 素的層。 [4] 如[1]至[3]中卜項所述之雙折射性轉印㈣， 含依序為上述臨時支禮體、上述配向層、上 性層 以及接著層。 叉吓耵f生層 [5] 如[1]至[4]中任-項所述之雙折射性轉印落， 上边雙折射性歧藉由包括下述步驟的方法而/、

加熱或光照射包含含有上述液 X 層的步驟；及 匕η物的組合物的 將經過上述加熱或光照射步 50C以上且400。(：以下的步驟。 禮進步加熱至 [6] 如[1]至[5]中任—項所 圖 上述雙折射性層是包含兩個::性2印落’其中 案化光學異向性層。 雙折射11不同的區域的 圖案化光 [7]如_述之雙折射性轉印箱，其中上述 201235221, 學異向性層是藉由包括下述步驟的方法而形成： 加熱或光照射包含含有上述液晶性化合物的組合物的 >#的步驟； 對上述光照射後的層進行圖案曝光的步驟； ，將圖案曝光後的層加熱至5(rc以上且仙叱以下的步 !·驟0 m如[6]或m所述之雙折射性轉㈣，其巾上述液晶 性化合物至少具有自由基性的反應性基與陽離子性的反應 純其。 u [9] 如[8]所述之雙折射性轉印箔，其中上述自由基性 的反應性基是丙_基及/或曱基丙_基，上述陽離子 性的反應性基為乙烯基醚基、氧雜環丁基及/或環氧基。 [10] —種反射性物品，其具有使用如π]至[9]中任一 項所述之雙折射性轉印箔所轉印的雙折射性層。 [11] 一種透明物品，其具有使用如[丨]至[9]中任一項 所述之雙折射性轉印羯所轉印的雙折射性層。 [發明的效果] θ 根據本發明，可提供一種賦予清晰的潛像，並且具有 表面保護性、剝離性及透明性的雙折射性轉㈣。在本發 :的雙折射性轉印射，藉由使配向層兼作保護層及剝ς 層，而削減製造成本。 【實施方式】 以下’詳細說明本發明。 此外’在本說明書巾，「〜」的含義為包括其前後所記 201235221 I Λ Λ Λ ^ 載的數值作為下限值及上限值。 在本說明書中，Re表示延遲。Re可利用根據透射或 反射的分光光譜並使用美國光學學會期刊（J〇urnal 〇f

Optical Society of America)，第 39 卷，第 791 頁〜第 794 頁（1949)或日本專利特開2008-256590號公報所記載的 方法換算為相位差的光譜相位差法進行測定。上述文獻是 使用透射光譜的測定方法，尤其是反射的情況下，由於光 會通過光學異向性層2次，故而可將由反射光譜換算的相 位差的一半設為光學異向性層的相位差。Re只要未特別指 定，則是指正面延遲。Re (λ)是使用波長為ληιη的光作 為測定光。本說明書中的Re是指針對]1、(}、3分別以611士 5 nm、545±5 nm、435±5 nm的波長進行測定而獲得的Re， 只要無特別針對顏色的記載，則含義為以545±5 nm的波 長進行測定而獲得的Re。 ^在本說明書中，關於角度，所謂「實質上」是指與嚴 密的角度的誤差在小於±5。的範圍内。此外，與嚴密的角度 的誤差，佳為小於4。，更佳為小於3。。關於延遲，所謂「實 質上」是指β延遲具有±5%以内的誤差。此外，所謂延遲實 =上為0 ’疋指延遲為5nm以下。另外，折射率的測定波 無特別記述’則是指可見光區域的任意波長。此外， 本：月書中，所謂「可見光」，是指波長為400 nm〜700 nm的光。 [雙折射性轉印箱] 於本說明書中，所謂「雙折射性轉㈣」，是指至少具 8 201235221 ΗΙΔΟίρη 有臨時支撐體與形成在該臨時支撐體上的雙折射性層，且 藉由經過規定的製程可使該層轉印至物品上的材料。作為 使雙折射性層轉印至物品上的製程，並無特別限定，例如 為.可在藉由熱壓印（hot stamping)、連續壓印（in_iine stamping)及各種層壓使雙折射性轉印箔壓接至物品上之 後，剝離臨時支撐體，藉此使雙折射性層轉印至 製程。 卩〇 Ί 化入是由含有具有至少1個反應性基的液晶性 圖層’為M化光學異向性層或非 此外，在本說明書中，所謂「圖案化光學異向性 =曰具有雙折射性圖案的光學異向性層。進而換令之曰，θ 折射性不同的區域的光學異向:層。ί 更佳為具有3個以上雙折射性不同的ί 續形各個區域可為連續形狀，亦可為非連 SC材 區域的層，則製作方法並具^折射性不同的 具有圖案化光學显而,卜士思乂从艮疋。在本說明書中，以 羯為中心進行★兒;月:關二^雙折射性層的雙折射性轉印 雙折射性層的雙折射化光學異向性層作為 進行用於形成圖案的作^ ^白，在以下的說明中，藉由不 光）’可同樣地製作。或I t進行全面曝光代替圖案曝 圖案製作材料中的光學對以下所說明的雙折射性 予異向性層直接進行加熱處理等，製 9 201235221 作非圖案化光學異向性層，而製成雙折射性轉印羯。 [雙折射性圖案的定義] 個以圖案，廣義上是指將雙折射性不同的2 外，3=維面内或立體配置而輕的圖案。此 S ΓΧΓ)的方向與區域内的延遲的大小兩個參= 性化合物形成的相位差膜等的面内的配 折射上的液晶的傾斜分布在廣義上可稱為雙 斤射)·生圖案，但較期待將基於 多層圖案的i界可二致亦可不同 〇 圖1〜圖0(a)、圖6(b)及圖 向性層作為本發明的雙折射性 101C在圖中’將雙折射性不同的區域例示為輪、聰、 配臨物㈣上具有 構成。配向層15是作 配向的層而發揮功能。並且 ^曰曰性化合物的 的配向層兼作剝離層及保護層。落中 體之間形絲在触時支樓 得順利的作用。保護層是指具有保護雙折;性轉 201235221 面的功能的層。 圖2所示的雙折射性轉印箱是具有接著層的例子。 接著層是為了實現所使用的被轉印體的充分接著而設置的 層0 ^ /丄：不的雙折射性轉印箔是在臨時支撐體11與圖宰 層1G1之間具有脫模層14的例子。脫2 14雖然亦具有辅助臨時支撐體u關 制ς ;配=)是與臨時支撐體η之間形成剝離二 於此’脫婦14是與其切層（例、 之間形成_界©。 層） ^ 4是具有印刷層16的雙折射性轉印^ 層一般使不可見的雙折射性醜重叠 只要印刷層具有透祕，則在细遽絲使^下’ 案形成的潛像可見化時，印刷與潛像重疊而變^^_ 圖5 (a)、圖5 (b)所示的雙折射性轉 化光學異向性層之上具有添加觸π案 ==下所述是在雙折射性圖素製作 外，視需要在雙折射性轉印落中亦 的層，此 強化層_密接㈣底㈣、製造過的功能： 硬塗層、藉由对射紅外線岐紅外線面保護的 遮蔽層、淹水後會變色料_淹水峡錢=攝= 11 201235221 T I X 根據溫度而變化賴朗、控制潛像_色的著色過滤 層、賦予磁記錄性的磁性層、消光層、散射層、潤滑層等。 圖6(a)〜圖6(c)所示的雙折射性轉印箔是具有多 層圖案化光學異向性層的雙折射性轉印箱。多層光i異向 性層的面内慢轴可相同亦可不同，較佳為不同 ==雙折射性不同的區域可相互相同亦可不；。圖 t if旦圖案化光學異向性層亦可具有3層以 ΐ二的延遲或者慢軸的方向相互不同的光學 異向性層’賦予各自獨立的圖案，可 功能的潛像。 、，文加夕衫的 不二卜作=(a)〜圖6(c)中，115所示的配向層 不須為兼作剝離層及保護層的層。 [雙折射性圖案製作材料] 例如異向性相料並糾別限定， 的說明中，雙折射性圖 定步驟可製作圖案化料是;藉由經過規 性圖案製作材料藉由變更曝光等的條件亦:::雙折射 作非圖案化光學異向性層的材料亦了用作用於製 光學=:.==:!=__化 此可製作雙折射性轉印箱。〃需要形成追加層，藉 例如使用曰本專利特開細9侧㈣公報中所記载 12 201235221. -τιζ,υ i ^ιχ 的具有感光性的雙折射 曝光量而控制昭案製作材料的情況下，可根據 上為亦可使未曝光部的延遲實質 易地製作具有賦予性圖案製作材料’變得可容 層的雙折射性轉印^ 折射性圖案的圖案化光學異向性 雙折射性圖案製作材 射性圖案製作材料捕、或片狀即可。雙折 異向性層料，辟異向性層，祕包含光學 層。作為雜㈣，it可料各較要魏的功能性 另外，在騎⑹列舉.支撐體、配向層、反射層等。 用』印^=材料的雙折射性圖案製作用材 有臨時皮作彳的雙折射性圖案製作㈣等巾，亦可具 學特性控制層。另外，由於其是之後用 1中㈣A PV自的㈣’故而亦可具有在雙折射性轉印 ‘ 1揮功能的剝離層、脫模層、接著層等。 沖圖/ U)所示的雙折射性圖案製作材料是具有臨時支 、，配向層15、及光學異向性層20的雙折射性圖案 /材料的例子。圖7⑴所示的雙折射性圖案製作材料 疋更具有脫模層14的例子。 作為光學異向性層，是使用由含有液晶性化合物的組 :物所形成的層。作為光學異向性層，較佳為具有如下功 =的層.可藉由利用光罩的曝光或者數位曝光等圖案曝 光，或熱壓印或熱寫頭、紅外線雷射曝光等圖案加熱，利 用針或筆進行機械加壓或剪切的觸針描繪、反應性化合物 的印刷等，而任意地控制光學異向性。其原因在於：具有 13 201235221 案化光學異層向^^^藉由下述方法等獲得圖 的曝光或者掃描曝光等了 案，較佳為使用利用光單 成圖案。在該情況下，利^ =白、顯影等組合而形 的制約少，故而較佳。·、，、的*白、顯影由於對支標體 f作:二a二圖I⑴是具有印刷層16的雙折射性圖案 的過財形成。〃可在雙折射性圖案製作材料 製作=,;子圖 f層的光學特性評價的簡化方面有效果。：卜= =圖案製作材料的階段起設置在雙折射性轉= 於調1視倾認性的反射層或者半翻反射層。 圖 10 (a)、圖 10 (b) ti 在光 的=生圖案製作材料的例子。添加劑層是： =先予異向性層中後添加塑化劑、熱聚合抑制劑及光聚 it劑等添加劑的層’視需要亦可賦予在雙折射性圖案 製作材枓中或者在雙折射性轉㈣中發揮的其他功能。 =1 (a)、圖U⑻所示的雙折射性圖案製作材料 =具有多層光學異向性層的雙折射性圖案製作材料。多層 光學異向性層的面内慢軸可相同亦可不同，較佳為不同。 201235221

，中但光學異向性層亦可為3層以上。在圖 2配向層學異向性層本身兼作配向層而省略第 [轉印有雙折射性圖案的物品] 向性層圖Γ本Ϊ明與的圖雙使用具有圖案化光學異 的物品的例子。射性轉印落所轉印的雙折射性圖案 圖案的反射性案的透射性物品及具有雙折射性 至透= 情況下’光源及觀測點是夹持轉印 於fi 的圖案化光學異向性層⑼，而位 源二二T亥情況下，自使用偏光鏡等所製作的偏光光 "”出的先通過具有雙折射性圖案的物品，而在面内成為 在觀測點侧進一步通過偏光鏡而使資 鏡β tmin ’偏光鏡可為直線偏光鏡，亦可為圓偏光 ί或偏光鏡，偏光鏡本身亦可具有雙折射性圖 t為反射f生物。0的情況下，自轉印至反射性物品主體 的圖S化光學異向性層1G1觀察，統及觀測點均位 ’另外’與此等相反的側具有反射面（在該情況下 Μ =物°°主體23的表面）。在該情況下，自使用偏光 f4所製作的偏光光源發出的光通過具有雙折射性圖案的 物品’而在面内成為不_偏綠態，並在反射面反射， 15 201235221 在再次通過具有雙折射性圖案的物品時再次被影響，最後 在觀測點側通過偏光鏡*使資訊可見化。此處，偏光鏡可 為直線偏光鏡，亦可為_光鏡，亦可為Μ偏光鏡，偏 光鏡本身亦可具有雙折射性圖案或二色性圖案。另外，光 源與觀測可使用同-偏光鏡。反射面亦可兼具反射性高的 全像層或電極層等。 此外，反射面可為部分地反射光且部分地透射光的半 透射半反射層’此時具有雙折射性_的物品不僅可使透 射反射兩方的圖像可見化，亦可在不採用滤光器的情況 =自随化絲異向性層的上侧可脉於具有雙折射性 圖案的物品的半透射半反射層的下側的文字或 資訊。 ％ 以下’誶細說明雙折射性轉印结與作為其材料的 的雙折射性圖案製作材料、使用其的雙折射性轉印箱 作方法及構錢等的材料、製作方法等。但是，本發明 Ζ定於該^態，其他型態亦可參考以下的記載 = =1^發明並秘定独下職義型態^ 本發明的雙折射性圖案製作材料中的 成為圖案化光學異向性層等雙折射性層的原料 定延遲時有1個延遲實質上不為Q的人射^J 有非等方性的光學特性的層。 的層，即具 在本發明中，雙折射性圖案製作材料 層是由含有具有至少1個反舰基晶性化合 201235221 物所形成。 較佳為光學異向性層在較佳為坑、更佳為机、進 :下為固體。其原因在於:如果在20。。下為固 、佈其他功能性層’或者轉印或貼合至（圖案形 成别的）別的支撐體上。 在光予異向性層上塗佈其他功能性層的情況下，光學 女°性層較佳為具有耐溶劑性。在本說明書中，所謂「具 ^谷劑性」’是指在對象溶劑巾浸潰2分鐘後的延遲在浸 潰，的延遲的3〇%至17G%的範_，更佳為观至15〇% ^範圍内冑佳為80%至12G%的範圍内。對象溶劑雖然 =取決於欲進行的功能性層的塗佈所使用的溶劑，但可列' 牛：水、甲醇、乙醇、異丙醇、丙_、甲基乙基酮、環己 鋼、丙二醇單曱基醚乙酸醋、N-甲基吡咯烧酮、己燒、氣 仿、乙酸乙醋、或該等的混合溶劑等。 光學異向性層較佳為在20。(：下延遲為5 nm以上，更 佳為10 nm以上、loooo nm以下，最佳為2〇 nm以上功⑻ nm以下。延遲為5nm以下時，存在難以形成雙折射性圖 案的情況。如果延遲超過10000 nm，則存在誤差增大而^ 以達到可實際使用的精度的情況。 曰 光學異向性層的製法並無特別限定，可列舉：塗佈人 有具有至少1個反應性基的液晶性化合物的溶液並乾燥3 形成液晶相後，加熱或光照射進行聚合固定化而製^光= 異向性層的方法。如下所述，光學異向性層亦可藉由 而形成。上述光學異向性層的厚度較佳為〇.1μΓη〜"2()印 17 201235221 « Λ W Λ ^ Ϊ 更佳為0.5 μιη〜10 μιη。 [將含有液晶性化合物的組合物配向固定化而成的光 學異向性層] 作為光學異向性層的製法，對塗佈含有具有至少i個 反應性基的液晶性化合物而成的溶液並乾燥而形成液晶相 後，加熱或光照射進行聚合固定化而製作光學異向性層的 情況說明如下。 [液晶性化合物] 一般而言，液晶性化合物根據其形狀，可分為棒狀型 與圓盤狀型。此外，各自有低分子型與高分子型。所謂高 分子，一般是指聚合度為100以上的化合物（高分子物理 •相轉移動力學，土井正男著，第2頁，岩波書店，1992)。 在本發明中，雖然可使用任一液晶性化合物，但較佳為使 用棒狀液晶性化合物。 此外，在本說明書中，在記載為由含有液晶性化合物 的組合物所形成的層時，該所形成的層中無須含有具有液 晶性的化合物。例如，上述低分子液晶性化合物具有藉由 熱、光等發生反應的基，結果亦可為含有藉由利用熱、光 等的反應進行聚合或交聯而高分子量化，從而失去液晶性 的低分子液晶性化合物的層。另外，作為液晶性化合物， 亦可使用2種以上棒狀液晶性化合物、2種以上圓盤狀液 晶性化合物、或棒狀液晶性化合物與圓盤狀液晶性化合物 的混合物。由於可縮小溫度變化或濕度變化，故而更佳為 使用具有反應性基的棒狀液晶性化合物或圓盤狀液晶性化 201235221

Tl ZrO 1 jJil 合物形成層，更佳為至少1種液晶性化合物的1個液晶分 子中的反應性基為2個以上。在採用2種以上液晶性化合 物的混合物的情況下，較佳為至少1種液晶性化合物具有 2個以上反應性基。 較佳為使用具有交聯機制不同的2種以上反應性基的 液晶性化合物’選擇條件，僅使2種以上反應性基的部分 種類聚合’藉此製作含有具有未反應的反應性基的聚合物 的光學異向性層。作為交聯機制，為縮合反應、氫結合' 聚合等’並無特別限定，較佳為2種以上交聯機制中的至 少一方為聚合’更佳為使用2種類以上不同聚合。一般而 言’交聯反應不僅可使用聚合所使用的乙烯基、（曱基）丙 烯醯基、環氧基、氧雜環丁基、乙烯基醚基，亦可使用羥 基、羧酸基、胺基等。 在本說明書中’所謂具有交聯機制不同的2種以上反 應性基的化合物’是階段性地使用不同交聯反應步驟進行 交聯的化合物’在各階段的交聯反應步驟中，各交聯機制 相應的反應性基作為官能基發生反應。另外，例如為側鏈 具有經基的聚乙烯醇之類的聚合物的情況下，在進行將聚 合物聚合的聚合反應後，利用醛等交聯侧鏈的羥基時，是 使用2種類以上的不同交聯機制’但在本說明書中，在稱 為具有2種類以上不同反應性基的化合物時，較佳為在支 撐體等上形成層的時刻’該層中具有2種以上不同反應性 基的化合物’只要為可在其後階段性地使此反應性基交聯 的化合物即可。作為尤佳的型態，較佳為使用具有2種以 201235221 恤性地進行交聯的反 聚人仙先（照射線）波長的差異、 二:制的差異中的任-種，就易分離反應方面而言較 佳為使用聚合機制的差異，更佳為藉由所使用的起始劑的 麵進行㈣。作為聚合機制，較佳為自&絲合性基與 陽離子聚合性基的組合。上述自纟基聚合性基為乙稀基、 (曱基)丙烯醯基且上述陽離子聚合性基為環氧基、氧雜環 丁基、乙烯基醚基的組合容易控制反應性，故而尤佳。以 下，例示反應性基。

—SH

—OH

—NH2

/N=C=0

^N=C=S 20 201235221 Aj-fix 作為棒狀液晶性化合物，較佳為使用偶氮次曱基類、 氧偶氮類、氰基聯苯類、氰基苯基酯類、苯曱酸酯類、環 己羧酸苯酯類、氰基苯基環己烷類、氰基取代苯基嘧啶類、 烧氧基取代苯基嘧啶類、苯基二噁烷類、二苯乙炔（tolan) 類及烯基環己基苄腈類。不僅可使用如以上的低分子液晶 性化合物’亦可使用高分子液晶性化合物。上述高分子液 晶性化合物是具有低分子的反應性基的棒狀液晶性化合物 聚合而成的高分子化合物。作為棒狀液晶性化合物的例 子’可列舉：曰本專利特開2008-281989號公報、日本專 利特表平11413019號公報（W097/00600)及日本專利特 表2006-526165號公報中所記載的棒狀液晶性化合物。 以下，揭示棒狀液晶性化合物的具體例，但本發明並 不限定於該等。此外，通式（〗）所表示的化合物可藉由日 本專利特表平11-513019號公報（WO97/00600)中所記載 的方法進行合成。

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o 1-19 ^Yc 作為其他型態，有將圓盤狀液晶用於上述光學異向,丨 層的型態。上述光學異向性層較佳為單體等 旦

盤狀液晶性化合物的層或藉由聚合性的圓盤狀H 物的聚合（硬化）而獲得的聚合物的層。作為上述L犯 液晶性化合物的例子，可列舉：⑶estmde 告、MoLOyst.7!卷、1U頁⑽年）中所記 生物、CDestmde等人的研究報告、_122卷、μ 頁⑽5 年）、Physicslett，A，78^82f(i 記載的三聚茚衍生物、BK〇hne等人的 25 201235221 t Λ. ArnSJ ±

Angew.Chem.96卷、70頁（ 1984年）中所記載的環己烷衍 生物及J.M.Lehii等人的研究報告、j Chem c〇mmun 1794 頁（1985 年）、J.Zhang 等人的研究報告、j Am Chem s〇c] i 6 卷、2655胃（ 1994年）十所記載的氮雜冠鱗系或苯基乙块 系巨環（macro ring)等。上述圓盤狀液晶性化合物一般是 包含將該等作為分子中心的圓盤狀母核，以放射線狀取代 直鏈的烷基或烷氧基、取代苯甲醯氧基等基的構造，其顯 示出液晶性，一般稱為圓盤狀液晶。其中，在此種分子的 集合體同樣地配向的情況下顯示出負的單軸性，但不限定 於該記載。作為圓盤狀液晶性化合物的例子，可列舉日本 專利特開2008-281989號公報的段落[0061]〜段落[〇〇75] 所述的圓盤狀液晶性化合物。 液晶性化合物可在水平配向、垂直配向、傾斜配向、 及扭轉配向中的任一配向狀態下固定。此外，在本說明書 中所謂「水平配向」，在為棒狀液晶的情況下，是指分子長 軸與透明支撐體的水平面平行，在為圓盤狀液晶的情況 下’是指圓盤狀液晶性化合物的核心的圓盤面與透明支樓 體的水平面平行’但並非要求嚴格平行，在本說明書中， 是指與水平面所成的傾斜角小於1〇度的配向。作為本發明 的光學異向性層，較佳為包括使棒狀液晶化合物在水平配 向狀態下固定化而成的層。 在將含有液晶性化合物的組合物配向固定化而成的光 學異向性層中，亦可添加用於促進液晶性化合物的交聯的 聚合性單體。 26 201235221 例如可使用具有2個以上乙烯性不飽和雙鍵且藉由照 射光而加成聚合的單體或寡聚物。 、 作為此種單體及寡聚物，可列舉：分子中具有至少^ 個可加成聚合的乙烯性不飽和基的化合物。作為其例^， 可列舉：聚乙二醇單（曱基）丙烯酸酯、聚丙二醇/單(甲美 ，酸S旨及（曱基)㈣酸苯氧基乙s旨等單官能丙烯酸“ 單官能曱基丙烯酸酯；聚乙二醇二(曱基)丙烯酸酯、聚丙 二醇二（曱基)丙烯酸醋、三經甲基乙烧三丙烯酸g旨、1經 曱基丙烧三（曱基）丙烯酸g旨、三經甲基丙烧二兩稀酸^、 新戊二醇二(甲基)丙稀酸g旨、季戊四醇四（曱基)丙婦酸酿、 季戊四醇三（曱基)丙烯酸酯、二季戊四醇六（甲基)丙稀曰酸 y —季戊四醇五（甲基)丙烯酸@旨、己二醇二(甲 曰装三經曱基丙烧三(丙烯醯氧基丙基，三⑺烯酿^ 、亡）異二聚氰酸酯、三（丙烯醯氧基乙基)三聚氰酸酯、甘 油三（甲基)丙烯酸酯；對三經甲基丙炫或甘油等 :土環氧，或環氧丙烷後進行(甲基)丙烯酸酯化而“ °物等多官能丙烯酸酯或多官能甲基丙烯酸酯。 此外’可列舉：日本專利特公昭48·417 $利特公昭50顧號公報及日本專利特開昭； j公報中所記載的丙烯酸胺基甲酸酯類；日本專 4=183號公報、日本專利特公昭仰i9i號及。 =利特公昭5㈣號公報巾所域 = 酉類基)丙稀酸的反應生成物即環 曰頸等夕g迠丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。 27 201235221 1 Α “V» !!/* 上 戊四較佳^三經甲基丙烧三（甲基)丙烯酸醋、季 丙烯酸酯、二季戊四醇六（甲基)丙稀酸酉旨、 一李戍四醇五（甲基）丙烯酸酯。 公報^可較佳地列舉日本專利特開平I13扇號

化合物B」。該等單體或寡聚物: 早獨使用’亦可混合使用兩種以上。 J 本專用陽離子聚合性單體。例如可列舉··曰 日本專扣 1 _9714號日本專利特開2(κ)1·31892號、 號、日本專利特開mm01. 2001-31G937號、日本專利㈣細·22()5 利^開 :::的核氧化合物、乙烯基醚化合物、氧雜環丁烷： 環合物’可列細下的料麵氧化物、脂 二式二氧化物及脂肪族環氧化鱗。作為芳香族環氧化 縮水雙紛A、或者其環氧院加成物的二或聚 缩水甘齡八或者其環氧烷加成物的二或聚 核氧烧，可列舉：環氧乙炫及環氧丙燒等。處作為 ㈣式環氧化物，可列舉：利用過氧化氫、過酸 專適虽氧化劑’將具有至少i個環己烯 煙環的化合物環氧化而獲得的含環氧環己』烧 的化合物。作為脂肪族_化物的較佳例，有月::夕烧 醇或者其環氧烷加成物的二或聚縮水甘油基醚‘，作 28 201235221 代表例，可列舉：乙二醇的二 縮水甘油基醚或丨，6_己二醇、'油基醚、丙二醇的二 二縮水甘油基醚，甘油或者政严、氣水甘油基醚等烷二醇的 =基醚等多元醇的聚縮水;:基2力縮水 氧烷加成物的二縮水甘油基取 & 知或者其環 成物的二縮水甘油基鍵等:醇或者其環氧烧加 可使用單官能或^官能合性單體， 使用3-乙基冬經基甲基=體。例如可較佳地 造的商品名OXT101等合成（股份）製 甲氧基甲基]苯（同0XT121 ’等^/乙^冬氧雜環丁基） 氧雜環丁燒（同〇XT2U 基甲基） 甲基崎(同〇XT221等)、3乙)二(二乙二氧雜環丁基) Γ212等)等，可尤其地使用3-乙基i 燒、二二乙:3二3-二基_3-(苯氧基f基)氧雜環丁 利牲ρΛλ基 基）甲基鍵等化合物，或曰本專 發八^ G1-22G526號公報、日本專利特開獨1-310937 合^。中所記載的公知的所有官能或2官能氧雜環丁烧化 在積層2層以上包含含有液晶性化合物的組合物的光 Γ異向性層㈣況下，液晶性化合物的組合並無特別限 ^ ’可為全部包含棒狀性液晶性化合物的層的積層體、包 3 3有圓盤狀液晶性化合物的組合物的層與包含含有棒狀 29 201235221 4i28ipif 性液晶性化合物的組合物的層的積層體、或全部包含圓盤 狀液晶性化合物的層的積層體中的任一種。另外，各層的 配向狀態的組合亦無特別限定，可積層相同配向狀態的光 學異向性層，亦可積層不同配向狀態的光學異向性層。 [溶劑] 作為以含有液晶性化合物的組合物作為塗佈液，塗佈 至例如支撐體或下述配向層等的表面時的塗佈液的製備所 使用的溶劑，較佳為使用有機溶劑。作為有機溶劑的例子， 可列舉：醯胺（例如N，N-二曱基甲醯胺）、亞颯（例如二 甲基亞硬）、雜環化合物（例如11比咬）、煙（例如苯、己烧）、 鹵化烷（例如氣仿、二氯曱烷）、酯（例如乙酸曱醋、乙酸 丁酯）、酮（例如丙酮、曱基乙基酮、曱基異丁基酮、環己 酮）、醚（例如四氫呋喃、1，2·二甲氧基乙烷另外，亦 可混合使用兩種以上溶劑。上述中’較佳為_化炫、酯、 酮及此等的混合溶劑。 [配向固定化] 液晶性化合物的配向的固定化較佳為藉由導入至液晶 性化合物中的反應性基的交聯反應而實施，更佳為藉由反 應性基的t合反應而實施。聚合反應包括使用熱聚合起始 劑的熱聚合反應與使用光聚合起始劑的光聚合反應，更佳 為光聚合反應。作為光聚合反應，可為自由基聚合、陽離 子聚合中雜-種。自由基光聚合起，的例子包括， 基化合物（在美國專利2367661號、美國專利236767〇號 的各說明書中有δ己載）、醇酮驗（在美國專利2448828號說 30 201235221.. mu xpii· 明書中有記載）、α-烴取代芳香族醇酮化合物（在美國專利 2722512號說明書中有記載）、多核自昆化合物（在美國專利 3046127號、美國專利2951758號的各說明書中有記載）、 二芳基β米a坐二聚物與對胺基苯基_的組合（在美國專利 3549367號說明書中有記載）、吖啶及啡嗪化合物（在曰本 專利特開昭60-105667號公報、美國專利4239850號說明 書中有記載）及噁二唑化合物（在美國專利4212970號說 明書中有記載）。陽離子光聚合起始劑的例子可例示有機錡 鹽系、錤鹽系、鱗鹽系等，較佳為有機鎳鹽系，尤佳為三 本基銃鹽。作為該等化合物的抗衡離子，可較佳地使用六 氟録酸鹽、六氟鱗酸鹽等。 光聚合起始劑的使用量較佳為塗佈液的固體成分的 0.01質量％〜20質量％ ’更佳為0 5質量％〜5質量％。用 於使液Ba性化合物聚合的光照射較佳為使用紫外線。照射 能 1 較佳為 10mj/cm2〜10 J/cm2,更佳為 25mJ/cm2〜i〇〇〇 mJ/cm2。照度較佳為1〇 mW/cm2〜2〇〇〇瓜暫^，更佳為 20 mW/^rn2〜15〇〇 mW/cm2,進而更佳為 4〇 禮/(^2〜1〇〇〇 mW/cm。作為照射波長，較佳為在25〇nm〜45〇nm的範 圍内具有波峰’更佳為在300 nm〜410 nm的範圍内具有 波峰。為了促進光聚合反應，亦可在氮氣等惰性氣體環境 下或者加熱條件下實施光照射。 [利用偏光照射的光配向] 上述光學異向性層是藉由利用偏光照射的光配向而表 現或者增加面内的延遲的層。偏光照射可參照日本專利特 31 201235221 I Λ Λ 開2009-69793號公報的段落「〇〇91」〜段落「〇〇92」的記 載、曰本專利特表2005-513241號公報（國際公開 W02003/054111)的記載等而進行。 [具有自由基性的反應性基與陽離子性的反應性基的 液晶化合物的配向狀態的固定化] 如上所述，液晶性化合物亦較佳為具有聚合條件不同 的2種以上反應性基。在該情況下，藉由選擇條件而僅使 多種反應性基的部分種類聚合，可製作含有具有未反應的 反應性基的聚合物的光學異向性層。以下，對尤其適合於 使用具有自由基性的反應基與陽離子性的反應基的液晶性 化合物（具體例例如為上述作為此種液晶性化 合物的情況的聚合固定化條件進行說明。 首先，作為聚合起始劑，較佳為僅使用對欲聚合的反 應性基發生作用的光聚合起始劑。即，在選擇性地聚合自 由基性的反應基的情況下較佳為僅使用自由基光聚合起始 劑，在選擇性地聚合陽離子性的反應基的情況下較佳為僅 使用陽離子光聚合起始劑。光聚合起始劑的使用量較佳為 塗佈液的固體成分的0.01質量％〜20質量％，更佳為〇J 質量％〜8質量％ ’尤佳為0.5質量％〜4質量％。 其次’用於聚合的光照射較佳為使用紫外線。此時， 如果照射能量及/或照度過強，則有非選擇性地與自由基性 反應性基及陽離子性反應性基雙方反應之虞。因此，照射 能量較佳為5 mJ/cm2〜1000 mJ/cm2，更佳為1〇 mj/cm2〜 800 mJ/cm2 ’ 尤佳為 20 mJ/cm2〜600 mj/cm2。另外，照度 32 201235221、 ^ti^o lpii 較佳為 5 mW/cm2〜1500 mW/cm2，更佳為 i〇 m\v/cm2〜 1000 mW/cm2 ’ 尤佳為 20 mW/cm2〜800 mW/cm2。作為照 射波長’較佳為在250 nm〜450 nm的範圍内具有波峰， 更佳為在300 nm〜410 nm的範圍内具有波峰。 另外，在光聚合反應中，使用自由基光聚合起始劑的 反應會被氧抑制，而使用陽離子光聚合起始劑的反應不會 被氧抑制。因此，在使用具有自由基性的反應基與陽離子 性的反應基的液晶化合物作為液晶性化合物，並選擇性地 聚合其反應性基的一種的情況下，選擇性地聚合自由基性 的反應基的情況下較佳為在氮氣等惰性氣體環境下進行光 照射，選擇性地聚合陽離子性的反應基的情況下較佳為毅 然地在具有氧氣的環境下（例如大氣下）進行光照射。但 是，使用陽離子聚合起始劑的反應會被水抑制。因此，較 佳為降低聚合環境的濕度，較佳為60%以下，更佳為4〇% 以下。另外，使用陽離子聚合起始劑的反應具有溫度越高 反應性越提尚的特性。因此，在液晶化合物顯示液晶性的 溫度範圍内’反應時的溫度越高越佳。 另外，在使用具有自由基性的反應基與陽離子性的反 應基的液晶化合物作為液晶性化合物並選擇性地聚合其反 應性基的一種的情況下，作為選擇性地聚合一種反應性基 的手段，較佳為使用與另一種聚合性基對應的聚合抑制 劑。例如使用具有自由基性的反應基與陽離子性的反應基 的液晶化合物作為液晶性化合物並選擇性地聚合其陽離子 性的反應基的情況下，藉由少量添加針對自由基性聚合的 33 201235221 聚合抑制劑，可提昇其選擇性。此種聚合抑制劑的使用量 較佳為塗佈液的固體成分的0.001質量％〜10質量。/。，更 佳為0.005質量％〜5質量％，尤佳為〇.〇2質量％〜1質量 %。作為例如針對自由基性聚合的聚合抑制劑，可列舉： 硝基苯、吩噻嗪、對苯二酚等。另外，一般用作抗氧化劑 的受阻酚類亦作為針對自由基性聚合的聚合抑制劑有效。 [水平配向劑] 藉由使上述光學異向性層的形成用組合物中含有曰本 專利特開2009-69793號公報的段落「0098」〜段落「〇1〇5」 中所記載的使用通式〇)〜通式（3)所表示的化合物及」 通式（4)的單體的含氟均聚物或共聚物的至少一種，可使 液晶性化合物的分子實質上水平配向。在使液晶性化合物 水平配向的情況下，其傾斜角較佳為〇度〜5度，更佳為〇 度〜3度，進而更佳為〇度〜2度，最佳為〇度〜丨度。 作為水平配向劑的添加量，較佳為液晶性化合物的質 量的〇.〇1質量％〜20質量％，更佳為〇 〇1質量％〜1〇質量 %，尤佳為0.02質量％〜1質量％。此外，日本專利特 2009-69793號公報的段落「〇〇98」〜段落「〇1〇5」中所二 載的通式⑴〜通式⑷所表示的化合物可單獨使用°， 亦可併用兩種以上。 [2層以上的光學異向性層] 如上所述，雙折射性圖案製作材料亦可具有2層以上 光學異向性層。2層以上光學異向性層可沿著法線^相 互鄰接，亦可在彼此間夹持另一功能性層。2層以上光學 34 201235221, 遲乂，彼此可具有大致相等的延遲，亦可具有不同的延 外’慢軸的方向彼此可朝向大致相同方向，亦可朝 :::方向。藉由使用慢軸的方向彼此朝向大致相同方向 光學異向性層’可製作具有較大延遲的圖案。 作為製作含有2層以上光學異向性層的雙折圖 製作材料的方法，可列舉如下方氺. 固案 ㈣上重砂成新的絲異向性層的方法、將另一 ==作材料用作轉印材料並在雙折射性圖案製“料 上轉Ρ新的光學異向性層的方法等。其中，更佳 :材料用作轉印材料而在雙折射性圖案製；材 料上轉印光學異向性層的方法。 [光學異向性層的後處理] /為了對所1作的光學異向性層進行改質，亦可進行各 „。作為後處理，例如可列舉：用於提昇密接性的 電軍處理、用於提昇柔軟性_化劑添加、祕提昇保存 =的添加熱聚合抑制劑、或用於提昇反應性的偶合處理 在光學異向性層中的聚合物具有未反應的反應 土的情況下，添加與該反應性基對應的聚合起始劑亦為 有效的改質手段。例如，藉由對使用陽離子絲合起始劑 將具有陽離子性的反應性基與自由基性的反應性基的液晶 性化合物配向HJ定化而摘絲肠性層添加自由基光聚 合起始劑’可促進之後進行圖案曝糾的未反應的自由基 性的反應性制反應。作為塑化劑或光聚合紗劑的添加 手長’例如刊舉：將光學異向制浸潰在適合的添加劑 35 201235221, HlZOipif 的溶液中料段、姑絲異触層场 另外，亦可列舉使用添: 層的方法，_加劑層疋在光料向性層上塗佈其他片 層的㈣液巾添加添加®，使之浸潰至光學異二 性層中的添加。根據此時所浸潰的添加劑、尤 聚合起始_種減量’輕下述的對雙折射性圖^製作 材料的圖案曝光時的對各區域的曝光量與最終獲得的各區 域的延遲的關係，可接近所需的材料特性。 [添加劑層] t述光學異向性層上卿成的添加劑層除了如光阻劑 2感光性猶層以外，亦可共驗觀射光的散射的散射 y防止下層的損傷的硬塗層、防止由帶糾起的灰塵附 耆的抗靜電層、成為印刷基底的印刷塗敷層。作為感光性 樹脂層，較佳為含有至少丨歸合物與至少i種光聚合起 始劑。較佳料置含有至少—種以上具有開始上述光學異 向性層中的未反應岐應性基㈣合反應的魏的聚合起 始齊卜含有光學異向性層絲合起始_添加綱較佳為 相鄰接。藉由製成此種構成，在不另外添加聚合起始劑的 情況下’可藉由®案狀的熱處理或電離放射線照射而可製 成I形成贿射性圖案的雙折射性圖案製作材料。作為含 有聚合起始劑的添加劑層的構成並無特別限定，較佳為除 聚合起始劑以外，含有至少i種聚合物。 作為聚合物（在本發明中’有時採用「黏合劑」的別 名）並無特別限定，可列舉：聚（甲基)丙烯酸曱酯、（曱基） 36 201235221 丙烯酸與其各種§旨的共聚物、聚苯乙婦、笨 丙烯酸或者各種（甲基旨的絲物乙=基) 苯、乙烯基，苯與(甲基)丙稀酸或者各種(甲基)丙烯 共聚物、本乙烯/乙烯基甲苯共聚物、聚氯 曰氣 乙烯、聚乙酸乙稀醋、乙酸乙埽_共聚物、乙 罐乙烯共聚物、㈣、聚醯亞胺、竣甲基纖維素 婦、聚丙烯及聚碳酸酯等。作為較佳例，可列舉:、甲 „與(甲基)丙烯酸的共聚物、(甲基)丙烯酸烯二旨 ==共=基)丙_酯與(甲基)丙稀 酉夂與”他早體的夕①共聚物等。該等聚合物可單獨使用， 亦可組合使好種。聚合物相對於全體成分的含量一 般為20質量％〜99質量％，較佳為4〇質量％〜99 ， 更佳為60質量％〜98質量％。 作為聚合祕劑’可列舉··熱聚合起始劑、光聚合起 始劑等，可根射法適宜使用。作為絲合起始劑，;採 用自由基性光聚合起始劑、陽離子性光聚合起始劑中的任 一種0 作為自由基性光聚合起始劑，可列舉：美國專利第 2367660號說明書中所揭示之匕、シナクレ求リ卜二小 (Vicinal polyketaldonyl)化合物、美國專利第 2448828 號 說明書中所s己載的醇鲷謎化合物、美國專利第2722512號 說明書中所記載的經α_烴取代的芳香族醇酮化合物、美國 專利第3046127號說明書及美國專利第2951758號說明書 中所5己載的多核醒化合物、美國專利第3549367號說明書 37 201235221 -t i^o iyif 中所記载的三芳基咪e坐二聚物與對胺基_組合、日本專 利特公昭51_48516號公報巾所記_苯并料化合物與 一，甲基均二嗪化合物、美國專利第423兇％號說明書中 所j載的—卣甲基三嗓化合物美國專利第心⑵76號說 :=所記載的三4甲基嚼二唾化合物^尤佳為三函甲 土均二.、三i甲基„惡二嗤及三芳基⑽二聚物。另外， 日本專利㈣平1M33_號公報巾所記載的 聚β起始劑C」作為較佳的起始劑。 1為陽離子歧合起始劑，可例示有機銃鹽系、鎖鹽 ^i :疏系等，較佳為有機疏鹽系，尤佳為三苯基銃鹽。 化合物的抗衡離子，可較佳地使用六氟錄酸鹽、 氟碟酸鹽等。 刀yr om租的量較佳為添加劑層的固體成分 〇.〇1質〜20質量％，更佳為Q2 f量％〜ig質量％ [具有散射性的添加劑層] =對添加騎賦予散射性’可控制雙折射性圖案 2眩光，或控制隱蔽性。作為散射層，較佳為藉由壓 於，凹凸層、含有粒子等的消細 蔽性的粒子，其粒徑較佳為請卿〜50二 二·〇5μιη〜30μιη。含有濃度較〇㈣ 為 0.02%〜1%。 ^ [具有硬塗性的添加劑層] 38

201235221 Hl^,〇lpU 進而更佳為100°c以上。為了提高聚合物的Tg，可導入經 基、羧酸基、胺基等極性基。作為高Tg聚合物的一例， 可列舉：聚（甲基)丙烯酸甲酯、聚（曱基)丙烯酸乙酯等（甲 基）丙烯酸烷酯的反應物，（甲基)丙烯酸烷酯與（甲基)丙烯 酸的共聚物，（甲基)丙烯酸2-羥乙酯、（曱基)丙烯酸2_羥 基丙酯等含經基（甲基)丙烯酸酯的反應物、（曱基)丙稀酸烧 酯與含羥基（甲基)丙烯酸酯與琥珀酸酐、苯二甲酸酐等酸 酐的反應物即半酯的共聚物等。 另外，為了賦予硬塗性，亦可使用藉由光照射或熱將 含有至少丨種雙官能以上的聚合性單體及聚合性聚合物的 層聚合而成的層。作為反應性基，可列舉：乙烯基、烯丙 ，、（甲基)丙烯醯基、環氧基、氧雜環丁基 '乙縣鍵基 等。作為聚合性聚合物的-例，可列舉：（甲基)丙稀酸縮 水甘油酯、（甲基)丙烯輯_、乙二醇二（甲基）丙稀酸 =甘油以二(曱基)丙烯_等含絲合性基的 =反應物。與含㈣合性基的__的反應物（ 丙烯馱的共聚物、及與其他單體的多元共聚物。 [作為印刷塗敷層的添加劑層] 八 為了形成可利用可見光或紫外線 案，較佳為可在添加劑層上塗敷印刷油墨。丁 ; 或隸等極性基。其次，作為提導入緩酸基 用表面改質處理。作為表面改質g漏=法’亦可併 燈或準分孩料UV纽，電t *可_ :低壓水銀 电軍放電、輝光放電等放電 39 201235221 準分子處理中，較佳為在更高能量下改質效率高的 進行i 墨’由於uv勞光油墨或IR油墨本身亦可 無特別限定，除了 ί全性提昇，因而較佳。印刷方法並 印用丨πιπ ί * 了般已知的軟板印刷、凹版印刷、套版 芦由形nrr外’村使时錢乾絲料。另外， 為120一上的微縮印刷，亦可提高安 [支撐體] 別41=力:fi性，雙折射性圖案製作材料亦可分 為圖案製作材料的支擇體可直接成 為又折射性轉印殆的臨時支撐體， 轉印箱的臨時支撐體與雙折射 ^^置雙折射性 _射性_成時或形成===: 案製作材料的支雜）。作為讀體触制可 直的支撐體亦可為可撓性支撐體，較為、，可為剛 作為剛直的支撐體並無特別限定，可列支撐體。 :皮膜的納玻璃板、低膨脹玻璃、無驗玻璃、石 4公知的玻璃板，鋁板、鐵板、SUs柘 、坡埸扳 嘯、石心物崎輸列 ，：纖維素6旨7如纖維紅_、纖維素二^ 素刪、聚烯烴(例如降冰片稀系聚合物);= 丙烯酸醋（例如聚甲基丙鱗甲§旨）、聚碳_、聚(t甲土）

石風、降冰片烤系聚合物等的塑膠腺七 I酉曰及I 频或紙、料'布等。就 201235221. 1^11 知作的谷Ir程度而言，作為啦的支撐體的财 哗〜3_ _，更佳為3⑻_〜丨 性 支撐體的膜厚，較佳為〜，更佳為 μηι。支樓體較佳為具有恰好不會因後述触烤*發生著色 熱性。亦可使支樓體本身具有反射功能來代替 下述反射層。 [配向層] Π = 3置在支撐體或者臨時支撐體上或塗佈設 置在支撐體或者臨時切體上的餘層上。㈣層是發揮 ，定设置在其上的層中的液晶性化合物的配向方向的功 二的雙折射性轉印財，配向層具有剝離層及 ”遵曰的魏。所謂剝離層，是用於提高轉印時的剝離性 的層’可敎獅層與料支龍之間賴離，提高轉印 時的轉印性。兼作_層的配向層在轉印後成為最表面， 而具有表面保護性。 本發明的雙折射性轉印落中的配向層是含有烧基驗化 纖維素或絲_纖維素的錄絲衍生物的層。尤J1是 上述配向層是含有絲批_姐/或絲㈣纖維素 的羥基烧基S生物作為主成分的層。上述烧基_化纖維素 中的烧基以及上述烧基喊化纖維素的經基烧基衍生物中 的烧基_纖維素巾軌基及減絲均齡為碳原子數 為1〜3個的烷基或羥基烷基。此外，配向層較佳為含有曱 基纖、准素、經丙基甲基纖維素、或經乙基甲基纖維素的層， 尤佳為含有以選自由甲基纖維素、㈣基曱基纖維素、及 201235221 隹素所組成的群中的任-種以上作為主成分 質量％以上、較料佔胃域分，是指佔層的5〇 質量％的成分 質1%以上、更佳為實f上佔90 折射=:5具有兩層以上的圖案化光學異向性層的雙 “轉P泊中所設置的第2配向層（圖6(a)、圖6(b)、 ，U)或圖11 (a)、圖u㈦中的115)，並不限定於 ’·，只要是對光學異向性層賦予配向性的層，則可為任 ΐ層i作為較佳例，可鱗：有機化合物（較佳為聚合物） ^摩擦處理的層、以偶氮苯聚合物或聚肉桂酸乙烯醋為 r表的藉由偏光騎而表現出液晶的配向性的光配向層、 無機化合物的傾斜級層、及具有密紋的層，並且可列舉： *十一烧酸、氣化一(十八烧基）曱基錄及硬脂基酸曱酯 等藉由Langmuir_B1〇dgett法（LB膜）而形成的累積膜、 或者藉由賦予電場或者磁場而使介電質配向的層。作為配 向層，在摩擦的型態中較佳為含有聚乙烯醇，尤佳為可與 配向層之上或之下的至少任—層進行交聯。作為控制配向 方向的方去，較佳為光配向層及密紋。作為光配向層，尤 佳為如聚肉桂酸乙烯酯般藉由二聚化而表現出配向性的光 配向層，作為密紋，尤佳為預先藉由機械加工或雷射加工 而製作的主輥的壓紋處理。 [反射層] 為了有效率地進行製造製程中的曝光，或者使製造過 程中的光學特性的評價變得容易，雙折射性圖案製作材料 42 201235221.

亦可具有反射層。作為反射層並無特別限定，較佳為無消 偏光性的反射層，例如可列舉：鋁或銀等的金屬層、由'介 電質多層膜形成的反射層、具有光澤的印刷層。另外，亦 可使用透射率為8%〜92%且反射率為8%〜92%的半透射 半反射層。半透射半反射層由於減小金屬層的厚度的方法 可廉價地進打製造’故而較佳。另一方面，由金屬形成的 半透射半反射層由於有吸收’故而可在無吸收的情況下控 制透射率與反料的介電質乡層魏光財的觀點而 言較佳。 [雙折射性轉印箔所需的層的先形成] 關於下述構成雙折射性轉印箱的層、例如脫模層 著層等，亦可視需要在職雙折射性圖案之前，或者形成 =異向性層之前形成。尤其是雙折射性圖案製作材料的 支樓體直接成為雙折雜轉㈣賊時支魏的情況下， ^匕光學異向性層更靠近臨時切體側而存在的脫模層較 佳為在形成光學異向性層之前預先形成。該㈣的詳細情 〉兄見下女。 L塗佈方法] =異向彳^、配向料各層可藉由如下方法並藉由 塗^\=塗佈法、氣刀塗佈法、旋轉塗佈法、失縫 ί幕式塗佈法、輥塗法、線棒塗佈法、凹版塗佈 3 _纖294 _書）。亦可同時 m二Γί 關於同時塗佈的方法，在美國專利 號、美國專利294腦號、美國專利35卿47號、 43 201235221

T^TLTj52l ^ m^K 干弟253頁、朝倉書店（ 1973)中 % 作][圖案化光學異向性層的製作及雙折射性轉印箱的製 圖荦圖案製作材料進行規定的步驟而製作 一步視需要形成追加層，可製作 =:向性層時進行的步驟並無特別限^例化 =依力二:熱寫入等。較佳為藉由對雙折射性圖案 ’序進行圖案曝光與加熱，而有效率地製 化光學異向性層。 Μ㈣Μ圖案 [圖案曝光] 在本說明書t ’所謂圖案曝光，是指以僅曝光雙折射 性圖案製作材料的一部分區域的方式進行的曝光或對2個 以上區域進行的曝光條件彼此不同的曝光。曝光條件彼此 不同的曝光亦可包括未曝光（不曝光）。作為圖案曝光的手 法1為使用遮罩的接觸曝光、接近式曝光、投景彡曝光等， 亦可採用使用雷射或電子束等在無遮罩的情況下對所決定 的位置聚焦而直接繪圖的掃描曝光。另外，雙折射性圖案 製作材料的形態為單片時可採用分批式曝光，為輥形態時 可採用RtoR (roli-to^ou，捲對捲）式曝光。作為上述曝 光的光源的照射波長，較佳為在25〇 nm〜45〇 nm的範圍 内具有波峰，更佳為在3〇〇 nm〜41〇 nm的範圍内具有波 峰。具體而言，可列舉··超高壓水銀燈、高壓水銀燈、金 44 201235221、 ^tlZrOlUli 屬齒1物燈、藍光雷射等。作為較佳的曝光量，通常為3 mJ/cm : 2000 mj/cm2左右，更佳為 5 mJ/cm2〜1〇〇〇 mJ/cm2 左右，最佳為l0mj/cm2〜5〇〇mJ/cm2左右。藉由使圖案曝 光的解析度成為1· dpi以上’可形成微縮印刷潛像，故 而較佳。為了提高解析度，較佳為在圖案曝光時需要圖案 ^光學異向性層為固體，且厚度為10 μηι以下。為了實現 1度為ΙΟμιη以下，較佳為圖案化光學異向性層是將含有 聚a !·生液aa化合物的層配向固定化而成的層，尤佳為聚合 性液晶化合物具有交聯機制不_ 2種以上的反應性基。 另外’作為使肖Rt0R式曝光的情況下所使用的捲芯並 j特別限制，較佳為外控為1〇 mm〜3〇⑻左右的捲 =更仏為外從為20 mm〜2000 mm左右的捲芯，進而更 =為外控為3〇111111〜麵_左右的捲芯。作為捲繞在捲 心上時的張力並無特別限制，較佳為1N〜2000 N左右， 更佳為3N〜1500N左右，進而更佳為5N〜1〇〇〇N左右。 [圖案曝光時的曝光條件] 在對雙折射性圖案製作材料的2個以上區域進行曝光 條件彼此不_曝糾，「2似上區域」可具有相互重疊 的部位’亦可不具有相互重疊的部分，較佳為不具有相互 重疊的部位。圖案曝光可藉由多次曝光而進行，或者亦可 使用例如具有根據區域而顯示不同透射光譜的2個以上區 域的遮罩等並藉由i次曝光而進行，或亦可組合兩者。即， 在圖案曝光時，只要是以產生林同曝光條件下曝光的2 個以上區域的形式進行曝光即可。在使崎描曝光的情況 45 201235221 ipif 光源強度、改變曝光區域 ’針對每個區域改變曝光 下，可藉由根據曝光區域而改變 的照射點、改變掃描速度等手法 條件，故而較佳。 可列舉：曝光峰值波長、 曝光時的溫度、曝光時的 作為曝光條件並無特別限定， 曝光照度、曝光時間、曝光量、 眼光峰值祕件聽的容祕的觀點μ，較佳為 光照度、曝光時間、及曝光量，更佳為 件下曝光的區域其後㈣鮮，在抑曝先條 俊、俶k而顯不出不同的且由曝光 °尤其是賦予不同的延遲值。即，藉 由在，案曝光時對每麵域娜曝光條件，經賴燒後可 ^作母個區域不同較具有所f延遲的雙折射性圖案。此 外’在不同曝光條件下曝光的2個以上曝光區域之間的曝 光條件可不連續地變化，亦可連續地變化。 [遮罩（mask)曝光] 作為產生曝光條件不同的曝光區域的手段之一，使用 曝光遮罩的曝光較為有用。例如在制麵光i個區域的 曝光遮罩精曝光後，改變溫度、環境、曝絲度、曝光 時間、曝光波長，進行使用另一遮罩的曝光或全面曝光， 藉此先曝光的區域與後曝光的區域的曝光條件可容易地變 更。另外，作為用於改變曝光照度、或者曝光波長的遮罩， 具有根據區域而顯示出不同的透射光譜的2個以上區域的 遮罩尤其有用。在該情況下，可僅憑藉一次曝光而對多個 區域進行不同的曝光照度、或者曝光波長的曝光。當然可 46 201235221 在不同曝光照度下進行相同時_曝光，而賦予不同的曝 光量。 [掃描曝光] 掃描曝光例如可應用藉由光在綠圖面上形成所需的二 維圖案的繪圖裝置而進行。 作為此種緣圖裝置的代表例，有如下圖像記錄裝置， 該圖像記雜置是崎由使自光束產生手段導出的光束經 由光束偏向掃描手段在被職體上進行掃描，而記錄規定 的圖像等的方式構成。此種圖像記錄裝置在進行圖像等的 =錄時，找應圖像訊號而婦自光束產生手段導出的光 束（曰本專利特開平7_52453號公報）。 另外’亦可使㈣由m主掃描方向旋轉的轉鼓 nm〇的外周面所貼合的被掃描體上，沿著崎描方向 =雷射光束而進行記錄的類型、及藉由對轉鼓的圓筒内 掃描體上旋轉掃描雷射光束而進行記錄 的類型（曰本專利2783481號）的裝置。 的亦二用利用相頭錢圖面上形成二維圖案 =圖裝置。例如可使用半導體基板或印刷版的製作所使 荦的切在感储料等的曝光面上形成所需二維圖 :::先裝置。作為此種曝光頭(exp〇sing㈣，代表例 生具有多個像素（Pixel)而構成所需'•唯g牵&丰 點，素陣列。藉由-邊使該曝光頭對曝二= 邊運作，可在曝光面上形成所需二維圖案。 作為如上述的曝光裝置，例如提出有使dmd (數位 47 201235221 -r 顯微鏡裝置）對曝光面沿著規定的掃描方向相對移動，同 時對應向其掃財向的飾，對dmd航憶科輸入與 多麵微鏡對應的包含多個繪圖點資料的幢資料，以時間 序列依序形成與DMD的顯微鏡對應的繪圖點群，藉此在 曝光面上形成所需圖像的曝光裝置（日本專利特開 2006-327084 號公報）。 作為曝光頭所具備的空間光調變元件，亦可使用上述 DMD以外的空間光調變元件。此外，空間光調變元件可 為反射型及透射型中的任一種。作為其他空間光調變元件 的例子’可列舉：MEMS ( Micr〇 Electro Mechanical Systems ’微機電系統）型的空間光調變元件（SLM，咖制 Light Modulator)、藉由電氣光學效果調變透射光的光學元 件（PLZT元件）、液晶光閘（FLC)等液晶快門陣列等。 此外，所謂MEMS ’是將利用以1C製造製程作為基礎的 微細加工技術製成的微細尺寸的感測器、致動器、及控制 電路積體化而成的微細系統的總稱，所謂MEMS型的空間 光調變元件’是指藉由利用靜電力的電氣機械動作而驅動 的空間光調變元件。 此外，亦可使用將多個繞射柵狀光閥（GLV，Grating Light Valve)排列成二維狀而構成的空間光調變元件。 作為曝光頭的光源，除了上述雷射光源以外，亦可使 用燈等。 [2層以上的光學異向性層的圖案曝光] 亦可在對雙折射性圖案製作材料進行圖案曝光而獲得 48 201235221 的^广圖案製作用轉印材料’其後 .,a L^ ^在该情況下，可在第一次及第二次均 ί 域(通常延遲值最低)、第-次為曝光部且 部的區域、及第-次及第二次均為曝光部 的值:此外有效地改變烘烤後殘留的延遲 2變得與第一次及第二次均為曝光部的 δ 5’地’藉由將轉印與圖案曝光交替進行三、 =之製作四個以上區域。該手法在欲於不同 二㈣条件無法獲得的差異(光學軸的 [加熱遲差異等)時較為有用。 針4^轉_雙折射性職製作材料，在 50 C以上、400 C以下’較佳為阶以上、氧以 加熱，可製作雙折射性圖^作為加 使用:溫風爐、馬弗爐、1r加熱器、陶曼加』L1 式加熱時所使用的捲芯並無 ，較二= 10 mm〜3000 mm左右的捲芯， 季4為外仫為 49 201235221 "ΤΙΛΟ Apif 此外 又折射性圖案亦可含有延遲實質上為〇的區 域。，例如在制具有2種以上反應性基的液晶性化合物形 成光學異向性層的情況下，如果在圖案曝光巾未曝光，則 有藉由上述烘烤使延遲消失，而實f上成為Q的情況。 亦可在經洪烤的雙折射性圖案 仙轉印，錢重新進行圖㈣光與烘烤 J組合第一次及第二次的曝光條件，而有效 烤後殘留的延遲的值。該手法在例如欲以 jit:向彼此不同的雙折射性的2個區域相互不重叠 的形式製作時較為有用。 里·"· [熱寫入] 質上’11輯未曝光區域進行烘烤，可使延遲實 二雙折射性圖案的物品除了含有基於 ==以外’亦可含有由熱寫入形成的潜像。教 馬入可使用熱寫頭或、红外… 行。例如，藉由Μ有叛=AG等的雷射繪圖而進 需要隱藏的資訊;、個!;:碩;小型印表機的組合 理編碼等）簡便地。=、有損設計性的商品管 寫入的紅外線或YAG雷射 直接使用對瓦楞紙箱等熱 [全面曝光等] 針對雙折射性圖案製作 述圖案曝光，進一牛相^材枓，進行全面曝光來代替上 可製作具有非圖案;;光學c姻後硬化’藉此 此外，針對雙折射性圖荦折射性轉印箱。 累t作材料，進行加熱處理來 50 201235221. i jjix 代替上述圖案曝光，亦可製作具有非圖案化光學異向性層 的雙折射性轉印落。 [雙折射性轉印箔的功能性層] 作為構成雙折射性轉印箱的功能性層，除了圖案化光 學異向性層以外，可列舉臨時支撲體、接著層補 的剝離層、脫模層、印刷層、反射層等。該等功能性層可 射性圖案製作材料中，亦可在製作圖案化 後形成。此外，在雙折射性圖案製作材料 丁 J靡1妾名成為雙折射性轉印箱的臨時支撐體的情況 形成脫模層與剝離層較佳為在形成光學異向性層之前預先 功能性層可藉由利用浸潰塗佈法 塗佈法、夾縫塗佈法、淋幕式涂 . 疋 ΐ二=佈法(美國專利26_號說明 :以，層。關於同時塗佈的方 == 號、美國專利2941898號、装固^㈣專利2761791 利35職號的各說明書及原號、美國專 253頁、朝倉書店（1973)中'有=者、塗佈工程學、第 能性層的性質而使用上述其他形成。另外’亦可根據功 [臨時支撐體] 夕ζ ° 作為構成雙折射性轉印 定，可為剛直的支樓n，亦可的臨時支撐體並無特別限 撓性支撐體。作為剛直的φ可撓性支撐體，較佳為可 I體並無特別限定，可列舉： 201235221 :有氧化矽皮膜的鈉玻璃板、低膨脹玻璃、無鹼玻璃、 央1板等公知的玻璃板，鋁板、鐵板、sus板等金屬 ，板、m石板等。作為可撓性支撐體並無特 ^可列舉：纖維素酯（例如纖維素乙酸酯、纖維素 =夂S曰、纖維素丁酸醋）、聚稀煙（例如降冰片稀系聚合 、聚$(甲基）丙烯酸酯（例如聚曱基丙烯酸曱酯）、聚碳 s夂s曰聚g旨及料、降冰片烯系聚 ㈣'布等。就操作的容易程度而言，作為剛直^稽氏體 的膜厚’較佳為!。—_μ.，更佳為 ^ Γ為可繞性支樓體的膜厚，較佳為3卿〜 Pm， 更隹為10 μηι〜2〇〇 μιη。 [接著層] 乍為構成雙折射性轉印箔的接著層，只要可盘 充分接著性，則無特別限制，可列舉感 成献性樹脂層及感熱性樹脂層等，較理想為 外，在用於使用半透明的反射層的半& =、丨轉㈣或*具有反射層的透明雙折射性轉印落 圍：佳為將透射率、霧度、延遲等光學特性限制 作為感壓性樹脂層，只要藉由施加壓力 性^無特·定，可使用：橡縣，_料， 醚系」石夕酉同系、聚醋系、聚胺基曱酸酉旨系、聚喊系、^ 橡膠等的黏著齊卜黏著劑在製造階段，塗 ° 使用溶劑型黏著劑，非水系乳液型黏著劑，水“二^ 52 201235221, 著劑 广祕型黏著劑，齡型黏著劑，餘硬化型黏著 誚，遲固型黏著劑等。橡膠_著劑 著技術彻)高分子_41 ( 1987)中二= 著劑有以碳數2〜碳數4的烷基乙烯基醚聚合 乍為劑的黏著劑、氯乙稀/乙酸乙烯醋共聚物、乙酸乙 聚合物:向聚乙烯醇縮丁料中混合塑化劑而成的黏 耆β °糊系崎劑可制為了職膜及賦傾的凝縮力 1使用橡膠狀魏院’為了賦予祕性或接著性而使用樹 月曰狀石夕氧⑥的黏著劑。錢性樹脂層的黏著躲的控制例 如可根據开)成感壓性樹脂層的素材的組成或分子量、交聯 方式、父聯性官能基的含有比例、交聯劑的調配比例等， 並藉由如調節其交聯度或分子量的先前公知的方法而適宜 進行。 感光性樹脂層包含感光性樹脂組合物，亦可使用市售 的材料。在用作接著層的情況下，感光性樹脂層較佳為由 至少含有聚合物、單體或寡聚物、及光聚合起始劑或光聚 合起始劑系的樹脂組合物所形成。關於聚合物、單體或寡 聚物、及光聚合起始劑或光聚合起始劑系，可參照曰本專 利特開2007-121986號公報的[0082]〜[0085]所記載的内 容。 就有效地防止不均的觀點而言，感光性樹脂層較佳為 含有適當的界面活性劑。作為界面活性劑，可參照曰本專 利特開2007-121986號公報的[0095]〜[0105]中所記載的内 容。 53 201235221 姓為感熱性樹脂層，只要藉由加熱而表現出接著性， 一^、別限定，可使用熱塑性樹脂及熱硬化性樹脂中的任 採用熱塑性樹脂的情況下可藉由加熱而進行軟化 =’錢行冷卻*發揮接著性，在熱硬化性樹脂 原本具有流祕的樹脂可藉由加熱進行反應、硬 3揮接著性。兩者各自具有不同優點，可根據用途分 開使用。 熱塑性触可以各獅式料祕性樹脂層 ，此處， 2地分為溶解或者分散至有機溶射而使用的有機溶劑 二塑性樹脂、與溶解或者分散至水系溶劑中而使用的水 糸熱塑性樹脂進行說明。 作為有機溶劑系熱塑性樹脂，只要藉由加熱等而表現 出與被巧印體的接著性，則無特別限定，例如可列舉：溶 齊^系乙烯··乙酸乙烯酯共聚合樹脂、聚醯胺樹脂、聚酯樹 月曰、^聚乙烯樹脂、乙烯_丙烯酸異丁酯共聚合樹脂、縮丁醛 2月曰、t乙酸乙烯酯樹脂、氣乙烯_乙酸乙烯酯共聚合樹 月^、纖維素衍生物、聚曱基丙稀酸曱_脂等丙婦酸^樹 聚$笨乙稀樹脂、苯乙烯-丙烯酸系樹脂、聚乙烯基醚樹 脂、聚胺基曱酸酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚丙烯樹脂、環 氧樹脂、酚樹脂、苯乙烯-丁二烯_苯乙烯嵌段共聚物 (SBS)、苯乙烯·異戊二烯-苯乙烯嵌段共聚物（sis)、苯 乙稀-乙烯-丁歸-苯乙烯嵌段共聚物（SEBS)、苯乙埽乙稀 -丙烯-笨乙烯嵌段共聚物（SEPS)等熱塑性彈性體，或反 應系熱熔樹脂等。作為更具體的例子，可列舉：東洋摩頓 54 201235221 ιζ,ο ιριι (Toyo Morton)公司製造的「AD1790-15」、DIC公司製 造的「M-720AH」、大日本油墨公司製造的「A-928」、大 日本油墨公司製造的「A-450」、大日本油墨公司製造的 「A-100Z-4」、東亞合成公司製造的「Aron Melt PES360」、 「Aron Melt PES375」、東洋紡績公司製造的「Vylon 550」、 rVylonBX1001」、「VylonUR8700」等。 作為水分散系熱塑性樹脂，只要藉由加熱等而表現出 與被轉印體的接著性，則無特別限定，例如可列舉：乙酸 乙烯酯共聚合聚烯烴、水分散系乙烯-乙酸乙烯酯共聚合樹 脂、乙烯-甲基丙烯酸曱g旨（EMMA)共聚合樹脂、聚酯系 月？c基甲酸自旨樹脂、水分散系聚醋樹脂等。作為更具體的例 子’可列舉：三井化學公司製造的「V-100」、「V-200」、中 央理化工業公司製造的「EC-1700」、「MC-3800」、 「MC-4400」、「HA-1100」、中央理化工業公司製造的 『AC-3100」、大日本油墨公司製造的rAp_6〇LM」、東洋 紡績公司製造的「Vylonal MD-1985」、「vyiQnal MD-1930」、「VylonalMD_1335」等。 在形成感熱性樹脂層時，可在成為對象的層（圖案化 光學異向性層或圖案化光學異向性層上所形成的添加劑層 等）上直缝佈將上文列料魏轉或者分散至溶劑; 而成的感祕樹脂層用塗職並進行乾燥㈣ 脂層，料，亦可將上述祕雜闕用塗输暫日: 至支撐體上形域熱性樹脂層，再轉印至成為對象 之後’暫時剝離支撐體並進行積層。 θ 55

201235221 -r ± A.W 作為感熱性樹脂層用塗佈液的溶劑，可列舉：水、醇、 醯胺（例如N，N-二曱基曱醯胺）、亞砜（例如二曱基亞硬）、 雜環化合物（例如吡啶）、烴（例如苯、己烷）、函化烷（例 如氣仿、二氯曱烷）、酯（例如乙酸曱酯、乙酸丁酯）、酮 (例如丙酮、曱基乙基酮、曱基異丁基酮、環己酮）、峻（例 如四氫呋喃、1，2-二曱氧基乙烷）等。另外，亦可將兩種 以上溶劑混合使用。作為溶劑系熱塑性樹脂的溶劑，較佳 為甲苯、曱基乙基酮、乙酸乙酯、乙酸丁酯及其混合溶劑， 作為水分散系熱塑性樹脂的溶劑，較佳為水、甲醇、乙醇、 丙醇及此等的混合溶劑。感熱性樹脂層用塗佈液可藉由棒 式塗佈機、刮刀塗佈機、模具塗佈機、凹版塗佈機等而塗 佈形成為1 μιη〜20 μηι的乾燥膜厚。 另外，在形成感熱性樹脂層時，可不使用溶劑，將熱 塑性樹脂本身熔融並塗佈至成為對象的層上。在該情況 下’變得需要具備加熱熔融設備的專用的塗佈機（稱為熱 炫塗佈機或加熱輥塗佈機），但由於是無溶劑的塗佈，故而 具有抑制環境負擔、變得可使用難溶性的熱紐樹脂等優 =。:為難溶性的熱塑性樹脂，例如可列舉結晶性聚酿樹 曰、、不僅限於聚酯，結晶性的熱塑性樹脂均具有在炫 的’皿f下迅速地熔融的特性，其在·以下的保存性 的、、二#另方面，在熱壓轉印至被轉印體上時在熔點以上 的’皿度下容易轉，轉印性優異。 56 201235221 性樹脂的低分子量體、巴 米糠蠟、及小冠巴西標檲=閡蠟、木蠟、堪地里拉蠟、 蟲膠、及綠躐等動物系虫^4=系_ ’蜂壞、蟲躐、 費托蝶、酯蠟、及氧化增箸鼠、微晶蝶、聚乙稀犧、 及純地墙等紘物系壤類等的各’褐煤躐、地躐、 香、氮化松香、聚合松香的可•松 該等熱溶融性化合物較佳Utl。 下、尤其是5 000以πτ 口佳為刀子1通常為1〇,〇〇〇以 的範圍的熱溶融性化合物化點為50°C〜150°C 用^種，亦可併用2種融性化合物可單獨使 性樹脂·力㈣。U或者村_韻上述熱塑 [接著層的光學特性] 接著層的Re較佳騎制為較低。 f本發明的雙折射性轉印_物品/由於雙折射3 接著層而被觀察到’故而如果接著層具有: =-Re會超過雙折射性圖案籠之如，而有損雙折射性^ 案的視覺顺性。賭而言，接著層的 以下，更佳為30胆以下，進而更佳為2〇nm 〇咖 [脫模層] 、為了提高轉印時的_性，亦可設置脫模層。 用脫模層’顧層與自賴層觀察時與臨時支撐體^ 側所形成的鄰接層（配向層、雙折射性層等）之間 穩定’可提高轉印時的轉印性。 作為脫模層，可應用脫模性樹脂、含有脫模劑的樹脂、 57 201235221 *+ιζ.〇 ipif 利用電離放射_行交聯的硬化性細旨等。作為脫模性樹 脂’例如可列舉：I系樹脂、石夕酮、三聚氰胺系樹脂、環 、丙歸酸系樹脂、纖維素系樹脂等，較 佳可列舉二聚樹脂。作為含有脫義的樹脂，例如 可列舉·添加或共聚合有氟系樹脂、矽酮、各種蠟等脫模 劑的丙稀㈣樹月旨、乙縣系樹脂、聚s旨樹脂、纖維素系 樹脂等。 +關於脫模層的形成，將該樹脂分散或溶解至溶劑中， 藉由觀塗、凹版塗佈等公知的塗佈方法進行塗佈並乾燥即 可。另外，視需要亦可在30。(：〜120。(：的溫度下進行加熱 乾燥、或者老化、或照射電離放射線而使之交聯。作為脫 模層的厚度，通常為001 μπι〜50μιη左右，較佳為〇5 μιη 〜3.0 μηι左右。 [印刷層] 雙折射性轉印箔為了獲得所需的視覺效果亦可具有印 刷層。所謂印刷層，可列舉形成有可利用可見光或紫外線、 紅外線等而視覺辨認的圖案的層等^ υν螢光油墨或IR油 墨由於本身亦為安全印刷，故而在提昇安全性方面較佳。 形成印刷層的方法並無特別限定，除了可使用一般已知的 凸版印刷、軟板印刷、凹版印刷、套版印刷、網版印刷以 外，亦可使用喷墨或乾式影印等。作為油墨，可使用各種 油墨，就耐久性的觀點而言，較佳為使用uv油墨。另外， 藉由形成解析度為1200 dpi以上的微縮印刷，亦可提高安 全性，故而較佳。 58 201235221 Μ-ΙΖ,ΟΐρΐΙ [反射層] 雙折射性轉印箱為了獲得所需的視覺效果亦可具有反 射層。尤其是藉由反射觀察而視覺辨認雙折射性圖案，並 且作為被轉印體的物品為非反射性的情況下，較佳為設置 反射層，以提昇雙折射性圖案的視覺辨認性。另外，在藉 由透射觀察而視覺辨認雙折射性圖案的情況下，哎作為 轉印體的物品為反射性的情況下，設置；;反:= 透明的反射層’躲用_整透射光與反射摘可見性亦 有用。作為反射層並無特職定，較佳為無消偏光性的反 射層’可列舉：金屬薄膜層、含金屬粒子層、介電質薄膜 作為金屬薄膜層所使用的金屬並無特別限定，可列 牛.鋁、鉻、錄、銀、金等。金屬薄膜層可為單層膜，亦 U =膜’例如可！I由真”膜法、物理氣相沈積法及 予乳相沈積法等而製造。作為含有反射性的金屬粒 層’例如可列舉印财金或銀等的油墨的層。 用^膜層可為單層膜，亦可為多層膜。作為所使 膜較=用與鄰接的層的折射率差大的材料所 鈐、炉化铉/回折射率材料’可列舉：氧化鈦、氧化 ^化^化ί、⑽銦等。作為低折射率材料，可列舉：二 氧化石夕、統鎂、氟倾、統銘等。 為二射層的情況下，反射層較佳 兼作反射層亦較/、接者層之間。另外’接著層 59 201235221 TlZ-O Iplf 在雙折射性轉印箱於雙折射性層與接著層之間的 二反射層的情況下’或者接著層兼作反射層的情況；地 折射性轉鴨由罩上偏光鏡，無論被轉印體 2先于特性如何，均可發揮良好的視覺辨認性。即，無认 反射性亦或透明’或者不透明且為非反射二 ‘的吊广後的雙折射性轉印箱均可發揮良 下，且以可見光區域的平均峨佳= 更佳為70%以上，進而更佳為8〇%以上。另 接有效地被轉印體上的設計的情況下，有不適 0存在反射率極高的反射層的情況。 [使用有雙折射性轉印羯的雙折射性圖案的轉印] 藉由使用雙折射性轉印落並進行規定步驟，可在 雙折射性圖案。轉印方法並無特別限制，可藉 品切ΐ ί雙折射性轉印_至物 物品上r 時支撑體’藉此使雙折射性圖案轉印至 較佳對應的接著法，對於感壓性樹脂層而言 ^為早相加_印，對於感紐樹脂層而讀佳為與 下的轉印，對於感熱性樹脂層而言較佳為加溫 的…、壓轉印（熱壓印、熱層壓等）。 體的=使Γ熱廢轉印的情況下的加熱溫度，根據被轉印 :種類而有所不同，較佳為6(TC〜2G(TC左右，更佳為 100C〜16GC的範圍。料，作為髓轉印時雜力，根 201235221 =印體的種類而有所不同，較佳為。5 — _ 使用熱騎或的::射性轉印箱的情況下，可 分’亦可使用 [轉印雙折射性層的物品] 轉㈣。 特別S本^明Ϊ雙Γ射性轉印箱的被轉印體的物品並無 =。:=:$塑膠，、木材、 Τ系樹脂、聚笨乙烯樹脂、聚對 =:=:)素維素二、 其表面或者内部具有金屬反射面在 =:商品'化粧品、:r::等有 的例;，用具有金屬反射面的物品。作為此種物品 電腦嗖體:：舉:Ϊ位相機表面、腕錶背面、懷錶背面、 表面、行動電話表面及背面、可攜式音樂播放器 的ρτρίΐ、=粧品t飲料的蓋子、點心或醫藥品所使用 今属矣=裝的表面及背面、藥品包裝用的金屬罐表面、貴 、， 珠貝飾口口表面等。或者轉印至包裹上文列舉的 201235221 具有金屬反射面_品的透明找 [轉印有雙㈣性層的物品的相錄佳 ㈣ΪΓ喊化異向性層作為雙折概層_品所具有 常大致為無色透明，僅可視覺辨認基於 二„象，另一方面’在由兩枚偏光板所夾持的情 二ί 偏光板觀察具有反射層或半透射反射層的 ，=情況下，會顯示追加的特徵性的明暗、或者色彩而 谷易措由目測酬。有效地_雜質並藉由上述製造方 法而獲得的轉印有雙折射性圖案的物品可用作例如防偽手 段。即’轉印有雙折射性圖案的物品藉由使用偏光板，可 識別通常目測下幾乎不可見的多色彩的圖像。雙折射性圖 案在不經由偏光板的情況下進行複製時不顯示任何圖像， 相反如果經由偏光板進行複製，則會殘留永久圖案、即無 偏光板亦可目測的圖案。因此，雙折射性圖案難以複製。 由於此種雙折射性圖案的製作方法並未普及，且材料亦特 殊，因認為適合用作防爲手段。 尤其是轉印有半透射半反射層與圖案化異向性層的物 品，可自轉印前印刷在物品上的文字或照片等上觀察所轉 印的雙折射性圖案。 轉印有雙折射性圖案的物品不僅具有由潛像產生的安 全效果，例如可藉由將圖案如條碼、QR碼般進行編碼， 而謀求與數位資訊的協作，此外亦可進行數位密碼化。另 外’藉由如上述形成高解析度潛像’經由偏光板亦可進行 肉眼無法辨別的微潛像印刷’可進一步提高安全性。此外， 62 201235221. ιριχ 藉由與利用υν螢光油墨、IR油墨等不可見油墨的印刷的 組合，亦可提高安全性。 轉印有雙折射性圖案的物品不僅安全，亦可賦予其他 功能’例如可與價格標籤或保質期等製品資訊顯示功能、 藉由印刷沾水後會變色的油墨的淹水檢測功能組合。 [光學元件] 另外，藉由上述製造方法而獲得的轉印有雙折射性層 的物品亦可利用於光學元件。例如將藉由上述製造方法而 獲得的雙折射性層轉印至玻璃等光學基材上而使用的情況 下，可製作僅對特定偏光產生效果的特殊光學元件。作為 一例’轉印有具有雙折射性層的繞射光柵的玻璃基板可作 為強力繞射特定偏光的偏光分離元件而發揮功能，可應用 於投影儀或光通信領域。 實例 以下，列舉實例更具體地說明本發明。以下實例所示 的材料、試劑、物質量與其比例、操作等只要不脫離本發 明的主旨，則可進行適宜變更。因此’本發明的範圍並不 限定於以下的具體例。 (配向層用塗佈液AL-1的製備） 製備下述組合物，利用孔徑為30 μπι的聚丙埽製過濾 器進行過濾，而用作配向層用塗佈液AL-1。 配向層用塗佈液組成（質量％) 63 201235221 曱基纖維素（15cp、和光純藥工業（股份）製造）0.50 蒸餾水 59.70 曱醇 39.80 (配向層用塗佈液AL-2的製備） 製備下述組合物，利用孔徑為30 μιη的聚丙烯製過濾 器進行過濾，而用作配向層用塗佈液AL-2。 配向層用塗佈液組成（質量％) 羥丙基曱基纖維素 (90ΜΡ-4000、松本油脂製藥（股份）製造）0.50 蒸餾水 59.70 曱醇 39.80 (配向層用塗佈液AL-3的製備） 製備下述組合物，利用孔徑為30 μιη的聚丙烯製過濾 器進行過濾，而用作配向層用塗佈液AL-3。 配向層用塗佈液組成（質量％) 羥乙基曱基纖維素 (ΜΕ-250Τ、松本油脂製藥（股份）製造） 0.50 蒸餾水 59.70 64 201235221. 曱醇 39.80

(配向層用塗佈液AL-4的製備） 製備下述組合物，利用孔徑為30 μπι的聚丙歸勢過 器進行過濾，而用作配向層用塗佈液AL-4。 <

配向層用塗佈液組成（質量％)

〇.5〇 59.70 39.80

(配向層用塗佈液AL-5的製備） 製備下述組合物，利用孔徑為30 μπι的聚内歸製、。 器進行過濾，而用作配向層用塗佈液AL-5。 ♦處 聚乙烯醇 蒸德水 曱醇

配向層用塗佈液組成（質量％) 〇.5〇 99.50 聚甲基丙烯酸曱酯 曱基乙基酮 (配向層用塗佈液AL-6的製備） 製備下述組合物，利用孔徑為30 μπι的聚兩稀製、 器進行過濾，而用作配向層用塗佈液AL-6。 過據 65 201235221 ~γ mj 1 pif 配向層用塗佈液組成（質量％) 羧曱基纖維素（東京化成工業（股份）製造）0.50 蒸餾水 59.70 曱醇 39.80 (光學異向性層用塗佈液LC-1的製備） 製備下述組合物後，利用孔徑為0.45 μιη的聚丙烯製 過渡器進行過遽，而用作光學異向性層用塗佈液LC-1。 LC-1-1是具有2個反應性基的液晶化合物，2個反應 性基中的一個為作為自由基性反應性基的丙烯醯基，另一 個是作為陽離子性反應性基的氧雜環丁基。 光學異向性層用塗佈液組成（質量％) 聚合性液晶化合物（LC-1-1) 32.88 水平配向劑（LC-1-2) 0.05 陽離子系光聚合起始劑 (CPI100-P、San-Apro股份有限公司製造） 0.66 聚合控制劑 (IRGANOX1076、汽巴精化（股份）製造）0.07 甲基乙基酮 46.34 環己酮 20.00 66 201235221 HJLZO ipi丄

(添加劑層用塗佈液OC-1的製備） 製備下述組合物後，利用孔徑為0.45 μιη的聚丙烯製 過濾器進行過濾，而用作轉印接著層用塗佈液OC-1。自由 基光聚合起始劑RPI-1是使用2-三氯曱基-5-(對苯乙烯基 苯乙烯基)1,3,4-噁二唑。B-1是曱基丙烯酸曱酯與曱基丙烯 酸的共聚物，其共聚合組成比（莫耳比）=60/40。 添加劑層用塗佈液組成（質量％) 黏合劑（B-1) 7.63 自由基光聚合起始劑（RPI-1) 0.49 界面活性劑溶液 0.03 (MegafacF-176PF、大日本油墨化學工業（股份）製 造） 曱基乙基酮 68.89 乙酸乙酯 15.34 67 201235221 乙酸丁酯

(感熱性接著層用塗佈液八!)“的製備） 製備下述組合物，而用作感熱性接著層用塗佈液 AD-1。 感熱性接著層用塗佈液組成（質量％) 35.25 64.75 聚酯系熱熔樹脂溶液 (PES375S4〇、東亞合成（股份）製造） 曱基乙基酮 (實例1 :雙折射性轉印箔的製作） 使用線棒，在厚度為50 μηι的聚萘二甲酸乙二酯骐 (Teonex Q83、帝人杜邦（股份）製造）的面上塗佈配向 層用塗佈液AL-1，進行乾燥而製成配向層。配向層的乾燥 膜厚為0.1 μιη。 繼而，對配向層進行摩擦處理後，使用線棒塗佈光學 異向性層用塗佈液LC-1，在膜面溫度為9〇°c下乾燥2分 鐘而形成液晶相狀態後，在空氣下使用16〇 w/cm的空氣 68 201235221、

ΤΙ ^,Ο IL/iL 冷卻金屬#化物燈（EyeGraphics (股份）製造）照射紫外 線，將此配向狀態固定化，而形成厚度為4 5 μηι的光學異 向性層。此時所使用的紫外線的照度在UV_A區域（波長 320 nm 400 nm的累言十）為6〇〇 mw/cm2，照射量在UV-A 區域為300 mJ/cm2。光學異向性層的延遲為4〇〇⑽，在 2^C下為固態聚合物。最後’在光學異向性層上使用線棒 i佈添加_用塗佈液，進行乾燥，形成膜厚為〇 8 μπι的添加綱，而製作雙折紐圖案製作材料w。 利用藉由雷射掃描曝光的數位曝光機（INpREx IP-3600H、富士軟片（股份）製造），如圖13所示使用 、14邊以、4Gm：r/em2㈣光量以捲對捲方式對 又轉性圖案製作材料ΪΜ進行圖案曝光。圖中，以純色 2的區域A的曝缝成為Gm：F/em2,橫線所示的區域B 兔:光里成為14 mT/em2 ’豎線所示的區域c的曝光量成 加行曝ί。其後，使用遠紅外線連續 了爐u捲·方式，以膜面溫度成為2l(rc的方式加 15分鐘’而將光學異向性層圖案化。 ，後’在添加㈣上使麟棒轉感錄接著層用塗 ΐ 進行乾燥，形成膜厚為2.〇卿的感熱性接著 i印/作具有圖案化光學異向性層的實例1的雙折射性 (實例2 :雙折射性轉印箔F_2的製作） 除了使用配向層用塗舰AL_2代替配向層用塗佈液 Μ外，與實例i同樣地製作雙折射性轉印结f_2。 69 201235221 (實例3 :雙折射性轉印落F_3的製作） 除了使用配向層用塗佈液AL-3代替配向 偏以外，與實例1同樣地製作雙折她轉印^3 (比較例1 .雙折射性轉印箔F_4的製作 除了使用配向層用塗佈液AL_4代 一’與實例丨同樣地製作雙折==佈液 (比較例2 :雙折射生轉㈣ρ·5的製作） 除了使用配向層用塗佈液AL_5代 AL-i以外，與實例i同樣地製作雙折射性轉印佈液 (比較例3 .雙折射性轉印箔F_6的製作） 除了將配向層驗餘設為ALm卜，

樣地製作雙折射性轉印箔F-6。 一貝1夕〗i丨。J (配向性的比較） 針對所製作的雙折射性轉印羯〜F_3及f_4〜f 6， 測定以曝光量12 G ml/em2進行曝光的區賴光學異向性声 的延遲。將結果示於表1。 曰 201235221. ^ιζ,ο lpil [表1] 編號 (本發明） F-2 (本發明） F-3 (本發明） F-4 (比較例） F-5 (比較例） F-6 甲基纖維素 經丙基甲基纖維素 羥乙基甲基纖維素 聚乙烯醇 聚曱基丙烯酸甲酯 延遲 410 ran 410 nm 410 ran 410 nm (比較例） 羧曱基纖維素 400 nm

的雙 以聚甲基崎㈣作桃_;.5^2對於此’ (剝離性的比較） 以感熱性接著層與紐有㈣物品的蒸鍍表面接觸的 方式配置雙折射性轉印箔F-1〜F-3及F-4〜F-6，使用層壓 機，在溫度200。(：、面壓〇.2Mpa、搬送速度1.0m/分鐘的 條件下進行熱壓轉印，而製作物品M-1〜M-3及M-4〜 M-6，並評價配向層的剝離性。 將結果示於表2。 71 201235221 -τ 1 1 [表2] 編號 配向層 剝離性 ' F-1 曱基纖維素 (本發明） 0 F-2 羥丙基曱基纖維素 (本發明） 〇 F-3 羥乙基甲基纖維素 (本發明） 〇 F-4 聚乙烯醇 (比較例） 聚甲基丙烯酸曱|旨 x(箱缺損半面以上) F-5 (比較例） 羧甲基纖維素 x(箔缺損半面以上) F-6 (比較例） x (箔缺損半面以上)

評價的^果為：得知配向層中具有燒細 烧細纖維素_基絲料物的雙折射 t維•^或 F-3無問題，相對於此，配向層中 F-1〜 或烧基醚纖維素_基烧基衍生雙素 〜F-5的配向膜的剝離性不足，斤^生轉印羯Μ 上。 因而轉印時箔缺損半面以 (保遵性的驗證） 將雙折射性轉印箔F-1〜p 1 ^ 的蒸鍍表©上，作物。μ轉卩至?:、鑛有銘的物品 ㈣料。: 1〜Μ·3，並評價配向膜的 … 在轉印時箔缺損，未能進行評價。 使用層壓機，將！Μ〜F_3在溫度意c、面壓〇 2

Mpa、搬送速度1.〇心分鐘的條件下進行熱壓轉印後，使 72 201235221. ^ti^oxpn 用摩擦試驗機，加重500 g ’利用紗布摩擦試驗面10次， 並目視觀察試驗面。試驗面均無變化，得知耐摩擦性良好。 即，評價的結果為：確認配向層中具有烷基醚化纖維素或 烷基醚纖維素的羥基烷基衍生物的雙折射性轉印箔F_i〜 F-3的保護性無問題。 (透明性的比較） 將雙折射性轉印箔F-1〜F-3及F-4〜F-ό轉印至白色 的氣乙烯卡片上，而製作物品M-1〜M-3及M-4〜M-6， 並根據440 nm下的反射光強度評價著色性。從而 向層的透明性。 [表3] 編號 F-1 (本發明） F-2 (本發明） F-3 (本發明） M-4 (比較例） M-5 (比較例） M-6 (比較例） 配向層 曱基纖維素 經丙基甲基纖維素 羥乙基甲基纖維素 聚乙烯醇 聚曱基丙稀酸甲商旨 羧曱基纖維素 44〇nm下的反射率 88% 84% 82% 67% 85% 67% 73 201235221

Ipif 性轉印箔F-l〜F-3、F-5具有較高的透明性，相對於此 配向骐中具有羧曱基纖維素、聚乙烯醇的雙折射性轉印落 F_4、F-6發生黃變，確認到440mn下的反射光減少。/ 【圖式簡單說明】 圖1是示意性地表示具有臨時支撐體、配向膜、及圖 案化光學異向性層的轉印箔的構成的圖。 圖2示意性地表示具有接著層及圖案化光學異向性芦 的轉印箔的構成的圖。 ~ 曰 圖3示意性地表示具有脫模層及圖案化光學異向性芦 的轉印箔的構成的圖。 〃 曰 圖4示意性地表示具有印刷層及圖案化光學異向性 的轉印箔的構成的圖。 ' 圖5 (a)、圖5 (b)示意性地表示具有添加劑層及圖 案化光學異向性層的轉印箔的構成的圖。 圖6 (a)、圖6 (b)、圖6 (c)示意性地表示具有多 層圖案化光學異向性層的轉印箔的構成的圖。 圖7 (a)、圖7 (b)示意性地表示雙折射性圖荦贺 材料的構成的圖。 ' 圖8 (a)、圖8 (b)示意性地表示具有印刷層的螯拼 射性圖案製作材料的構成的圖。 圖9 (a)、圖9 (b)示意性地表示具有反射層的轉印 里雙折射性圖案製作材料的構成的圖。 圖丨〇 U)、圖10 (b)示意性地表示具有添加劑層的 又折射性圖案製作材料的構成的圖。 201235221 ^ιζδ ipir 圖 11 ( a 圖11 (b)示意性地表示具有多層光學異 性層的又折射性圖案製作材料的構成的圖。 η·絲f i2 (a)、圖12 (b)示意性地表示具有使用雙折射 轉自所轉印的雙折射性圖㈣物品的構成的圖。 圖13表示實例所進行的圖案曝光的圖。 【主要元件符號說明】 11 :臨時支撐體或支撐體 12 .接著層 14 :脫模層 15 :配向層 16 :印刷層 17 :添加劑層 20 :光學異向性層 21 :反射層 22 :透射性物品主體 23 :反射性物品主體 101 :圖案化光學異向性層（雙折射性層） 101A、101B、101C、101D、101E、i〇if :區域 115 :第2配向層 75

Claims (1)

1. 201235221 HIZOipif 七、申請專利範圍： 體丄向一層種雙及折由射二轉具 =少其有:序為，支擇 合物的組合物所形成的雙折射，〔層的雙;性: 炫她纖維素或編化纖維素的經基 士 2‘如申請專利範圍第1項所述之雙折射性轉印荡，立 化ί維素中的燒基、以及上述烧細化纖維 ϊίΐϊΐ中的烷基醚化纖維素中的烷基及羥基 、元土 ’句為*原子數為丨〜3㈣絲紐基烧基。 “ 專利範圍第1項所述之雙折射性轉印落，盆 基基纖維素、經丙基甲基纖維素、或羥乙 包含圍第1項所述之雙折射性轉㈣，其 層、以及接著層 揮體、上述配向層、上述雙折射性 5.如申請專利範圍第1項所述之雙折射性轉 上射性層是藉由包括下述步_方法㈣成：、 層的步ίίίί射包含含有上述液晶性化合物的組合物的 射步驟的層進-步加熱至 令二申二利么圍：？所述之雙折射性轉印荡，其 則層疋包含兩個以上雙折射性不同的區域的 76 201235221 -τίΛϋ ipif 圖案化光學異向性層。 7.如申請專利範圍第6項所述之雙折射性轉印箔，其 中上述圖案化光學異向性層是藉由包括下述步驟的方法而 形成： 加熱或光照射包含含有上述液晶性化合物的組合物的 層的步驟； 對上述光照射後的層進行圖案曝光的步驟；以及 將圖案曝光後的層加熱至5(rc以上且4〇〇〇c以下的步 8. 如申請專利範圍第7項所述之雙折射性轉印箔，其 中上述液晶性化合物至少具有自由基性的反應性基與陽離 子性的反應性基。 9. 如申請專利範圍第8項所述之雙折射性轉印箔，其 中上述自由基性的反應性基為丙烯醯基及/或甲基丙烯醯 基，且上述陽離子性的反應性基為乙烯基醚基、 基及/或環氧基。 10. -種反祕物品，其雜在於：具錢用如 專利範㈣1項至帛9射任-項所狀雙折射性轉= 所轉印的雙折射性層。 轉印消 11. 一種透明物品，其特徵在於：具有使用如 利範圍第1項至第9項中任—項所述之雙折射性轉:專 轉印的雙折射性層。 卩冷所 77