TW201144241A - Apparatus and method for manufacturing float glass - Google Patents

Description

201144241 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明之例示實施例係關於一種製備浮法玻璃之裝置 及其方法，特別是一種具有改良結構之製備浮法玻螭之裝 置及其方法，俾以防止浮室中熔融金屬揮發之金屬蒸汽朝 向玻璃帶狀物移動。 本案主張2010年6月1曰向韓國智慧財產局申請之韓國 專利申請書編號10-2010-0051987之優先權，並且其内容完 全併入本發明中，以供參酌。 【先前技術】 一心而§ ’平板玻璃應用於工業上’如車輛或建築物 的窗玻璃（例如：鈉鈣玻璃），其大部分是利用習知的浮選工 序（floating process)所生產。另外，用於薄膜電晶體顯示器 (TFT displays)之薄玻璃片或玻璃膜（例如：無鹼性玻璃）或 其類似物亦為一種經由浮選工序所生產之浮法玻璃。 圖1係為一普遍的浮法玻璃製造系統之剖面示意圖。 參考圖1中普遍的浮法玻璃製造系統2,其包括，例如， 一浮室1’可用於密封填充於内之還原氣體氫氣（Η。及/或氮 軋（N2)，以防止炫融金屬μ被氧化β換言之，該浮室^包括 一底座墊塊6; —環狀墊塊7，其位於該底座墊塊6之上；以 及，一側邊密封8，其設置於該底座墊塊6與該環狀墊塊7之 間。該側邊密封8具有一排氣孔（ventingh〇le)8a。 3 201144241 同時，該環狀墊塊7包括一環狀磚層，該環狀磚層由複 數個耐火磚所組成’其耐火碑層内設置複數個加熱器9。該 加熱器9使得浮室丨之内部維持一預定的溫度。 然而，在普遍的浮法玻璃製造系統2中，如果浮動於浮 室1内之含錫熔融金屬Μ與存在於浮室1之氧氣反應，則熔 融金屬Μ會揮發形成錫氧化物（例如：一氧化錫）。若錫氧化 物經凝結及還原後’則會產生金屬錫並落在熔融玻璃G之表 面上’造成最後製成之浮法玻璃上具有缺陷。因此，為了 生產出高品質的浮法玻璃，就必須控制此類的晶體產生。 【發明内容】 本發明之例示實施例係為了解決先前技術的問題，因 此’該些例示實施例提供一種製備浮法玻璃之裝置與方 法’其中具有一改良結構’該改良結構可控制金屬（錫）蒸汽 無法朝玻璃帶狀物前進，其中，蒸汽係由未被熔融玻璃覆 蓋之熔融金屬自由端揮發產生。 於一態樣中，該例示實施例提供一種製備浮法玻璃之 裝置，其包括：一底座墊塊，其中熔融金屬浮動儲存於該 底座墊塊；一環狀墊塊，其覆蓋底部墊塊；以及一障壁， 其用於防止由底座墊塊兩側熔融金屬產生之蒸汽朝熔融玻 璃前進，或者用以維持熔融玻璃上方之狀態。 較佳地’該障壁係於環狀墊塊之長度方向上設置懸掛 自該環狀墊塊，且對應熔融玻璃之邊緣。

4 201144241 較佳地，該障壁具有一末端，該末端以一預定距離與 熔融金屬表面隔離。 較佳地，該障壁包含耐火材料。 較佳地，該耐火材料係為以氧化鋁為基底之材料或以 二氧化矽為基底之材料。 較佳地，該耐火材料包含矽線石基底之耐火碑。 本發明例示實施例之製備浮法玻璃裝置，可更包括一 冷卻器，其係包含於障壁内。 較佳地，該冷卻器包含一管體，該管體内儲有一冷卻 劑。 於另一態樣中，本發明示例性實施例提供一種製備浮 法玻璃之方法，其包括：使用上述實施例所述之製備浮法 玻璃裝置，自其浮室之一進口，持續地提供熔融玻璃至熔 融金屬上方；使該熔融玻璃於熔融金屬上方形成一玻璃帶 狀物；以及自該浮室之一出口，持續地拉出該玻璃帶狀物。 本發明之例示實施例所述之製備浮法玻璃之裝置與方 法，係藉由於浮室長度方向上設置一障壁於熔融金屬的表 面上方’以防止自熔融金屬揮發之錫蒸汽朝著玻璃帶狀物 前進。因此’該裝置及方法可根本地防止最後製成之浮法 玻璃因錫氧化物造成缺陷。 【實施方式】 本發明之其他目的及觀點’將參考所附圖式並於以下 實施例敘述中明顯地指出。 201144241 下文將參考所附圖式，根據例示實施例詳細敘述製備 浮法玻璃之裝置及方法。 在敘述之前，應了解使用於本說明書及隨附之申請專 利範圍之用語，不該被解釋為侷限在一般及字典上的意 義，而是在發明人可適當定義用語的原則基礎上，基於對 應本發明之技術觀點作出最佳的解釋。因此，此處描述僅 是為說明用之較佳實施例，不意欲限制本發明之範疇，應 了解的是，可作其他不悖離本發明精神及範疇的相等物及 修飾。 圖2係為一例示實施例之製備浮法玻璃裝置之分解透 視示意圓。圖3係圖2裝置之剖面圖。 參考圖2及3，此實施例之製備浮法玻璃裝置100，其包 括：一底座墊塊110,其中熔融金屬Μ填充並浮動於該底座 墊塊110; —環狀墊塊120,其位於底座墊塊110之上並覆蓋 著底座墊塊110 ;以及一側邊密封130，其介於環狀墊塊120 與底座墊塊110之間。 底座墊塊110、環狀墊塊120及側邊密封130裝設成一密 封的浮室106，其具有一進口 102及一出口 104。浮室106之 内部充滿氮氣（Ν2)及氫氣（Η2)之混合氣體，此混合氣體之壓 力保持在稍微大於大氣壓力。利用設置於環狀墊塊120磚層 内之加熱器122，將熔融金屬Μ及帶狀熔融玻璃G維持在溫 度約600°C至1300°C。該熔融玻璃G為無鹼性玻璃、鈉鈣玻 璃、或其類似物。在浮室106中產生熔融金屬Μ流動之原理 及結構，及熔融玻璃G之置入、形成帶狀物、移動或排出之 201144241 過程，係本領域所熟知之浮選工序，在此不再加以詳述。 元件符號141代表頂部軋親（t〇p-r〇ller)，其用於形成炫融玻 璃G。元件符號142代表變壓器，其用以提供及/或控制電力 於加熱器122。元件符號143代表匯流排，其係電性連接變 壓器142與加熱器122。元件符號145代表錫阻屏障（tin barrier) ’其用以控制溶融金屬μ的浮動方向。元件符號146 代表排氣系統，其用以排放在浮室106内的氣體至外部。元 件符號147代表冷卻構件，其用於冷卻底座塾塊11 〇。 底座墊塊110係由複數個磚Β所構成，該些磚Β係排列於 浮室106之長度方向’使得熔融金屬μ(如熔融錫、熔融錫合 金、或其類似物）可儲存於其上。該些磚Β由金屬外殼所包 圍（圓未示）。 側面密封130位於底座墊塊no之上表面及環狀墊塊 120之下表面’其幾乎隔離了浮室1 〇6之内部與外部，以密 封浮室106。側邊密封130係為複數個具有基本六面體形狀 之結構’其相鄰排列在浮室106之長度方向β侧邊密封13〇 可在幾個位置上具有排出孔丨34，使得排出孔134與排氣系 統146相通。 環狀塾塊120包含·鋼環狀外殼（steei i〇〇p casing) 124 ’ 其懸掛自設置浮室106之上部結構（圖未示，如建築物中的 橫樑）；以及，側邊墊塊126，其由内層保溫磚組成，且位 於環狀外殼124的下方空間。環狀墊塊12〇的内部空間以環 狀磚層（loop brick layer)劃分出上部空間與下部空間。 201144241 例示實施例之浮室106包括一障壁i5〇，該障壁150用以 防止金屬（錫）氧化物朝著熔融玻璃G前進，亦防止熔融玻璃 G上方狀態朝側邊密封13〇移動前進，也就是避免熔融玻璃 G朝浮室106兩側移動前進，其中，金屬（錫）氧化物由熔融 金屬Μ的表面產生，亦即，其係由未被熔融玻璃〇覆蓋之熔 融金屬Μ表面產生。 障壁150係設置懸掛自環狀墊塊12〇，以對應熔融玻璃〇 邊緣部份’並於浮室106之長度方向上連續或不連續地排 列。此外，障壁150較佳係對稱設置於浮室1〇6之兩側，以 免妨礙設於浮室106兩側之其他元件，如頂部軋輥141。另 外，如上所述，障壁150上端係設置懸掛自環狀墊塊12〇磚 層的下端，而對應於上端之障壁150下端則係以一預定距離 與熔融金屬Μ表面隔離》 障壁150係由與環狀墊塊120之相同材料製成，例如以 氧化鋁為基底之耐火材料或以二氧化矽為基底之耐火材 料，較佳地，障壁150包含矽線石基底（sillimanite-based)之 耐火碑。 如圖3所示，障壁150大致上將浮室106的内部空間劃分 成三個區域》換言之，設置於兩側之兩障壁150將浮室1 〇6 的内部空間劃分成：一中心空間105，其維持著形成玻璃之 必要狀態；以及側邊空間107 ’其中熔融金屬Μ的錫氧化物 可經由側邊密封130排出離開此側邊空間。因此，在浮室1〇6 之中心空間105内，由於熔融玻璃G大致上覆蓋著熔融金屬 Μ的整個表面，故基本上錫氧化物不會由此熔融金屬Μ之表 201144241 面揮發得到。此外，障壁150可防止存在於兩側側邊空間107 之錫氧化物滲透至中心空間105。 圖4係另一例示實施例之障壁剖面圖。 參考圖4 ’此實施例之障壁250具有一管體結構，其包 括：一由耐火磚組成之障壁體251; —冷卻器252，其設置 於障壁趙251内；以及一冷卻劑254(如：水），其儲存於冷卻 器252内。在此實施例中’當障壁25〇因浮室ι〇6的高溫環境 而被加熱時，在障壁250内分別提供冷卻劑252，用以冷卻 障壁250 »如本領域中具有通常知識者所知悉，冷卻器252 可包含除了管體之冷卻元件’而儲存於管體之冷卻劑254可 為除了水之冷卻材料。 例示實施例之浮法玻璃製備方法係藉由浮選工序，使 用上述實施例之製備浮法玻璃裝置1〇〇來製造具形成溫度 600至1，300°C之玻璃。換言之，熔融玻璃G相較於熔融金屬 Μ具有較低的黏度，且熔融玻璃g的比重約為熔融金屬μ的 2/3。經由浮室1〇6之進口 1〇2,持續地提供熔融玻璃g至裝 置100内’而後熔融玻璃G會朝著浮室106的下游端前進，並 於溶融金屬Μ上浮動展開。在此過程中，藉由表面張力及 重力’使熔融玻璃G可達到相等的厚度，進而形成凝固至特 定程度之玻璃條狀物（strip)或玻璃帶狀物（ribbon)GR。藉由 鄰近於浮室106出口 104之提升軋輥（lift-out rollers)(圖未 示）’將玻璃帶狀物GR拉出並拉向退火缓冷窯内（圖未示）β 此外’可根據置入進口 102之熔融玻璃G總量或取決於上升 軋輥轉速之拉引速度，或者於控制或改變形成元件（如設置 201144241 於浮室106之頂部軋輥141)時，改變製成玻璃帶狀物的厚 度。因此’本實施例之製備浮法玻璃裝置1〇〇可進行無休止 地循環程序且不中斷其運作。事實上，此實施例之裝置1〇〇 可長達幾年不間斷地製造浮法玻璃。在此，玻璃帶狀物GR之拉 引速度一般而言為1至200 ton/day。在此過程中，障壁15〇可防 止錫氧化物在長度方向上滲透至浮室106之中心區域，其中， 錫氧化物係由未被熔融玻璃G所覆蓋之熔融金屬Μ表面所產 生。因此，錫氧化物不會沉澱於玻璃帶狀物表面，可藉以 改善最後製成之產物品質。 本發明詳細地說明於其上。然而，應了解的是，本發明 較佳實施例時所提及的詳細敘述與具體實例，僅供說明之 用，藉由此處的詳細敘述，所屬技術領域中具有通常知識者 可明顯知悉本發明精神與範疇内之各種變化及修飾。 【圖式簡單說明】 圖1係一普遍的浮法玻璃製造系統之剖面示意圖。 圓2係一例示實施例之製備浮法玻璃裝置分解透視示意圖。 圖3係圓2裝置之剖面圖。 圃4係圖2之障壁修飾後之剖面圖。 【主要元件符號說明】 1 浮室 2 浮法玻璃製造系統 6 底座塾塊 7 環狀墊塊 8 側邊密封 8a 排氣孔 加熱器 100 進口 104 中心空間 106 側邊空間 110 環狀墊塊 122 鋼環狀外殼 126 側邊密封 134 頂部軋輥 142 匯流排 145 排氣系統 147 障壁 250 障壁體 252 冷卻劑 Β 炫融玻璃 GR 溶融金屬 製造浮法玻璃裝置 出口 浮室 底座墊塊 加熱器 側邊墊塊 排出孔 變壓器 錫阻屏障 冷卻構件 障壁 管體 磚 玻璃帶狀物

Claims (1)

1. 201144241 七、申請專利範圍： 1· 一種製備浮法玻璃之裝置，包括： 一底座墊塊’其中熔融金屬浮動儲存於該底座墊塊； 一環狀墊塊，其覆蓋該底部墊塊；以及 一障壁’係用於防止自該底座墊塊兩側熔融金屬產生 之蒸汽朝著熔融玻璃前進，或者用以維持該熔融玻璃上方 之狀態。 2. 如申請專利範圍第1項所述製備浮法玻璃之裝置，其 中，該障壁係於該環狀墊塊之長度方向上設置懸掛自該環 狀墊塊’並對應該熔融玻璃邊緣。 3. 如申請專利範圍第1項所述製備浮法玻璃之裝置，其 中，該障壁具有一末端，該末端係以一預定距離與該熔融 金屬表面隔離。 4. 如申請專利範圍第1項所述製備浮法玻璃之裝置，其 中’該障壁包含耐火材料。 5. 如申請專利範圍第4項所述製備浮法玻璃之裝置，其 中，該耐火材料係為以氧化鋁為基底之材料或以二氧化矽 為基底之材料》 6. 如申請專利範圍第5項所述製備浮法玻璃之裝置，其 中’該耐火材料包含矽線石基底之耐火磚。 7. 如申請專利範圍第1項所述製備浮法玻璃之裝置，其 中，更包括一冷卻器，係包含於該障壁内。 8. 如申請專利範圍第7項所述製備浮法玻璃之裝置，其 中’該冷卻器包含一管體，該管體内儲有一冷卻劑。 \2 201144241 9. 一種製備浮法玻璃之方法，包括： 使用如申請專利範圍第1項所述製備浮法玻璃之裝置， 自該裝置之一浮室之一進口，持續地提供熔融玻璃至熔融 金屬上方； 使該熔融玻璃於該熔融金屬上方形成一玻璃帶狀物；以 及 自該浮室之一出口，持續地拉出該玻璃帶狀物。 10, 一種浮法玻璃，係利用如申請專利範圍第9項所述之 方法製備所得。 八、圖式（請見下頁）： 13