TW200900475A - Galvanized fingerprint resistant light-cured combination, galvanized fingerprint resistant film and optical display device - Google Patents

Description

200900475 九、發明說明： 【每h 明 fiff Λ 】 技術領域 本發明係有關於-種可對於各種透明塑膠膜、透明塑 5膠板及玻璃等透明基材賦予耐指紋性的光硬化性組成物、 以及具有由㈣指紋性光硬化性組成物所形成之塗佈層的 财指紋性膜。

【先前技術:J 背景技術 10 近年來’液晶顯示裝置(液晶顯示器）已被使用於電腦、 文字處理機、電視機、行動電話、個人數位助理設備、可 擴式遊戲機等各種領域。又，具有藉由按壓畫面上之顯示 來操作设備之機構的.所謂觸摸面板顯示器正迅速地普及。 此種觸摸面板顯示器在例如，銀行ATM、自動販賣機、個 Μ人數位助理(PDA)、影印機、傳真機、遊戲機、設置在博物 館及百貨公司等設施的資訊顯示裝置、汽車導航、多媒體 站（S又置在便利商店的多功能終端機）、行動電話、鐵路車輛 的監視器裝置等中已被廣泛地使用。 對於此種液晶顯示裝置、觸摸面板顯示器等光學顯示 20裝置，已在追求不會在該等光學顯示裝置的表面上沾上指 紋痕，或是即使沾上指紋痕亦可簡單地擦拭掉的所謂耐指 紋性。此外，亦對於該等光學顯示裝置追求不會留下因使 用而產生之擦傷痕的耐擦傷性。特別是觸摸面板顯示器係 藉由手指觸摸顯示器表面來操作，故於其表面附著許多因 5 200900475 皮脂等脂質成分而產生之指紋痕，於是有該指紋痕之附著 妨礙設備終端機的可視性及操作性的問題。 作為使光學顯示裝置表面提高耐指紋性等防污性的方 法，已有人提出藉由塗佈矽油或氟聚合物，使表面的防污 5 性(撥水、撥油性)提高的方法。但是該方法只是將防污劑塗 佈於表面’故防污劑容易脫落使得防污性的效果無法持 久，亦即，有防污耐久性不佳的缺點。另一方面，也有藉 由使用含有該等矽油或氟聚合物等添加劑之塗佈組成物設 置塗佈層，使耐指紋性等防污性提高的方法。但是，該等 10 添加劑為一般所稱的軟區塊(soft block)，且同時具有賦予 樹脂可彎曲性的性質。於是有因添加該等添加劑而降低塗 佈層表面硬度等的機械性強度的缺點。 特開2004-230562號公報（專利文獻1)中記載一種硬塗 膜’其特徵在於·在透明基材膜之至少一面設置硬塗層， 15且該硬塗層由游離輻射感應型樹脂組成物的硬化物所構 成，並且以鹼性水溶液進行表面處理，使表面之水接觸角 為70°以下而形成（申請專利範圍第1項）。該硬塗膜一旦藉 由紫外線照射等使塗佈之組成物硬化後，便藉由使用鹼性 水溶液進行表面處理來調製。該方法需要在設置硬塗層後 2〇 另外進行表面處理，故步驟會增加，且繁雜。 特開2006-43919號公報(專利文獻2)中記載一種硬塗膜 的製造方法，其特徵在於：將基材膜黏合於在平均表面粗 度Ra為0.1//m以下之剝離膜上所形成之能量線硬化性硬塗 佈組成物層並且加熱後，藉由照射能量線使前述能量線硬 6 200900475 化〖生硬塗佈組成物層硬化並將硬塗層密接形成於前述基材 膜（申請專利範圍第丨項）。該硬塗膜係謀求藉由使用具有平 /月表面的基材膜以提高指紋擦拭性。又，該硬塗膜的特徵 在於以被夾持在剝離膜及基材膜之間的狀態設置硬塗層。 5因此’該製造方法亦需要用以使硬塗層呈被夾持之狀態的 調製步驟，其製造步驟是繁雜的。 特開2007-34027號公報（專利文獻3)中記載一種具有凹 凸表面的顯示器用表面材（申請專利範圍第1項）。並且，該 表面材之凹凸表面係藉由塗佈氧化鋁溶膠液後，接著浸潰 10於溫水中所形成（申請專利範圍第2項）。如其中所記載，該 表面材亦需要浸潰等後處理步驟，其製造步驟是繁雜的。 【專利文獻1】特開2004-230562號公報 【專利文獻2】特開2006-43919號公報 【專利文獻3】特開2007-34027號公報 15 【發明内容】 發明揭示 發明欲解決之課題 本發明係欲解決前述習知問題者，其目的在於提供一 種可藉由塗佈等相當簡便的步驟提高光學顯示裝置表面之 2〇 耐指紋性的耐指紋性光硬化性組成物。 解決課題之手段 本發明係提供一種耐指紋性光硬化性組成物，含有（Α) 含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂，且該含聚醚骨架胺基甲酸 乙酯樹脂係含有碳數3以上之環氧烷，並具有以下述式 7 200900475 【化1】 Η Ο

I II

——Ν——C—Ο — χ—R

[式中，X表示聚醚骨架；R表示Η或CH3] 5 表示之結構，而該聚醚骨架部分的平均分子量為1000以上 (但是分子中具有多數聚醚骨架部分時，亦可為合計該等多 數聚醚骨架部分後的平均分子量）者，藉此可達成前述目 的。 前述耐指紋性光硬化性組成物，含有（A)含聚醚骨架胺 10 基甲酸乙酯樹脂；（B)光聚合性多官能化合物；及(C)光聚合 引發劑， 且該(A)含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂最好是藉由使(a) 異氰酸酯及(b)含有碳數3以上之環氧烷的聚醚醇進行加成 反應而得到之含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂。 15 又，（A)含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂最好是藉由使 (a’）聚異氰酸酯、（b)含有碳數3以上之環氧烷的聚醚醇、 及(c)含氫氧基及光聚合性基單體進行加成反應而得到之含 聚醚骨架胺基曱酸乙酯樹脂，但是該含聚醚骨架胺基甲酸 乙酯樹脂係以具有以下述式 20 【化2】 Η 〇

--Ν——C——Ο — X——R

[式中，X表示聚醚骨架；R表示Η或CH3] 表示之結構為條件的含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂。 8 200900475 又，用於調製前述(A)含聚喊骨架胺基甲酸乙醋樹脂的 (b)含有减3以上之環氧制㈣醇，其料骨架部分的 HLB值（大衛斯法(Davis method))最好小於6。 此外，用於調製前述(A)含聚醚骨架胺基甲酸乙醋樹脂 5的（b)含有碳數3以上之環氧烷的聚醚醇，其重複數最好為 12〜52 。 此外，前述(A)含聚醚骨架胺基曱酸乙酯樹脂最好是藉 由使(a)異氰酸酯1〜50重量％及(b)含有碳數3以上之環氧烷 的聚醚醇99〜50重量％進行加成反應而得到之含聚醚骨架 10 胺基曱酸乙酯樹脂。 又，前述(A)含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂最好是藉由 使(a )聚異氰酸酯卜仙重量％、（b)含有碳數3以上之環氧烷 的聚醚醇94〜30重量％、及(c)含氫氧基及光聚合性基單體 5〜30重量％進行加成反應而得到之含聚醚骨架胺基甲酸乙 15 s旨樹脂。 本發明亦提供一種耐指紋性光硬化性組成物，含有前 述(A)含聚醚骨架胺基曱酸乙酯樹脂；（B)光聚合性多官能化 合物；及(C)光聚合引發劑， 且該(A)含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂係含有碳數3以 2〇上之環氧烷的含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂，且係藉由使 (a )聚異氰酸酯、及(b)含有碳數3以上之環氧烷的聚醚醇 進行加成反應調製。該(b)含有碳數3以上之環氧烷的聚醚 醇，其聚醇骨架部分的HLB值(大衛斯法)最好小於6。 前述耐指紋性光硬化性組成物，最好是包含有： 9 200900475 ⑷含聚趟骨架胺基甲酸乙醋樹脂0.1〜30重量％ ; (B) 光聚合性多官能化合物5〇〜99 8重量％ ;及 (C) 光聚合引發劑0丨〜如重量％， (但是，前述成分重量％均以組成物中的固體成分重量為基 5準，且各成分的固體成分合計重量為1〇〇重量％)。 本發明亦提供-種耐指紋性膜，係具有透明基材及塗 佈層者，且該塗佈層係藉由前述耐指紋性光硬化性組成物 所形成之塗佈層。 本發明亦提供一種光學顯示裝置，係於顯示器最表層 10使用藉由前述耐指紋性光硬化性組成物所形成之塗佈層 者。 發明效果 藉由使用本發明之耐指紋性光硬化性組成物，可更簡 便地將具有優異耐指紋性的塗佈層設置於光學顯示裝置等 15的表面。藉由本發明之耐指紋性光硬化性組成物所得到之 塗佈層，在透明性方面亦很優異，非常適合使用於光學顯 示裝置等的表面。藉由本發明之耐指紋性光硬化性組成物 所得到之塗佈層，更具有優異耐擦傷性以及表面膜硬度。 藉由本發明之耐指紋性光硬化性組成物所得到之塗佈層， 20即使是單層亦具有優異耐指紋性、高耐擦傷性以及表面膜 硬度。本發明之耐指紋性光硬化性組成物為光硬化性，故 有著可更簡便地在光學顯示裝置的表面上形成此種具有優 異性能的塗佈層的優點。因此，藉由使用本發明之耐指紋 性光硬化性組成物，可形成在生產效率及製造成本方面表 200900475 現優異的塗佈層、以及具有該塗佈層的耐指紋性膜。此外 該塗佈層具有可使耐指紋性長期維持，在耐指紋性耐久性 方面亦很優異的優點。 t實施方式3 5 實施發明之最佳型態 本發明之耐指紋性光硬化性組成物之特徵在於含有（A) 含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂。 (A)含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂 本發明之(A)含聚醚骨架胺基曱酸乙酯樹脂係含有碳 10 數3以上之環氧烷的含聚醚骨架胺基曱酸乙酯樹脂，且該聚 醚骨架部分的平均分子量為1 〇〇〇以上的胺基甲酸乙酯樹 脂。然後，藉由該(A)含聚醚骨架胺基曱酸乙酯樹脂包含於 光硬化性組成物中，將可展現優異耐指紋性。另外，本說 明書之「含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂」係指亦包含具有 15 重複單元之聚合物且該重複單元的數為2〜10的所謂低聚合 物者。 前述(A)含有碳數3以上之環氧烷的含聚醚骨架胺基曱 酸乙酯樹脂係具有以下述式 【化3】 20 Η Ο

I II

-Ν——C——Ο — X—R 表示之結構的樹脂。式中的「X」表示聚醚骨架；「R」表 示Η或CH3 〇以「X」表示之聚醚骨架之一例，可舉碳數3 以上之環氧烷。又，以「X」表示之聚醚骨架之另一例，可 11 200900475 舉由碳數3以上之環Μ及環氧以所構成之方塊型聚鍵 骨架。 在前述(Α)含有碳數3以上之環氧境的含聚㈣竿胺美 甲酸乙醋樹脂中，該聚醚骨架部分的平均分子量為1〇〇〇二 5上。但是，⑷含聚謎骨架胺基甲酸乙酸樹脂在分子中呈有 多數聚鍵骨架部分時’該平均分子量亦可為合計該等^數 «骨架部分後的平均分子量。亦即，包含於本發明之光 硬化性組成物的（Α)含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂其特徵 在於具有一定值以上之大小的分子量。 10 在本發明之第1態樣中，可藉由使(a)異氰酸酯及作)含 有碳數3以上之環氧烷的聚醚醇進行加成反應調製(A)含聚 醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂。 用於調製（A)含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂的（a)異氛 酸酯，可為其分子内具有1個NCO基的單異氰酸酯，亦可為 15 其分子内具有2個或2個以上NCO基的聚異氰酸酯。 單異氰酸酯的具體例可舉例如： 異氰酸甲酯、異氰酸乙酯、異氰酸丙酯、異氰酸異丙稀醋、 異氰酸苯酯、異氰酸甲苯酯、異氰酸萘酯等。此外，亦可 使用異氰酸（曱基）丙烯醯酯、異氰酸（甲基）丙烯醯氧乙醋、 20丨，1-異氰酸雙（丙烯醯氧甲基）乙酯、異氰酸二甲基甲-異丙烯 二苯乙二酮酯等含不飽和鍵異氰酸酯。 聚異氰酸酯的具體例可舉例如： 二異氰酸甲苯酯(TDI)、二異氰酸二苯甲烷酯（MDI)、二異 氰酸對苯酯、及二異氰酸萘酯等芳香族二異氰酸酯； 12 200900475 二異氰酸六亞甲酯（HMDI)、2,2,4-二異氰酸三甲基己烧醋、 及-—異氛酸離胺酸Sa專奴數3〜12的脂肪族二里氛酸g旨； 1，4-二異亂酸環己烧酯（CDI)、二異氰酸異佛酮醋（ipDi)、 4,4 -二異氰酸二ί哀己基甲烧醋（加氫裂解mdi)、二異氰酸 5甲基環己烷酯、4,4’ -二異氰酸異亞丙基二環己醋、及丨，3_ 二異氰酸甲基環己烷酯（加氫裂解XDI)、加氫裂解丁〇1、2 5_ 或2,6-雙（異氰酸甲酯）-雙環[2,2，1]庚烷（亦被稱為二異氣妒 降莰烯酯）等碳數5〜18的脂環式二異氰酸酿； ' ^ 一異亂酸一甲本S旨（XDI)、及二異氰酸四甲| 10 τ丞二甲笨西t (TMXDI)等具有芳香環的脂肪族二異氰酸略·，及 9 該等二異氰酸酯的改質物(例如，胺基曱酸乙酯化入物 二醯亞胺、胺基甲酸二酮（uret〇di〇ne)、 反 艰基甲酸亞 (uretoimine)、縮二脲（二聚物）、及異三聚 联 等）。 ·θ (二聚物） 該等可單獨使用，亦可合併2種以上使用 15 在本發明中，最好是使用（a，）聚異氰酸鴨作為⑷異 酉旨。猎由使用（a，）聚異氰酸醋調製㈧含聚鱗骨 、鼠酸 酯樹脂’可調製出具有聚崎骨架及光聚合性式：甲酸乙 甲酸乙醋樹脂’且可得到聚合度更大的含聚基 2〇酸乙S旨樹脂，藉此，可得到更優異的耐指紋性。胺基甲 本口兑月场中’⑷異氛酸醋」係指包含單異氛取在 酸酯中任一種者。 -曰及聚異氰 用於調製(A)含聚醚骨架 碳數3以上之環氧烷的聚醚醇 胺基甲酸乙8旨樹脂的(b)含有 ’係具有聚㈣架㈣^ 13 200900475 然後，該(b)聚醚醇以聚醚骨架中含有碳數3以上之環氧燒為 條件亦即，聚乙二醇不包含在本說明書之⑻含有碳數3 以上之環氧院的聚醚醇心該「碳數3以上之環氧烧」可舉 例如：以-〇_CH2-CH(CH3)-表示之環氧丙烷；以_0_(CH2)L 5表示之四氫呋喃；以-〇-CH2-CH(CH2Cl)_表示之3_環氧氯二 烷等碳數3〜4的環氧烷等。該「碳數3以上之環氧烷」以環 氧丙烷為較佳，且以異環氧丙烷為更佳。 在本發明使用之(A)含聚醚骨架胺基曱酸乙酯樹脂，其 聚醚骨架部分的平均分子量為1〇〇〇以上。亦即，在(a)含聚 1〇醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂的調製中，係使用平均分子量為 1000以上的（b)含有碳數3以上之環氧烷的聚醚醇進行調製 的。藉由使用平均分子量為1000以上的（b)含有碳數3以上之 %氧烷的聚醚醇調製含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂，將 可提高對於脂質成分的親和性，藉此可得到更優異的耐指 15紋性。另外’（b)聚醚醇的平均分子量一旦變得過大，則胺 基曱酸乙酯結合濃度會降低，故不理想。從胺基甲酸乙酯 結合濃度、甚至是混合時及塗裝時的作業性的觀點來看， (b)聚醚醇的平均分子量最好是在3〇〇〇以下。另外，在(A) 含聚謎骨架胺基甲酸乙酯樹脂的調製中，以將多數以前述 20式表不之聚醚骨架導入至其樹脂中為目的而使用（b)聚醚醇 時，此處提及之聚醚骨架部分的平均分子量係指，包含於 其樹脂中的多數聚醚醇骨架中的rx_R」部分的平均分子量 總和。 用於調製（A)含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂的（b)含有 14 200900475 碳數3以上之環氧烧的聚_，其藉由大衛斯法所測定之聚 醇骨架部分的HLB值以小於6為佳，且以小於5為更佳。另 外，HLB值的下限值以_2為佳。HLB值係指表示親水性及親 油性之程度的物性值。HLB值的代表性算出方法可舉格里 5芬法(Griffil1 method)及大衛斯法。在本說明書中，使用藉 由大衛斯法所算出之HLB值作為聚醇骨架部分的HLB值。 藉由用於調製(A)含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂的(b)含有 碳數3以上之環氧烷的聚醚醇的聚醇骨架部分的HLB值小 於6 ,將可提尚對於所得到之(a)含聚_骨架胺基曱酸乙酯 10樹脂的脂質成分的親和性，藉此可得到更優異的耐指紋性。 聚醇骨架部分的HLB值的算出方法之一的大衛斯法係 指’使用各官能基固有的常數(基數），藉由下述式算出的方 法。 聚醇骨架部分的HLB值=7+(親水基的基數總和)+(親油基的 15 基數總和） 【表1】 各官能基的基數 親水基 基數 -S〇3Na 38.7 -COOK '''''~~~~- 21.1 -COONa 一 19.1 >N<(4級脍） 酉曰（山梨醇奸環） 9.4 6.8 酯（游離)~~~ ' 2.4 -C0OH ''''''^ -OH ' 〜'- -OH(山隻曼許 -(C^CH^T'— 2.1 1.9 0.5 1.3 0.33 親油基 基數 -ch2- -0.475 ch3- -0.475 =CH- -0.475 -(CH(CH3)CH20)- -0.15 -((CH2)40)- -0.6 15 200900475 用於°周製（A)含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂的（b)含有 碳數3以上之現气w &乳燒的聚醚醇，以使用碳數3以上之環氧烷 的重複數為12〜s 52的聚醚醇為佳，且以使用該重複數為 5醇。的^喊醇為更佳。藉由使用具有前述重複數的聚醚 可提呵對於腊質成分的親和性，而可得到更優異的耐 指紋性。 另外則述(b)含有碳數3以上之環氧烷的聚醚醇，只要 疋3有石炭婁支3以上之環氧烧單元的多元醇即可。亦即，除了 聚丙二醇等以外，含有碳數3以上之環氧烧單元及環氧乙院 單福多價醇的聚環氧乙烧(叫聚環氧㈣(pG)_團聯聚 合物，具體而言，即EO_p〇_E〇乙二醇（末端E〇乙二醇）及 P〇~E〇_P〇乙二醇(末端PO乙二醇）等，亦可作為(b)聚醚醇， 用於調製(A)含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂。使用如前述的 聚環氧乙烷-聚環氧丙烷-團聯聚合物作為(的聚醚醇時，聚 15裱氧丙烷的重複數最好是12〜52。又，聚環氧乙烷_聚環氧 丙烷-團聯聚合物的EO%最好是在40%以下。 在本發明之(A)含聚醚骨架胺基曱酸乙酯樹脂的調製 中’為了呈不殘留游離之NCO基的狀態，亦即，可按(a)異 氰酸酯具有之NCO基可全部與(b)含有碳數3以上之環氧烷 20的聚醚醇具有之〇H基反應的莫耳數當量比，使用（a)異氰酸 酯及(b)含有碳數3以上之環氧烧的聚醚醇。在(a)含聚醚骨 架胺基甲酸乙醋樹脂的調製中，只使用（a)異氰酸醋及(b)含 有碳數3以上之環氧烷的聚醚醇時’最好是使(a)異氰酸酯 1〜5〇重量％及(b)含有碳數3以上之環氧烷的聚醚醇99〜50重 16 200900475 量％進行聚合。 在(A)含聚醚骨架胺基曱酸乙酯樹脂的調製的其他態 樣中’除了前述異氰酸酯成分及聚醚醇成分以外，更可使 用（c)含氫氧基及光聚合性基單體。在(A)含聚醚骨架胺基曱 5 酸乙酯樹脂的調製中，藉由使用（c)含氫氧基及光聚合性基 單體’所得到之(A)含聚醚骨架胺基曱酸乙酯樹脂會具有光 聚合性基’藉此可得到在耐指紋性耐久性方面更加優異的 耐指紋性光硬化性組成物。 具有此種光聚合性基的（A)含聚醚骨架胺基曱酸乙酯 10樹脂可藉由使(a’）聚異氰酸酯、（b)含有碳數3以上之環氧 烧的聚喊醇、及(c)含氫氧基及光聚合性基單體進行加成反 應而得到。但是’如前述般所得之含聚醚骨架胺基甲酸乙 酉曰樹爿日以具有下述式 【化4】 15 H〇

I II

—N—c 〜。一 χ—R

[式中’ X表示聚醚骨架；R表示Η或CH3] 表示之結構為條件。亦即，使(a，）聚異氛酸醋、（b)含有碳 數3以上之環氧燒的聚轉、及(c)含氯氧基及光聚合性基單 20體種成刀進仃加成反應時)聚異氰酸醋及⑻含有 碳數3，，環氧燒的聚㈣需進行加成反應。 ⑷3風减及光聚合性基單體可為具有1個光聚合性 土的單g此光來合性基單體，亦可為具有2個或2個以上光 聚口 1·生基的夕g能光聚合性基單體。在此，光聚合性基可 17 200900475 舉不飽和雙鍵基等。單官能光聚合性單體可舉例如：（曱基) 丙烯酸羥乙酯、（曱基）丙烯酸羥丙酯、（甲基）丙烯酸羥丁 酯、（曱基）丙烯酸-2-羥基-3-苯氧丙酯等。多官能光聚合性 單體可舉例如：（甲基）丙烯酸丙三醇二酯、（甲基）丙烯酸新 5戊四醇三酯、（甲基）丙烯酸二三羥曱丙烷三酯、（甲基）丙烯 酸二新戊四醇五酯、（甲基）丙烯酸三梨醇五酯等。 在(A)含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂的調製中，使用（c) 含氫氧基及光聚合性基單體時，使用（a，）聚異氰酸酯作為 異氰酸酯。藉由使用（a，）聚異氰酸酯調製(A)含聚醚骨架胺 基甲酸乙醋樹脂，可調製出具有聚喊骨架及光聚合性基兩 者的胺基甲酸乙酯樹脂。藉由使用如前述般所得到之含 聚醚骨架胺基甲酸乙酉旨樹脂，可得到在耐指紋性及耐指紋 性财久性方面很優異的耐指紋性光硬化性組成物。在本發 明之耐指紋性光硬化性组成物中，從耐指紋性、耐指紋性 财久性及表面硬度等觀點來看，以使用藉由使(a，）聚異氛 酸酯、⑼含有碳數3以上之環氧烧的聚騎、及⑷含氯氧 基及光聚合性基單體進行加成反應所得到之㈣骨架部分 的平均分子量為削㈣上的(A)含聚㈣架麟甲酸乙醋 樹脂為更佳。 2〇 在(A)含聚醚骨架胺基甲酸乙醋樹月旨的調製中，為了呈 不殘留游離之NCO基的狀態，亦即，可按(a,)聚異氛酸醋 具有之NCO基可全部與⑻含有碳數3以上之環氧烧的聚鍵 醇以及(C)含氫氧基及光聚合性基單體具有之OH基反應的 莫耳數當量比，使用（a，）聚異氰酸酿、⑻含有碳數3以上 18 200900475 之環氧烷的聚醚醇及（C)含氫氧基及光聚合性基單體。此 時，最好是使(a’）聚異氰酸酯丨〜仞重量％、（b)含有碳數3 以上之環氧炫的聚醚醇94〜30重量％及（(：)含氫氧基及光聚 合性基單體5〜30重量％進行聚合。 5 本發明之耐指紋性光硬化性組成物的另一態樣，可舉 含有(A)含聚醚骨架胺基曱酸乙酯樹脂；光聚合性多官能 化合物；及(C)光聚合引發劑，且該(A)含聚醚骨架胺基曱酸 乙酯樹脂係含有碳數3以上之環氧烷的含聚醚骨架胺基甲 酸乙酯樹脂，且係藉由使(a，）聚異氰酸酯、及作)含有碳數 10 3以上之環氧烧的聚醚醇進行加成反應調製的耐指紋性光 硬化性組成物。此時’（b)含有碳數3以上之環氧烷的聚醚 醇，其聚醇之骨架部分的HLB值最好小於6。 該(A)含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂係藉由使(a，）聚 異氰酸醋、及(b)含有碳數3以上之環氧烧的聚喊醇進行加成 15反應調製的含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂。並且用於調製 s亥(A)含聚鱗骨架胺基甲酸乙酯樹脂的作)含有碳數3以上之 環氧烧的聚_醇，其平均分子量亦可小於1〇〇〇。這是因為 該(A)含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂是使用（a’）聚異氰酸 酯，且未使用（c)含氫氧基及光聚合性基單體來調製的，因 20此’ 2個或2個以上(b)含有碳數3以上之環氧燒的聚驗醇會與 (a’）聚異氰酸酯具有的多數異氰酸酯基分別反應，藉此， 即使(b)聚謎醇的平均分子量小於丨〇〇〇，所得到之(A)含聚_ 骨架胺基甲酸乙酯樹脂的分子量亦會大到可充分發揮耐指 紋性的程度，例如包含於分子中的多數聚醚骨架部分合計 19 200900475 後的平均分子量會成為1000以上的緣故。此時，丨個化)聚鍵 醇的聚醇骨架部分的HLB值（大衛斯法）以小於6為佳。、 外，（b)含有碳數3以上之環氧烧的聚醚醇的平均分子旦、 7〇〇以上為更佳。 5 另外，因含有前述含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂而可 得到優異耐指紋性的理由，雖不侷限於理論，但可認為是 藉由分子中含有疏水性之碳數3以上之環氧烷及親水性之 胺基甲酸乙酯結合部，提高對於所得到之塗佈層之脂質成 分的親和性，而藉此提高耐指紋性。 10 聚合性多官能，化会物 本發明之耐指紋性光硬化性組成物之特徵在於含有（A) 含聚醚骨架胺基曱酸乙酯樹脂。而且，所謂的塗膜形成成 分，只要是光硬化性成分即可不特別受限地使用。此種耐 指紋性光硬化性組成物最好是含有光聚合性多官能化 15合物。（B)光聚合性多官能化合物可作為塗膜形成成分而起 作用。而且’藉由含有（B)光聚合性多官能化合物可提高耐 指紋性光硬化性組成物的光硬化性，還可提高所得到之塗 佈層的機械性強度。（B)光聚合性多官能化合物為一分子中 具有2個以上光聚合性基的化合物。可使用分子+具有2個 20以上（甲基）丙烯醯基的化合物作為(B)光聚合性多官能化合 物。（B)光聚合性多官能化合物最好是具有3個以上（曱基） 丙烯醯基的化合物。另外，（B)光聚合性多官能化合物只要 是具有2個以上（甲基）丙烯醯基的化合物的話，可為單體亦 可為低聚合物。 20 200900475 單體可舉（曱基）丙稀酸乙二 二醇二醋、（甲基）丙烯酸丙二

㈣二三經甲基丙烧四§旨、（甲基）丙烯酸二新戍四醇 五，六龍等（甲基)丙烯酸聚醇聚醋或其環氧烧改質物；異三 聚氰酸環氧燒改質物之（甲基)丙烯酸二或三醋等。 低聚D物可舉（曱基)丙稀酸聚醋醋、（甲基)丙稀酸環氧 ^、（甲基）_酸丙烯g旨等低聚合物。另外，可作為⑼光 I合性多官能化合物使用的該等低聚合物，其數量平均分 子里以300〜5000為佳，且以5〇〇〜3〇〇〇為更佳。—旦大於5〇〇〇 則會變成高黏度，有難以處理之虞。 15 該等（B)光聚合性多官能化合物可使用單獨1種，亦可

合併2種以上使用D 最好是使用一分子中具有3個或3個以上光聚合性基的 單體作為(B)光聚合性多官能化合物。藉由使用此種單體， 可更加提高所得到之塗佈層的機械性強度。理想的(B)光聚 20 合性多官能化合物可舉例如：丙浠酸新戊四醇三酯、丙稀 酸三羥曱基丙烷EO改質三酯、丙烯酸二新戊四醇五酯、丙 烯酸二新戊四醇六酯等。 相對於耐指紋性光硬化性組成物的固體成分，（B)光聚 合性多官能化合物以使用5〇〜99.8重量％(固體成分重量比) 21 200900475 左右為佳。（B)光聚合性多官能化合物的量少於50重量％ 時’會有耐擦傷性、表面膜硬度等物理性強度不佳之虞。 (C)光聚合彳丨恭_丨 本發明之耐指紋性光硬化性組成物最好是含有（c)光 5聚合引發劑。藉由存在(C)光聚合引發劑，將可提高對於活 性能量線照射的耐指紋性光硬化性組成物之聚合性。（C)光 聚合引發劑的例子可舉例如：烷苯酮系光聚合引發劑、氧 化酿基膦系光聚合引發劑、二茂鈦系光聚合引發劑、肟酯 系聚合引發劑等。烷苯酮系光聚合引發劑可舉例如：2,2_ 10二甲氧基-1，2-二苯乙烷酮、丨_羥基-環己基-苯基_酮、2_ 經基-2-曱基-1-苯基_丙烷小酮、羥乙氧)_苯基]_2_ 羥基-2-曱基-1-丙烷_丨_酮、2_羥基44444-(2-羥基_2曱基_ 丙醯)_二笨乙二酮]苯基}-2-甲基-丙烷-1-酮、2-甲基-1-(4-甲硫苯基)-2-嗎啉丙烷_ι_酮、2-二苯乙二酮_2_二甲胺_ι_(4_ 15嗎啉苯基)·丁酮-1、2-(二甲胺)-2-[(4-甲苯基）甲基]-i-[4_(4-嗎基）苯基]-1-丁嗣等。氧化醯基膦系光聚合引發劑可舉 例如：2,4,6-三甲基苯甲醯_二苯基_氧化膦、雙(2,4,6_三甲 基苯甲醯)-氧化苯基膦等。二茂鈦系光聚合引發劑可舉例 如：雙（?？5-2,4-環戊二烯·卜基)·雙(2,6-二氟+ 20基)_苯基）鈦等。肟酯系聚合引發劑可舉例如：1，2_辛二 酮，1-[4-(苯硫基)-，2-(鄰·苯甲醯肟)]、乙酮，i-[9_乙基_6·(2_ 甲基苯甲醯)-9Η-咔唑-3-基]-，1-(0-乙醯肟）、氧苯乙酸、2·[2_ 含氧基-2-本基乙酿氧乙氧基]乙醋、2-(2-經乙氧）乙g旨等。 此外，亦可使用一苯基酮、2,4,6-三甲基二苯基酮、苯甲醯 22 200900475 :二::::、2,4-二乙基噻噸酮、2-乙基蔥醌、樟_等脫 玉 * 4。該等光聚合引發劑可使用單獨1種，亦人 2種以上使用。 J “併 則述(。)光聚合引發劑中，以使用2經基- 務Hi姐環己基_苯基,、2^(1甲= 基)·2-嗎琳二 H、似二曱氧基-1，2-二苯乙燒小酮等為更佳。 :耐指紋性光硬化性組成物的固體成分重 10 15 20 光本口引發劑以使用1〜20重量%(固體成分重量比)左右為 佳。⑹光聚合引發劑的量偏離前述範圍時，會有光硬化性 不充为，且物理性強度不佳之虞。 其他成分 本發明之耐指紋性光硬化性組成物亦可視需要混人具 有1個乙烯性不姊基的化合物。藉由含有此飢合物，可 調整所得到之㈣層的密接性、硬度、及錄性。呈有⑽ 乙烯性不飽和基的化合物可舉（甲基)丙稀酸環己醋、（甲其) 丙烯酸錢醋、（甲基）丙烯酸四氫糠醋等具有環狀結構土的 (甲基)丙烯酸醋化合物；（甲基)丙稀酸2_窥乙_、（甲基)丙 稀酸2-經祕等（甲基）丙烯酸經㈣；（甲基）丙烯酸苯氧乙 醋等紛之炫氧基氧化物加合物的（甲基）丙稀酸酿化合物； (甲基）丙烯酸乙二醇一酯、（曱基）丙烯酸甲氧乙二醇一酯 (曱基)丙烯酸四乙二醇-醋、（甲基)丙稀酸三丙=醇一醋等 二元醇的（甲基）丙烯酸一酯；N_乙烯咯啶酮、队乙烯己内 醯胺等乙烯化合物等。 23 200900475 本發明之耐指紋性光硬化性組成物亦可視需要含有無 機填充劑。藉由含有無機填充劑，可使塗佈層的财擦傷性 及表面膜硬度更加提高。可使用的無機填充劑可舉例如金 屬或金屬氧化物的微粒子。金屬可舉例如：Si、Ti、A1、 5 Zn、Zr、In、Sn、Sb等。具體的無機填充劑可舉例如：二 氧化石夕、氧化銘、氧化锆、二氧化鈦等。該等無機填充劑 以平均粒徑5〜50nm左右者為更佳。另外，使用無機填充劑 時，相對於耐指紋性光硬化性組成物的固體成分重量，以 使用1〜50重量％左右為佳。無機填充劑的含有量超過50重 10 量％時，會有所得到之塗佈層膜的強度減弱之虞。 本發明之耐指紋性光硬化性組成物更可視需要含有作 為稀釋溶劑的有機溶劑。此種有機溶劑可舉例如：可使用 之溶劑的具體例為例如甲苯、二甲苯等芳香族系溶劑；己 烷、庚烷、辛烷、礦油精等脂肪族系溶劑；曱基乙基酮、 15 丙酮、甲基異丁基酮、環己酮等酮系溶劑；二***、異丙 醚、四氫。夫喃、二氧陸圜、乙二醇二甲醚、乙二醇二***、 二乙二醇二曱醚、二乙二醇二***、丙二醇一曱醚、苯曱 醚、苯***等醚系溶劑；醋酸乙酯、醋酸丁酯、醋酸異丙 酯、乙二醇二乙酸酯等酯系溶劑；二甲基甲醯胺、二乙基 20 甲醯胺、二曱基亞砜、N-甲基吡咯酮等醯胺系溶劑；甲基 賽路蘇、乙基賽路蘇、丁基賽路蘇等賽路蘇系溶劑：丙二 醇一曱基醚乙酸酯、丙二醇一乙基醚乙酸酯等醚酯系溶 劑；甲醇、乙醇、丙醇等醇系溶劑；二氯曱烷、二氯乙烷、 三氯甲烷等鹵系溶劑等。該等溶劑可單獨使用，亦可混合 24 200900475 使用。 本發明之耐指紋性光硬化性組成物更可視需要含有光 聚合引發辅助劑、防帶電劑、有機填料、聚合抑制劑、防 氧化劑、I外線吸收劑、光安定劑、消泡劑、均染劑、顏 5料等一般所使用之添加劑。例如，可理想地使用的光聚合 引發輔助劑可舉4-二曱胺苯甲酸乙酯、4-二曱胺苯甲酸異戊 酯、二丁基乙醇胺、曱基二乙醇胺等。 柯指紋性光硬化‘H：細占物 本發明之耐指紋性光硬化性組成物至少含有（A)含聚 10鱗骨架胺基甲酸乙酯樹脂、（B)光聚合性多官能化合物、及 (C)光聚合引發劑。然後，藉由使用本發明之耐指紋性光硬 化性組成物，可形成即使只有單層，其耐指紋性仍非常優 異，且耐擦傷性 '表面膜硬度及耐指紋性耐久性亦非常優 異的塗佈層。 又本發明之耐指紋性光硬化性組成物為光硬化性。 因此，在形成塗佈層時具有無須使之加熱聚合的優點。光 學顯示裝置中，亦含有許多内含例如樹脂膜等低财熱性構 件者。本發明之耐指紋性光硬化性組成物具有即使對於内 含此種低耐熱性構件的光學顯示裝置以及樹脂膜，亦可良 20 好地形成塗佈層的優點。 、本發明之耐指紋性光硬化性組成物可藉由混合前述成 刀來調製。又’調製組成物時，亦可視需要使用可用於稀 釋的有機溶劑。另外，本發明之耐指紋性光硬化性組成物 可稀釋使用，亦可不稀釋使用。 25 200900475 耐指紋性光硬化性組成物的調製方法，可藉由例如混 合前述(A)含聚醚骨架胺基曱酸乙酯樹脂、(B)光聚合性多官 能化合物、（C)光聚合引發劑，以及視需要追加之添加劑及 有機溶劑等來調製。 5 本發明之财指紋性光硬化性組成物，在不含有反應性 無機填充劑時，各成分以含有 (A) 含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂0.1〜30重量％ ; (B) 光聚合性多官能化合物50〜99.8重量％ ;及 (C) 光聚合引發劑0· 1〜20重量％ 10 (但是，前述成分重量％均以組成物中的固體成分重量為基 準，且各成分的固體成分合計重量為100重量％)的量為更 佳。 又，本發明之耐指紋性光硬化性組成物，在含有反應 性無機填充劑時，各成分以含有 15 (A)含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂0.1〜30重量％ ; (B) 光聚合性多官能化合物50〜99.7重量％ ; (C) 光聚合引發劑0.1〜20重量％ ;及 反應性無機填充劑0.1〜5 0重量％ (但是，前述成分重量％均以組成物中的固體成分重量為基 20 準，且各成分的固體成分合計重量為100重量％)的量為更 佳。 另外，本發明之耐指紋性光硬化性組成物最好是不含 有聚矽氧系添加劑及氟系添加劑中任一者。這是因為該等 添加劑雖然有提高所得到之塗佈層的撥水性及撥油性而提 26 200900475 南防污性的作用，但另一太&入 担丄 万面會有因該撥水性及撥油性的 间’而排除附著於塗佈層㈣脂成分，反而 顯眼之虞轉故。 讀 #由使財發明之耐指⑽光硬化性組錢，可 1周製耐減性膜。該耐指魄膜具有《基材及” 。«佈層雜前述耐指紋性光硬化性組成物所形成之 ’藉由該層的存在將可發和指紋性。 用於調製对指紋性膜的透明基材可使用例如：三醋酸 戴維素(TAC)膜、聚對苯二甲酸乙二醋(ρΕτ)膜、二醋酸纖 、隹素膜、Sf酸丁酸纖維素膜、聚㈣膜、聚丙烯系樹脂膜、 ，胺基甲酸乙醋系樹脂膜、聚s旨膜、聚碳酸祕、聚石風膜、 4醚膜、聚甲基戊烯膜、聚喊酉同膜、（甲基）丙稀腈膜等各種 透明塑膠膜，且最好是使用聚對苯二甲酸乙二醋作為透明 基材。另外，透明基材的厚度雖可視用途適時選擇，但— 15 叙可使用25〜1000 " m左右。 具有耐指紋性的塗佈層係藉由將前述耐指紋性光硬化 性組成物塗佈於透明基材上而形成的。耐指紋性光硬化性 組成物的塗佈方法可視对指紋性光硬化性組成物以及塗裝 步驟的狀況適時選擇，可藉由例如浸沾塗佈法、氣刀塗佈 20 法、簾式塗佈法、滾筒塗佈法、環棒塗佈法、凹板塗佈法 或擠壓塗佈法(該方法為美國專利2681294號記載之方法）等 塗佈。 接著藉由曝曬在活性能量線的照射下使塗裝於透明基 材上的耐指紋性光硬化性組成物硬化，並藉此形成耐指紋 27 200900475 性塗佈層。此時的照射以使用200〜250nm的波長光照射 0· 5〜240秒為佳。 又，藉由將本發明之耐指紋性光硬化性組成物塗裝於 光學顯示裝置的表面上，可在光學顯示裝置的表面上形成 5塗佈層。可使用本發明之耐指紋性光硬化性組成物設置塗 佈層的光學顯示裝置可舉液晶顯示裝置、CRT(陰極射線管) 顯不裝置、觸摸面板顯示器等。藉由將本發明之耐指紋性 光硬化性組成物塗佈於可用於該等光旋顯示裝置表面的各 種透明塑膠膜、透明塑膠板及玻璃等，可在光學顯示裝置 10 的表面上形成塗佈層。 耐指紋性光硬化性組成物的塗裝方法可舉例如：旋轉 塗佈法、浸沾塗佈法、凹板塗佈法、噴塗法、滾筒法、刷 塗法等。然後可視塗裝的光學顯示裝置種類選擇適當的塗 裝方法。在耐指紋性光硬化性組成物的塗裝中，以可使所 15得到之塗佈層厚度呈0.1〜20/zm來進行塗裝為佳。 接著藉由曝曬在活性能量線的照射下使塗裝於光學顯 不裝置的表面上的耐指紋性光硬化性組成物硬化，並藉此 形成耐指紋性塗佈層。此時的照射以使用2〇〇〜25〇nm的波 長光照射0_5〜240秒為佳。 2〇 【實施例】 藉由以下實施例更具體的說明本發明，但本發明不受 限於此。實施例中，只要沒有事先說明，「份」及「％」均 根據重量基準而定。 _盒·骨架胺基甲酸乙酯榭脂（1)的誦韻 28 200900475 將表2所示之重量份的（a)異氰酸酯、（b)聚醚醇、及(c) 含氫氧基及光聚合性基單體加入至反應容器後，接著加入 作為觸媒的月桂酸二丁錫10 0 0p p m、作為聚合抑制劑的對苯 二酚lOOOppm、及作為溶劑的甲基異丁基酮(MIBK，使用可 5 使固體成分呈40%的量），邊灌入空氣邊以80°C混合3小時， 即得到含聚醚骨架胺基曱酸乙酯樹脂（1)。 製造例2〜製造例18 除了表2〜4所示之各成分使用表所示的重量份以外，其 餘均與製造例1相同，即得到含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂 10 (2)〜(18)。 比較製造例1〜6 除了表5所示之各成分使用表所示的重量份以外，其餘 均與製造例1相同，即得到含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂 (19)〜(24)。 15 20 29 200900475 【表2】 表2 製造例1 製造例2 製造例3 製造例4 製造例5 製造例6 (a)異氰酸酯的種類 IPDI IPDI IPDI IPDI IPDI IPDI (a)的分子量 222 222 222 222 222 222 (a)的重量份 222 222 222 222 222 222 (b)聚醚醇的結構 PO PO PO PO EO-PO-EO EO-PO-EO (b)的平均分子量 (Mw) 1000 1000 2000 2000 1000 1000 (b)的重複數 17.2 17.2 34.4 34.4 17.6 17.6 PO 17.2 17.2 34.4 34.4 15.9 15.9 EO - - - - 1.8 1.8 EO佔的比例（％) - - - - 10% 10% (b)的聚醇骨架部分的 HLB值 4.4 4.4 1.8 1.8 5.2 5.2 (A)的聚醚骨架部分 的平均分子量（總和） 1000 2000 2000 4000 1000 2000 (b)的重量份 1000 2000 2000 4000 1000 2000 (C)含氫氧基及光聚合 性基單體 PETA* _ PETA* PETA* - (C)的重量份 450 - 450 - 450 - 含聚醚骨架氨基甲酸 乙酯樹脂 (1) (2) (3) (4) (5) (6) 30 10 200900475 【表3】 表3 製造例7 製造例8 製造例9 製造例10 製造例11 製造例12 (a)異氰酸酯的種類 IPDI IPDI IPDI IPDI IPDI IPDI (a)的分子量 222 222 222 222 222 222 (a)的重量份 222 222 222 222 222 222 (b)聚醚醇的結構 EO-PO-EO EO-PO-EO EO-PO-EO EO-PO-EO EO-PO-EO PTMG (b)的平均分子量 (Mw) 2450 2900 2900 2100 2800 1000 (b)的重複數 44.3 55.3 55.3 38.0 53.4 13.9 PO 35.5 33.2 33.2 30.4 32.0 - EO 8.9 22.1 22.1 7.6 21.4 - EO佔的比例（％) 20% 40% 40% 20% 40% - (b)的聚醇骨架部分的 HLB值 4.6 9.3 9.3 4.9 9.2 -1.3 (A)的聚醚骨架部分 的平均分子量（總和） 4900 2900 5800 4200 5600 1000 (b)的重量份 4900 2900 5800 4200 5600 1000 (C)含氫氧基及光聚合 性基單體 _ PETA* • _ PETA* (C)的重量份 - 450 - - - 450 含聚醚骨架氨基曱酸 乙酯樹脂 (7) ⑻ (9) (10) (11) (12) 31 10 200900475 【表4】 表4 製造例13 製造例14 製造例15 製造例16 製造例17 製造例18 (a)異氰酸酯的種類 IPDI MDI MDI HMDI HMDI IPDI (a)的分子量 222 250 250 168 168 222 (a)的重量份 222 250 250 168 168 222 (b)聚醚醇的結構 PTMG PO PO PO PO PO (b)的平均分子量 (Mw) 1000 1000 1000 1000 1000 700 (b)的重複數 13.9 17.2 17.2 17.2 17.2 12.0 PO - 17.2 17.2 17.2 17.2 12.0 EO - - - - - - EO佔的比例（％) - - - - - - (b)的聚醇骨架部分的 HLB值 -1.3 4.4 4.4 4.4 4.4 5.2 (A)的聚醚骨架部分 的平均分子量（總和） 2000 1000 2000 1000 2000 1400 (b)的重量份 2000 1000 2000 1000 2000 1400 (C)含氫氧基及光聚合 性基單體 _ PETA* _ PETA* • - (C)的重量份 - 450 - 450 - - 含聚醚骨架氨基曱酸 乙醋樹脂 (13) (14) (15) (16) (17) (18) 32 10 200900475 【表5】 表5 比較製造 例1 比較製造 例2 比較製造 例3 比較製造 例4 比較製造 例5 比較製造 例6 (a)異氰酸酯的種類 IPDI IPDI IPDI IPDI IPDI IPDI (a)的分子量 222 222 222 222 222 222 (a)的重量份 222 222 222 222 222 222 (b)聚醚醇的結構 EO PO PO PO PO PO (b)的平均分子量 (Mw) 1000 134 134 400 400 700 (b)的重複數 22.7 2.0 2.0 6.9 6.9 12.0 PO - 2.0 2.0 6.9 6.9 12.0 EO 22.7 - - - - - EO佔的比例（％) 1005 - - - - - (b)的聚醇骨架部分的 HLB值 14.5 6.7 6.7 6.0 6.0 5.2 (A)的聚醚骨架部分 的平均分子量（總和） 2000 134 268 400 800 700 (b)的重量份 2000 134 268 400 800 700 (C)含氫氧基及光聚合 性基單體 - PETA* - PETA* - PETA* (C)的重量份 - 450 - 450 - 450 含聚醚骨架氨基曱酸 乙酯樹脂 (19) (20) (21) (22) (23) (24) 前述表2〜5中， 5 IPDI ··二異氰酸異佛酮酯 MDI :二異氰酸二苯曱烷酯 HMDI :二異氰酸六亞曱酯 PO :聚丙二醇骨架 EO :聚乙二醇骨架 10 PTMG:聚伸丁二醇骨架 PETA* :丙烯酸新戊四醇三酯及丙烯酸新戊四醇四酯 的混合物（混合重量比60 : 40) 33 200900475 表2〜5中記載之「（b)的重複數」，係使用前述平均分子 量算出的計算值。 表2〜5中記載之(b)的聚醇骨架部分的HLB值，係藉由大 衛斯法使用本說明書記載之式算出的值。 5 實施例1 耐指紋性光硕化性組成物（1)的調製 混合由製造例1所得到之含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹 脂（1)3重量份、丙烯酸新戊四醇三酯及丙烯酸新戊四醇四酯 的混合物（混合重量比60 : 40)97重量份、及2-甲基-1[4-(甲 硫基)苯基]-2-嗎啉丙烷-1，7重量份後，接著將MIBK作為 10 溶劑調整至可使不揮發分率呈40重量％，即得到耐指紋性 光硬化性組成物。以塗佈棒(Νο·12)將所得到之組成物塗佈 於PET膜(厚100//m)上後’為了可使乾燥膜厚呈5y(Zni而以 80°C加熱1分鐘來除去並乾燥溶劑。之後，藉由以高壓水銀 燈（120W/cm)進行可使紫外線呈300mJ/cm2的能量的曝光使 15 之硬化後，會形成塗佈層，即得到耐指紋性膜。 f _施例2〜18 耐指紋性光硬化性組成物〔2)〜Π U$ 除了使用由製造例2〜18所得到之含聚謎骨架胺基甲酸 乙酯樹脂(2)〜(18)3重量份取代由製造例1所得到之含聚喊 骨架胺基曱酸乙酯樹脂（1)以外，其餘均與實施例1相同，即 20 得到耐指紋性光硬化性組成物。又，與實施例1同樣地形成 塗佈層後，即得到耐指紋性膜。 比較例1~6 糸躂化性組成物的調製 除了使用由比較製造例1〜6所得到之含聚_骨架胺基 甲酸乙酯樹脂（19)〜(24)3重量份取代由製造例1所得到之含 34 200900475 聚醚骨架胺基曱酸乙酯樹脂（1)以外，其餘均與實施例1相 同，即得到光硬化性組成物。又，與實施例1同樣地形成塗 佈層後，即得到膜。 比較例7 5 混合丙烯酸新戊四醇三酯及丙烯酸新戊四醇四酯的混 合物（混合重量比60: 40)100重量份、及2-甲基-1[4-(甲硫基) 苯基]-2-嗎啉丙烷-1-酮7重量份後，接著將MIBK作為溶劑 調整至可使不揮發分率呈40重量％，即得到光硬化性組成 物。使用所得到之組成物與實施例1同樣地形成塗佈層後， 10 即得到膜。 已如下述記載般進行具有所得到之塗佈層的樣品的評 估。另外，藉由該等評估方法所得之結果顯示於下述表。 陰霾（霧度)及全光線透過率的測定 使用霧度計（suga試驗機社製），測定樣品的擴散透射率 15 (Td(%))及前述全光線透過率(Tt(%))，算出陰霾值。表6〜9 所示之全光線透過率（％)及陰霾（％)，無論何者均為隔著在 調製塗佈層時作為基材使用的厚100 μ m的PET膜部份所測 定的值。 【數1】 20 Η (%) X 10 0 Η :陰霾（霧度)(％)

Td :擴散透射率(％)

Tt :全光線透過率（％) 油酸擦拭評估（耐指紋性） 35 200900475 在所得到之樣品的塗佈層上滴一滴油酸。接著，使用 擦拭布擦找1次、10次、20次及30次。按照前述測定評估試 驗前及評估試驗後的樣品的陰霾，來求出△陰霾值。所得 到之△陰霾值顯示於表。該△陰霾值越小，油脂成分的擦 5 拭性就越良好，亦即，可使耐指紋性越良好。 耐SW性評估 在lg/cm2的荷重下，使#0000的鋼絲絨在所得到之樣品 的塗佈層上分別往返10次、30次、50次、100次、及200次。 按照前述測定評估試驗前及評估試驗後的樣品的陰霾，來 10 求出△陰霾值。所得到之△陰霾值顯示於表。該△陰霾值 越小，越具有良好的表面硬度，可使塗佈層上難以產生傷 痕。 密接性評估 以小刀在所得到之樣品的塗佈層面劃上間隔1mm之縱 15 橫各11道的切口，製作出合計100個的格子。接著，使透明 膠帶Nichiban Cellotape(登錄商標）從上方完全地密接，並相 對於膜往45度方向一口氣撕下後，根據完全殘留在膜上的 格子數來評估。 20 36 200900475 【表6】 表6 實施例1 實施例2 實施例3 實施例4 實施例5 實施例6 含聚醚骨架氨基曱酸 乙醋樹脂 (1) (2) (3) (4) (5) (6) 陰霾(％) 0.5 0.4 0.5 0.5 0.3 0.3 全光線透過率（％) 91 91 92 91 91 91 耐 1次 -0.1 0.1 0.1 0.0 0.1 0.1 指 10次 -0.1 0.1 0.1 0.0 0.2 0.1 紋 20次 0.2 0.1 0.1 0.0 0.2 0.1 性 30次 0.2 0.4 0.3 0.0 0.4 0.1 耐 往返10次 -0.1 0.1 0.0 0.2 0.2 0.3 S 往返30次 0.2 0.1 0.3 0.2 0.3 0.4 W 往返50次 0.2 0.1 0.3 0.3 0.4 0.3 性 往返100次 0.3 0.4 0.3 0.3 0.4 0.4 往返200次 0.4 0.4 0.4 0.4 0.5 0.5 密接性評估 100/100 100/100 100/100 100/100 100/100 100/100 【表7】 表7 實施例7 實施例8 實施例9 實施例10 實施例11 實施例12 含聚醚骨架氨基曱酸 乙酯樹脂 (7) (8) (9) (10) (11) (12) 陰霾（％) 0.5 0.5 0.5 0.5 0.4 0.5 全光線透過率（％) 92 92 91 92 91 92 耐 1次 0.0 0.0 -0.1 0.0 -0.1 0.4 指 10次 0.0 0.0 0.0 0.0 -0.3 0.0 紋 20次 0.0 0.2 0.0 0.1 -0.3 0.1 性 30次 0.1 0.2 0.0 0.0 -0.2 0.1 而才 往返10次 0.0 0.3 0.3 0.1 -0.3 0.3 S 往返30次 0.2 0.3 0.4 0.2 0.2 0.3 W 性 往返50次 0.3 0.4 0.4 0.3 0.2 0.4 往返100次 0.3 0.5 0.4 0.4 0.3 0.4 往返200次 0.4 0.5 0.5 0.4 0.4 0.5 密接性評估 100/100 100/100 100/100 100/100 100/100 100/100 37 200900475 【表8】 表8 實施例13 實施例14 實施例15 實施例16 實施例17 實施例18 含聚醚骨架氨基甲酸 乙酯樹脂 (13) (14) (15) (16) (Π) (18) 陰霾(％) .- 0.4 0.4 0.5 0.5 0.5 0.5 全光線 透過率（％) 92 91 91 92 92 92 耐 指 1次 0.1 0.3 -0.1 0.0 0.0 — 0.0 0.1 0.4 0.0 0.5 0.0 -0.1 紋 20次 0.1 0.4 0.0 0.9 0.1 -0.1 性 30次 0.2 0.5 0.0 1.0 0.1 ^ 0.0 耐 S W 往返10次 0.1 0.3 -0.1 0.1 0.1 0.0 往返30次 0.3 0.3 0.0 0.1 〇.1 1 0.2 性 往返50次 0.3 0.3 0.3 0.1 0.4 0.3 往返100次 0.3 0.4 0.3 0.2 0.4 0.3 往返200攻 0.4 0.5 0.3 0.3 0.5 0.4 逆接性評估 100/100 100/100 100/100 100/100 ϊοο/ιοό^ 100/100 【表9】

藉由實施例之耐指紋性耐硬化性組成物所得到之耐指 紋性膜，其全光線料輕高，具有高透冊，而且耐指 紋性制SW㈣非常優異。糾，實關之齡密接^ 38 200900475 面亦很優異。另一方面，藉由比較例得到之膜，不論何者 均為耐指紋性相當不良者。 【產業上利用之可能性】 藉由使用本發明之耐指紋性光硬化性組成物，可更簡 5便地在光學顯示裝置等的表面設置具有優異耐指紋性的塗 佈層。藉由本發明之耐指紋性光硬化性組成物所得到之塗 佈層在透明性方面亦很優異，非常適合使用於光學顯示裝 置等的表面。藉由本發明之耐指紋性光硬化性組成物所得 到之塗佈層更具有優異耐擦傷性及表面膜硬度。此外，本 10發明之耐指紋性光硬化性組成物為光硬化性，故可更簡便 地在光學顯示裝置的表面上形成此種具有優異性能的塗佈 層。藉由使用本發明之耐指紋性光硬化性組成物，會具有 可形成在生產效率及製造成本方面表現優異之塗佈層的產 業上的優點。此外，該塗佈層可使耐指紋性長期維持，在 15 耐指紋性耐久性方面亦很優異。 C圖式簡單明】 第1圖係本發明之对指紋性膜的截面概略圖。 【主要元件符號說明】 1··.耐指紋性膜 5...透明基材 3. · ·塗饰層 39

Claims (1)

1. 200900475 十、申請專利範圍： 1. 一種耐指紋性光硬化性組成物，含有（A)含聚醚骨架胺 基甲酸乙酯樹脂，且該含聚醚骨架胺基曱酸乙酯樹脂係 含有碳數3以上之環氧烷，並具有以下述式表示之結 5 構，而該聚醚骨架部分的平均分子量為1000以上（但是 分子中具有多數聚醚骨架部分時，亦可為合計該等多數 聚醚骨架部分後的平均分子量）者， 【化1】 Η Ο I II 10 -Ν—c—〇 — X—R [式中，X表示聚醚骨架；R表示Η或CH3]。 2. 如申請專利範圍第1項之财指紋性光硬化性組成物，係 含有前述(A)含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂；（B)光聚合 性多官能化合物；及(C)光聚合引發劑者， 15 且該(A)含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂係藉由使(a) 異氰酸酯及(b)含有碳數3以上之環氧烷的聚醚醇進行加 成反應而得到之含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂。 3. 如申請專利範圍第1或2項之耐指紋性光硬化性組成 物，其中前述(A)含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂係藉由 20 使(a’）聚異氰酸酯、（b)含有碳數3以上之環氧烷的聚醚 醇、及(c)含氫氧基及光聚合性基單體進行加成反應而得 到之含聚醚骨架胺基曱酸乙酯樹脂，但是該含聚醚骨架 胺基甲酸乙酯樹脂以具有以下述式表示之結構為條件， 【化2】 40 200900475

   [式中’ X表示聚醚骨架；R表示Η或CH3]。 女申叫專利範圍第2或3項之对指紋性光硬化性組成 物’其中祕難前述⑷含料骨架胺基甲酸乙醋樹 月曰的(b) 3有兔數3以上之環氧炫的聚_醇，其聚醇骨架 部分的HLB值(大衛斯法(Davis method))小於6。 .士申4專利範®第2〜4項巾任-項之<指紋性光硬化性 組成物，其中用於調製前述(A)含聚醚骨架胺基甲酸乙 6曰樹知的(b)含有碳數3以上之環氧烷的聚醚醇，其重複 數為12〜52。 6. 如申請專利範圍第2項之耐指紋性光硬化性組成物，其 中鈾述(A)含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂係藉由使(&)異 氰酸酯1〜50重量％及(b)含有碳數3以上之環氧烷的聚醚 醇99〜50重量％進行加成反應而得到之含聚醚骨架胺基 曱酸乙酯樹脂。 7. 如申請專利範圍第3項之耐指紋性光硬化性組成物，其 中前述(A)含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂係藉由使(a，） 聚異氰酸酯1〜40重量％、（b)含有碳數3以上之環氧烷的 聚醚醇94〜30重量％、及(c)含氫氧基及光聚合性基單體 5〜30重量％進行加成反應而得到之含聚醚骨架胺基曱 酸乙S旨樹脂。 8. 如申請專利範圍第1項之耐指紋性光硬化性組成物，係 含有(A)含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂；光聚合性多 41 200900475 官能化合物；及(c)光聚合引發劑者， 且該(A)含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂係含有碳數 3以上之環氧烷的含聚醚骨架胺基甲酸乙酯樹脂，且係 藉由使(a’）聚異氰酸酯、及(b)含有碳數3以上之環氧烷 5 的聚醚醇進行加成反應調製。 9. 如申請專利範圍第8項之财指紋性光硬化性組成物，其 中前述(b)含有碳數3以上之環氧烷的聚醚醇，其聚醇骨 架部分的HLB值（大衛斯法）小於6。 10. 如申請專利範圍第2〜9項中任一項之耐指紋性光硬化性 10 組成物，包含有： (A) 含聚醚骨架胺基曱酸乙酯樹脂0.1〜30重量％ ; (B) 光聚合性多官能化合物50〜99.8重量％ ;及 (C) 光聚合引發劑0.1〜20重量％， (但是，前述成分重量％均以組成物中的固體成分重 15 量為基準，且各成分的固體成分合計重量為100重量％)。 11. 一種耐指紋性膜，係具有透明基材及塗佈層者，且該塗 佈層係由申請專利範圍第1〜10項中任一項之耐指紋性 光硬化性組成物所形成之塗佈層。 12. —種光學顯示裝置，係於顯示器最表層使用由申請專利 20 範圍第1〜10項中任一項之耐指紋性光硬化性組成物所 形成之塗佈層者。 42