TW200740288A - Mask, film forming method, light-emitting device, and electronic apparatus - Google Patents

Mask, film forming method, light-emitting device, and electronic apparatus

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9362501B2 (en) 2013-07-09 2016-06-07 Darwin Precisions Corporation Metal mask
TWI664724B (zh) * 2011-07-04 2019-07-01 三星顯示器有限公司 有機層沉積裝置

Families Citing this family (52)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007029523A1 (ja) * 2005-09-05 2007-03-15 Pioneer Corporation 被エッチング材の製造方法
JP2009044102A (ja) * 2007-08-10 2009-02-26 Sumitomo Chemical Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス素子及び製造方法
JP5092639B2 (ja) * 2007-09-14 2012-12-05 カシオ計算機株式会社 指針盤の製造方法
JP4541394B2 (ja) * 2007-10-31 2010-09-08 パナソニック株式会社 金属ローラの製造方法
GB2464158B (en) * 2008-10-10 2011-04-20 Nexeon Ltd A method of fabricating structured particles composed of silicon or a silicon-based material and their use in lithium rechargeable batteries
JP5620146B2 (ja) 2009-05-22 2014-11-05 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. 薄膜蒸着装置
JP5623786B2 (ja) 2009-05-22 2014-11-12 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. 薄膜蒸着装置
KR101193188B1 (ko) 2009-06-05 2012-10-19 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착 장치
US8882920B2 (en) 2009-06-05 2014-11-11 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus
US8882921B2 (en) 2009-06-08 2014-11-11 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus
KR101074792B1 (ko) * 2009-06-12 2011-10-19 삼성모바일디스플레이주식회사 박막 증착 장치
KR101117719B1 (ko) * 2009-06-24 2012-03-08 삼성모바일디스플레이주식회사 박막 증착 장치
KR101127575B1 (ko) 2009-08-10 2012-03-23 삼성모바일디스플레이주식회사 증착 가림막을 가지는 박막 증착 장치
JP5328726B2 (ja) 2009-08-25 2013-10-30 三星ディスプレイ株式會社 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光ディスプレイ装置の製造方法
JP5677785B2 (ja) 2009-08-27 2015-02-25 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd. 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法
US8696815B2 (en) 2009-09-01 2014-04-15 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus
US8876975B2 (en) 2009-10-19 2014-11-04 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus
KR20110060385A (ko) 2009-11-30 2011-06-08 삼성전자주식회사 제진유닛을 구비한 집진장치
KR101084184B1 (ko) 2010-01-11 2011-11-17 삼성모바일디스플레이주식회사 박막 증착 장치
KR101174875B1 (ko) 2010-01-14 2012-08-17 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치
KR101193186B1 (ko) 2010-02-01 2012-10-19 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치
KR101156441B1 (ko) 2010-03-11 2012-06-18 삼성모바일디스플레이주식회사 박막 증착 장치
KR101202348B1 (ko) 2010-04-06 2012-11-16 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법
US8894458B2 (en) 2010-04-28 2014-11-25 Samsung Display Co., Ltd. Thin film deposition apparatus, method of manufacturing organic light-emitting display device by using the apparatus, and organic light-emitting display device manufactured by using the method
KR101223723B1 (ko) 2010-07-07 2013-01-18 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착 장치, 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치
KR101146997B1 (ko) 2010-07-12 2012-05-23 삼성모바일디스플레이주식회사 패터닝 슬릿 시트 인장 장치
KR101673017B1 (ko) 2010-07-30 2016-11-07 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시장치의 제조 방법
KR101738531B1 (ko) 2010-10-22 2017-05-23 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 및 이에 따라 제조된 유기 발광 디스플레이 장치
KR101723506B1 (ko) 2010-10-22 2017-04-19 삼성디스플레이 주식회사 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법
KR20120045865A (ko) 2010-11-01 2012-05-09 삼성모바일디스플레이주식회사 유기층 증착 장치
KR20120065789A (ko) 2010-12-13 2012-06-21 삼성모바일디스플레이주식회사 유기층 증착 장치
KR101760897B1 (ko) 2011-01-12 2017-07-25 삼성디스플레이 주식회사 증착원 및 이를 구비하는 유기막 증착 장치
KR101840654B1 (ko) 2011-05-25 2018-03-22 삼성디스플레이 주식회사 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법
KR101852517B1 (ko) 2011-05-25 2018-04-27 삼성디스플레이 주식회사 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법
KR101857992B1 (ko) 2011-05-25 2018-05-16 삼성디스플레이 주식회사 패터닝 슬릿 시트 어셈블리, 유기막 증착 장치, 유기 발광 표시 장치 제조 방법 및 유기 발광 표시 장치
KR101857249B1 (ko) 2011-05-27 2018-05-14 삼성디스플레이 주식회사 패터닝 슬릿 시트 어셈블리, 유기막 증착 장치, 유기 발광 표시장치제조 방법 및 유기 발광 표시 장치
KR101288129B1 (ko) 2011-07-13 2013-07-19 삼성디스플레이 주식회사 기상 증착 장치, 기상 증착 방법 및 유기 발광 표시 장치 제조 방법
KR101328980B1 (ko) * 2011-07-13 2013-11-13 삼성디스플레이 주식회사 기상 증착 장치, 기상 증착 방법 및 유기 발광 표시 장치 제조 방법
KR102117951B1 (ko) * 2012-10-04 2020-06-02 성낙훈 브릿지 라인의 상부면과 메인 라인의 상부면이 동일 평면상에 위치되는 것을 특징으로 하는 마스크와 그의 제작방법.
KR20140118551A (ko) 2013-03-29 2014-10-08 삼성디스플레이 주식회사 증착 장치, 유기 발광 표시 장치 제조 방법 및 유기 발광 표시 장치
KR102037376B1 (ko) 2013-04-18 2019-10-29 삼성디스플레이 주식회사 패터닝 슬릿 시트, 이를 구비하는 증착장치, 이를 이용한 유기발광 디스플레이 장치 제조방법 및 유기발광 디스플레이 장치
KR102273049B1 (ko) * 2014-07-04 2021-07-06 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착용 마스크 프레임 어셈블리
JP6303154B2 (ja) * 2014-07-08 2018-04-04 株式会社ブイ・テクノロジー 成膜マスク、その製造方法及びタッチパネル
JP6376483B2 (ja) * 2017-01-10 2018-08-22 大日本印刷株式会社 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク装置の製造方法および蒸着マスクの良否判定方法
KR102404743B1 (ko) * 2018-01-24 2022-06-07 주식회사 오럼머티리얼 스틱 마스크, 스틱 마스크의 제조 방법 및 프레임 일체형 마스크의 제조 방법
CN108546913B (zh) * 2018-05-03 2021-04-27 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板及其制备方法
EP3614205A1 (fr) * 2018-08-22 2020-02-26 Nivarox-FAR S.A. Procede de fabrication d'un composant horloger et composant obtenu selon ce procede
CN112911813B (zh) * 2021-01-26 2022-07-12 深圳市景旺电子股份有限公司 改善pcb板阻焊菲林印的制作方法及制备的pcb板
CN113078279A (zh) * 2021-03-30 2021-07-06 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜版
CN113088875B (zh) * 2021-04-02 2022-12-13 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版及其制备方法
CN113308668B (zh) * 2021-05-20 2022-07-01 长江存储科技有限责任公司 掩板及在存储器件上镀膜的方法
TWI785762B (zh) * 2021-08-26 2022-12-01 達運精密工業股份有限公司 形成金屬遮罩的方法與金屬遮罩

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4049857A (en) * 1976-07-28 1977-09-20 International Business Machines Corporation Deposition mask and methods of making same
US4256532A (en) * 1977-07-05 1981-03-17 International Business Machines Corporation Method for making a silicon mask
US4328298A (en) * 1979-06-27 1982-05-04 The Perkin-Elmer Corporation Process for manufacturing lithography masks
US5154797A (en) * 1991-08-14 1992-10-13 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Silicon shadow mask
JP3813217B2 (ja) 1995-03-13 2006-08-23 パイオニア株式会社 有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの製造方法
JP3303667B2 (ja) * 1996-06-03 2002-07-22 富士電機株式会社 真空成膜用マスク
JPH10298738A (ja) * 1997-04-21 1998-11-10 Mitsubishi Chem Corp シャドウマスク及び蒸着方法
JPH10330911A (ja) * 1997-06-05 1998-12-15 Toray Ind Inc シャドーマスクおよびその製造方法
JPH11189862A (ja) * 1997-12-26 1999-07-13 Nippon Paint Co Ltd 有機着色薄膜の製造法
JP2002047560A (ja) * 2000-07-31 2002-02-15 Victor Co Of Japan Ltd 真空蒸着用マスク、それを用いた薄膜パターンの形成方法及びel素子の製造方法
KR20030002947A (ko) * 2001-07-03 2003-01-09 엘지전자 주식회사 풀칼라 유기 el 표시소자 및 제조방법
JP2003347047A (ja) * 2002-05-28 2003-12-05 Sony Corp 有機膜形成装置
KR100813832B1 (ko) * 2002-05-31 2008-03-17 삼성에스디아이 주식회사 증착용 마스크 프레임 조립체와 이의 제조방법
JP4222035B2 (ja) * 2003-01-20 2009-02-12 セイコーエプソン株式会社 成膜用精密マスク及びその製造方法、エレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法、電子機器
JP2005154879A (ja) * 2003-11-28 2005-06-16 Canon Components Inc 蒸着用メタルマスク及びそれを用いた蒸着パターンの製造方法
JP2006002243A (ja) * 2004-06-21 2006-01-05 Seiko Epson Corp マスク、マスクの製造方法、成膜方法、電子デバイス、及び電子機器

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI664724B (zh) * 2011-07-04 2019-07-01 三星顯示器有限公司 有機層沉積裝置
US9362501B2 (en) 2013-07-09 2016-06-07 Darwin Precisions Corporation Metal mask

Also Published As

Publication number Publication date
TWI416985B (zh) 2013-11-21
CN100999811A (zh) 2007-07-18
US20070157879A1 (en) 2007-07-12
US7794545B2 (en) 2010-09-14
KR20070075305A (ko) 2007-07-18
JP2007186740A (ja) 2007-07-26
KR101317794B1 (ko) 2013-10-15
JP4692290B2 (ja) 2011-06-01
CN100999811B (zh) 2012-04-04

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