JP6303154B2 - 成膜マスク、その製造方法及びタッチパネル - Google Patents
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Description
本発明の成膜マスクは、表示パネル5の表示面上に成膜形成される透明電極に対応して、該透明電極と形状寸法の同じ開口パターン4を有する磁性金属材料のマスク層1を金属母材上に電気めっきにより形成する第1ステップと、上記開口パターン4を横断して複数のサポートライン2aを有する磁性金属材料のサポート層2を、上記マスク層1の一面1aに電気めっきにより形成する第2ステップと、上記マスク層1の一面1aの周縁部を枠状のフレーム3に接続する第3ステップとを行って製造される。以下、各ステップを詳細に説明する。
先ず、図11(a)に示すように、金属母材7上の平坦面にフォトレジスト8が塗布される。このとき、フォトレジスト8は、形成しようとするマスク層1と略同じ40μm程度に厚みに塗布される。
先ず、図12(a)に示すように、上記金属母材7上に形成されたマスク層1上にフォトレジスト8が塗布される。このとき、フォトレジスト8は、形成しようとするサポート層2と略同じ10μm程度の厚みに塗布される。
先ず、図13(a)に示すように、一面1aにサポート層2を備えたマスク層1の該一面1aと枠状のフレーム3の端面3aとを対面させた状態で、マスクシート13を同図に示す矢印方向に一定の張力を与えてフレーム3に架張する。
従来のタッチパネルの製造は、表示パネル5をフッ酸により両面からエッチングして厚みを減じると共に、エッチングにより深さを増した表面の傷を研磨して除去する工程と、表示面の全面にITOの透明導電膜をスパッタリングして形成する工程と、該透明導電膜上にフォトレジストを塗布し、フォトマスクを使用して露光及び現像してレジストマスクを形成する工程と、該レジストマスクを使用して上記透明導電膜をエッチングし、透明電極を形成する工程とを実施するものであった。したがって、製造工程が複雑でランニングコストが高くなるという問題があった。
先ず、例えばスパッタリング成膜装置の真空チャンバー内の基板ホルダーに、表示パネル5が表示面をITOターゲット側として設置され、固定される。この場合、基板ホルダーには磁石14が内蔵されている。
1a…マスク層の一面
2…サポート層
2a…サポートライン(細線)
4…開口パターン
5…表示パネル(基板又は表示素子)
6…スペーサ
7…金属母材
14…磁石
R…赤色対応画素パターンの配列
G…緑色対応画素パターンの配列
B…青色対応画素パターンの配列
Claims (9)
- 基板上に成膜形成される薄膜パターンに対応して該薄膜パターンと形状寸法の同じ開口パターンを有するマスク層と、
前記開口パターンを横断して前記マスク層の一面に設けられた複数の細線を有するサポート層と、
を備え、
前記マスク層は、前記開口パターンの内部に位置して前記サポート層の細線を下支えするスペーサを含むことを特徴とする成膜マスク。 - 前記サポート層の細線は、前記基板と前記マスク層とが位置決めされた状態で、前記基板上に一列に並べて形成されている複数の矩形状パターンの配列方向と0度よりも大きく180度よりも小さい角度で交差するように設けられていることを特徴とする請求項1記載の成膜マスク。
- 前記サポート層の細線は、前記マスク層の一面にて、二次元平面内の一方向に延びて設けられていることを特徴とする請求項1又は2記載の成膜マスク。
- 前記サポート層の細線は、互いに異なる間隔を有する複数の細線を1組として複数組を一定の配列ピッチで配置したものであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の成膜マスク。
- 前記スペーサは、細長い細片状を成し、その長軸を前記サポート層の細線と交差させて設けられていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の成膜マスク。
- 前記マスク層と前記サポート層とは、磁性金属材料の2段階電気めっきにより形成されたものであることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の成膜マスク。
- 基板上に成膜形成される薄膜パターンに対応して、該薄膜パターンと形状寸法の同じ開口パターンを有する磁性金属材料のマスク層を金属母材上に電気めっきにより形成する第1ステップと、
前記開口パターンを横断して複数の細線を有する磁性金属材料のサポート層を、前記マスク層の一面に電気めっきにより形成する第2ステップと、
を行う成膜マスクの製造方法であって、
前記第1ステップでは、前記マスク層が前記開口パターンの形成と同時に、前記開口パターンの内部に位置して前記サポート層の細線を下支えするスペーサを含んで形成されることを特徴とする成膜マスクの製造方法。 - 成膜形成される透明電極と形状寸法の同じ開口パターンを有するマスク層と、前記開口パターンを横断して前記マスク層の一面に設けられた複数の細線を有するサポート層と、を備え、前記マスク層が前記開口パターンの内部に位置して前記サポート層の細線を下支えするスペーサを含む成膜マスクを使用して、前記サポート層側から表示素子の表示面に成膜形成された透明電極を有するタッチパネルであって、
前記表示素子の表示面への成膜により前記透明電極上に転写される前記細線の影は、互いに異なる間隔を有する複数の細線の影を1組として複数組が一定の配列ピッチで配置されていることを特徴とするタッチパネル。 - 前記細線の影は、前記表示素子に一列に並べて形成されている複数の画素パターンの配列方向と0度よりも大きく180度よりも小さい角度で交差していることを特徴とする請求項8記載のタッチパネル。
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