SE526526C2 - Sätt att belägga skär med A1203 samt ett med A1203 belagt skärverktyg - Google Patents

Description

U 20 25 30 35 526 526 förhållandena under deponeringen. Om standardtemperaturen för deponering med CVD kunde sänkas betydligt, förväntas en ökad seghet för det belagda verktyget.

En märkbar förbättring i prestanda för CVD-belagda verktyg erhölls då MTCVD(mediumtemperatur-CVD)-tekniken började användas inom verktygsindustrin för omkring 5-10 år sedan. Ett ökat seghetsbeteende erhölls för verktyget. Idag produceras merparten av verktygen med denna teknik. Olyckligtvis begränsas MTCVD- tekniken till endast framställning av Ti(C,N)-skikt.

Deponeringsprocessen sker här i temperaturområdet 700-900 °C och använder gasblandningar av CH3CN, TiCl3 och H2.

Det är allmänt accepterat att moderna verktygsbeläggningar ska innehålla även minst ett Al2O3-skikt för att erhålla högre gropförslitningsmotstånd. Det skulle därför vara önskvärt att även kunna deponera Al2O3-skikt av hög kvalité med en CVD- process, i ett temperaturomràde liknande den för MTCVD-TiCN- processen och närmare PVD-processens temperatur, om kombinerade PVD-CVD-beläggningar önskas.

Det är välkänt att Al2O3 kristalliserar i flera olika faser: a, K, y, 8, 6 etc. av Al2O3 med CVD är i området 980-1050 °C. Vid dessa temperaturer kan både enfasig K-A12O3 och enfasig a-Al2O3 Den mest vanliga temperaturen för deponering produceras eller blandningar därav. Emellanåt kan även 9-fasen förekomma i mindre mängder.

I US 5,674,564 visas en metod för att bilda ett skikt av finkornig K-aluminiumoxid genom att använda en låg deponeringstemperatur och höga koncentrationer av en svavelförening.

I US 5,487,625 visas en metod för att erhålla ett finkornigt a-A12O3-skikt med (012)-textur bestående av kolumnära korn med små tvärsnitt (omkring 1 um).

I US 5,766,782 visas en metod för att erhålla ett finkornigt a-Al2O3-skikt med (104)-textur.

Nanokristallina a-Al3O3-skikt kan deponeras med PVD- och PACVD-teknik vid låga temperaturer såsom visas i US 5,698,3l4, US 6,139,92l och US 5,5l6,588. Dock är dessa tekniker mycket mer tekniskt komplicerade, processkänsliga och har mindre 10 15 20 25 30 35 526 526 stegtäckning än CVD-tekniken då de används för att deponera G-Al2O3.

K-Al2O3-, y-Al2O3- och a-Al2O3-skikten har något olika förslitningsegenskaper vid bearbetning av olika material. I breda termer är d-fasen att föredra vid bearbetning av gjutjärn, medan K-fasen oftare används vid bearbetning av lågkolhaltiga stål. Önskvärt är även att ha sätt att producera a~Al2O3-skikt t ex vid temperaturer <700 °C som t ex kan kombineras med Ti(C,N)- skikt producerade med MTCVD eller som till och med kan deponeras på PVD-belagda skikt. Lågtemperaturprocesser för K-Al2O3 och y- A12o3 visas i Us 5,674,564 och i EP-A-1i22334.

Deponeringstemperaturer i områdena 800-950 °C och 700-900 °C visas.

I DE-A-101 15 390 visas en beläggning bestående av ett PVD- belagt inre skikt med ett toppskikt av Al2O3 deponerat med CVD- tekniken vid mediumtemperatur. Al2O3-skiktet kan väsentligen vara vilken som helst av modifikationerna: K, a, ö och amorf.

Temperaturen för deponeringsprocessen enligt uppfinningen är i omrâdet 700-850 °C. Dock visas ingen metod för att deponera a- Al2O3-fasen vid temperaturer lägre än 850 °C.

Eftersom a-Al2O3 är den stabila högtemperaturformen av aluminiumoxidfasen skulle man inte förvänta sig att den bildas vid temperaturer <800 °C. EP-A-1122334 och US 5,674,564 pekar mot den rimliga slutsatsen att endast de metastabila faserna är möjliga att erhålla vid dessa låga temperaturer. Hittills har det inte rapporterats om någon CVD-process som kan deponera väl kristallin a-Al2O3 vid temperaturer <800 °C som kan användas som verktygsbeläggning. Dock har lågtemperatur CVD-processer för A12O3-deponering med användning av Al-metallo-organiska föreningar rapporterats om i litteraturen. Sådana beläggningar är i allmänhet orena och har ingen eller låg kristallinitet och är därför inte lämpliga som verktygsbeläggningar.

Livslängden och prestanda för ett belagt skärverktyg är nära kopplat till vilken metod beläggningen producerats med. Såsom nämnts ovan ger i allmänhet processer med hög deponeringstemperatur skärverktyg med sämre seghetsbeteende jämfört med beläggningar deponerade vid lägre temperatur. Detta på grund av många faktorer som skillnaden i antalet 10 15 20 25 30 35 couple i n O 100000 svalningssprickor som bildas i beläggningen, skillnader i dragspänningstillståndet, processens påverkan på hårdmetallkroppen, t ex graden av avkolning och graden av diffusion av element från hårdmetallen in i beläggningen. Å andra sidan ger i allmänhet högtemperaturdeponering bättre vidhäftning för beläggningen på grund av en väsentlig diffundering av material från verktygskroppen in i den växande beläggningen.

Dock är det många bearbetningsoperationer där hög seghet hos verktyget är mer viktigt än stark vidhäftning för beläggningen.

I sådana bearbetningsoperationer används mest de segare PVD- belagda verktygen.

PVD-belagda verktyg saknar i allmänhet slitstyrka jämfört med CVD-belagda verktyg. Om temperaturen för CVD-processen kunde sänkas för alla, eller åtminstone de flesta, beläggningsstegen, så skulle högre seghet kunna förväntas och ett sådant CVD-belagt verktyg skulle bättre kunna komplettera de rena PVD-verktygen i operationer där både seghet och hög slitstyrka krävs.

Det är ett ändamål med föreliggande uppfinning att tillhandahålla en CVD-process för deponering av d-Al2O3-skikt vid en temperatur under 800 °C.

Det är vidare ett ändamål med föreliggande uppfinning att tillhandahålla ett på en hård verktygskropp, slitstark beläggning omfattande åtminstone ett skikt som består väsentligen av a-Al2O3 deponerad med CVD vid en temperatur (T) under 800 °C. Andra skikt i beläggningen kan deponeras med MTCVD- eller PVD-teknik och PACVD (plasma-CVD) vid låga temperaturer.

Det är ytterligare ett ändamål med föreliggande uppfinning att tillhandahålla ett aluminiumoxidbelagt skär, en solid hårdmetallborr eller hårdmetallpinnfräs med förbättrade skärprestanda i stål.

Fig. 1-3 visar svepelektronmikroskop(SEM)-mikrofoton i toppvyprojektioner av ett a-A12O3-skikt deponerat enligt föreliggande uppfinning i xl00O0 förstoring.

Fig. 1 visar ett a-Al2O3-skikt deponerat på ett verktyg förbelagt med TiN med PVD vid 690 °C. 10 15 20 25 30 35 526 526 Fig. 2 visar ett a-Al2O3-skikt deponerat på ett verktyg förbelagt med Ti(C,N) med CVD med ett mellanliggande Ti(C,O)~ skikt vid 690 °C.

Fig. 3 visar ett a-Al2O3-skikt deponerat på ett verktyg förbelagt med Ti(C,N) med ett mellanliggande Ti(C,O)-skikt vid 625 °C.

Fig. 4 visar ett röntgendiffraktionsmönster av en beläggning omfattande ett skikt deponerat enligt den uppfunna lågtemperatur-Al2O3-processen.

Det har överraskade visat sig, efter att utfört ett stort antal deponeringsexperiment, att även väl kristallina skikt bestående av 100 % a-Al2O3 faktiskt kan deponeras vid så låga temperaturer som ner till 625 °C, om Al2O3 deponeras på ett företrädesvis syrerikt skikt som först behandlats med en gasblandning som innehåller syre och den efterföljande Al2O3- processen använder en hög koncentration av C02 och en svaveltillsats, företrädesvis H28. Om syrebehandlingssteget utesluts bildas i huvudsak amorfa eller metastabila faser av A1203.

Föreliggande uppfinning avser alltså en metod för tillverkning av ett skärverktyg för metallbearbetning såsom svarvning, fräsning och borrning, omfattande en beläggning och ett substrat. Beläggningen omfattar åtminstone ett väl kristallint skikt bestående av 100 % a-Al2O3 deponerat vid 625- 800 °C med användning av kemisk àngdeponering. Substratet består av en hård legering såsom hàrdmetall, cermet, keramik eller snabbstàl eller de superhàrda materialen såsom kubisk bornitrid eller diamant.

Al2O3-skiktet enligt uppfinningen deponeras i allmänhet på ett substrat som har förbelagt med åtminstone ett slitstarkt innerskikt såsom känt i tekniken. Ett 0,1-1,5 pm mellanliggande skikt av TiCxNYOz där x+y+z>=1 och z>0, företrädesvis z>O,2 deponeras först vid 450-600 °C med användning av PVD-teknik eller vid 1000-1050 °C med användning av CVD-teknik. Innan starten av Al2O3-beläggningssteget behandlas TiCxNyOz-skiktet med gasblandning som innehåller 0,5-3 vol-% 02 företrädesvis CO2+H2 eller O2+H2, eventuellt med tillsats av 0,5-6 vol-% HCl en kort tidsperiod omkring 0,5-4 min vid temperaturer mellan 625 och 10 Ü 20 25 30 35 52 6 5 2 6 ”šš 1050 °C, företrädesvis omkring 1000 °C, om det mellanliggande skiktet deponeras med CVD eller runt 625 °C om det inre skiktet deponeras med PVD. Detta steg utförs för att öka syrehalten i ytzonen hos det mellanliggande skiktet. Det efterföljande processen med Al2O3-deponering utförs med följande koncentrationer i volym-%: 16-40 C02, 0,8-2 H28, 2-10 AlCl3, företrädesvis 2-7 vol-% HCl och resten H2 vid ett processtryck omkring 40-300 mbar och temperaturen 625-800, företrädesvis 625- 700, helst 650-695 °C.

I en alternativ utföringsform utesluts det mellanliggande TiCxNyOZ-skiktet och ytan på det inre skiktet skrapas innan Al2O3-beläggningssteget/-stegen med hårda partiklar t ex diamant i ett ultraljudsbad eller genom en blästringsbehandling. Detta gäller särskilt en PVD-förbelagd yta eller när deponeringen sker vid temperaturer under 675 °C.

Uppfinningen avser också ett skärverktyg omfattande en kropp av sintrad hårdmetall, cermet eller keramik eller snabbstàl eller de superhàrda materialen såsom kubisk bornitrid eller diamant med, åtminstone på de funktionella delarna av kroppens yta, en hård och slitstark beläggning omfattande åtminstone ett skikt bestående väsentligen av kristallin a-Al2O3 med tjockleken 0,5-10 pm, med kolumnära korn med kornbredden i genomsnitt 0,1- 1,1 um och deponerat vid temperaturen 625-800 °C. Nämnda beläggning omfattar åtminstone ett skikt bestående av Ti(C,N) med tjockleken 0,5-10 pm deponerat med MTCVD-teknik vid en temperatur lägre än 885 °C och företrädesvis med ett mellanliggande 0,5-1,5 um TiCxNyOz-skikt företrädesvis x=z=O,5 och y=0 mellan a-A12O3-skiktet och det MTCVD-deponerade Ti(C,N)- skiktet. Alternativt omfattar nämnda beläggning skikt deponerade med PVD eller PACVD närmast intill verktygskroppen företrädesvis med ett mellanliggande skikt av 0,1-1,5 pm TiCxNyOz företrädesvis med x<0,1 mellan d-Al2O3 och PVD- eller PACVD-skiktet/skikten. I detta fall har d-Al2O3-skiktet en uttalad kolumnär kornstruktur med kornbredden <0,5 um. Företrädesvis är ett sådant a-Al2O3- skikt det pà toppen synliga skiktet åtminstone längs den skärande egglinjen. Beläggningen på spànsidan och längs egglinjen är utjämnad genom borstning eller genom blästring till ytjämnheten (Ra) mindre än 0,2 pm över en mätt längd av 5 um. 10 Ü 20 25 526 526 gr Verktyget belagt enligt föreliggande uppfinning är ett skär eller en solid hårdmetallborr eller en hårdmetallpinnfräs.

Om kornstorleken för Al2O3-skiktet ska avgöras utifrån en toppvyprojektion efter utjämningsoperationen så etsas Al2O3- skiktet företrädesvis först med en blandning av HF och HNO3 eller så kan kornstorleken mätas på en brottyta, med ett svepelektronmikroskop, såsom kornens bredd.

Beläggningarna som deponerats i exemplen nedan utfördes i CVD- och PVD-utrustningar för verktygsbeläggning vilka har kapacitet för tusentals skär.

Exempel 1 A) Hårdmetallskär av typen CNMG 120408-PM med sammansättningen 7,5 vikt-% Co, 1,8 % vikt-% TiC, 0,5 vikt-% TiN, 3 vikt-% TaC, 0,4 vikt-% NbC och resten WC belades med ett 1 pm tjockt TiN-skikt med användning av konventionell CVD-teknik vid 930 °C följt av ett 5 pm TiCN-skikt med hjälp av MTCVD- tekniken med användning av TiCl4, H2, Ng och CH3CN som processgaser vid temperaturen 700 °C. I ett efterföljande processteg under samma beläggningscykel, deponerades ett omkring 0,5 pm tjockt Ti(C,0)-skikt vid 1000 °C, och sedan flödades reaktorn med en blandning av 2 % C02, 5 % HC1 och 93 % H2 i 2 min innan svalning i en argonatmosfär till 690 °C vid vilken ett 2 pm tjockt skikt a-Al2O3-skikt deponerades enligt de uppfunna beläggningsprocessbetingelserna. Processbetingelserna vid deponeringsstegen var enligt nedan: 10 15 20 25 30 35 526 526 Steg TiN Ti(C,N) Ti(C,O) Flödning Al2O3 Tic14 1,13% 1,496 2 % N2 38 % 38 % C02; 2 2; 20% CO 6 % AlCl3: 3,235 H25 - l få HCl 5 “s 3,2% H2: rest rest rest rest rest CH3CN - 0,6 P6 Tryck: 160 mbar 60 mbar 60 mbar 60 mbar 70 mbar Temperatur: 93000 700°C l000°C 1000°C 690°C Varaktighet: 30 min 4 h 20 min 2 min 5 h Röntgendiffraktionsanalys av det deponerade Al2O3-skiktet visade att det bestod endast av a-fasen, Fig. 4. Inga diffraktionstoppar från K- eller 7-fasen upptäcktes alltså.

Ett SEM-mikrofoto i toppvyprojektion visas i Fig. 2. a-Al2O3-skiktet var förvånansvärt väl kristallint för att ha varit deponerat vid en så låg temperatur som 690 °C. En kornstorlek av omkring 1 pm observerades.

B) Hárdmetallskär av typen CNMG 120408-PM med sammansättningen 7,5 vikt-% Co, 1,8 % vikt-% TiC, 0,5 vikt-% TiN, 3 vikt-% TaC, 0,4 vikt-% NbC och resten WC belades med ett 1 pm tjockt TiN-skikt med användning av konventionell CVD-teknik vid 930 °C följt av ett 5 pm tjock TiCN-skikt med hjälp av MTCVD-teknik med användning av TiCl4, H2, N2 och CH3CN som processgaser vid temperaturen 700 °C. I efterföljande processteg under samma beläggningscykel, deponerades 0,5 pm Ti(C,O) vid 1000 °C. Sedan deponerades ett 2 pm tjockt a-Al2O3-skikt enligt känd teknik liknande det som visas i US 5,487,625 vid 1010 °C.

Processbetingelserna under Al2O3-deponeringen var enligt nedan: 10 15 20 25 30 35 Steg TiCl4 Nz C02: CO AlCl3: H25 HCl H2: CH3CN Tryck: Temperatur: Varaktighet: 526 TiN 1,5% 38 % IêSt 160 mbar 930°C 30 min Ti(c,N) 1,496 38 % rest 0,6 % 60 mbar 700°C 4 h Ti(C,O) Al203 2 % 4 % 6 % 4 % 1 % rest rest 60 mbar 65 mbar lO0O°C l010°C 20 min 30 min 4 % 0,2 % 4 % rest 65 mbar lOlO°C 110 min Röntgendiffraktionsanalysis av det deponerade Al2O3-skiktet visade att det bestod endast av a-fasen.

Exempel 2 C) Skär av typen CNMG 120408-PM med sammansättningen 7,5 vikt-% Co, 1,8 % vikt-% TiC, 0,5 vikt-% TiN, 3 vikt-% TaC, 0,4 vikt-% NbC och resten WC belades med 2 pm TiN genom PVD (jonpläteringsteknik).

D) Hårdmetallsubstrat av samma typ och sammansättning som i C) belades med PVD (jonpläteringsteknik) med 4 pm TiN.

E) TiN-förbelagda skär från C) belades med 2 pm Al203 enligt den uppfunna processen.

Beläggningen steg C02: AlC13: H25 HCl H2: Tryck: utfördes enligt processen: Flödning 3,4 % rest 60 mbar Al2O3 20% 3,2% l 3,2% rest 70 mbar 10 U 20 25 30 35 526 526 10 Temperatur: 69000 690°C Varaktighet: 3 min 5 h Röntgendiffraktionsanalysis av det deponerade Al2O3-skiktet visade att det bestod av d-fasen. Inga diffraktionstoppar från K- eller y-fasen kunde detekteras. Ett SEM-mikrofoto i toppvyprojektion av den erhållna beläggningen visas i Fig. 1.

Medelkornstorleken fanns vara omkring 0,25 pm.

F) TiN-förbelagda skär från C) belades med 2 pm Al2O3 med en process enligt känd teknik liknande den som visas i US 5,487,625.

Beläggningen utfördes enligt processen: Stêg Al203 Al203 C02: 4 % 4 % A1cl3 4 % 4 % Hzs o,2 % HC1 1 % 4 % H2: rest rest Tryck: 65 mbar 65 mbar Temperatur: 1010 °C 1010 °C varaktighet: 30 min 110 min Röntgendiffraktionsanalysis av det deponerade Al2O3-skiktet att det bestod av a-fasen.

Skären från A), B), E) och F) borstades med en nylonborste som innehåller SiC-korn för att jämna ut beläggningsytorna. De PVD-belagda skären från D) visade hög jämnhet redan som belagt och utsattes därför inte för borstning.

Belagda skär från A) och B) provades sedan avseende seghet i ett specialdesignat arbetsstycke. Arbetsstycket bestod av två plana stàlplattor i material SS1312 fastspända sida mot sida med en distans i mellan som lämnar en spalt mellan plattorna.

Plattorna bearbetades i längsled med en ökande matningshastighet tills skäreggen bröts av. Tiden till brott noterades för varje 10 U 20 25 30 526 526 U Q anno n uøouco 1 n o u av oo 00 co provat skär. Inom varje populationsvariant klarade några eggar sig längre än andra och livslängden för varje provad egg noterades. Det erhållna resultatet presenteras nedan som tid för skäret med den kortaste livslängden, tid för skäret med den längsta livslängden och tiden till att 50 % av eggarna inom populationen hade erhållit brott. Tio skär från A och B kördes till eggbrott.

Bearbetningsoperation 1: Torra förhållanden V A 100 m/min 1,5 mm Matning = 0,15-0,35 mm/varv Matningshastighetens ökning 0,1 mm/min Resultat: Tid till första Tid då 50 % av Tid då det brott, s skären hade sista skäret erhållit till erhöll brott, s brott, s B) Känd teknik 24 66 83 A) Uppfinning 62 80 105 Bearbetningsoperation 2: En planingsoperation i ett legerat stål (AISI 1518, W-nr 1.0580) utfördes. Formen hos arbetsstycket var sådan att skäreggen var ur ingrepp tre gånger per varv.

Skärdata: Hastighet: Matning: Skärdjup: 130-220 m/min 0,2 mm/varv 2,0 mm Fem skär (eggar) kördes i en planingscykel över arbetsstycket. Resultaten i Tabell 2 är uttryckta som procent av egglinjen i ingrepp som erhöll flagning av beläggningen.

Tabell 2 Bearbetningsoperation 2 10 15 20 25 526 526 12 u 0 1 u o Ich noe I o o u 0 c o Variant Egglinje Medelflagning B) Känd teknik < 10 % endast små fläckar med flagning A) Uppfinning < 10 % endast små fläckar med flagning Av resultaten från skärtest 1 och 2 kan dras slutsatsen att skären enligt föreliggande uppfinning har större seghet och samma motstånd mot flagning jämfört med skär enligt känd teknik.

Bearbetningsoperation 3: Skär från D), E) och F) provades i längdsvarvningsoperation i ett kullagerstál Ovako 825B.

Skärdata: Skärhastighet 210 m/min, Mätning 0,25 mm/varv, Skärdjup 2,0 mm, kylmedel användes.

Bearbetningsoperationen avbröts periodiskt för att nära följa bildandet av gropförslitning. Nötningen mättes (studerades) i ett mikroskop. Bearbetningstiden till genombrott av beläggningen och hàrdmetallsubstratet blev synligt i botten av gropförslitningen.

Variant Tid till hårdmetallen synlig D) PVD TiN-förbelagd Mindre än 1 min E) PVD-TiN+a-Al203 enligt uppfinningen Omkring 5 min F) PVD-TiN+a-Al2O3 enligt känd teknik Omkring 5 min Bearbetningsoperation 4: Skär från D), E) och F) provades avseende flagning av egglinjen i en planingsoperation i ett legerat stål (AISI 1518, W-nr. 1.0580). Utformningen av arbetsstycket var sådan att skäreggen var ur ingrepp tre gånger per varv.

Skärdata : Skärhastighet 130-220 m/min, Matning 0,2 mm/varv, Skärdjup 2,0 mm. 10 526 526 i ..s";;:: _-'_°==j'= 13 Skären kördes i en planingscykel över arbetsstycket. Resultaten är uttryckta som procent av egglinjen i ingrepp som hade erhållit flagning.

Variant Procent av egglinjen som erhöll flagning D) PVD-TiN Omkring 5 % E) PVD-TiN+d-Al2O3 enligt Omkring 15 % uppfinningen F) PVD-TiN+a-Al2O3 enligt känd Omkring 75 % + flagning teknik utspridd på spånsidan Av de erhållna resultaten i bearbetningsoperation 3 och 4 kan dras slutsatsen att skäret enligt uppfinningen har förbättrat motstånd mot gropförslitning jämfört med ett PVD- belagt verktyg och bättre vidhäftning för beläggningen än en variant med en högtemperatur CVD-Al2O3 enligt känd teknik på PVD-TiN-skikt. Uppenbarligen kan inte PVD-TiN-förbeläggningen klara den höga temperaturen hos Al2O3-processen enligt känd teknik. ett

Claims (10)

W U 20 25 30 35 526 526 14 Patentkrav

1. Sätt att deponera ett kristallint d-Al203-skikt på ett skär med kemisk ångdeponering k ä n n e t e c k n a d av att omfatta följande steg deponering av ett 0,1-1,5 pm tjockt TiCXNy0Z-skikt där x+y+z>=l och z>O, företrädesvis z>0,2 behandling av nämnda skikt vid 625-1000 °C i en gasblandning som innehåller 0,5-3 vol-% 02, företrädesvis C02 + H2 eller 02 + H2, i en kort tid omkring 0,5-4 min, eventuellt i närvaro av 0,5-6 vol-% HCl och deponering av nämnda Al203-skikt genom att bringa nämnda behandlade skikt i kontakt med en gasblandning som innehåller 2- 10 vol-% AlCl3, 16-40 vol-% C02, i H2 och 0,8-2 vol-% av en svavelinnehållande tillsats, företrädesvis H2S, vid processtrycket 40-300 mbar och temperaturen 625-800, företrädesvis 625-700, helst 650-695 °C.

2. Skärverktyg omfattande en kropp av sintrad hàrdmetall, cermet eller keramik eller snabbstàl eller de superhårda materialen såsom kubisk bornitrid eller diamant och med åtminstone pà de funktionella delarna av kroppen, en hård och slitstark beläggning omfattande åtminstone ett skikt bestående väsentligen av kristallin a-Al203 med tjockleken 0,5-10 pm k ä n n e t e c k n a t av att nämnda kristallina a-Al2O3 har kolumnära korn med medelkornbredden 0,1-1,1 pm och av att ha deponerats med kemisk ångdeponering vid temperaturen 625-800 °C, i en gasblandning med C02-halten 16-40 vol-% och med en svaveltillsats, företrädesvis 0,8-2 vol-% H25.

3. Ett skärverktyg enligt krav 2 k ä n n e t e c k n a t av att nämnda beläggning omfattar åtminstone ett skikt bestående av Ti(C,N) med tjockleken 0,5-10 pm deponerat mellan kroppen och nämnda a-Al203-skikt med MTCVD-tekniken vid en temperatur lägre än 885 °C.

4. ett skärverktyg enligt krav 3 k ä n n e t e c k n a t av att nämnda beläggning omfattar ett mellanliggande 0,5-1,5 pm tjockt TiCXNy0z-skikt där x+y+z>=l och z>O, företrädesvis z>0,2, helst z>0,2, y=0 och x>=0, mellan a-Al203-skiktet och MTCVD- TiCN-skiktet. W U 20 526 526 15

5. Ett skärverktyg enligt krav 2 k ä n n e t e c k n a t av att nämnda beläggning omfattar åtminstone ett skikt närmast intill verktygskroppen deponerat med PVD eller PACVD.

6. Ett skärverktyg enligt krav 5 k ä n n e t e c k n a t av att nämnda beläggning omfattar ett mellanliggande skikt av O,l-1,5 pm TiCxNyOZ mellan a-Al2O3 och PVD- eller PACVD- skiktet/skikten, där x+y+z>=l och z>0, företrädesvis z>O,2, helst z>O,2, y>=0 och x<0,l.

7. Ett skärverktyg enligt krav 5 eller 6 k ä n n e t e c k n a t av att a-Al2O3-skikten för nämnda beläggning har en uttalad kolumnär kornstruktur med kornbredden

8. Ett skärverktyg enligt något av krav 2-7 av att ett sådant a-Al2O3-skikt är det på toppen synliga skiktet åtminstone längs egglinjen. k ä n n e t e c k n a t

9. Ett skärverktyg enligt något av krav 2-7 k ä n n e t e c k n a t av att beläggningen på spånsidan och längs egglinjen har utjämnats genom borstning eller genom blästring till en ytjämnhet, Ra mindre än 0,2 pm över en mätt längd av 5 pm.

10. Ett skärverktyg enligt något av krav 2-9 k ä n n e t e c k n a t av att nämnda verktyg är ett skär, en solid hàrdmetallborr eller en hàrdmetallpinnfräs.