SE506209C2 - Anordning för manipulation av ett synkrotronstrålknippe - Google Patents
Anordning för manipulation av ett synkrotronstrålknippeInfo
- Publication number
- SE506209C2 SE506209C2 SE9403946A SE9403946A SE506209C2 SE 506209 C2 SE506209 C2 SE 506209C2 SE 9403946 A SE9403946 A SE 9403946A SE 9403946 A SE9403946 A SE 9403946A SE 506209 C2 SE506209 C2 SE 506209C2
- Authority
- SE
- Sweden
- Prior art keywords
- apertures
- synchrotron
- filter
- synchrotron beam
- object table
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2037—Exposure with X-ray radiation or corpuscular radiation, through a mask with a pattern opaque to that radiation
- G03F7/2039—X-ray radiation
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
- G03F7/70575—Wavelength control, e.g. control of bandwidth, multiple wavelength, selection of wavelength or matching of optical components to wavelength
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/02—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators
- G21K1/04—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators using variable diaphragms, shutters, choppers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Particle Accelerators (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
Description
506 209 lO 15 20 25 30 35 måste särskilt vid scanrörelsens vändpunkter uppträdande överexponeringar elimineras. Ändamålet med uppfinningen är därför att för det rådande användningsfallet för rönt- gendjuplitografin åstadkomma särskilt för scansystemet anpassade stràlknippeegenskaper under vakuumbetingelser.
Detta ändamål uppfylles enligt uppfinningen genom en anordning för manipulation av ett synkrotronstrålknippe, särskilt för bestrålningsapparaturer för röntgendjuplito- grafi, som i en vakuumkammare innehåller en genom scan- rörelse tvärs över synkrotronstrålknippet, som kommer in i vakuumkammaren via ett fönster, reglerbart objektbord för upptagande av ett föremål som skall bestrålas, i det att bredvid en filterkammare, som är inkopplad före vakuumkammaren och som innehåller i synkrotronstrål- knippet inkopplingsbara filter, är mellan objektbordet och fönstret anordnade par av mot varandra förskjutbara bländare, av vilka det par, hos vilket riktningen av den ömsesidiga förskjutbarheten av bländarna sammanfaller med scanrörelsen, är kopplat till scanrörelsen.
Det är fördelaktigt, om för inkopplingen av filtret i synkrotronstrålknippet filterväxlare är anordnade, vid vilka en pneumatisk cylinder är fastsatt på en på filter- kammaren påsättningsbar vakuumfläns via vertikala bultar, vilken pneumatisk cylinders rörelse överförs via en stånggáng, som fortsätter inne i en styrhylsa och en mem- branbälg, till en skjutstång, på vilken en filterhållare är fastsatt.
Filterhållaren kan bestå av två ramelement, som är för- sedda med en till tvärsnittet av synkrotronstrålknippet anpassad öppning som har formen av ett avlångt hål.
Företrädesvis utgör det ena paret av mot varandra för- skjutbara bländare en del av en första, synkrotron- strålknippet horisontellt begränsande strålbegräns- 10 \l5 20 25 30 35 506 209 ningsenhet. För var och en av de mot varandra förskjut- bara bländarna är pá en monteringsplatta via fästelement en ledskena fast anordnad och en spindel vridbart lagrad, pá vilken en mot vridning fastlást spindelmutter uppbär en av bländarna. För lägesinställningen av bländarna tjänar pà monteringsplattan fastsatta sensorer.
Det andra paret av mot varandra förskjutbara bländare skall utgöra en del av en andra, synkrotronstràlknippet vertikalt begränsande stràlbegränsningsenhet, i vilken förskjutningen av bländarna àstadkommes medelst drivele- ment, som i huvudsak motsvarar de för bländarna och som är fastsatta vid den rörliga delen av objektbordet.
Anordningen enligt uppfinningen möjliggör samtidigt, med en spektral selektion, en med ett eliminerande av överex- poneringar vid objektbordets vändpunkter förbunden kant- begränsning av synkrotronstràlknippet.
Uppfinningen kommer i det följande att belysas närmare med hjälp av de schematiska ritningarna, vilka visar: Fig. 1 en bestràlningsapparatur för röntgendjup- litografi Fig. 2 en filterväxlare för en filterkammare Fig. 3 en filterkammare som är lämpad för insättning i en bestrálningsapparatur Fig. 4 en horisontellt verkande stràlbegränsningsenhet sedd mot strálriktningen Fig. 5 en planvy av stràlbegränsningsenheten enligt fig. 4 506 209 10 15 20 25 30 35 Fig. 6 en vertikalt verkande stràlbegränsningsenhet sedd i strålriktningen Vid den i fig. 1 mycket förenklat visade bestràlnings- apparaturen mynnar ett stràlrör 1 för ett synkrotron- strålknippe 2 via ett fönster 4 i en som arbetskammare tjänande vakuumkammare 5, varvid en filterkammare 3 är insatt i stràlröret l. Vakuumkammaren 5 innehåller ett utifrån drivet objektbord 6, som förflyttar en röntgen- mask 7 och en röntgenstrålkänslig resist 8 tvärs över stràlknippet 2 i en vertikal scanrörelse. Mellan fönstret 4 och objektbordet 6 är de i figurerna 4, 5 och 6 närmare visade strålbegränsningsenheterna 9, 10 anordnade.
Vid den i fig. 2 visade filterväxlaren för insättning i en filterkammare 3, som visas tydligare i fig. 3 än i fig. 1, är en pneumatisk cylinder 13 hos en pneumatisk drivanordning fastsatt pà en vakuumfläns 11 via vertikala bultar 12. Den pneumatiska cylindern 13 alstrar genom valfri tillförsel av tryckluft via ett övre tryckluftin- lopp 14 och ett nedre tryckluftinlopp 15 en translatorisk rörelse hos en innanför liggande arbetscylinder. Denna påfyllning kan styras elektriskt medelst lämpliga elek- tropneumatiska element. Rörelsen leds genom en stànggàng 16 till den övre sidan av vakuumflänsen ll. Stànggángen 16 fortsätter inne i en styrhylsa 17 och en membranbälg 18. Stànggàngen är fast förbunden med den ena vakuumtätt tillslutna sidan 19 av membranbälgen 18. Den yttre om- kretsen av den andra sidan 20 av membranbälgen 18 är vakuumtätt fastsatt i vakuumflänsen 11.
Ojämnheter mellan den genom arbetssättet hos den i det inre av den pneumatiska cylindern 13 belägna arbets- cylindern bildade translationen och den genom stång- gàngens 16 rörelse i styrhylsan 17 bildade translationen utjämnas genom en lämplig koppling inuti stànggàngen 16. 10 15 20 25 30 35 506 209 På den nedre sidan 19 av membranbälgen 18 är en enhet fastsatt, som består av en skjutstång 21, en klämma 22 och en filterhållare 23 och som vid inkoppling av luft- cylindern 13 utför en translatorisk rörelse. Filter- hållaren 23 kan genom att lossa eller spänna klämman 22 lösgöras från skjutstången 21 eller sättas fast vid denna. Filterhållaren 23 består, såsom framgår av fig. 3, av två ramelement 24 och 25. Vart och ett av dessa ram- element 24, 25 omfattar en öppning 26, som har formen av ett avlångt hål. Efter det att skruvförbandet har lossats kan mellan ramelementen 24, 25 folie- eller plåtartat filtermaterial läggas in och inspännas genom att skruvas fast.
Enligt fig. 3 innehåller den som T- eller korsstycke ut- formade filterkammaren 3 flera (t.ex. fem) sådana, med 27 betecknade filterväxlare. Filterkammaren 3 är så anordnad i strålröret 1 för synkrotronstrålknippet 2, att i det övre läget av arbetscylindern hos en pneumatisk driv- anordning ligger filterhållaren 23 med filtermaterialet utanför synkrotronstrålknippets 2 område och i arbets- cylinderns andra läge är filterhållaren 23 så belägen att synkrotronstrålknippet 2 påverkas av filtermaterialet. öppningen 26 som har formen av ett avlångt hål, är så ut- formad, att i läget utan inlagt filtermaterial passerar all synkrotronstrålning filterhållaren. Genom en elek- tropneumatisk styrning kan filterväxling ske automatiskt utan luftning av filterkammaren 3.
Vid strålbegränsningsenheten 9, som enligt figurerna 4 och 5 består av ett par horisontellt mot varandra för- skjutbara bländare 28, 29, är på en monteringsplatta 30 via fästelement 31 en styrskena 32 fast anordnad och en spindel 33 vridbart lagrad. På spindeln 33 är en spindel- mutter 34 monterad, vid vilken bländaren 28 är fastsatt, som genom en medelst en motorgrupp 35 åstadkommen vrid- ning av spindeln 33 kan inställas i sidled analogt med 506 209 lO 15 20 25 30 35 spindelmuttern 34. Spindelmuttern 34 är medelst en kopp- ling 36 fastlàst vid styrskenan 32 för att förhindra vridning. Genom lämpliga sensorer 37 är en automatisk justering och styrning av bländaren 28 möjlig. Medan bländaren 28 är så anordnad i förhållande till synkro- tronstrålknippet 2, att ett godtyckligt avsnitt, som i figuren börjar från höger, absorberas av bländaren 28, sker med bländaren 29, vars drivelement motsvarar dem hos bländaren 28 och för överskádlighetens skull inte är för- sedda med hänvisningsbeteckningar, en begränsning av syn- krotronstrálknippet 2 som börjar frán vänster. Med båda bländarna 28, 29 är det möjligt att välja ut ett på bred- den ändringsbart avsnitt av synkrotronstrålknippet 2.
Rörelsen kan, såsom beskrivits här, ske automatiskt genom elektrisk styrning eller i förenklad form genom manuella påverkningar i förenklade system.
Fig. 6 visar strålbegränsningsenheten 10 med ett par av vertikalt mot varandra förskjutbara bländare 38, 39, vars translatoriska rörelse åstadkommes medelst drivelement, som motsvarar de för bländarna 28, 29. Pà grund av den konstruktiva utformningen säkerställes en oberoende in- ställning såväl mellan strålbegränsningsenheterna 9 och 10 som även mellan bländarna 28 och 29 och bländarna 38 och 39. Båda bländarna 38, 39 rör sig genom sin via driv- elementen åstadkomma fastsättning vid den rörliga delen av objektbordet 6 tillsammans med denna, så att en in- ställning av läget för bländaren 38 i ett godtyckligt första läge av objektbordet 6 och en inställning av läget för bländaren 39 i ett godtyckligt andra läge av objekt- bordet 6 medför en absorption av synkrotronstrålknippets 3 totala intensitet.
För tillverkning av ett mönster med röntgendjuplitografin kan de två lägena hos objektbordet 6 vara de nedre och övre vändpunkterna av en fortlöpande scanrörelse, så att en överexponering av den röntgenkänsliga resisten 8 i 10 506 209 detta område undviks och området som skall exponeras blir skarpt avgränsat.
Dessutom är med paret av de vertikalt mot varandra för- skjutbara bländarna 38, 39 även en godtycklig avgränsning av ett vertikalt begränsat exponeringsomràde av den röntgenkänsliga resisten möjlig.
Rörelsen kan pà samma sätt som vid paret av de horison- tellt mot varandra förskjutbara bländarna 28, 29 ske automatiskt genom en elektrisk styrning eller i förenklad form genom manuella påverkningar i förenklade system.
Claims (6)
1. l. Anordning för manipulation av ett synkrotron- stràlknippe, särskilt för bestràlningsapparaturer för röntgendjuplitografin, som i en vakuumkammare innehåller ett genom scanrörelse tvärs över synkrotronstrálknippet, som kommer in i vakuumkammaren via ett fönster, regler- bart objektbord för upptagande av ett föremål som skall bestràlas, kännetecknad av att jämte en filterkammare (3), som är inkopplad före vakuumkammaren (5) och som innehåller i synkrotronstràlknippet (2) inkopplingsbara filter, är mellan objektbordet (6) och fönstret (4) anordnade par av mot varandra förskjutbara bländare (28, 29, 38, 39), av vilka det par, hos vilket riktningen av den ömsesidiga förskjutbarheten av bländarna sammanfaller med scanrörelsen, är kopplat till scanrörelsen.
2. Anordning enligt krav 1, kännetecknad av att för inkopplingen av filtret i synkrotronstràlknippet (2) är filterväxlare (27) anordnade, vid vilka en pneumatisk cylinder (13) är fastsatt pà en pá filterkammaren pásätt- ningsbar vakuumfläns (11) via vertikala bultar (12), vil- ken pneumatiska cylinders (13) rörelse överförs via en stànggàng (16), som fortsätter inne i en styrhylsa (17) och en membranbälg (18), till en skjutstàng (21), på vilken en filterhàllare (23) är fastsatt.
3. Anordning enligt krav 2, kännetecknad av att filterhàllaren (23) består av tvà ramelement (24, 25), som är försedda med en till tvärsnittet av synkrotron- strálknippet (2) anpassad öppning (26) som har formen av ett avlàngt hàl.
4. Anordning enligt krav 1, kännetecknad av att det ena paret av mot varandra förskjutbara bländare 10 15 20 506 209 (28, 29) utgör en del av en första, synkrotronstràl- knippet (2) horisontellt begränsande stràlbegränsnings- enhet (9).
5. Anordning enligt krav 4, kännetecknad av att i strálbegränsningsenheten (9) för var och en av de mot varandra förskjutbara bländarna (28, 29) är pà en mon- teringsplatta (30) via fästelement (31) en styrskena (32) stelt anordnad och en spindel (33) vridbart lagrad, på vilken en mot vridning fastlàst spindelmutter (34) uppbär en av bländarna (28, 29), och att på monteringsplattan (30) fastsatta sensorer (37) är anordnade för lägesin- ställning av bländarna (28, 29).
6. Anordning enligt krav 1, kännetecknad av att det andra paret av mot varandra förskjutbara bländare (38, 39) utgör en del av en andra, synkrotronstràlknippet (2) vertikalt begränsande strálbegränsningsenhet (10), i vilken förskjutningen av bländarna (38, 39) åstadkommas medelst drivelement, som i huvudsak motsvarar de för bländarna (28, 29) och som är fastsatta vid den rörliga delen av objektbordet (6).
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4424274A DE4424274C1 (de) | 1994-07-09 | 1994-07-09 | Einrichtung zur Manipulation eines Synchrotronstrahlenbündels |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SE9403946D0 SE9403946D0 (sv) | 1994-11-16 |
SE9403946L SE9403946L (sv) | 1996-01-10 |
SE506209C2 true SE506209C2 (sv) | 1997-11-24 |
Family
ID=6522767
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SE9403946A SE506209C2 (sv) | 1994-07-09 | 1994-11-16 | Anordning för manipulation av ett synkrotronstrålknippe |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5535250A (sv) |
JP (1) | JP2642318B2 (sv) |
DE (1) | DE4424274C1 (sv) |
FR (1) | FR2722327B1 (sv) |
GB (1) | GB2291326B (sv) |
IT (1) | IT1267640B1 (sv) |
SE (1) | SE506209C2 (sv) |
TW (1) | TW336780U (sv) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19846958C2 (de) * | 1998-08-19 | 2001-06-13 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zur Herstellung einer Einrichtung zum Transport von kleinsten Flüssigkeitsmengen |
FI110478B (sv) | 2001-05-29 | 2003-02-14 | Planmeca Oy | Förfarande och anordning för avgränsning av en strålningslob |
DE10135307C2 (de) * | 2001-07-19 | 2003-07-31 | Deutsches Elektronen Synchr | Hochleistungs-Strahlverschluss-und -Spaltsystem für Synchrotronstrahlung |
DE10154461B4 (de) * | 2001-11-08 | 2005-12-15 | Siemens Ag | Vorrichtung zum Filtern eines Strahlenbündels |
JPWO2004048605A1 (ja) | 2002-11-27 | 2006-03-23 | 第一化学薬品株式会社 | 特定リポ蛋白中の脂質測定法 |
CN1822239B (zh) * | 2005-02-17 | 2010-06-23 | Ge医疗***环球技术有限公司 | 滤波器和x射线成像设备 |
DE102006057536A1 (de) * | 2006-12-06 | 2008-06-12 | Deutsches Elektronen-Synchrotron Desy | Hochleistungs-Strahlverschluss- und Spaltsystem für Synchrotronstrahlung |
US20130195562A1 (en) * | 2010-08-30 | 2013-08-01 | Gea Pharma Systems Ag | Fluid bed apparatus and method for processing a particulate material |
WO2013003469A2 (en) * | 2011-06-27 | 2013-01-03 | Bioscan, Inc. | Method and apparatus for automated indexing of pluralities of filter arrays |
US11733171B2 (en) * | 2018-09-11 | 2023-08-22 | Kla Corporation | Light attenuation device for high power UV inspection tool |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE8016658U1 (de) * | 1980-06-24 | 1980-10-09 | Gesellschaft Fuer Schwerionenforschung Mbh, 6100 Darmstadt | Rechteckblende |
FR2524655B1 (fr) * | 1982-04-02 | 1985-10-18 | Cgr Mev | Bloc limiteur partiel d'un faisceau de rayonnement et collimateur comportant de tels blocs |
EP0253283A3 (de) * | 1986-07-15 | 1988-07-20 | Siemens Aktiengesellschaft | Anordnung zur Belichtung von Halbleiterscheiben mittels Synchrotronstrahlung in einem Lithographiegerät |
DE68925323T2 (de) * | 1988-09-14 | 1996-05-30 | Canon K.K., Tokio/Tokyo | Belichtungssteuerung in einem Röntgenbelichtungsapparat |
JPH02234498A (ja) * | 1989-03-07 | 1990-09-17 | Nec Corp | シンクロトロン放射光走査装置 |
US5040202A (en) * | 1989-06-05 | 1991-08-13 | General Electric | Method and apparatus for reducing x-ray grid images |
JP2697264B2 (ja) * | 1990-08-03 | 1998-01-14 | キヤノン株式会社 | 露光処理装置 |
US5473410A (en) * | 1990-11-28 | 1995-12-05 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus |
JP2691319B2 (ja) * | 1990-11-28 | 1997-12-17 | 株式会社ニコン | 投影露光装置および走査露光方法 |
US5148032A (en) * | 1991-06-28 | 1992-09-15 | Siemens Medical Laboratories, Inc. | Radiation emitting device with moveable aperture plate |
JPH0574688A (ja) * | 1991-09-12 | 1993-03-26 | Soltec:Kk | X線露光方法及びその装置 |
JPH05175103A (ja) * | 1991-12-20 | 1993-07-13 | Fujitsu Ltd | X線露光装置 |
DE4229319C2 (de) * | 1992-09-02 | 1995-03-16 | Siemens Ag | Filterwechsler für eine Strahlenquelle |
US5371774A (en) * | 1993-06-24 | 1994-12-06 | Wisconsin Alumni Research Foundation | X-ray lithography beamline imaging system |
-
1994
- 1994-07-09 DE DE4424274A patent/DE4424274C1/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-10-24 TW TW086200644U patent/TW336780U/zh unknown
- 1994-11-16 SE SE9403946A patent/SE506209C2/sv not_active IP Right Cessation
- 1994-11-29 JP JP6295026A patent/JP2642318B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1994-12-06 IT IT94TO000989A patent/IT1267640B1/it active IP Right Grant
- 1994-12-09 FR FR9414816A patent/FR2722327B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-01-18 US US08/375,415 patent/US5535250A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-04-12 GB GB9507636A patent/GB2291326B/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW336780U (en) | 1998-07-11 |
US5535250A (en) | 1996-07-09 |
SE9403946D0 (sv) | 1994-11-16 |
GB2291326B (en) | 1998-07-29 |
SE9403946L (sv) | 1996-01-10 |
ITTO940989A1 (it) | 1996-06-06 |
IT1267640B1 (it) | 1997-02-07 |
GB2291326A (en) | 1996-01-17 |
GB9507636D0 (en) | 1995-05-31 |
JP2642318B2 (ja) | 1997-08-20 |
ITTO940989A0 (it) | 1994-12-06 |
FR2722327B1 (fr) | 1997-10-24 |
DE4424274C1 (de) | 1996-01-11 |
JPH0829599A (ja) | 1996-02-02 |
FR2722327A1 (fr) | 1996-01-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
SE506209C2 (sv) | Anordning för manipulation av ett synkrotronstrålknippe | |
CN108088812B (zh) | 一种可见近红外透射光谱测量装置 | |
WO2007021333A2 (en) | Integrated containment system | |
EP0632995A1 (de) | Zahnärztliche Röntgendiagnostikeinrichtung | |
GB2212421A (en) | Work support and positioning device for assembly line | |
EP4183558A1 (de) | Fluidversorgungssystem für einen 3d-drucker | |
WO1984003049A1 (en) | Air-cooled apparatus for an irradiation by means of polarized light | |
CN104101892A (zh) | X射线与导轨平行*** | |
DE69033791T2 (de) | Röntgenbelichtungsvorrichtung | |
CN104865257A (zh) | Euv多层膜碳污染实验装置 | |
US7290998B2 (en) | Quick set-up system for calibration devices | |
US5189950A (en) | Screen printing machine and print head carriage therefor | |
EP0985121A1 (de) | Vorrichtung zum bestrahlen eines substrats mittels uv-strahlen und verfahren zum betrieb der vorrichtung | |
CN219533620U (zh) | 一种便于调整照射强度的紫外光源装置 | |
CN208260812U (zh) | 一种医药操作用工作台 | |
CN221465221U (zh) | 一种防尘检测装置 | |
DE3634535A1 (de) | Vorrichtung zur feinkorrektur des transversalen dickenprofils bei blasfolien | |
CN214059066U (zh) | 一种自动分距装置 | |
CN215352589U (zh) | 一种油墨生产车间空气处理机构 | |
CN221325821U (zh) | 一种平行双螺杆挤出机齿轮箱密封性检测装置 | |
CN210304427U (zh) | 一种定点分层uv固化器 | |
CN217213421U (zh) | 一种可调角度的相机与光源装置 | |
CN212896614U (zh) | 一种无负压给水设备的防超压控制器 | |
US5515410A (en) | Irradiation device for deep x-ray lithography | |
CN106596407A (zh) | 可调节尺寸的光学检测池及其*** |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
NUG | Patent has lapsed |
Ref document number: 9403946-8 Format of ref document f/p: F |