SE506209C2 - Anordning för manipulation av ett synkrotronstrålknippe - Google Patents

Anordning för manipulation av ett synkrotronstrålknippe

Info

Publication number
SE506209C2
SE506209C2 SE9403946A SE9403946A SE506209C2 SE 506209 C2 SE506209 C2 SE 506209C2 SE 9403946 A SE9403946 A SE 9403946A SE 9403946 A SE9403946 A SE 9403946A SE 506209 C2 SE506209 C2 SE 506209C2
Authority
SE
Sweden
Prior art keywords
apertures
synchrotron
filter
synchrotron beam
object table
Prior art date
Application number
SE9403946A
Other languages
English (en)
Other versions
SE9403946D0 (sv
SE9403946L (sv
Inventor
Bernd Seher
Frank Reuther
Lutz Mueller
Original Assignee
Jenoptik Jena Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jenoptik Jena Gmbh filed Critical Jenoptik Jena Gmbh
Publication of SE9403946D0 publication Critical patent/SE9403946D0/sv
Publication of SE9403946L publication Critical patent/SE9403946L/sv
Publication of SE506209C2 publication Critical patent/SE506209C2/sv

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2037Exposure with X-ray radiation or corpuscular radiation, through a mask with a pattern opaque to that radiation
    • G03F7/2039X-ray radiation
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70358Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/7055Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
    • G03F7/70575Wavelength control, e.g. control of bandwidth, multiple wavelength, selection of wavelength or matching of optical components to wavelength
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K1/00Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
    • G21K1/02Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators
    • G21K1/04Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators using variable diaphragms, shutters, choppers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Particle Accelerators (AREA)
  • X-Ray Techniques (AREA)

Description

506 209 lO 15 20 25 30 35 måste särskilt vid scanrörelsens vändpunkter uppträdande överexponeringar elimineras. Ändamålet med uppfinningen är därför att för det rådande användningsfallet för rönt- gendjuplitografin åstadkomma särskilt för scansystemet anpassade stràlknippeegenskaper under vakuumbetingelser.
Detta ändamål uppfylles enligt uppfinningen genom en anordning för manipulation av ett synkrotronstrålknippe, särskilt för bestrålningsapparaturer för röntgendjuplito- grafi, som i en vakuumkammare innehåller en genom scan- rörelse tvärs över synkrotronstrålknippet, som kommer in i vakuumkammaren via ett fönster, reglerbart objektbord för upptagande av ett föremål som skall bestrålas, i det att bredvid en filterkammare, som är inkopplad före vakuumkammaren och som innehåller i synkrotronstrål- knippet inkopplingsbara filter, är mellan objektbordet och fönstret anordnade par av mot varandra förskjutbara bländare, av vilka det par, hos vilket riktningen av den ömsesidiga förskjutbarheten av bländarna sammanfaller med scanrörelsen, är kopplat till scanrörelsen.
Det är fördelaktigt, om för inkopplingen av filtret i synkrotronstrålknippet filterväxlare är anordnade, vid vilka en pneumatisk cylinder är fastsatt på en på filter- kammaren påsättningsbar vakuumfläns via vertikala bultar, vilken pneumatisk cylinders rörelse överförs via en stånggáng, som fortsätter inne i en styrhylsa och en mem- branbälg, till en skjutstång, på vilken en filterhållare är fastsatt.
Filterhållaren kan bestå av två ramelement, som är för- sedda med en till tvärsnittet av synkrotronstrålknippet anpassad öppning som har formen av ett avlångt hål.
Företrädesvis utgör det ena paret av mot varandra för- skjutbara bländare en del av en första, synkrotron- strålknippet horisontellt begränsande strålbegräns- 10 \l5 20 25 30 35 506 209 ningsenhet. För var och en av de mot varandra förskjut- bara bländarna är pá en monteringsplatta via fästelement en ledskena fast anordnad och en spindel vridbart lagrad, pá vilken en mot vridning fastlást spindelmutter uppbär en av bländarna. För lägesinställningen av bländarna tjänar pà monteringsplattan fastsatta sensorer.
Det andra paret av mot varandra förskjutbara bländare skall utgöra en del av en andra, synkrotronstràlknippet vertikalt begränsande stràlbegränsningsenhet, i vilken förskjutningen av bländarna àstadkommes medelst drivele- ment, som i huvudsak motsvarar de för bländarna och som är fastsatta vid den rörliga delen av objektbordet.
Anordningen enligt uppfinningen möjliggör samtidigt, med en spektral selektion, en med ett eliminerande av överex- poneringar vid objektbordets vändpunkter förbunden kant- begränsning av synkrotronstràlknippet.
Uppfinningen kommer i det följande att belysas närmare med hjälp av de schematiska ritningarna, vilka visar: Fig. 1 en bestràlningsapparatur för röntgendjup- litografi Fig. 2 en filterväxlare för en filterkammare Fig. 3 en filterkammare som är lämpad för insättning i en bestrálningsapparatur Fig. 4 en horisontellt verkande stràlbegränsningsenhet sedd mot strálriktningen Fig. 5 en planvy av stràlbegränsningsenheten enligt fig. 4 506 209 10 15 20 25 30 35 Fig. 6 en vertikalt verkande stràlbegränsningsenhet sedd i strålriktningen Vid den i fig. 1 mycket förenklat visade bestràlnings- apparaturen mynnar ett stràlrör 1 för ett synkrotron- strålknippe 2 via ett fönster 4 i en som arbetskammare tjänande vakuumkammare 5, varvid en filterkammare 3 är insatt i stràlröret l. Vakuumkammaren 5 innehåller ett utifrån drivet objektbord 6, som förflyttar en röntgen- mask 7 och en röntgenstrålkänslig resist 8 tvärs över stràlknippet 2 i en vertikal scanrörelse. Mellan fönstret 4 och objektbordet 6 är de i figurerna 4, 5 och 6 närmare visade strålbegränsningsenheterna 9, 10 anordnade.
Vid den i fig. 2 visade filterväxlaren för insättning i en filterkammare 3, som visas tydligare i fig. 3 än i fig. 1, är en pneumatisk cylinder 13 hos en pneumatisk drivanordning fastsatt pà en vakuumfläns 11 via vertikala bultar 12. Den pneumatiska cylindern 13 alstrar genom valfri tillförsel av tryckluft via ett övre tryckluftin- lopp 14 och ett nedre tryckluftinlopp 15 en translatorisk rörelse hos en innanför liggande arbetscylinder. Denna påfyllning kan styras elektriskt medelst lämpliga elek- tropneumatiska element. Rörelsen leds genom en stànggàng 16 till den övre sidan av vakuumflänsen ll. Stànggángen 16 fortsätter inne i en styrhylsa 17 och en membranbälg 18. Stànggàngen är fast förbunden med den ena vakuumtätt tillslutna sidan 19 av membranbälgen 18. Den yttre om- kretsen av den andra sidan 20 av membranbälgen 18 är vakuumtätt fastsatt i vakuumflänsen 11.
Ojämnheter mellan den genom arbetssättet hos den i det inre av den pneumatiska cylindern 13 belägna arbets- cylindern bildade translationen och den genom stång- gàngens 16 rörelse i styrhylsan 17 bildade translationen utjämnas genom en lämplig koppling inuti stànggàngen 16. 10 15 20 25 30 35 506 209 På den nedre sidan 19 av membranbälgen 18 är en enhet fastsatt, som består av en skjutstång 21, en klämma 22 och en filterhållare 23 och som vid inkoppling av luft- cylindern 13 utför en translatorisk rörelse. Filter- hållaren 23 kan genom att lossa eller spänna klämman 22 lösgöras från skjutstången 21 eller sättas fast vid denna. Filterhållaren 23 består, såsom framgår av fig. 3, av två ramelement 24 och 25. Vart och ett av dessa ram- element 24, 25 omfattar en öppning 26, som har formen av ett avlångt hål. Efter det att skruvförbandet har lossats kan mellan ramelementen 24, 25 folie- eller plåtartat filtermaterial läggas in och inspännas genom att skruvas fast.
Enligt fig. 3 innehåller den som T- eller korsstycke ut- formade filterkammaren 3 flera (t.ex. fem) sådana, med 27 betecknade filterväxlare. Filterkammaren 3 är så anordnad i strålröret 1 för synkrotronstrålknippet 2, att i det övre läget av arbetscylindern hos en pneumatisk driv- anordning ligger filterhållaren 23 med filtermaterialet utanför synkrotronstrålknippets 2 område och i arbets- cylinderns andra läge är filterhållaren 23 så belägen att synkrotronstrålknippet 2 påverkas av filtermaterialet. öppningen 26 som har formen av ett avlångt hål, är så ut- formad, att i läget utan inlagt filtermaterial passerar all synkrotronstrålning filterhållaren. Genom en elek- tropneumatisk styrning kan filterväxling ske automatiskt utan luftning av filterkammaren 3.
Vid strålbegränsningsenheten 9, som enligt figurerna 4 och 5 består av ett par horisontellt mot varandra för- skjutbara bländare 28, 29, är på en monteringsplatta 30 via fästelement 31 en styrskena 32 fast anordnad och en spindel 33 vridbart lagrad. På spindeln 33 är en spindel- mutter 34 monterad, vid vilken bländaren 28 är fastsatt, som genom en medelst en motorgrupp 35 åstadkommen vrid- ning av spindeln 33 kan inställas i sidled analogt med 506 209 lO 15 20 25 30 35 spindelmuttern 34. Spindelmuttern 34 är medelst en kopp- ling 36 fastlàst vid styrskenan 32 för att förhindra vridning. Genom lämpliga sensorer 37 är en automatisk justering och styrning av bländaren 28 möjlig. Medan bländaren 28 är så anordnad i förhållande till synkro- tronstrålknippet 2, att ett godtyckligt avsnitt, som i figuren börjar från höger, absorberas av bländaren 28, sker med bländaren 29, vars drivelement motsvarar dem hos bländaren 28 och för överskádlighetens skull inte är för- sedda med hänvisningsbeteckningar, en begränsning av syn- krotronstrálknippet 2 som börjar frán vänster. Med båda bländarna 28, 29 är det möjligt att välja ut ett på bred- den ändringsbart avsnitt av synkrotronstrålknippet 2.
Rörelsen kan, såsom beskrivits här, ske automatiskt genom elektrisk styrning eller i förenklad form genom manuella påverkningar i förenklade system.
Fig. 6 visar strålbegränsningsenheten 10 med ett par av vertikalt mot varandra förskjutbara bländare 38, 39, vars translatoriska rörelse åstadkommes medelst drivelement, som motsvarar de för bländarna 28, 29. Pà grund av den konstruktiva utformningen säkerställes en oberoende in- ställning såväl mellan strålbegränsningsenheterna 9 och 10 som även mellan bländarna 28 och 29 och bländarna 38 och 39. Båda bländarna 38, 39 rör sig genom sin via driv- elementen åstadkomma fastsättning vid den rörliga delen av objektbordet 6 tillsammans med denna, så att en in- ställning av läget för bländaren 38 i ett godtyckligt första läge av objektbordet 6 och en inställning av läget för bländaren 39 i ett godtyckligt andra läge av objekt- bordet 6 medför en absorption av synkrotronstrålknippets 3 totala intensitet.
För tillverkning av ett mönster med röntgendjuplitografin kan de två lägena hos objektbordet 6 vara de nedre och övre vändpunkterna av en fortlöpande scanrörelse, så att en överexponering av den röntgenkänsliga resisten 8 i 10 506 209 detta område undviks och området som skall exponeras blir skarpt avgränsat.
Dessutom är med paret av de vertikalt mot varandra för- skjutbara bländarna 38, 39 även en godtycklig avgränsning av ett vertikalt begränsat exponeringsomràde av den röntgenkänsliga resisten möjlig.
Rörelsen kan pà samma sätt som vid paret av de horison- tellt mot varandra förskjutbara bländarna 28, 29 ske automatiskt genom en elektrisk styrning eller i förenklad form genom manuella påverkningar i förenklade system.

Claims (6)

506 209 10 15 20 25 30 35 PATENTKRAV'
1. l. Anordning för manipulation av ett synkrotron- stràlknippe, särskilt för bestràlningsapparaturer för röntgendjuplitografin, som i en vakuumkammare innehåller ett genom scanrörelse tvärs över synkrotronstrálknippet, som kommer in i vakuumkammaren via ett fönster, regler- bart objektbord för upptagande av ett föremål som skall bestràlas, kännetecknad av att jämte en filterkammare (3), som är inkopplad före vakuumkammaren (5) och som innehåller i synkrotronstràlknippet (2) inkopplingsbara filter, är mellan objektbordet (6) och fönstret (4) anordnade par av mot varandra förskjutbara bländare (28, 29, 38, 39), av vilka det par, hos vilket riktningen av den ömsesidiga förskjutbarheten av bländarna sammanfaller med scanrörelsen, är kopplat till scanrörelsen.
2. Anordning enligt krav 1, kännetecknad av att för inkopplingen av filtret i synkrotronstràlknippet (2) är filterväxlare (27) anordnade, vid vilka en pneumatisk cylinder (13) är fastsatt pà en pá filterkammaren pásätt- ningsbar vakuumfläns (11) via vertikala bultar (12), vil- ken pneumatiska cylinders (13) rörelse överförs via en stànggàng (16), som fortsätter inne i en styrhylsa (17) och en membranbälg (18), till en skjutstàng (21), på vilken en filterhàllare (23) är fastsatt.
3. Anordning enligt krav 2, kännetecknad av att filterhàllaren (23) består av tvà ramelement (24, 25), som är försedda med en till tvärsnittet av synkrotron- strálknippet (2) anpassad öppning (26) som har formen av ett avlàngt hàl.
4. Anordning enligt krav 1, kännetecknad av att det ena paret av mot varandra förskjutbara bländare 10 15 20 506 209 (28, 29) utgör en del av en första, synkrotronstràl- knippet (2) horisontellt begränsande stràlbegränsnings- enhet (9).
5. Anordning enligt krav 4, kännetecknad av att i strálbegränsningsenheten (9) för var och en av de mot varandra förskjutbara bländarna (28, 29) är pà en mon- teringsplatta (30) via fästelement (31) en styrskena (32) stelt anordnad och en spindel (33) vridbart lagrad, på vilken en mot vridning fastlàst spindelmutter (34) uppbär en av bländarna (28, 29), och att på monteringsplattan (30) fastsatta sensorer (37) är anordnade för lägesin- ställning av bländarna (28, 29).
6. Anordning enligt krav 1, kännetecknad av att det andra paret av mot varandra förskjutbara bländare (38, 39) utgör en del av en andra, synkrotronstràlknippet (2) vertikalt begränsande strálbegränsningsenhet (10), i vilken förskjutningen av bländarna (38, 39) åstadkommas medelst drivelement, som i huvudsak motsvarar de för bländarna (28, 29) och som är fastsatta vid den rörliga delen av objektbordet (6).
SE9403946A 1994-07-09 1994-11-16 Anordning för manipulation av ett synkrotronstrålknippe SE506209C2 (sv)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4424274A DE4424274C1 (de) 1994-07-09 1994-07-09 Einrichtung zur Manipulation eines Synchrotronstrahlenbündels

Publications (3)

Publication Number Publication Date
SE9403946D0 SE9403946D0 (sv) 1994-11-16
SE9403946L SE9403946L (sv) 1996-01-10
SE506209C2 true SE506209C2 (sv) 1997-11-24

Family

ID=6522767

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SE9403946A SE506209C2 (sv) 1994-07-09 1994-11-16 Anordning för manipulation av ett synkrotronstrålknippe

Country Status (8)

Country Link
US (1) US5535250A (sv)
JP (1) JP2642318B2 (sv)
DE (1) DE4424274C1 (sv)
FR (1) FR2722327B1 (sv)
GB (1) GB2291326B (sv)
IT (1) IT1267640B1 (sv)
SE (1) SE506209C2 (sv)
TW (1) TW336780U (sv)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19846958C2 (de) * 1998-08-19 2001-06-13 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zur Herstellung einer Einrichtung zum Transport von kleinsten Flüssigkeitsmengen
FI110478B (sv) 2001-05-29 2003-02-14 Planmeca Oy Förfarande och anordning för avgränsning av en strålningslob
DE10135307C2 (de) * 2001-07-19 2003-07-31 Deutsches Elektronen Synchr Hochleistungs-Strahlverschluss-und -Spaltsystem für Synchrotronstrahlung
DE10154461B4 (de) * 2001-11-08 2005-12-15 Siemens Ag Vorrichtung zum Filtern eines Strahlenbündels
JPWO2004048605A1 (ja) 2002-11-27 2006-03-23 第一化学薬品株式会社 特定リポ蛋白中の脂質測定法
CN1822239B (zh) * 2005-02-17 2010-06-23 Ge医疗***环球技术有限公司 滤波器和x射线成像设备
DE102006057536A1 (de) * 2006-12-06 2008-06-12 Deutsches Elektronen-Synchrotron Desy Hochleistungs-Strahlverschluss- und Spaltsystem für Synchrotronstrahlung
US20130195562A1 (en) * 2010-08-30 2013-08-01 Gea Pharma Systems Ag Fluid bed apparatus and method for processing a particulate material
WO2013003469A2 (en) * 2011-06-27 2013-01-03 Bioscan, Inc. Method and apparatus for automated indexing of pluralities of filter arrays
US11733171B2 (en) * 2018-09-11 2023-08-22 Kla Corporation Light attenuation device for high power UV inspection tool

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE8016658U1 (de) * 1980-06-24 1980-10-09 Gesellschaft Fuer Schwerionenforschung Mbh, 6100 Darmstadt Rechteckblende
FR2524655B1 (fr) * 1982-04-02 1985-10-18 Cgr Mev Bloc limiteur partiel d'un faisceau de rayonnement et collimateur comportant de tels blocs
EP0253283A3 (de) * 1986-07-15 1988-07-20 Siemens Aktiengesellschaft Anordnung zur Belichtung von Halbleiterscheiben mittels Synchrotronstrahlung in einem Lithographiegerät
DE68925323T2 (de) * 1988-09-14 1996-05-30 Canon K.K., Tokio/Tokyo Belichtungssteuerung in einem Röntgenbelichtungsapparat
JPH02234498A (ja) * 1989-03-07 1990-09-17 Nec Corp シンクロトロン放射光走査装置
US5040202A (en) * 1989-06-05 1991-08-13 General Electric Method and apparatus for reducing x-ray grid images
JP2697264B2 (ja) * 1990-08-03 1998-01-14 キヤノン株式会社 露光処理装置
US5473410A (en) * 1990-11-28 1995-12-05 Nikon Corporation Projection exposure apparatus
JP2691319B2 (ja) * 1990-11-28 1997-12-17 株式会社ニコン 投影露光装置および走査露光方法
US5148032A (en) * 1991-06-28 1992-09-15 Siemens Medical Laboratories, Inc. Radiation emitting device with moveable aperture plate
JPH0574688A (ja) * 1991-09-12 1993-03-26 Soltec:Kk X線露光方法及びその装置
JPH05175103A (ja) * 1991-12-20 1993-07-13 Fujitsu Ltd X線露光装置
DE4229319C2 (de) * 1992-09-02 1995-03-16 Siemens Ag Filterwechsler für eine Strahlenquelle
US5371774A (en) * 1993-06-24 1994-12-06 Wisconsin Alumni Research Foundation X-ray lithography beamline imaging system

Also Published As

Publication number Publication date
TW336780U (en) 1998-07-11
US5535250A (en) 1996-07-09
SE9403946D0 (sv) 1994-11-16
GB2291326B (en) 1998-07-29
SE9403946L (sv) 1996-01-10
ITTO940989A1 (it) 1996-06-06
IT1267640B1 (it) 1997-02-07
GB2291326A (en) 1996-01-17
GB9507636D0 (en) 1995-05-31
JP2642318B2 (ja) 1997-08-20
ITTO940989A0 (it) 1994-12-06
FR2722327B1 (fr) 1997-10-24
DE4424274C1 (de) 1996-01-11
JPH0829599A (ja) 1996-02-02
FR2722327A1 (fr) 1996-01-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SE506209C2 (sv) Anordning för manipulation av ett synkrotronstrålknippe
CN108088812B (zh) 一种可见近红外透射光谱测量装置
WO2007021333A2 (en) Integrated containment system
EP0632995A1 (de) Zahnärztliche Röntgendiagnostikeinrichtung
GB2212421A (en) Work support and positioning device for assembly line
EP4183558A1 (de) Fluidversorgungssystem für einen 3d-drucker
WO1984003049A1 (en) Air-cooled apparatus for an irradiation by means of polarized light
CN104101892A (zh) X射线与导轨平行***
DE69033791T2 (de) Röntgenbelichtungsvorrichtung
CN104865257A (zh) Euv多层膜碳污染实验装置
US7290998B2 (en) Quick set-up system for calibration devices
US5189950A (en) Screen printing machine and print head carriage therefor
EP0985121A1 (de) Vorrichtung zum bestrahlen eines substrats mittels uv-strahlen und verfahren zum betrieb der vorrichtung
CN219533620U (zh) 一种便于调整照射强度的紫外光源装置
CN208260812U (zh) 一种医药操作用工作台
CN221465221U (zh) 一种防尘检测装置
DE3634535A1 (de) Vorrichtung zur feinkorrektur des transversalen dickenprofils bei blasfolien
CN214059066U (zh) 一种自动分距装置
CN215352589U (zh) 一种油墨生产车间空气处理机构
CN221325821U (zh) 一种平行双螺杆挤出机齿轮箱密封性检测装置
CN210304427U (zh) 一种定点分层uv固化器
CN217213421U (zh) 一种可调角度的相机与光源装置
CN212896614U (zh) 一种无负压给水设备的防超压控制器
US5515410A (en) Irradiation device for deep x-ray lithography
CN106596407A (zh) 可调节尺寸的光学检测池及其***

Legal Events

Date Code Title Description
NUG Patent has lapsed

Ref document number: 9403946-8

Format of ref document f/p: F