SE453403B - Alster overdraget med hoggradigt hart material, forfarande for dess framstellning samt anvendning av alstret - Google Patents

Description

under SOOOC. Den s.k. fysikaliska ångutfällningsmetoden innefattar ångutfällningsmetoden, förstoftningsmetoden, metoden med aktiverad reaktiv ångutfällning (ARE-metoden), metoden med ångutfällning med ihålig katodurladdning (HCD-metoden), jonpläteringsmetoden och liknande, men framför allt föredrages jonpläteringsmetoden, där ett material, som skall ångutfällas, göres högenergetiädzsom positiv jon genom anbringande av en negativ accelererande spänning över ett sub- strat, för ökning av vidhäftningshållfastheten mellan beläggnings- filmen och substratet. Denna jonpläteringsmetod kan klassificieras i två slag bestående av högtryckstypen (lågvakuumtypen), där jonise- ringen utföres genom en glödurladdning i en*omgivande gas under ett tryck av 0,5-3 Pa, och lågtryckstypen (högvakuumtypen), där jonise- ringen utföres genom en intermediär elektrod, elektronbestrålning eller ett högfrekvent elektriskt fält under ett tryck av 0,1 Pa el- ler mindre. Emellertid medför jonpläteringsmetoden av högtrycksty- pen nackdelen att beläggningsfilmen av titankarbid eller titannit- rid på grund av dess höga omgivningstryck har benägenhet att vara svag och någon tillfredsställande vidhäftningshållfasthet erhålles icke, eftersom accelerationen av joner utföres huvudsakligen vid den mörka katoddelen kring basmaterialet. Vid fallet av lâgtrycks- typen kan å andra sidan en beläggningsfilm av god kvalitet lätt er- hållas och det är möjligt att accelerera tillräckligt mycket joner med en väsentligen homogen potentialgradient, vilket resulterar i en hög vidhäftningshållfasthet, men filmkvaliteten och vidhäftnings- hållfastheten påverkas i hög grad genom joniseringseffektiviteten och accelerationsspänningen. Den ordinära jonpläteringsmetoden är icke så effektiv för ökning av vidhäftningshållfastheten, eftersom joniseringseffektiviteten är generellt låg och energin, som tillfö- res till ett material som skall ångutfällas, icke kan ökas i så hög grad även om accelerationsspänningen ökas. Följaktligen har en HCD-metod och ARE-metod föreslagits, varigenom vidhäftningshåll- fastheten ökas genom upphettning av ett substrat utan anbringande av en accelererande spänning, varvid emellertid vidhäftningshållfast- heten icke är tillfredsställande vid låga temperaturer och förde- larna med den fysikaliska ångutfällningsmetoden, såsom beskrivits ovan, förloras vid höga temperaturer. Vid anbringande av en acce- lererande spänning med användning av den ordinära jonpläteringsan- ordningen med en låg joniseringseffektivitet, är t.ex. strömmen, som går genom en accelerationselektrod (vanligen substrat) mycket 3 liten, dvs ca 0,01-0,2 A, till och med då accelerationsspänningen är tämligen hög.

Vid tidigare försök inom ramen för denna uppfinning har en sådan jonpläteringsprocess hittills använts vid studium av beläggning av hârdmetallinsatser med ett skikt av TiN eller TiC för jämförelse med den kemiska ångutfällningsprocessen, såsom beskrives i "Thin Solid Films" 54 (1978) sid. 67-74. I enlighet med denna undersökning framgår att slitbeständigheten för karbider, anbringade genom jon- plätering, är liknande den för karbider anbringade genom kemisk ång- utfällning, men den genom jonplätering erhållna segheten är överläg- sen den för överdrag erhållna genom den kemiska ångutfällningsmeto- den. Dessutom har även föreslagits ett överdraget verktygsstål, in- nefattande ett verktygsstålsubstrat och en överdragen film därpå, bestående av minst en av titan-, zirkonium- och hafniumkarbider, -nitrider och -karbonitrider, som har en större halvvärdesbredd, såsom beskrives i amerikanska patentskriften 4 169 913. Emellertid är dessa överdragna alster icke tillfredsställande ifråga om vid- häftningshållfasthet mellan substratet och beläggningen.

Ett ändamål med föreliggande uppfinning är erhållande av ett alster överdraget med höggradigt hårt material, som uppvisar utmärkt slit- beständighet, värmebeständighet och korrosionsbeständighet.

Ett annat ändamål med föreliggande uppfinning är erhållande av skär- verktyg, slitbeständiga verktyg, Slitdetaljer och dekorationsartik- lar med en förbättrad slitbeständighet, värmebeständighet och kor- rosionsbeständighet.

Vidare är ett ändamål med uppfinningen erhållande av ett belagt als- ter med en förbättrad vidhäftningshållfasthet mellan substratet och beläggningen genom användning av jonpläteringsmetoden.

För uppnâende av detta ändamål hänför sig uppfinningen till ett als- ter överdraget med höggradigt hårt material, vilket innefattar ett substrat bestående av ett verktyg eller en detalj, som består av en kermet, hårdmetall, verktygsstål eller rostfritt stål, och åt- minstone ett höggradigt hårt maierial anbringat på ytan därav, valt från gruppen bestående av karbider, nitrider och karbonitrider av minst en av titan, zirkonium och hafnium samt fasta lösningar därav och sådana, vari syre är upplöst, vilket alster enligt uppfinningen , 43* 403 kännetecknas av att kristallerna i beläggningsfilmen är kraftigt orienterade så att förhållandet mellan diffraktionsintensiteten för den näst starkaste diffraktionstoppen och den för toppen från f2203- planet vid röntgendiffraktion med användning av Cu-Kßpstrålning är 15% eller mindre och att halvvärdesbredden för diffraktionstop- pen från {2201-planet för beläggningsfilmen är 0,80 eller mera på 2 6-skalan.

Då ett kristallplan bestrålas med röntgenstrålar, utsändes reflek- terade röntgenstrålar genom interferens med kristallplanet. Inten- siteten för de reflekterade röntgenstrålarna benämnes "diffraktions- intensitet". Ett sätt att mäta intensiteten är att avläsa höjden (i mm) för en diffraktionslinje, som registrerats av en registre- ringsapparat. Kristallplanen benämnes med Miller-index såsom t.ex. {22d}-planet och {11fš-planet. Se "Elements of X-ray Diffraction", utgiven av Addison-Wesley Publishing Co., Inc., Reading, Massachu-' setts, USA.

Vidare hänför sig uppfinningen till ett sätt för framställning av ett alster enligt uppfinningen, varvid substratet överdrages med åtminstone ett höggradigt hårt material till en tjocklek av 1-20 pm, varvid överdragningen enligt uppfinningen utföres genom en jonplä- teringsmetod innefattande anbringande av en negativ accelerations- spänning av 0,5-5 kV på substratet i början, följt av sänkning av den negativa accelerationsspänningen till 0,1-0,5 kV efter ca 5-10 minuter, i en reaktiv gas.

Slutligen hänför sig uppfinningen till en användning av ett alster enligt uppfinningen som en engångsinsats för fräsning, vilken be- står av en kermet eller hårdmetall, eller som kuggfräs.

Det har visat sig att ett alster överdraget med höggradigt hårt ma- terial med utmärkt vidhäftningshâllfasthet mellan substratet och beläggningen erhålles under de angivna betingelserna för jonpläte- ringsmetoden enligt uppfinningen.

Bifogade ritning är en schematisk vy av ett jonpläteringssystem, som användes vid föreliggande uppfinning.

I en jonpläteringsanordning, som användes vid föreliggande uppfin- ning, är joniseringseffektiviteten hög och den elektriska strömmen, som går genom en accelerationselektrod, är synnerligen hög, dvs minst 1-20 A, även om accelerationsspänningen är låg. På grund av den höga joniseringseffektiviteten kan energin för den individu- ella jonen av ett material, som skall ångutfällas, ökas genom ök- ning av accelerationsspäningen, vilket resulterar i en beläggnings- film med en hög vidhäftningshållfasthet. Kristallerna för belägg- ningsfilmen, som erhålles på detta sätt, är starkt orienterade i riktningen för (220) för ytan på substratet. I enlighet med resul- taten av de för uppfinningen grundläggande undersökningarna har det visat sig att vidhäftningshållfastheten är tillräckligt stor för praktisk användning då förhållandet mellan diffraktionsinten- siteten för den näst starkaste diffraktionstoppen och den för top- pen í;2Ö3 -planet är högst 15%. I detta område kan t.ex. det be- lagda verktyget användas för oavbruten svarvning. Då detta förhål- lande är mindre än 10%, uppvisar det belagda verktyget en hög vid- häftningshållfasthet och ger goda resultat vid användning vid fräs- ning, där verktyg överdragna enligt tidigare teknik icke med fram- gång kan användas.

Vid föreliggande uppfinning är emellertid den elektriska strömmen, som passerar genom ett substrat, hög, dvs 1-20 A, så att om acce- lerationsspänningen är t.ex. 1,5 kV, så är den elektriska energin, som tillföres till substratet, 1,5-30 kV och temperaturen för sub- stratet ökas markant. Sålunda föreligger en möjlighet till för- sämring av fördelen med den fysikaliska ångutfällningsmetoden att beläggningen kan åstadkommas vid låg temperatur.

Vidare har det även genom dessa undersökningar visat sig, att då överdragningen genomföres med användning av en jonpläteringsanord- ning med en hög joniseringseffektivitet, så ökar den kristallina oordningen för beläggningsfilmen med sänkning av temperaturen och halvvärdesbredden för diffraktionstoppen vid röntgendiffraktionen är stor. Här torde det sålunda noteras, att ju större halvvärdes- bredden är, desto mera förbättras slitbeständigheten för belägg- ningsfilmen. Då t.ex. halvvärdesbredden för diffraktionstoppen från í22Ö]-planet för beläggningsfilmen vid röntgendiffraktion med användning av Cu-Kßkstrålning är åtminstone 0,80 på 2 9-skalan, erhålles en utmärkt slitbeständighet och då den är minst 10 sa är slitbeständigheten ännu mera förbättrad.

Detta innebär att föreliggande överdragna alster har utmärkt vid- häftningshållfasthet för beläggningen, tillsammans med en hög ass ,ir4 u z ^- slitbeständighet.

För att sänka diffraktionsintensitetsförhållandet till 15% eller mindre är det emellertid nödvändigt att öka accelerationsspän- ningen, som anbringas över ett substrat, medan det för ökning av halvvärdesbredden är nödvändigt att sänka accelerationsspänningen.

Försök har gjorts att lösa detta motsatsförhållande och det har så- lunda visat sig att diffraktionsintensitetsförhållandet bestämmes av spänningen vid början för överdragningen och halvvärdesbredden beror på den elektriska energin. Baserat på detta faktum ökas acce- lerationsspänningen enligt uppfinningen vid början av påförandet av beläggningen och därefter sänkes accelerationsspänningen, varigenom man erhåller ett överdraget alster med ett diffraktionsintensitets- förhållande av 15% eller mindre och en halvvärdesbredd av 0,80 eller mera. Om tjockleken för en beläggningsfilm är mindre än 1 pm, är generellt effekten därav alltför liten, medan om tjockleken är mer än 20 pm, avflagning och försprödning av beläggningsfilmen ofta sker.

Då accelerationsspänningen ändras såsom beskrivits ovan, förändras diffraktionsintensitetsförhållandet och halvvärdesbredden på motsva- rande sätt, men kvantiteten eller graden av förändringar beror på slaget av, formen och dimensionen för substrat, den inre dimensio- nen eller mekanismen för jonpläteringsanordningen och joniserings- effektiviteten. Dessutom föreligger skillnader beroende på materia- let, som skall ångutfällas, t.ex. om detta består av titankarbid eller titannitrid, och det är sålunda svårt att generellt bestämma diffraktionsintensitetsförhållandet och halvvärdesbredden i motsva- righet till acceleratinnsspänningen. Vid överdragning av titannit- rid genom användning av titan som material, som skall ångutfällas, och kväve som reaktiv gas genomföres sättet enligt tidigare teknik genom anbringande av en accelerationsspänning av 0-2 kV över belägg- ningen och upphettning av substratet till en temperatur av 500-700OC för erhållande av ett diffraktionsintensitetsförhållande (I/Imax) av 25-80% och en halvvärdesbredd (2 9) av 0,1-0,50, medan vid före- liggande uppfinning accelerationsspänningen inställes på 0,5-5 kV i början och sänkes till OJ-0,5kV efter ca 5-10 minuter för erhål- lande av ett diffraktionsintensitetsförhållande av mindre än 15% och en halvvärdesbredd av mer än 0,80.

I ett exempel enligt föreliggande uppfinning belägges en ändfräs (10 mm diameter) av snabbstål (JIS SKH 55, motsvarande AISI M35) med TiN med en tjocklek av 2,3 Pm genom upprätthållande av en acce- lerationsspänning av 0,5 kV i början och Säflfiüflg till 012 kV ef' ter att 5 minuter förlöpt, så att beläggningen genomföres under 25 minuter. Resultaten av röntgendiffraktion visar att förhållandet mellan diffraktionsintensitet för den näst starkaste toppen från ïH13-planet och för toppen från {220}-planet är 13%.

I ett annat exempel belägges en engångsinsats (insatstyp: SNG 533) av kermet av TiCN-TaN-Mo2C-WC-Ni-Co-typ med TiN med en tjocklek av 9,m1genom upprätthållande av en accelerationsspänning av 5 kV i början och sänkning till 0,5 kV efter att 5 minuter förlöpt, så att beläggningen genomföres under 110 minuter. Resultaten av röntgen- diffraktion visar att förhållandet mellan diffraktionsintensiteten för den näst starkaste diffraktionstoppen från {20d3-planet och den för den högsta toppen från í220š-planet är 1,3%.

Beläggningsfilmen för alstret överdraget med höggradigt hårt mate- rial enligt föreliggande uppfinning kan bestå av en multifilm eller kan vara förenad med en film av aluminiumoxid eller kiselnitrid.

En utföringsform för beläggning med hjälp av en jonpläteringsanord- ning, som användes vid föreliggande uppfinning, beskrives med hän- visning till bifogade ritning.

Substrat 5 är fäst till substrathållare 6 och vakuumkammare 1 evaku- eras till ett tryck av 8 x 10-3 Pa eller mindre med hjälp av evaku- eringsanordning 2. Argongas införes i vakuumkammaren 1 till ett tryck av ca 3 Pa från gasinmatningssystem 3. En negativ spänning av ca 1,5 kV anbringas över substratet 5 genom energikälla 4 för bildning av glödurladdning och för uppvärmning av substratet 5 och därige- nom rengöres ytan på substratet 5. Inmatningen av argongas stoppas och vakuumkammaren 1 evakueras återigen.

Metall 13 av titan, zirkonium, hafnium eller en legering bestående av två eller flera av dessa metaller i vattenkyld koppardegel 12 bestrålas med elektronstråle 11, som emitterar från elektronkanon 9 genom påverkan av energikällan 10 för elektronkanonen 9, och smäl- tes och förångas. En positiv spänning av 20-100 V anbringas över joniseringselektrod 7 genom energikälla 8 och mellan joniserings- elektroden 7 och smält metall 13 bildas en urladdning genom sekun- dära elektroner emitterade genom bombardering med elektronstrålen 11 och smält metall 13 och den metalliska ångan, som förångas från ytan på den smälta metallen 13. Åtminstone en gas, vald från grup- pen bestående av kvävgas, acetylengas och syrgas samt blandningar därav, införes som en reaktiv gas i vakuumkammaren 1 från gasin- mâtningssystem 3 så att man uppnår ett tryck av 2,5 x 10-2 till 9,5 x 1052 Pa. Substratet 5 bringas att rotera genom mekanism 14, över vilken en negativ spänning av 0,5-5 kV anbringas genom energi- källan 4 för substratacceleration.

I detta fall kan en accelerationsspänning tillföras genom accelera- tionselektrod 15 genom energikälla 16 trots anbringande av en~spän- ning över substratet 5. Lucka 17 öppnas och beläggning av substra- tet 5 startar därefter. Efter att 5-10 minuter förlöpt, sänkes acce- lerationsspänningen till en negativ spänning av 0,1-0,5 kV. Om sub- stratet 5 är jordat eller uppvisar den lägre potentialen och acce- lereras genom accelerationselektrod 15, så överhettas icke substra- tet och det är sålunda icke nödvändigt att sänka accelerationsspän- ningen. På detta sätt erhålles ett alster överdratet med ett hög- gradigt hårt material enligt föreliggande uppfinning.

\ Följande exempel presenteras för att illustrera uppfinningen mera detaljerat utan begränsning av densamma.

Exempel 1 Med användning av den ovan beskrivna jonpläteringsanordningen över- drogs ett substrat (insats typ: SPG 422) bestående av hårdmetalle- gering P 30 under olika betingelser, såsom visas i följande tabell, och utsattes för bedömning (tabell 1 och tabell 2). c i ê r- mnmoona|Q>m _ xfizxw» wpmwfiøfip .ficw Nfi Q @.O Qfl Q 0.» Nz @.~ um wfl Qom m.m fl.@ ofi m.m H.Q Nz @.~ Wu mfl mmmoonm|n>m xfinxw» mnwwfiufip .dum zfl Q @.@ Ofi Q @.fi Nmwv n pN nfl Omfl @.m «.Q ofi 0.» «.o _~m~v M »N Nfi mmmoonn|Q>m xficxw» wnmwfiufiv .Ham Hfl om Q mflo m O o.~ ~o+~m~u+~z 1 _ fla OH gm w.fi fi.o m w.« HÅO ~o+~m~0+~z Q wa Q mwwoonQ|Q>m _ xficxwu mnmmfivfl» .flcm fw 9 om 0 mnø w O o.~ wz m.q _ fie _ ß Om @.~ fi.@ w o.~ fl.Q Nz m.= fis w mmwuonQ|o>o xficxmp wnmwfinwa .acw m mmmuonanQ>m xflcxmp mnmmfiwfiu .Ham = gm Q m.@ m O m.fl mmm lwz = we M Om _m.fi fi.@ m m.fi H.o ~m~u+Nz 3 wa N 1 1 1 | 1 | mmumfim »wmHmn|mxoH « ^=fisv_ ^>xV wfi ^>xv = Acfiev ^>x wfiv ^>xv = www Amm ~|ofl xv flmfipmpmzf .fiz mfiflmx wfifiwx mfifimx mfifimx |wm:fi=>«meo _ _. wcfi=»wc=ø>< www Ipwwpx |»@@pm wfia |»«@~x -pumum xuæpu uwwfiwwcwuwn mnmcowuwpm nmmflmwcfiuwn .hawnb |mw:fic>flwEo w Hflmßmß 10 ._0002 __ __ __ 00.0 0.2 __ A003 0.0. zë es 3.0 __ __ __ ofifi mi. Üå ._ 0.* zum se 2.0 __ 00 __ oïw i» A003 ïmå NJ Få næmmfim : m __ omflo m.wm : Ûowv n.= omm ___š 3.0 __ __ __ ømå 0,0 TSV __ 0.0 0.3 se 005 __ 00. __ 00.~ 0.” A003 A33 0A 0.5 _3002 _. 0 __ 00.0 0.00 A30» ^00~v NJ 8233.. se 00.0 __ __ __ ofiå mi. __ __ m; 202003. å. 3.0 __ 00. __ må Ûm 300V A003 m; 82003 äwæfiw __ 0 __ 00.0 0.00 __ ^00- m; 23 se 3.0 __ __ __ ofiå ä» __ __ 0:0 zä. es Sá __ 0m __ 00.0 10 __ __ 0.0 z? _8093 __ fi __ 00.0 ïä __ _ __ må 2602. ._0002 __ 3 __ 00.0 0.2 __ __ må 2,802. ______ E10 __ __ __ ONÅ 0.0 Giv __: 0.0 2003. se 00.0 __ ___ ___ 00.0 0.0 ^00- GNNV m; :S020 se 00.0 ie 00 ._0000 1 1 | .. | 1 - 3 NV 800 x S »m5 CQEH 000.2..

Awømunmocflcuwcxcmfiw» øø@nnwwøum> xmEH\Hv nfimcwucfiv :maa ncwucfiv cøfia Åslæ uu»fl~m>x ääpfim 13mm: 003 000030; åcoflxmnmufi. |mc00ßx9rrfimø xøñxoo? -EE wwwnucmm nmcofiuxmhmmwø Ifiæwmumu mummxhmum umwz wuwmähøum lëflfim Lowww ncmumfiflww _ :maa ^ømmv |«mcmu:H ^.wuhOuv H Hfimnmfi 11 Tabell 2 Betingelser för egenskapsbedömning_ Skärmetod Ytfräsning Arbetsstycke Material - SCM 3 (JIS) Hårdhet - Hs 32 Dimension - “breda 1oo mm: längd 300 mm Verktyg Fräs med en insats (fräsdiameter 160 mm) Fräsbetingelser Hastighet 180 m/min.

Urfräsning- 3 mm Q Inmatning _ 0,2 mm/varv.' Testresultaten av de erhållna proverna visar att de belagda alstren enligt föreliggande uppfinning har höggradigt mera utmärkta egenska- per eller ger bättre resultat än belagda alster enligt tidigare tek- nik, och i jämförelse med det icke-överdragna alstret är nötnings- beständigheten 1,8-3,2 gånger bättre. Då de överdragna alstren en- ligt föreliggande uppfinning jämföres med varandra, ger prover, vars röntgendiffraktionsintensitetsförhållande (I/Imax) x 100 är litet och vars halvvärdesbredd för i2203-planets diffraktionstopp är stor, mycket bättre resultat.

Exempel 2 Med användning av jonpläteringsanordningen enligt exempel 1 upphet- tades titan och förångades genom en elektronstråle, joniserades vid en joniseringspotential av +40V och utfälldes på en rundfräs med modul 1 och 200 i-tryckvinkel (JIS SKH 57) vid en substratpo- tential av -0,8 kV under 5 minuter och -0,5 kV under 25 minuter i en blandad gas under ett totalt tryck av 5'x 10f4 torr, där partial- trycket för acetylen var 2 x 10-4 torr och partialtrycket för kväve var 3 x 10-4 torr, så att en överdragen produkt med ett intensitets- förnaiianae (1200/izzo) av 9,7% och en nalvväraesbreaa av 1,o° på 2_9-skalan erhölls. Den sålunda behandlade rundfräsen utsattes för kuggfräsning på ett arbëtsstycke av JIS S50C med en fräshastighet av 106 m/min. och 1061 varv/min. i närvaro av skärolja. 230 stycken kunde framställas. Å andra sidan var livslängden för ett konventio- nellt fräsverktyg endast 100 arbetsstycken.

För skärverktyg, Slitbeständiga verktyg, slitdetaljer eller dekora- 12- tionsartiklar överdragna med höggradiskt hårda material enligt föreliggande uppfinning, väljes ett material för en detalj, var- vid erfordras åtminstone slitbeständignet, värmebeständighet och korrosionsbeständighet, bland kermeter, hårdmetaller, verktygsstål och rostfritt stål. Exempelvis uppvisar en engångsinsats av en ker- met eller hårdmetall överdragen med ett höggradigt hårt material enligt föreliggande uppfinning utmärkta resultat, isynnerhet för fräsning.

Claims (3)

10 15 20 25 30 35 Patentkrav

1. Alster överdraget med höggradigt hårt materiak vilket inne- fattar ett substrat bestående av ett verktyg eller en detalj, som består av kermet, hårdmetall, verktygsstål eller rostfritt stål, och åtminstone ett höggradigt hårt material, överdraget därpå, valt från gruppen bestående av karbider, nitrider och karbonitrider av minst en av titan, zirkonium och hafnium och fasta lösningar därav samt sådana, i vilka syre är upplöst, k ä n n e t e c k n a t av att kristallerna i beläggnings- filmen är kraftigt orienterade så att förhållandet mellan diffraktionsintensiteten för den näst starkaste diffraktions- toppen och den för toppen från {220} -planet vid röntgendif- fraktion med användning av Cu-Ku-strålning är högst 15% och att halvvärdesbredden för diffraktionstoppen från {220} -pla- net för beläggningsfilmen är minst 0,80 på 2 9-skalan.

2. Sätt för framställning av ett alster överdraget med ett höggradigt hårt material, varvid ett substrat bestående av ett verktyg eller en detalj, bestående av kermet, hårdmetall, verktygsstål eller rostfritt stål, överdrages med åtminstone ett höggradigt hårt material valt från gruppenàbestående av karbider, nitrider och karbonitrider av åtminstone en av titan, zirkonium och hafnium och fasta lösningar därav samt sådana, i vilka syre är upplöst, med en tjocklek av 1-20/um, k ä n - n e t e c k n a t av att överdragningen utföres genom en jon- pläteringsmetod innefattande anbringande av en negativ accele- rationsspänning av 0,5-5 kV på substratet i början, följt av sänkning av den negativa accelerationsspänningen till 0,1- 0,5 kV efter ca 5-10 minuter, i en reaktiv gas.

3. Användning av ett alster överdraget med höggradigt hårt material, vilket innefattar ett substrat bestående av ett verktyg eller en detalj, som består av kermet, hårdmetall, verktyggstål eller rostfritt stål, och åtminstone ett höggra- digt hårt material, överdraget därpå, valt från gruppen bestå- ende av karbider, nitrider och karbonitrider av minst en av titan, zirkonium och hafnium och fasta lösningar därav samt sådana, i vilka syre är upplöst, varvid kristallerna i belägg- 453 403 M ningsfilmen är kraftigt orienterade så att förhållandet mellan diffraktionsintensiteten för den“näst starkaste diffraktions- toppen och den för toppen från {220§ -planet vid röntgendif- fraktion med användning av Cu-Ka-strålning är högst 15% och att halvvärdesbredden för diffraktionstoppen från {220} -pla- net för beläggningsfilmen är minst 0,80 på 2 6-skalan som en engångsinsats för fräsning, vilken består av en kermet eller hårdmetall, eller som kuggfräs.