SE446036B - Sett och anordning for framstellning av en termiskt framkallningsbar bildframstellningskiva - Google Patents

Description

IV LH 30 35 RO 7906458-0 2 en bild på densamma medelst förvärmning och exponering av ett visst avsnitt av ett ej registrerat omrâde och efterföljande termisk framkallning.

Att göra en dylik bildalstringsskiva ljuskänslig medelst förvärmning kallas värmeaktivering eller termisk aktivering och att göra en latent bild synlig medelst uppvärmning kallas termisk framkallning. _ Med konventionell bildregistreringsteknik med användning av processen med förvärmning - exponering - termisk framkallning av bildalstringsskivan är det svårt att erhålla en klar bild med skarpa konturer och fina detaljer. Om man på kort tid skulle kunna åstad- komma en skarpa konturer och fina kontraster uppvisande bild i ett önskat område av bildalstringsskivan, skulle det vara möjligt att förbättra kvaliteten och användbarheten för bildalstringsskivan, genom att möjliggöra ytterligare bildregistrering och ställa en bekväm och användbar registreringsanordning till förfogande.

Ett ändamål med uppfinningen är att åstadkomma ett sätt och en anordning för bildalstring som i hög grad ökar bildalstringsskivans känslighet i och för alstring av en skarpa konturer och fina kont- raster uppvisande bild och som förkortar den tid som erfordras för att erhålla en synlig bila.

Ett annat ändamål med uppfinningen är att åstadkomma en bild- alstringsanordning som möjliggör hantering av bildalstringsskivan i ett ljust rum och sålunda är enkelt uppbyggd och möjliggör registre- ring av framkallning av information på bildalstringsskivan medelst torrprocess.

Ett ytterligare ändamål med uppfinningen är att åstadkomma en bildalstríngsanordning som, när det gäller en bildalstringsskiva som har ett flertal bildalstringsområden, möjliggör att en skiva som har en bild registrerad i ett av bildalstringsomràdena tas ut ur bild- alstringsanordningen och därefter återinsättes i densamma för ytterligare registrering av en bild i ett bildalstringsområde där ingen bild är registrerad.

Som resultat av ingående undersökningar i syfte att uppnå de ovan angivna ändamålen för förbättring av bildalstringsmetoden för bildalstringsskiva har vi funnit att exponering av bíldalstrings- skivan i avkylt tillstånd efter förvärmning av skivan för att göra denna ljuskänslig i hög grad förbättrar dess känslighet sà att den kan ge en skarpa konturer och fina kontraster uppvisande synlig bild, och därmed har uppfinningen gjorts. 15 20 25 30 35 H0 7906458-0 2 .r Uppfinningen är inriktad på ett på termisk framkallning baserat bildalstringsförfarande för en bildalstringsskiva som har gjorts ljuskänslig genom förvärmning före exponering och exponering för bildande av en latent bild samt termisk framkallning för erhållande av en synlig bild. Förfarandet är kännetecknat av att man efter för att göra denna ljuskänslig i avkyler åtminstone det område som avser även en för genomförande av förvärmning av bildalstríngsskivan ett visst område före exponeringen gjorts ljuskänsligt. Uppfinningen förfarandet avsedd anordning.

Vilken bildalstringsskiva som helst kan användas för uppfin- ningen så länge den är av den typ som blir ljuskänslig genom för- värmning före exponering och bildar en latent bild genom exponering och därefter alstrar en synlig bild medelst termisk framkallning.

-Ett typiskt exempel pà detta slags bildalstringsskiva är utfört av material som kallas "torr-silver-ljuskänsligt material" och som innehåller ett oxidations-reduktions-reaktionssystem som innefattar åtminstone ett organiskt silversalt som oxiderande medel och ett silverjon-reducerande medel för en silverjon. En mera speciellt exempel på detta bildalstrande material kommer att beskrivas i det följande.

Ett speciellt exempel på bildalstrande skiva för användning i samband med uppfinningen är utfört av ett material som väsentligen består av ett ljusokänsligt organiskt silversalt som oxidationsme- del, en silverhalid eller en källa till halogenjoner som kan bilda silverhaiiden genom att reagera med det organiska silversaltet som oxiderande medel, ett reduktionsmedel för en silverjon, ett bindeme- del.samt en kvicksilver(II)jonkälla. Som ett annat exempel på ett dylikt material för bildalstringsskiva att användas i anslutning till uppfinningen kan nämnas ett material som väsentligen består av ett ljusokänsligt organiskt silversalt som oxidationsmedel, ett reduktionsmedel för en sílverjon, ett bindemedel, en kvicksil- ver(II)jonkälla, karboxylsyra och/eller ett sensibiliserande färgämne.

Det förstnämnda materialet är beskrivet exempelvis i amerikans- ka patentskrifterna 3 802 888, 3 76U 329 och N 113 H96, under det att det sistnämnda är beskrivet exempelvis i amerikanska patent- skriften 3 816 132 och den japanska för allmänheten tillgängliggjor- da patentansökningen 127 719/76.

Som exempel på ovan nämnda ljusokänsliga organiska silversalter kan nämnas silversalt av lång-kedjiga fettsyror eller silversalt som» __. _......_._...._.._._.,.- _ _ ___, ._ 10 15 20 25 30 35 H0 'brom eller jod); 7906458-0 H utgör organiska föreningar innehållande en imino~ eller merkapto- grupp. De ovannämnda silversalterna innefattar exempelvis silver- stearat, silverbehenat, silversalt bensotriazol, silversackarinat, silverftalazinon, silver-2-merkapto- bensoimidazol och Ssilver-3-merkapto-H-fenyl-1,2,H-triazol. Av dessa föredrages speciellt sílversalter av långkedjiga fettsyror, Oxideringsmedlet av av bensotríazol, silver-5-nitro- exempelvis silverstearat och silverbehenat. organiskt silversalt används i en mängd av ungefär 0,1 till 50 g/m2, företrädesvis 1 till 10 g/m2. Såsom nämnda silverhalíd kan användas silverklorid, silverbromid, silverjodid, silverkloro- bromojodid , silver-klorobromid, silver-jodbromid, silver-klorobro- mid och en blandning av dessa.

Silverhaliden kan användas i en mängd av ungefär 0,1 till ungefär 40 mol-%, företrädesvis 0,5 till 20 mol-%, baserad på mängden silversaltoxidationsmedel. ' Som exempel på halogenjonkällor som kan bilda en silverhalid genom reaktion med oxidationsmedlet för organiskt silvarsalt kan nämnas en reducerbar halogenförening som har den väsentliga struktu- Pfifl -CÛNXe1leP -302NX där X är klor, brom eller jod, exempelvis i enlighet med vad som anges i amerikanska patentskriften 3 76k 329.

Som ett annat exempel på en dylik källa kan nämnas oorganiska halider som representeras av HgX2, Caxz, COXZ, BaX2, CsX, BDX» MSXEL NiX2, GeXu och PbX2 (där X representerar klor, organiska halider i vilka det specifika elementet Sn, Pb, P, As, Sb, Bi, Se och Te.

Följande halider kan exempelvis användas: _ ((:>+3 Gex. <<:)+2Gex¿, (<:>cH2+2snx2. ((:)+3snx, ((:>+3Pbx, ((:>+3Px2, ((:>-o+3Px2, ((:>-o+3p19, (<:>*3PC=X2f (<:>>4A?X2, <:>-ASXZ. (<:>+3sbx2,.<<:>+4sbx, ((:)+¿aix2, (cH3o-(:)+2sex2, (<§§+2sex2, (ca3o-<§>æ2mex2, (@+2'rex2 and Qexz är vilket som helst av Ga, där X representerar klor, brom eller jod; halogenmolekyler eller ämnen valda ur gruppen brom, jod, jodklorid, jodbromid och bromklo- rid; komplex av halogenmolekyler och specifika föreningar såsom p-dioxan; samt organiska halogenföreningar, exempelvis trifenyl- jodoform, 2-bromoetanal, u»bromo- cm-klorodifenylmetan, 0<-bromo-dí- metyibmmid, trifenyimetyikior-id, diphenylmetan, m»iodophenylmethane, 10 15 P.) UT 30 U0 ,. f... -..___...._.....__._. V 7906458-0 5 »(p-metoxyfenyl)-metan etc. Mängden av en dylik halogenjonkälla som skall användas är ungefär 0,1 till ungefär HO mol-%, företrädesvis 0,5 till 20 mol-1, grundat på mängen oxiderande medel av organiskt silversalt ' _ Ett reduktionsmedel som är lämpligt för att reducera silverjo- ner är en hindrad fenol, i vilken en eller två "steriskt voluminösa grupper är bundna till kolatomen eller -atomerna som befinner sig intill den nydroxylgruppbundna kolatomen för att steriskt blockera hydroxylgruppen. Som exempel på dylika hindrade fenoler kan nämnas 2,6-di-tert-nutyl-H-methylfenol, 2,2'-mctylenbís-(H-metyl-6-tert- butylfenol), 2,U,4-trimetyl-fenyl-bis-(2-hydroxi-3,5-dimetyl-fenyl)- metan och 2,6-bis-(2'-hydroxi-3'-tert-butyl-5'-metyl-bensyl)-M-me- tylfenol. Reduktionsmedlet kan användas i mängden 0,1 till 100 vikt-%, företrädesvis 1 till 100 vikts-%, i förhållande till oxidationsmedlet av organiskt sílversalt.

Som kvioksilver(Il)jonkälla kan nämnas kvicksilver(II)acetat, kvicksilver(II)behenat, kvicksilver(II)bensoat och kvicksilver(II)- halid.

Såsom organisk karbonsyra är benensyra, stearinsyra etc. lämpliga. Den använda mängden kvicksilver(II)jonkälla skall vara 0,1 till 7% grundad på den mängd silver som används i bildalstrings- skivan.

Såsom sensibilisator-färgämne är merocyanin lämpligt, och exempel på sådana färgämnen innefattar dem som är angivna i "Organic Chemicals List", publicerad av Nippon Kanko Shikiso Kenkyusho (japanska institutet för ljuskänsliga färgämnen), sid. 102-105, 1969 och sid; 25-27, 197ë.

Såsom bindemedel kan nämnas polyvinylbutyral, polyvínylformal, polymetylmetakrylat, cellulosaacetat, polyvinylacetat, cellulosaace- tatpropionat, cellulosaacetatbutyrat, polystyren och gelatin. Av De kan användas var för sig eller i form av en blandning av två eller dessa är polyvinylbutyrat speciellt lämpligt såsom bindemedel. flera av dem. Det föredrages att bindemedlet används i sådan mängd att viktförhállandet mellan bindemedlet och oxidationsmedlet av organiskt silversalt ligger i området från ca 10/1 till ca 1/10, 1,2/1 till 1/2.

Det bildalstringsskive-material som används vid tillämpningen företrädesvis av uppfinningen kan vidare utöver de ovan uppräknade beståndsdelarna allt efter behov innehålla modifierare såsom tonare för silverbild, ett bakgrunds-förmörkníngsförhindrande medel och en sensibilisator. 10 15 20 25 35 DO 7906458-0 s .

Såsom tonare för en sílverbild kan exempelvis nämnas ftalaxinon och ftalimid. Såsom bakgrunds-förmörkningsförhindrande medel kan exempelvis nämnas tetrabromobutan, hexabromooyklohexan och tribromo- kínalídin.

Den enligt ovan sammansatta substansen appliéeras på ett transparent substrat, exempelvis en polyetenfilm, en cellulosaace- tatfilm eller en polyesterfilm tillsammans med det ovannämnda bindemedlet och ett lämpligt lösningsmedel. Beläggningens tjocklek är ungefär 1 till ungefär 1000/um, företrädesvis 3 till 2o,um.

Substansens beståndsdelar kan valfritt lamineras i tvâ eller flera skikt. Den sålunda erhållna skivan är ljusokänslig under normala ljusförhållanden och kan hanteras i ett ljust rum. När ett visst område av skivan förvärmes i mörker, blir området ifråga ljus- känsligt.

Förvärmningstemperaturen för att ljuskänslig är vanligen 80 till 130°C, företrädesvis 90 till 12o°c. tiden. För ytterligare registrering är det erforderligt att endast ett önskat område där en bild skall alstras göres ljuskänsligt genom förvärmninv. Detta kan åstadkommas genom att man använder en uppvärmningsplatta-eller ett uppvärmningsblock vars uppvärmningsom- råde är begränsat till bildalstringsområdet på bildalstringsskivan, eller också med användning av antingen varm luft eller en anordning göra bildalstringsskivan Ju lägre temperaturen är, desto längre blir förvärmnings- för att avge infraröd eller mycket långvågig infraröd strålnings~ energi, vilken anordning är utförd så att bestràlningsområdet kan begränsas. Om ingen ytterligare registrering erfordras, behöver uppvärmningsomrâdet ej vara begränsat.

Vid uppfinningen åtföljes förvärmningen av avkylning i enlighet Som kommer att framgå av de i det följande det önskvärt att med vad som ovan nämnts. beskrivna utföringsformerna av uppfinningen är temperaturen i bildalstringsområdet av bildalstringsskivan genom denna avkylníng är så mycket lägre än förvärmningstemperaturen som möjligt. Det föredrages att bildalstringsskivans temperatur efter avkylningen är under 6000, företrädesvis under 4000. I praktiken är den undre gränsen för denna temperatur omkring rumstem- peratur.

Kylningen av bildalstringsskívan kan exempelvis åstadkommas genom att man bringar ett metallblock eller liknande med mycket god värmeledningsförmåga i kontakt med skivan eller att man blåser luft av rumstemperatur eller en kall gas mot skivan. 10 15 20 25 30 35 H0 7906458-0 7 För att exponera bildalstringsskivan kan man exempelvis använda det tillvägagångssättet att genomgående eller reflekterat ljus från ett föremål projiceras genom en projektionslins mot det ljuskänslíga skiktet på bildalstringsskivan för att utsätta denna för en ljusbild av föremålet. För vârmealstring kan man använda samma tillväga- gångssätt som vid förvärmning. Uppvärmningstemperaturen för fram- kallning är 100 till 150°C, företrädesvis 110 till 130°C. kan även använda förvärmningsorganet såsom organ för termisk fram- kallning eller också använda vart och ett av dessa båda organ separat. Eftersom olika krav i många fall gäller för förvärmning och termisk framkallning föredrages i många fall anordnandet av ett första uppvärmningsorgan för förvärmning och ett därifrån skilt För att fram- Man andra uppvärmningsorgan för termisk framkallning. ställa en bild på bildalstringsskivan i ett visst läge och utföra ytterligare registrering är det önskvärt att anordna en bildalst- ringsskiv-transportanordning och en lägesfixeringsanordning medelst vilken bildalstringsskivan förflyttas till ett förutbestämt läge och lägesfixeras där för varje behandling. Det föredrages vidare att använda ett kontrollorgan för att kontrollera operationstidgívningen för uppvärmningsorganen, avkylningsorganen, exponeringsorganen och organen för termisk framkallning och, om så erfordras, transportör- ganen och lägesfixeringsorgan, deras operationstíder och tempera- turer.

I bildalstringsanordningen enligt uppfinningen, varvid man använder en bildalstringsskiva som göres ljuskänslíg genom förvärm- ning före exponering, exponerar skivan för en ljusbild för alstring av en latent bild och därefter medelst värme framkallar bilden för åstadkommande av en synlig sådan, är kylningsorgan anordnade för kylning av det förvärmda området av bildalstringsskivan under 'tidsintervallet mellan förvärmning och exponering; vidare finns organ för att lägesfixera bildalstringsskivan så att dennas bild- alstringsområden, som skall förvärmas, avkylas, exponeras och termiskt framkallas, hålles i rätt läge under var och en av de olika processerna. Åtminstone två av förvärmningsorganet, kylningsorga- net, exponeringsorganet och värme-framkallningsorganet är anordnade i linje med varandra för att möjliggöra parallell behandling av de i linje befintliga organen.

Uppfinningen skall i det följande närmare beskrivas i anslut- ning till på bifogade ritning med fig. 1 - 21 visade utföringsexem- pel. Pig. 1 är en perspektivbild som schematiskt visar det yttre 10 15 20 25 30 35 HO 7906458“0_ e N utseendet av bildalstringsanordningen enligt uppfinningen. Fig. 2 är en tvärsnittsvy enligt linjen A-A i fig. 1. Fig. 3 är en tvärsnitts- vy enligt linjen B-B i fig. 2. Fig. H är en perspektivbild som visar sambandet mellan det bildalstringsskivan transporterande organet och en rörkroppdel, Fig. 5 är en perspektivbild som visar ett exempel pà en drivmekanism för en ramformad del av ett värmeelement. Fig. 6 är en perspektivbild som visar det tillstànd i vilket en bildalstrings- skivehållare är placerad vid ett bildalstringsskiv-införingsfönster.

Fig. 7, 7A och 7B är genomskärníngsbilder som visar utföringsformer av rörkroppdelen. Pig. 8 och 8A är perspektivbilder av ramformade delar.av rörkroppdelen enligt fig. 7 och 7B sedda från bildalst- ringsskivans sida. Fíg. 9A t.o.m._2§ är genomskärningsbilder som visar ytterligare modifierade utföringsformer av rörkroppdelen och ett värmeelement. Fig. 10 är en perspektivbild som visar organ för àstadkommande av en optisk strålgång för läsändamàl. Fig. 11 är ett fdiagram som visar sambandet mellan ramar hos bildalstringsskivan och duhbelexponeringskontrollorgan. Fig. 12 är ett kopplíngsschema som visar ett exempel på anordning för att förhindra dubbelexponering.

Pig. 13 är ett princípschema som visar kontrollsystem och luftkana- ler för uppvärmning med varmluft och kylning med kalluft. §ig¿_lfi är en genomskärningsvy som visar en annan utföringsform av rörkropp- delen vid uppvärmning medelst gas. Fig. 15 är en tvärsnittsbild som visar ytterligare ett exempel på en rörkroppdel vid uppvärmning medelst gas. Fig. 16 är en genomskärningsbild som visar ytterli- gare ett exempel på en rörkroppdel vid uppvärmning med infraröd-be- strålning. Fig. 17 är ett diagram som visar sambanden mellan ramar hos bildalstríngsskivan och positioner för dubbelexponeringskont- avkylning, exponering och termisk framkallning Fig. 18 är en perspektivbild som roll, förvärmning, under successiv registrering. visar ett exempel på användning av steghjul för lägesplacering av bildalstringsskivan. Fig. 19 är en genomskärningsbild som visar ett exempel på rörkroppdel och tillhörande delar i ett-läges~behand- lingssystem. Fig. 20 och 21 slutligen är ljuskänslighetskaraktäris- tikor där en parameter är graden av avkylning av bildalstringsskivan efter förvärmningsprocessen men före exponeringsprocessen.

Bildalstringsanordningen enligt uppfinningen har ett yttre utseende exempelvis i enlighet med vad som visas i fig. 1. Ett hölje 12 är monterat på en bas T1 i dennas bakre del och en objekt- fasthàllande del 13 är anordnad på basen 11 i dennas främre del. En del 12a för införande av en optisk bild i form av reflekterat ljus e g *_ ...._._._.._._._._...._.._..___.... ___-, 10 15 20 25 30 35 NO 7906458-0 9 från den objektfasthållande delen och in i höljet 12 är monterad därpå så att den sträcker sig ovanför den objektfasthállande delen 13. En manöverpanel 1ü är anordnad på en övre panel 20 hos basen 11 i ett hörn nära dess frontpanel, vilken manöverpanel 1U är försedd med olika manöverknappar för att styra bildalstringsanordningen. På basens 11 frontpanel är ett lock 16 monterat, vilket täcker ett fönster för insättning av en bildalstringsskiva. En skärm 175 på vilken en bild skall projiceras är anordnad på en frontpanel 15 på höljet 12 på dettas ena sida.

Som framgår av fig. 2 och 3 är en projektionslins 18, som utgör en del av ett exponeringsorgan, anordnad i höljet 12 vid dettas mitt. En bildalstringsskiva 19 är förskjutbart placerad i ett läge där en medelst linsen projioerad bild av ett föremål bildas, d.v.s. i en bildexponeringsposition. Bildalstringsskivan 19 fasthålles av en hållare 21 enligt fig. U, och hållaren 21 uppbäres och förskjutes av transportorgan.

Transportorganet är anordnat i enlighet med vad som visas i fig. 2 och 3 och visas i förstorad skala i fig. H. Den övre panelen 20 hos basen 11 på vilken objektfasthállningsdelen 13 är anordnad lutar något framåt, och en basplatta 22 i basen 11 är likaså anord- nad något framåtlutande. Som framgår av fig. Ä är stöd 31a, 31b, 32a och 32b monterade på basplattan 22 nära dess fyra hörn.

En gängad axel 33 är roterbart installerad mellan stöden 31a och 32a så att den sträcker sig i en riktning vinkelrätt mot basens 1 frontpaneli En änd-del av den gängade axeln 33 sträcker sig ut från stödet 31a, och en Y~riktnings-motor 3Ä är monterad på stödet 31a vid sidan av den utskjutande änd-delen av den gängade axeln 33.

Den gängade axeln 33 drivs av Y-riktnings-drivmotorn 3H. Den gängade axeln 33 är inskruvad i ett gängat hål som är upptaget i en stöddel 36 vilken är utformad vid ena änd-delen av en i Y-riktningen förskjutbar del 35 vilken sträcker sig vinkelrätt mot den gängade axelns 33 riktning, så att den i Y-riktningen förskjutbara delen 35 genom den gängade axelns 33 rotation förskjutes i dennas riktning.

Mellan stöden 31a och 32a är även en gejdstång 37 överbryggad invid och parallellt med den gängade axeln 33, och gejdstången 37 är insatt i ett genomgående hål som är upptaget i stöddelen 36, varige- nom den förskjutbara delen 35 hålles så att den kan förskjutas utan rotation. På liknande sätt är en gejdstång 38 installerad mellan stöden 31b och 32b och är insatt i ett hål upptaget i en stöddel 39 som är utformat vid den andra änden av den förskjutbara delen 35, så 10 15 20 25 30 35 HO 'stödstyckena H1 och H2. 7906458-9 10 att den förskjutbara delen 35 kan förskjutas parallellt med basplat- tan 22 i den gängade axelns 33 riktning. Denna rörelseriktning antages nu exempelvis vara Y-axel-riktningen. Ett par stödstycken H1 och H2 är fastsatta vid båda änd-delarna av den i Y-riktningen förskjutbara delen 35, vilken bringas att förskjutas i Y-ríktning- en. En gängad X-riktnings-axel H3 är roterbart överbryggad mellan Ena änden av den gängade X-riktnings-axeln H3 skjuter ut ur stödstycket H1, och en X-riktnings-drivmotor HH är fast monterad på stödstycket H1 på sidan av den utskjutande änden av den gängade axeln H3. Den gängade X-riktnings-axeln H3 drives av motorn HH. Invíd och parallellt med den gängade X-riktnings-axeln H3 9 är gejdstavar H5 och H6 överbryggade mellan stödstyckena H1 och H2.

En i Xëriktningen förskjutbar del H7 är anordnad, genom vilken den gängade X-riktnings-axeln H3 och gejdstavarna H5 och 36 sträcker sig. Den i X-riktningen rörliga delen H7 och X-riktningens gängade axel H3 är i gängingrepp med varandra; följaktligen kommer rotation av X-riktningens gängade axel H3 att medföra att den i X-riktningen rörliga delen H7 förskjutes åt höger och åt vänster, d.v.s. i X-axelns riktning.

Vid den i X-riktningen rörliga delen H7 är fäst ett som en arm format stöd H8, vid vilket bildalstringsskivhållaren 21 fäst i enlighet med vad som framgår av fig. 2, H och 6. lägesfixerande pinnar 97 och 98 som är insatta i stödet införda i öppningar som är upptagna i ett marginalparti ringsskivan 19, och marginalpartiet av skivan 19 hàlles 21 tryckt mot stödet H8. I detta fall är en skruvlinjefjäder monterad omkring hållarens 21 svängningsaxel, ehuru detta ej är visat i figuren, och medelst denna fjäder hålles hållaren 21 tryckt mot stödet H8 med bildalstringsskivan 19 i ett grepp mellan dem. I hållaren 21 är hål upptagna för att ta emot lägesfixeringspinnarna 97 och 98. För underlättande av insättningen och uttagningen av hildalstringsskivan 19 är en mellandel av det yttre margínalpartiet är svängbart Ett par H8 är av bildalst- av hàllaren av hållaren 21 utformad så att den skjuter ut utåt, så att man får ett manöverorgan 99. Genom att trycka på manöverorganet 99 kan man lätt vrida hållaren 21 mot förspänningskraften från den ovannämnda 8 Looket 16 är även anordnat att automatiskt stängas medelst en fjäder. När bildalstringsskivan 19 monteras på stödet H8 eller avlägsnas därifrån föres hàllaren 21 framåt, av Y-riktnings-motorn 3H, till sitt yttersta läge, där stödet H8 skjuter locket 16 framåt genom en öppning 101 (fig. 6) som är skruvlinjefjädern. , _._.___-.._..____V __ ...._..._.._....._...--....e..._._-.........w.... kïl 10 15 20 25 30 35 H0 7906458-0 11 upptagen i basens 11 frontpanel; locket 16 vrides nämligen så att det öppnas under övervinnande av (den ej visade) fjäderns kraft, så att hållaren kommer ut från öppningen 101. Detta läge är ett referensläge för hållaren 21, i vilket bildalstringsskivan 19 kan insättas i eller uttagas från stödet H8. När stödet H8 föres tillbaka in i basen 11 vrides locket 16 automatiskt så att det täcker öppningen 101. Pà detta sätt kan onödigt ljus automatiskt utestängas från apparaturen.

Vid en föredragen utföringsform anordnas en gejd medelst vilken den av hållaren 21 fastbållna bildalstringsskivan 19 föres till ett exponeringsläge eller ett uppvärmningsläge. Gejden innefattar exempelvis en övre och en undre gejdplatta 103 resp. 102 vilka är fästa vid ett fotograferingsenhet-stöd M9 i enlighet med vad som visas i fig. 2 och U. Avståndet mellan den övre och den undre gejdplattan 103 och 102 minskar gradvis allteftersom en rörkroppdel 53 som uppbär projektionslinsen 18 föres närmare, och bildalstrings- skivan 19 styres till exponeringsläget eller uppvärmningsläget under rörkroppsdelen 53 som passerar mellan gejdplattorna 103 och 102.

Vidare är en gejdplatta 10N för att styra bildalstringsskivan 19 som har förskjutits förbi rörkroppdelen 53 fäst vid en vertikal vägg 51 på fotograferingsenhet-stödet H9 för att sträcka sig bakåt från området i närheten av rörkroppdelen 53 under bildalstringsski- van 19, d.v.s. på basplattans 22 sida. Det föredrages att dessa gejdplattor 102 till 10H är utförda av en fjädrande tunn skiva av ett syntetiskt harts eller fosforbrons. Gejdplattorna behöver ej nödvändigtvis vara flata utan kan även vara krökta. gejd är anordnad kan bildalstringsskivan 19, som av hållaren 21 pressas endast på en sida, med säkerhet bringas till ett fotografe- ringsläge utan att böjas. Gejden är ej begränsad speciellt till vad som ovan beskrivits utan kan även vara av andra typer. I det fall att bíldalstringsskivan 19 böjes är det exempelvis möjligt att styra skivan 19 genom roterande remmar eller rullar till fotograferings- läget under det att skivans 19 böjning rätas ut.

Bildalstringsskivan 19 har ett flertal bildalstringsområden eller s.k. ramar 107 anordnade i matrisform i enlighet med vad som visas i fig. H.9 Bildalstringsskivan 19 monteras på stödet H8 på sådant sätt att vilken som helst av ramarna 107 allt efter önskan kan bringas exakt till exponeríngsläget eller uppvärmningsläget.

Stödet H8 hålles kvar i det ovannämnda referensläget, där hállaren 21 intar sitt yttersta läge. För genomförande av detta är exempel- När en sådan 10 15 20 25 30 35 H0 -__._.:..._...__._~..____ _ _ 7906458-0 i - 12 vis i enlighet med vad som visas i fig. U en utskjutande del 108 fäst vid den i X-riktningen rörliga delen H7, och omedelbart innan den i X-riktningen rörliga delen Ä? når stödet H2 förskjutes då den utskjutande delen 108 så att den gör kontakt med en mikroströmstäl- lare 109 vilken är fäst vid stödet H2 för att där stoppa rörelsen i X-riktningen. Likaså är en utskjutande del 111 fäst vid stödet H1 hos den i Y-riktningen rörliga delen 35, och omedelbart innan den förskjutbara delen 35 når stödet 32 kommer den utskjutande delen 111 i kontakt med en mikroströmstâllare 112 som där stoppar rörelsen i Y-riktningen. Genom påverkan av mikroströmställarna 109 och 112 stoppas sålunda stödet 48 i referensläget, d.v.s. i sitt yttersta läge. Såsom motorerna HR och 33 används drivmotor som kan styra rörelsen med stor precision, exempelvis stegmotorer, och av antalet till motorerna tillförda pulser kan man bestämma storleken av rörelsen för bildalstringsskivan 19 räknat från referensläget i X- och Y-axelriktningarna och ett noggrant läge för bildalstrings- skivan 19 kan detekteras. På det ovan beskrivna sättet föres en önskad ram av ramarna eller bildalstringsområdena 107 på bildalst- ringsskivan till uppvärmningsläget eller exponeringsläget.

Bildalstringsskivan 19 kan ej endast ha formen av en mikrofilm på vilken ett flertal ramar är anordnade i matrisform på en film- skiva utan den kan även ha formen av en rullad film på vilken många ramar är arrangerade sida vid sida eller en tíllkapad film pà vilken endast finns en ram. Bildalstringsskivan 19 av míkrofilm-typ kan av hållaren hållas vid två eller flera sidor liksom även vid endast en sida; med hänsyn till kontaktering mellan bildalstringsskivan 19 och ändytan av ett uppvärmningsorgan över hela området och tryckningen av skivan 19 mot rörkroppdelen 53 föredrages att skivan 19 hålles vid endast en sida.

I figurerna 2 till Ä visas ett exempel på vartdera av uppvärm- ningsorgan, avkvlningsorgan och exponeringsorgan vilka bildar huvudkomponenterna i anordningen enligt uppfinningen, och i anslut- ning härtill beskrives konstruktionen av vart och ett av dem i uppvärmningsläget, avkylningsläget och exponeringsläget i den som exempel valda utföringsformen. I denna utföringsform innefattar nppvärmníngsorganen separata organ för förvärmning och termisk framkallning, och dessa tvâ organ beskrivas såsom varma fasta Även avkylníngsorganet är utfört Som kroppar, exempelvis metallblook. med en fast kropp för kylning, exempelvis ett metallblock. visas i fig. 3 och 4 är det som ett omvänt L formade fotograferings-A KT! 10 15 20 25 u! U1 NO 7906458-0 - ' 13 enhet~stödet H9 fast monterat på basplattan 22 i dettas bakre del.

Stödets H9 vertikala vägg 51 sträcker sig uppåt från basplattan 22 väsentligen vinkelrätt mot denna, och en övre horisontell platt-del 52 hos-stödet 22 sträcker sig i riktning mot frontpanelen 15 väsent- ligen parallellt med basplattan 22. ett hål 55 i vilket rörkroppdelen 53 är noggrant inpassad och lägesfixerad.

Rörkroppdelen 53 är exempelvis utformad med ett metallblock i vilket ett genomgående hål SN är upptaget så att det sträcker sig i en riktning vinkelrätt mot basplattan 22, och linsen 18 är anordnad inuti det genomgående hålet SU. I rörkroppdelen 53 är till vänster och till höger om det genomgående hålet SU håligheter 57, 57a och 58 anordnade, vilka mynnar mot basplattan 22, och var och en av hålig- heterna 57. 57a och 58 har en storlek motsvarande varje bildalst- Den perifera I den övre platt-delen 52 finns ringsomräde eller ram 107 på bildalstringsskívan 19. marginalen hos varje hålighet är på alla sidor utförd i ramform så att den bildar ett organ för att lägesfíxera bildalstringsskivan 19 under uppvärmning.

I motstående lägesrelation till háligheterna 57, 57a och 58 finns ett första värmeelement 61 för förvärmningsändamål, ett kylelement 61a för avkylningsändamål och ett andra värmeelement 62 för termisk framkallning. Värmeelemcnten 61 och 62 samt kylelemen- tet 61a uppbäres i en ände av var sin vridbar arm 63, 63a resp. 6U vilka sträcker sig vinkelrätt mot fotograferingsenhet~stödets U9 vertikala vägg 51 i enlighet med vad som visas i fig. B och 5. De vridbara armarna 63, 6U och 63a skjuter ut bakåt genom en öppning 65 som är upptagen i fotograferingsenhetens vertikala vägg 51. De vridbara armarna 63, 6U och 63a är svängbart monterade i mittpunkten på en tapp 95 som är överbryggad mellan ett par flikar 93 och 9H vilka är skurna så att de går upp från en konsol 66 som är fäst vid den vertikala väggens 51 baksida. De bakre änd-delarna av de vridbara armarna 63, 6% och 63a är svängbart kopplade till dykan- 69, 71 och 69a till elektromagnetspolar 67, 68 och 67a vilka 1 Genom att manövrera elekt- kare är monterade på respektive konsoler 66. romagneterna 67, 68 och 67a kan man svänga de vridbara armarna 63, 6Ä och 63a så att de pressar värmeelementen 61 och 62 samt kylele- mentet 61 mot bildalstringsskivan 19. Bíldalstringsskivans 19 ramar hålles och fixeras av den ramliknande delen av håligheten 57 och värmeelementet 61, den ramliknande delen av håligheten 59 och vär- meelementet 62, och den ramlíknande delen av håligheten 57a och kylorganet 61a. Ändytorna hos värmeelementet 61 och 62 samt kylor- 10 15 20 25 30 35 110 7906458-0 1U ganet 61a på sidan av bíldalstringsskivan 19 är av väsentligen storlek som var och en av ramarna på bildalstringsskivan 19 men Samma något större än hålígheterna 57, 58 och 57a.

I det ovanstående har beskrivits att ett av varje bildalst- ringsskiv-fasthållningsorgan är ramat, men fasthållningsorganet har endast till uppgift att åtminstone under värmebehandling hålla fast de bildalstringsområden av bildalstringsskivan 19 vilka undergàr förvärmning, avkylning, exponering för ljus samt termisk framkall- níng; fasthållningsorganet kan sålunda även utgöras av en plattlik- nande del eller liknande. För att man skall erhålla likformig bildbehandling föredrages emellertid att åtminstone ett av de olika lägesfasthållningsorganen är ramformat. I det fall att ett ljus- känsligt materialskikt är framställt på ett substrat föredrages att den sida av bildalstringsskivan på vilken det ljuskänsliga material- skiktet befinner sig är inramad. Detsamma gäller beträffande fasthållningsorgan för exponering i enlighet med vad som kommer att framgå av det följande. I i Som framgår av fig. 2 och 3 är det genomgående hålet Sü i rörkroppdelen 53 gängat, och en rörkropp 55 med skruvgängor på sin yttre perifera yta och uppbärande linsen 18 är inskruvad i det genomgående hålet SN. Genom att vrida rörkroppen 55 kan linsens 18 g läge injusteras i förhållande till bildalstringsskivan 19 som är placerad i kontakt med ändytan av rörkroppdelen 53, varigenom det är möjligt att genomföra fininställning av det läge där bilden av ett objekt uppstår. Läget för rörkroppen 55 och därmed läget för linsen 18 låses genom åtdragning av en mutter 56 som är i gängningsingrepp med rörkroppen 55. Storleken av den öppna änden av det genomgående hålet 59 på bildalstringsskivans 19 sida motsvarar arean för en ram av bildalstringsskivan 19, och den perífera marginalen som avgränsar den öppna änden används även som en ram vilken bildar en del av organet för att hålla fast bíldalstringsskivan 19 under exponering. 9 Som framgår av fig. 5 är en vridbar hävstång 72 insatt mellan de vridbara armarna 63a och óü parallellt med dessa så att det under exponering säkerställas att bildalstringsskivan 19 kvarhålles precis i det läge där bilden av ett objekt skall bildas. Den vridbara hävstången 12 uppbär i ena änden en andra ihålig ramliknande del 73 för användning vid exponering och är svängbar i den andra änden till en elektromagnet 7U som är monterad på en konsol 66, varjämte hävstången 72 i sin mitt är svängbart monterad på en tapP 95 som är överbryggad mellan ett par flikar 93 och 9H vilka är skurna så att . ...--... __..- ...-.-.- .._....._....._._..__._...._-,. _ . -_..__._.___.__.._......_..._.._......<~_ 10 15 20 25 30 35 H0 79oe45s~0 15 de står upp från konsolen 66. Genom att aktivera elektromagneten TU *svänges den vridhara hävstàngen, varigenom bildalstringsskivan 19 för exponering av den andra ramformade delen 73 hålles tryckt mot den ramliknande perifera marginalen av det genomgående hålet SM i rörkroppdelen 53 som tjänstgör såsom den andra ramliknande delen; följaktligen gripes bildalstringsskivan 19 mellan de båda ramlik- nande delarna och fasthålles sålunda i sitt läge. I detta fall har den andra ramliknande delen givits en sådan storlek i förhållande till det genomgående hålet 5H att det säkerställas att bildalst- ringsskivan 19 hålles tryckt mot rörkroppdelen 53. Den ihåliga ramliknande delen 73 behöver ej alltid vara ramformad utan kan även vara platt-formad, men det föredrages att den är ihålig och ramlik~ nande för att det i densamma skall kunna bildas en ljusstrålebana från en ljuskälla 162 för läsning medelst en läsanordning i enlighet med vad som kommer att beskrivas i det följande.

Fig. 3 visar en föredragen anordning vid vilken håligheter 57 och 57a, det genomgående hålet 54 och håligheten 58 har lika stort mitt-till-mitt-avstånd till på varandra följande bildalstringsom- råden eller ramar på bildalstringsskivan 19 och är anordnade i linje med varandra, varjämte förvärmningsorganet, avkylningsorganet, exponeringsorganet och organet för termisk framkallning är placerade på platser motsvarande de på varandra följande bildalstringsomràdena.

Fig. 9A visar en modifierad form av fasthållningsorgan för fasthållning av bildalstringsskivan 19 när uppvärmningsorganet hålles tryckt mot detsamma. Detta fasthållningsorgan innefattar en första och en andra ramformad del för att mellan sig gripa bildalst- ringsskivan 19. Den andra ramformade delen, som är betecknad med lflö, för att trycka mot bildalstringsskivan 19, är anordnad för att omge värmeelementet 62. När man trycker bildalstringsskivan 19 med den andra ramliknande delen 1H6 mot den första ramliknande delen bestående av ändytan av håligheten 58 för uppvärmningsändamål, utformad i rörkroppdelen 53, hålles en ram av bildalstringsskivan 19 medelst båda de ramliknande delarna på alla sidor. Även om värme- elementets 62 temperatur blir onödigt hög, högre än ett erforderligt värde, kan samtidigt värmediffusion till de omkringliggande ramarna förhindras. Lägesfíxering av bildalstringsskivan 19 under uppvärm- ning möjliggör dessutom likformig uppvärmning av hela bildalstrings- området, varvid det dels säkerställas att man får samma känslighet över hela området, och dessutom förhindras deformation av skivan 19 vilken eljest skulle uppträda till följd av uppvärmningen. Detta 10 15 -20 25 35 40 7906458-0 16 medför förbättring av känsligheten.

Den andra ramliknande delen 1U6, som visas i fig. 9A, kan även användas tillsammans med avkylningsorganet 61a. Den föredrages för aktivering av värmeelementet 61 eller avkylningsorga- två speciellt net 61a efter lägesfixering av bildalstringsskivan 19 medelst ramlíknande-delar, d.v.s. lägesfixeringsorgan sammansatt av nämnda andra ramlíknande del 1H6 och ändytan av håligheten i rörkroppdelen 53. Härtill kommer att om den ramliknande delen för uppvärmningsän- damål, rörkroppdelen, den ramliknande delen för termisk framkallning och/eller den ramliknande delen för avkylning har en storlek av en ram på bildalstringsskivan och är fastsatta eller utformade så att de bildar en enhetsstruktur, så förenklas arrangemanget i jämförelse med vad som skulle vara fallet om de vore anordnade och aktiverade var för sig.

När bildalstringsskivan har ett flertal ramar är dessa i allmänhet ordnade i linje med varandra, och i konsekvens härmed är det önskvärt att åtminstone det första uppvärmníngsorganet, expone- ríngsorganet och det andra uppvärmningsorganet likaledes är anord- nade i linje med varandra; speciellt föredrages att åtminstone fyra organ av nämnda första uppvärmningsorgan, kylningsorgan, expone- ringsorgan och nämnda andra uppvärmningsorgan är anordnade i linje med varandra.

Det första uppvärmningsorganet, exponeringsorganet och det andra uppvärmningsorganet är vanligen anordnade invid varandra, men andra organ kan även allt efter behov vara insatta mellan dem.

Efter det att bildalstringsområdet på bildalstringsskívan har aktiverats av det första uppvärmningsorganet och därmed blivit ljuskänsligt, förskjutes området ifråga en ramdelning och kyles medelst nyssnämnda avkylningsorgan, varefter det förskjutes en ramdelning till ett exponeringsläge, där en bild av ett föremål som är anordnat på föremålshållaren 13 projiceras på den ram pà bild- alstringsskivan 19 som har förts till exponeringsläget. För detta ändamål är en lampstödplatta 11H fäst vid undersidan av den inre änddelen av den optiska bild-införande delen 12a i sned vinkel ovanför objektfasthållningsdelen 13 i enlighet med vad som visas i fig. 2; På lampstödplattan 11ü är lampsocklar 116 monterade sida vid sida för insättning av långa lysrörslampor 118. Stödplattan 11U är anordnad så att ljus från lysrörslamporna 118 dirigeras mot objektfasthållningsdelen 12a.

Reflekterat ljus från det på objektfasthållningsdelen 13 10 15 20 25 30 35 H0 7906458-0 17 placerade objektet går i riktning mot delen 12a för införande av den soptiska bilden i en riktning väsentligen vinkelrätt mot basen 11.

Ett ljusmottagande fönster 121 är anordnat i delen 12a för införande av den optiska bilden för att öppna till objektfasthållningsdelen 13. En huv 122 är fäst vid fönstret 121 för att sträcka sig från denna nedåt för avskärmning av obehövligt yttre ljus. Efter att ha gått in i delen 12a för införande av den optiska bilden infaller det reflekterade ljuset från objektet mot en reflektor 123 som är installerad i delen 12a för införande av den optiska bilden i ungefär U5° vinkel mot basplattan 11, och det reflekterade ljuset reflekteras av denna reflektor 123 väsentligen i rät vinkel så att det går väsentligen i rät vinkel för att gå bakåt väsentligen parallellt med basen 11, så att det går in i höljet 12. Ovanför rörkroppdelen 53, d.v;s. på den övre panelens 12Ä sida av höljet är en reflektor 125 anordnad, och det av reflektorn 123 reflekterade ljuset reflekteras av reflektorn 125 för att gå i riktning mot projektionslinsen 18 hos rörkroppdelen 53 utefter denna lins' optiska axel.

I delen 12a för införande av den optiska bilden och i höljet 12 finns en rörformig ljusavskärmningsbox 126 som sträcker sig från innerkanten av den huv 122 som omger de optiska strålgàngarna mellan reflektorerna 123 och 125 och mellan reflektorn 125 till en slutare 129.

På detta sätt kommer bilden av objektet på objekthållaren 13 att reflekteras av reflektorerna 123 och 125 och projiceras därefter av linsen 18 på bildalstringsskivan. För bestämning av den tid som bildalstringsskivan 19 skall exponeras för bilden av objektet finns på ljusavskärmningsboxen 126 på sidan av reflektorn 125 slutaren 129 för öppning och slutning av den optiska strålbanan 128 på projek- Slutaren 129 drives exempelvis av en elektro- Slutaren 129 öppnas medelst tionslinsens 18 sida. magnet 131 för att öppnas och slutas. kända automatiska exponeringsdetekteringsorgan (dock ej visade) under rätt exponeringstidsintervall. Självfallet befinner sig det ljuskänsliga materialskiktet på bildalstringsskivan 19 mitt för det genomgående hålet SH i rörkroppdelen 53.

Ett flertal olika tillvägagångssätt har övervägts för att förebygga risken för oavsiktlig ytterligare exponering av en redan redan registrerad bild, d.v.s. dubbelexponering. En effektiv metod som kan användas vid anordningen enligt uppfinningen är att anordna en remsa av reflekterande material på åtminstone en sida, företrä- 10 15 20 , 25 m_ 35 duo 7906458-0 18 desvis på alla sidor av objekthållardelen 13 väsentligen motsvarande ett bildalstringsområde av skivan 19 och att fotografera remsan tillsammans med objektet. Som visas i fig. 1 är exempelvis en höggradigt reflekterande ram 133 med hög reflexionsfaktor framställd på marginaldelen av objekthållardelen 13 på alla sidor. Med andra ord, objekthâllardelen 13 är utförd med ett substrat av en färg med låg reflexionsfaktor, exempelvis svart, och är omgiven av en kvadra- tisk ram 133 av vitt material, aldmíniumskiva eller liknande materi- al med hög reflektionsfaktor, vars inre dimension är lika med ytterdimensionen för objekthâllardelen 13 motsvarande en ram. Ett objekt placeras inom den höggradigt reflekterande ramen 133 och placeras i läge i förhållande till denna ram 133, och en täthetsre- gistrering beroende på reflexionsfaktorn för den högreflekterande ramen 133 förefinnes alltid på den inre marginaldelen av bildalst- ringsområdet på bildalstringsskivan 19 motsvarande objektets margi- naldel. Den högreflekterande ramen 133 kan även anordnas så att den skjuter ut från en sida eller från alla sidor.

I och för detekteríng av den redan registrerade ramen finns en dubbelbildförebyggande detektor för kontroll av huruvida objektets marginal är fotograferad på den ram som är under kontroll i ett läge som befinner sig på ett avstånd av en ram på bildalstringsskivan 19 från håligheten 57 i rörkroppdelen 53 på motsatta sidan i förhållan- de till det genomgående hålet SN. Denna dubbelexponeringsförhind- rande detektor består exempelvis av en fotodiod eller en liknande ljuskälla 13ü och en fototransistor eller en liknande ljusdetektor 135 som är anordnade med bildalstringsskivan 19 mellan sig.

Ljuskällan 13U är monterad på en utskjutande del av rörkropp- delen 53, under det att ljusdetektorn 135 är monterad så att den kan föras fram och dras tillbaka i förhållande till bíldalstringsskivan 19 på samma sätt som värmeelementet 61, vilket dock ej är visat. l det fall att den ljusmängd som mottages av ljusdetektorn 135 är mindre än ett förutbestämt värde konstateras att registrering redan har skett i ramen ifråga. _ Härnäst skall anordningen för att förhindra dubbelexponering beskrivas mera i detalj. Som framgår av fig. 1 bildas exempelvis vid en redan registrerad bildram runt ramen 107 på bildalstrings- skivan 19 en registrerad ram 181 med hög täthet motsvarande den höggradigt reflekterande ramen 133 hos objekthållardelen 13 som ovan beskrivits i anslutning till fig. 1. Ljusemitterande organ 13ßx och 13Uy är anordnade mitt emot X- resp. Y-riktnings-delarna av den 10 15 20 25 30 HO 7906458-0 19 registrerade ramen 181, och ljusdetektorerna 135x och 135y är anordnade mitt för ljuskällorna 13Ux resp. 13Hy ehuru de befinner sig i skuggan av bildalstringsskívan 19.

De ljusemitterande organen 13Hx och 13üy är anordnade mitt emot de mot desamma svarande ljusdetektorerna 135x resp. 135y med bild- alstringsskivan 19 inlagd mellan dem, såsom framgår av fig. 12. I detta exempel utgöres ljusdetektorerna 135x och 135y av fototransís- torer, vilkas respektive kollektorer är kopplade till en ingångs- klämma hos en jämförare 182 via dioderna 132x resp. 132y så att en ELLER-krets bildas, varvid till jämförarens andra ingångsklämma en referensspänning är tillförd. När någon av ljusdetektorerna 135x och 135y råkar befinna sig mitt för den registrerade ramen 181, ökar ljusdetektorns till jämföraren 182 tillförda utgångssignal så att den blir större än referensspänníngen, och jämföraren 182 avger en lågnivå-utsignal. Lågnivâ-utsignalen tillföres till en PNP-transis- tor 183 så att denna göres ledande, och en lysdiod 18ü tänds, med det resultatet att en ljusdetektor 185 kombinerad med dioden 18ü _bildar en optokopplare som ges information vilken anger att ramen ifråga redan är registrerad.

I det fall då ett ljusdetektor/ljuskälla-par för detektering av X- och Y-riktningarna vad som ovan beskri- registrerad ram är anordnad för var och en av för den registrerade ramen 181 i enlighet med vits, kommer åtminstone ett paren att befinna registrerade ramen 181, så att detektering av säkerställes även om paren ljusdetektor/lysdiod är något lägesför- skjutna i förhållande till bildalstringsskivan 19.

Enligt det ovan beskrivna användes genom den registrerade ramen 181 transmitterat ljus som fotograferats på bildalstringsskivan 19 för att förhindra dubbelexponering, men det är även möjligt att använda från den registrerade ramen 181 reflekterat ljus. Det är även möjligt att använda ljus som transmitterats igenom eller reflekterats från en bild som fotograferats i ramen utan att man anordnar och fotograferar den höggradigt reflekterande ramen 133.

Detta dubbelexponeringsskydd är företrädesvis anordnat i linje med sig framför den .den registrerade ramen det första uppvärmningsorganet, exponeringsorganet och det andra uppvärmningsorganet; speciellt föredrages att dubbelexponerings- skyddet, det första uppvärmningsorganet, avkylningsorganet, expone- ringsorganet och det andra uppvärmningsorganet är anordnade i linje med varandra. ' När bildalstringsskivan 19 har förskjutits i X-axelriktningen 10 15 20 25 30 35 HO 7906458-0 i 20 så att den ram som skall registreras bringats i dubbelexponerings~ skyddets läge i enlighet med fig. 3 kontrolleras medelst ljuskällan lšü och ljusdetektorn 135 huruvida ramen redan är exponerad eller ej. Om det konstateras att ramen är oexponerad, ges instruktioner till bildalstringsskiva-transportorganet, och bíldalstringsskivan 19 förskjutes en ramsträcka till förvärmningsläget, där ramen uppvärmes för aktivering. Den ram av bildalstringsskivan 19 vilken sålunda gjorts ljuskänslig genom aktivering bringas sedan till avkylnings- läget, där den förvärmda ramen avkyles. Den efter aktivering sålunda avkylda ramen av bildalstringsskívan 19 förskjutes vidare till exponeringsläget, där bilden av ett objekt projiceras på Den sålunda exponerade ramen förskjutes sedan en ramdel- ' iatenta bild sam ramen. ningsdistans till värmeframkallningsläget, där den förefinns på ramen framkallas genom uppvärmning, varigenom sålunda registreringen på en ram är fullbordad.

Vid uppfinningen föredrages att man för erhållande av över hela ramfältet likformig bildalstring anordnar ett tryckalstringsorgan så att, i det fall att nämnda uppvärmnings- eller värmeframkallnings- organ utgöres av en varm fast kropp eller när avkylningsorganet är en fast kropp, ett fluidumtryck kan appliceras på den uppvärmda eller avkylda delen av bildalstringsskivan på den från den fasta kroppen vända sidan.

Appliceringen av tryck med användning av tryck-fluidum utföres efter det att eller samtidigt med att bildalstringsskivan lägesfixe- ras medelst fasthållningsorganet, företrädesvis medan den fasta kroppen är i kontakt med bildalstringsskivan. Såsom fluidum för detta ändamål är det lämpligt att använda en gas; Genom applicering av likformigt tryck på medelst därvid föredrages användning av tryckluft. åtminstone ett bildalstringsområde på bildalstringsskivan fluidet i riktning mot den uppvärmande eller avkylande fasta krop- pen, bringas hela bildalstringsomràdet i intim kontakt med den fasta kroppens yta med ett likformigt kontakttryck och kommer därför att likformigt uppvärmas eller avkylas. Som följd härav kommer likfor- mig förvärmning att göra bildalstringsområdet ljuskänsligt över hela dess yta, och likformig termisk framkallning eller kylning kommer att ge en känslighetsökning utan dispersion, så att bildalstring med utomordentligt god reproducerbarhet säkerställes. Vidare är det möjligt att undvika termiskt betingad deformering av bildalstrings- omrâdet till följd av att bildalstringsskivan under värmebehandling _ utsättas för tryck och uppvärmning medelst nämnda uppvärmningsor- gan. Det är önskvärt att det tryck som appliceras på bildalstrings- . _... ..c_-__c_.._._ 10 15 20 25 30 35 40 7906458-0 21 skivan medelst det under tryck varande fluidet ligger inom området 100 till 1000 mm H20, Vid en föredragen utföringsform av trycksättningsorganet är gasinloppsöppningar 136, 136a resp. 137 utformade i rörkroppdelen 53 så att de sträcker sig från bottnen av håligheterna 57, 57a och 58 framgår av fig. 3 och 7.

Gasinloppsöppningarna 136, 136a och 137 är genom rörledningar 138, 138a resp. 139 anslutna till bälgar 1Ä1, 1U1a-och 1H2, vilka tjänst- gör såsom tryckgaskällor. Till bälgarna 1H1, 1U1a och 1B2 är dykankare hos dykankar-elektromagneter 1H3, 1H3a och 1UH svängbart kopplade i ena änden, och genom aktivering av dykankare-solenoiderna så att de avger luft till håligheterna 57, 57a tillhörande rörledningar. utvidgning och sammandragning av bälgarna 141 Bälgen till utsidan i enlighet med vad som sammandrages bälgarna och 58 via respektive En anordning för kan vara utförd exempelvis på det i fig. 3 visade sättet. 141 är fäst i ena änden vid en monteringsplatta 301 som är fäst vid basplattan 22, och elektromagneten 1H3 är likaledes fäst på en monteringsplatta 302 vilken i sin tur är fäst vid basplattan 22.

Genom aktivering av elektromagneten 1H3 vrides ena änden av en länk 303 omkring en tapp 306 som är överbryggad mellan ett par flikar som är uppskurna så att de sträcker sig upp från monteríngsplattan 302, varvid.den andra änden av bälgen 1H1 tryckes mot monteringsplattan 301 så att bälgen 1H1 sammandrages. Vid passiveringen av elektro- magneten 1N3 utvidgas bälgen 141 av elektromagnetens 143 fjäderkraft så att den återgår till sitt ursprungliga läge. Bälgarna 1ü1a och 1ü2 utvidgas och sammandrages likaledes av ett arrangemang av samma slag som det just beskrivna. Som tryckgaskälla kan man med fördel använda en pump istället för bälgar, och tryck kan i sådant fall lämpligen tillföras genom att pumpen drives.

Fig. 7 är en genomskärningsbild som i förstorad skala visar det tillstånd i vilket värmeelementen 61 och 62, kylorganet 61a och den andra ramen 73 för exponering pressas mot rörkroppdelen 53 med bíldalstringsskivan 19 fasthallen mellan dessa. När lufttryck tillföres till håligheterna 57, 58 och 57a i det tillstånd i vilket bildalstringsskivan 19 hålles tryckt mot rörkroppdelen 53 av värme- elementen 61 och 62 och kylorganet 61a, hålles de områden av bild- alstringsskivan 19 som ligger under håligheterna 57, 58 och 57a likformigt mot värmeelementen 61 och 62 samt kylorganet 61a; följ- aktligen kommer bildalstringsskivan 19 att likformígt uppvärmas resp. avkylas över hela dessa områden.

Håligheternas 57, 58 och 57a0 10 15 20 25 30 35 40 7906458-0 22 dimensioner är valda så att de är större än dimensionerna för en ram inklusive dennas marginal, så att marginal~delarna av hâligheterna 57, 58 och 57a ej berör bildalstringsområdet, d.v.s. marginaldelen av varje hålighet ligger utanför en projícerad bild på den höggra- digt reflekterande ram 133 som är anordnad till förebyggande av dubbelexponering.

I den i fig. 7 visade utföringsformen är tryckfördelningsplat- tor 145, 1N5a resp. 1Ä5b anordnade i håligheterna 57, 57a och 58 i dessas mittdel i motsatt läge i förhållande till bildalstringsskivan 19. Dessa plattor kan vara utförda av sintrad metall, exempelvis mässing eller rostfritt stål, eller svampliknande poröst material, eller också kan de utgöras av plattor av vilka var och en uppvisar perforeringar_som är väsentligen likformigt fördelade över hela området. Kort sagt, lufttryck som tillföres från inloppen 136, 136a och 137 fördelas av plattorna 1H5, 1ä5a och 1N5b så att det tillfö- res likformigt till bildalstringsskívan 19.

Man kan emellertid undvara de ovannämnda fördelningsplattorna genom modifiering av lägena för inloppsöppningarna för tryckgasen, d.v.s. genom att anordna tryckgasinloppsöppningarna 136, 136a och 137 i hàligheternas 57, 57a och 58 sidoväggar i enlighet med vad som inritats med streckade linjer i fig. 7 eller genom att placera gasinloppsöppningarna så långt bort från bíldalstringsskivan 19 som möjligt.

Såsom uppvärmningsorgan och avkylningsorgan föredrages speci- ellt hög temperatur uppvisande fasta kroppar och en låg temperatur uppvisande fast kropp av den typ som gör direkt kontakt med bild- alstringsskivan under uppvärmning resp. avkylning. Det är vidare önskvärt att uppvärmningsorganen och avkylningsorganet är något större än ínnerdimensionerna för var och en av håligheterna 57, 58 och 57a med ramformade marginaldelar på alla sidor men ej så stora att de överlappar de angränsande ramarna och håller bildalstrings- skivan 19 i kombination med den ramformade marginaldelen av var och en av håligheterna 57, 58 och 57a. rörkroppdelen 53 och den sida på vilken uppvärmningsorganen 61 och 62, avkylningsorganet 61a och den andra exponeringsramen 73 är anordnade. Om rörkroppdelen 53 är utförd av ett material med relativt hög värmeledníngsförmåga, exempelvis mässing, så kommer värme från värmeelementen 61 och 62 samt avkylningsorganet 61a att absorberas i rörkroppdelen 53 med stor värmekapacitet genom bild- alstringsskivan 19 vid marginaldelarna av uppvärmningsorganen och Fig. 8 är en perspektívbild av 10 15 20 25 30 35 H0 '7906458-0 23 avkylningsorganet, vilket gör att risken för inverkan genom uppvärm- _ ning eller avkylning av intilliggande ramar undvikes.

Fig. 9 visar modifierade utföringsformer av organ för likformig uppvärmning eller avkylning av en ram på bildalstringsskivan. I fig. 9A är en andra ramformad del 1U6 anordnad kring värmeelementet 62 för att pressa bildalstringsskivan 19 mot rörkroppdelen 53.

Anordnandet av en dylik ramformad del förhindrar termisk diffusion till angränsande ramar även om värmeelementets 62 temperatur stiger onödigt högt, och i kombination med att man pressar bildalstrings- skivan 19 mot rörkroppdelen 53 medelst värmeelementet 62 erhåller man dubbel försegling så att man ej ens om trycket i tryckgasen ökar riskerar att någon gas läcker ut mellan bildalstringsskivan 19 och rörkroppdelen 53, varför en mera likformig uppvärmning säkerställes.

Vid den i det föregående beskrivna anordningen tillföres ett positivt tryck till bildalstringsskivan 19 för tryckalstring, men det är även möjligt att applicera ett negativt tryck på skivan 19 från den motsatta sidan för att erhålla samma resultat som de vilka erhölls vid användning av övertryck. Fig. 9B visar exempelvis en anordning för dylik funktion, varvid den gasinloppsöppning 137 som var anordnad i rörkroppdelen 53 för att mynna mot håligheten 58 i det föregående är utelämnad; den öppna änden av den andra ram-forma- de delen 1H6 pà den motsatta sidan i förhållande till bildalstrings- skivan 19 är täckt med en platta 1U7, och en värmeelement-driv- organ-axel 1H8 skjuter ut ur plattan 1U7 genom en gastät packning 1H9. En sugöppning 151 är anordnad i plattan 1ü7, och luft i den andra ramformade delen 1U6 suges ut genom ett rör 152 som är anslu- tet till sugöppningen 151. Som resultat härav blir det inre trycket i den andra ramformade delen 1H6 negativt i förhållande till omgiv- ningstrycket, vilket resulterar i att bildalstringsskivan 19 likfor- migt tryckes mot uppvärmningselementet 62. Eftersom i anordningen enligt fig. 9C bildalstringsskivan 19 attraheras till uppvärmnings- elementsidan när negativt tryck appliceras på bildalstringsskivan enligt ovan, bildas en hålighet 153 av väsentligen samma storlek som håligheten 58 i rörkroppdelen 53 i uppvärmningselementets 62 yta på den sida som är vänd mot bildalstringsskivan 19. Ett poröst värme- ledande medium 15ü med god värmeledningsförmåga är inpackat i háligheten 153, och en sugöppning 151 är utformad i uppvärmningsele- mentet 62 vilken mynnar i håligheten 153. Genom att luft suges från sugöppningen 151 attraheras bildalstringsskívan 19 till uppvärm- ningselementet 62, och värme från uppvärmningselementet 62 överföras' 10 15 20 25 30 35 40 7906458-0 _ 24 via det värmeledande mediet 15Ä till bildalstringsskivan 19. Såsom värmeledande medium 15H kan man använda sintrat metalliskt material, exempelvis rostfritt stål eller liknande. Fig. 9A till C visar värmeframkallningsorgan, men de visade arrangemangen kan även användas för förvärmningsorganet eller avkylningsorganet. Ehuru den ovanstående beskrivningen hänför sig till tryckanordning som arbetar med negativt tryck, är det praktiskt att använda positivt tryck, eftersom detta ger högre bildkvalitet. 1 Uppvärmning eller avkylning av bildalstringsskivan kan genomfö- ras medelst en uppvärmningsmetod som innebär att man bringar skivan i kontakt med varm gas eller utsätter skivan för strålning inom infraröd-området eller det långvågiga infraröd-området, och kylning kan åstadkommas genom att bringa skivan i kontakt med en kall gas eller också genom den ovan beskrivna metoden att bringa en varm eller kall fast kropp i direkt kontakt med bildalstringsskivan. I fråga om metoden att bringa skivan i kontakt med en varm eller en kall gas kan nämnas ett tillvägagångssätt vid vilket man blåser den varma eller den kalla gasen mot bildalstringsskivan och dessutom ett tillvägagångssätt vid vilket en varm eller kall fast kropp är anordnad i närheten av men på något avstånd från bildalstringsskivan för uppvärmning eller avkylning av gas som befinner sig i det smala luftgapet mellan den fasta kroppen och skivan. Man kan även använda kombinerad utnyttjning av en fast kropp och metoden med gas eller infraröd strålningsenergi eller liknande.

Fig. 13 visar ett exempel på en anordning för att blåsa varm luft eller kall luft mot bildalstringsskivan för att uppvärma eller avkyla denna. En varmluftgeneratorenhet 351 består av generatorerna 351a och 351b. I generatorn 351a tillföres luft som sugs in genom ett luftrör 353 medelst en luftpump 352 normalt genom ett dammupp- samlingsfilter 354 till en varmluftsbehållare 355. I detta fall sättes pumpen 352 under kontroll av en yttre del 357 av en omkoppla- re för att detektera trycket i luftbehállaren 355, så att trycket i behållaren hålles vid ett önskat värde. Luften i behållaren 355 blåses ständigt medelst en luftfläkt 358 in i en luftvärmare 361 genom ett luftrör 359. En uppvärmningsenhet 364 i uppvärmningsan- ordningen 361 kontrolleras av utgångssignalen från en utgångsdel 363 i en i behållaren 355 placerad temperaturavkännare 362, och luft som upphettats till en förutbestämd temperatur cirkuleras från luftvår- maren 361 genom luftfläkten 358 tillbaka till luftbehållaren 355.

På detta sätt regleras den i behållaren befintliga luftens tempera- 10 15 20 25 30 35 H0 7906458-0 25 tur, så att den hålles vid ett förutbestämt värde.

När bildalstringsskivan 19 uppvärmes eller avkyles hàlles den i förväg mellan rörkroppen 53 och den andra ramformade delen 1H6.

Vid förvärmning av bildalstringsskivan 19 öppnas elektromagne- tiska trevägsventiler 365 och 366 för att åstadkomma förbindelse dels mellan luftrören 368 ogh 368a och dels mellan luftrören 372 och 372a, och en luftfläkt drives så att den uppvärmda luften i behålla- ren 355 blåses in i hàligheten 57 från ett munstycke 369a via luftfläkten 367, luftröret 368a, den elektromagnetiska trevägsventi- len 365, luftröret 368 och luftinloppsöppningen 369, så att bild- alstringsskivan 19 förvärmes. Den luft som sålunda blåses in i hålígheten 57 àterföres sedan från denna till behållaren 355 genom en luftutloppsöppning 371, luftröret 372, den elektromagnetiska trevägsventilen 366, luftröret 372a, uppvärmningsorganet 361 samt luftfläkten 358, 3 ' Genom att på detta sätt blåsa uppvärmd cirkulerande luft mot bildalstringsskivan 19 från munstycket 369a, värme-aktiverar man bildalstringsskivan 19 så att denna blir ljuskänslig. Därefter, när bildalstringsskivan 19 avkyles, öppnas de elektromagnetiska trevägs- ventilerna 365 och 366 så att förbindelse erhålles mellan luftled- ningarna 368 och 368b samt mellan 372 och 372b, och luftfläkten 367 drives. Luft passerar nu från omgivningen genom ett luftrör 368a och genom en luftfläkt 367a, luftröret 368b, den elektromagnetiska trevägsventílen 365, luftröret 368 och inloppsöppningen 369 och blåses in i håligheten 57 från munstycket 369a, så att bildalst- ringsskivan 19 avkyles. Den luft som sålunda blåses in i håligheten blåses ut i omgivningen genom utloppsöppningen 371, luftröret 372, den elektromagnetiska trevägsventilen 366 samt luftröret 372b. På detta sätt kommer från omgivningen insugen luft att blåsas mot bildalstringsskivan 19 från munstycket 369a, varigenom bíldalst- ringsskivan 19 avkyles efter förvärmningen.

Generatorn 351b i varmluftgeneratorenheten 351 är identiskt likadan som den ovan beskrivna generatorn 351a. Uppvärmd luft från generatorn 351b passerar igenom ett luftrör 373 och en luftinlopps- öppning 379 och blåses in i hàligheten 58 för att uppvärma bildalst- ringsskivan 19 och för att därefter återgå till generatorn 351b genom en luftutloppsöppnínß 375 och ett luftrör 376. På det nyss beskrivna sättet blåses den uppvärmda, cirkulerande luften från generatorn 351b mot bildalstringsskivan 19 från munstycket 37Ua, med det resultatet att bildalstringsskivan 19 undergàr termisk framkall- 10 15 20 25 30 35 Ä0 7906458-0 26 ning. Efter denna framkallningsprocess kan bíldalstringsskivan 19 även avkylas genom att ytterluft blâses mot densamma från munstycket 737Äa på samma sätt som vid avkylning efter aktivering medelst uppvärmning.

Den av generatorn 351a avgivna luftens temperatur är vanligen reglerad så att den bibehåller ett förutbestämt värde inom området 80 till 200°C, d.v.s. något högre än den temperatur till vilken bildalstringsskivan skall uppvärmas. På liknande sätt hålles den av generatorn 351b avgivna luftens temperatur vanligen vid ett förutbe- stämt värde inom området 100 till 220°C.

Såsom kylluft används luft av rumstemperatur, vilken avkyler bildalstringsskivan till en temperatur mellan 60°C och rumstempe- ratur. Det är även möjligt att reglera kyltemperaturen till ett förutbestämt värde under 6000, exempelvis inom området från O till 60°C, genom användning av en kylanordning. Man kan även använda en anordning av det i fig. 1H visade slaget, vid vilken den uppvärm- da luften och kylluften som har passerat igenom inloppsöppningarna 369 och 37U blåses in i håligheterna 57 och 58 genom fördelninge- plattor 377 och 370, vilka är utförda av poröst material. Vidare kan den uppvärmda luften och den avkylda luften även blâsas mot bildalstringsskivan 19 på motsatta sidan i förhållande till rör- kroppdelen 53. I detta fall är ramformade delar anordnade i motstå- ende relation till håligheterna 57 och 58 över bildalstringsskivan 19, och uppvärmd luft och kylluft tillföres till de ramformade delarna och blàses mot bildalstringsskivan, om så erfordras, genom fördelningsplattor.

Fig. 15 visar en modifierad utföringsform av anordningen för uppvärmning av bildalstríngsskivan 19 genom att denna bringas i kontakt med en gas. I anordningen enligt fig. 15 bringas de varma fasta kropparna så nära bildalstringsskivan 19 som möjligt, dock utan att komma i beröring med densamma. Bildalstringsskivan 19 hålles mellan rörkroppdelen 53 och den andra ramformade delen H6, och under drift bringas värmeelementen 61 och 62 till den omedelbara närheten av bildalstringsskivan 19 för uppvärmning av densamma. Det torde vara så att uppvärmning av skivan 19 sker genom en kombination av ledning, konvektion och strålning.

Som uppvärmningsmedel kan man även använda infraröd strålning eller långvågig infraröd strålning. I enlighet med vad som visas i fig. 16 kan exempelvis andra ramformade delar 132 resp 1ü6 anordnas mitt emot håligheterna 57 och 58 i rörkroppdelen 53 på andra sidan 10 15 20 25 30 35 DO 7906458-0 27 I nämnda andra ramformade delar 132 och Den om bildalstringsskivan 19. 1U6 är infrarödstrålande generatorer 401 resp. H06 anordnade. infrarödstràlande generatorn H01 innehåller exempelvis ett i densam- ma anordnat värmeelement H02 samt en infrarödstrâlande del B03, exempelvis av lantan, kromit eller liknande, vilken är anordnad vid sidan av den bildalstrande skivan 19. Efter aktivering av uppvärm- ningsorganet eller "värmeelementet" H02 utstrålas infraröd strål- ningsenergi som infaller mot bildalstringsskivan 19 för uppvärmning av denna. I háligheten 57 är en infrarödstrålningsdetektor H04 anordnad, vilken är anordnad att detektera infrarödstrålníng från bildalstringsskivan 19 i och för detektering av dennas temperatur.

I detta fall kan även ett filter H05 vara anordnat för att fånga upp sådana våglängdskomponenter av infrarödstrålar som ej absorberas av bildalstringsskivan 19, d.v.s. våglängdskomponenter av infraröd- strålningen vilka ej är erforderliga för uppvärmning av skivan 19, och härigenom säkerställas att endast den komponent detekteras vilken har uppvärmt skivan 19. Den andra infrarödstrålningsgenera- torn 406 kan vara utförd på exakt samma sätt som den ovan beskrivna generatorn N01. De andra ramformade delarna 132 och 1ü6 kan utfor- mas i ett stycke med den andra ramformade delen 73 som är placerad mitt för det genomgående hålet SH i rörkroppdelen 53.

I det fall då en fast kropp för uppvärmning ej bríngas i direkt beröring med bildalstringsskivan såsom vid i fig. 15 och 16 visade organ åstadkommas ingen deformering av skivan genom direkt kontakt med den fasta kroppen, och den fasta kroppen behöver ej ha någon slät yta pà den mot bildalstringskivan vända sidan.

Den ovanstående beskrivningen och tillhörande figurer har åskådliggjort uppvärmnings- och avkylningsorganen. Såsom nämnda första uppvärmningsorgan för förvärmning och nämnda andra uppvärm- ningsorgan för termisk framkallning kan man använda olika typer av uppvärmningsorgan, men konstruktíonsmässigt föredrages användning av uppvärmningsorgan av samma slag; allmänt sett föredrages användning av uppvärmningsorgan av den typ som gör kontakt mellan en fast uppvärmningskropp och bildalstringsskivan. Föredragna avkylningsor- gan är av den typ som bringar en fast kropp i direkt kontakt med bildalstringsskivan och den typ vid vilken en gas bringas i kontakt med skivan, detta oberoende av uppvärmningsorganets typ. Det är vidare önskvärt att lägesfixera ett bildalstringsomráde av bildalst- ringsskívan genom lägesfixeringsorgan under avkylningsoperationens lopp. 10 20 25 30 35 H0 7906458-0 28 En beskrivning skall nu lämnas över en speciell fungerande variant vid vilken läget för avkylningsorganet och tiden för dess funktion skiljer sig från vad som ovan beskrivits. Kylningen efter även genomföras utan att man anordnar avkylnings- 57a. Som framgår av fig. 7A och 8A kan av rumstemperatur eller kyld luft via en genomgående hålet SH genom inlopp 136b förvärmningen kan organet 61a och håligheten man exempelvis införa luft luftfläkt (ej visad) i det som är anordnade i det genomgående hålets SÅ perifera yta, vilken ' luft blåses mot bildalstringsskivan och därefter utblåses från utlopp 136c vilka är utformade i det genomgående hâlets SH perifera yta mitt för inloppen 136b. Det är även möjligt att använda en anordning av det slag som i fig. 7A är inritad med en-punkt-strecka- de kedjelinjer i fig. 7a, vid vilken anordning på den från rörkropp- delen 53 motsatta sidan i förhållande till bildalstringsskivan 19 ett rör 136d är anordnat i den andra ramliknande delens 73 mitt och parallellt med denna del så att luft av rumstemperatur eller kyld luft blåses mot bildalstringsskivan 19 från röret 136d. I detta fall kan kylning även utföras på sidan av rörkroppdelen 53 gång. Det är även möjligt att använda ett arrangemang av den i fig. 7b visade typen, i vilket efter det att värmeelementet 61 har flyttats bort, så att det ej längre är i kontakt med bildalstrings~ skivan 19 efter förvärmning av dess bildalstringsomràde, luft i bälgen 1ü1 tillföres till håligheten 57 och riktas mot bildalst- ringsskivan 19 för att kyla av denna.

Den i fig. 1 till 3 visade utföringsformen är så utförd att information som är registrerad i ramen på bildalstringsskivan 19, på samma placerad i exponeringsläget, projiceras i en förstorad skala för För detta ändamål är en ljuskäll-låda 161 monterad på 22 under den andra ramformade delen 73 för att användas exempelvis för exponering enligt fig. 2. I ljuskäll-lådan 161 finns en ljuskälla 162 för läsning och om så erfordras är en kylfläkt 163 anordnad på basplattans 22 sida. Ljussträlar från ljuskällan 162 samlas medelst en konkav spegel 16H och riktas mot en reflektor 165 parallellt med basplattan 22 och bryts av reflektorn ifråga vid sidan av exponeringsläget. Den optiska axeln för det ljus som sålunda bryts i rät vinkel går i samma riktning som geometriska axeln för den andra ramformade delen 37 och det genomgående hålet 53. Ovanför reflektorn 165 finns en samlingslins 166, och det av linsen 166 samlade ljuset går igenom den ramformade delen 73 och faller in mot det område av bildalstringsskivan 19 som ligger under avläsning. basplattan V7 10 15 20 25 30 35 U0 7906458-0 29 det genomgående hålet SM. Det från bildalstringsskivan 19 transmit- terade ljuset passerar igenom projektionslinsen 18 och föres åt sidan av reflektorn 125.

Mellan slutaren 129 och rörkroppdelen 53 finns en roterande spegel 168 som kan förskjutas in i och ut ur den optiska banan för bilden av ett objekt i enlighet med vad som framgår av fig. 10. Den roterande spegeln 168 är svängbart monterad på en monteringsplatta 169 som är fäst vid höljets 12 frontpanel 15. Den roterbara spe- gelns 168 roterbara axel dríves av en elektromagnet 171. Under registrering hålles den roterbara spegeln borta från den optiska banan mellan reflektorn 125 och rörkroppdelen 53 i enlighet med vad som är inritat med heldragna linjer i fig. 2. Under läsning vrides den roterbara spegeln 168 så att den införes i den optiska banan i en vinkel i förhållande till denna i enlighet med vad som i fig. 2 visas i streckpunkterade linjer. Det ljus som har passerat igenom rörkroppdelen 53 reflekteras sålunda av den roterbara spegeln 168 och reflekteras ytterligare av en reflektor 172 som är monterad på monteringsplattan 169 och går väsentligen parallellt med frontpane- len 15 samt förstoras av en förstorande projektionslins 173, varef- ter den av en reflektor 17U dirigeras väsentligen i rät vinkel för att projiceras på den skärm 175 som är anordnad på höljets 12 frontpanel 15. Under registrering är skärmen 175 täckt med en täckplatta 176 så att inget onödigt ljus passerar in från skärmen 175. Under läsning avlägsnas täckplattan 176 medelst en elektromag- net 177, ooh en registrerad bild i bildalstringsornrådet som befinner sig rakt under det genomgående hålet 5ü projiceras på skärmen 175 i en förstorad skala.

Det föreligger en skillnad mellan den optiska banan från objekthållaren 13 till bildalstringsskivan 19 och den optiska banan från bildalstringsskivan 19 till skärmen 175. I ett fall såsom det ovan beskrivna kommer registreringen på bildalstringsskivan 19 att klart projiceras av den förstorande projektionsskärmen 173 På skärmen 175 i en förstorad skala. Skärmen 175 behöver ej nödvän- digtvis vara anordnad på frontpanelen 15 utan den kan även vara anordnad på annan lämplig plats. Under alla förhållanden kan man genom att inkorporera den förstorande projektionslinsen 173 i den optiska banan för förstorad projicering åstadkomma att information som är registrerad i en godtyckligt vald ram på bildalstringsskivan 19 projiceras i en förstorad skala utan att man behöver transportera bildalstringsskivan 19 till ett annat läge än läget för fotografe- 10 15 20 25 30 35 HO 7906458-0 _30 ring eller utan att man behöver montera bildalstringsskivan 19 i en separat projektor. Under registreringen kan därför informationen läsas omedelbart efter det att den registrerats. För att säkerstäl- la att en ram på bildalstringsskivan 19 under läsning intar ett korrekt läge, pressas bildalstringsskivan 19 av den andra ramformade delen 73 mot marginaldelen av det genomgående hålet SU i rörkroppl delen 53.

Som framgår av det ovanstående kräver tillfogandet av anord- ningen för förstorad projektion åtminstone en ljuskälla, en sam- lingslins (eller -spegel) och en skärm, och de övriga komponenterna kan i förekommande fall utelämnas.

En enhet för att styra transporten, uppvärmningen och expone- ringen av bildalstringsskivan 19, appliceringen av fluidumtryok på .skivan 19 etc. är anordnad i en låda 205 som är placerad i höljet 12 Den_ovannämnda styrningen genomfö- Tempera- på vänstra sidan enligt fig. 3. res exempelvis genom användning av en s.k. mikroprooessor. turreglering för värmeelementen 61 och 62 åstadkommer likaledes medelst mikroprocessorn, under det att temperaturreglexingen för kylaren 61a även kan vara åstadkommen genom naturlig kylning. I detta fall främjas verkan av naturlig kylning genom anordnandet av en kylfläns på kylaren. Man kan även använda en anordning för att införa luft eller vatten i kylaren eller kyla kylaren med ett elektroniskt kylelement.

I det fall att dubbelexponeringsskyddsorganet, förvärmningsor- ganet, kylningsorganet, exponeringsorganet och värme-framkallnings- organet befinner sig i linje med samma intervall som intervallet mellan bildalstringsomràdena på skivan 19, är det möjligt ej endast att genomföra registrering av ett bildalstringsomráde på skivan 19 genom att i tur och ordning underkasta det respektive processer, utan även att åstadkomma snabbare registrering genom att samtidigt låta ett flertal bildalstringsområden undergå vilken som helst av respektive förfaringssteg. I det sistnämnda fallet utför man när en föfsfi Vald Pam F1'har bringats till en dubbelexponeringskontrol1- position, i enlighet med vad som visas i fig. 17A, en kontroll hUPUVída ramen F1 är en redan registrerad sådan eller ej. Om den ej är förut registrerad förskjutes bildalstríngsskivan en ram-del- ningsdistans i X-axelns riktning för att bringa den valda ramen F1 till förvärmningsläget i enlighet med vad som visas i fig. 17B.

Medan Pfimßn F1 förvärmes, underkastas samtidigt nästa ram F2 kontroll med avseende på dubbelexponering. Om det ej föreligger 10 20 25 30 35 H0 7906458-0 31 någon risk för dubbelexponering av ramen F2 förskjutes bílda1st_ ringsskivan en ram-delning i X-axelríktningen så att ramarna F1 Och F2 bringas till avkylningsläget resp. förvärmningsläget, och nästa Pam F3 bringas till dubbelexponeríngskontrolläget enligt vad 17C- Ramafna F1 och F2 kyles resp. förvärmes, och samtidigt kontrolleras ramen F3 med avseende på dubbe1eXpe_ som visas i fig. nering.

Om det har visat sig att ramen F3 ej redan har pegiegpepets förflyttas bildalstringsskivan ytterligare en ram-distans i X-axelns riktning, så att ramarna FT, FE och 93 bpingae gill expene_ ringsläget, avkylningsläget resp. förvärmningsläget, och nästa ram Fu bringas till läget för dubbelexponeringskontroll enligt vad som visas if fie- 1711- Ramfirnfl F1, FZ och P3 utsattes samtidigt för exponering, avkylning resp. förvärmning, och samtidigt utsättes ramen Fu för dubbelexponeringskontroll. Om ramen Fp befinnes vara oregístrerad, förskjutes bildalstringsskivan ytterligare en ramdelningsdistans i Xëaxelriktningen för åstadkommande av det i fig. 17E visade tillståndet, i vilket den första ramen F1 befinner sig i framkallningsläget, den andra ramen F2 1 expenepinßelägeg, den tredje ramen F3 i avkylningsläget, den fjärde ramen Fu i förvärmningsläget och nästa ram F5 1 eubbelexpenepingekentrel_ läget- Rämflfnfi F1, F2, F3 och Fu utsättes samtidigt för framkallning, exponering, avkylning resp. förvärmning, och samtidigt UtSäfifi@S Pfimßn F5 för dubbelexponeringskontrollen. Varje gång bildalstríngsskivan på detta sätt förskjutes en ramdelningsdistans i X-axelríktníngen kommer därefter fem ramar att väsentligen samtidigt dubbelexponerings-kontrolleras, förvärmas, avkylas, exponeras resp. värme-framkallas. Vid fullbordande av dylik successiv registrering när. en Sista ram F12 tvingas till förvärmningsläget, 'kommer förvärmningen, avkylningen, exponeringen resp. framkallningsproces- sen att försiggå parallellt, men ingen dubbelexponeringskontroll genomföres, se fig. 17F. Därpå förskjutes bildalstringsskivan en ramdelningsdistans i X-axelriktningen, kylning, exponering och framkallning äger rum parallellt; därefter underkastas de fortfaran- de under registrering varande ramarna på liknande sätt för de återstående processerna efter varandra.

När man använder uppvärmningsorgan och avkylningsorgan i enlighet med vad som visas i fig. 7A förfares enligt följande.

Efter det att en för registrering utvald ram har förskjutits till förvärmningsläget och därefter till exponeringsläget pressas den 10 15 20 25 30 35 H0 7906458-Û 32 andra ramformade delen 73 för exponering mot bildalstringsskivan, och samtidigt aktiveras elektromagneten för kyllufttillförsel-bälgen för avkylning av den förvärmda ramen, varefter elektromagneten för slutaren aktiveras. Det i fig. 7A visade arrangemanget möjliggör en förenklad uppbyggnad av rörkroppdelen 53 och kräver färre förskjut- ningar av bildalstringsskivan 19 i förhållande till arrangemanget enligt fig. 7. Efter det att uppvärmningsorganet 61 för förvärmning bringats ur beröring med bildalstringsskivan 19, tillföres luft vid anordningen enligt fig. 7B från håligheten 57 till skivan 19 för kylning av denna. Dessutom är i detta fall uppbyggnaden av rör- kroppdelen 53 enkel, och antalet förskjutningar av bíldalstringsski- van 19 är litet i förhållande till vad som är fallet vid anordningen enligt fig. 7. Härtill kommer, att eftersom utloppet 136b och inloppet 1360 i anordningen enligt fig. T ej erfordras, så medför detta att uppbyggnaden av rörkroppdelen 53 förenklas.

Villkoren för registrering i de ovan beskrivna utföringsformer- na är följande. Förvärmningen utföres vid en temperatur i området 80 till 130°C under en lämplig tidsperiod mellan 0,5 och 12 sekunder; exponeringen efter det att bíldalstringsskivan har gjorts ljuskänslig utföres med en belysning av exempelvis 2000 till 10000 lux under ca 0,5 till 12 sekunder, och värme-framkallningen utföres vid en temperatur av exempelvis 100 till 150°C eller så under en lämplig tidsperiod i området från 0,5 till 12 sekunder.

I ovan beskrivna anordningar har en stegmotor använts för att driva, lägesplacera och stoppa bildalstringsskiv-transportanord- ningen, men andra organ kan lika väl användas. Man kan i enlighet med vad som nedan kommer att beskrivas även använda en transporten- ordning vilken drives av en vanlig motor, som läges-kontrolleras av en signal som alstras av en kombination av en kodare och en ljusav- kännare och vilken stoppas av en låsanordning. Som visas i fig. 18 losskopplas klor 311 och 312 hos en framåtroterande stång 308 och en bakàtroterande stång 309 från låsorgan 315 och 316 av ett framàt~ roterande stegmatningshjul 313 och ett bakàtroterande stegmatnings- hjul 314 medelst en elektromagnet 307. Därefter drives en motor 317 för att driva en roterbar axel 323 via en koppling 318 och kugghjul 319, 321 och 322. En kodare 32H, kugghjulet 321 och steghjulen 313 och 31U är lägesfixerade i förhållande till och utförda i en enhet med varandra och så arrangerade att drivaxeln 323 efter varje rotationsvarv drives motsvarande distansen för bildalstringsskivans rörelse för en ram. När kugghjulet 321 roterar ett halvt varv, 10 30 35 40 7906458-0 33 . detekteras ett hack 325 hos kodaren 32U av en ljusavkännare 326.

Denna detekteringssignal passiverar elektromagneten 307, och genom inverkan av fjädrar 327 och 328 glider klorna 311 och 312 på de yttre perifera ytorna pá stegmatníngshjulen 313 resp. 31H. När motorn 317 roterar ytterligare slår steghjulets 313 spärrhake 317 mot klon 311 hos stången 308, och samtidigt slår klon 312 hos stången 309 mot steghjulets 31ü spärrhake 316 hos steghjulet så att omkastning av rörelseriktningen för kugghjulet 321 till följd av repulsionsstöt förhindras. Samtidigt hindras den roterbara driv- axeln 323 från att rotera. Motorn 317 är tidsstyrd så att den fortsätter att rotera en viss tid även efter det att kugghjulet 321 har stoppats av den ovannämnda detekteringssignalen från ljusavkän- naren 326, och under denna tid förhindras överbelastning av motorn 317 genom kopplingen 318 till dess att motorn 317 kommer i vila efter det att kugghjulet 321 har stoppats. På detta sätt kan bildalstríngsskivan förskjutas och lägesplaceras med stor noggrann- het; även en transportmekanism av det nyss beskrivna slaget kan sålunda användas.

Ehuru man i de ovannämnda utföringsformerna har använt de gängade axlarna 33, H3 och 323 för att förskjuta bildalstringsski- van, är det även möjligt att för detta ändamål använda linor, kugghjul och kuggstång eller kedja. Av dessa metoder är en metod att förskjuta bildalstríngsskivan i två dimensioner, i X- och Y-riktningarna, användbar när bildalstringsskivan utgöres av en "microfiche".

I den i fig. U och 5 visade anordningen bringas värmeelementet 61 för förvärmning, kylaren 61a, värmeelementet 61 för framkallning och den andra ramformade delen 73 för exponering i och ur kontakt med bildalstringsskivan, men det är även möjligt att lägesfixera dem och förflytta rörkroppdelen 53 i och ur kontakt med bildalstrings- skivan. I allmänhet är det önskvärt att använda en anordning av det i fig. 2 visade slaget, i vilken sidan av rörkroppdelen 53 är fast och värmeelementen och den andra ramliknande delen för exponering är förskjutbara så att bildalstringsläget för bilden av ett objekt lätt kan fastställas. Den visade mekanismen för att bringa värmeelemen- ten etc, i och ur kontakt med bildalstringsskivan är lämplig för praktisk användning, men mekanismen kan även ersättas med andra sådana. Vidare kan exponeríngsorganen ersättas med andra än de ovan nämnda, men åtminstone en projektionslins för projicering av bilden av objektet pà bildalstringsskivan samt en slutare är erforderliga, 10 20 25 30 H0 .....___:__..___._..._..__.__. 7906458-0 3H under det att de övriga komponenterna kan modifieras allt efter det objektet kan exempelvis även placeras på Vidare kan objekt som skall placeras; höljets översida så att det är vänder framsidan nedåt. villkoren för exponering ändras, exempelvis genom förhandsinställ- ning av en förutbestämd exponeringstid utan användning av någon automatisk exponeringsdetektor.

Det ovan beskrivna process-systemet med fyra lägen, varvid förvärmning, avkylning, exponering och framkallning äger rum i skilda lägen, möjliggör enkelt underhåll eftersom olika funktioner fullgöres i olika lägen, och den tid som åtgår för registrering eftersom registrering successivt utföres över ett flertal bildalstringsområden genom parallell-processer. Men exponering, uppvärmning och avkylning kan även äga rum i samma läge; detta system kommer i fortsättningen kallas för "enpositionssystemet“.

Sístnämnda system är speciellt lämpligt för användning vid det s.k. en-ram-registreringssystemet, vid vilket en serie innefattande förkortas, förvärmning, avkylning, exponering och framkallning genomföres i följd efter varandra för varje ram, d.v.s. informationen i ett objekt registreras för varje ram. Enpositionssystemet är därför speciellt lämpat för bildalstringsskivor av fönster-typ, men det kan även användas för registrering av endast en ram av en bildalstrings- skiva av míorofiche-typ med ett flertal ramar.

I detta fall kan värmeelement av samma typ användas för för- värmning och termisk framkallning, men det är i många fall önskvärt att uppvärmningstemperaturerna för dessa två värmeelement är inbör- des olika. Det föredrages därför att man i och för reducering av tiden för registreringen på bildalstringsskivan använder skilda värmeelement och en kylare och arrangerar värmeöverföringsorganen så att de individuella värmeelementen eller kylaren bringas till samma bestämda läge på bildalstringsskivan inom en önskad tidsperiod. I detta enpositionssystem är vidare den andra ramformade delen 73 för exponering dessutom använd för värmeelement och kylare, och förvärm- ning, kylning, exponering och framkallning genomföres med bildalst- ringsskivan fasthållen av rörkroppdelen 53 och den ovannämnda ramformade delen 73.

Fig. 19 visar i princip ett exempel vid vilket förvärmning, kylning, exponering och framkallning utföres i enlighet med enposi- tionsbehandlingssystemet. Ett par gejder 335 och 336 är fästa vid rörkroppdelen 53 så att en ram' 107 av ett fönster-kort 333 av en bildalstringsskiva mjukt kan ställas in i exponeringsläget, d.v.s. i 10 15 20 25 30 'w H0 7906458-0 35 I den exponeringslâget en öppning upptagen,som är något läget för den undre öppna änden av det genomgående hålet SH. undre gejden är i större än den andra ramformade delen 73, och en ände av gejden 335 är utformad för att tjänstgöra som stopporgan'så att fönsterkortet 333 ej införes för långt.

Den yta av bildalstringsomrádet 107 som befinner sig på rör- kroppdelens 53 sida gör kontakt med bildalstringsläget på rörkropp- delen 53, och rörkroppdelen 53 är i gängíngrepp med rörkroppen 55, och en tryckgasinloppsöppning 137 för införande av tryckgas från ett tryckgasgenereringsorgan (ej visat) är anordnad i rörkroppdelens 53 En 0-ring 339 för att förhindra att tryckgasen läcker ut Ytan av sidovägg. är insatt mellan rörkroppdelen 53 och rörkroppen 55. bildalstringsområdet 107 på den från rörkroppdelen 53 vända sidan pressas av den andra ramformade delen 73 för exponering mot rör- kroppdelens 53 sida fràn början av förvärmníngen till slutet av värme-framkallningen, så att bildalstringsområdet 107 stadigt hàlles _i sitt läge.

Vid fasthållning av bildalstringsomràdet 107 ligger den ramfor- made delen 73 för exponering i sitt upphöjda läge D, inritat med heldragna linjer, men vid andra tidpunkter intar den sitt nedsänkta läge E, inritat med streckade linjer. Denna rörelse uppåt och nedåt för den ramformade delen genomföres av ett ramformat förflyttninga- organ (ej visat).

Värmeelementet 61 för förvärmníng hàlles normalt i sitt bered- skapsläge B, men när förvärmningsoperationen skall utföras bringas det medelst filmtransportorgan (ej visat) till ett exponeringsläge A omgivet av den andra ramformade delen 73 och förvärmer bildalst- ringsområdet 107 varefter det återföres till läget B. Kylaren 61a förblir normalt i sitt beredskapsläge F, men vid kylning bringas den av kylare-förflyttningsorgan (ej visat) till exponeringsläget A för avkylning av bildalstríngsområdet 107, varpå den återföres till läget F. Värmeelementet 62 för termisk framkallning hålles normalt i sitt beredskapsläge C och bringas av värmeframkallnings-värmeele- ment-förflyttningsorgan (ej visat) till exponeringsläget A för termisk framkallning av bildalstringsområdet 107, varefter det återföres till läget C.

I det fall att man fönster-kortet 333 till ringsskiv-förflyttningsorgan. utgör bildalstringsomrädet 107 kan även användas såsom hållare. manuellt bringar bildalstringsområdet 107 på exponeringsläget, erfordras inget bildalst- Den del av fönster-kortet 333 som ej Det l0 15 20 25 30 #0 7906458-8 36 är även möjligt att anordna endast ett uppvärmningselement och öka tidsperioden för kontakt mellan värmeelementet och bildalstringsom- rådet eller ändra uppvärmningsgraden beroende på huruvida värmeele- mentet används såsom förvärmningselement eller värmeframkallnings- element.

Förvärmning, kylning eller värmeframkallning kan även utföras i ett annat läge än exponeringsläget. Det är även möjligt att använda ett tvålägesbehandlingssystem vid vilket förvärmning, kylning och värmeframkallning äger rum på samma ställe, men ett ställe som ej är identiskt med exponeringsläget. Man kan även använda ett ettläges- behandlingssystem av det slag som åskådliggöres i fig. 19 för varje bildalstringsområde 107 på bildalstringsskivan 19 i stället för fönster-kortet 333. Avkylningen av bildalstringsskivan efter förvärmningen har beskrivits i det föregående, men för att förhindra skada och termisk deformation av bildalstringsskivan föredrages att bildalstringsskivan avkyles även efter värmeframkallningen, varvid samma avkylningsorgan används som efter förvärmningsprooessen.

Som ovan beskrivits är det enligt uppfinningen fördelaktigt att kyla av bíldalstringsskivan efter förvärmning men före exponering, detta för att erhålla en skarpa konturer och fina kontraster uppvi- sande bild; speciellt möjliggör forcerad kylning förkortning av den tid som erfordras för erhållande av en synlig bild, och detta är därför den mest användbara metoden. Detta kommer att framgå mera konkret i samband med i det följande beskrivna utföringsformer av uppfinningen. Med användning av den med värmeframkallning arbetande bildalstringsanordningen enligt uppfinningen kan en bild registreras och framkallas på en bíldalstringsskiva ram för ram utan att man behöver något mörkrum för hanteringen av "råbild-alstringsskivan", och den framkallade bildalstringsskivan kan arkiveras för senare reproduktion av registreringen och kan om så erfordras åter laddas in i bildalstringsanordningen för ny registrering på ett ej regist- rerat bildfält på skivan.

Eftersom inget mörkrum erfordras och eftersom framkallning ej är av den våta typen används ingen framkallningssubstans; följakt- ligen är bildalstringsanordningen mycket enkel till sin uppbyggnad, och bildalstrihgsskivan kan förvaras efter det att den undergått registrering i endast ett eller ett fåtal bildfält och kan sedan underkastas ytterligare registrering i andra bíldfält} Härtill kommer att man om bildalstringsanordningen är försedd med organ för avkylning av bildalstringsskivan efter förvärmningen, vilket är ett 10 15 20 25 30 35 HO 7906458-0 37 av särdragen för uppfinningen, kan uppnå en avsevärd höjning av bildalstringsskivans känslighet genom att avkyla skivan efter värmeaktiveringsprocessen, varvid man som resultat får en skarpa konturer och fina kontraster uppvisande synlig bild.

Bildalstringsförfarandet enligt uppfinningen skall i det följande mera i detalj beskrivas i anslutning till exempel.

Exempel 1 Bildalstringsskivan framställdes medelst följande metod. U viktsdelar sílverbehenat och 20 viktsdelar av en blandad lösning av metyletylketon och toluen (i viktförhållandet 2:1) maldes i en kulkvarn under 2ü timmar för framställning av en silverbehenatlös- ning. Följande sammansättningar framställdes med användning av silverbehenatlösningen och applicerades såsom en beläggning på en polyesterfilm till en tjocklek av 100/um, varvid beläggningen utfördes vid rumstemperatur.

Första skiktet Silverbehenat-suspension 12 g Polyvinylbutyral 3 g Metyletylketon 12 g Tetrabrombutan 0,30 g Kvicksilveracetat 0,05 g Trifenylfosfin 0,03 g Brom 0,12 g Koboltbromid 0,03 g Kinolin 0,25 3 Andra skiktet ' Cellulosaacetat 1,2 g Aceton 16,3 g Ftalazinon 0,28 g 2,2'-metylenbis- (6~tert-butyl-Ä-etylfenol) 0,70 g Efter påläggning av det första skiktet applicerades det andra skiktet därpå med en tjocklek av 60/um, och beläggningen torkades vid rumstemperatur.

De i fig. 7 visade uppvärmnings- och avkylningsorganen användes för erhållande av en synlig bild genom förvärmning, exponering och framkallning av ett förutbestämt område av den sålunda framställda bíldalstringsskivan. 10 15 20 25 30 35 HO 7906458-0 38 Fig. 20 visar verkan av bildalstringsskivans tillstånd innan denna utsätts för en ljusbild efter att ha förvärmts. Bildalst- ringsskivan gjordes ljuskänslig genom uppvärmning till 10000 under 3 sekunder och bestrålades med ljus från en 200 watts volframlampa genom en stegkil vid en belysning av 1000 lux-sek. och framkallades därefter vid 120°C under 3 sek. I fig. 20 visar kurvorna a, b, c och d 1juskänslighetskaraktäristikor för bildalstringsskivan när dess temperatur omedelbart före exponeringen var ca 10000, ca 80°C, ca 60°C respektive rumstemperatur, varvid abskissan representerar ljusmângden i logarítmisk skala och ordinatan bildtät- heten í optisk täthet (OD).

Med användning av inverterade värdet av den exponeringstid som erfordras för att erhålla OD=1 som mått på bildalstringsskivans materialkänslighet ökar materialkänsligheten X och maximala optiska tätheten under det att minimala optiska tätheten minskar i ordnings- följden för kurvorna a, b, c och d, d.v.s. med ökning i kylningsgra- den för skivan i intervallet mellan förvärmning och exponering.

Detta visar att ju mera skivan avkyles före exponering, desto skarpare konturer och desto finare kontraster får den som resultat erhållna bilden.

I Av de i fig. 20 visade resultaten framgår att det är att föredra att bildalstringsskivan är vid en temperatur understigande 60°C. I det fall att bildalstringsskivan exponeras omedelbart efter förvärmningen utan avkylníng, var transmissionstätheten hos skivan efter framkallning 0,5 i ett i originalet vitt område och 0,2 i ett svart område, under det att transmissionstätheten i det fall att bildalstringsskivan hade förvärmts och därefter avkylts till rumstemperatur före exponeringen var 1,3 i det i originalet vita området och 0,1 i det svarta området. .Det framgår härav att kylning efter förvärmning ökar bildalstringsskivans känslighet och ger en bild med skarpare kontraster.

Exempel 2 Bilder framställdes på bildalstringsskivan enligt Exempel 1 genom fotografering av provkartor med olika reflexionsfaktorer med användning av bildalstringsanordningen enligt uppfinningen. Fig. 21 visar ljuskänslighetskaraktäristikor som har erhållits i fallen a till e med avkylning genom luftblåsning mot bildalstringsskivan. I fig. 21 representerar ordinatan de optiska tätheterna för de som resultat erhållna bilderna och abskissan representerar i logaritmisk skala reflektionsfaktorerna (%) för de använda provkartorna, varvid 10 15 20 25 30 35 NO 7906458-0 39 siffrorna på abskissaxeln är reflexionsfaktorer. Förvärmning utfördes vid 100°C under 3 sekunder. Exponering utfördes genom att provkartorna belystes med en 20 watts lysämneslampa, och prov- kartorna fotograferades i en förminskad skala. Framkallning åstad- koms vid 120°C under 3 sekunder. Bildalstringsskivans temperatur vid tidpunkten för exponering var ungefär 9500 för kurvan a, 70°C för kurvan b, 60°C för kurvan c, ca UO°C för kurvan d och ca 30°C för kurvan e. Man ser i fig. 21 att en skarpa kontraster uppvisande klar bild kan erhållas genom avkylning av bildalstrings- skivan i intervallet mellan förvärmning och exponering. Vidare inser man att skivans temperatur vid tidpunkten för exponering med fördel är lägre än 60°C och att skivtemperaturen under U0°C ger väsentligen samma resultat som det man erhåller vid rumstemperatur och därför föredrages. ' Exempel 3 Bildalstringsskivan framställdes enligt följande metod, vilken motsvarar den metod som är beskriven i den ovan nämnda amerikanska patentskriften 3 802 888. 85 viktsdelar av en blandning (1:l) av toluen och metyletyl- keton och 15 viktsdelar silverbehenat blandades homogent för fram- ställning av en pasta av silverbehenat. Därefter tillsattes under omrörning 35 g av en 9%-ig polyvinyl-butyral-lösning i metylketon till 17 gram pasta för erhållande av en silverbehenat dispergerad i polyvinylbutyrallösning. Till denna lösning tillsattes 0,25 5 ftalazinon, 0,1 s HsBrR och 0,89 g bis-(z-nydr-oxiß,s-di-tert-bu- tylfenyl)-metan, och blandningen omrördes. Blandningen pàlades i ett 80/um tjockt skikt pá en polyesterfilm, och beläggningen torkades vid rumstemperatur. Därefter pålades en 5%-ig cellulosaacetatlös- ning i aceton på den torkade beläggningen till en tjocklek av 50/um och torkades vid rumstemperatur för att bilda ett skyddande skikt.

Efter förvärmning vid 100°C under 15 sekunder avkyldes den sålunda erhållna bildalstringsskivan med samma avkylningsmetod som i Exempel 1, bestrålades med en 500 watts volframlampa genom en stegkíl vid en belysning av 500.000 lux'sek och framkallades sedan vid 135°C under 10 sek. Det konstaterades att avkylning före exponering förbättrade materíalkänsligheten och den maximala optiska tätheten i likhet med vad som var fallet i Exempel 1.

Exempel U Bildalstringsskivan framställdes medelst följande metod motsva- .__._.._.... ...flà-à-.w-...n-fi-...w -- 10 15 20 30 35 H0 7906458-0 H0 rande den i amerikanska patentskriften 3 76ü 329 beskrivna. 15 viktsdelar silverbehenat och 85 viktsdelar metyletylketon blandades homogent för erhållande av en silverbehenatsuspension.

Till 67 g sílverbehenatsuspension tillsattes 60 g metyletylketon, 10 g polyvinyltutyral, 0,35 g kvicksilver(ll)acetat, O,U9 g N-bromo- succinimid och 20 g 1-metylpyrrolidin, och dessa komponenter blanda- des noggrant och upplöstes. Blandningen pålades på en polyesterfilm till en tjocklek av 100/um och lufttorkades vid rumstemperatur.

Därefter applicerades en lösning bestående av 12 viktsdelar cellu- losaacetat, 163 viktsdelar aceton, 2,8 viktsdelar ftalazinon och 7 viktsdelar 2,H.H-trimetylpentyl-bis(2-hydroxi-3,5-dimetylfenyl)- -metan på det första skiktet till en tjocklek av 60/um och beläggningen torkades. Efter förvärmníng till 100°C under 8 sekunder avkyldes den sålunda erhållna bíldalstringsskivan med samma metod som användes i Exempel 1 och bestràlades med ljus från en 500 watts volframlampa genom en stegkil med en belysning av 30.000 lux°sek och framkallades sedan vid 13000 under 10 sekunder. Det konstaterades att kylning före exponering förbättrade material- känsligheten och den maximala optiska tätheten liksom i Exempel 1.

Exempel 5 Bildalstríngsskivan framställdes medelst följande metod vilken motsvarar metoden enligt amerikanska patentskriften H 113 H96. 12 viktsdelar silverbehenat och 88 viktsdelar av en (2:1)-blan- dad lösning av metyletylketon blandades nomogent för åstadkommande av en sílverbehenat-suspension. 6 g av silverbehenat-suspensionen blandades omsorgsfullt med H g metyletylketon, 0,72 g polyvinyl- butyral, 0,02 g kvicksilver(II}acetat, 0,096 g tetrabrombutan, 0,03 g bis-(P-netoxyfenyl) tellurium-díbromid och 1,2 ml av sensíbilíse- rande färgstofflösning. Blandninqen pålades pá en polyesterfilm till en tjocklek av 100/um, och beläggningen torkades vid rumstem- peratur. Den sensibiliserande färgstofflösningen är en lösning som innehåller 0,3 g 3-carboxyetyl~5-[(3-etyl-2-bensotiazoliniden)-2- -butenyliden]-rhodanin. Därefter pålades en lösning innehållande 8,3 g aceton, 0,62 g cellulosaacetat, 0,1U g ftalazinon och 0,35 g 2,2'-metylenbis-(H-etyl-6-tert-hutyl)-ïenol på den ovannämnda beläggningen till en tjocklek av 00/um och torkades vid rums- temperatur. >Den rêlunda erhållna bildalstringsskivan förvärmdes vio 10002 under 3 sekunder, avkyldes med samma metod som den i Exempel 1 använda, bestrålades med ljus fran en 500 watts volframlampa genom en stegkil med en belysning av 10.000 lux'Sek Och framkallades 10 15 20 25 30 ..._ ............-.~_............... _ 7906458-0 H1 Sedan vid 12000 under 3 sekunder. Såsom i Exempel 1 konstaterades en förbättring av materialkänsligheten à'ocn den maximala optiska tätheten till följd av förvärmning före exponering.

Exempel 6 Bildalstringsskivan framställdes medelst följande metod som överensstämmer med den som beskrivits i amerikanska patentskriften 3 816 132 och japanska Patent Disclosure Gazette nr 127 719/76. 17 g silverbehenat, 13 g behensyra, H0 g polyvinylbutyral, 350 ml toluen och 350 ml etanol blandades omsorgsfullt till en homogen blandning. Blandningen pålades på en polyesterfilm till en Üj00k1ek aV 100/um och torkades vid rumstemperatur. Därefter pâlades en blandning bestående av 51 g 2,2'-metylenbis-(U-metyl-6- -tert-butylfenol), 15 g ftalazinon, 0,16 g kvicksilveracetat, 0,01 g QV i o 0 :lg :I >= “H-C” f-w = 5 N czfib. Jah* samt 10 g polyvínylbutyral och 11 etanol på den ovannämnda belägg- flíflßen till en ïJ00kleV av 50/um och torkades vid rumstemperatur.

Den sålunda erhållna bildalstringsskivan förvärmdes vid 100°C under 5 sekunder, avkyldes med samma metod som den i Exempel 1 använda, bestràlades med ljus från en 500 watts volframlampa genom en stegkil vid en belysning av 200.000 lux~sek och framkallades sedan vid 12000 under 5 sekunder. Även i detta exempel konstate- rades att materíalkänsligheten ö'och den maximala optiska tätheten ökades genom avkylning före exponering liksom i fallet enligt Exempel 1.

Det är uppenbart att många modifikationer och variationer kan åstadkommas utan att uppfinningstanken eller ramen för uppfinningen frångâs. - - - - - - - . ...........-.,....._...._.._... . -._....,.__......._..._..... _

Claims (16)

7906453-0 42 PATENTKRAV

1. Sätt att framställa en bild med användning av en_termískt framkallningsbar bildframställningsskiva som är utförd av ett mate- rial vilket innehåller åtminstone dels ett organiskt silversalt som oxiderande medel, dels ett silverjon-reduktionsmedel och dels ett bindemedel som normalt är okänsligt för ljus men som kan göras ljuskänsligt medelst förvärmning, vilket sätt innefattar förfarings- stegen att man förvärmer bildframställningsskivan, utsätter den för en ljusbild för att i densamma åstadkomma en latent bild och där- efter framkallar denna för erhållande av en synlig bild, vilket sätt är k ä n n e t e c k n a t av att man efter förvärmníngen av bildframställningsskivan före exponeríngssteget kyler av densamma 1 dess förvärmda område, att förvärmningstemperaturen ligger inom omrâdet 80 till 130°C samt att det förvärmda omrâdet av bildfram- ställningsskivan kyles ned till en temperatur under 60°C.

2. Sätt enligt kravet 1, k ä n n e t e c k n a t av att materialet dessutom innehåller åtminstone endera av en silverhalid och en källa till halogenjoner som kan bilda silverhalid genom reaktion med det organiska silversaltet för att bilda silverhaliden, samt en kvicksilverjon(II)källa.

3. Sätt enligt kravet 1, k ä n n e t e c k n a t av att mate- rialet dessutom innehàller endera av en organisk karboxylsyra och en sensibiliserande färgämne samt en kvicksilver(II)jonkälla.

4. Sätt enligt kravet 1, k ä n n e t e c k n a t av att det förvärmda omrâdet av bildframställningsskivan kyles ned till en temperatur under U0°C.

5. 75. Sätt enligt kravet 1, k ä n n e t e c k n a t av att det förvärmda området av bildframställníngsskivan kyles av en metalldel som är_anordnad att bringas i direkt beröring med bildframställ- ningsskivan.

6. Sätt enligt kravet 1, k ä n n e t e o k n a t av- att det förvärmda området av bildframställningsskivan kyles medelst en gas som blâses mot bildframställningsskivan.

7. Sätt enligt kravet 6, k ä n n e t e c k n a t av att gasen utgöres av tryckluft. S

8. Anordning för genomförande av sättet att framställa en bild med användning av en termiskt framkallningsbar skiva (19) som nor- malt är okänslig för ljus men som kan göras ljuskänslig medelst förvärmning före framkallning och som exponeras för en ljusbild för 7906458-9 43 att åstadkomma en latent bild med efterföljande värme-framkallning för erhållande av en synlig bild, enligt kravet 1, vilken anordning innefattar dels ett eller två uppvärmningsorgan (61, 62, H01, 406) för förvärmning och termisk framkallning av ett bildalstringsomràde på bildframställningsskivan, dels exponeringsorgan (18, SH) för att projicera en optisk bild av ett föremål i det förvärmda bildalst- ringsområdet och vilken anordning är k ä n n e t e c k n a d av att den uppvisar avkylningsorgan (61a, 136b, 367a, 365, 366, 369a, 371) för att avkyla det förvärmda bildalstringsområdet på bildfram- ställningsskivan före exponering.

9. Anordning enligt kravet 8, k ä n n e t e c k n a d av att avkylningsorganet (61a, 136b, 367a, 365, 366, 369a, 371) innefattar en termiskt ledande fast kropp (61a) som är anordnad att hållas vid en temperatur under 60°C och som är anordnad att direkt beröra bildalstringsskivans (19) bildalstringsområde för kylning av detta.

10. Anordning enligt kravet 9, k ä n n e t e c k n a d av att organ (57a, 136a) förefinns för att tillföra ett under tryck befint- ligt fluidum till bildalstringsskivan (19) på motsatt sida mot den på vilken den fasta kroppen (61a) hålles i direkt beröring med bildalstringsskivan.

11. Anordning enligt kravet 9, k ä n n e t e c k n a d av att organ (151, 152, 146) förefinns för att alstra ett negativt tryck mellan den fasta kroppen (61a) och dennas kontaktyta med bildalst- ringsskivan (19) när den förstnämnda hållas i direkt kontakt med det sistnämnda.

12. Anordning enligt kravet 9, k ä n n e t e o k n a d av att en ramliknande del (53, 57a) är anordnad på motsatta sidan mot den sida på vilken den fasta kroppen (61a) gör kontakt med bildalst- ringsskivan och varvid organ (136a) förefinns för att införa ett under tryck varande fluidum utifrån och in i den ramliknande delen (53, 57a) för att tillföra det under tryck varande fluidet till bildalstringsskivan inom den ramliknande delen (53, 57a).

13. Anordning enligt kravet 7, k ä n n e t e c k n a d av att kylningsorganet (61a, 136b, 367a, 365, 366, 369a, 371) utgöres av ett organ (136b) för att mot bildalstringsskivan (19) blåsa en gas vars temperatur är under ca 6000. 3 1U.

14. Anordning enligt kravet 13, k ä n n e t e_c k n a d av att kylningsorganet (136b) är anordnat så att gasen tíllföres till bildalstringsomrâdets yta på bildalstringsskivan (19) från insidan av en ramliknande del (53) som är placerad i kontakt med bildalst- »w-www--fi __.. -_ _ ..,.-,_-.......--.--._..-.._.---~-.~.~.. , 7906458-0 44 ringsskivan på platsen för nämnda uppvärmnings- eller exponeringe- organ (61, 62, N01, H06 eller 18, 5%).

15. Anordning enligt kravet 7, k ä n n e t e c k n a d av att uppvärmningsorganet (61, 62, 369a, 37Äa, 371, 375, 401, Ä06) inne- fattar ett första och ett andra uppvärmningsorgan (61, 369a, 371, 401¶respÅ 62, 37Ha, 375, H06) som är anordnade individuellt för förvärmning resp. för framkallníng, samt att det första uppvärm- ningsorganet (61, 369a, 371, 401), avkylníngsorganet (61a, 136b, 367a, 365, 366, 369a, 371), framkallníngsorganet (18, 5H) och det andra uppvärmningsorganet (62, 37ëa, 375, 406) är lägesfíxerade i linje med varandra eller anordnade så att de bildar en hopbyggd enhet. ,

16. Anordning enligt kravet 15, k ä n n e t e c k n a d av att komponenterna är så arrangerade att behandlingarna medelst det första uppvärmningsorganet (61, 369a, 371, H01), avkylningsorganet (61a, 136b, 367a, 365, 366, 369a, 371), exponeringsorganet (18, SH) och det andra uppvärmningsorganet (62, 37üa, 375, 406) genomföras parallellt och samtidigt för ett flertal bildalstríngsomràden på bíldalstríngsskivan.