SE434634B - Foremal innefattande minst en transparent, icke-iriserande glasskiva, forfarande for dess framstellning samt anvendning av detsamma i en byggnad - Google Patents
Foremal innefattande minst en transparent, icke-iriserande glasskiva, forfarande for dess framstellning samt anvendning av detsamma i en byggnadInfo
- Publication number
- SE434634B SE434634B SE7810974A SE7810974A SE434634B SE 434634 B SE434634 B SE 434634B SE 7810974 A SE7810974 A SE 7810974A SE 7810974 A SE7810974 A SE 7810974A SE 434634 B SE434634 B SE 434634B
- Authority
- SE
- Sweden
- Prior art keywords
- coating
- refractive index
- glass
- thickness
- light
- Prior art date
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 103
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 title abstract description 14
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 140
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 110
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims abstract description 35
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 29
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 32
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 32
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 18
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 8
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 2
- 238000005485 electric heating Methods 0.000 claims description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims 3
- 239000002932 luster Substances 0.000 claims 2
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 claims 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 abstract description 17
- 239000005315 stained glass Substances 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 103
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 61
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 37
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 22
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 18
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium dioxide Chemical compound O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 14
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 11
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 11
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 11
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 11
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N Nitric oxide Chemical compound O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- QZQVBEXLDFYHSR-UHFFFAOYSA-N gallium(III) oxide Inorganic materials O=[Ga]O[Ga]=O QZQVBEXLDFYHSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 7
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 6
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 6
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 6
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 6
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 6
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- VXKWYPOMXBVZSJ-UHFFFAOYSA-N tetramethyltin Chemical compound C[Sn](C)(C)C VXKWYPOMXBVZSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 4
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 4
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 4
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- -1 aluminum alkoxides Chemical class 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- QUZPNFFHZPRKJD-UHFFFAOYSA-N germane Chemical compound [GeH4] QUZPNFFHZPRKJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052986 germanium hydride Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 3
- BLBNEWYCYZMDEK-UHFFFAOYSA-N $l^{1}-indiganyloxyindium Chemical compound [In]O[In] BLBNEWYCYZMDEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910005793 GeO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 2
- RJCQBQGAPKAMLL-UHFFFAOYSA-N bromotrifluoromethane Chemical compound FC(F)(F)Br RJCQBQGAPKAMLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004456 color vision Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N diiodomethane Chemical compound ICI NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 239000000779 smoke Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- RVHSTXJKKZWWDQ-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2-tetrabromoethane Chemical compound BrCC(Br)(Br)Br RVHSTXJKKZWWDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000143 2-carboxyethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 3-[bis(2,4-dioxopentan-3-yl)alumanyl]pentane-2,4-dione Chemical compound CC(=O)C(C(C)=O)[Al](C(C(C)=O)C(C)=O)C(C(C)=O)C(C)=O XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002698 Al2O3 SnO2 Inorganic materials 0.000 description 1
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910005191 Ga 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910007277 Si3 N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005091 Si3N Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003691 SiBr Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003910 SiCl4 Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 125000005595 acetylacetonate group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N aluminium isopropoxide Chemical compound [Al+3].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPUHCPXFQIXLMW-UHFFFAOYSA-N aluminium triethoxide Chemical compound CCO[Al](OCC)OCC JPUHCPXFQIXLMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 235000019646 color tone Nutrition 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N dimethylsilane Chemical compound C[SiH2]C UBHZUDXTHNMNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXAZMDOAUQTMOW-UHFFFAOYSA-N dimethylzinc Chemical compound C[Zn]C AXAZMDOAUQTMOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940119177 germanium dioxide Drugs 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000007794 irritation Effects 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000003278 mimic effect Effects 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 229910003455 mixed metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- DOTMOQHOJINYBL-UHFFFAOYSA-N molecular nitrogen;molecular oxygen Chemical compound N#N.O=O DOTMOQHOJINYBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDZGCSFEDULWCS-UHFFFAOYSA-N monomethylhydrazine Chemical compound CNN HDZGCSFEDULWCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 1
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 1
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 description 1
- 238000011158 quantitative evaluation Methods 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940071182 stannate Drugs 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 1
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- XDWXRAYGALQIFG-UHFFFAOYSA-L zinc;propanoate Chemical compound [Zn+2].CCC([O-])=O.CCC([O-])=O XDWXRAYGALQIFG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
- C03C17/002—General methods for coating; Devices therefor for flat glass, e.g. float glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/281—Interference filters designed for the infrared light
- G02B5/282—Interference filters designed for the infrared light reflecting for infrared and transparent for visible light, e.g. heat reflectors, laser protection
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Description
" ten 3.710.074). 7810974- 1 2 I vissa fall, dvs. nĂ€r glaset har mycket_mörk fĂ€rgton (enem- pelvis med en ljustransmissionsförmĂąga av mindre Ă€n ca 25 %), döljes denna irisering och kan tolereras. För de flesta tillĂ€mpningar till vĂ€ggar och fönster för byggnader Ă€r den irisering som normalt Ă€r förenad med belĂ€ggningar med en ltjocklek av mindre Ă€n ca O,75Ă
pm estetiskt oacceptabel för mÄnga betraktare (se exempelvis den amerikanska patentskrif- _ V Ringa eller icke nÄgon framgÄng har uppnÄttsc med att vÀsentligen minska eller eliminera den oönskade och synliga iriseringen i klara, blÄgröna och lÀtt fÀrgade glas.
IriseringsfĂ€rger Ă€r ett mycket allmĂ€nt fenomen hos trans- parenta filmer med en-tjocklek varierande frĂ„n ca 0,1 till l;un, i synnerhet vid tjocklekar under ca 0,85/un. DessvĂ€rre Ă€r det sĂ€rskilt detta tjockleksomrĂ„de som Ă€r av praktisk betydelse för de flesta kommersiella tillĂ€mpningar. Halv- ledarbelĂ€ggningar tunnare Ă€n ca 0,l;an uppvisar icke inter-. ferensfĂ€rger, men sĂ„dana tunna belĂ€ggningar har en markant sĂ€mre reflexionsförmĂ„ga för infrarött.ljus och en markant minskad elektrisk ledningsförmĂ„ga. _,ĂelĂ€ggningar med större tjocklek Ă€n ca l;un uppvisar icke -heller synlig irisering vid dagsljusbelysning, men belĂ€gg- ningar med sĂ„ stor tjocklek Ă€r mycket dyrbarare att till- verka, eftersom större mĂ€ngder belĂ€ggningsmaterial erfordras och eftersom den för avsĂ€ttning av belĂ€ggningen erforderliga tidrymden Ă€r i motsvarande mĂ„n lĂ€ngre.d Vidare har filmer med en tjocklek överstigande l;Âżm en benĂ€genhet att uppvisa grumlighet, vilket beror pĂ„ ljusspridning frĂ„n ytoregelbunden- heter, som blir större pĂ„ en sĂ„dan film. SĂ„dana filmer upp- visar Ă€ven större benĂ€genhet till sprickning under vĂ€rme- spĂ€nningar, pĂ„ grund av vĂ€rmeutvidgningsskillnader.
PÄ grund av dessa tekniska och ekonomiska begrÀnsningar inne- fattar sÄ gott som all tidigare kommersiell produktion av sÄdana belagda glasföremùl filmer med en tjocklek inom om- rÄdet ca 0,1 till 0,3/un, som uppvisar uttalade iriserings- ffÀrger; Hittills har sÄ gott som ingen anvÀndning av sÄdant 1a1o9v4-1 3 belagt glas för byggnadsÀndamÄl förekommit, trots att det skulle vara kostnadsbesparande genom energibesparing att göra detta. SÄlunda kan exempelvis vÀrmeförlusterna genom infra- röd strÄlning genom glasomrÄden i en upphettad byggnad uppgÄ till ca hÀlften av vÀrmeförlusterna genom icke belagda fönster.
NÀrvaron av iriseringsfÀrger pÄ dessa belagda glasprodukter Àr ett huvudsakligt skÀl för att man icke anvÀnder sÄdana be- lÀggningar.
Det Àr ett ÀndamÄl med föreliggande uppfinning att Ästadkomma medel för att eliminera den synliga iriseringen frÄn halv- ledande tunna filmbelÀggningar pÄ glas med bibehÄllande av dessas önskvÀrda egenskaper betrÀffande transparens för syn- ligt ljus, reflexion av infraröd strÄlning samt elektrisk _ ledningsförmÄga.
Ett annat ÀndamÄl med uppfinningen Àr att Ästadkomma de i det föregÄende angivna resultaten utan att man ökar kostnaderna för framstÀllningen i vÀsentlig grad jÀmfört med kostnaderna för anvÀndning av vanliga iriserande filmer.
Ett annat ÀndamÄl med uppfinningen Àr att Ästadkomma de i det föregÄende angivna resultaten med ett förfarande, som Àr kon- tinuerligt och fullt kombinerbart med moderna framstÀllnings- processer som anvÀndes i glasindustrin.
Ett ytterligare ÀndamÄl med uppfinningen Àr att Ästadkomma samtliga de i det föregÄende angivna resultaten med produkter som har hög bestÀndighet och Àr stabila mot ljus, kemikalier och mekanisk nötning.
Ett annat ÀndamÄl Àr att Ästadkomma samtliga de i det före- gÄende angivna resultaten med anvÀndning av material, som Àr tillrÀckligt lÀttillgÀngliga för att tillÄta vittomfattande anvÀndning.
Ytterligare ett ÀndamÄl med uppfinningen Àr att Ästadkomma en ny dubbelglasad konstruktion innefattande en ultratunn, infra- :fil L 1810974-1 4 . rödreflekterande substans, varvid denna struktur Àr fri frÄn _störande irisering.
Ett annat Ă€ndamĂ„l med uppfinningen Ă€r att Ă„stadkomma en glas- konstruktion innefattande en föreningshelĂ€ggning, varvid en ytterbelĂ€ggning Ă€r utförd av en infrarödreflekterande yta med en tjocklek av ca 0,7_Ăm.eller mindre, varvid en innerbelĂ€gg- ning utgör ett medel för att (a) minska grumlingen pĂą det belagda glaset och samtidigt samt oberoende dĂ€rav (b) minska iriseringen hos glasstrukturen med hjĂ€lp av koherent tillsats av reflekterat ljus.
Ett ytterligare ÀndamÄl med uppfinningen Àr att Ästadkomma en glasstruktur med de i det föregÄende angivna icke-iriserande egenskaperna, varvid denna struktur utmÀrkes av en stegvis eller gradvis förÀndring av belÀggningens sammansÀttning mellan glaset och luften.
Ett ytterligare ÀndamÄl med uppfinningen framgÄr för fackman- nen med ledning av uppgifterna i beskrivningen.
En aspekt av uppfinningen utnyttjar bildningen av ett eller fler skikt av transparent material mellan glaset och den halv- ledande filmen. Dessa skikt har brytningsindexvÀrden som ligger mellan vÀrdet för glas och vÀrdet för den halvledande filmen. Med lÀmpliga val av tjocklek och brytningsindexvÀrden har det visat sig att iriseringsfÀrgerna kan bringas att bli alltför svaga för att kunna iakttagas av de flesta mÀnniskor, och med sÀkerhet alltför svaga för att störa en omfattande kommersiell anvÀndning Àven till byggnadsÀndamÄl. LÀmpliga material för dessa mellanskikt anges Àven liksom ett för- farande för framstÀllning av dessa skikt.
En annan ny metod som beskrives Ă€r_sammanföring av tvĂ„ glas- ytor med belĂ€ggningar anordnade pĂ„ ett inbördes avstĂ„nd om 0,25 gĂ„nger en synlig vĂ„glĂ€ngd ifrĂ„ga om tjocklek (exempelvis ca-0,07,Ăm nĂ€r tennoridbelĂ€ggningar anvĂ€ndes) och anordnade parallellt med varandra, sĂ„ att ljus som skulle bilda irise- 7810974-1 5 ringsfĂ€rger adderas inkoherent och eventuella icke önskade iriseringseffekter minskas effektivt under tröskelvĂ€rdet för estetiska anmĂ€rkningar.
Exempel pÄ uppfinningen innefattar ett dubbelglasat fönster med en belÀggning pÄ varje glasskiva eller pÄ en enda av glas- skivorna med en belÀggning pÄ vardera glasytan.
En samordnande aspekt hos dessa olika utföringsformer Àr att de samtliga utnyttjar en tunn halvledarbelÀggning anordnad kongruent med en andra belÀggning, som utgör ett medel för att vÀsentligen minska iriseringen genom att erbjuda minst tvù ytterligare grÀnsytbildande medel, tillsammans med massan i den andra belÀggningen, för reflexion och brytning av ljus pÄ sÄdant sÀtt, att det markant motverkar observering av iriserande fÀrger.
Med hÀnsyn till den subjektiva arten av fÀrgperception Àr det önskvÀrt att diskutera metoder och antaganden, som anvÀnts för vÀrdering av föreliggande uppfinning. Det bör observeras att tillÀmpningen av en stor del av de teoretiska diskussio- nerna i det följande Àr av retrospektiv art, eftersom denna diskussion oundvikligen baseras pù kÀnnedom om föreliggande uppfinning.
För att möjliggöra en lÀmplig kvantitativ vÀrdering av de olika tÀnkbara konstruktioner som motverkar iriseringsfÀrger, berÀknades intensiteten av dessa fÀrger med anvÀndning av optiska data och fÀrgperceptionsdata. Vid denna diskussion antages filmskikt vara plana med likformig tjocklek och lik- formigt brytningsindex i varje skikt. FörÀndringarna av brytningsindex antages vara abrupta vid de plana grÀnsytorna mellan intill varandra belÀgna filmskikt. Verkliga brytnings- indexvÀrden anvÀndes motsvarande försumbara absorptionsför- luster i skikten. Reflexionskoefficienterna anges för normalt infallande plana vÄgor av opolariserat ljus. i I Med utnyttjande av dessa antaganden berÀknas amplituderna för 78109714-1 6 reflexion och transmission frÄn varje grÀnsyta med Fresnelsy formel. DÀrefter summeras dessa amplituder med beaktande av de fasskillnader som erhÄlles genom fortplantning genom skikten ifrÄga. Dessa resultat har visat sig vara ekvivalenta med Airy-formeln (se exempelvis Optics of Thin Films av F. Knittl, Wiley and Sons, New York, 1976) för multipel_ reflexion och interferens i tunna filmer, nÀr dessa formler tillÀmpas pÄ samma fall som behandlas enligt uppfinningen.
Den berÀknade intensiteten av reflekterat ljus har observerats variera med vÄglÀngden och förstÀrkes sÄlunda för vissa fÀrger mer Àn för andra. För berÀkning av den reflekterade fÀrg som ses av en iakttagare, Àr det önskvÀrt att först specificera spektralfördelningen av det infallande ljuset. För detta ÀndamÄl kan man anvÀnda "International Commission on *Illumination Standard Illuminant C", som approximerar normal dagsljusbelysning. Spektralfördelningen hos det reflekterade ljuset Àr produkten av den berÀknade reflexionskoefficienten och spektrum för Illuminant C. FÀrgton och fÀrgmÀttnad som ses vid reflexion av en mÀnsklig iakttagare berÀknas dÀrefter av detta reflekterade spektrum med anvÀndning av de likfor- miga fÀrgskalorna, vilka Àr kÀnda för fackmannen. .En anvÀnd- bar skala Àr den som anges av Hunter i_Food Technology, volym 21, sid. 100-105, l967. Denna skala har anvÀnts för berÀkning av det samband som anges i föreliggande beskrivning.
Resultaten av berĂ€kningarna för varje kombination av bryt- ningsindex och tjocklek hos skikten Ă€r ett par tal, dvs. "a" ' och "b".* "a" representerar röd (om vĂ€rdet Ă€r positivt) eller grön (om vĂ€rdet Ă€r negativt) fĂ€rgton, under det att "b" beskriver en gul (om-vĂ€rdet Ă€r positivt) eller blĂ„ (om vĂ€rdet 'Ă€r negativt) fĂ€rgton. Dessa fĂ€rgtonsresultat-Ă€r anvĂ€ndbara för kontroll av berĂ€kningarna gentemot de iakttagbara fĂ€rgerna hos prover, dĂ€ribland sĂ„dana enligt uppfinningen. Ett enda 2)l/2. Detta fĂ€rgmĂ€ttnadsindex, "c", Ă€r direkt relaterat till ögats förmĂ„ga tal, "c", representerar âfĂ€rgmĂ€ttnadenfz c=(a2+b att iakttaga de besvĂ€rliga iriseringsfĂ€rgtonerna. NĂ€r mĂ€tt- nadsindex understiger ett visst vĂ€rde, kan man icke se nĂ„gon 7810974-1 7 fĂ€rg i det reflekterade ljuset. Det numeriska vĂ€rdet för denna tröskelmĂ€ttnad för observerbarhet beror pĂ„ den speciella likformiga fĂ€rgskala som anvĂ€ndes och pĂ„ observationsbetingel- serna samt belysningsnivĂ„n (se exempelvis R.S. Hunter, The Measurement of Appearance, Wiley and Sons, New York, 1975, betrĂ€ffande en sen översikt över numeriska fĂ€rgskalor).- För att faststĂ€lla en basis för jĂ€mförelse av strukturer genomföres en första serie berĂ€kningar för att efterlikna ett enkelt halvledarskikt pĂ„ glas. Brytningsindex för halvledar- skiktet sattes till 2,0, vilket Ă€r ett vĂ€rde som approximerar tennoxid, indiumoxid eller kadmiumstannatfilmer. VĂ€rdet 1,52 anvĂ€ndes för glassubstratet och detta Ă€r ett vĂ€rde som Ă€r typiskt för kommersiellt fönsterglas. De berĂ€knade fĂ€rg- mĂ€ttnadsvĂ€rdena anges i figur l sĂ„som en funktion av den halv- ledande filmens tjocklek. FĂ€rgmĂ€ttnaden visar sig vara hög för reflexioner frĂ„n filmer med tjocklek varierande frĂ„n 0,1 till O,5,um. För filmer tjockare Ă€n 0,5 pm minskar fĂ€rg- mĂ€ttnaden med ökande tjocklek. Dessa resultat stĂ„r i överens- stĂ€mmelse med kvalitativa observationer pĂ„ verkliga filmer.
De tydliga oskillationerna beror pÄ ögats varierande kÀnslig- het för olika spektrala vÄglÀngder. Var och en av topparna motsvarar en viss fÀrg, sÄsom anges pÄ kurvan (R=rött, Y=gult, G=grönt, B=blùtt).
Med anvÀndning av dessa resultat faststÀlldes minsta obser- verbara vÀrdet för fÀrgmÀttnad med följande experiment: Tenn- oxidfilmer med kontinuerligt varierande tjocklek, upp till ca 1,5 pm, avsattes pÄ glasplÄtar genom oxidation av tetra- metyltennÄnga. Tjockleksprofilen Ästadkoms genom en tempe- raturvariation frÄn ca 450 till 500°C tvÀrs över glasytan.
Tjockleksprofilen uppmĂ€ttes dĂ€refter genom observation av interferensfransarna under monokromatiskt ljus. Vid betrak- tande i diffust dagsljus uppvisade filmerna interferensfĂ€rger vid de korrekta positioner som visas pĂ„ figur 1. De delar av filmerna som hade en tjocklek överstigande O,85,ïŹm.uppvisade icke nĂ„gra iakttagbara interferensfĂ€rger i diffust dagsljus.
Den gröna topp som berÀknades ligga vid en tjocklek av O,88;un 7810974-1 8 kunde icke ses, Tröskeln för observerbarhet antages.dÀrför överstiga 8 för dessa fÀrgenheter. PÄ liknande sÀtt kunde det berÀknade blÄ toppvÀrdet vid 0,03 fan icke ses, varför 1 tröskeln Àr över ll fÀrgenheter, det berÀknade vÀrdet för denna topp._ En svag röd topp vid O,8l,um kunde emellertid ses under goda observationsbetingelser, exempelvis med anvÀndning av en bakgrund av svart sammet och utan fÀrgade föremÄl i synfÀltet som reflekterades, varför tröskeln Àr under 13 fÀrg- enheter berÀknad för denna fÀrg. Av dessa undersökningar kan man sluta sig till att tröskeln för observation av reflekterad fÀrg Àr mellan ll och 13 fÀrgenheter pÄ denna skala, varför vÀrdet 12 enheter antagits representera tröskeln för obser- verbarhet av reflekterad fÀrg under betingelser vid iakt- tagelse i dagsljus.- Detta innebÀr att en fÀrgmÀttnad av mer Àn l2 enheter upptrÀder sÄsom en synlig fÀrgad irisering, under det att en fÀrgmÀttnad av mindre Àn 12 enheter före„ faller neutral.
Det kan antagas att ringa motstÄnd förefinnes mot kommersiell anvÀndning av produkter med fÀrgmÀttnadsvÀrden 13 eller lÀgre.
Det Àr emellertid i hög grad lÀmpligt att vÀrdet Àr 12 eller lÀgre, och sÄsom framgÄr utförligare av det följande synes det icke finnas nÄgot praktiskt skÀl varför de mest fördelaktiga produkterna enligt uppfinningen, exempelvis de som utmÀrkes av helt fÀrgfria ytor, dvs. under 8, icke skulle kunna till- verkas ekonomiskt. _ Ett vÀrde av 12 eller lÀgre visar en reflexion, som icke stör eller förvrÀnger fÀrgen hos en reflekterad bild pÄ ett iakt- tagbart sÀtt. Detta tröskelvÀrde 12 enheter antages utgöra en kvantitativ standard, med vilken man kan vÀrdera anvÀnd- barheten eller bristande anvÀndbarhet hos olika flerskikts- konstruktioner vad betrÀffar undertryckandet av iriserings- ,fÀrger.
BelÀggningar med en tjocklek av O,85;1m eller mer uppvisar fÀrgmÀttnadsvÀrden lÀgre Àn denna tröskel 12, sÄsom framgÄr av figur l. Försök som anges i exempel 15 bekrÀftar att dessa _.. ...__ ...___ -.-___ _ __... ... l?aio974-1 9 tjockare belÀggningar icke uppvisar störande iriseringsfÀrger vid dagsljusbelysning.
I det följande anges anvÀndning av ett enkelt skikt mellan glas och halvledare.
En utföringsform av uppfinningen innefattar anvÀndning av en enkel underbelÀggning för att undvika reflekterad fÀrgmÀttnad.
Detta krÀver anvÀndning av ett noggrant valt enkelt skikt med brytningsindex (ni), som ligger mellan brytningsindex för glas (ngl eller ca 1,52) och brytningsindex för halvledare (nh eller ca 2,0). Ett intermediÀrt brytningsindex som utgör det geometriska medelvÀrdet ni=(nhngl)l/2 eller ca 1,744 medför att reflexioner frÄn de bÄda ytorna av mellanskiktet har samma amplitud. Genom val av tjockleken av mellanskiktet till ca l/4 vÄglÀngder utslÀcker dessa bÄda reflekterade vÄgor varandra och bidrager icke till iriseringsfÀrgerna. Denna utslÀckning Àr exakt endast vid ett enda vÄglÀngdsvÀrde och vÄglÀngden mÄste vÀljas omsorgsfullt. En undersökning genom- fördes dÀrefter för att finna de vÀrden som minskar fÀrg- mÀttnadsindex för halvledarfilmer, i synnerhet inom tjockleks- intervallet 0,15 - O,4;1m, vilket Àr de halvledare som Àr av största intresse för vÀrmereflexion och uppvisar speciella problem vad betrÀffar irisering. Den optimala intermediÀra filmtjockleken för en underbelÀggning (dvs. en belÀggning mellan glas och halvledare) visade sig vara ca 0,072_pm (72 nm) vilket motsvarar l/4 vÄglÀngder för en (vakuum) vÄglÀngd av 500 nm. FÀrgmÀttnaden förblir under tröskelvÀrdet l2 enheter för halvledarfilmer med alla tjocklekar, sÄsom framgÄr av kurvan pÄ figur 1. De vanliga starka iriseringsfÀrgerna frÄn en vÀrmereflekterande film med en tjocklek av exempelvis O,3;¿m kan undertryckas Àven med denna enkla intermediÀra underbelÀggningsfilm.
KÀnsligheten hos detta enkla iriseringsmotverkande underbe- lÀggningsskikt för variationer ifrÄga om brytningsindex och tjocklek undersöktes. FörÀndringar av brytningsindex med ï0,02 och av tjockleken med 310 % Àr tillrÀckliga för att n1a1o914-1 10 höja fÀrgmÀttnaden till iakttagbara vÀrden. Noggrann regle- ring av dessa parametrar kan Ästadkommas med kÀnda glasbe- lÀggningsmetoder. I exempelvis den amerikanska patentskriften' 3.850.679 beskrives en anordning, som kan Ästadkomma belÀgg- I ning med en likformighet hos tjockleken av :Z %.
Dubbla mellanskikt ger Ànnu bÀttre resultat.
En effektiv produkt kan Àven framstÀllas med-anvÀndning av tvÄ skikt med intermediÀrt brytningsindex pÄ glaset under halv- ledarfilmen. För halvledarfilmer med tjocklek inom inter- vallet O}l - O,4_pm visade det sig möjligt att Ästadkomma en fÀrgmÀttnad av endast ca en enhet eller mindre. Detta 'intervall Àr mycket lÀgre Àn tröskelvÀrdet_för iakttagbarhet.
De bÄda intermediÀra brytningsindexvÀrdena (nl och nz) för en sÄdan konstruktion kan anges med o'74 eller ca l,63_ nl: O'74(n O'26 eller ca 1,86 n2=lnh) gl) Den optimala tjockleken Àr ca 1/4 vÄglÀngder för (vakuum) vÄglÀngden 500 nm eller ca dl=76,7 nm d2=67,2 nm Skiktet med lÀgre brytningsindex (nl) ligger nÀrmast glaset, under det att skiktet med högre index (n2) ligger nÀrmast halvledarfilmen.
Denna konstruktion med dubbla underskikt Àr Ànnu mer tolerant betrÀffande avvikelser ifrÄga om parametrarna frÄn de opti- mala vÀrdena Àn utföringsformen med enkel underbelÀggning.
Variationer av :25 % frĂ„n optimal tjocklek undertrycker fort- _farande iriseringsvĂ€rdena under den observerbara grĂ€nsen, dvs. under en fĂ€rgmĂ€ttnad av 10; Mycket effektiva konstruk- tioner kan sĂ„lunda-baseras pĂ„ brytningsindex inom intervallen i " lâĂ°s1dĂšl?l{ĂŻd1dldl' du 11 + + nl: ,nh)o,2e-o,o3 Âżngl)o,74-o,o3 + + nz: (mh) o,74-o,o3 (ngl)o,26-0.03 vilket motsvarar ett intervall för nl frĂ„n 1,62 till 1,65 och ett intervall för n2 frĂ„n 1,88 till 1,84. Graden av till- verkningsnoggrannhet som krĂ€ves för att upprĂ€tthĂ„lla belĂ€gg- ningstjocklekar med en tolerans av 125 % kan lĂ€tt uppnĂ„s med tidigare kĂ€nda metoder. Likaledes kan den noggrannhet som erfordras betrĂ€ffande brytningsindex lĂ€tt uppnĂ„s, Ă€ven om blandade material erfordras för att ge de erforderliga vĂ€rdena.
AnvÀndning av ett mellanskikt med gradvis varierande brytnings- index. I Det har Àven visat sig att en film mellan glassubstratet och ett halvledarskikt kan uppbyggas med gradvis varierande sam-- mansÀttning, exempelvis gradvis varierande frÄn en kiseldioxid- film till en tennoxidfilm. En sÄdan film kan bÀst ÄskÄdlig- göras sÄsom innefattande ett mycket stort antal mellanskikt.
AnvÀndbara material.
En stor mÀngd transparenta material kan anvÀndas för fram- stÀllning av produkter som uppfyller de i det föregÄende an- givna kriterierna genom att bilda ett eller fler iriserings- motverkande underbelÀggningsskikt. Olika slags metalloxider och -nitrider samt blandningar av sÄdana har de önskade optiska egenskaperna betrÀffande transparens och brytnings-_ index. I tabell A anges vissa blandningar, som har de kor- rekta brytningsindexvÀrdena för en enkelskiktsbelÀggning mellan glas och en film av tennoxid eller indiumoxid. De erforderliga viktprocentvÀrdena har erhÄllits frÄn uppmÀtta kurvor eller brytningsindex sÄsom funktion av sammansÀttning eller Àr berÀknade med den vanliga Lorentz-Lorenz lag för brytningsindex för blandningar (Z. Knittl, Optics of Thin Films, Wiley and Sons, New York, 1976, sid. 473) med anvÀnd- ning av uppmÀtta brytningsindexvÀrden för de rena filmerna. ?81097ls4-1- 12 Denna blandningslag ger allmÀnt tillrÀckligt noggranna inter- polationer för optiskt arbete, Àven om de berÀknade brytnings- indexvÀrdena i vissa fall Àr nÄgot lÀgre Àn de uppmÀtta vÀrdena. Filmernas brytningsindexvÀrden varierar Àven nÄgot med den belÀggningsmetod och de betingelser som anvÀndes.
En rutinmÀssig kontroll före framstÀllningen kan lÀtt genom- föras och om sÄ erfordras kan man justera sammansÀttningen till optimala vÀrden, om denna effekt verkligen erfordras.
Aluminiumoxidfilmer uppvisar exempelvis en viss varierbarhet ifrÄga om brytningsindex frÄn ca 1,64 till 1,75, beroende pÄ belÀggningsbetingelserna. I tabellerna A, B och C betecknar Al2O3-h filmer med högt brytningsindex (n=l,75), under det att Al2O3-1 betecknar lÄgt brytningsindex (n=l,64).V Filmer med medelhögt brytningsindex krÀver intermediÀra sammansÀtt- ningar för att ge de önskade brytningsindexvÀrdenaf Tabellerna B och C anger vissa blandningar, som har korrekta brytningsindexvÀrden (ca 1,63 resp. 1,86) för anvÀndning i ett dubbelskikt mellan ett glassubstrat och en primÀr halv- ledarbelÀggning. * ' Förutom dessa optiska egenskaper vÀljes lÀmpliga underbelÀgg- ningsskikt, sÄ att de Àr kemiskt bestÀndiga samt bestÀndiga mot luft, fukt, rengörande lösningar, etc. Ett sÄdant krav eliminerar i de flesta fall germaniumdioxidfilmer av den typ som lÀtt undergÄr hydrolys av vatten. Filmer framstÀllda med ca hÀlften GeO2 och hÀlften SnO2 synes vara olösliga och bestÀndiga mot angrepp av vatten.
Blandning Komponent A Viktprocent Komponent B Viktprocent l P* O \O G) \l O! U! Ă€n u) N F* F* F' N) P* LU P4 ïŹ> P' UI FJ O\ P4 ~J FJ G) Blandning Komponent A Viktprocent _Komponent B (rest) 1 P4 CD KO CD ~J Ch LH dĂ„ Lu BJ Dielektriska filmer med brytningsindex ca 1,73 - 1,77 Si3N4 Al203-h ZnO A1203-l MgO Sn02 SnO2 MgO In2O3 In2O3 MgO Ge02 GeO2 GeO2 Ga2O3 Ga2O3 MgO Ga2O3 Dielektriska filmer med brytningsindex ca 1,62 - 1,65- Si02 Al203-l Al2O3-l Al2O3-h ZnO MgO SnO2 In2O3 Ge02 Ga2O3 67 100 78 55 76 81 50 73 81 50 73 55 52 51 91 71 53 70 13 Tabell A. + |+ l+ l+ l+ |+ |+ l+ |+ l+ l+ |+ |+ I+ l+ l+ l+ 4 ll ll 12 10 20 10 SiO SiO ZnO ZnO SiO 2 2 2 Al2O3-1 Sn0 Si0 2 2 Al2O3-1 In2O ZnO SnO2 _In2O SiO2 A12O3-1 Gezo Ge02 Tabell B. + 53 - 4 100 97 74 59 79 62 63 100 71 l+ l+ |+ |+ |+ |+ l+ LO Lu LH d> LH U) _SiO Si3N SiO2 Si02 SiO2 2 2 2 SiO SiO SiO2 3 3 3 4 fza1o9v4-â17 i 33 22 45 24 19 50 21 19 so 27 45 48 _49 9 29 47 30 |+ |+ |+ |+ |+ |+ |+ |+ |+ |+ + l+ I+ I+ I+ l+ I+ 4 ll ll 12 10 20 10 7a1o974+1 14 Tabell C.
Dielektriska filmer med brytningsindex ca 1,86 ï 0,02 Blandning Komponent A Viktprocent Komponent B (rest) 1 s13N4 84 ï 3 sioz 2 zno 91 1 2 sioz 3 zno 76 i 5 A12o3-1 4 zno 59 i 9 A12o3-h s zno 68 i 7 MgÞ 6 snoz 91 i 2 s1o¿ 7 snoz ' 78 I 5 A12o3-1 8 snoz so I 8 A12o3-h 9 snoz 7o f 6 Mgo 1o 1n2o3 91 i 2 sioz '11 In2o3_ 78 ï 5 A12o3-1 12 1n2o3 861 3 8 A12o3-h 13 In2o3 ' 71 1 6 Mgo 14 - zno ' 75 ii? Geoz 15 snoz " 78 i 7 Geoz 16 In2o3 76 i 4 ceo2'. 17 Ga2o3 so i 14 zno 18 Ga2o3 79 i 14 dsnoz 19 Ga2o3 78 i 15 1n¿o3 Anm.: Al2O3-h = högtÀt aluminiumoxidfilm med n ca 1,75 Al2O3-l = lÄgtÀt aluminiumoxidfilm med n ca 1,64 'Förfarande för framstÀllning av filmer.
Samtliga dessa filmer kan framstÀllas genom samtidig vakuum- förÄngning av de lÀmpliga materialen i en lÀmplig blandning.
För belĂ€ggning av stora ytor, sĂ„som fönsterglas, Ă€r kemisk Ă„ngbelĂ€ggning (CVD) vid normalt atmosfĂ€rstryck enklare och mindre dyrbar. Kemisk Ă„ngbelĂ€ggning krĂ€ver emellertid lĂ€mp- liga flyktiga föreningar för bildning av varje material. De mest lĂ€mpliga kĂ€llorna för kemisk ĂąngbelĂ€ggning Ă€r gaser vid rumstemperatur. Kisel och germanium kan avsĂ€ttas genom , kemisk Ă„ngbelĂ€ggning frĂ„n sĂ„dana gaser som silan, SĂH4, di- metylsilan (CH3)2SiH2 och german (GeH4). VĂ€tskor som Ă€r tillrĂ€ckligt flyktiga vid rumstemperatur Ă€r nĂ€stan lika lĂ€mp- 7810974-1 15 liga som gaser. Tetrametyltenn Ă€r en sĂ„dan kĂ€lla för kemisk Ă„ngbelĂ€ggning av tennföreningar; under det att (C2H5)2SiH2 och SiCl4 Ă€r flyktiga vĂ€tskor, som Ă€r lĂ€mpliga kĂ€llor för kisel.
PÄ liknande sÀtt utgör trimetylaluminium och dimetylzink samt dessas högre alkylhomologer flyktiga kÀllor för dessa metaller.
Icke lika lÀmpliga men fortfarande anvÀndbara kÀllor för kemisk ÄngbelÀggning Àr fasta Àmnen eller vÀtskor, som Àr flyktiga vid temperaturer över rumstemperatur men under den temperatur vid vilken de reagerar och bildar belÀggnings- filmer. Exempel pÄ den sistnÀmnda kategorin Àr acetylaceto- nater av aluminium, gallium, indium och zink (Àven benÀmnda 2,4-pentandionater), aluminiumalkoxider, exempelvis aluminium- isopropoxid och aluminiumetylat, samt zinkpropionat. För magnesium finnes icke nÄgra lÀmpliga kÀnda föreningar som Àr flyktiga under belÀggningstemperaturen, varför kemisk Äng- belÀggning icke antages vara anvÀndbar för framstÀllning av magnesiumoxidfilmer. Z Z Typiska betingelser under vilka metalloxidfilmer med gott resultat framstÀllts genom kemisk ÄngbelÀggning anges i tabell D. Typiskt förefinnes organometallföreningsÄngan i en halt av ca l volymprocent i luft. De pÄ detta sÀtt fram- stÀllda filmerna visar god vidhÀftning till bÄde glassubstra- tet och dÀrefter pÄförda belÀggningsskikt av tennoxid eller indiumoxid.d Blandoxidskikt har framstÀllts mellan alla dessa metallpar med anvÀndning av kemiska ÄngbelÀggningsmetoder (med undantag för magnesium, för vilket en lÀmplig flyktig förening icke funnits tillgÀnglig). Brytningsindex för de blandade filmerna uppmÀtes lÀmpligen genom att man tager det synliga reflexionsspektrum sÄsom en funktion av vÄglÀngden.
LÀgena och höjderna av maxima och minima ifrÄga om reflekte- rad intensitet kan relateras till brytningsindex för den avsatta filmen. Koncentrationerna av reagerande Àmnen juste- ras dÀrefter sÄ att man erhÄller det önskade brytningsindex.
Med anvĂ€ndning av dessa metoder har ett flertal prover fram- stĂ€llts pĂ„ borsilikatglas (Pyrex) med anvĂ€ndning av (S102 - si3N4), (S102 - snoz), (Geoz - »sno2), (Al2o3 - snoz), _..- . ._ , _.. f ._ _., v-. . - ...__-__ .........-...r......._.. n" -m- f ... _ s.. .m-a-...M 1810974-15 16 ¶Al203 - Ga203) eller (Al203 - ZnO) sĂ„som blandade skikt under ett halvledarskikt med tjockleken 0,3AĂm.av Sn02.r Om bryt- ningsindex och tjockleksvĂ€rden justeras korrekt blir det reflekterade dagsljuset neutralt och fĂ€rglöst för ögat. fBe- lĂ€ggningarna Ă€r klara och transparenta samt fria frĂ„n synlig slöja (spritt ljus).
'Tabell 0.
Urval av flyktiga oxiderbara metallorganiska föreningar, som Ă€r lĂ€mpade för avsĂ€ttning av metalloxidskikt, samt blandade metalloxidskikt med oxiderande gaser, sĂ„som 02 eller N20 Förening FörĂ„ngnings- BelĂ€ggnings- _____f__ temoeratur (OC) temneratur (OC) -l SiH4 gas vid 20 300 - 500 2 (CH3)2SiH2 gas vid 20 .400 - 600 3 (C2H5)2siH2 20 400,- 600 4 GeH4 ' gas vid 20 ' 300 : 450 5 (cH3)3A1 _20 400 _- 650 6 A1(0c2H5)3 200 - 300 _ 400 - 650 -7 Al(0C3H7)3 200 - 220 _ _40O - 600 8 Al(C5H702)3 , ' 200 - 220 i 500 - 650 9 Ga(C5H502)3 200 - 220 350 - 650 10 In(C5H702)35 200 - 220 _ 300 - 600 ll (CH3)2Zn _- 20 100 - 600 12 Zn(C3H5O2)2 200 ~ 250 450 - 650 132 (CH3)4Sn 20 . 450 - 650 14 Ta(0c4H9)5 _ 150 2- 250 ' 400 -5600 15 Ti(OC3H7)4 100 - 150 400 - 600 16 zr(0c4H9)4 200 - 250 . 400 '- 600 17 Hf(0C4H9)4 200 - 250 400 - 600 Problem med grumling eller ljusspridnĂng (haze).
NĂ€r samma belĂ€ggnĂngar provades pĂ„ vanligt fönsterglas (soda-kalkglas eller mjukt glas) uppvisade mĂ„nga av de er- hĂ„llna-belĂ€ggningarna avsevĂ€rd grumling eller ljusspridning.
NÀr det skikt som först pÄföres nÄ mjukt glas Àr amorft och utgöres av Si02, Si3N4 eller Ge02 eller blandningar av dessa Iivà ñoà våƥiw 17 Àmnen Àr belÀggningen fri frÄn grumling oberoende av arten av efterföljande skikt. Al2O3 ger Àven klara belÀggningar, förutsatt att detta Àmne avsÀttes i amorf form, företrÀdesvis under en temperatur av ca 550°C. Om det första skiktet inne- hÄller stora mÀngder Ga2O3, ZnO, In2O3 eller SnO2 Àr grum- ling sannolik.
Det första iriseringsmotverkande skikt som avsÀttes pÄ en fönsterglasyta Àr företrÀdesvis amorf i stÀllet för kristal- lin. Kiseloxinitrid föredrages. DÀrefter pÄförda skikt kan vara polykristallina utan att orsaka nÄgon ljusspridning.
Natrium- och andra alkalijoner utövar en skadlig effekt pÄ infrarödreflexionen och elektriska ledningsförmÄgan hos tenn- oxid- och indiumoxidfilmer.
De i det föregĂ„ende angivna amorfa filmerna och i synnerhet kiseloxinitridfilmer Ă€r goda spĂ€rrskikt gentemot diffusion av natriumjoner frĂ„n glaset in i halvledarskiktet. Genom förĂ€ndring av förhĂ„llandet syre/kvĂ€ve i filmerna kan hela brytningsindexintervallet frĂ„n brytningsindex för glas med brytningsindex ca 1,5 till brytningsindex hos tennoxĂd eller aindiumoxid med ett vĂ€rde av ca 2 tĂ€ckas. Med samma utgĂ„ngs- reagenser kan sĂ„lunda iriseringsmotverkande strukturer med godtyckligt antal brytningsindexsteg framstĂ€llas. SĂ„lunda kan Ă€ven filmer med kontinuerligt varierande proportion av reaktionskomponenter framstĂ€llas. Endast lĂ€ttillgĂ€ngliga och prisbilliga material erfordras för framstĂ€llning av kiseloxi- nitrid.
Ett flertal flyktiga reagenser Àr tillgÀngliga för framstÀll- ning av kiseloxinitridfilmer. I tabell E anges vissa av de mer lÀmpliga flyktiga materialen för kemisk ùngavsÀttning av kiseloxinitrid. Reaktionen SiH4 + NO>+ NZH4 föredrages, eftersom denna reaktion synes ge högre avsÀttningshastigheter inom temperaturomrÄdet av intresse för fönsterglas, dvs. 500 - 600°C. Emellertid kan ett flertal andra kombinationer av reagenser Àven ge vÀrdefulla kiseloxinitridfilmer. 7810974-1 1s_ Tabell E.g KÀllmaterial för kemisk ÄngavsÀttning av kiseloxinitridfilmer .
KiselkĂ€llor: SiH4 (CH3)2SiH2 (CzĂŻfïŹzsiïŹz (CH3)4Si SiCl SiBr 4 4 SyrekĂ€llorĆĄ 02 H20 N20 KvĂ€vekĂ€llor: NZH4 CH3NHNH2 NH3 (CH3)2NNH2 HN3 KĂ€llor för bĂ„de syre och kvĂ€ve: NO NHZOH N2H4H2O Iriseringsfria strukturer baserade pĂ„ belĂ€ggningar anordnade med inbördes avstĂ„nd. ilnterferensfĂ€rger, dvs. irisering, kan minskas genom anvĂ€nd- ning av reflexioner frĂ„n tvĂ„ tunna belĂ€ggningar av.en funk- tionell oorganisk belĂ€ggning pĂ„ separata men parallella glas- ytor. Om belĂ€ggningstjocklekarna, exempelvis tjocklekarna av tennoxidbelĂ€ggningar, vĂ€ljes sĂ„ de skiljer sig med ca l/4 av en vĂ„glĂ€ngd (ca 0,07 /Lm för >/\=O,50/lm och n = 2,0), för- * svinner interferensfĂ€rgerna i praktiken. InterferensfĂ€rgerna Ă€r minskade till ett tillstĂ„nd dĂ€r fĂ€rgerna icke lĂ€ngre blir ett estetiskt problem för tillverkare och kund, Den additiva fĂ€rgningen av exempelvis en röd reflexion i en belĂ€ggning och en grön reflexion av en nĂ€rbelĂ€gen interferensordning i en andra belĂ€ggning kombineras till bildning av en praktiskt ?a1Ăł9ĆĄ4?Ă„ 19 taget vit (neutral) reflexion. PĂ„ liknande sĂ€tt Ă€r trans- missionen av ljus genom en sĂ„dan kombination av komplementĂ€ra belĂ€ggningar Ă€ven neutral i fĂ€rgen.
Denna fÀrgkompensation anvÀndes i dubbelglas för att minska styrkan av interferensfÀrgerna frÄn de vÀrmereflekterande halvledande belÀggningarna. Om exempelvis belÀggningar av SnO2 anvÀndes pÄ de tvÄ innerytorna av ett dubbelglasat fönster, kan de vÀljas sÄ att de uppvisar en tjockleksskillnad av 0,07,um. För utstrÀckta ljuskÀllor blir reflexionsfÀrgerna vÀl utslÀckta om glasytorna Àr nÄgot sÄ nÀr parallella. För smÄ ljuskÀllor eller ljuskÀllor med skarpa grÀnser blir kom- pensationen ifrÄga om reflexion icke fullstÀndig, om icke de belagda ytorna Àr i hög grad parallella. För observationer vid transmission Àr kraven pÄ parallella ytor icke till- nÀrmelsevis lika strÀnga.
Det bör Àven observeras att filmer,hos vilka interferens- fÀrgerna har minskats ifrÄga om intensitet med en underbe- lÀggning med intermediÀr eller gradvis varierande brytnings- index, Àven kan kombineras i par för att ge ytterligare fÀrg- kompensation.
Utföringsexempel pÄ uppfinningen.
I beskrivningen och bifogade ritningsfigurer visas och beskri- ves en föredragen utföringsform av uppfinningen samt anges olika alternativ och modifikationer av denna, men det Àr givet att dessa icke Àr avsedda att vara uttömmande och att andra förÀndringar och modifikationer kan Ästadkommas inom ramen för uppfinningen. Dessa utföringsformer Àr valda och införlivade för att ÄskÄdliggöra uppfinningen, sÄ att denna framgÄr för fackmannen liksom principerna för denna sÄ att fackmannen kan modifiera och tillÀmpa uppfinningen i en mÄng- fald former beroende pÄ vad som Àr bÀst lÀmpat vid betingel- serna i ett sÀrskilt fall. Ä PÄ figur l visas ett diagram, som ÄskÄdliggör variationen av den berÀknade fÀrgintensiteten för olika fÀrger med halv- 7810974-1 -20 lÚaarfilmens tjocklek.
Figur 2 visar schematiskt en sektion genom en icke-iriserande belagd glaskonstruktion enligt uppfinningen med ett enkelt_ iriseringsmotverkande mellanskikt.
Figur 3 visar schematiskt en sektion genom ett icke-iriserande belagt glas, som Àr utfört enligt uppfinningen med ett fler- tal iriseringsmotverkande mellanskikt. ' Figur 4 visar schematiskt och i sektion en dubbelglasad fönsterkonstruktion, som uppvisar vÀsentligt förbÀttrat ut- seende till följd av belÀggningar som uppbÀres av glaset och som minskar eller eliminerar störande irisering.
PĂ„ figur 2 visas en transparent skiva 20 innefattande ett glassubstrat 22, som uppbĂ€r en intermediĂ€r film 24 med tjock- leken 0,072;Âżm av Si3N4/SiO2 (eller nĂ„got annat material enligt tabell A) med brytningsindex 1,744. OvanpĂ„ filmen 24 finnes en belĂ€ggning 26 med tjockleken O,4;nn av en infraröd- reflekterande halvledare, tennoxid. I I I Figur 3 visar ett fönster 36 utfört med samma halvledarfilm 26 och samma glas 22 samt tvĂą mellanbelĂ€ggningar enligt följande: BelĂ€ggningen 30 som har tjockleken 0,077,um och brytningsindex ca 1,63. BelĂ€ggningen 32 med tjockleken ca 0,O67Ăum.och brytningsindex ca l,86. BelĂ€ggningen 30 Ă€r utförd av nĂ„got av de material som anges i tabell B. BelĂ€gg- ningen 32 Ă€r utförd av nĂ„got av de material som anges i tabell C.
Figur 4 visar en dubbelglasad fönsterkonstruktion 40 inne- fattande ett isolerande luftutrymme 42 mellan en inre trans- parent skiva 44 och en yttre transparent skiva 46. BÄda skivorna 44 och 46 Àr tillverkade av ett glas 45 med en halv- ledarbelÀggning 48a resp. 48b pù innerytan av.glaset.
HalvledarbelÀggningen 48a har tjockleken ca O,2,am men belÀgg- 781097lr~1 21 ningen 48b har tjockleken ca 0,27;nm. SÄlunda finnes en skillnad av ca 1/4 vÄglÀngder mellan de tvÄ belÀggningarna.
Exemgel 1.
Ett glas med ett enkelt iriseringsmotverkande underbelÀgg- ningsskikt framstÀlldes genom upphettning av en klar fönster- glasskiva med diametern 15 cm till ca 580°C. En gasblandning innehÄllande ca 0,4 % silan (SiH4), O,l % kvÀveoxid (NO), 2 % hydrazin (NZH4) och resten kvÀve (N2) fördes över glasytan under ca 1 minuts tid i en mÀngd av 1 liter/minut. HÀrigenom belades glasytan med en likformig, transparent film av kisel- oxinitrid. Ytan belades dÀrefter ytterligare med ett fluor- dopat tennoxidskikt genom att en gasblandning av 1 % tetra- metyltenn (CH3)4Sn, 3 % bromtrifluormetan CF3Br, 20 % syre 02 samt resten NZ fördes förbi kiseloxinitridytan vid 56000 under ca l minuts tid. DÀrefter fick det belagda glaset svalna lÄngsamt i luft till rumstemperatur under en tidrymd av ca l timme.
Det pÄ detta sÀtt belagda glaset uppvisade icke synliga inter- ferensfÀrger i reflekterat eller transmitterat dagsljus.
Ytan reflekterade ca 90 % av infrarödstrÄlningen vid vÀg- lÀngden hÞfun och genomslÀppte ca 90 % av det synliga ljuset.
Elektriska skiktresistansen uppmÀttes till ca 3 ohm/kvadrat.
För mÀtning av egenskaperna hos kiseloxinitridskiktet avlÀgs- nades tennoxidfilmen frÄn en del av den belagda ytan genom gnidning med en blandning av zinkstoft och utspÀdd saltsyra.
Detta etsmedel pÄverkar icke kiseloxinitridunderbelÀggningen.
Brytningsindex hos kiseloxinitridfilmen uppmÀttes till 1,74 med den CH2I2-vÀtskeprovning som beskrives i det följande.
Den synliga reflexionsförmĂ„gan hos kiseloxinitridfilmen upp- mĂ€ttes och man fann ett maximum vid SOOOĂ
samt en tjocklek av 0,072 pnlmotsvarande den önskade 1/4 vĂ„glĂ€ngdstjockleken för SOOOĂ
ljus.
Brytningsindex för dessa kiseloxinitridfilmer beror pÄ förhÄl- landet kvÀvezsyre i filmerna. Denna sammansÀttning kan lÀtt '7810974-1 22 justeras genom variering av förhÄllandet NZH4/NO i gasen.
En ökning av förhÄllandet N/0 ökar brytningsindex. Det exakta brytningsindexvÀrdet beror Àven pÄ renhetsgraden hos utgÄngs- materialen och i synnerhet pÄ mÀngden vatten som förefinnes sÄsom förorening i hydrazin. Kommersiell hydrazin innehÄller alltid Ätminstone nùgra fÄ procent vatten. Genom torkning av hydrazin genom destillation frÄn ett torkningsmedel, exempel- vis natriumhydroxid, kaliumhydroxid eller bariumoxid, kan man öka brytningsindex hos filmen. OmvÀnt kan man sÀnka brytningsindex genom tillsats av vatten till hydrazin. Filmens brytningsindex beror Àven pÄ de exakta betingelserna för film- tillvÀxten, dÀribland avsÀttningstemperaturen, gasflödet (mÀngd per tidsenhet), etc. De betingelser som angivits i_ det föregÄende kan dÀrför icke förvÀntas ge en film med brytningsindex exakt n = 1,74, om andra reagens eller avsÀtt- ningsbetingelser anvÀndes. SmÄ justeringar av sammansÀtt- ningen bör emellertid vara tillrÀckliga för att ge filmer med önskade brytningsindexvÀrden. I Halvledarfilmerna kan Àven uppvisa brytningsindexvÀrden, som skiljer sig frÄn det vÀrde 2,0 som uppmÀtts för de beskrivna tennoxidfilmerna. Motsvarande optimala vÀrde eller vÀrden för ett enkelt (eller dubbelt) underbelÀggningsskikt kan hÀrvid justeras med de samband som angivits i det föregÄende.
Motsvarande gasfassammansÀttningar som ger filmer med det önskade brytningsindex för iriseringsmotverkande underbe- lÀggningar kan dÀrefter faststÀllas med rutinförsök för attf passa de exakta betingelserna av varje tillverkare eller undersökare med fackmannakunskaper ifrÄga om kemisk Ängav- sÀttningsteknik.
Tjockleken av en film med uppmĂ€tt brytningsindex faststĂ€lles lĂ€tt genom uppmĂ€tning av reflexionsspektrum inom synligt och infrarött ljus. Detta spektrum kan lĂ€tt berĂ€knas sĂ„som funk- tion av filmtjockleken med anvĂ€ndning av optiska standard- formler enligt Fresnel och Airy. I de flesta av de praktiska konstruktioner som angivits i det föregĂ„ende önskar man Ă„stad- komma en film med tjockleken l/4 vĂ„glĂ€ngder för en vĂ„glĂ€ngd ve1o974-10 23 (i luft) av ca 5000Ă
. I detta fall uppvisar reflexionsspekt- rum för en enkel sĂ„dan film pĂ„ glas ett brett maximum centre- rat vid en vĂ„glĂ€ngd av SOOOĂ
.
Exemgel 2.
Aluminium-2,4-pentandionat, Al(C5H702)3 (Àven benÀmnt alumi- niumacetylacetonat) Àr ett vitt fast material som smÀlter via 1s9°c till an klar vÀtska, som kokar vid 315%. matta material infördes i en bubbelflaska upphettad till ca 250°C, genom vilken kvÀve fördes sÄsom bÀrargas. NÀr denna gas- blandning blandades med torrt syre vid 250°C erhölls icke nÄgon reaktion. NÀr emellertid fukt tillsattes till syret, erhölls intensiv vit rökbildning i gasblandningen. Denna rök tyder pÄ hydrolys. För att förhindra denna förtidiga hydrolysreaktion, mÄste gasströmmarna hÄllas sÄ torra som möjligt.
Blandningen av aluminium-2,4-pentandionatÄnga, kvÀvebÀrargas och 20 % syre fördes över upphettade glasytor. Vid 500°C erhölls en tunn belÀggning, tjocklek mindre Àn 0,1,um, som kunde iakttagas endast genom ökad reflexionsförmÄga. Vid 525°C erhölls en filmtjocklek av 0,3 ;nn inom cag3 minuters tid. Denna film uppvisade svaga interferensfÀrger under vitt ljus och tydliga interferensband under monokromatisk belys- ning. Vid 550°C tillvÀxte aluminiumoxidfilmen Ànnu hastigare och en ringa mÀngd pulver bildades genom homogen kÀrnbildning samt avsattes pÄ apparatens ytor.
DÀrefter fick fluordopad tennoxidfilm vÀxa ovanpÄ aluminium- oxidfilmerna vid temperaturer inom omrÄdet 500 - 54000, Tjocklekar inom omrÄdet 0,3 - 0,5 pm undersöktes omsorgsfullt, eftersom dessa tjockleksvÀrden visade de starkaste inter- ferensfÀrgerna. Intensiteten av fÀrgerna blev vÀsentligt minskad vid jÀmförelse med tennoxidfilmer av samma tjocklek utan aluminiumoxidunderbelÀggningen.
Filmer hos vilka aluminiumoxidfĂlmen hade tjockleken l/4 vĂ„g- lĂ€ngd (vĂ„glĂ€ngd 500 nm,.vilket Ă€r nĂ€ra toppvĂ€rdet för spektral 7810974-1 24 kĂ€nslighet hos ögat för dagsljusbelysning) uppvisar den störs- ta minskningen av iriseringsfĂ€rg. För dessa tjockleksvĂ€rden Ica 0,072,pm för l/4 vĂ„glĂ€ngd) utslĂ€cker reflexionerna frĂ„n 7 glas-A1 03- och Al2O3-SnO2-grĂ€nsytorna varandra effektivast. 2 Emellertid erhĂ„lles Ă€ven en avsevĂ€rd minskning av fĂ€rginten- siteten, Ă€ven nĂ€r tjockleken av Al203 icke Ă€r optimal.
SÄsom glassubstrat anvÀndes bÄde borsilikatglas av typ Pyrex och soda-kalkglas (fönsterglas). Goda resultat erhölls pÄ bÄda dessa substrat.
Aluminiumoxidskiktet var Àven verksamt för att förhindra ytlig devitrifikation av soda-kalkglasytan nÀr tennoxid pù- fördes 500 - 54000. Aluminiumoxiden antages skydda soda- -kalkglasytan mot kristallisering runt de kÀrnor som Ästad- kommes av tennoxidkristallerna och bidrager hÀrigenom till att förhindra att glaset blir ljusspridande vid belÀggningspro- CGSSGII.
Exempel 3. _ '_ , Ett dubbelglasat fönster Àr utfört av klart glas av soda-kalk- typen. Glaset Àr behandlat med en belÀggning av kiseldioxid- typ för eliminering av ljusspridning med den konventionella metod som anges i den amerikanska patentskriften 2.617.745.
Konstruktionen av det dubbelglasade fönstret överensstÀmmer med de som visas pÄ figur 4. Innerytan A uppbÀr en belÀgg- ning av tennoxid med tjockleken 0,26_um. Innerytan B uppbÀr en belÀggning av en tennoxidkomposition med tjockleken 0,33 i 0,02 pm. Vardera av dessa belÀggningar uppvisar, betraktade var för sig, en vÀl synlig, starkt fÀrgad irise- ringsfÀrg, som var dominant röd eller grön för de flesta iakttagare. Vid sammanföring vÀsentligen parallella med varandra sÄsom i den pÄ figur 4 visade konstruktionen blev iriseringsfÀrgen i hög grad dold bÄde vid betraktande frÄn den sida av dubbelglaskonstruktionen som Àr vÀnd mot solen och frÄn den andra sidan av samma konstruktion.
I vaïŹwfzrf) 25 Exempel 4.
Försök genomfördes för framstÀllning av skikt med gradvis varierande brytningsindex mellan brytningsindex för glas (n = ca l,5) och tennoxidbelÀggningar (n = ca 2,0). Ett gradvis varierande skikt av SixSnl_xO2 anvÀndes, i Vilket "x" gradvis minskade frÄn l till noll nÀr skiktet uppbyggdes pÄ glasytan. Sn02-skiktet hade en tjocklek av ca O,3;an och det underliggande gradvis varierande omrùdet hade en tjocklek av ca 0,3/um De erhÄllna konstruktionerna uppvisade markant minskad interferensfÀrg jÀmfört med skikt av Sn02 av samma tjocklek men utan det gradvis varierande mellanskiktsomrÄdet mellan glaset och Sn02.
De flyktiga kÀllorna för kisel Àr, i det ena fallet, SiH4 (frÄn en 1%-ig blandning i N2 sÄsom bÀrargas) och i det andra fallet (CH3)2SiH2 (frÄn en cylinder med ren gas). Av- sÀttningen genomfördes vid en yttemperatur av 48000. Gas- koncentrationerna var frÄn början ca 0,4 % silan (eller alkylsubstituerad silan), lO % syre samt resten kvÀve. DÀr- efter infördes gradvis tetrametyltenn (CH3)4Sn upp till en koncentration av l % under en tidrymd av ca 3 minuter, under det att silankoncentrationen gradvis minskades till noll inom samma tidrymd. DÀrefter avstÀngdes bÀrargasen för tetra- metyltenn och anordningen renspolades under ca 5 minuters tid med luft för avlÀgsnande av de sista spÄren av silan. DÀr- efter fördes en gasström av 1 % (CH3)4Sn, 3 % CF3Br, 20 % 02 samt resten kvÀve under ytan under 3 minuters tid för avsÀtt- ning av ett skikt av fluordopad tennoxid med tjockleken ca O,4,um.
InterferensfÀrgerna var vÀsentligt mindre livliga pÄ dessa belÀggningar med underbelÀggning med gradvis varierande brytningsindex.
Exempel 5.
En likartad process genomföras med anvÀndning av GeH4 i stÀllet för SiH4. Det gradvis varierande skiktet utgöres av GeXSnl_xO2, varvid "x" gradvis minskar frÄn ett till noll nÀr 781097lr-1 26 skiktet uppbygges pÄ glaset. Eftersom brytningsindex för ren GeO2 Àr ca 1,65 har det gradvis varierande skiktet fortfarande en brytningsindex-diskontinuitet frÄn glasets brytningsindex (ca 1,5). Likformigheten hos belÀggningen var emellertid nÄgot bÀttre Àn den som erhölls med SiH4. Minskning av iri- seringens synlighet faststÀlldes i en grad likartad med det som erhölls enligt exempel 4.
Exempel 6 - 9.
Exempel l upprepades med anvÀndning sÄsom mellanskikt mellan glas och tennoxid av följande material valda frÄn tabell A: Exempel 6: sz % 1n2o3/18 % sioz Exempel 7: 58 % GeO2/42 % ZnO Exempel 8: 70 Ga2O3/30 %'Al2O3-l Exempel 9: 60 Al2O3-l/40 % ZnO' w w' LÄg irisering erhölls i samtliga dessa fall.
Exempel 10 - 14.
Följande material, som samtliga Àr valda frÄn tabellerna B och C, anvÀndes sÄsom tvÄ mellanskikt sÄsom ersÀttning för de enkla mellanskikt som anges i exempel l och 6 - 9: n ca 1,63 _ n ca 1,86 Exempel io; 97 % A12o3-1/3 % sioz à 4e%esi3N4/16 % sioz Exempel ll: 60 ZnO/40 % SiO2 90 % ZnO/10 % SiO2 % % dP o\° Exempel 12: 63 In203/37 % SiO2 60 SnO2/40 % Al203-h Exempel 13: 70 Ga2O3/29 % Si02 76 SnO/24 % GeO2 Exempel 14: 62 snoz/ss % sioz 61 % In2o3/39 % A12o3-h 6069 Exempel 15.
En tennoxidbelĂ€ggning anbringas pĂ„ ett glassubstrat med olika _tjockleksvĂ€rdenJ (Glassubstratet belĂ€gges först med en ultra- tunn film av kiseloxinitrid för att ge en amorf, ljussprid- nĂngsinhiberande yta). d 27 Tennoxidens tjocklek Iriseringens synlighet 0,3 stark 0,6 distinkt men svagare 0,9 knappt synlig med undantag av i fluorescensljus 1,3 svag Ă€ven i fluorescensljus De sistnĂ€mnda tvĂ„ materialen Ă€r icke estetiskt störande vid anvĂ€ndning för byggnadsĂ€ndamĂ„l.
I det följande anges ett förfarande för att bestÀmma belÀgg- ningens kvalitet.
En enkel metod för att hastigt kontrollera brytningsindex hos tunna filmer har utvecklats för att man skall kunna finna avsÀttningsbetingelserna för filmer med önskat brytningsindex.
Man kan exempelvis antaga att en film med brytningsindex n = 1,74 önskas för ett underbelÀggningsskikt. En vÀtska med detta brytningsindex vÀljes.
En film vars tjocklek Ă€r ca 0,2 - Det belagda glaset observeras Exempelvis dijodmetan, n = 1,74, kan anvĂ€ndas. 2 pm avsĂ€ttes pĂ„ en glasyta. med reflekterat ljus frĂ„n en monokromatisk ljuskĂ€lla, exempel- Det belagda glaset visar ett interferensmönster med mörka och ljusa band, vis en filtrerad kvicksilverlampa vid Ă
==5461Ă
. om tjockleken hos filmen varierar över glasytan. En droppe av vÀtskan med kÀnt brytningsindex anbringas pÄ filmen. Om brytningsindex hos filmen exakt överensstÀmmer med index hos vÀtskan, försvinner interferensmönstret under droppen.
Om brytningsindex hos film och droppe icke överensstÀmmer exakt, Àr interferensmönstret fortfarande synligt under drop- Om detta svaga interferens- mönster under droppen utgör en direkt fortsÀttning av band- pen men med svagare intensitet. mönstret pÄ resten av filmen, Àr brytningsindex hos filmen högre Àn hos referensvÀtskan. Om Ä andra sidan bandmönstret under droppen Àr omkastat (ljusa och mörka omrÄden omkastade) jÀmfört med det mönster som förefinnes utanför vÀtskedroppen, Àr brytningsindex hos filmen lÀgre Àn hos referensvÀtskan. va1osv4-1 28 Med anvÀndning av denna enkla men noggranna mÀtning av filmens brytningsindex kan betingelserna för framstÀllning av en film lÀtt justeras med en serie försök för att överensstÀmma med det önskade vÀrdet. Genom att vÀlja andra referensvÀtskor kan man justera filmerna till olika andra vÀrden. Brytnings- index n = 1,63, som anvÀndes i en underbelÀggning av tvÄ skikt, kan instÀllas med anvÀndning av l,l,2,2-tetrabrometan sÄsom referensvÀtska. Brytningsindex n = 1,86 för det andra skiktet i en tvÄskiktsunderbelÀggning kan justeras till en lösning av svavel och fosfor i dijodmetan, sÄsom beskrives av West i American Mineral, volym Zl, sid. 245 (1936). Av det ovanstÄende Àr det Àven uppenbart för fackmannen att denna allmÀnna metod kan anvÀndas för kvalitetskontroll vid till- verkningen. VÀtskor med kÀnda brytningsindex föres Àven i handeln av Cargille Laboratories, New Jersev, A.f.s.
Det Àr uppenbart att förfarandet enligt uppfinningen gör det möjligt att förbÀttra vÀrmebesparingen i byggnader med vÀsent- liga glasvtor samt att Àven tillÀmpa elektrisk upphettning av fönster, exempelvis i automobiler och flygplan, med anvÀndning av motstÄndsegenskaperna hos belÀggningar enligt uppfinningen.
Dessa belÀggningar uppvisar vanligen ohmiskt motstÄnd, van- ligen av halvledartyp.
Claims (17)
1. FöremÄl innefattande minst en transparent glasskiva, som Àr försedd med en första oorganisk belÀggning av ett infrarödreflekterande material, som utgöres av en transparent halvledare med benÀgenhet att uppvisa iriserande fÀrger vid dagsljusbelysning, k À n n e t e c k n a t dÀrav, att en andra belÀggning Àr anbringad mellan glasskivan och den första belÀggningen, varvid denna andra belÀggning verkar sÄsom ett medel för att vÀsentligt minska iriseringsfÀrgerna hos den första belÀggningen genom att bilda minst tvÄ grÀns- ytor, vilka, tillsammans med massan av den andra belÀggningen, reflekterar och bryter ljus pÄ sÄdant sÀtt, att synligheten av iriseringsfÀrgerna vid dagsljusbelysning vÀsentligen minskas, varvid den andra belÀggningen har ett brytningsindex, som i huvudsak utgör kvadratroten av produkten av brytningsindex för glaset och den första belÀggningen, varvid den andra belÀggningen har en tjocklek av ca 1/4 av vÄglÀngden av ljus med en vakuumvÄglÀngd av ca 500 nm, eller den andra belÀggningen har ett sammansatt brytnings- index, som uppgÄr till i huvudsak kvadratroten av produkten av brytningsindex för glaset och den första belÀggningen, varvid den andra belÀggningen innefattar tvÄ skikt, vilka vart och ett har en tjocklek av ca 1/4 av vÄglÀngden av ljus med en vakuumvÄglÀngd av ca 500 nm, eller den andra belÀggningen uppvisar en brytningsindex- gradient, som gradvis varierar mellan glaset och det infra- rödreflekterande materialet frÄn ett brytningsindex nÀra brytningsindexet för glaset till ett brytningsindex nÀra brytningsindexet för det infrarödreflekterande materialet.
2. FöremÄl enligt patentkravet l, k À n n e t e c k n a t dÀrav, att det första skiktet av halvledarmaterial har en tjocklek understigande 0,4 ,um.
3. FöremÄl enligt patentkravet=l eller 2, k À n n e - t e c k n a t dÀrav, att föremÄlet endast innefattar glas- 1a1osv4-1 'so skivor av klart glas eller glas med ljus fÀrgton och Àr fritt frÄn metallglans, bronsglans, grÄton och andra mörka toner med förmÄga att undertrycka synligheten av irisering och före- trÀdesvis sÀnka föremÄlets transmittans till mindre Àn ca 25 %.
4. FöremĂ„l enligt nĂ„got av patentkraven 1-3, k Ă€ n n e - t e c k n a t dĂ€rav, att den första och den andra belĂ€gg- ningen tillsammans eller alla oorganiska belĂ€ggningar pĂ„ ' föremĂ„let har en tjocklek av frĂ„n 0,1 till ljïŹn.
5. FöremÄl enligt nÄgot av föregÄende patentkrav, k À n - n e t e c k n a t dÀrav, att det uppvisar ett fÀrgmÀttnads- vÀrde understigande 5, företrÀdesvis understigande 8 och i synnerhet understigande 13. I
6. FöremÄl enligt nÄgot av föregÄende patentkrav, k À n - n e t e c k n a t dÀrav, att den första belÀggningen utgöres av stannioxid.
7. FöremÄl enligt nÄgot av föregÄende patentkrav, k À n j n e t e c k n a t dÀrav, att den andra belÀggningen utgöres av ett amcrft material och bildar medel för undvikande av slöjbildning pÄ glaset under pÄföringen av den första belÀgg- ningen. '
8. FöremÄl enligt nÄgot av föregÄende patentkrav, k À n - n e t e c k n a t dÀrav, att den andra belÀggningen har ett brytningsindexvÀrde av frÄn ca 1,7 till 1,8 och har en tjock- lek av ca 64 till 80 nm, varvid den första belÀggningen har ett brytningsindexvÀrde av ca 2 samt glaset har ett brytnings- indexvÀrde av ca 1,5.
9. FöremĂ„l enligt nĂ„got av föregĂ„ende patentkrav, k Ă€ n - n e t e c k n a t dĂ€rav, att den andra belĂ€ggningen huvud- sakligen utgöres av metalloxid, i synnerhet aluminiumoxid, metallnitrid eller en blandning dĂ€rav, i synnerbĂt bland- ningarna 1-18 enligt tabell A i beskrivningen. 76 '1 09-71: -.- 1 '31
10. FöremÄl enligt nÄgot av föregÄende patentkrav, k À n - n e t e c k n a t dÀrav, att den amorfa filmen utgöres av kiseloxinitrid.
11. ll. FöremÄl enligt nÄgot av patentkraven 1-9, k À n n e - t e c k n a t dÀrav, att den andra belÀggningen innefattar tvù skikt innefattande (a) ett första skikt nÀrmare glaset med en sammansÀttning enligt tabell B i beskrivningen och (b) ett andra skikt nÀrmare den första belÀggningen med en sammansÀttning enligt tabell C i beskrivningen.
12. FöremÄl enligt nÄgot av föregÄende patentkrav, k À n - n e t e c k n a t dÀrav, att den andra belÀggningen inne- fattar tvù skikt, varav (a) ett skikt nÀrmare glaset med ett brytningsindex, som huvudsakligen bestÀmmes av formeln na=nsc gl och (b) ett andra skikt nÀrmare den första belÀggningen med ett brytningsindex i huvudsak enligt formeln O,74n 0,26 nb=n gl SC vari nsc Àr brytningsindex för den första belÀggningen och ngl Àr brytningsindex för glaset.
13. FöremÄl enligt patentkravet 12, k À n n e t e c k n a t dÀrav, att den andra belÀggningen innefattar tvù skikt, vilka innefattar (a) ett första skikt nÀrmare glaset med ett brytningsindex av ca 1,6-1,7, (b) ett andra skikt nÀrmare den första belÀggningen med ett brytningsindex av ca 1,8-1,9, varvid den första belÀggningen har ett brytningsindex av ca 2 samt glaset har ett brytningsindex av ca 1,5.
14. FöremÄl enligt nÄgot av föregÄende patentkrav, k À n - 7810974-1 'Äl n'e t e c k n a t dÀrav, att den andra belÀggningen inne- fattar kiseloxinitridblandning med formeln XSi02(l-X)Si3N4 eller blandningar av SixSn1_xO2 eller GexSnl_x02, varvid x varierar frÄn nÀra ett vid glasytan till noll eller nÀra noll vid grÀnsytan till den första belÀggningen.
15. FöremÄl enligt nÄgot av föregÄende patentkrav, k À n - n e t e c k n a t dÀrav, att gradienten Àndras stegvis med ett flertal delskikt med stegvis olika brytningsindex.
16. Förfarande för framstÀllning av ett föremÄl innefat- tande minst en transparent glasskiva, som Àr försedd med en första oorganisk belÀggning av ett infrarödreflekterande material, som utgöres av en transparent halvledare med benÀgenhet att uppvisa iriserande fÀrger vid dagsljusbelys- ning enligt nÄgot av föregÄende patentkrav med i en andra belÀggning, som Àr anbringad mellan glas- skivan och den första belÀggningen, varvid denna andra be- lÀggning verkar sÄsom ett medel för_att vÀsentligt minska iriseringsfÀrgerna hos den första belÀggningen genom att bilda minst tvÄ grÀnsytor, vilka, tillsammans med massan av den andra belÀggningen, reflekterar och bryter ljus pÄ sÄdant sÀtt,-att synligheten av iriseringsfÀrgerna vid dagsljus- belysning vÀsentligen minskas, k À n n e t e c k n a t dÀrav, att man pÄför en andra belÀggning, som har ett brytningsindex, som i huvudsak utgör kvadrat- roten av produkten av brytningsindex för glaset och den första belÀggningen, varvid den andra belÀggningen har en tjocklek av ca l/4 av vÄglÀngden av ljus med en vakuumvÄg- lÀngd av ca 500 nm, eller I har ett sammansatt brytningsindex, som uppgÄr till i huvudsak kvadratroten av produkten av brytningsindex för glaset och den första belÀggningen, varvid den andra belÀgg- ningen innefattar tvÄ skikt, vilka vart och ett har en tjock- lek av ca l/4 av vÄglÀngden av ljus med en vakuumvÄglÀngd av ca 500 nm, eller I uppvisar en brytningsindexgradient, som gradvis varierar mellan glaset och det infrarödreflekterande mate- 781097k-1 '53 rialet frÄn ett brytningsindex nÄra brytningsindexet för glaset till ett brytningsindex nÀra brytningsindexet för det infrarödreflekterande materialet före pùförandet av den första oorganiska belÀggningen.
17. l7. AnvÀndning av ett föremÄl innefattande minst en trans- parent glasskiva, som Àr försedd med en första oorganisk belÀggning av ett infrarödreflekterande material, Som ut- göres av en transparent halvledare med benÀgenhet att uppvisa iriserande fÀrger vid dagsljusbelysning, vilket k À n n e - t e c k n a s av att en andra belÀggning Àr anbringad mellan glasskivan och den första belÀggningen, varvid denna andra belÀggning verkar sÄsom ett medel för att vÀsentligt minska iriseringsfÀrgerna hos den första belÀggningen genom att bilda minst tvÄ grÀns- ytor, vilka, tillsammans med massan av den andra belÀggningen, reflekterar och bryter ljus pÄ sÄdant sÀtt, att synligheten av iriseringsfÀrgerna vid dagsljusbelysning vÀsentligen minskas, varvid i i den andra belÀggningen har ett brytningsindex, som i huvudsak utgör kvadratroten av produkten av brytningsindex för glaset och den första belÀggningen, varvid den andra belÀggningen har en tjocklek av ca l/4 av vÄglÀngden av ljus med en vakuumvÄglÀngd av ca 500 nm, eller den andra belÀggningen har ett sammansatt brytnings- index, som uppgÄr till i huvudsak kvadratroten av produkten av brytningsindex för glaset och den första belÀggningen, varvid den andra belÀggningen innefattar tvù skikt, vilka vart och ett har en tjocklek av ca 1/4 av vÄglÀngden av ljus med en vakuumvÄglÀngd av ca 500 nm, eller den andra belÀggningen uppvisar en brytningsindex- gradient, som gradvis varierar mellan glaset och det infra- rödreflekterande materialet frÄn ett brytningsindex nÀra brytningsindexet för glaset till ett brytningsindex nÀra brytningsindexet för det infrarödreflekterande materialet för att Ästadkomma ett iriseringsfritt utseende hos glasytor i en byggnad och motverka förlust av vÀrme frÄn byggnaden genom dessa glasytor genom Äterreflexion av infraröd strÄl- 78109744 3% ning in i byggnaden frÄn den tunna belÀggningen av den infra- rödreflekterande halvledarfilmen pÄ ytan av glaset och/eller för elektrisk upphettning av dessa glasytor genom att man pùlÀgger en spÀnning över den tunna belÀggningen av halv- ledare.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SE7810974A SE434634B (sv) | 1978-10-20 | 1978-10-20 | Foremal innefattande minst en transparent, icke-iriserande glasskiva, forfarande for dess framstellning samt anvendning av detsamma i en byggnad |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SE7810974A SE434634B (sv) | 1978-10-20 | 1978-10-20 | Foremal innefattande minst en transparent, icke-iriserande glasskiva, forfarande for dess framstellning samt anvendning av detsamma i en byggnad |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SE7810974L SE7810974L (sv) | 1980-06-23 |
SE434634B true SE434634B (sv) | 1984-08-06 |
Family
ID=20336153
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SE7810974A SE434634B (sv) | 1978-10-20 | 1978-10-20 | Foremal innefattande minst en transparent, icke-iriserande glasskiva, forfarande for dess framstellning samt anvendning av detsamma i en byggnad |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SE (1) | SE434634B (sv) |
-
1978
- 1978-10-20 SE SE7810974A patent/SE434634B/sv not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
SE7810974L (sv) | 1980-06-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4187336A (en) | Non-iridescent glass structures | |
US4308316A (en) | Non-iridescent glass structures | |
US4206252A (en) | Deposition method for coating glass and the like | |
US4419386A (en) | Non-iridescent glass structures | |
US4377613A (en) | Non-iridescent glass structures | |
US4440822A (en) | Non-iridescent glass structures | |
GB2031756A (en) | Non-iridescent glass structures and processes for their production | |
US4971843A (en) | Non-iridescent infrared-reflecting coated glass | |
RU2120919C1 (ru) | ĐĄĐżĐŸŃĐŸĐ± ĐżĐŸĐ»ŃŃĐ”ĐœĐžŃ Đ·Đ”ŃĐșĐ°Đ» Đž Đ·Đ”ŃĐșĐ°Đ»ĐŸ | |
SE445449B (sv) | Forfarande och anordning for kontinuerlig beleggning av ett transparent substrat av glas eller liknande samt genom forfarandet erhallen transparent glasprodukt | |
RU2309917C2 (ru) | ĐзЎДлОД Оз ŃŃĐ”Đșла Ń ĐŸŃŃажаŃŃĐžĐŒ ŃĐŸĐ»ĐœŃДзаŃĐžŃĐœŃĐŒ ĐżĐŸĐșŃŃŃĐžĐ”ĐŒ | |
EP0353461B1 (en) | Chemical vapor deposition of bismuth oxide | |
GB2136316A (en) | Coated Glazing Materials | |
JPS6339535B2 (sv) | ||
CA1264996A (en) | Non-iridescent infrared-reflecting coated glass | |
US4294193A (en) | Apparatus for vapor coating a moving glass substrate | |
SE434634B (sv) | Foremal innefattande minst en transparent, icke-iriserande glasskiva, forfarande for dess framstellning samt anvendning av detsamma i en byggnad | |
CA1132012A (en) | Non-iridescent glass structures | |
FI72613C (sv) | Icke-iriserande glasstrukturer, förfarande för framstÀllning av dessa och anvÀndning av dessa. | |
NO144139B (no) | Anordning dannet av minst en gjennomsiktig glassplate med et uorganisk belegg av et materiale som reflekterer infraroed straaling | |
DK154896B (da) | Struktur dannet af mindst en transparent glasplade med en uorganisk belaegning, som reflekterer infraroed straaling | |
IE47982B1 (en) | Non-iridescent glass structures and processes for their production | |
SE440644B (sv) | Forfarande for framstellning av ett icke-iriserande, transparent foremal samt enligt forfarandet framstellt foremal | |
CA1147139A (en) | Deposition method | |
CH640205A5 (en) | Noniridescent coated glasses |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
NAL | Patent in force |
Ref document number: 7810974-1 Format of ref document f/p: F |
|
NUG | Patent has lapsed |
Ref document number: 7810974-1 Format of ref document f/p: F |