RU2635132C1 - Полировальная суспензия для сапфировых подложек - Google Patents

Полировальная суспензия для сапфировых подложек Download PDF

Info

Publication number
RU2635132C1
RU2635132C1 RU2017105610A RU2017105610A RU2635132C1 RU 2635132 C1 RU2635132 C1 RU 2635132C1 RU 2017105610 A RU2017105610 A RU 2017105610A RU 2017105610 A RU2017105610 A RU 2017105610A RU 2635132 C1 RU2635132 C1 RU 2635132C1
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
suspension
polishing
sapphire substrates
removal rate
particle size
Prior art date
Application number
RU2017105610A
Other languages
English (en)
Inventor
Александр Сергеевич Максютин
Николай Александрович Зотов
Original Assignee
Общество с ограниченной ответственностью "Научно-технический центр "Компас" (ООО "НТЦ "Компас")
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Общество с ограниченной ответственностью "Научно-технический центр "Компас" (ООО "НТЦ "Компас") filed Critical Общество с ограниченной ответственностью "Научно-технический центр "Компас" (ООО "НТЦ "Компас")
Priority to RU2017105610A priority Critical patent/RU2635132C1/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2635132C1 publication Critical patent/RU2635132C1/ru

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09GPOLISHING COMPOSITIONS; SKI WAXES
    • C09G1/00Polishing compositions
    • C09G1/02Polishing compositions containing abrasives or grinding agents

Landscapes

  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Abstract

Изобретение относится к водным суспензиям для полирования сапфировых подложек. Полирующая суспензия содержит, мас. %: стабилизированный оксидом натрия коллоидный кремнезем с размером частиц 75-80 нм в пересчете на оксид кремния - 39-40; хлористый натрий - 1,2-1,4; кальцинированную соду - 1,6-1,8 и воду - до 100. Изобретение обеспечивает повышенное время использования полирующей суспензии, высокую скорость съёма и низкую шероховатость поверхности. 1 табл.

Description

Изобретение относится к полировальным суспензиям и может быть использовано в оптической, светодиодной и электронной промышленности для полирования поверхности сапфировых подложек.
Химико-механическая полировка сапфировых подложек для обеспечения плоскостности и ультрагладкой поверхности производится с использованием коллоидных суспензий на основе диоксида кремния (кремнезема).
Известна суспензия для полирования сапфировых подложек, состоящая из двух видов абразивных материалов (US 8721917, B24B 1/00 B24B 7/20, C09K 3/14, 2014). Первый тип абразивного материала с твердостью выше твердости полируемой поверхности - карбид кремния, второй абразивный материал с твердостью меньше твердости полируемой поверхности - диоксид кремния.
Недостатком этой полировальной суспензии является наличие абразивного материала с твердостью, превышающей твердость сапфира, который оставляет царапины и делает невозможным получение необходимой шероховатости сапфировых подложек.
Известна суспензия для полирования сапфировых подложек, состоящая из двух видов абразивных материалов с общим содержанием твердых веществ - 30-40 мас. % (CN 104356950, C09G 1/02, 2015). Суспензия содержит 20-30 мас. % коллоидной двуокиси кремния с размером частиц 80-100 нм и 10-20 мас. % окиси алюминия с размером частиц 80-200 нм. Скорость съема составляет 8-9 мкм/час.
Недостатком суспензии является невысокое качество полируемой поверхности, она может использоваться только на стадии предварительного полирования.
Известна суспензия для полирования сапфировых подложек, которая кроме кремнезоля с размером частиц 60 нм, дополнительно содержит абразив из группы: Fe2O3, Fe3O4, MgO, BaCO3, CaCO3, MnO2, GeO, Cr2O3 и т.д. с размерами частиц от 0,5 до 5 мкм (CA 2039998, B24B 37/00, C09G 1/02, 1992).
Недостатком этой полировальной суспензии является грубая полировка сапфировой подложки и ее загрязнение примесями других металлов, что требует дополнительной очистки поверхности сапфировой подложки.
Известна суспензия для полирования сапфировых подложек, состоящая из частиц кремнезоля разного размера (US 20150053642, C09G 1/02, 2015). Первая группа частиц имеет размеры от 2 до 25 нм, вторая группа частиц - от 75 до 200 нм. pH суспензии находится в пределах 9,3-10,9.
Недостатком этой суспензии является невысокая скорость съема от 1 до 2 мкм/час.
Аналогична суспензия для полирования сапфировых подложек, также состоящая из двух групп частиц диоксида кремния (CN 103897605, C09G 1/02, 2014). Первая группа с размером частиц от 20 до 40 нм, вторая с размером частиц 60-100 нм.
Недостатком такой суспензии является невысокая скорость съема.
Известна суспензия, состоящая из коллоидных частиц кремнезоля с размером частиц от 10 до 100 нм и концентрацией от 35 до 50% (JP 2008044078, B24B 37/00, 2008).
Недостатком этой суспензии является низкая скорость съема, особенно с уменьшением размера частиц до 10 нм.
Известна суспензия, состоящая из коллоидных частиц кремнезоля, средний размер которых 65-70 нм, причем отношение среднего диаметра 97% больших частиц к среднему диаметру 3% маленьких частиц находится в пределах 2 и более с концентрацией 30-40% (US 20160002500, B24B 37/04, C09G 1/02, 2016). pH суспензии находится в пределах от 5 до 11.
Недостатком этой суспензии является низкая скорость съема 1-1,4 мкм/час.
Наиболее близкой к предлагаемому изобретению является суспензия на основе коллоидного кремнезема с размером частиц от 50 до 150 нм, стабилизированного оксидом натрия, pH от 10 до 11 и концентрацией 20-40 мас. % (US 20060196849, B24B 37/04, 2006). Суспензия содержит в своем составе соли Li, Na, Ca, Fe, Al как неорганических кислот HCl, HBr, HJ, H2SO4, HNO3, так и органических кислот: аскорбиновой, оксолиновой, пиколиновой или их смесей. Суспензия содержит от 0,1 до 1,5 мас. % вышеуказанных солей.
Недостатком прототипа является ограниченное время работоспособности суспензии. За 4 часа работы скорость съема снижается с 3 мкм/час до 2 мкм/час, что связано с уменьшением pH суспензии с 10-11 до 9,6. Дальнейшее снижение pH приводит к резкому падению скорости съема.
Задачей изобретения является увеличение времени работоспособности суспензии.
Поставленная задача достигается тем, что суспензия для полирования сапфировых подложек, содержащая стабилизированный оксидом натрия коллоидный кремнезем (SiO2), хлористый натрий (NaCl) и воду, дополнительно содержит кальцинированную соду (Na2CO3).
Добавление Na2CO3 в состав полировальной суспензии за счет буферного эффекта позволяет поддерживать pH суспензии на высоком уровне длительное время и, тем самым, обеспечивать высокую скорость съема длительное время, т.е. увеличивается работоспособность суспензии.
Краткая характеристика компонентов полировальной суспензии
Коллоидный кремнезем, стабилизированный оксидом натрия (ТУ 2145-012-61801487-2016) - жидкость молочного цвета со следующими физико-механическими показателями:
pH, ед. pH 10-10,2
концентрация диоксида кремния, мас. % 39-41
концентрация оксида натрия, мас. % 0,06-0,08
диаметр мицеллы, нм 75-80
кинематическая вязкость при 20°C, сСт 2,2-5,2
плотность, г/см3 1,284-1,300
Хлористый натрий (NaCl) марки «ч» по ГОСТ 4233-77.
Кальцинированная сода (Na2CO3) марки А по ГОСТ 5100-85.
Изобретение иллюстрируется следующими примерами.
Пример 1
Полировальную суспензию готовили следующим образом. К коллоидному кремнезему с концентрацией 41 мас. % при перемешивании добавляли расчетное количество водных растворов NaCl (концентрация раствора 8 мас. %) и Na2CO3 (концентрация раствора 8 мас. %), перемешивали в течение 20 минут и водой доводили концентрацию по кремнезему до 39 мас. %. Получали полировальную суспензию следующего состава, мас. %:
коллоидный кремнезем (SiO2) 39
хлористый натрий (NaCl) 1,2
кальцинированная сода (Na2CO3) 1,8
вода остальное
Примеры 2-9 аналогичны примеру 1. Составы полировальных суспензий приведены в таблице.
Аналогично готовили суспензию по прототипу, состав которой приведен в таблице.
Полученные суспензии испытывали при полировании сапфировых подложек при следующих условиях: продолжительность одного цикла полирования при давлении 0,31 кг/см2 - 30 минут; скорость подачи суспензии - 4,5 л/ч; температура в зоне полирования - 40°C; температура чиллера полировальника - 25°С; температура суспензии - 18°C. Через каждые 4 цикла полирования определяли среднюю скорость съема, pH суспензии и проводили визуальный контроль поверхности подложки.
Полученные результаты в сравнении с прототипом представлены в таблице.
Анализ табличных данных показывает, что у прототипа уже после 8 цикла скорость съема снижается до 2 мкм/час и продолжает снижаться, а использование полировальной суспензии со скоростью съема менее 2 мкм/час экономически не целесообразно. Предлагаемая суспензия (примеры 1-3) по сравнению с прототипом имеет срок эксплуатации в два раза больше и обеспечивает низкую шероховатость подложки. При содержании компонентов в суспензии ниже и выше заявленной концентрации снижается скорость съема (примеры 4-8), а в примере 9 возникает дефект полируемой поверхности подложки.
Таким образом, работоспособность предлагаемой полировальной суспензии в два раза выше чем у прототипа, применение суспензии позволяет обеспечить плоскостность, высокую скорость удаления (съема) и низкую шероховатость поверхности сапфировых подложек.
Figure 00000001

Claims (2)

  1. Полировальная суспензия для сапфировых подложек, содержащая стабилизированный оксидом натрия коллоидный кремнезем с размером частиц 75-80 нм, хлористый натрий и воду, отличающаяся тем, что дополнительно содержит кальцинированную соду при следующем соотношении компонентов, мас. %:
  2. коллоидный кремнезем в пересчете на SiO2 39-40 хлористый натрий 1,2-1,4 кальцинированная сода 1,6-1,8 вода остальное
RU2017105610A 2017-02-20 2017-02-20 Полировальная суспензия для сапфировых подложек RU2635132C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2017105610A RU2635132C1 (ru) 2017-02-20 2017-02-20 Полировальная суспензия для сапфировых подложек

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2017105610A RU2635132C1 (ru) 2017-02-20 2017-02-20 Полировальная суспензия для сапфировых подложек

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2635132C1 true RU2635132C1 (ru) 2017-11-09

Family

ID=60263796

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2017105610A RU2635132C1 (ru) 2017-02-20 2017-02-20 Полировальная суспензия для сапфировых подложек

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2635132C1 (ru)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU1743114A3 (ru) * 1990-06-25 1994-07-15 Шаляпин Андрей Борисович Способ полирования пластин из керамических материалов
US20060196849A1 (en) * 2005-03-04 2006-09-07 Kevin Moeggenborg Composition and method for polishing a sapphire surface
RU2412037C1 (ru) * 2006-12-28 2011-02-20 Сэнт-Гобэн Керамикс Энд Пластикс, Инк. Партия сапфировых подложек и способ ее изготовления
RU2414550C1 (ru) * 2006-12-28 2011-03-20 Сэнт-Гобэн Керамикс Энд Пластикс, Инк. Сапфировая подложка (варианты)
UA102940C2 (ru) * 2012-05-15 2013-08-27 Институт Монокристаллов Национальной Академии Наук Украины Полировальная суспензия и способ финишной прецизионной обработки деталей из сапфира
US20150053642A1 (en) * 2013-08-26 2015-02-26 Nitta Haas Incorporated Chemical mechanical polishing composition for polishing a sapphire surface and methods of using same
US20160002500A1 (en) * 2013-02-20 2016-01-07 Fujimi Incorporated Polishing composition

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SU1743114A3 (ru) * 1990-06-25 1994-07-15 Шаляпин Андрей Борисович Способ полирования пластин из керамических материалов
US20060196849A1 (en) * 2005-03-04 2006-09-07 Kevin Moeggenborg Composition and method for polishing a sapphire surface
RU2412037C1 (ru) * 2006-12-28 2011-02-20 Сэнт-Гобэн Керамикс Энд Пластикс, Инк. Партия сапфировых подложек и способ ее изготовления
RU2414550C1 (ru) * 2006-12-28 2011-03-20 Сэнт-Гобэн Керамикс Энд Пластикс, Инк. Сапфировая подложка (варианты)
UA102940C2 (ru) * 2012-05-15 2013-08-27 Институт Монокристаллов Национальной Академии Наук Украины Полировальная суспензия и способ финишной прецизионной обработки деталей из сапфира
US20160002500A1 (en) * 2013-02-20 2016-01-07 Fujimi Incorporated Polishing composition
US20150053642A1 (en) * 2013-08-26 2015-02-26 Nitta Haas Incorporated Chemical mechanical polishing composition for polishing a sapphire surface and methods of using same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101281879B1 (ko) 수용성 산화제를 이용한 탄화규소 연마 방법
KR101371870B1 (ko) 수용성 산화제를 이용한 탄화규소 연마 방법
KR101268007B1 (ko) 알루미늄 산화물 입자 및 이를 포함하는 연마용 조성물
JP5431736B2 (ja) インジウム錫酸化物表面をcmpする方法
JP5819076B2 (ja) 研磨用組成物
KR101477826B1 (ko) 유리 연마 조성물 및 방법
WO2002031079A1 (fr) Matière abrasive
KR20140003557A (ko) 연마재 및 연마용 조성물
EP2268777A1 (en) Stable aqueous slurry suspensions
TWI672366B (zh) 研磨用組合物及研磨方法
JPWO2011162265A1 (ja) 炭化珪素基板研磨用組成物及び炭化珪素基板の研磨方法
US7300478B2 (en) Slurry composition and method of use
JP2014187348A (ja) 研磨用組成物
KR20120010968A (ko) 합성 석영 유리 기판용 연마제 및 이를 이용한 합성 석영 유리 기판의 제조 방법
RU2635132C1 (ru) Полировальная суспензия для сапфировых подложек
CN112646550B (zh) 一种用于晶片衬底片的金刚石研磨液
JPWO2019043890A1 (ja) 半導体ウェーハの製造方法
JP4291665B2 (ja) 珪酸質材料用研磨剤組成物およびそれを用いた研磨方法
US20160060487A1 (en) Composition and method for polishing a sapphire surface
JP2003297778A (ja) 研磨剤用組成物およびその調製方法
US20180072916A1 (en) Diamond-based slurries with improved sapphire removal rate and surface roughness
JP4247955B2 (ja) 硬脆材料用研磨剤組成物およびそれを用いた研磨方法
JP4042906B2 (ja) 研磨用組成物,研磨用組成物の調整方法および研磨方法
JP5373250B2 (ja) 半導体ウエハ研磨用組成物の製造方法
CN1243856A (zh) 半导体制程用的化学机械研磨组合物

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20190221