RU2012101319A - Монолитный твердотельный лазер с боковой накачкой и его применение - Google Patents
Монолитный твердотельный лазер с боковой накачкой и его применение Download PDFInfo
- Publication number
- RU2012101319A RU2012101319A RU2012101319/28A RU2012101319A RU2012101319A RU 2012101319 A RU2012101319 A RU 2012101319A RU 2012101319/28 A RU2012101319/28 A RU 2012101319/28A RU 2012101319 A RU2012101319 A RU 2012101319A RU 2012101319 A RU2012101319 A RU 2012101319A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- laser
- solid
- active medium
- state laser
- processing device
- Prior art date
Links
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B18/00—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body
- A61B18/18—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body by applying electromagnetic radiation, e.g. microwaves
- A61B18/20—Surgical instruments, devices or methods for transferring non-mechanical forms of energy to or from the body by applying electromagnetic radiation, e.g. microwaves using laser
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/04—Arrangements for thermal management
- H01S3/042—Arrangements for thermal management for solid state lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/06—Construction or shape of active medium
- H01S3/0602—Crystal lasers or glass lasers
- H01S3/061—Crystal lasers or glass lasers with elliptical or circular cross-section and elongated shape, e.g. rod
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/06—Construction or shape of active medium
- H01S3/0619—Coatings, e.g. AR, HR, passivation layer
- H01S3/0621—Coatings on the end-faces, e.g. input/output surfaces of the laser light
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/06—Construction or shape of active medium
- H01S3/0627—Construction or shape of active medium the resonator being monolithic, e.g. microlaser
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
- H01S3/08072—Thermal lensing or thermally induced birefringence; Compensation thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/091—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
- H01S3/094—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
- H01S3/094049—Guiding of the pump light
- H01S3/094057—Guiding of the pump light by tapered duct or homogenized light pipe, e.g. for concentrating pump light
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/091—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
- H01S3/094—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
- H01S3/09408—Pump redundancy
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/091—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
- H01S3/094—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
- H01S3/094084—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light with pump light recycling, i.e. with reinjection of the unused pump light, e.g. by reflectors or circulators
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/091—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
- H01S3/094—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
- H01S3/0941—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/11—Mode locking; Q-switching; Other giant-pulse techniques, e.g. cavity dumping
- H01S3/1106—Mode locking
- H01S3/1112—Passive mode locking
- H01S3/1115—Passive mode locking using intracavity saturable absorbers
- H01S3/1118—Semiconductor saturable absorbers, e.g. semiconductor saturable absorber mirrors [SESAMs]; Solid-state saturable absorbers, e.g. carbon nanotube [CNT] based
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/025—Constructional details of solid state lasers, e.g. housings or mountings
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/04—Arrangements for thermal management
- H01S3/0405—Conductive cooling, e.g. by heat sinks or thermo-electric elements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/091—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
- H01S3/094—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
- H01S3/094049—Guiding of the pump light
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/16—Solid materials
- H01S3/1601—Solid materials characterised by an active (lasing) ion
- H01S3/1603—Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth
- H01S3/1608—Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth erbium
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Surgery (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Heart & Thoracic Surgery (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Otolaryngology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Medical Informatics (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
1. Монолитный твердотельный лазер (1) с боковой накачкой, содержащий структуру (3) лазерного резонатора, содержащую лазерную активную среду (2), имеющую продольную ось (L), в котором структура (3) лазерного резонатора содержит торцевые поверхности (4), формирующие резонансную полость с линейной оптической траекторией между ними, причем торцевые поверхности (4) содержат, по меньшей мере, частично отражающие лазерные зеркала (4а, 4b), один рефлектор (4а) с высоким отражением и выходное устройство (4b) связи, нанесенные на торцевые поверхности (4), и лазерная активная среда (2) содержит боковую поверхность (2а) для приема светового пучка (5а) накачки от источника (5) накачки, в котором световой пучок (5а) накачки создается диодным лазером (5), и содержащий кондуктивный охладитель (6) и рефлектор (7), расположенный напротив боковой поверхности (2а) относительно продольной оси (L), отличающийся тем, что лазерная активная среда (2) является материалом с малой активностью,и кондуктивный охладитель (61 содержит контактные поверхности (6с) для контакта с лазерной активной средой (2).2. Твердотельный лазер (1) по п.1, в котором лазерная активная среда (2) имеет площадь поперечного сечения меньше 7,5 мм.3. Твердотельный лазер (1) по п.2, в котором контактные поверхности (6с) располагаются симметрично относительно продольной оси (L) лазерной активной среды (2).4. Твердотельный лазер (1) по п.3, в котором кондуктивный охладитель (6) содержит полость (6d) охладителя, расположенную около лазерной активной среды (2) и расположенную напротив боковой поверхности (2а), в котором рефлектор (7) света накачки располагается в полости (6d) охладителя.5. Твердотельный лазер (1) по п.4, в котор�
Claims (57)
1. Монолитный твердотельный лазер (1) с боковой накачкой, содержащий структуру (3) лазерного резонатора, содержащую лазерную активную среду (2), имеющую продольную ось (L), в котором структура (3) лазерного резонатора содержит торцевые поверхности (4), формирующие резонансную полость с линейной оптической траекторией между ними, причем торцевые поверхности (4) содержат, по меньшей мере, частично отражающие лазерные зеркала (4а, 4b), один рефлектор (4а) с высоким отражением и выходное устройство (4b) связи, нанесенные на торцевые поверхности (4), и лазерная активная среда (2) содержит боковую поверхность (2а) для приема светового пучка (5а) накачки от источника (5) накачки, в котором световой пучок (5а) накачки создается диодным лазером (5), и содержащий кондуктивный охладитель (6) и рефлектор (7), расположенный напротив боковой поверхности (2а) относительно продольной оси (L), отличающийся тем, что лазерная активная среда (2) является материалом с малой активностью,
и кондуктивный охладитель (61 содержит контактные поверхности (6с) для контакта с лазерной активной средой (2).
2. Твердотельный лазер (1) по п.1, в котором лазерная активная среда (2) имеет площадь поперечного сечения меньше 7,5 мм2.
3. Твердотельный лазер (1) по п.2, в котором контактные поверхности (6с) располагаются симметрично относительно продольной оси (L) лазерной активной среды (2).
4. Твердотельный лазер (1) по п.3, в котором кондуктивный охладитель (6) содержит полость (6d) охладителя, расположенную около лазерной активной среды (2) и расположенную напротив боковой поверхности (2а), в котором рефлектор (7) света накачки располагается в полости (6d) охладителя.
5. Твердотельный лазер (1) по п.4, в котором диодный лазер (5) и рефлектор (7) располагаются таким образом относительно продольной оси (L), что существует равное расстояние (D1, D2) между продольной осью (L) и каждым из диодных лазеров (5) и рефлектором (7), так чтобы длина оптической траектории между источником (5) накачки и продольной осью (L) была той же самой или почти той же самой, что и длина оптической траектории между продольной осью (L) и рефлектором (7).
6. Твердотельный лазер (1) по п.1, в котором обе торцевые поверхности (4) содержат лазерное зеркало (4а, 4b), в котором одно из лазерных зеркал является лазерным зеркалом (4а) с высоким коэффициентом отражения, в частности, имеет коэффициент отражения от 99% до 100%, и в котором другое лазерное зеркало (4b) является выходным устройством связи.
7. Твердотельный лазер (1) по п.1, в котором структура (3) лазерного резонатора излучает на длине волны в диапазоне от 1700 нм до 3200 нм.
8. Твердотельный лазер (1) по п.7, в котором выходное устройство (4b) связи имеет коэффициент отражения в диапазоне между 92,5% и 99%.
9. Твердотельный лазер (1) по п.1, в котором лазерная активная среда (2) имеет свободные концы (2d), которые располагаются не внутри охладителя (6), за счет чего длина свободных концов (2d) в направлении продольной оси L предпочтительно равна приблизительно 2 мм и, наиболее предпочтительно, приблизительно равна 1 мм.
10. Твердотельный лазер (1) по п.1, в котором лазерная активная среда (2) содержит легированнный редкоземельными металлами базового кристалла YAG или YSGG или YLF с легированием неодимом, иттербием, эрбием, тулием, хромом и/или гольмием.
11. Твердотельный лазер (1) по п.1, в котором длина волны диодного лазера (5) выбирается такой, что основная длина волны диодного лазера (5) смещается относительно области пика поглощения лазерной активной среды (2).
12. Твердотельный лазер (1) по п.11, в котором длина волны светового пучка (5а) накачки выбирается соответствующей низкому коэффициенту поглощения лазерной активной среды (2).
13. Твердотельный лазер (1) по п.1, в котором кондуктивный охладитель (6) содержит контактные поверхности (6 с), контактирующие с лазерной активной средой (2) и также поддерживающие лазерную активную среду (2), причем кондуктивный охладитель (6) состоит из металлического, керамического или кристаллического материала.
14. Твердотельный лазер (1) по п.13, содержащий две контактные поверхности (6), в котором контактные поверхности (6с) располагаются симметрично продольной оси (L) лазерной активной среды (2), напротив друг друга.
15. Твердотельный лазер (1) по п.1, в котором кондуктивный охладитель (6) содержит внешний трубчатый элемент (6b), расположенный концентрически относительно продольной оси (L), а наружная поверхность (2с) лазерной активной среды (2) и внешний трубчатый элемент (6b) определяют внутреннее пространство (6а) для охлаждающей текучей среды.
16. Твердотельный лазер (1) по п.1, содержащий, по меньшей мере, два источника (5) накачки, пространственно разнесенных относительно друг друга в круговом направлении относительно продольной оси (L), и дополнительно содержащий соответствующий рефлектор (7) света накачки, расположенный напротив боковой поверхности (2а) относительно продольной оси (L).
17. Твердотельный лазер (1) по п.1, содержащий линзу (8а, 8b) и содержащий оптоволокно (9), имеющее диаметра между 100 мкм и 250 мкм, в котором линза (8а, 8b) выполнена с возможностью фокусировки лазерного пучка (В) твердотельного лазера (1) в оптоволокно (9).
18. Твердотельный лазер (1) по п.1, в котором лазерная активная среда (2) имеет цилиндрическую форму или эллиптическо-цилиндрическую форму.
19. Твердотельный лазер (1) по п.1, в котором, по меньшей мере, частично отражающее лазерное зеркало (4а, 4b) осаждается на торцевой поверхности (4) лазерной активной среды (3), в котором слой, нанесенный на нее, имеет плотность упаковки больше 0,9, предпочтительно больше 0,95, и наиболее предпочтительно больше 0,99.
20. Твердотельный лазер (1) по п.1, в котором источник (5) накачки имеет длину волны между 955 нм и 985 нм.
21. Твердотельный лазер (1) по п.1, в котором источник (5) накачки имеет длину волны между 760 нм и 815 нм.
22. Твердотельный лазер (1) по п.1, в котором источник (5) накачки имеет длины волны между 1600 нм и 2050 нм.
23. Твердотельный лазер (1) по п.1, в котором световой пучок (5а) накачки подается через боковую поверхность (2а) в лазерную активную среду (2), в которой приблизительно 30-70% и, предпочтительно, 30-50% светового пучка (5а) накачки выходит из лазерной активной среды (2) к противоположной боковой поверхности (2b) в качестве выходного светового пучка (5b) накачки, и в котором выходной световой пучок (5b) накачки отражается рефлектором (7), так что отраженный световой пучок (5с) накачки повторно входит в лазерную активную среду (2) у противоположной боковой поверхности (2b).
24. Твердотельный лазер (1) по п.1, в котором источник (5) накачки осуществляется как лазерная диодная матрица, расположенная параллельно продольной оси (L).
25. Твердотельный лазер (1) по п.1, в котором материалом с низкой активностью усиления является лазерная активная среда с поперечным сечением стимулированной эмиссии, равным или меньшим, чем для Er:YAG, а именно ≤3,0·10-20 см2.
26. Твердотельный лазер (1) по п.1, в котором, благодаря монолитной конструкции лазеров, лазерный рефлектор (4а) с высоким коэффициентом отражения осаждается непосредственно на активную среду (2), и выходное устройство (4b) связи осаждается непосредственно на противоположный конец активной среды (2).
27. Способ работы монолитного твердотельного лазера (1) с боковой накачкой по одному из пп.1-26, содержащий структуру (3) лазерного резонатора, содержащую лазерную активную среду (2), имеющую продольную ось (L), в котором световой пучок (5а) накачки подается через боковую поверхность (2а) в лазерную активную среду (2), отличающийся тем, что часть светового пучка (5а) накачки выходит из лазерной активной среды (2) на противоположной боковой поверхности (2b) в качестве выходного светового пучка (5b) накачки, и в котором выходной световой пучок (5b) накачки отражается рефлектором (7) в качестве отраженного светового пучка (5с) накачки, так что отраженный световой пучок (5с) накачки повторно входит в лазерную активную среду (2) у противоположной боковой поверхности (2b).
28. Способ работы твердотельного лазера (1) по п.27, в котором лазерная активная среда (2) охлаждается симметрично относительно продольной оси (L) лазерной активной среды (2), так что в лазерной активной среде (2) относительно продольной оси (L) имеет место симметричное тепловое распределение.
29. Способ работы твердотельного лазера (1) по одному из пп.27 и 28, в котором основная длина волны светового пучка (5а) накачки смещается относительно области пика поглощения лазерной активной среды (2).
30. Устройство обработки, содержащее:
твердотельный лазер (1), расположенный в корпусе (44) и излучающий лазерный пучок (21),
оптическое устройство (46) связи, направляющее падающий лазерный пучок в световодный элемент (45), гибкий шланг (49), соединяющий твердотельный лазер (1) с переносным устройством (50) и содержащий световодный элемент (45), причем переносное устройство (50) содержит выходной порт (53) в качестве конца световодного элемента (45) для направления лазерного пучка на целевую поверхность, отличающееся тем, что твердотельный лазер (1) осуществляется по одному из пп.1-26.
31. Устройство обработки по п.30, в котором корпус (44) содержит источник электропитания с высокоточным буфером накопителя большой емкости.
32. Устройство обработки по п.30 или 31, в котором корпус (44) содержит устройство создания газа (47) под давлением, в частности, с положительным и/или отрицательным относительным давлением.
33. Устройство обработки по п.30, в котором корпус (44) содержит устройство создания жидкости под давлением.
34. Устройство обработки по п.30, в котором гибкий шланг (49) содержит, по меньшей мере, один канал (51) для передачи жидкого или газообразного носителя к переносному устройству (50) и/или от него.
35. Устройство обработки по п.30, в котором корпус (44) содержит съемное средство (57) соединителя.
36. Устройство обработки по п.30, в котором переносное устройство (50) содержит съемное средство (57) соединителя.
37. Устройство обработки по п.30, в котором переносное устройство (50) содержит блок формирования и/или отклонения пучка.
38. Устройство обработки по п.30, в котором переносное устройство (50) содержит электроакустический преобразователь, в частности, ультразвуковой электроакустический преобразователь.
39. Устройство по п.30, в котором переносное устройство (50) содержит световодный расщепляющий блок.
40. Устройство обработки по п.30, в котором переносное устройство (50) содержит оптическое средство (65) получения изображения.
41. Устройство обработки по п.30, в котором переносное устройство (50) содержит радиочастотный передатчик.
42. Устройство обработки по п.30, в котором гибкий шланг (49) содержит кабель источника электропитания.
43. Устройство обработки по п.30, в котором гибкий шланг (50) содержит, по меньшей мере, одну линию передачи данных.
44. Устройство обработки по п.30, в котором световодный элемент (45) осуществляется как однооптоволоконный световодный элемент.
45. Устройство обработки по п.30, в котором световодный элемент (45) осуществляется как многооптоволоконный световодный элемент.
46. Устройство обработки по п.34, в котором выходной порт (53) содержит выходное отверстие (62, 63), соединяющееся с каналом (51).
47. Устройство обработки по п.30, в котором конец (45) световодного элемента располагается, по меньшей мере, частично вокруг выходного отверстия (53).
48. Устройство обработки по п.30, в котором выходное отверстие (53) располагается, по меньшей мере, частично вокруг конца () световодного элемента(45).
49. Устройство обработки, содержащее переносное устройство (20) с твердотельным лазером (1), излучающим лазерный пучок (21), лазер (1), дополнительно содержащий блок (29) охлаждения, блок (32) управления, электрически возбуждаемый источник (5) накачки твердотельного лазера (1), блок (24) формирования и отклонения лазерного пучка, контактное окно (25) для излучения сформированного лазерного пучка (26) из переносного устройства (20) на целевую поверхность (23), причем контактное окно (25) содержит прозрачное покрытие (27), причем оптическая траектория (22) содержит твердотельный лазер (1), блок (24) формирования и отклонения лазерного пучка и контактное окно (25), и стендовый блок, содержащий источник электропитания, гибкий шланг (37), соединяющий стендовый блок с переносным устройством (20), причем гибкий шланг (37) дополнительно содержит соединение для подключения электропитания, отличающееся тем, что твердотельный лазер (1) осуществляется по одному из пп.1-26,
блок (29) охлаждения содержит полость (30), гибкий шланг (37) содержит, по меньшей мере, две трубки (31) подачи охлаждающей жидкости, соединяющих полость (30) охлаждения с системой циркуляции охлаждающей жидкости стендового блока, и блок (32) управления содержит один высокоточный буферный накопитель (33) большой емкости.
50. Устройство обработки, содержащее переносное устройство (39) с твердотельным лазером (1), излучающее лазерный пучок (1), причем лазер (1) дополнительно содержит блок (29) охлаждения, блок (32) управления, электрически возбуждаемый твердотельный лазер (1), блок (24) формирования и отклонения лазерного пучка, контактное окно (25) для излучения сформированного лазерного пучка (26) из переносного устройства (39) на целевую поверхность (23), причем контактное окно (25) содержит прозрачное покрытие (27), оптическая траектория (22) содержит твердотельный лазер (1), блок (1) формирования и отклонения пучка и контактное окно (25), отличающееся тем, что твердотельный лазер (1) осуществляется по одному из пп.1-31, блок (29) охлаждения осуществляется как твердотельное устройство (40) охлаждения, блок (32) управления содержит один высокоточный буферный накопитель (33) большой емкости и переносное устройство (39) содержит средство (41) хранения электроэнергии.
51. Устройство обработки по п.49 или 50, в котором оптическая траектория (22) герметизирована относительно окружающей среды, используя герметизирующие элементы или гладкие плоскости, подогнанные друг к другу.
52. Устройство обработки по п.49 или 50, в котором переносное устройство (20, 39) содержит, по меньшей мере, два высокоточных буферных накопителя (33) большой емкости и блок переключения для индивидуального подключения одного из высокоточных буферных накопителей (33) к блоку (32) управления.
53. Устройство обработки по п.49 или 50, в котором переносное устройство (20, 39) содержит интерфейс (35, 43) пользователя, содержащий дисплейный блок и устройство ввода данных.
54. Устройство обработки по п.49 или 50, в котором переносное устройство (20, 39) содержит блок получения изображений и блок анализа изображения.
55. Устройство обработки по п.49, в котором переносное устройство (20) может отсоединяться от стендового блока.
56. Устройство обработки по п.49 или 50, в котором прозрачное покрытие (27) может сниматься с переносного устройства (20, 39).
57. Устройство обработки по п.50, в котором твердотельное устройство (40) охлаждения является материалом с изменением фазового состояния.
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP2009057398 | 2009-06-15 | ||
EP09/57398 | 2009-06-15 | ||
EP10/050458 | 2010-01-15 | ||
EP2010050458 | 2010-01-15 | ||
EP10/051825 | 2010-02-13 | ||
PCT/EP2010/051825 WO2010145855A1 (en) | 2009-06-15 | 2010-02-13 | Monolithic, side pumped solid-state laser and method for operating the same |
PCT/EP2010/003586 WO2010145802A1 (en) | 2009-06-15 | 2010-06-15 | A monolithic, side pumped solid-state laser and applications thereof |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2012101319A true RU2012101319A (ru) | 2013-07-27 |
Family
ID=42107897
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2012101319/28A RU2012101319A (ru) | 2009-06-15 | 2010-06-15 | Монолитный твердотельный лазер с боковой накачкой и его применение |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9368931B2 (ru) |
JP (1) | JP5744860B2 (ru) |
KR (1) | KR101742740B1 (ru) |
CA (1) | CA2766958A1 (ru) |
RU (1) | RU2012101319A (ru) |
WO (1) | WO2010145855A1 (ru) |
Families Citing this family (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA2862611C (en) | 2011-02-24 | 2020-11-03 | Eximo Medical Ltd. | Hybrid catheter for tissue resection |
EP3552571A3 (en) | 2014-05-18 | 2019-11-27 | Eximo Medical Ltd. | System for tissue ablation using pulsed laser |
US20150342782A1 (en) * | 2014-05-30 | 2015-12-03 | Strathspey Crown Holdings, LLC | Treatment Systems for Vitreous Floaters |
EP2961012A1 (en) * | 2014-06-26 | 2015-12-30 | Light Speed Marker, S.L. | Laser system for modifying objects |
DE102015008127A1 (de) * | 2015-06-24 | 2016-12-29 | Wavelight Gmbh | Vorrichtung für die Augenlaserchirurgie und Verfahren zur Durchführung einer transepithelialen photorefraktiven Keratektomie |
CN105233424A (zh) * | 2015-11-09 | 2016-01-13 | 温州大学 | 一种可见波段多功能激光医疗机 |
US11684420B2 (en) | 2016-05-05 | 2023-06-27 | Eximo Medical Ltd. | Apparatus and methods for resecting and/or ablating an undesired tissue |
JP2017220652A (ja) * | 2016-06-10 | 2017-12-14 | 大学共同利用機関法人自然科学研究機構 | レーザ装置とその製造方法 |
WO2017214925A1 (zh) * | 2016-06-16 | 2017-12-21 | 深圳大学 | 二维半导体可饱和吸收镜及其制备方法、脉冲光纤激光器 |
EP3471645B1 (en) * | 2016-06-20 | 2023-09-20 | University of North Texas | Laser-assisted machining (lam) of non-monolithic composite bone material |
AU2017339894B2 (en) | 2016-10-04 | 2022-12-15 | Boston Scientific Scimed, Inc. | Tailored laser pulses for surgical applications |
EP3309913A1 (en) * | 2016-10-17 | 2018-04-18 | Universität Stuttgart | Radiation field amplifier system |
US9787048B1 (en) * | 2016-10-17 | 2017-10-10 | Waymo Llc | Fiber encapsulation mechanism for energy dissipation in a fiber amplifying system |
EP3309914A1 (en) | 2016-10-17 | 2018-04-18 | Universität Stuttgart | Radiation field amplifier system |
RU2703934C1 (ru) * | 2017-02-17 | 2019-10-22 | Акционерное общество "Научно-исследовательский институт "Полюс" им. М.Ф. Стельмаха" | Лазер с поперечной диодной накачкой |
US10593843B2 (en) * | 2017-02-28 | 2020-03-17 | Nichia Corporation | Method of manufacturing optical component |
US20190101748A1 (en) * | 2017-10-04 | 2019-04-04 | Dornier Medtech Laser Gmbh | Method for Operating a Pulsed Laser System |
CA3096021A1 (en) | 2018-04-03 | 2019-10-10 | Convergent Dental, Inc. | Laser system for surgical applications |
IL259535A (en) * | 2018-05-22 | 2018-06-28 | Sheintop Uzziel | Q-switched laser system |
US10962792B2 (en) * | 2018-09-16 | 2021-03-30 | Richard Redpath | Laser light striping apparatus |
WO2020111514A1 (ko) * | 2018-11-26 | 2020-06-04 | 비손메디칼 주식회사 | 출력향상된 툴륨 및 홀뮴 레이저 출력 장치 |
US11929593B2 (en) | 2021-07-13 | 2024-03-12 | National Tsing Hua University | Laser pumping device and system including geometric light concentrator and thermal insulator |
DE102021211227A1 (de) | 2021-10-05 | 2023-04-06 | Carl Zeiss Meditec Ag | Zwischenspeicher zur zyklischen Leistungsglättung und ophthalmologischen Lasertherapiesystem mit einem Zwischenspeicher |
CN114512297B (zh) * | 2022-01-17 | 2022-12-02 | 华中科技大学 | 一种基于平顶脉冲磁场的磁增益开关及方法 |
CN114775056B (zh) * | 2022-04-25 | 2024-02-27 | 同济大学 | 一种掺铬钇钪近红外波段超快超强激光晶体及其制备方法和应用 |
US12038322B2 (en) | 2022-06-21 | 2024-07-16 | Eximo Medical Ltd. | Devices and methods for testing ablation systems |
CN114883895B (zh) * | 2022-07-08 | 2022-11-08 | 中国工程物理研究院应用电子学研究所 | 一种超紧凑轻量复合冷却式浸入式高能激光*** |
CN115021070A (zh) * | 2022-08-03 | 2022-09-06 | 度亘激光技术(苏州)有限公司 | 侧泵模块及半导体激光器 |
CN115430912B (zh) * | 2022-11-09 | 2023-02-07 | 中国科学院新疆理化技术研究所 | 一种激光熔接装置 |
Family Cites Families (47)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4808789A (en) * | 1987-02-04 | 1989-02-28 | Muncheryan Hrand M | Diode-pumped-laser instrumentation system |
JP2664392B2 (ja) * | 1988-02-10 | 1997-10-15 | 三菱電機株式会社 | レーザ装置 |
FR2670623A1 (fr) * | 1990-12-18 | 1992-06-19 | Europ Agence Spatiale | Laser a barreau actif hexagonal. |
EP0530574B1 (de) * | 1991-08-28 | 1997-11-05 | Siemens Aktiengesellschaft | Vorrichtung zur Lasermaterialbearbeitung biologischer Hartsubstanz, insbesondere Zahnhartsubstanz |
US5311528A (en) * | 1991-08-30 | 1994-05-10 | Hoya Corporation | Solid-state laser device capable of stably producing an output laser beam at high power |
FR2681988A1 (fr) | 1991-09-27 | 1993-04-02 | Thomson Csf | Laser de puissance a deflexion. |
JPH05335662A (ja) | 1992-05-27 | 1993-12-17 | Hoya Corp | 固体レーザ装置 |
US5643252A (en) | 1992-10-28 | 1997-07-01 | Venisect, Inc. | Laser perforator |
US5381431A (en) | 1993-08-13 | 1995-01-10 | Massachusetts Institute Of Technology | Picosecond Q-switched microlasers |
DE69424910T2 (de) | 1993-10-05 | 2001-01-18 | S.L.T. Japan Co., Ltd. | Laser Ballon-Katheter |
US5555254A (en) * | 1993-11-05 | 1996-09-10 | Trw Inc. | High brightness solid-state laser with zig-zag amplifier |
FR2712742B1 (fr) | 1993-11-15 | 1995-12-15 | Commissariat Energie Atomique | Microlaser solide, monolithique, autoaligné, à déclenchement passif par absorbant saturable et son procédé de fabrication. |
US5394413A (en) | 1994-02-08 | 1995-02-28 | Massachusetts Institute Of Technology | Passively Q-switched picosecond microlaser |
US5554153A (en) | 1994-08-29 | 1996-09-10 | Cell Robotics, Inc. | Laser skin perforator |
US5947957A (en) | 1994-12-23 | 1999-09-07 | Jmar Technology Co. | Portable laser for blood sampling |
US5868731A (en) | 1996-03-04 | 1999-02-09 | Innotech Usa, Inc. | Laser surgical device and method of its use |
WO1996028212A1 (en) | 1995-03-09 | 1996-09-19 | Innotech Usa, Inc. | Laser surgical device and method of its use |
WO1996033538A1 (en) | 1995-04-17 | 1996-10-24 | Coherent, Inc. | High repetition rate erbium: yag laser for tissue ablation |
GB2300964B (en) | 1995-05-13 | 1999-11-10 | I E Optomech Limited | Monolithic laser |
US5636239A (en) * | 1995-05-15 | 1997-06-03 | Hughes Electronics | Solid state optically pumped laser head |
US6251102B1 (en) | 1996-03-04 | 2001-06-26 | Innotech, Usa, Inc. | Laser surgical device and method of its use |
US5761233A (en) * | 1996-04-10 | 1998-06-02 | Hughes Electronics Corporation | Monolithic pump cavity and method |
US5928220A (en) * | 1997-06-10 | 1999-07-27 | Shimoji; Yutaka | Cordless dental and surgical laser |
JPH11284253A (ja) | 1998-03-30 | 1999-10-15 | Fanuc Ltd | Ld励起固体レーザ発振装置 |
JP2000012932A (ja) | 1998-06-19 | 2000-01-14 | Toshiba Corp | 固体レーザ装置 |
US6377593B1 (en) | 1999-06-21 | 2002-04-23 | Northrop Grumman Corporation | Side pumped Q-switched microlaser and associated fabrication method |
US6219361B1 (en) | 1999-06-21 | 2001-04-17 | Litton Systems, Inc. | Side pumped, Q-switched microlaser |
US6330259B1 (en) * | 1999-06-24 | 2001-12-11 | Jonathan S. Dahm | Monolithic radial diode-pumped laser with integral micro channel cooling |
US6366596B1 (en) | 2000-01-21 | 2002-04-02 | Photonics Industries International, Inc. | High power laser |
US6373864B1 (en) | 2000-01-21 | 2002-04-16 | Nanolase S.A. | Sub-nanosecond passively q-switched microchip laser system |
US6714574B2 (en) * | 2001-07-31 | 2004-03-30 | Bookham Technology, Plc | Monolithically integrated optically-pumped edge-emitting semiconductor laser |
US20070060917A1 (en) | 2002-06-21 | 2007-03-15 | Biolase Technology, Inc. | High-efficiency, side-pumped diode laser system |
US7149231B2 (en) * | 2002-10-04 | 2006-12-12 | Spectra Systems Corporation | Monolithic, side-pumped, passively Q-switched solid-state laser |
JP4047131B2 (ja) * | 2002-10-18 | 2008-02-13 | 株式会社オーク製作所 | 固体レーザ装置 |
US6898231B2 (en) * | 2002-11-21 | 2005-05-24 | Coherent, Inc. | Off-peak optical pumping of yttrium orthovanadate |
JP2004179412A (ja) * | 2002-11-27 | 2004-06-24 | Nec Corp | 半導体レーザ励起固体レーザ装置並びにその製造方法 |
WO2004075721A2 (en) | 2003-02-25 | 2004-09-10 | Spectragenics, Inc. | Self-contained, diode-laser-based dermatologic treatment apparatus and metod |
US8109981B2 (en) | 2005-01-25 | 2012-02-07 | Valam Corporation | Optical therapies and devices |
WO2006111200A1 (en) | 2005-04-18 | 2006-10-26 | Pantec Biosolutions Ag | Microporator for creating a permeation surface |
US20090306576A1 (en) | 2005-04-18 | 2009-12-10 | Pantec Biosolutions Ag | System for Transmembrane Administration of a Permeant and Method for Administering a Permeant |
WO2006111201A1 (en) | 2005-04-18 | 2006-10-26 | Pantec Biosolutions Ag | Laser microporator |
WO2006111199A1 (en) | 2005-04-18 | 2006-10-26 | Pantec Biosolutions Ag | Microporator for parating a biological membran and integrated permeant administering system |
US8965334B2 (en) | 2005-12-19 | 2015-02-24 | Alcatel Lucent | Methods and devices for defending a 3G wireless network against malicious attacks |
WO2007074400A2 (en) * | 2005-12-28 | 2007-07-05 | Kilolambda Technologies Ltd. | Diode-pumped cavity |
AT503451B8 (de) | 2006-06-13 | 2008-05-15 | Ctr Carinthian Tech Res Ag | Festkörperlaser |
JP2010507627A (ja) | 2006-10-25 | 2010-03-11 | パンテック バイオソリューションズ アクチェンゲゼルシャフト | 皮膚に関連した症状の広域疑似全身的治療 |
WO2009150210A2 (en) | 2008-06-11 | 2009-12-17 | Pantec Biosolutions Ag | Apparatus and method for the deflection of electromagnetic radiation, in particular of a laser beam |
-
2010
- 2010-02-13 WO PCT/EP2010/051825 patent/WO2010145855A1/en active Application Filing
- 2010-06-15 KR KR1020127001129A patent/KR101742740B1/ko active IP Right Grant
- 2010-06-15 JP JP2012515388A patent/JP5744860B2/ja active Active
- 2010-06-15 RU RU2012101319/28A patent/RU2012101319A/ru not_active Application Discontinuation
- 2010-06-15 CA CA2766958A patent/CA2766958A1/en not_active Abandoned
- 2010-06-15 US US13/378,172 patent/US9368931B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20120098989A (ko) | 2012-09-06 |
US9368931B2 (en) | 2016-06-14 |
WO2010145855A1 (en) | 2010-12-23 |
US20120165801A1 (en) | 2012-06-28 |
JP5744860B2 (ja) | 2015-07-08 |
KR101742740B1 (ko) | 2017-06-15 |
CA2766958A1 (en) | 2010-12-23 |
JP2012530364A (ja) | 2012-11-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2012101319A (ru) | Монолитный твердотельный лазер с боковой накачкой и его применение | |
JP2012530364A5 (ru) | ||
US9651017B2 (en) | Laser ignition device for an internal combustion engine and operating method therefor | |
US7653100B2 (en) | Solid laser module, optical amplifier, and laser oscillator | |
US4979180A (en) | Modular interchangeable laser system | |
NO843902L (no) | Fiberoptisk forsterker | |
JP2000513156A (ja) | 1つまたは複数のポンプ光源を備えた固体レーザ | |
US6665328B1 (en) | Diode-pumped laser with funnel-coupled pump source | |
WO2014138433A1 (en) | Ultra high power single mode fiber laser system with non-uniformly configured fiber-to-fiber rod multimode amplifier | |
JP2013168435A (ja) | ロッド型ファイバレーザ増幅器およびロッド型ファイバレーザ発振器 | |
CN103050870B (zh) | 可光纤输出的微片激光器 | |
US5548608A (en) | Laser head and telescopic cavity for diode-pumped solid-state lasers | |
WO2002013338A2 (en) | Method and apparatus relating to pumping optical fiber | |
JP2002042731A (ja) | 光源一体型集光発光装置 | |
CN210201150U (zh) | 激光器 | |
JPWO2017204355A1 (ja) | 固体レーザ装置 | |
US9525263B2 (en) | Laser diode side pumping of an elongated solid-state laser without focusing/optics | |
KR100348998B1 (ko) | 방사형으로 배치된 여러 개의 직선형 다이오드 레이저를이용한 고체레이저 발생장치. | |
CN103840368A (zh) | 用散热窗口片作为滤波元件的小型化单频光泵浦垂直外腔面发射激光器 | |
CN218983540U (zh) | 一种微型激光装置 | |
RU2382458C1 (ru) | Компактный твердотельный лазер с продольной полупроводниковой накачкой | |
CN213753435U (zh) | 基于Er的大能量2940纳米脉冲碟片激光器 | |
CN105024264A (zh) | 一种矢量光场输出激光器 | |
CN114204385A (zh) | 固体激光装置 | |
EP2994961A1 (en) | Solid state laser system |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FA92 | Acknowledgement of application withdrawn (lack of supplementary materials submitted) |
Effective date: 20150624 |