RU2009115962A - Фотолатентные основания для систем, основанных на блокированных изоцианатах - Google Patents

Фотолатентные основания для систем, основанных на блокированных изоцианатах Download PDF

Info

Publication number
RU2009115962A
RU2009115962A RU2009115962/04A RU2009115962A RU2009115962A RU 2009115962 A RU2009115962 A RU 2009115962A RU 2009115962/04 A RU2009115962/04 A RU 2009115962/04A RU 2009115962 A RU2009115962 A RU 2009115962A RU 2009115962 A RU2009115962 A RU 2009115962A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
alkyl
substituted
composition according
compound
formula
Prior art date
Application number
RU2009115962/04A
Other languages
English (en)
Inventor
Катя ШТУДЕР (FR)
Катя ШТУДЕР
Курт ДИТЛИКЕР (CH)
Курт ДИТЛИКЕР
Туня ЮНГ (DE)
Туня ЮНГ
Original Assignee
Циба Холдинг Инк. (Ch)
Циба Холдинг Инк.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Циба Холдинг Инк. (Ch), Циба Холдинг Инк. filed Critical Циба Холдинг Инк. (Ch)
Publication of RU2009115962A publication Critical patent/RU2009115962A/ru

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/70—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
    • C08G18/72—Polyisocyanates or polyisothiocyanates
    • C08G18/80—Masked polyisocyanates
    • C08G18/8061—Masked polyisocyanates masked with compounds having only one group containing active hydrogen
    • C08G18/8093—Compounds containing active methylene groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/08—Processes
    • C08G18/16—Catalysts
    • C08G18/18—Catalysts containing secondary or tertiary amines or salts thereof
    • C08G18/20—Heterocyclic amines; Salts thereof
    • C08G18/2045—Heterocyclic amines; Salts thereof containing condensed heterocyclic rings
    • C08G18/2063—Heterocyclic amines; Salts thereof containing condensed heterocyclic rings having two nitrogen atoms in the condensed ring system
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/40—High-molecular-weight compounds
    • C08G18/42—Polycondensates having carboxylic or carbonic ester groups in the main chain
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/67—Unsaturated compounds having active hydrogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/70—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the isocyanates or isothiocyanates used
    • C08G18/72—Polyisocyanates or polyisothiocyanates
    • C08G18/77—Polyisocyanates or polyisothiocyanates having heteroatoms in addition to the isocyanate or isothiocyanate nitrogen and oxygen or sulfur
    • C08G18/78—Nitrogen
    • C08G18/79—Nitrogen characterised by the polyisocyanates used, these having groups formed by oligomerisation of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/791—Nitrogen characterised by the polyisocyanates used, these having groups formed by oligomerisation of isocyanates or isothiocyanates containing isocyanurate groups
    • C08G18/792—Nitrogen characterised by the polyisocyanates used, these having groups formed by oligomerisation of isocyanates or isothiocyanates containing isocyanurate groups formed by oligomerisation of aliphatic and/or cycloaliphatic isocyanates or isothiocyanates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/21—Urea; Derivatives thereof, e.g. biuret
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/02—Printing inks
    • C09D11/03—Printing inks characterised by features other than the chemical nature of the binder
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D175/00—Coating compositions based on polyureas or polyurethanes; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D175/04—Polyurethanes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/002—Priming paints
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/03—Powdery paints
    • C09D5/033—Powdery paints characterised by the additives
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/44—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes for electrophoretic applications
    • C09D5/4419—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes for electrophoretic applications with polymers obtained otherwise than by polymerisation reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C09D5/4465—Polyurethanes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
    • C09D7/40—Additives
    • C09D7/60—Additives non-macromolecular
    • C09D7/63—Additives non-macromolecular organic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J175/00—Adhesives based on polyureas or polyurethanes; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J175/04—Polyurethanes
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/06—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising selenium or tellurium in uncombined form other than as impurities in semiconductor bodies of other materials
    • H01L21/08—Preparation of the foundation plate

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)

Abstract

1. Композиция, включающая !(а) фотолатентное основание, ! (б) блокированный изоцианат или блокированный изотиоцианат и ! (в) соединение как донор водорода. ! 2. Композиция по п.1, в которой фотолатентное основание представляет собой соединение формулы II Z-A (II), в которой ! Z обозначает фотолабильную группу, а ! А обозначает основную группу-предшественник, ковалентно связанную с Z. ! 3. Композиция по п.1 или 2, в которой фотолатентное основание отвечает формуле (I) ! , в которой ! R1 обозначает ароматический или гетероароматический радикал, который способен к поглощению света в диапазоне длин волн от 200 до 650 нм и который не замещен или замещен одним или несколькими из С1-С18алкила, C2-С18алкенила, С2-С18алкинила, гало-С1-С18алкила, NR8R9, CN, OR10, SR10, COR11, COOR12, атома галогена и ! ! или R1 обозначает (III) ! ! R2 и R3 каждый независимо друг от друга обозначает водородный атом, C1-С18алкил, С1-С18алкенил, С3-С18алкинил или фенил, который не замещен или замещен одним или несколькими из С1-С18алкила, CN, OR12, SR12, атома галогена и гало-С1-С18алкила; ! R5 обозначает С1-С18алкил или NR10R11; ! R4, R6, R7, R8 и R9 независимо друг от друга обозначают водородный атом или C1-C18алкил; или ! R4 и R6 совместно образуют С2-С12алкиленовый мостик, который не замещен или замещен одним или несколькими С1-С4алкилами; или ! R5 и R7 независимо от R4 и R6 совместно образуют С2-С12алкиленовый мостик, который не замещен или замещен одним или несколькими С1-С4алкилами, или, если R5 обозначает NR10R11, R7 и R11 совместно образуют С2-С12алкиленовый мостик, который не замещен или замещен одним или несколькими С1-С4алкилами; ! R10, R11 и R12 каждый независимо друг от друга обозначает водородный атом или C1-C18алкил; ! R13 обозначает ароматич�

Claims (16)

1. Композиция, включающая
(а) фотолатентное основание,
(б) блокированный изоцианат или блокированный изотиоцианат и
(в) соединение как донор водорода.
2. Композиция по п.1, в которой фотолатентное основание представляет собой соединение формулы II Z-A (II), в которой
Z обозначает фотолабильную группу, а
А обозначает основную группу-предшественник, ковалентно связанную с Z.
3. Композиция по п.1 или 2, в которой фотолатентное основание отвечает формуле (I)
Figure 00000001
, в которой
R1 обозначает ароматический или гетероароматический радикал, который способен к поглощению света в диапазоне длин волн от 200 до 650 нм и который не замещен или замещен одним или несколькими из С1-С18алкила, C2-С18алкенила, С2-С18алкинила, гало-С1-С18алкила, NR8R9, CN, OR10, SR10, COR11, COOR12, атома галогена и
Figure 00000002
или R1 обозначает (III)
Figure 00000003
R2 и R3 каждый независимо друг от друга обозначает водородный атом, C1-С18алкил, С1-С18алкенил, С3-С18алкинил или фенил, который не замещен или замещен одним или несколькими из С1-С18алкила, CN, OR12, SR12, атома галогена и гало-С1-С18алкила;
R5 обозначает С1-С18алкил или NR10R11;
R4, R6, R7, R8 и R9 независимо друг от друга обозначают водородный атом или C1-C18алкил; или
R4 и R6 совместно образуют С2-С12алкиленовый мостик, который не замещен или замещен одним или несколькими С1-С4алкилами; или
R5 и R7 независимо от R4 и R6 совместно образуют С2-С12алкиленовый мостик, который не замещен или замещен одним или несколькими С1-С4алкилами, или, если R5 обозначает NR10R11, R7 и R11 совместно образуют С2-С12алкиленовый мостик, который не замещен или замещен одним или несколькими С1-С4алкилами;
R10, R11 и R12 каждый независимо друг от друга обозначает водородный атом или C1-C18алкил;
R13 обозначает ароматический или гетероароматический радикал, который способен к поглощению света в диапазоне длин волн от 200 до 650 нм и который не замещен или замещен одним или несколькими заместителями С1-С18алкил, С2-С18алкенил, С2-С18алкинил, гало-С1-С18алкил, NR8R9, CN, OR10, SR10, COR11, COOR12 или атом галогена;
R14 обозначает водородный атом или С1-С18алкил;
R15 обозначает водородный атом, С1-С18алкил или фенил, который не замещен или замещен одним или несколькими из С1-С18алкила, винила, С3-С18алкенила, С3-С18алкинила, гало-C1-C18алкила, фенила, NR8R9, CN, OR10, SR10, COR11, COOR12 и атома галогена.
4. Композиция по п.1, в которой компонент (а) представляет собой
Figure 00000004
5. Композиция по п.1, в которой блокированный изоцианат выбирают из группы, включающей алифатические или ароматические полиизоцианаты, диизоцианаты, триизоцианаты и тетраизоцианаты.
6. Композиция по п.5, в которой блокирующий агент изоцианата выбирают из группы, включающей спирты, фенолы, амины, имиды, амиды, гуанидины, амидины, триазолы, пиразолы, активные метиленовые соединения, кетоксимы, оксимы, формиаты, лактамы, имидазолы, СН-кислые циклические кетоны и меркаптаны.
7. Композиция по п.5, в которой блокирующий агент представляет собой циклопентанон-2-карбоксиметиловый эфир, циклопентанон-2-карбоксиэтиловый эфир, циклопентанон-2-карбоксинитрил, циклогексанон-2-карбоксиметиловый эфир, циклогексанон-2-карбоксиэтиловый эфир или циклопентанон-2-карбонилметан.
8. Композиция по п.1, в которой компонент (в) как донор водорода представляет собой по меньшей мере одно соединение, выбранное из группы, включающей спирты, полиолы, фенолы, борные кислоты, карбоновые кислоты, сульфоновые кислоты, амины, амиды, лактамы, мочевины, уретаны, аллофанаты, биуреты, ацилмочевины, тиомочевины, гидразоны, оксимы, амидины, гидроксиламины, гидразоны, гидроксамовые кислоты, нитроамины, диазоаминовые соединения, сульфонамиды, тиолы, политиолы, тиофенолы, тиокислоты, галогенводородные кислоты и соединения, содержащие эпоксидные группы.
9. Композиция по п.1, включающая, в дополнение к компонентам (а), (б) и (в), фотосенсибилизаторное соединение (г), выбранное из группы, включающей бензофенон и его производные, тиоксантон и его производные, антрахинон и его производные, кумарин и его производные, оксазиновые красители, акридиновые красители, феназиновые красители и родаминовые красители.
10. Композиция по п.1, в которой компонент (а) содержится в количестве от 0,01 до 20 мас.%, в частности от 0,01 до 10 мас.%, в пересчете на всю композицию.
11. Применение соединения формулы II, как оно определено в п.2, или соединения формулы I, как оно определено в п.3, в качестве фотолатентного основного катализатора (а) для отверждения композиций, включающих (б) блокированный изоцианат и донор Н (в).
12. Способ сшивания блокированного изоцианата (б) и донора Н (в) смешением упомянутых компонентов с фотолатентным основным катализатором (а) формулы II, как он определен в п.2, или соединением формулы I, как оно определено в п.3, и облучением композиции светом в диапазоне длин волн от 200 до 650 нм.
13. Применение композиции по п.1 для получения клеев, покрытий, герметиков, компонентов компаунда, типографских красок, формовочных композиций или фотоструктурированных слоев.
14. Способ по п.12 получения клеев, покрытий, герметиков, компонентов компаунда, типографских красок, формовочных композиций или фотоструктурированных слоев.
15. Покрытая подложка с покрытием на по меньшей мере одной поверхности из композиции по п.1.
16. Полимеризованная или поперечно-сшитая композиция по п.1.
RU2009115962/04A 2006-09-29 2007-09-19 Фотолатентные основания для систем, основанных на блокированных изоцианатах RU2009115962A (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP06121469 2006-09-29
EP06121469.8 2006-09-29

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2009115962A true RU2009115962A (ru) 2010-11-10

Family

ID=37946367

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2009115962/04A RU2009115962A (ru) 2006-09-29 2007-09-19 Фотолатентные основания для систем, основанных на блокированных изоцианатах

Country Status (8)

Country Link
US (1) US20090298962A1 (ru)
EP (1) EP2066721B1 (ru)
JP (1) JP5345537B2 (ru)
KR (1) KR101492423B1 (ru)
CN (1) CN101522745B (ru)
BR (1) BRPI0717655B1 (ru)
RU (1) RU2009115962A (ru)
WO (1) WO2008037635A1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2614676C2 (ru) * 2011-11-30 2017-03-28 Сикпа Холдинг Са Маркированная композиция покрытия и способ ее аутентификации

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008119688A1 (en) 2007-04-03 2008-10-09 Basf Se Photoactivable nitrogen bases
KR101157720B1 (ko) * 2007-06-14 2012-06-20 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 광 경화형 점접착제 조성물
WO2009095282A2 (en) * 2008-01-28 2009-08-06 Basf Se Photolatent amidine bases for redox curing of radically curable formulations
WO2009122664A1 (ja) * 2008-03-31 2009-10-08 サンアプロ株式会社 光塩基発生剤
US9102785B2 (en) * 2008-04-11 2015-08-11 Ppg Industries Ohio, Inc. Curable compositions based on polyuretidiones, polythiols and photoactivable bases and generation of isocyanates from uretidiones
JP5274598B2 (ja) * 2011-02-22 2013-08-28 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻用組成物、レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版の製版方法、及び、レリーフ印刷版
EP2511352A1 (de) * 2011-04-13 2012-10-17 Bayer Materialscience AG Siebdruckverfahren mit zu einem Polyurethanpolymer reagierender Drucktinte
US9117757B2 (en) 2012-10-16 2015-08-25 Brewer Science Inc. Silicone polymers with high refractive indices and extended pot life
JP6228599B2 (ja) * 2013-05-24 2017-11-08 株式会社ブリヂストン 接着剤、接着シート及び積層体
US20160229942A1 (en) * 2013-10-04 2016-08-11 Nippon Soda Co., Ltd. Acrylic-modified, pb-curable composition having excellent light resistance and exceptional mechanical strength
KR20170018067A (ko) * 2014-06-23 2017-02-15 카본, 인크. 다중 경화 메커니즘을 갖는 물질로부터 폴리우레탄 3차원 물체를 제조하는 방법
US9944526B2 (en) 2015-05-13 2018-04-17 Honeywell International Inc. Carbon fiber preforms
US10131113B2 (en) 2015-05-13 2018-11-20 Honeywell International Inc. Multilayered carbon-carbon composite
US10302163B2 (en) 2015-05-13 2019-05-28 Honeywell International Inc. Carbon-carbon composite component with antioxidant coating
US10035305B2 (en) 2015-06-30 2018-07-31 Honeywell International Inc. Method of making carbon fiber preforms
US10022890B2 (en) 2015-09-15 2018-07-17 Honeywell International Inc. In situ carbonization of a resin to form a carbon-carbon composite
US10300631B2 (en) 2015-11-30 2019-05-28 Honeywell International Inc. Carbon fiber preforms
CN105567007B (zh) * 2016-02-22 2019-04-05 昆山海斯电子有限公司 液态光致阻焊油墨及其制备方法与应用
EP3363840A1 (en) * 2017-02-17 2018-08-22 Henkel AG & Co. KGaA Two-component polyurethane composition comprising a latent catalyst
WO2018160691A1 (en) * 2017-02-28 2018-09-07 Basf Se Curable sealant composition
WO2018160667A1 (en) * 2017-02-28 2018-09-07 Basf Se Curable sealant composition
EP3677650B1 (en) * 2017-08-29 2022-09-28 FUJIFILM Corporation Ink composition, method for producing same, and image forming method
JP2021529840A (ja) * 2018-04-26 2021-11-04 ヘンケル・アクチェンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェンＨｅｎｋｅｌ ＡＧ ＆ Ｃｏ． ＫＧａＡ 硬化性組成物における潜在性触媒として使用するための第四級窒素化合物。
JP7375459B2 (ja) * 2019-10-23 2023-11-08 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 インクジェット記録用前処理液、インクジェット記録装置及び画像形成方法
US20220389153A1 (en) * 2019-11-15 2022-12-08 Basf Coatings Gmbh A blocked polyisocyanate crosslinking agent, its preparation method and a coating composition comprising the same

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4677179A (en) * 1986-04-09 1987-06-30 W. R. Grace Storage stable, heat curable, coating composition
US5718817A (en) * 1993-07-28 1998-02-17 Elf Atochem North America, Inc. Catalyst for low temperature cure of blocked isocyanates
KR100527614B1 (ko) * 1997-03-18 2005-11-15 시바 스페셜티 케미칼스 홀딩 인크. α-아미노 알켄 화합물, 이의 제조방법 및 당해 화합물을 포함하는 조성물
TW436491B (en) * 1997-08-22 2001-05-28 Ciba Sc Holding Ag Compositions for use in base-catalysed reactions, a process for curing said compostions and a process for photochemically generating bases in base catalysed polymeriaztion reactions
RU2265035C2 (ru) * 2000-05-26 2005-11-27 Акцо Нобель Н.В. Фотоактивируемая композиция покрытия
PL367450A1 (en) * 2001-07-03 2005-02-21 Bayer Aktiengesellschaft Cyclic ketones as blocking agents
ATE360629T1 (de) * 2001-10-17 2007-05-15 Ciba Sc Holding Ag Photoaktivierbare stickstoffbasen
US6784243B2 (en) * 2002-06-17 2004-08-31 Bayer Aktiengesellschaft Polyurethane-polyurea dispersions
JP2005535450A (ja) * 2002-08-13 2005-11-24 アクゾ ノーベル コーティングス インターナショナル ビー ヴィ チオール官能性化合物を含む多層コーティング系
ATE338034T1 (de) * 2002-10-28 2006-09-15 Ciba Sc Holding Ag Verbesserung bei der haltbarkeit von photoinitiatoren
US20070249484A1 (en) * 2004-07-21 2007-10-25 Johannes Benkhoff Process for the Photoactivation and use of a Catalyst by an Inverted Two-Stage Procedure
DE102004043537A1 (de) * 2004-09-09 2006-03-16 Bayer Materialscience Ag Herstellung von neuen strahlenhärtenden Bindemitteln
EP1789464B1 (en) * 2004-09-17 2008-11-05 Akzo Nobel Coatings International BV Coating composition based on thiol-nco curing
US9095878B2 (en) * 2006-08-02 2015-08-04 Ford Motor Company Coating compositions and methods of applying the same
CN101541536A (zh) * 2006-11-21 2009-09-23 西巴控股有限公司 用于制造安全产品的装置和方法
WO2008119688A1 (en) * 2007-04-03 2008-10-09 Basf Se Photoactivable nitrogen bases

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2614676C2 (ru) * 2011-11-30 2017-03-28 Сикпа Холдинг Са Маркированная композиция покрытия и способ ее аутентификации

Also Published As

Publication number Publication date
CN101522745B (zh) 2013-06-19
JP5345537B2 (ja) 2013-11-20
CN101522745A (zh) 2009-09-02
EP2066721B1 (en) 2017-12-27
US20090298962A1 (en) 2009-12-03
WO2008037635A1 (en) 2008-04-03
BRPI0717655A2 (pt) 2014-04-29
JP2010505013A (ja) 2010-02-18
BRPI0717655B1 (pt) 2018-12-18
KR20090077936A (ko) 2009-07-16
EP2066721A1 (en) 2009-06-10
KR101492423B1 (ko) 2015-02-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2009115962A (ru) Фотолатентные основания для систем, основанных на блокированных изоцианатах
JP2010505013A5 (ru)
JP4173567B2 (ja) モノおよびポリアスパルテートの製造方法
US9944821B2 (en) Polyaspartic coating compositions
FI89930B (fi) Pao omaettade olefinfoereningar och vaeteaktiva foereningar baserad haerdningsblandning och pao denna baserad haerdningsprodukt
US6084026A (en) Coating compositions having extended pot life and shortened cure time and combination of chemicals used therein
JP4347945B2 (ja) Ｃｈ酸性エステルでブロックした熱黄変安定化ポリイソシアネート
US7851530B2 (en) Carbon-substituted methyl amine derivatives and their use as a rheology control agents
EP1641888B1 (en) Amino acid derivatives and their use as a sag control agent
SK308792A3 (en) Single-component paint agent and its using for production of acid-resistant coating
ATE532808T1 (de) Blockierte isocyanate und ihre verwendung in beschichtungszusammensetzungen
BRPI0713580B1 (pt) Composição de revestimento cúravel com radiação actínica, processo de formação de um revestimento sobre um substrato, e, estojo de partes para a preparação de uma composição de revestimento curável com radiação actínica
JP2002526551A5 (ru)
US4595648A (en) Radiation-sensitive plates formed using diazonium salts
US4645818A (en) Heat-curable epoxide resin compositions
ATE173279T1 (de) Überzugszusammensetzungen auf der basis von aldiminen und allophanatgruppen enthaltenden polyisocyanaten
JPS6270457A (ja) ハイソリツドのコ−テイング組成物
US11427673B2 (en) Alternative crosslinking mechanisms for polyurethane-based systems
EP0227140A1 (en) Vapour-phase cure of a coating composition containing an aliphatic polyisocyanate and a tertiary amine polyahl
JP2003313265A (ja) ポリウレア樹脂組成物、ポリウレア被膜の製造方法、ポリウレア樹脂用硬化剤及びポリウレア樹脂形成用の組成物セット
US20060100361A1 (en) Delayed crosslinking polycondensable composition, use thereof for producing coatings and resulting coatings
FR2797629A1 (fr) Utilisation de pyrone(s) ou equivalent pour masquer des isocyanates, procede de masquage, isocyanates ainsi masques, composition en contenant, procede de revetement utilisant ces compositions, revetement ainsi obtenu
JP7324790B2 (ja) 塗料組成物
WO2004044026A1 (en) Polyurea coatings having improved pot life
EP3693403A1 (en) Squarate compositions

Legal Events

Date Code Title Description
FA92 Acknowledgement of application withdrawn (lack of supplementary materials submitted)

Effective date: 20120625