RU2008114376A - Установка для плазменной обработки бесконечного материала - Google Patents
Установка для плазменной обработки бесконечного материала Download PDFInfo
- Publication number
- RU2008114376A RU2008114376A RU2008114376/28A RU2008114376A RU2008114376A RU 2008114376 A RU2008114376 A RU 2008114376A RU 2008114376/28 A RU2008114376/28 A RU 2008114376/28A RU 2008114376 A RU2008114376 A RU 2008114376A RU 2008114376 A RU2008114376 A RU 2008114376A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- installation according
- discharge
- energy
- endless material
- external electrode
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32018—Glow discharge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32055—Arc discharge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/3266—Magnetic control means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32733—Means for moving the material to be treated
- H01J37/32752—Means for moving the material to be treated for moving the material across the discharge
- H01J37/32761—Continuous moving
- H01J37/3277—Continuous moving of continuous material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/32—Processing objects by plasma generation
- H01J2237/33—Processing objects by plasma generation characterised by the type of processing
- H01J2237/332—Coating
- H01J2237/3322—Problems associated with coating
- H01J2237/3325—Problems associated with coating large area
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Treatment Of Fiber Materials (AREA)
Abstract
1. Установка для плазменной обработки бесконечного материала с, по меньшей мере, одной вакуумируемой разрядной камерой (3а), через которую может непрерывно транспортироваться бесконечный материал (1), причем каждая разрядная камера (3а) имеет внешний электрод (5, 51-57), который расположен электрически изолированно по отношению к бесконечному материалу, с устройством для контроля газовой атмосферы в упомянутой, по меньшей мере, одной разрядной камере и со снабжающим энергией устройством (30) для подачи электрической разрядной энергии к сформированному между внешним электродом соответствующей разрядной камеры и бесконечным материалом в качестве внутреннего электрода разрядному промежутку (G), отличающаяся тем, что снабжающее энергией устройство (30) представляет собой выполненный с возможностью импульсной подачи разрядной энергии собственный источник тока, который включает в себя, по меньшей мере, один элемент (32) индуктивности в качестве аккумулятора энергии, причем элемент индуктивности выполнен с возможностью совместного включения с согласованным с ним разрядным промежутком (G) или последовательно с несколькими согласованными с ним разрядными промежутками. ! 2. Установка по п.1, отличающаяся тем, что упомянутый, по меньшей мере, один элемент (32) индуктивности во время импульса подачи энергии постоянно совместно включен только с одним разрядным промежутком (G) и предпочтительным образом во время пауз между импульсами подачи энергии осуществляет переключение к другому разрядному участку. ! 3. Установка по п.1 или 2, отличающаяся тем, что элемент (32) индуктивности заряжается только по время импульсов подачи энергии. !
Claims (24)
1. Установка для плазменной обработки бесконечного материала с, по меньшей мере, одной вакуумируемой разрядной камерой (3а), через которую может непрерывно транспортироваться бесконечный материал (1), причем каждая разрядная камера (3а) имеет внешний электрод (5, 51-57), который расположен электрически изолированно по отношению к бесконечному материалу, с устройством для контроля газовой атмосферы в упомянутой, по меньшей мере, одной разрядной камере и со снабжающим энергией устройством (30) для подачи электрической разрядной энергии к сформированному между внешним электродом соответствующей разрядной камеры и бесконечным материалом в качестве внутреннего электрода разрядному промежутку (G), отличающаяся тем, что снабжающее энергией устройство (30) представляет собой выполненный с возможностью импульсной подачи разрядной энергии собственный источник тока, который включает в себя, по меньшей мере, один элемент (32) индуктивности в качестве аккумулятора энергии, причем элемент индуктивности выполнен с возможностью совместного включения с согласованным с ним разрядным промежутком (G) или последовательно с несколькими согласованными с ним разрядными промежутками.
2. Установка по п.1, отличающаяся тем, что упомянутый, по меньшей мере, один элемент (32) индуктивности во время импульса подачи энергии постоянно совместно включен только с одним разрядным промежутком (G) и предпочтительным образом во время пауз между импульсами подачи энергии осуществляет переключение к другому разрядному участку.
3. Установка по п.1 или 2, отличающаяся тем, что элемент (32) индуктивности заряжается только по время импульсов подачи энергии.
4. Установка по п.1 или 2, отличающаяся тем, что элемент (32) индуктивности заряжается только во время пауз между импульсами подачи энергии.
5. Установка по п.1, отличающаяся тем, что снабжающее энергией устройство (30) включает в себя ограничивающую выходное напряжение схему (33).
6. Установка по п.1 или 5, отличающаяся тем, что снабжающее энергией устройство включает в себя электронный включающий механизм для подачи импульсов энергии выбираемой полярности к разрядному промежутку.
7. Установка по п.1, отличающаяся тем, что между упомянутым, по меньшей мере, одним элементом индуктивности снабжающего энергией устройства и упомянутой, по меньшей мере, одной разрядной камерой расположена, по меньшей мере, одна корректирующая схема для подавления или соответственно компенсации паразитных высокочастотных эффектов или соответственно их влияний, например, на индуктивность проводника электрического тока, емкость разрядной камеры или соответственно электродов и тому подобное.
8. Установка по п.1, отличающаяся тем, что в ней друг за другом расположено несколько разрядных камер, через которые проходит бесконечный материал без контакта в разрядных камерах или между ними.
9. Установка по п.1, отличающаяся тем, что предусмотрена система (6, 6') с магнитами высокой мощности, которая в области внешнего электрода (5) создает сильное, ориентированное, по существу, параллельно бесконечному материалу магнитное поле, по меньшей мере, 120 мТл, предпочтительно, по меньшей мере, 400 мТл, самое предпочтительное, по меньшей мере, 700 мТл.
10. Установка по п.9, отличающаяся тем, что система (6') с магнитами высокой мощности выполнена с возможностью создания, по существу, однородного по ходу своей продольной протяженности магнитного поля.
11. Установка по п.10, отличающаяся тем, что система (6') с магнитами высокой мощности представляет собой окружающую внешний электрод катушку (63), которая расположена, по существу, коаксиально бесконечному материалу (1), причем катушка, предпочтительным образом выполнена в виде охлаждаемой, в частности охлаждаемой жидкостью, катушки, при необходимости в виде сверхпроводящего электромагнита.
12. Установка по п.9, отличающаяся тем, что система (6) с магнитами высокой мощности выполнена с возможностью создания неоднородного по ходу своей продольной протяженности магнитного поля, максимумы которого определяют максимумы интенсивности обработки бесконечного материала.
13. Установка по п.12, отличающаяся тем, что система (6) с магнитами высокой мощности выполнена в виде системы с постоянными магнитами, которая включает в себя, в частности, анизотропные постоянные магниты (61), предпочтительным образом, из NdFeB-постоянных магнитов, которые образуют, по существу, боковые стенки призмы с многоугольным поперечным сечением.
14. Установка по п.13, отличающаяся тем, что предусмотрены замыкающие элементы (62), которые концентрируют магнитное поле системы (6) с постоянными магнитами в области газового разряда, причем предпочтительным образом, направление намагничивания магнитов ориентировано, по существу, радиально относительно поперечного сечения призмы.
15. Установка по любому из пп.9-14, отличающаяся тем, что внешний электрод (5) в своей продольной протяженности не выступает из магнитного поля.
16. Установка по любому из пп.9-14, отличающаяся тем, что внешний электрод в своей продольной протяженности в, по меньшей мере, одном месте выступает из магнитного поля.
17. Установка по п.1, отличающаяся тем, что внешний электрод (5, 51-55, 56, 57), по существу, полностью оптически плотно окружает бесконечный материал в проекции на плоскость поперечного сечения бесконечного материала.
18. Установка по п.17, отличающаяся тем, что внешний электрод (5) образует часть разрядной камеры и предпочтительным образом является охлаждаемым, в частности охлаждаемым жидкостью.
19. Установка по п.17 или 18, отличающаяся тем, что соотношение между площадью поперечного сечения внутри внешнего электрода (5, 51-57) и площадью поперечного сечения наименьших выпуклых огибающих бесконечного материала (1) составляет, по меньшей мере, 4:1, лучше, по меньшей мере, 10:1, а предпочтительно, по меньшей мере, 20:1.
20. Установка по п.1, отличающаяся тем, что давление в разрядной камере может устанавливаться как 0,1-100 мбар, предпочтительнее 0,5-50 мбар, наиболее предпочтительно 1-10 мбар.
21. Установка по п.1, отличающаяся тем, что установка для контроля газовой атмосферы включает в себя систему предкамер и/или вспомогательных камер, причем между камерами этой системы предусмотрены шлюзовые отверстия, через которые проходит бесконечный материал, причем, по меньшей мере, одно шлюзовое отверстие выполнено в виде туннеля (41), который имеет соотношение между своей длиной и своей шириной в свету, по меньшей мере, 2:1, предпочтительно, по меньшей мере, 4:1, и при необходимости выполнен в качестве самостоятельного компонента или и в качестве особой формы осуществления другого компонента.
22. Установка по п.21, отличающаяся тем, что в качестве туннелей (41) выполнены те шлюзы, в которых на обеих сторонах имеется пониженное давление и различные составы газов.
23. Установка по п.21 или 22, отличающаяся тем, что устройство для настройки газовой атмосферы включает в себя регенерационную систему, в которой газ может перетекать из вспомогательной камеры в предкамеру и/или во вспомогательную с более высоким уровнем давления.
24. Установка по п.23, отличающаяся тем, что предкамеры разделены на подкамеры и/или система вспомогательных камер составлена из отдельных вспомогательных камер, причем между подкамерами или соответственно вспомогательными камерами предусмотрены шлюзовые отверстия, через которые бесконечный материал может направляться с малыми потерями на трение сквозь подкамеры или соответственно вспомогательные камеры.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
ATA1496/2005 | 2005-09-12 | ||
AT0149605A AT502351A1 (de) | 2005-09-12 | 2005-09-12 | Anlage zur plasmaprozessierung von endlosmaterial |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2008114376A true RU2008114376A (ru) | 2009-10-20 |
RU2402098C2 RU2402098C2 (ru) | 2010-10-20 |
Family
ID=37492116
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2008114376/28A RU2402098C2 (ru) | 2005-09-12 | 2006-09-12 | Установка для плазменной обработки бесконечного материала |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1925015B1 (ru) |
CN (1) | CN101490793B (ru) |
AT (2) | AT502351A1 (ru) |
DE (1) | DE502006008352D1 (ru) |
RU (1) | RU2402098C2 (ru) |
WO (1) | WO2007030850A1 (ru) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AT503377B1 (de) * | 2006-02-02 | 2008-09-15 | Eiselt Primoz | Verfahren und vorrichtung zur plasmabehandlung von materialien |
CN102568990A (zh) * | 2012-03-14 | 2012-07-11 | 无锡康力电子有限公司 | 真空镀膜用离子轰击板机构 |
US11019715B2 (en) * | 2018-07-13 | 2021-05-25 | Mks Instruments, Inc. | Plasma source having a dielectric plasma chamber with improved plasma resistance |
CN111146967B (zh) * | 2019-12-25 | 2023-08-15 | 兰州空间技术物理研究所 | 一种高可靠沿面击穿放电触发式脉冲引弧电源 |
CN111545148B (zh) * | 2020-04-07 | 2022-06-07 | 华东交通大学 | 一种手性催化方法及其催化装置 |
CN112748672B (zh) * | 2020-12-29 | 2022-03-29 | 中国航天空气动力技术研究院 | 一种电弧加热烧蚀状态参数的处理***及方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5863376A (en) * | 1996-06-05 | 1999-01-26 | Lam Research Corporation | Temperature controlling method and apparatus for a plasma processing chamber |
US6083355A (en) * | 1997-07-14 | 2000-07-04 | The University Of Tennessee Research Corporation | Electrodes for plasma treater systems |
FR2836157B1 (fr) * | 2002-02-19 | 2004-04-09 | Usinor | Procede de nettoyage de la surface d'un materiau enduit d'une susbstance organique, generateur et dispositif de mise en oeuvre |
US6808607B2 (en) * | 2002-09-25 | 2004-10-26 | Advanced Energy Industries, Inc. | High peak power plasma pulsed supply with arc handling |
AT414215B (de) * | 2003-02-12 | 2006-10-15 | Peter Ziger | Anlage zur plasmaprozessierung |
US6818853B1 (en) * | 2003-05-30 | 2004-11-16 | Alameda Applied Sciences Corp. | Vacuum arc plasma thrusters with inductive energy storage driver |
DE10361908B4 (de) * | 2003-12-23 | 2013-04-11 | Xtreme Technologies Gmbh | Anordnung zur Erzeugung impulsförmiger Ströme hoher Repetitionsrate und hoher Stromstärke für gasentladungsgepumpte Strahlungsquellen |
-
2005
- 2005-09-12 AT AT0149605A patent/AT502351A1/de not_active Application Discontinuation
-
2006
- 2006-09-12 EP EP06774775A patent/EP1925015B1/de not_active Not-in-force
- 2006-09-12 WO PCT/AT2006/000377 patent/WO2007030850A1/de active Search and Examination
- 2006-09-12 DE DE502006008352T patent/DE502006008352D1/de active Active
- 2006-09-12 RU RU2008114376/28A patent/RU2402098C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2006-09-12 AT AT06774775T patent/ATE488857T1/de active
- 2006-09-12 CN CN2006800394435A patent/CN101490793B/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ATE488857T1 (de) | 2010-12-15 |
EP1925015A1 (de) | 2008-05-28 |
RU2402098C2 (ru) | 2010-10-20 |
EP1925015B1 (de) | 2010-11-17 |
WO2007030850A1 (de) | 2007-03-22 |
CN101490793B (zh) | 2011-10-12 |
AT502351A1 (de) | 2007-03-15 |
DE502006008352D1 (de) | 2010-12-30 |
CN101490793A (zh) | 2009-07-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2008114376A (ru) | Установка для плазменной обработки бесконечного материала | |
KR101497413B1 (ko) | 용량 결합 플라즈마 반응기 및 이를 이용한 플라즈마 처리 방법 및 이것에 의해 제조된 반도체 장치 | |
US20030070913A1 (en) | Capacitive discharge plasma ion source | |
SE0102134D0 (sv) | Method and apparatus for plasma generation | |
US20070137576A1 (en) | Technique for providing an inductively coupled radio frequency plasma flood gun | |
KR20020029743A (ko) | 가스와 재료를 처리하기 위한 유도결합 링-플라즈마소스장치 및 그의 방법 | |
WO2003054912A1 (en) | Method and apparatus comprising a magnetic filter for plasma processing a workpiece | |
JP2010534456A (ja) | 高周波電流供給装置、とりわけプラズマ給電装置および高周波電流供給装置の駆動方法 | |
US6919672B2 (en) | Closed drift ion source | |
CN101300658A (zh) | 用于冗余阳极溅射的方法和*** | |
KR20010062136A (ko) | 자외선을 방출하는 가스 레이저 장치 | |
EP1276136B1 (en) | Phase controlled multi-electrode type ac discharge light source | |
CN111433593A (zh) | 气体分析器 | |
NO20022358D0 (no) | Plasmabehandlingsapparat med en elektrisk ledende vegg | |
US7884302B2 (en) | Plasma processing installation, influenced by a magnetic field, for processing a continuous material or a workpiece | |
RU2074905C1 (ru) | Способ ионноплазменной обработки длинномерных изделий | |
RU2808774C1 (ru) | Способ получения заряженных частиц | |
RU2050044C1 (ru) | Способ ускорения электронов в цилиндрическом бетатроне и устройство для его осуществления | |
KR101437861B1 (ko) | 자속 채널에 결합된 플라즈마 챔버를 구비한 고효율플라즈마 반응기 | |
SU1625257A1 (ru) | Импульсный источник ионов | |
RU2173035C1 (ru) | Индукционный ускоритель | |
DE602005027435D1 (de) | Ionenquelle mit hoher Stromdichte | |
RU2069938C1 (ru) | Устройство для получения пучка поляризованных электронов | |
KR100297366B1 (ko) | 동적 플라즈마의 확산에 의한 관내벽 표면 처리 장치 | |
CZ300556B6 (cs) | Výbojka s nežhavenou katodou |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20130913 |