CN102568990A - 真空镀膜用离子轰击板机构 - Google Patents

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Abstract

一种真空镀膜用离子轰击板机构，它包括电源、与电源阴极相连的充气管（1）、与电源阳极相连的冷却水管（2）和绝缘件（7），所述的冷却水管（2）与充气管（1）相对设置，待轰击基材（8）从冷却水管（2）和充气管（1）间的夹隙中通过，进行离子轰击，所述的充气管（1）的一端为进气口（3），充气管（1）上与待轰击基材（8）相对的一面设有若干个出气口（4），所述的充气管（1）和冷却水管（2）的两端夹装绝缘件（7）。本发明通过物理方法对基材表面改性，提高基材于膜层的附着力，改善品质。其设计结构简单，安装方便；能保证镀件基材的清洁、干燥，避免底涂层出现麻点、附着力差等缺点。

Description

真空镀膜用离子轰击板机构
技术领域
 本发明涉及真空镀膜领域，尤其是真空镀膜中，采用离子轰击基材进行基材改性和清洗的机构，具体地说是一种真空镀膜用离子轰击板机构。
 
背景技术
 目前，在真空镀膜领域，国内外一般采用吹风、粘尘的方式对基材进行清洗，然后采用喷涂或浸涂的方式对基材进行表面改性。这种大气环境下的化学改性方法，容易对基材产生表面缺陷，而且污染环境。在真空镀膜工艺中一般没有采用过阳极离子板的设备和机构，当基材运行速度较快的情况下，镀膜时，由于溅射能量的有限，容易造成膜层和基材的附着力不是太好。因此影响镀膜产品的质量和产量。
 
发明内容
本发明的目的是针对传统的基材改性和清洗中所存在的容易对基材产生表面缺陷，污染环境和膜层与基材的附着力不好的问题，提出一种设计结构简单，安装方便的真空镀膜用离子轰击板机构。
本发明的技术方案是：
一种真空镀膜用离子轰击板机构，它包括电源、与电源阴极相连的充气管、与电源阳极相连的冷却水管和绝缘件，所述的冷却水管与充气管相对设置，待轰击基材从冷却水管和充气管间的夹隙中通过，进行离子轰击，所述的充气管的一端为进气口，充气管上与待轰击基材相对的一面设有若干个出气口，所述的充气管和冷却水管的两端夹装绝缘件。
本发明的阳极与阴极采用不锈钢板材。
本发明的冷却水管的两端分别为进水口和出水口，进水口和出水口串接，循环冷却。
本发明的充气管中充入氩气。
本发明的若干个出气口均匀的布置在充气管上。
本发明的各出气口的孔径均为0.5mm，各出气口的间隔为30mm。
本发明的绝缘件为聚四氟绝缘件。
本发明的有益效果：
本发明通过物理方法对基材表面改性，提高基材于膜层的附着力，改善品质。
本发明的设计结构简单，安装方便；能保证镀件基材的清洁、干燥，避免底涂层出现麻点、附着力差等缺点。
本发明的工作压力：0.1-1Pa；工作电压：几百-1000V  电流：200-800mA。
 
附图说明
图1是本发明的结构示意图。
其中：1、进气管；2、冷却水管；3、进气口；4、出气口；
5、进水口；6、出水口；7、绝缘件；8、基材。
 
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的说明。
如图1所示，一种真空镀膜用离子轰击板机构，它包括电源、与电源阴极相连的充气管1、与电源阳极相连的冷却水管2和绝缘件7，所述的冷却水管2与充气管1相对设置，待轰击基材8从冷却水管2和充气管1间的夹隙中通过，进行离子轰击，所述的充气管1的一端为进气口3，充气管1上与待轰击基材8相对的一面设有若干个出气口4，所述的充气管1和冷却水管2的两端夹装绝缘件7。
本发明的阳极与阴极采用不锈钢板材。
本发明的冷却水管2的两端分别为进水口5和出水口6，进水口5和出水口6串接，循环冷却。
本发明的充气管1中充入氩气；若干个出气口4均匀的布置在充气管1上；各出气口4的孔径均为0.5mm，各出气口4的间隔为30mm。
本发明的绝缘件7为聚四氟绝缘件。
具体实施时：
阳极与阴极用不锈钢板材制作，在其内部导入循环冷却水，阴极朝基材一面布入氩气充气管，管上每隔30mm用激光钻0.5mm出气孔，阴阳极间用聚四氟绝缘材料间隔，采用阳离子对于基材进行改性，提高基材于膜层的附着力，改善品质。
本发明未涉及部分均与现有技术相同或可采用现有技术加以实现。

Claims (7)

1.一种真空镀膜用离子轰击板机构，其特征是它包括电源、与电源阴极相连的充气管（1）、与电源阳极相连的冷却水管（2）和绝缘件（7），所述的冷却水管（2）与充气管（1）相对设置，待轰击基材（8）从冷却水管（2）和充气管（1）间的夹隙中通过，进行离子轰击，所述的充气管（1）的一端为进气口（3），充气管（1）上与待轰击基材（8）相对的一面设有若干个出气口（4），所述的充气管（1）和冷却水管（2）的两端夹装绝缘件（7）。
2.根据权利要求1所述的真空镀膜用离子轰击板机构，其特征是所述电源的阳极与阴极采用不锈钢板材。
3.根据权利要求1所述的真空镀膜用离子轰击板机构，其特征是所述的冷却水管（2）的两端分别为进水口（5）和出水口（6），进水口（5）和出水口（6）串接，循环冷却。
4.根据权利要求1所述的真空镀膜用离子轰击板机构，其特征是所述的充气管（1）中充入的气体为氩气。
5.根据权利要求1所述的真空镀膜用离子轰击板机构，其特征是所述的若干个出气口（4）均匀的布置在充气管（1）上。
6.根据权利要求1、5所述的真空镀膜用离子轰击板机构，其特征是所述的各出气口（4）的孔径均为0.5mm，各出气口（4）的间隔为30mm。
7.根据权利要求1所述的真空镀膜用离子轰击板机构，其特征是所述的绝缘件（7）为聚四氟绝缘件。
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PB01 Publication
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WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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