NO153803B - Fremgangsmaate og innretning for fremstilling av optiske fiberemner. - Google Patents

Fremgangsmaate og innretning for fremstilling av optiske fiberemner. Download PDF

Info

Publication number
NO153803B
NO153803B NO821973A NO821973A NO153803B NO 153803 B NO153803 B NO 153803B NO 821973 A NO821973 A NO 821973A NO 821973 A NO821973 A NO 821973A NO 153803 B NO153803 B NO 153803B
Authority
NO
Norway
Prior art keywords
deuterium
reagents
reaction chamber
flow
membrane
Prior art date
Application number
NO821973A
Other languages
English (en)
Other versions
NO153803C (no
NO821973L (no
Inventor
Eros Modone
Giacomo Roba
Original Assignee
Cselt Centro Studi Lab Telecom
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Cselt Centro Studi Lab Telecom filed Critical Cselt Centro Studi Lab Telecom
Publication of NO821973L publication Critical patent/NO821973L/no
Publication of NO153803B publication Critical patent/NO153803B/no
Publication of NO153803C publication Critical patent/NO153803C/no

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00—Glass compositions
    • C03C3/04—Glass compositions containing silica
    • C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/01413—Reactant delivery systems
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C13/00—Fibre or filament compositions
    • C03C13/04—Fibre optics, e.g. core and clad fibre compositions
    • C03C13/045—Silica-containing oxide glass compositions
    • C03C13/047—Silica-containing oxide glass compositions containing deuterium
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/44—Mechanical structures for providing tensile strength and external protection for fibres, e.g. optical transmission cables
    • G02B6/4401—Optical cables
    • G02B6/4429—Means specially adapted for strengthening or protecting the cables
    • G02B6/44382—Means specially adapted for strengthening or protecting the cables the means comprising hydrogen absorbing materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00—Type of glass produced
    • C03B2201/06—Doped silica-based glasses
    • C03B2201/20—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine
    • C03B2201/22—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine doped with deuterium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2207/00—Glass deposition burners
    • C03B2207/80—Feeding the burner or the burner-heated deposition site
    • C03B2207/81—Constructional details of the feed line, e.g. heating, insulation, material, manifolds, filters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2201/00—Glass compositions
    • C03C2201/06—Doped silica-based glasses
    • C03C2201/20—Doped silica-based glasses containing non-metals other than boron or halide
    • C03C2201/21—Doped silica-based glasses containing non-metals other than boron or halide containing molecular hydrogen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2201/00—Glass compositions
    • C03C2201/06—Doped silica-based glasses
    • C03C2201/20—Doped silica-based glasses containing non-metals other than boron or halide
    • C03C2201/22—Doped silica-based glasses containing non-metals other than boron or halide containing deuterium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2203/00—Production processes
    • C03C2203/50—After-treatment
    • C03C2203/52—Heat-treatment
    • C03C2203/54—Heat-treatment in a dopant containing atmosphere
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S65/00—Glass manufacturing
    • Y10S65/90—Drying, dehydration, minimizing oh groups

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Reinforced Plastic Materials (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Artificial Filaments (AREA)
  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Coloring Foods And Improving Nutritive Qualities (AREA)
  • Absorbent Articles And Supports Therefor (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Yarns And Mechanical Finishing Of Yarns Or Ropes (AREA)

Description

Foreliggende oppfinnelse vedrører en fremgangsmåte og en innretning for fremstilling av optiske fiberemner.
Tilstedeværelsen av OH-hydroksylgrupper i fibermaterialet er kjent å gi opphav til absorbsjonstopper i den minimale demp-ningsåpning anvendt for transmisjon i bølgeområdet mellom 0,7 og 1,6 [ im. Disse OH-grupper forefinnes i emnene på grunn av tilstedeværelsen av hydrogen i råmaterialet som anvendes direkte ved fremgangsmåten. Mer spesielt er det tilstede i kjemiske reagenser (halogenider og oksygen) fra hvilke dopet silifea fremstilles og i understøttelsesinnregningene for emnene.
I grunnreagensene forefinnes hydrogen både i molekylær tilstand og i forbindelser, slik som triklorsilan, SiHCl^, og andre. I forbindelse med oksygen anvendt som reagensbærer gir dette økning av hydrogen-oksygen-bindinger i silika-matriksen under partikkelavsetningsfasen.
Rensning av reagenset kan oppnås på forskjellige måter: destillasjon, sublimasjon, filtrering eller ved anvendelse av fotokjemisk aktivert klorid. Uheldigvis krever disse metoder en forbehandling av reagensene som på grunn av det ekstreme renhetsnivå (99,9999%) krever en spesiell omsorg av forbrukeren. Dessuten innebærer rensningen et ekstra fremstillingstrinn, hvorved en får en forlenget fremstill-ingstid.
Disse ulemper overvinnes ved fremgangsmåten og innretningen for online dehydrogenering av fiber-trekningsemner ifølge oppfinnelsen som muliggjør hydrogen-rensningen i emnet under avsetning av dopede silikapartikler, uten en forbehandling av grunnreagensene, og som ikke krever ytterligere arbeidstrinn foruten de som vanligvis utføres under frem-stillingen av emnene.
Oppfinnelsen vedrører altså en fremgangsmåte for fremstilling av optiske fiberemner, idet at for å styre hastigheten og verdien av deuteriumstrømmen fra en tank, som skal tilsettes til reagensstrømmen til et reaksjonskammer, foretas følgende operasjoner: dopede silikapartikler dannet ved syntese av dampfase-reagenser ved en høy temperatur, avsettes på en overflate av et substrat, idet deuterium tilsettes reagensene for å oppnå kontinuerlig dehydrogenering av emnene ved isotopisk hydrogen-deuteriumutveksling under hele fremstillingstiden og for hver partikkel, idet dampfase-reagensene og deuterium tilveiebringes i form av en strøm som er rettet mot substratet, idet fremgangsmåten er karakterisert ved at deuterium settes til strømmen av reagenser i en slik liten strømningsgrad 0Q mg/s at reaksjoner utenom hydrogen-deuterium-utveksling unngås, idet deuterium-strømningsgraden bestemmes av følgende forhold:
hvori
fl = utvekslingsef f ektivitet,
MD
j^— H= forholdet av molekylvekten av D2 og H,,,
fe = forurensning = H-innhold av glassmaterialet (vektdeler pr. million),
^R(t) = avsetningsgrad (mg/s).
Den bestemte deuteriumstrøm-konsentrasjon oppnås ved molekylær effusjon. Videre kan den bestemte deuteriumstrøms konsentra-sjon oppnås ved diffusjon gjennom en tynn permeabel membran.
Videre vedrører oppfinnelsen en innretning for fremstilling av optiske fibre i henhold til ovennevnte fremgangsmåte og omfattende et reaksjonskammer, hvor dampfasereagenser fremstilles ved høy temperatur, en ledning som forsyner reaksjonskammeret/ og måleinnretninger som forsyner kontrollerte mengder Oppfinnelsen vedrører altså en fremgangsmåte for fremstilling av optiske fiberemner, idet at for å styre hastigheten og verdien av deuteriumstrømmen fra en tank, som skal tilsettes til reagensstrømmen til et reaksjonskammer, foretas følgende operasjoner: dopede silikapartikler dannet ved syntese av dampfase-reagenser ved en høy temperatur, avsettes på en overflate av et substrat, idet deuterium tilsettes reagensene for å oppnå kontinuerlig dehydrogenering av emnene ved isotopisk hydrogen-deuteriumutveksling under hele fremstillingstiden og for hver partikkel, idet dampfase-reagensene og deuterium tilveiebringes i form av en strøm som er rettet mot substratet, idet fremgangsmåten er karakterisert ved at deuterium settes til strømmen av reagenser i en slik liten strømningsgrad 0D mg/s at reaksjoner utenom hydrogen-deuterium-utveksling unngås, idet deuterium-strømningsgraden bestemmes av følgende forhold:
hvori
ti = utvekslingsef fektivitet,
MD
^— H= forholdet av molekylvekten av D2 og H2»
e = forurensning = H-innhold av glassmaterialet (vektdeler pr. million),
®R(t) = avsetningsgrad (mg/s).
Den bestemte deuteriumstrøm-konsentrasjon oppnås ved molekylær effusjon. Videre kan den bestemte deuteriumstrøms konsentra-sjon oppnås ved diffusjon gjennom en tynn permeabel membran.
Videre vedrører oppfinnelsen en innretning for fremstilling av optiske fibre i henhold til ovennevnte fremgangsmåte og omfattende et reaksjonskammer, hvor dampfasereagenser fremstilles ved høy temperatur, en ledning som forsyner reaksjonskammeret, og måleinnretninger som forsyner kontrollerte mengder gruppene. I dette tilfelle forblir kun den tredje overtone av O-H-bindingen innen bølgelengdeområdet anvendt ved optiske fiberkommunikasjoner, men den er ca. 90 dB/km/ppm lavere i forhold til den andre overtone slik at dens absorbsjonsvirkning blir ubetydelig.
I henhold til oppfinnelsen blir den isotopiske utveksling fremkalt under syntesefasen av forbindelsen (SiC^, GeC^,
B2°3' P2°5' som emnet er fremstilt av. Typiske reaksjoner
som finner sted i denne fase er de følgende:
Den første er en utvekslingsreaksjon på en dannet silika-binding eller på en binding som er utledet fra reaksjonen av et utgangsmateriale omfattende hydrogen (SiHCl^). Reak-sjonsproduktet HD kan gi opprinnelse til ytterligere reaksjoner som gir en binding av en ny OD-binding i silikaet.
Ligning (2) representerer den samtidige reaksjon mellom molekylært hydrogen og deuterium med silika. En OD-binding finner igjen sted, mens hydrogenet ikke deltar i reaksjonen og blir utstøtt som molekylært hydrogen eller det omsettes med oksygen, som anvendes som bærer, og utstøtes som 1^0.
Dessuten vil hydrogenet som har blitt bundet i det nettopp avsatte sjikt erstattes med deuterium under den sukessive sjiktavsetningen, hvorved fåes emner som er fullstendig de-hydrogenert.
Fig. 1 viser apparat-blokkdiagrammet for emnefremstillingen med delen som er nødvendig for utførelse av fremgangsmåten i henhold til oppfinnelsen.
FR angir en streket blokk som inneholder innretningene for lagring av reagenser og deres strømnings- og kontrollinnret-ninger. SO angir tanken for oksygen anvendt som bærer, VI.., V4, Vil.... V14 angir konvensjonelle ventiler, FMl.... FM4 angir massestrømningskontrollorganer og VAI.... VA3 angir væske-reagensfordampere. Analogt angir SC en beholder for reagenser i dampfase ved værelsestemperatur.
Strømmen av oksygen som forefinnes i SO, målt og kontrollert gjennom kontrollorganene FMl FM3 og ventilene VI V3 og Vil V13, passerer gjennom fordampere VAI VA3 , hvor den blir anriket i dampfasen av reagenser som inneholder i disse (SiCl4, GeCl^, POCl^)• Deretter forenes den med den eventuelle strømning av reagenser i dampfase ved værelsestemperatur (BCl^), kontrollert av FM4, V4 og V14 og målt av FM4, og innledes gjennom ledning 1 på reaksjonskammeret, representert ved den strekede blokk angitt av CR.
I CR kontrollerer ventilen V15 den totale strømning av
reagensene som innledes til understøttelsesrøret TQ, innenfor hvilket reaksjonen finner sted. Denne blir termisk aktivert av en ovn FO som forflyttes i aksial retning av trekkvogn CT. Røret TQ roteres ved hjelp av to spindler MAI, MA2, kontrollert av et egnet instrument. Gjennom røret 2 avledes av-gassene ut av røret.
I den strekede blokk angitt av OT forefinnes ventilen 5 og massestrømningskontrollorganet FM5 for kontroll og måling av oksygenstrømmen som deltar i reaksjonen.
Den strekede blokk angitt av DD inneholder innretninger
for kontroll av deuteriumstrømmen anvendt for isotop-ut-vekslingen. PV angir en roterende vakuumpumpe, M er en trykkmåler, SD er deuterium-beholderen, R er et trykkredu-seringsorgan. P angir et trykkstyringsorgan, V6 V10 angir noen ventiler og NO angir en innretning for blanding av deuterium og oksygen, som nedenfor vil bli omtalt, og for å få styre strømningshastigheten for deuterium i av-
hengighet av tilføringshastigheten for reagensene til fiber-emnet. Ved innretning av ventiler V6 V10 fåes vakuum ved hjelp av pumpe PV i innretningen NO. Under stabilt vakuum blir ved påvirkning av ventiler V8 og V9, NO deretter satt under trykk ved arbeidstrykk av oksygen. Ved lukking av V8 og V9 og åpning av V6 og V10 injiseres deuterium til NO fra hvilket overføres deuterium gjennom ledning 1 til reaksjonskammeret.
I det spesielle tilfelle hvor avsetningshastigheten er
ca. 1 mg/s og hvor det fåes en D2 doping varierende fra 1-100 ppmw (vektdeler pr. million), må deuteriumstrømmen opp-rettholdes på verdier som ikke er lavere enn 1-100 mg/s for-utsatt en 100% omsetning.
For egnede dopingsverdier må deuteriumstrømmen ligge innenfor området 1,5 . 10 og 1,5 . 10"^ molekyler/s, da den molere masse D2 er lik 4.0272 g . mol .
Den ønskede deuteriumstrømningsgrad er beregnet med referanse til et "spesielt tilfelle", verdien av det spesielle tilfelle imidlertid må ekstrapoleres ifølge generell teknikk til det "generelle" tilfelle. Det spesielle tilfelle antar en avsetningsgrad på 1 mg/s glassmaterialavsetning for pre-formfabrikasjon. Selvsagt er det klart at hvis denne avsetningsgrad som uttrykkes 0R(t) i ligningen er forskjellig fra 1 mg/s, er også tallet av hydrogenatomer i OH-hydroksylgruppene proporsjonalt forskjellig, således at deuterium-strømningsgraden er proporsjonal i forhold til denne avsetningsgrad .
Videre antar det spesielle tilfelle en "D2 doping" fra 1-100 vektdeler pr. million, hvilket betyr forurensningen med H-atomet i de respektive bindinger. Hvis denne forurensning er høyere, vil mer deuterium være nødvendig for erstatningen og vice versa. Også for denne verdi eksisterer et proporsjonalt forhold.
Denne forurensningen benevnes i ligningen som refererer til vekten av hydrogenatomer som skal erstattes, selvsagt må forholdet mellom molekylærvekter (som er konstant) innføres i ligningen.
Med referanse til effektiviteten av utvekslingsreaksjonen
må det antas en 100% utveksling kan oppnås bare ved å iaktta spesielle temperatur- og varighetsbetingelser. Hvis disse betingelser ikke er tilfredsstillende, vil en lavere effekti-vitet måtte tillates.
Glassmaterialene har forskjellig innhold inneholdende OH-binding. Ved siden av slike forbindelsesinnhold er også rent silikon og andre silikonforbindelser tilstede. Innholdet av molekyler som har OH-bindingen som skal erstattes, kan variere fra 1-100 vektdeler pr. million. I formelen i krav 1 må følgelig denne verdi multipliseres med 1 million.
Som et resultat av dette, vil ligningen i krav 1, hvis den anvendes på tallverdiene ovenfor, vise seg å være korrekt.
Det er viktig å opprettholde strømmen innen det ovenfor angitte område for å være innen glassdannelsesbetingelser for silika og for ikke å forårsake samtidige reaksjoner med molekyler som samtidig er tilstede i reaksjonskammeret.
F.eks.:
Dessuten kan de mekaniske egenskaper av materialet bli for-andret .
De ovenfor angitte strømningsnivaåer er for lave for konvensjonelle strømnings-kontrollorgan som ikke har tilstrekkelig følsomhet. En god kontroll i blokken DD fåes ved anvendelse av innretningen NO som anvender det molekylære effusjons-prinsipp.
En tegning av denne innretning hvor delene for tydelighets skyld er rykket ut fra hverandre er vist i lengdesnittet i fig. 2.
NO består av to kammere Pl og P2, som er egnet for sammenskru-ing, og som er utstyrt med to endeplasserte sagtannformede koplingssykker. Mellom disse er innsatt en sirkulær membran med et sentralt hull med en diameter egnet for å opprettholde bestemte strømningsverdier. Tetningen er utført ved hjelp av to ringer ORI og 0R2.
Ved innvirkning av trykkreduseringsorganet R og trykk-kontroll-organet P i fig. 1 blir kammeret Pl av innretningen NO satt under trykk av deuterium og det oppnådde trykk holdes konstant. Derfor er i Pl trykket lik summen av oksygen (Pq2) °9 deuterium (P^) trykkene. I P2 forblir trykket ved utgangsverdien PQ2» da kammeret er i dynamisk tilstand under oksygenstrøm-ning ved hvilken deuterium overføres i reaksjonskammeret.
Deuteriumstrømmen <P gjennom NO er
hvor ° er størrelsen av membranhullet og ty er effusjons-hastigheten.
hvor N er antallet av molekyler pr. enhetsvolum og M er molekylmengden.
Med PD2 = 2050 dyn/cm<2>, *= 1,5 . IO<16> molekyler/s blir størrelsen av hullet 7,85 . 10 ^ cm2 .
Den ovenfor angitte beskrivelse er kun gitt som eksempel og må ikke oppfattes som en begrensning av noen art. Variasjoner og modifikasjoner kan gjøres innen rammen av oppfinnelsen.
Mer spesielt kan strømmen av deuterium kontrolleres ved å la denne diffundere fra kammer Pl til kammer P2 (fig. 2) gjennom en tynn membran som et resultat av membranpermeabilitet i stedet for å la denne diffundere gjennom et eneste sentralt hull. I dette tilfelle kan strømmen kontrolleres ved valg av enten trykkdifferanse eller membrantykkelse, membranet kan fortrinnsvis utføres av palladium eller sølv-palladium.

Claims (8)

1. Fremgangsmåte for fremstilling av optiske fiberemner, idet at for å styre hastigheten og verdien av deuteriumstrømmen fra en tank (SD), som skal tilsettes til reagensstrømmen til et reaksjonskammer (CR) foretas følgende operasjoner: dopede silikapartikler dannet ved syntese av dampfasereagenser ved en høy temperatur, avsettes på en overflate av et substrat, idet deuterium tilsettes reagensene for å oppnå kontinuerlig dehydrogenering av emnene ved isotopisk hydrogen-deuterium-utveksling under hele emnefremstillingstiden og for hver partikkel, idet dampfasereagensene og deuterium tilveiebringes i form av en strøm som er rettet mot substratet, karakterisert ved at deuterium settes til strømmen av reagenser i en slik liten strømningsgrad 0D mg/s at reaksjoner utenom hydrogen-deuterium-utveksling unngås, idet deuterium-strømningsgraden bestemmes av følgende forhold: hvori n = utvekslingseffektivitet, MD jq— H= forholdet av molekylvekten av og H2, = forurensning = H-innhold i glassmaterialet (vektdeler pr. million) ®R{ t) = avsetnin9s9ra<3 (mg/s).
2. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at den bestemte deuteriumstrøm-konsentrasjon oppnås ved molekylær effusjon.
3. Fremgangsmåte som angitt i krav 1, karakterisert ved at den bestemte deuteriumstrøm-konsentrasjon oppnås ved diffusjon gjennom en tynn permeabel membran.
4. Fremgangsmåte ifølge et av kravene 2 eller 3, karakterisert ved at for til strømmen av reagenser som overføres til reaksjonskammeret (CR) å sette strømmen av deuterium inneholdt i en tank (SD) og for å kon-trollere dens verdi, foretas følgende operasjoner: evakuering av en innretning (NO) adskilt ved hjelp av en deuterium-permeabel eller perforert membran (DF) i to kammere (Pl, P2) for deuterium-strømkontroll, presspåføring av innretningen til arbeidstrykk med oksygen, deuterium-trykkpåføring av kammeret (Pl) som kommuniserer med tanken (SD), idet det andre kammeret (P2) er dannet til å kommunisere med reaksjonskammeret (CR), kontroll av differansen av partialtrykkene av deuterium i kammerene (Pl og P2) i innretningen for å holde verdien konstant.
5. Innretning for fremstilling av optiske fiberemner ifølge fremgangsmåten ifølge krav 2, omfattende et reaksjonskammer (CR), hvor dampfasereagenser fremstilles ved- høy temperatur, en ledning (1) som forsyner reaksjonskammeret, og måleinnretninger (FR, DD) som forsyner kontrollerte mengder av reagensene til ledningen , idet en av måleinnretningene som leverer deuterium som skal settes til reagensene omfatter en deuterium-strømkontrollinnretning (NO), karakterisert ved at deuterium-strøm-kontrollinnretningen (NO) består av to kammere (Pl, P2) utstyrt med forbindelse for fleksible ledninger, og som er beregnet til å skrues sammen og er adskilt ved en membran (DF) med et hull kalibrert således for å oppnå en bestemt strøm.
6. Innretning for fremstilling av optiske f iberemner ved fremgangsmåten ifølge krav 3, omfattende et reaksjonskammer (CR), hvori dampfasereagensene fremstilles ved høy temperatur, en ledning (1) som mater reaksjonskammeret, idet måleinnretninger (FR, DD) som mater kontrollerte mengder av reagensene til ledningen (1) som leverer deuterium som skal settes til reagensene omfatter en deuterium-strømningskontrollinnret-ning (NO) , karakterisert ved at deuterium-strømnings-kontrollinnretningen (NO) består av to kammere (Pl, P2) utstyrt med forbindelser for fleksible ledninger og begrenset til å skrues sammen og adskilt ved en tynn permeabel membran for å gi den ønskede strømningshastighet.
7. Innretning ifølge krav 6, karakterisert ved at membranen er fremstilt av palladium.
8. Innretning ifølge krav 6, karakterisert ved at membranen er fremstilt av palladium-sølv.
NO821973A 1981-06-22 1982-06-14 Fremgangsmaate og innretning for fremstilling av optiske fiberemner. NO153803C (no)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
IT67857/81A IT1145157B (it) 1981-06-22 1981-06-22 Procedimento e dispositivo per la deidrogenazione in linea di preforme per fibre ottiche

Publications (3)

Publication Number Publication Date
NO821973L NO821973L (no) 1982-12-23
NO153803B true NO153803B (no) 1986-02-17
NO153803C NO153803C (no) 1986-05-28

Family

ID=11305832

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NO821973A NO153803C (no) 1981-06-22 1982-06-14 Fremgangsmaate og innretning for fremstilling av optiske fiberemner.

Country Status (12)

Country Link
US (1) US4445918A (no)
EP (1) EP0068388B1 (no)
JP (1) JPS57209842A (no)
AT (1) ATE12382T1 (no)
AU (1) AU533741B2 (no)
BR (1) BR8203594A (no)
CA (1) CA1198326A (no)
DE (2) DE3262779D1 (no)
DK (1) DK257682A (no)
ES (1) ES513112A0 (no)
IT (1) IT1145157B (no)
NO (1) NO153803C (no)

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3338714A1 (de) * 1983-10-25 1985-05-02 Wacker-Chemitronic Gesellschaft für Elektronik-Grundstoffe mbH, 8263 Burghausen Verfahren zur verringerung des hydroxylanteils in lichtwellenleitern
US4685945A (en) * 1984-02-06 1987-08-11 Friedemann Freund Method of processing high purity low-OH vitreous silica fibers
US4917084A (en) * 1985-07-31 1990-04-17 C. R. Bard, Inc. Infrared laser catheter system
DE3686621T2 (de) * 1985-07-31 1993-02-25 Bard Inc C R Infrarot laser-kathetergeraet.
US5522003A (en) * 1993-03-02 1996-05-28 Ward; Robert M. Glass preform with deep radial gradient layer and method of manufacturing same
EP0716047A3 (en) * 1994-12-02 1996-10-09 Fibercore Inc Method and apparatus for making an optical fiber preform
DE19716869A1 (de) * 1997-04-22 1998-10-29 Deutsche Telekom Ag Glas für Lichtwellenleiter oder dergleichen
US6094940A (en) * 1997-10-09 2000-08-01 Nikon Corporation Manufacturing method of synthetic silica glass
FR2777072B1 (fr) * 1998-04-03 2000-05-19 Pechiney Aluminium Procede et dispositif de regulation des fours de cuisson a feu tournant
DE19850736C2 (de) * 1998-11-04 2003-04-17 Heraeus Tenevo Ag Kernglas für eine Vorform für eine optische Faser, unter Verwendung des Kernglases hergestellte Vorform, sowie Verfahren zur Herstellung des Kernglases einer Vorform für eine optische Faser
US6430967B1 (en) * 1999-10-26 2002-08-13 Fitel Usa Corp. Pressure monitoring system using disposable seals
WO2002035265A2 (en) * 2000-10-20 2002-05-02 Corning Incorporated Using deuterated source gases to fabricate low loss germanium-doped silicon oxy nitride (gestion-sion)
US6776012B2 (en) * 2001-06-26 2004-08-17 Fitel Usa Corp. Method of making an optical fiber using preform dehydration in an environment of chlorine-containing gas, fluorine-containing gases and carbon monoxide
US20030084685A1 (en) * 2001-11-02 2003-05-08 Jds Uniphase Corporation Method of making an optical fiber or preform having a reduced hydrogen content
US6856739B2 (en) * 2001-11-07 2005-02-15 Jds Uniphase Corporation Optical fiber for resisting hydrogen-induced loss
US6799440B2 (en) * 2002-02-22 2004-10-05 General Electric Company Optical fiber deposition tube fused in deuterium atmosphere for attenuation improvement
US20040060327A1 (en) * 2002-09-30 2004-04-01 Berkey George E Method for treating an optical fiber preform with deuterium
EP1422202A1 (en) * 2002-11-25 2004-05-26 Alcatel Method of fabricating an optical fiber
NL1022140C2 (nl) * 2002-12-11 2004-06-15 Draka Fibre Technology Bv Werkwijze voor de depositie van een of meer glaslagen met laag hydroxylgehalte op het inwendige van een substraatbuis.
US7752870B1 (en) 2003-10-16 2010-07-13 Baker Hughes Incorporated Hydrogen resistant optical fiber formation technique
DK1719739T3 (da) * 2004-02-27 2013-07-08 Sumitomo Electric Industries Fremgangsmåde og apparatur til fremstilling af en præform til en optisk fiber
US7024089B2 (en) 2004-07-26 2006-04-04 Sbc Knowledge Ventures, L.P. Fiber distribution frame arrangement having a centralized controller which universally controls and monitors access to fiber distribution frames
GB2424962B (en) * 2005-04-05 2007-10-17 Sensor Highway Ltd Aparatus and method for preventing unwanted exposure of a device to an undesirable substance
US7635658B2 (en) * 2005-11-07 2009-12-22 Corning Inc Deuteroxyl-doped silica glass, optical member and lithographic system comprising same and method of making same
NL1036343C2 (nl) * 2008-12-19 2010-06-22 Draka Comteq Bv Werkwijze en inrichting voor het vervaardigen van een optische voorvorm.

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1525536A (fr) * 1966-06-02 1968-05-17 Western Electric Co Contrôle de la concentration d'impureté de contamination dans un courant de gaz porteur
US3865647A (en) * 1970-09-30 1975-02-11 Siemens Ag Method for precipitation of semiconductor material
US3791714A (en) * 1972-03-30 1974-02-12 Corning Glass Works Method of producing glass for optical waveguides
US3826560A (en) * 1972-03-30 1974-07-30 Corning Glass Works Method of forming a light focusing fiber waveguide
CA1084534A (en) * 1977-03-22 1980-08-26 Daisuke Kato Method of producing glass compositions for optical wave guides
JPS5448256A (en) * 1977-09-22 1979-04-16 Nec Corp Silica fiber for optical communication and production of the same
CA1136417A (en) * 1978-07-17 1982-11-30 Rodney L. Leroy Hydrogen injection into gas pipelines and other pressurized gas containers

Also Published As

Publication number Publication date
DK257682A (da) 1982-12-23
JPS57209842A (en) 1982-12-23
IT1145157B (it) 1986-11-05
AU533741B2 (en) 1983-12-08
BR8203594A (pt) 1983-06-14
NO153803C (no) 1986-05-28
NO821973L (no) 1982-12-23
IT8167857A0 (it) 1981-06-22
EP0068388B1 (en) 1985-03-27
DE68388T1 (de) 1983-07-07
AU8470182A (en) 1983-02-24
CA1198326A (en) 1985-12-24
ATE12382T1 (de) 1985-04-15
DE3262779D1 (en) 1985-05-02
ES8305134A1 (es) 1983-03-16
EP0068388A1 (en) 1983-01-05
US4445918A (en) 1984-05-01
ES513112A0 (es) 1983-03-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NO153803B (no) Fremgangsmaate og innretning for fremstilling av optiske fiberemner.
US5827569A (en) Hydrogen separation membrane and process for producing the same
CN108766872B (zh) 通过催化脱氢偶联以无卤素方式合成氨基硅烷的方法
Bowrey et al. The pyrolysis of disilane and rate constants of silene insertion reactions
Morooka et al. Palladium membrane formed in macropores of support tube by chemical vapor deposition with crossflow through a porous wall
CN110382735A (zh) 多孔体和其制备方法
EP0075902A2 (en) Method of vapor deposition
Claassen The growth of silicon from silane in cold wall CVD systems
Shelby et al. Radiation‐induced isotope exchange in vitreous silica
JP6717632B2 (ja) 蒸着処理装置
Karpinski et al. High purity autoclaves (2.5 kbar) for high temperature (1700° C) crystal growth and phase diagram studies
CN109778141A (zh) 多晶硅薄膜的沉积方法
US6177134B1 (en) Process and plant for the production of a gaseous mixture containing a carrier gas an oxidizing gas and a silane
Lucovsky et al. Incorporation of polyhydride bonding groups into thin films of hydrogenated amrophous silicon (a-; Si: H)
Chaput et al. Experimental and theoretical study of InP homoepitaxy by chemical vapour deposition from gaseous indium chloride and hydrogen diluted phosphine
JP7435941B2 (ja) 成膜装置及び成膜方法
US3398013A (en) Preparation of films of boron carbide
CN111549331B (zh) 一种掺硼金刚石薄膜制备方法
JP2021500305A (ja) クロロシランから不純物を除去するための方法及び装置
JP2023007649A (ja) ガス分離材の製造方法、ガス分離材製造装置、及びガス分離材
Cassidy et al. Atomic Layer Deposition as a Synthesis Method for Inorganic Membranes
Van der Wal et al. Oxidation of cytochrome c 2 by photosynthetic reaction centers of Rhodospirillum rubrum and Rhodopseudomonas sphaeroides in vivo. Effect of viscosity on the rate of reaction
JPS6054911A (ja) 紫外線カツト膜
JPS61177372A (ja) 窒化ホウ素膜の製造方法
SU792986A1 (ru) Реактор дл нанесени покрытий из газовой фазы